JP2005106801A - 蛍光観察用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明光のうち特定の波長の励起光のみを透過させる励起フィルターと、前記励起光が標本に照明されることにより該標本から発生した蛍光のみを透過させるとともに該励起光を遮る吸収フィルターを有し、「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が1nmから6nmの範囲となるように構成されている。また、湿度が10%から95%まで変化したときの前記励起フィルター及び前記吸収フィルターの半値波長の変化が0.5nm以内となるように構成されている。
【選択図】 図2
Description
図18は所定の分光特性を有する励起光61を照射して蛍光観察を行う際、標本への励起光61の照射によって励起光61の波長領域よりも長波長の波長領域を有する蛍光62が発生する関係を模式的に示す分光特性グラフである。なお、蛍光62の光の強度は、励起光61の光の強度に比べて極めて小さいものとなっている。そして、図18に示すように、励起光61の波長領域と蛍光62の波長領域とが一部で重なる。そこで、励起光61が蛍光62のピーク62aの波長領域で重ならないようにするため、励起フィルター63を透過させ、該励起フィルター63で定まる蛍光62のピーク62aと重ならない波長領域の光を標本へ照射する励起光とする。
また、本第3の発明による蛍光観察用装置は、照明光のうち、特定の波長の励起光のみを透過させる励起フィルターと、励起光が標本に照明されることにより標本から発生した蛍光のみを透過し励起光を遮る吸収フィルターを有する蛍光観察用装置であって、前記励起フィルターと前記吸収フィルターとは、 「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が、1nmから6nmであり、「前記励起フィルターの長波長側で透過率が0.1%である波長」と「前記励起フィルターの長波長側半値波長」との間隔が、0.1nmから5.9nmであり、「前記吸収フィルターの短波長側で透過率が0.1%である波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が、0.1nmから5.9nmであり、「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記励起フィルターの長波長側80%透過率波長」との間隔が5.9nm以下であり、「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側80%透過率波長」との間隔が5.9nm以下である、特性で構成されていることを特徴としている。
また、本第3の発明の蛍光観察用装置においては、湿度が10%から95%まで変化したときの前記励起フィルター及び前記吸収フィルターの半値波長の変化が0.5nm以内となるようにしたことを特徴としている。
また、本第3の発明の蛍光観察用装置においては、前記励起フィルターおよび/または前記吸収フィルターが、90層以上の多層膜を含むことを特徴としている。
また、本第3の発明の蛍光観察用装置においては、前記励起フィルターおよび前記吸収フィルターを構成する膜の交互の積層は、低屈折率膜がSiO2からなり、高屈折率膜がTa2O5またはNb2O5またはTiO2またはこれらのいずれかの混合膜からなり、前記励起フィルターおよび前記吸収フィルターが、前記交互に積層したこれらの多層膜を少なくとも1面に含むことを特徴としている。
また、本第2と第3の発明の蛍光観察用装置においては、顕微鏡の光学系に組み込まれることを特徴としている。
また、本第2と第3の発明の蛍光観察用装置においては、内視鏡の光学系に組み込まれることを特徴としている。
「励起フィルターの長波長側半値波長」と「吸収フィルターの短波長側半値波長」の間隔が離れている理由は、
(1)フィルターの分光特性の安定性が十分でないこと、
(2)フィルター膜の層数を50層程度にしていること、
に起因している。
ここで「重なり合わない」とは、次のように定義する。すなわち、励起フィルターの長波長側と吸収フィルターの短波長側で双方の透過率が限りなく0%に近づいていくが、両者が交差する波長における透過率が0.1%以下、好ましくは0.01%以下、より好ましくは0.001%以下になるような特性である。
吸収フィルターの長波長側の特性は蛍光観察における蛍光に応じて決定することができ、バンドパスフィルター(特定の波長のみ透過し、他の波長をカットするフィルター)の特性を持つ場合の吸収フィルターの半値幅は、好ましくは20nmから80nm、より好ましくは20nmから70nmである。
また、吸収フィルターの長波長側は、できるだけ蛍光を取り込むために、長波長側をカットするフィルターを設けない場合もある。
また、励起フィルターの短波長側半値波長は、励起フィルターの長波長側半値波長から離れるほど励起光が多く標本に照射することができる。観察する蛍光によって異なるが、励起フィルターの半値幅が短すぎると励起光が弱くなることから、励起フィルターの半値幅は好ましくは15nmから70nm、より好ましくは15nmから60nmである。
第1実施形態
図1は本発明の蛍光観察用装置の第1実施形態にかかる、蛍光観察を行うことにより生体の疾患の有無等の診断を行う医療用内視鏡及びその光学系の概略構成図である。
第1実施形態の蛍光観察用装置1は、図1に示すように、体腔内等に挿入して観察対象組織の観察像を得る内視鏡2と、内視鏡2に照明光を供給する光源装置3と、内視鏡2で得られる観察像を撮像して撮像信号を得る撮像装置4と、撮像装置4で得られる撮像信号をモニター表示可能な映像信号に変換するビデオプロセッサー5と、ビデオプロセッサー5で得られる映像信号を映し出すモニター装置6とを有して構成されている。
なお、観察対象の生体組織は、ヒトや動物の組織や細胞に限らず、他の生物の組織や細胞であってもよい。
励起フィルター33の長波長側半値波長は489.5nm、吸収フィルター41の短波長側半値波長は494nmであり、その間隔である波長幅は4.5nmとなっている。
なお、励起フィルター33の短波長側半値波長は469.5nm、吸収フィルター41の長波長半値波長は542.7nmである。より、詳細に各フィルターの特性について図2のグラフ(特性線図)に基づいて説明すると、励起フィルター33は、透過比率が最大の半分(50%)となる半値波長の範囲が469.5〜489.5nmであり、透過比率が0.1%以下となる波長範囲が300〜459.7nm及び490.7〜1000nmであり、透過比率が80%以上となる波長範囲が471.3〜489.2nmである、特性を有するものである。
一方、吸収フィルター41は、透過比率が最大の半分(50%)となる半値波長範囲が494.0〜542.7nmであり、透過比率が0.1%以下となる波長範囲が384.0〜492.8nm及び547.8〜840nmであり、透過比率が80%以上となる波長範囲が494.1〜543.0nmである、特性を有するものである。
なお、各フィルター33,41の特性線図においては、透過率が0.1%以下となるときの特性の線は、透過率が0%の線と区別ができなくなっている。
第1実施形態によれば、励起フィルター33の長波長側半値波長と吸収フィルター41の短波長側半値波長との間隔が狭く、無駄な領域が少なくなるので、生体組織から蛍光を効率良く発生させ、かつ効率良く観察することができる。
具体的には、特性曲線Dの励起フィルター33は、図3に示すような光学特性を有するロングウェーブパス(LWP)フィルターH、ショートウェーブパス(SWP)フィルターGの2つの組み合わせにより、生体組織に照射する励起光の光学特性を決定するとともに、図4に示すように、さらに生体組織に照射する際に不要な紫外光や赤外光をカットするフィルターI,J,Kを有して構成されている。
LWPフィルターHも同様に、基板331上に、SiO2とTa2O5の膜を交互に積層した54層構成であり、RF印加方式のイオンプレーティング法により形成されている。このLWPフィルターHは、励起フィルター33において、励起光の波長域の短波長側を決定するフィルターとして用いるものである。このLWPフィルターHは、前記決定された短波長側の波長(半値波長が469.5nm、透過率80%のときの波長が471.3nm)よりも短波長側(367.0〜459.7nmの範囲)で励起光の透過率を0.1%以下とするフィルターである。
紫外光をカットするフィルターIや赤外光をカットするフィルターJ,Kは、フィルターG,Hによるカット領域(蛍光観察に用いない波長の光を透過させない領域)をさらに広げるために用いるものである。これらのフィルターI,J,Kは、湿度変化により光学特性がフィルターG,Hのカット帯域に被さる範囲内でシフトしても、蛍光観察を行う励起光の波長の透過帯域に影響は無い。このため、フィルターI,J,Kは、それぞれ基板331,332,333上に、各々真空蒸着法によりSiO2(波長400〜1000nmの屈折率が1.45〜1.47)とTiO2(波長400〜1000nmの屈折率が2.24〜2.58)の膜を交互に積層して構成されており、フィルターIが40層、フィルターJが40層、フィルターKが46層で形成されている。
第1実施形態では、図2に示す特性曲線Eの吸収フィルター41は、図6に示すように、基板411の両面にそれぞれLWPフィルターLと、SWPフィルターMとを有して、SWPフィルターMにより観察に不要な蛍光がすべてカットされるように構成されている。このため、不要な光をカットするフィルターを増やす必要はない。
また、吸収フィルター41は、基板441を両側から内枠442と外枠443とで挟み込んである。基板441には、光学ガラスBK7を用いている。各フィルターL,Mの膜構成は、上記表1に示してある。なお、膜構成は、光学的膜厚でλ/4を1.0として表記し、基板側から空気側に順に示してある。蛍光観察性能に最も影響の大きいLWPフィルターLは、RF印加方式のイオンプレーティング法により形成され、SiO2とTa2O5の膜を交互に積層して148層に構成されている。SWPフィルターMも同様に、RF印加方式のイオンプレーティング法により、SiO2とTa2O5の膜を交互に積層して90層に構成されている。フィルターL,Mについての波長範囲300nmから1000nmの光学特性を図7に示す。なお、表1中、フィルターL,Mの膜構成では、Ta2O5をH、SiO2をLとして表記した。
図7において、LWPフィルターLは、吸収フィルター41において、観察に用いる蛍光の波長域の短波長側を決定するフィルターとして用いるものである。このLWPフィルターLは、前記決定された短波長側の波長(半値波長が494.0nm、透過率80%のときの波長が494.1nm)よりも短波長側(384.0〜492.8nmの範囲)で蛍光の透過率を0.1%以下とするフィルターである。
また、GWPフィルターMは、吸収フィルター41において、観察に用いる蛍光の波長域の長波長側を決定するフィルターとして用いるものである。このGWPフィルターMは、前記決定された長波長側の波長(半値波長が542.7nm、透過率80%のときの波長が543.0nm)よりも長波長側(547.8〜840.0nmの範囲)で蛍光の透過率を0.1%以下とするフィルターである。
なお、従って、吸収フィルター41のLWPフィルターLとSWPフィルターMは、各々が表3で示す波長範囲での透過率を0.1%以下にして、観察に用いない蛍光等をカットしている。
RF印加方式のイオンプレーティング法で形成されたフィルターH,G,L,Mの光学特性は、湿度が10%から95%まで変化したときに半値波長の変化が0〜+0.1nmであり、いずれも0.5nm以内となっている。
光学特性の評価は、具体的には、以下の試験条件で行った。
RF印加方式のイオンプレーティング法で形成されたフィルターH,G,L,Mを、各々BK7の基板上の片面のみに成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41とを、それぞれ用意する。
前記それぞれのものとシリカゲルを入れた容器内で、常温(20℃)で湿度10%に保持した環境下にフィルターH,G,L,Mを成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41を4日間さらした後、20℃95%の恒温恒湿槽に100時間投入し、その前後で分光特性の変化を調べた。試験前後の半値波長の変化を表4に示す。
なお、励起フィルター33のSWPフィルターGの長波長側半値波長と吸収フィルター41のLWPフィルターLの短波長側半値波長との間隔である波長幅は4.5nmであったが、フィルターG,L、即ち、励起フィルター33と吸収フィルター41の特性をシフトさせることで、波長幅を1〜6nmにしても観察できる結果に大きな差はなく、いずれも生体組織を明るい状態で観察することができた。
なお、第1実施形態において、図4や図6に示す例では、励起フィルター33、吸収フィルター41の基板にBK7の光学ガラスを用いたが、不要な波長帯域の励起光あるいは蛍光をカットするような、紫外に吸収能力のある吸収ガラスや可視光を吸収する色ガラスを、光学ガラスに替えて用いても観察に問題なく、カットの効率を上げることができる。
図8は本発明の蛍光観察用装置の第2実施形態にかかる蛍光強度測定器の光学系の概略構成図である。
図8に示す第2実施形態の測定器の光学系は、不図示のレーザー光源から出た波長488nm、強度800mWのレーザー光51が励起光としてミラー52により光路を曲げられて標本載置台53a上の標本53を照射する。この励起光の照射によって、標本53から蛍光が発生する。吸収フィルター54は標本53から発生した蛍光のみを選択的に透過させる。この蛍光の強度を、CCD、およびCCDで検出した信号を電流値に変更した後に表示する機能を有する受光部55で測定することにより、蛍光が観察可能になるようにシステムが構成されている。
第1実施形態の励起フィルター33、吸収フィルター41を、図9のフィルターの波長と透過率との関係を示すグラフに示した特性を有するフィルターに変更し、第3実施形態とする。
励起フィルター33の長波長側半値波長は459.5nm、吸収フィルター41の短波長側半値波長は462.8nmであり、その間隔である波長域は3.3nmとなっている。
より詳細に各フィルターの特性について図9のグラフ(特性線図)に基づいて説明すると、励起フィルター33は、透過率が最大のときの半分(50%)となる半値波長の範囲が433.4〜459.5nmであり、透過率が0.1%以下となる波長の範囲が300〜421.1nmおよび460.4nm〜1000nmであり、透過率が80%となる波長の範囲が435.7〜459.3nmである、透過率特性を有するものである。
なお、透過率が0.1%以下となるときの特性の線は、透過率が0%の線と区別が出来なくなる。
励起フィルター33を構成するフィルター(I,H,G,J,K)のうち、不要な紫外光や赤外光をカットするフィルターI,J,Kは第1実施形態で用いた成膜材料や膜特性を有するフィルターを用いた。LWPフィルターH、SWPフィルターGの特性を図10に示す。
表5に膜構成を示す。
イオンガンを用いたイオンアシスト法で形成されたフィルターH,G,L,Mの光学特性は、湿度が10%から95%まで変化したときに半値波長の変化が0〜+0.5nmであり、いずれも0.5nm以内となっている。
イオンガンを用いたイオンアシスト法で形成されたフィルターH,G,L,Mを、各々BK7の基板上の片面のみに成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41について用意する。
シリカゲルを入れた容器内で、常温(20℃)で湿度10%に保持した環境下にフィルターH,G,L,Mを成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41を4日間さらした後、20℃95%の恒温恒湿槽に100時間投入し、その前後で分光特性の変化を調べた。試験前後の半値波長の変化を表6に示す。
本実施形態では、TiO2を用いたが、TiO2とTa2O5、あるいはNb2O5あるいはこれらいずれかの混合物を用いても、これらの膜の屈折率を用いてフィルター膜厚を構成することで、同様の効果が得られた。
第1実施形態の励起フィルター33、吸収フィルター41を、図12のフィルターの波長と透過率との関係を示すグラフに示した特性を有するフィルターに変更し、第4実施形態とする。
励起フィルター33の長波長側半値波長は561.5nm、吸収フィルター41の短波長側半値波長は567.5nmであり、その間隔である波長域は6.0nmとなっている。
より詳細に各フィルターの特性について図12のグラフ(特性線図)に基づいて説明すると、励起フィルター33は、透過率が最大のときの半分(50%)となる半値波長の範囲が509.7〜561.5nmであり、透過率が0.1%以下となる波長の範囲が300〜500.1nm以下および562.7〜1000nmであり、透過率が80%となる波長の範囲が511.2〜561.2nmである透過率特性を有するものである。
なお、透過率が0.1%以下となるときの特性の線は、透過率が0%の線と区別が出来なくなる。
なお、透過率が0.1%以下となるときの特性の線は、透過率が0%の線と区別が出来なくなる。
表7に膜構成を示す。
RFスパッタリング法で形成されたフィルターH,G,L,Mの光学特性は、湿度が10%から95%まで変化したときに半値波長の変化が0〜+0.2nmであり、いずれも0.5nm以内となっている。
RFスパッタリング法で形成されたフィルターH,G,L,Mを、各々BK7の基板上の片面のみに成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41について用意する。
シリカゲルを入れた容器内で、常温(20℃)で湿度10%に保持した環境下にフィルターH,G,L,Mを成膜した基板と、励起フィルター33、吸収フィルター41を4日間さらした後、20℃95%の恒温恒湿槽に100時間投入し、その前後で分光特性の変化を調べた。試験前後の半値波長の変化を表8に示す。
本実施形態では、Nb2O5を用いたが、Nb2O5とTa2O5、あるいはTiO2あるいはこれらいずれかの混合物を用いても、これらの膜の屈折率を用いてフィルター膜厚を構成することで、同様の効果が得られた。
また、フィルターH,G,L,MをRFスパッタリング法で形成したものに代えて、イオンアシスト法やRF印加方式のイオンプレーティング法、あるいはイオンビームスパッタリング法で形成したものを用いても、同様の結果が得られた。
第1実施形態および第3実施形態の比較例として、第1実施形態および第3実施形態におけるフィルターHの半値波長と等しい半値波長になるようにSiO2(波長400〜650nmの屈折率が1.45〜1.47)、TiO2(波長400〜650nmの屈折率が2.29〜2.50)を用いてBK7の基板上の片面のみに真空蒸着法で成膜し、それぞれ第1比較例、第2比較例とした。G,L,Mについては層数が多く、真空蒸着法では困難なため、Hのみについて比較を行った。
膜構成を以下の表9に示す。
これらの基板について、湿度を10%から95%まで変化させた際の半値波長の変化量を以下の表10に示す。
第2実施形態における吸収フィルター54の代わりに、第3実施形態における吸収フィルターを用いて第5実施形態とした。また、標本53を、レーザー光源から出た波長451.1nm、強度800mWのレーザー光51により蛍光が発生する標本53に変更した。
レーザー光51の波長は451.1nm、吸収フィルター54の短波長側半値波長は462.8nmであり、レーザー光51と吸収フィルター54の短波長側半値波長との間隔である波長幅は11.7nmとなっている。このため、標本53から発生した蛍光を効率よく取り出し、受光部55で高感度な状態で測定することができた。
第2実施形態における吸収フィルター54の代わりに、第4実施形態における吸収フィルターを用いて第6実施形態とした。また、標本53を、レーザー光源から出た波長563.5nm、強度800mWのレーザー光51により蛍光が発生する標本53に変更した。
レーザー光51の波長は563.5nm、吸収フィルター54の短波長側半値波長は567.5nmであり、レーザー光51と吸収フィルター54の短波長側半値波長との間隔である波長幅は4nmとなっている。このため、標本53から発生した蛍光を効率よく取り出し、受光部55で高感度な状態で測定することができた。
2 内視鏡
3 光源装置
4 撮像装置
5 ビデオプロセッサー
6 モニター装置
11 挿入部
11a 先端部
12 操作部
13 接眼部
14 ライトガイドケーブル
15 ライトガイドコネクタ
16 ライトガイドファイバー
17 配光光学系
18 対物光学系
19 イメージガイドファイバー
20 接眼光学系
31 光源ランプ
32 電源回路
33 励起フィルター
34 集光光学系
35 モーター
36 操作パネル
37 制御回路
41,54 吸収フィルター
42 結像光学系
43 CCD
51 レーザー光
52 ミラー
53 標本
53a 標本載置台
55 受光部
61 励起光(の透過率特性)
61a 励起光のピーク(の透過率特性)
62 蛍光(の透過率特性)
62a 蛍光のピーク(の透過率特性)
63 励起フィルター(の透過率特性)
64 吸収フィルター(の透過率特性)
331,332,333,441 基板
334 スペーサー
335,442 内枠
336,443 外枠
A 励起フィルターの長波長側半値波長
B 吸収フィルターの短波長側半値波長
C 励起フィルターの長波長側半値波長と吸収フィルターの短波長側半値波長との間隔
H,L ロングウェーブパス(LWP)フィルター
G,M ショートウェーブパス(SWP)フィルター
I 紫外光をカットするフィルター
J,K 赤外光をカットするフィルター
Claims (17)
- 照明光のうち特定の波長の励起光のみを透過させる励起フィルターと、前記励起光が標本に照明されることにより該標本から発生した蛍光のみを透過させるとともに該励起光を遮る吸収フィルターを有し、
「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が1nmから6nmの範囲となるようにし、湿度が10%から95%まで変化したときの前記励起フィルター及び前記吸収フィルターの半値波長の変化が0.5nm以内となるようにしたことを特徴とする蛍光観察用装置。 - 前記励起フィルターおよび/または前記吸収フィルターが90層以上の多層膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の蛍光観察用装置。
- 前記励起フィルターおよび前記吸収フィルターが、低屈折率膜であるSiO2と、高屈折率膜であるTa2O5またはNb2O5またはTiO2またはこれらのいずれかの混合膜とからなる、多層膜を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の蛍光観察用装置。
- 顕微鏡の光学系に組み込まれることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 内視鏡の光学系に組み込まれることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 励起光として使用するレーザー光と、前記励起光が標本に照明されることにより該標本から発生した蛍光のみを透過させるとともに励起光を遮る吸収フィルターを有し、
「前記レーザー光の波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が1nmから12nmの範囲となるようにしたことを特徴とする蛍光観察用装置。 - 「前記レーザー光の波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が6nmから12nmの範囲となるようにしたことを特徴とする請求項6に記載の蛍光観察用装置。
- 湿度が10%から95%まで変化したときの前記吸収フィルターの半値波長の変化が0.5nm以内となるようにしたことを特徴とする請求項6または7に記載の蛍光観察用装置。
- 前記吸収フィルターが90層以上の多層膜を含むことを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 前記吸収フィルターを構成する膜の交互の積層は、低屈折率膜がSiO2からなり、高屈折率膜がTa2O5またはNb2O5またはTiO2またはこれらのいずれかの混合膜からなり、前記吸収フィルターが、前記交互に積層した多層膜を少なくとも1面に含むことを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 前記励起フィルターは、少なくともロングウェーブパスフィルターと、ショートウェーブパスフィルターとを有し、前記ロングウェーブパスフィルターと前記ショートウェーブパスフィルターがそれぞれ異なる基板に成膜されて組み立てられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 照明光のうち、特定の波長の励起光のみを透過させる励起フィルターと、励起光が標本に照明されることにより標本から発生した蛍光のみを透過し励起光を遮る吸収フィルターを有する蛍光観察用装置であって、
前記励起フィルターと前記吸収フィルターとは、
「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が、1nmから6nmであり、
「前記励起フィルターの長波長側で透過率が0.1%である波長」と「前記励起フィルターの長波長側半値波長」との間隔が、0.1nmから5.9nmであり、
「前記吸収フィルターの短波長側で透過率が0.1%である波長」と「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」との間隔が、0.1nmから5.9nmであり、
「前記励起フィルターの長波長側半値波長」と「前記励起フィルターの長波長側80%透過率波長」との間隔が5.9nm以下であり、
「前記吸収フィルターの短波長側半値波長」と「前記吸収フィルターの短波長側80%透過率波長」との間隔が5.9nm以下である、
特性で構成されていることを特徴とする蛍光観察用装置。 - 湿度が10%から95%まで変化したときの前記励起フィルター及び前記吸収フィルターの半値波長の変化が0.5nm以内となるようにしたことを特徴とする請求項12に記載の蛍光観察用装置。
- 前記励起フィルターおよび/または前記吸収フィルターが、90層以上の多層膜を含むことを特徴とする請求項12または13に記載の蛍光観察用装置。
- 前記励起フィルターおよび前記吸収フィルターを構成する膜の交互の積層は、低屈折率膜がSiO2からなり、高屈折率膜がTa2O5またはNb2O5またはTiO2またはこれらのいずれかの混合膜からなり、
前記励起フィルターおよび前記吸収フィルターが、前記交互に積層したこれらの多層膜を少なくとも1面に含むことを特徴とする請求項12〜14のいずれかに記載の蛍光観察用装置。 - 顕微鏡の光学系に組み込まれることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
- 内視鏡の光学系に組み込まれることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載の蛍光観察用装置。
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