JP2005093399A - Organic light emitting device, its manufacturing method, and display apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence;以下、単に「EL」という。)現象を利用して発光する有機発光装置およびその製造方法、ならびに有機発光装置を備えた表示装置に関する。 The present invention relates to an organic light emitting device that emits light using an organic electroluminescence (Electro Luminescence; hereinafter simply referred to as “EL”) phenomenon, a method for manufacturing the same, and a display device including the organic light emitting device.
近年、フラットパネルディスプレイの1つとして、有機EL現象を利用して映像を表示する有機ELディスプレイが注目されている。この有機ELディスプレイは、有機発光素子自体の発光現象を利用しているために視野角が広く、かつ消費電力が低い点において優れている。特に、有機ELディスプレイは、例えば、高精細度の高速ビデオ信号に対して十分な応答性を有するものと考えられており、映像分野等において実用化に向けて開発が進められている。 In recent years, an organic EL display that displays an image using an organic EL phenomenon has attracted attention as one of flat panel displays. This organic EL display is excellent in that the viewing angle is wide and the power consumption is low because the light emitting phenomenon of the organic light emitting element itself is used. In particular, an organic EL display is considered to have sufficient response to, for example, a high-definition high-speed video signal, and is being developed for practical use in the field of video.
有機ELディスプレイは、主に、有機発光素子およびその有機発光素子を駆動させるための駆動素子(TFT;Thin Film Transistor)が設けられた駆動パネルと封止パネルとが対向配置され、これらの駆動パネルと封止パネルとが有機発光素子を挟むように接着層を介して貼り合わされた構成を有している。有機発光素子は、2つの電極層の間に発光層を含む層が挟まれた構成を有しており、この発光層を含む層は、光の発生源としての発光層と共に、その発光層以外の層として正孔輸送層や電子輸送層などを含んで構成されている。この有機ELディスプレイの表示方式としては、例えば、発光層において発生した光を一方の電極層(封止パネルに近い側の電極層)を経由して放出するトップエミッション型と、他方の電極層(駆動パネルに近い側の電極層)を経由して放出するボトムエミッション型とが知られている。 In the organic EL display, a driving panel provided with an organic light emitting element and a driving element (TFT; Thin Film Transistor) for driving the organic light emitting element and a sealing panel are mainly arranged to face each other. And the sealing panel are bonded through an adhesive layer so as to sandwich the organic light emitting element. The organic light-emitting element has a configuration in which a layer including a light-emitting layer is sandwiched between two electrode layers. The layer including the light-emitting layer includes a light-emitting layer as a light generation source and other than the light-emitting layer. This layer includes a hole transport layer, an electron transport layer, and the like. As a display method of this organic EL display, for example, a top emission type that emits light generated in the light emitting layer via one electrode layer (an electrode layer on the side close to the sealing panel), and the other electrode layer ( A bottom emission type is known which emits via an electrode layer on the side close to the drive panel.
この有機ELディスプレイにおいて、有機発光素子を利用してフルカラーの映像を表示する機構としては、既にいくつかの機構が技術化されている。具体的には、例えば、光の3原色に対応する3色、すなわち赤色(R;Red )、緑色(G;Green )および青色(B;Blue)の光を別々に発生可能な3種類の発光層を蒸着して塗り分けることにより3つの有機発光素子を形成し、これらの3つの有機発光素子に基づいて3色の画素を構成する表示機構が技術化されている。また、例えば、白色光を発生させる3つの有機発光素子を使用し、色変換用のカラーフィルタを利用して各白色光を3色(R,G,B)の光に変換することにより映像を表示する表示機構が技術化されている。この場合には、カラーフィルタの色変換機能を確保するために、フィルタ濃度を高めにしたり、あるいはフィルタ厚を厚めに設計する必要がある。 In this organic EL display, several mechanisms have already been technicalized as mechanisms for displaying full-color images using organic light-emitting elements. Specifically, for example, three types of light emission that can separately generate three colors corresponding to the three primary colors of light, that is, red (R; Red), green (G), and blue (B) Blue light. A display mechanism in which three organic light-emitting elements are formed by vapor-depositing layers to form three colors and pixels of three colors are formed based on these three organic light-emitting elements has been technically developed. In addition, for example, using three organic light emitting elements that generate white light, and using a color filter for color conversion, each white light is converted into light of three colors (R, G, B). A display mechanism for displaying is technically developed. In this case, in order to ensure the color conversion function of the color filter, it is necessary to increase the filter density or design the filter to be thick.
なお、有機ELディスプレイの表示機構に関しては、他の関連技術もいくつか提案されている。具体的には、例えば、有機発光素子から放出される光の放出効率を向上させるために、発光層を含む層のうち、その発光層以外の層の厚さを各色ごとに異ならせる技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この有機ELディスプレイでは、発光層以外の層の厚さの差異、すなわち光の放出過程における光路長の差異に基づき、光の干渉現象を利用して各色ごとに光の放出効率が向上する。
また、例えば、上記した関連技術と同様に光の放出効率を向上させるために、発光層以外の層の厚さを各色ごとに一定にした上で、電極層(透明電極)の厚さを各色ごとに異ならせる技術が知られている(例えば、特許文献2参照。)。この有機ELディスプレイでは、電極層の厚さの差異に基づき、光の干渉現象を利用して各色ごとに光の放出効率が向上する。
また、例えば、電極層(透明電極)を低抵抗化するために、その電極層に金属薄膜(例えば50nm以下の厚さの銀(Ag))を挿入する技術が知られている(例えば、特許文献3参照。)。この有機ELディスプレイでは、金属薄膜の導電特性を利用して、電極層が低抵抗化される。
また、例えば、高輝度の白色光を効率よく発生させるために、青色の光を発生させる青色発光層と、緑色の光を発生させる緑色発光層と、赤色の光を発生させる赤色発光層とを積層することにより発光層を構成する技術が知られている(例えば、特許文献4参照。)。この有機ELディスプレイでは、青色発光層、緑色発光層および赤色発光層が積層されることにより構成された発光層の構成的特徴に基づき、白色光が高輝度化すると共に、その白色光の発生効率が向上する。
ところで、有機ELディスプレイの普及を図るためには、例えば、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立する必要がある。しかしながら、上記した従来の有機ELディスプレイでは、主に表示機構や製造手法に起因して、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが困難であるという問題があった。 By the way, in order to spread the organic EL display, for example, it is necessary to ensure both display performance and manufacturability. However, the above-described conventional organic EL display has a problem that it is difficult to achieve both ensuring display performance and ensuring manufacturability mainly due to a display mechanism and a manufacturing method.
具体的には、3種類の発光層を蒸着して塗り分けることにより3つの有機発光素子が形成された従来の有機ELディスプレイでは、例えば、各有機発光素子において発生した3色(R;Red ,G;Green ,B;Blue)の光をそのまま利用することが可能なため、光の利用損失が少ないという表示性能面において利点を有しているが、3種類の発光層を蒸着して塗り分けるためにマスク(例えばメタルマスク)が必要なため、このメタルマスクの大型化が困難な点に起因して、ディスプレイサイズの大型化が困難であるという製造可能性面において欠点を有している。一方、カラーフィルタを使用して白色光を3色(R,G,B)の光に変換する従来の有機ELディスプレイでは、例えば、各発光層が互いに同一の材質であり、メタルマスクを使用した発光層の塗り分けが不要であるため、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能であるという製造可能性面において利点を有しているが、高濃度かつ厚めのカラーフィルタを使用して白色光を3色の光に変換する過程において光が吸収されやすいため、光の利用損失が大きくなるという表示性能面において欠点を有している。 Specifically, in a conventional organic EL display in which three organic light emitting elements are formed by depositing and coating three types of light emitting layers, for example, three colors (R; Red, Red, G: Green, B: Blue) can be used as they are, and this has an advantage in display performance that there is little use loss of light. For this reason, since a mask (for example, a metal mask) is required, it is difficult to increase the size of the metal mask. On the other hand, in a conventional organic EL display that converts white light into light of three colors (R, G, B) using a color filter, for example, each light emitting layer is made of the same material and uses a metal mask. There is an advantage in manufacturability that it is possible to increase the size of the display because it is not necessary to separately coat the light emitting layer, but white light is used by using a high-density and thick color filter. Since the light is easily absorbed in the process of converting the light into three colors of light, there is a drawback in display performance that the use loss of light becomes large.
なお、従来の有機ELディスプレイに関しては、一連の関連技術として上記したように、主に表示性能面のみに関して改善を図るためにいくつかの提案がなされている現状にあるため、有機ELディスプレイが普及しつつある今日の市場動向を考慮すれば、製造可能性面において未だ改善の余地があると言える。 As for the conventional organic EL display, as described above, as a series of related technologies, there are currently several proposals for improving only the display performance, so that the organic EL display is widely used. Considering today's market trends, it can be said that there is still room for improvement in terms of manufacturability.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第1の目的は、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが可能な有機発光装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and a first object thereof is to provide an organic light emitting device capable of ensuring both display performance and manufacturability.
また、本発明の第2の目的は、本発明の有機発光装置を容易かつ安定に製造することが可能な有機発光装置の製造方法を提供することにある。 A second object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic light emitting device capable of easily and stably manufacturing the organic light emitting device of the present invention.
さらに、本発明の第3の目的は、本発明の有機発光装置を備えた表示装置を提供することにある。 Furthermore, a third object of the present invention is to provide a display device provided with the organic light emitting device of the present invention.
本発明に係る有機発光装置は、基体に設けられた3つの有機発光素子を備え、これらの3つの有機発光素子が、いずれも基体に近い側から順に第1の電極層、発光層を含む層および第2の電極層が積層された構成を有すると共に、発光層において発生した光を互いに異なる3色の光に変換して放出するものであり、第1の電極層が、基体に近い側から順に、基体との密着性を高めるための密着層と、発光層において発生した光を第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有し、バリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっているものである。 The organic light-emitting device according to the present invention includes three organic light-emitting elements provided on a base, and each of these three organic light-emitting elements includes a first electrode layer and a light-emitting layer in order from the side close to the base. And a structure in which the second electrode layer is laminated, converts the light generated in the light emitting layer into light of three different colors, and emits the light. The first electrode layer is from the side close to the substrate. In order, an adhesion layer for improving adhesion to the substrate, a resonance layer for causing light generated in the light emitting layer to resonate with the second electrode layer, and a barrier layer for protecting the resonance layer, In which the thickness of the barrier layer is different among the three organic light emitting devices.
また、本発明に係る有機発光装置の製造方法は、基体に設けられた3つの有機発光素子を備え、これらの3つの有機発光素子が、いずれも基体に近い側から順に第1の電極層、発光層を含む層および第2の電極層が積層された構成を有すると共に、発光層において発生した光を互いに異なる3色の光に変換して放出する有機発光装置を製造する方法であり、基体に近い側から順に、基体との密着性を高めるための密着層と、発光層において発生した光を第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有するように第1の電極層を形成する工程を含み、バリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なるようにしたものである。 The method for manufacturing an organic light-emitting device according to the present invention includes three organic light-emitting elements provided on a base, and these three organic light-emitting elements are all arranged in order from the side close to the base, the first electrode layer, A method of manufacturing an organic light emitting device having a structure in which a layer including a light emitting layer and a second electrode layer are laminated, and converting and emitting light generated in the light emitting layer into three different colors of light In order from the side closer to the substrate, an adhesion layer for improving the adhesion to the substrate, a resonance layer for causing the light generated in the light emitting layer to resonate with the second electrode layer, and for protecting the resonance layer A step of forming the first electrode layer so as to have a structure in which the barrier layer is laminated, and the thickness of the barrier layer is different among the three organic light emitting devices.
さらに、本発明に係る表示装置は、基体に3つの有機発光素子が設けられた構成を有する有機発光装置を備え、この有機発光装置のうちの3つの有機発光素子が、いずれも基体に近い側から順に第1の電極層、発光層を含む層および第2の電極層が積層された構成を有すると共に、発光層において発生した光を互いに異なる3色の光に変換して放出することにより映像を表示するものであり、第1の電極層が、基体に近い側から順に、基体との密着性を高めるための密着層と、発光層において発生した光を第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有し、バリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっているものである。 Furthermore, the display device according to the present invention includes an organic light emitting device having a configuration in which three organic light emitting elements are provided on a base, and the three organic light emitting elements of the organic light emitting device are all on the side close to the base. The first electrode layer, the layer including the light-emitting layer, and the second electrode layer are stacked in order, and light generated in the light-emitting layer is converted into light of three different colors and emitted. The first electrode layer is arranged in order from the side closer to the substrate, the adhesion layer for improving the adhesion with the substrate, and the light generated in the light emitting layer between the second electrode layer. A resonance layer for resonating and a barrier layer for protecting the resonance layer are stacked, and the thickness of the barrier layer is different among the three organic light emitting devices.
本発明に係る有機発光装置では、第1の電極層を構成するバリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっているため、例えば、発光層において、3つの有機発光素子間において互いに等しい色の光を発生させるようにすれば、バリア層の厚さの差異に基づく3つの有機発光素子間の共振長の差異に起因した光の干渉現象を利用して、発光層においた発生した光を映像表示用の3色の光(赤色の光、緑色の光および青色の光)に変換することが可能である。 In the organic light emitting device according to the present invention, the thicknesses of the barrier layers constituting the first electrode layer are different between the three organic light emitting elements. For example, in the light emitting layer, the three organic light emitting elements are mutually different. If light of the same color is generated, it is generated in the light emitting layer by utilizing the light interference phenomenon caused by the difference in resonance length between the three organic light emitting devices based on the difference in thickness of the barrier layer. It is possible to convert light into three colors of light for image display (red light, green light, and blue light).
また、本発明に係る有機発光装置の製造方法では、バリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっているような特徴的な構成を有する第1の電極層を継続的に再現性よく形成するために、既存の薄膜プロセスしか使用せず、新規かつ煩雑な製造プロセスを使用しない。 In the method for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention, the first electrode layer having a characteristic configuration in which the thickness of the barrier layer is different between the three organic light emitting elements is continuously reproducible. In order to form well, only the existing thin film process is used, and a new and complicated manufacturing process is not used.
さらに、本発明に係る表示装置では、本発明の有機発光装置を備えているため、表示装置を製造する上でメタルマスクを使用して発光層を塗り分ける必要がないと共に、発光層において発生した光をカラーフィルタで色変換する必要がない。これにより、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能になると共に、光の利用効率を確保することが可能になる。 Furthermore, since the display device according to the present invention includes the organic light emitting device of the present invention, it is not necessary to separately coat the light emitting layer using a metal mask in manufacturing the display device, and the light emitting layer is generated in the light emitting layer. There is no need to color-convert light with a color filter. As a result, the display size can be increased and the light use efficiency can be ensured.
本発明に係る有機発光装置によれば、第1の電極層を構成するバリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっている構成的特徴に基づき、発光層においた発生した光を映像表示用の3色の光(赤色の光、緑色の光および青色の光)に変換することが可能になるため、この有機発光装置を利用して、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが可能な表示装置を構成することができる。 According to the organic light emitting device of the present invention, the light generated in the light emitting layer is generated based on the structural features in which the thickness of the barrier layer constituting the first electrode layer is different between the three organic light emitting elements. Since it can be converted into three colors of light for video display (red light, green light and blue light), this organic light emitting device is used to ensure display performance and ensure manufacturability. It is possible to configure a display device that can achieve both.
また、本発明に係る有機発光装置の製造方法によれば、既存の薄膜プロセスのみを使用して、バリア層の厚さが3つの有機発光素子間において互いに異なっている有機発光装置を製造することが可能なため、有機発光装置を容易かつ安定に製造することができる。 In addition, according to the method for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention, using only an existing thin film process, manufacturing an organic light emitting device in which the thickness of the barrier layer is different among the three organic light emitting elements. Therefore, the organic light emitting device can be manufactured easily and stably.
さらに、本発明に係る表示装置によれば、本発明の有機発光装置を備え、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能になると共に光の利用効率を確保することが可能になるため、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することができる。 Furthermore, according to the display device according to the present invention, the organic light emitting device of the present invention is provided, the display size can be increased and the light use efficiency can be ensured. It is possible to achieve both ensuring the production and securing the manufacturability.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[第1の実施の形態]
まず、図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置としての有機ELディスプレイの構成について説明する。図1は、有機ELディスプレイの断面構成を表している。
[First Embodiment]
First, a configuration of an organic EL display as a display device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows a cross-sectional configuration of an organic EL display.
この有機ELディスプレイは、有機EL現象を利用して映像を表示するものであり、例えば、図1に示したように、有機発光素子30およびその有機発光素子30を駆動させるための駆動素子(TFT;Thin Film Transistor)12が設けられた有機発光表示装置としての駆動パネル10と封止パネル50とが対向配置され、これらの駆動パネル10と封止パネル50とが有機発光素子30を挟むように接着層60を介して貼り合わされた構成を有している。この有機ELディスプレイは、例えば、有機発光素子30において発生した光Eを上方、すなわち封止パネル50から外部に放出するトップエミッション型構造を有している。
This organic EL display displays an image using the organic EL phenomenon. For example, as shown in FIG. 1, the organic
駆動パネル10は、基体としての駆動用基板11に、上記した有機発光素子30として3つの有機発光素子30R,30G,30Bが設けられた構成を有している。この駆動パネル10は、具体的には、例えば、駆動用基板11の一面に、TFT12として3つのTFT121,122,123と、層間絶縁層13と、各TFT121〜123ごとに2組ずつ設けられた配線14と、有機発光素子30R,30G,30Bが配設される下地領域としての平坦化層15と、上記した有機発光素子30R,30G,30B、補助配線40および層内絶縁層17と、保護層20とがこの順に積層された構成を有している。
The
駆動用基板11は、有機発光素子30およびTFT12を支持するためのものであり、例えば、ガラスなどの絶縁性材料により構成されている。
The
TFT12(121,122,123)は、有機発光素子30(30R,30G,30B)を駆動させて発光させるためのものである。このTFT12は図示しないゲート電極、ソース電極およびドレイン電極を含んで構成されており、そのゲート電極は走査回路(図示せず)に接続され、ソース電極およびドレイン電極はいずれも層間絶縁層13に設けられた接続孔(図示せず)を通じて配線14に接続されている。なお、TFT12の構成は特に限定されず、例えば、ボトムゲート型であってもよいし、あるいはトップゲート型であってもよい。
The TFTs 12 (121, 122, 123) are for driving the organic light emitting elements 30 (30R, 30G, 30B) to emit light. The
層間絶縁層13は、各TFT121〜123間を電気的に分離するためのものであり、例えば、酸化シリコン(SiO2 )やPSG(Phospho-Silicate Glass)などの絶縁性材料により構成されている。
The interlayer insulating
配線14は、信号線として機能するものであり、例えば、アルミニウム(Al)またはアルミニウム銅合金(AlCu)などの導電性材料により構成されている。
The
平坦化層15は、有機発光素子30が配設される下地領域を平坦化し、その有機発光素子30を構成する一連の層を高精度に形成するためのものであり、例えば、ポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールなどの有機絶縁性材料や、酸化シリコン(SiO2 )などの無機絶縁性材料により構成されている。
The
有機発光素子30(30R,30G,30R)は映像表示用の光Eを放出するものであり、具体的には、後述する発光層を含む層18において発生した所定の色(波長)の光を光の3原色に対応する3色(R;Red ,G;Green ,B;Blue)の光に変換して放出するものである。有機発光素子30Rは、赤色の光ERを放出するものであり、駆動用基板11に近い側から順に、第1の電極層としての下部電極層16Rと、発光層を含む層18と、第2の電極層としての上部電極層19とが積層された構成を有している。有機発光素子30Gは、緑色の光EGを放出するものであり、駆動用基板11に近い側から順に、第1の電極層としての下部電極層16Gと、発光層を含む層18と、上部電極層19とが積層された構成を有している。有機発光素子30Bは、青色の光EBを放出するものであり、駆動用基板11に近い側から順に、第1の電極層としての下部電極層16Bと、発光層を含む層18と、上部電極層19とが積層された構成を有している。これらの有機発光素子30R,30G,30Bは、例えば、各TFT121〜123にそれぞれ対応して配置されており、下部電極層16R,16G,16Bは、いずれも平坦化層15に設けられた接続孔(図示せず)を通じて各TFT121〜123ごとに設けられた配線14に接続されている。なお、有機発光素子30R,30G,30Bの詳細な構成に関しては後述する(図2および図3参照)。
The organic light emitting element 30 (30R, 30G, 30R) emits light E for image display. Specifically, light of a predetermined color (wavelength) generated in a
補助配線40は、図示しない電源と上部電極層19との間の抵抗の差異を緩和することにより有機発光素子30の抵抗差を低減させるためのものであり、その上部電極層19と電気的に接続されている。この補助配線40は、有機発光素子30R,30G,30Bと同一階層に配設されており、例えば、その有機発光素子30Rとほぼ同様の積層構成を有している。なお、補助配線40の詳細な構成に関しては後述する(図2参照)。
The
層内絶縁層17は、有機発光素子30R,30G,30Bおよび補助配線40間を電気的に分離すると共に、各有機発光素子30R,30G,30Bから放出される光E(ER,EG,EB)の放出範囲を規定するためのものであり、有機発光素子30R,30G,30Bおよび補助配線40の周囲に配設されている。この層内絶縁層17は、例えば、ポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールなどの有機絶縁性材料や酸化シリコン(SiO2 )などの無機絶縁性材料により構成されており、その厚さは約600nmである。
The in-
保護層20は、有機発光素子30を保護するためのものであり、例えば、酸化シリコン(SiO2 )や窒化シリコン(SiN)などの光透過性の誘電材料により構成されたパッシベーション膜である。
The
封止パネル50は、封止用基板51の一面にカラーフィルタ52が設けられた構成を有している。
The sealing
封止用基板51は、カラーフィルタ52を支持すると共に、有機発光素子30R,30G,30Bから放出された光ER,EG,EBを透過して外部に放出可能とするためのものであり、例えば、ガラスなどの絶縁性材料により構成されている。
The sealing
カラーフィルタ52は、有機発光素子30R,30G,30Bからそれぞれ放出された光ER,EG,EBを有機ELディスプレイの外部へ導くと共に、その有機ELディスプレイの内部へ外光が侵入して有機発光素子30や補助配線40において反射した際に、その反射光を吸収することによりコントラストを確保するためのものである。このカラーフィルタ52は、各有機発光素子30R,30G,30Bに対応して配置された3つの領域、すなわち赤色領域52R、緑色領域52Gおよび青色領域52Bを含んで構成されており、これらの赤色領域52R、緑色領域52Gおよび青色領域52Bは、例えば、それぞれ赤色、緑色および青色の顔料が混入された樹脂により構成されている。
The
接着層60は、駆動パネル10と封止パネル50とを貼り合わせるためのものであり、例えば、熱硬化型樹脂などの接着性材料により構成されている。
The
なお、図1では、図示を簡略化するために3つのTFT12(TFT121〜123)および1組の有機発光素子30(3つの有機発光素子30R,30G,30B)のみしか示していないが、実際には駆動用基板11に複数のTFT12がマトリックス状に設けられており、これらの複数のTFT12に対応して複数組の有機発光素子30が配置されている。
In FIG. 1, only three TFTs 12 (
次に、図1および図2を参照して、有機発光素子30R,30G,30Bおよび補助配線40の詳細な構成について説明する。図2は、有機発光素子30R,30G,30Bおよび補助配線40の断面構成を拡大して模式的に表している。
Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, the detailed structure of the organic
有機発光素子30R,30G,30Bは、例えば、図2に示したように、互いに異なる総厚を有する積層構成を有している。
The organic
第1の有機発光素子としての有機発光素子30Bは、上記したように、駆動用基板11に近い側から順に、下部電極層16Bと、発光層を含む層18と、上部電極層19とが積層された構成を有している。この下部電極層16Bは、駆動用基板11に近い側から順に、駆動用基板11、より具体的には駆動用基板11の一面に設けられた平坦化層15との密着性を高めるための密着層161Bと、発光層を含む層18において発生した光を上部電極層19との間で共振させるための共振層162Bと、この共振層162Bを保護するためのバリア層163Bとが積層された構成を有している。特に、バリア層163Bは、単層構造(バリア層163B1)を有している。この有機発光素子30Bは、上記したように、発光層を含む層18において発生した光を共振層162Bと上部電極層19との間で共振させる共振構造(一種の狭帯域フィルタ)を有しており、共振層162Bと上部電極層19との間の光学的距離L(LB)は、例えば、下記の数2の関係を満たしている。特に、有機発光素子30Bは、発光層を含む層18において発生した光を青色の光EBに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ELディスプレイでは、共振層162Bと上部電極層19との間で共振させた光EBを上部電極層19を経由して放出するものである。
As described above, the organic
(数2)
(2LB)/λ+Φ/(2π)=mB
(式中、LB,λ,Φ,mBは、LBが共振層162B(共振層162Bのうちのバリア層163Bに隣接する第1の端面としての端面PB1)と上部電極層19(上部電極層19のうちの発光層を含む層18に隣接する第2の端面としての端面PB2)との間の光学的距離、λが放出したい光のスペクトルのピーク波長、Φが共振層162B(端面PB1)および上部電極層19(端面PB2)で生じる反射光の位相シフト、mBが0または整数(例えばmB=0)をそれぞれ表している。)
(Equation 2)
(2LB) / λ + Φ / (2π) = mB
(In the formula, LB, λ, Φ, mB are LB,
密着層161Bは、例えば、クロム(Cr)、インジウム(In)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)およびモリブデン(Mo)を含む群のうちの少なくとも1種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物などにより構成されており、その厚さは約1nm〜300nmである。これらの「合金」、「金属酸化物」および「金属窒化物」としては、例えば、合金としてインジウム錫合金(InSn)、インジウム亜鉛合金(InZn)、アルミニウムネオジム合金(AlNd)およびアルミニウム銅合金ケイ素化物(AlCuSi)、金属酸化物として酸化インジウム錫(ITO;Indium Tin Oxide)や酸化インジウム亜鉛(IZO;Indium Zinc Oxide )、金属窒化物として窒化チタン(TiN)などが挙げられる。特に、密着層161Bは、例えば、密着性や導電性に優れたITOやIZOにより構成されているのが好ましい。この密着層161Bの厚さは、例えば、上記したように導電性に優れたITOやIZOにより構成されている場合には、約1nm〜300nmが好ましい上、さらにITOの表面平坦性を考慮すれば約3nm〜50nmがより好ましく、一方、ITOやIZOよりも導電性が劣る酸化クロム(Cr2 O3 )により構成されている場合には、配線14と下部電極層16Bとの間の接続抵抗が大きくなりすぎることを防止する上で約1nm〜20nmが好ましい。
The
共振層162Bは、発光層を含む層18において発生した光を上部電極層19との間で共振させるための反射層として機能するものであり、例えば、銀(Ag)または銀を含む合金により構成されている。この銀を含む合金としては、例えば、銀と共に、パラジウム(Pd)、ネオジウム(Nd)、サマリウム(Sm)、イットリウム(Y)、セリウム(Ce)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、エルビウム(Er)、イッテルビウム(Yb)、スカンジウム(Sc)、ルテニウム(Ru)、銅(Cu)および金(Au)を含む群のうちの少なくとも1種を含む合金、具体的には銀パラジウム銅合金(AgPdCu)などが挙げられる。この共振層162Bの厚さは、例えば、トップエミッション型の有機ELディスプレイでは上部電極層19の厚さよりも厚くなっており、約100nm〜300nmである。
The
バリア層163B(163B1)は、例えば、共振層162Bよりも仕事関数が大きい材料により構成されており、その厚さは約1nm〜100nmである。具体的には、バリア層163Bは、例えば、インジウム(In)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、ガリウム(Ga)およびアルミニウム(Al)を含む群のうちの少なくとも1種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物を含む光透過性材料により構成されている。これらの「合金」、「金属酸化物」および「金属窒化物」としては、例えば、合金としてインジウム錫合金やインジウム亜鉛合金、金属酸化物としてITO、IZO、酸化インジウム(In2 O3 )、酸化錫(SnO2 )、酸化亜鉛(ZnO)、酸化カドミウム(CdO)、酸化チタン(TiO2 )および酸化クロム(CrO2 )、金属窒化物として窒化チタンや窒化クロム(CrN)などが挙げられる。
The
第2の有機発光素子としての有機発光素子30Gは、バリア層163Gの構成が異なる点を除き、有機発光素子30Bとほぼ同様の構成を有している。すなわち、有機発光素子30Gは、上記したように、駆動用基板11に近い側から順に、下部電極層16Gと、発光層を含む層18と、上部電極層19とが積層された構成を有しており、この下部電極層16Gは、駆動用基板11に近い側から順に、密着層161Gと、共振層162Gと、バリア層163Gとが積層された構成を有している。特に、バリア層163Gは、例えば、バリア層163B1と同様の厚さを有する下部バリア層163G1と、上部バリア層163G2とがこの順に積層された2層構造を有している。これらの下部バリア層163G1および上部バリア層163G2は、例えば、互いに同一の材質であってもよいし、互いに異なる材質であってもよい。この有機発光素子30Gは、有機発光素子30Bと同様に、発光層を含む層18において発生した光を共振層162Gと上部電極層19との間で共振させる共振構造を有しており、共振層162Gと上部電極層19との間の光学的距離L(LG)は、例えば、下記の数3の関係を満たしている。特に、有機発光素子30Gは、発光層を含む層18において発生した光を緑色の光EGに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ELディスプレイでは、共振層162Gと上部電極層19との間で共振させた光EGを上部電極層19を経由して放出するものである。
The organic
(数3)
(2LG)/λ+Φ/(2π)=mG
(式中、LG,Φ,mGは、LGが共振層162G(共振層162Gのうちのバリア層163Gに隣接する第1の端面としての端面PG1)と上部電極層19(上部電極層19のうちの発光層を含む層18に隣接する第2の端面としての端面PG2)との間の光学的距離、Φが共振層162G(端面PG1)および上部電極層19(端面PG2)で生じる反射光の位相シフト、mGが0または整数(例えばmG=0)をそれぞれ表している。)
(Equation 3)
(2LG) / λ + Φ / (2π) = mG
(Where LG, Φ, and mG are the same as LG in the
第3の有機発光素子としての有機発光素子30Rは、バリア層163Rの構成が異なる点を除き、有機発光素子30Bとほぼ同様の構成を有している。すなわち、有機発光素子30Rは、上記したように、駆動用基板11に近い側から順に、下部電極層16Rと、発光層を含む層18と、上部電極層19とが積層された構成を有しており、この下部電極層16Rは、駆動用基板11に近い側から順に、密着層161Rと、共振層162Rと、バリア層163Rとが積層された3層構成を有している。特に、バリア層163Rは、例えば、バリア層163B1と同様の厚さを有する下部バリア層163R1と、下部バリア層163G1と同様の厚さを有する中間バリア層163R2と、上部バリア層163R3とがこの順に積層された3層構造を有している。これらの下部バリア層163R1、中間バリア層163R2および上部バリア層163R3は、例えば、互いに同一の材質であってもよいし、互いに異なる材質であってもよい。この有機発光素子30Rは、有機発光素子30Bと同様に、発光層を含む層18において発生した光を共振層162Rと上部電極層19との間で共振させる共振構造を有しており、共振層162Rと上部電極層19との間の光学的距離L(LR)は、例えば、下記の数4の関係を満たしている。特に、有機発光素子30Rは、発光層を含む層18において発生した光を緑色の光ERに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ELディスプレイでは、共振層162Rと上部電極層19との間で共振させた光ERを上部電極層19を経由して放出するものである。
The organic
(数4)
(2LR)/λ+Φ/(2π)=mR
(式中、LR,Φ,mRは、LRが共振層162R(共振層162Rのうちのバリア層163Rに隣接する第1の端面としての端面PR1)と上部電極層19(上部電極層19のうちの発光層を含む層18に隣接する第2の端面としての端面PR2)との間の光学的距離、Φが共振層162R(端面PR1)および上部電極層19(端面PR2)で生じる反射光の位相シフト、mRが0または整数(例えばmR=0)をそれぞれ表している。)
(Equation 4)
(2LR) / λ + Φ / (2π) = mR
(In the formula, LR, Φ, and mR indicate that LR is the
なお、有機発光素子30Gを構成する密着層161G、共振層162Gおよびバリア層163G(下部バリア層163G1,上部バリア層163G2)、ならびに有機発光素子30Rを構成する密着層161R、共振層162Rおよびバリア層163R(下部バリア層163R1,中間バリア層163R2,上部バリア層163R3)の機能や材質等は、有機発光素子30Bを構成する密着層161B、共振層162Bおよびバリア層163B(163B1)とそれぞれ同様である。
The
確認までに、図2では、有機発光素子30R,30G,30B間の構成の差異を見やすくするために、発光層を含む層18および上部電極層19の双方を各有機発光素子30R,30G,30Bごとに分離して示しているが、実際には、例えば、図1および図2に示したように、発光層を含む層18は、有機発光素子30Rのうちの下部電極層16R(バリア層163R)上、有機発光素子30Gのうちの下部電極層16G(上部バリア層163G2)上、ならびに有機発光素子30Bのうちの下部電極層16B(上部バリア層163B3)上の全てを経由するように連続的に延在していると共に、上部電極層19は、発光層を含む18を覆うように連続的に延在しており、すなわち発光層を含む層18および上部電極層19の双方は、いずれも各有機発光素子30R,30G,30Bにより共有されている。なお、発光層を含む18の詳細な構成に関しては後述する(図3参照)。
Before confirmation, in FIG. 2, in order to make it easy to see the difference in configuration between the organic
上部電極層19は、例えば、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)を含む群のうちの少なくとも1種の金属、またはその金属を含む合金などにより構成されている。この「金属を含む合金」としては、例えば、マグネシウム銀合金(MgAg)などが挙げられる。この上部電極層19の厚さは、例えば、トップエミッション型の有機ELディスプレイでは共振層162R,162G,162Bの厚さよりも薄くなっており、約1nm〜10nmである。特に、上部電極層19は、上記したように有機発光素子30R,30G,30Bが共振構造を有している点に基づき、発光層を含む18において発生した光を共振層162R,162G,162Bとの間で共振させるために反射させると共に必要に応じて共振後の光ER,EG,EBを外部に放出させるために透過させる半透過反射層として機能するものである。
The
図2に示したように、発光層を含む層18の厚さHR,HG,HBは、3つの有機発光素子30R,30G,30B間において互いに等しくなっている(HR=HG=HB)。この発光層を含む層18は、3つの有機発光素子30R,30G,30B間において互いに等しい色(波長)の光を発生させるものである。
As shown in FIG. 2, the thicknesses HR, HG, HB of the
特に、バリア層163R,163G,163Bの厚さDR,DG,DBは、3つの有機発光素子30R,30G,30B間において互いに異なっており、具体的には、3つの有機発光素子30R,30G,30Bから放出される3色の光ER,EG,EBに対応して互いに異なっている。すなわち、厚さDR,DG,DBは、3つの有機発光素子30R,30G,30Bが発光層を含む層18において発生した光をそれぞれ赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに変換して放出可能となるように設定されており、具体的には、3つの有機発光素子30R,30G,30Bから放出される赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに対応して順に薄くなっている(DR>DG>DB)。上記した「発光層を含む層18において発生した光を赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに変換して放出する」とは、図2に示したように、発光層を含む層18中の点NR,NG,NBにおいて発生した光が共振層162R,162G,162Bと上部電極層19との間で共振したのちにその上部電極層19を経由して放出される過程において、3つの有機発光素子30R,30G,30B間の共振長が互いに異なることに起因する光の干渉現象を利用して、NR,NG,NBにおいて発生した際に互いに同一の波長を有していた光の波長を放出時に各有機発光素子30R,30G,30Bごとに異ならせ、すなわち有機発光素子30Rにおいて赤色に対応する波長、有機発光素子30Gにおいて緑色に対応する波長、ならびに有機発光素子30Bにおいて青色に対応する波長にそれぞれシフトさせることにより、最終的に赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBを生成するという意味である。
In particular, the thicknesses DR, DG, and DB of the barrier layers 163R, 163G, and 163B are different from each other among the three organic
補助配線40は、例えば、図2に示したように、発光層を含む18を含んでいない点を除き、有機発光素子30R,30G,30Bのうちの最も総厚が大きい素子、すなわち有機発光素子30Rと同様の積層構成を有している。
For example, as shown in FIG. 2, the
次に、図1〜図3を参照して、発光層を含む18の詳細な構成について説明する。図3は、発光層含む層18の断面構成を拡大して模式的に表している。
Next, with reference to FIGS. 1-3, the detailed structure of 18 containing a light emitting layer is demonstrated. FIG. 3 schematically shows an enlarged cross-sectional configuration of the
発光層を含む層18は、例えば、上記したように、有機発光素子30R,30G,30Bにより共有され、すなわち各有機発光素子30R,30G,30B間において共通の構成を有しており、所定の色(波長)の光として白色光を発生させるものである。この発光層を含む層18は、例えば、図2および図3に示したように、下部電極層16R,16G,16Bに近い側から順に、正孔輸送層181と、発光層182と、電子輸送層183とが積層された構成を有している。この発光層182は、例えば、正孔輸送層181に近い側から順に、赤色の光を発生させる赤色発光層182Rと、緑色の光を発生させる182Gと、青色の光を発生させる182Bとが積層された構成を有しており、すなわち赤色発光層182R、緑色発光層182Gおよび青色発光層182Bからそれぞれ発生した赤色の光、緑色の光および青色の光を合成することにより、結果として白色光を発生させるようになっている。
For example, as described above, the
正孔輸送層181は、発光層182へ注入される正孔の注入効率を高めるためのものであり、例えば、正孔注入層としての機能も兼ねている。この正孔輸送層181は、例えば、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)またはα−ナフチルフェニルジアミン(αNPD)などの正孔輸送性材料により構成されており、その厚さは約40nmである。 The hole transport layer 181 is for increasing the injection efficiency of holes injected into the light emitting layer 182, and also serves as a hole injection layer, for example. The hole transport layer 181 has a hole transport property such as 4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) or α-naphthylphenyldiamine (αNPD). It is made of a material and has a thickness of about 40 nm.
赤色発光層182Rは、下部電極層16R,16G,16Bから正孔輸送層181を経由して注入された正孔の一部と上部電極層19から電子輸送層183を経由して注入された電子の一部とを再結合させることにより、赤色の光を発生させるものである。この赤色発光層182Rは、例えば、赤色発光材料(蛍光性または燐光性)、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷(正孔,電子)輸送性材料を含む群のうちの少なくとも1種により構成されており、その厚さは約5nmである。この赤色発光層182Rの具体的な構成材料としては、例えば、2,6−ビス[(4’―メトキシジフェニルアミノ)スチリル]−1,5−ジシアノナフタレン(BSN)が約30重量%混合された4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)などが挙げられる。
The red light emitting layer 182R includes a part of holes injected from the
緑色発光層182Gは、赤色発光層182Rにおいて再結合されなかった正孔と電子とを再結合させることにより、緑色の光を発生させるものである。この緑色発光層182Gは、例えば、緑色発光材料(蛍光性または燐光性)、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷輸送性材料を含む群のうちの少なくとも1種により構成されており、その厚さは約10nmである。この緑色発光層182Gの具体的な構成材料としては、例えば、クマリン6が約5重量%混合されたDPVBiなどが挙げられる。 The green light emitting layer 182G generates green light by recombining holes and electrons that have not been recombined in the red light emitting layer 182R. The green light emitting layer 182G is composed of, for example, at least one of a group including a green light emitting material (fluorescent or phosphorescent), a hole transporting material, an electron transporting material, and a charge transporting material. The thickness is about 10 nm. Specific examples of the constituent material of the green light emitting layer 182G include DPVBi mixed with about 5% by weight of coumarin 6 and the like.
青色発光層182Bは、赤色発光層182Rや緑色発光層182Gにおいて再結合されなかった正孔と電子とを再結合させることにより、青色の光を発生させるものである。この青色発光層182Bは、例えば、青色発光材料(蛍光性または燐光性)、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷(正孔,電子)輸送性材料を含む群のうちの少なくとも1種により構成されており、その厚さは約30nmである。この青色発光層182Bの具体的な構成材料としては、例えば、4,4’−ビス[2,{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)が約2.5重量%混合されたDPVBiなどが挙げられる。 The blue light emitting layer 182B generates blue light by recombining holes and electrons that have not been recombined in the red light emitting layer 182R or the green light emitting layer 182G. The blue light emitting layer 182B includes, for example, at least one of a group including a blue light emitting material (fluorescent or phosphorescent), a hole transporting material, an electron transporting material, and a charge (hole, electron) transporting material. It is composed of seeds, and its thickness is about 30 nm. As a specific constituent material of the blue light emitting layer 182B, for example, 4,4′-bis [2, {4- (N, N-diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl (DPAVBi) is about 2.5 wt. % Mixed DPVBi and the like.
電子輸送層183は、発光層182へ注入される電子の注入効率を高めるためのものであり、例えば、電子注入層としての機能も兼ねている。この電子輸送層183は、例えば、8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3 )により構成されており、その厚さは約20nmである。 The electron transport layer 183 is for increasing the injection efficiency of electrons injected into the light emitting layer 182 and also serves as an electron injection layer, for example. The electron transport layer 183 is made of, for example, 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq 3 ) and has a thickness of about 20 nm.
次に、図1〜図3を参照して、有機ELディスプレイの動作について説明する。 Next, the operation of the organic EL display will be described with reference to FIGS.
この有機ELディスプレイでは、図1に示したように、TFT12(121〜123)を利用して3つの有機発光素子30R,30G,30Bが駆動され、すなわち下部電極層16R,16G,16Bと上部電極層19との間にそれぞれ電圧が印加されると、図3に示したように、発光層を含む層18のうちの発光層182において、正孔輸送層181から供給された正孔と電子輸送層183から供給された電子とが再結合することにより、白色光が発生する。この白色光は、赤色発光層182Rにおいて発生した赤色の光と、緑色発光層182Gにおいて発生した緑色の光と、青色発光層182Bにおいて発生した青色の光とが合成された合成光である。
In this organic EL display, as shown in FIG. 1, three organic
この白色光は、図2に示したように、有機発光素子30R,30G,30Bから映像表示用の光Eとして有機ELディスプレイの外部へ放出される過程において、各有機発光素子30R,30G,30B間の共振長が互いに異なることに起因する光の干渉現象を利用して波長変換され、すなわち有機発光素子30R,30G,30Rにおいてそれぞれ赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに変換される。これにより、図1に示したように、有機発光素子30R,30G,30Bからそれぞれ赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBが放出されるため、これらの3色の光ER,EG,EBに基づいて映像が表示される。
As shown in FIG. 2, the white light is emitted from the organic
なお、有機発光素子30R,30G,30Bから光ER、EG,EBが放出される際には、図2に示したように、各有機発光素子30R,30G,30Bにおいて、発光層を含む層18において発生した光が下部電極層16R,16G,16Bのうちの共振層612R,162G,162Bと上部電極層19との間で共振されるため、その光が多重干渉を起こす。これにより、最終的に有機発光素子30R,30G,30Bから放出される光ER,EG,EBの半値幅が減少し、色純度が向上する。
When light ER, EG, EB is emitted from the organic
次に、図1〜図9を参照して、図1〜図3に示した有機ELディスプレイの製造方法について説明する。図4〜図9は有機ELディスプレイの主要部(下部電極層16R,16G,16B)の製造工程を説明するためのものであり、いずれも図2に対応する断面構成を表している。なお、図4〜図9に示した領域SR,SG,SBは、それぞれ後工程において有機発光素子30R,30G,30Bが形成されることとなる領域を表している。
Next, a method for manufacturing the organic EL display shown in FIGS. 1 to 3 will be described with reference to FIGS. 4 to 9 are for explaining a manufacturing process of a main part (
以下では、まず、図1〜図3を参照して、有機ELディスプレイ全体の製造工程について簡単に説明したのち、図1〜図9を参照して、本発明に係る有機発光装置の製造方法が適用される有機ELディスプレイの主要部の形成工程について説明する。なお、有機ELディスプレイのうちの一連の構成要素の材質、厚さおよび構造的特徴については既に詳述したので、それらの説明を適宜省略するものとする。 In the following, first, a manufacturing process of the entire organic EL display will be briefly described with reference to FIGS. 1 to 3, and then a method for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9. The formation process of the main part of the applied organic EL display will be described. Since the material, thickness and structural characteristics of a series of components in the organic EL display have already been described in detail, the description thereof will be omitted as appropriate.
この有機ELディスプレイは、スパッタリングなどの成膜技術、フォトリソグラフィなどのパターニング技術、ならびにドライエッチングやウェットエッチングなどのエッチング技術を含む既存の薄膜プロセスを使用して製造可能である。すなわち、有機ELディスプレイを製造する際には、図1に示したように、まず、駆動用基板11の一面に、複数のTFT12(TFT121〜123)をマトリックス状にパターン形成し、引き続きTFT121〜123およびその周辺の駆動用基板11を覆うように層間絶縁層13を形成したのち、各TFT121〜123ごとに2組ずつ配線14をパターン形成する。続いて、配線14およびその周辺の層間絶縁層13を覆うように平坦化層15を形成することにより、後工程において有機発光素子30R,30G,30Bが形成されることとなる下地領域を平坦化する。続いて、平坦化層15上に、各TFT121〜123の配設位置に対応して1組の有機発光素子30(30R,30G,30B)をパターン形成する。具体的には、下部電極層16R、発光層を含む層18および上部電極層19をこの順に積層させることにより有機発光素子30Rを形成し、下部電極層16G、発光層を含む層18および上部電極層19をこの順に積層することにより有機発光素子30Gを形成し、下部電極層16B、発光層を含む層および上部電極層19をこの順に積層することにより有機発光素子30Bを形成する。これらの有機発光素子30R,30G,30Bを形成する際には、例えば、図1に示したように、下部電極層16R,16G,16B上を経由して連続的に延在し、各有機発光素子30R,30G,30Bにおいて共有されるように発光層を含む層18および上部電極層19を形成すると共に、図1および図2に示したように、下部電極層16R,16G,16Bのうちの一部を構成する密着層161R,161G,161Bを駆動用基板11、より具体的には駆動基板11を覆うように設けられた平坦化層15上に形成して密着させるようにする。続いて、上部電極層19を覆うように保護層20を形成することにより、駆動パネル10を形成する。
This organic EL display can be manufactured using an existing thin film process including a film forming technique such as sputtering, a patterning technique such as photolithography, and an etching technique such as dry etching and wet etching. That is, when manufacturing an organic EL display, as shown in FIG. 1, first, a plurality of TFTs 12 (
続いて、封止用基板51の一面に、有機発光素子30R,30G,30Bに対応して赤色領域52R、緑色領域52Gおよび青色領域52Bを含むカラーフィルタ52を形成することにより、封止パネル50を形成する。
Subsequently, a
最後に、接着層60を使用して、駆動用基板11と封止用基板51との間に有機発光素子30R,30G,30Bが挟まれるように駆動パネル10と封止パネル50とを貼り合わせることにより、有機ELディスプレイが完成する。
Finally, using the
この有機ELディスプレイの主要部である下部電極層16R,16G,16Bを形成する際には、まず、図4に示したように、例えばスパッタリングを使用して、図1に示した駆動用基板11、より具体的には駆動用基板11に設けられた平坦化層15を覆うように、密着層161(厚さ=約20nm)と、共振層162(厚さ=約100nm)と、第1のバリア層部分としてのバリア層部分1631(厚さ=T1)とをこの順に形成して積層させる。これらの密着層161、共振層162およびバリア層部分1631は、いずれも最終的にエッチング処理を使用してパターニングされることにより、下部電極層16R,16G,16Bのそれぞれの一部を構成することとなる準備層である。密着層161およびバリア層部分1631を形成する際には、形成材料として上記した金属、金属酸化物、金属窒化物または金属化合物を使用し、例えばITOを使用する。また、共振層162を形成する際には、形成材料として上記した銀や銀を含む合金を使用し、例えば銀パラジウム銅合金(AgPdCu)を使用する。この場合には、特に、上記にて図2を参照して説明したように、有機発光素子30Bにおいて光の干渉現象を利用して白色光を青色の光EBに変換するために必要な共振長を厚さT1に基づいて確保し得るように、そのバリア層部分1631の厚さT1を設定する。
When forming the
なお、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631の形成条件は、例えば、以下の通りである。すなわち、スパッタリングガスとしては、密着層161およびバリア層部分1631を形成するためにアルゴン(Ar)に酸素(O2 )が0.3%混合された混合ガスを使用し、共振層162を形成するためにアルゴンガスを使用する。また、スパッタリング条件としては、いずれの場合においても圧力=約0.5Pa、DC出力=約500Wとする。
The formation conditions of the
続いて、バリア層部分1631上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト膜(図示せず)を形成したのち、フォトリソグラフィ処理を使用してフォトレジスト膜をパターニングすることにより、図5に示したように、バリア層部分1631のうち、有機発光素子30Bが形成されることとなる第1の領域としての領域SB上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第1のマスクとしてのエッチングマスク71をパターン形成する。
Subsequently, after applying a photoresist on the
続いて、図5に示したように、例えばスパッタリングを使用して、エッチングマスク71およびその周辺のバリア層部分1631を覆うように、第2のバリア層部分としてのバリア層部分1632(厚さ=T2)を形成する。このバリア層部分1632は、最終的に下部電極層16R,16Gのそれぞれの一部を構成することとなる準備層である。このバリア層部分1632を形成する際には、上記にて図2を参照して説明したように、有機発光素子30Gにおいて光の干渉現象を利用して白色光を緑色の光EGに変換するために必要な共振長を厚さ(T1+T2)に基づいて確保し得るように、そのバリア層部分1632の厚さT2を設定する。なお、バリア層部分1632の形成材料としては、例えば、バリア層部分1631の形成材料と同様のものを使用する。
Subsequently, as shown in FIG. 5, for example, sputtering is used to cover the
続いて、図6に示したように、バリア層部分1632のうち、有機発光素子30Gが形成されることとなる第2の領域としての領域SG上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第2のマスクとしてのエッチングマスク72をパターン形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 6, a second mask made of, for example, a photoresist film is formed on the region SG as the second region in which the organic
続いて、図6に示したように、例えばスパッタリングを使用して、エッチングマスク72およびその周辺のバリア層部分1632を覆うように、第3のバリア層部分としてのバリア層部分1633(厚さ=T3)を形成する。このバリア層部分1633は、最終的に下部電極層16Rの一部を構成することとなる準備層である。このバリア層部分1633を形成する際には、上記にて図2を参照して説明したように、有機発光素子30Rにおいて光の干渉現象を利用して白色光を赤色の光ERに変換するために必要な共振長を厚さ(T1+T2+T3)に基づいて確保し得るように、そのバリア層部分1633の厚さT3を設定する。なお、バリア層部分1633の形成材料としては、例えば、バリア層部分1631,1632の形成材料と同様のものを使用する。
Subsequently, as shown in FIG. 6, the barrier layer portion 1633 (thickness = thickness = third barrier layer portion) is formed so as to cover the
続いて、図7に示したように、バリア層部分1633のうち、有機発光素子30Rが形成されることとなる第3の領域としての領域SR上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第3のマスクとしてのエッチングマスク73をパターン形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 7, a third mask made of, for example, a photoresist film is formed on the region SR as the third region in which the organic
続いて、一連のエッチングマスク71〜73を使用し、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図8に示したように、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633のうち、エッチングマスク71〜73により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去する。このエッチング処理により、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633が各領域SR,SG,SBごとに分離され、具体的には、領域SBにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631の3層構造が残存し、領域SGにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631,1632の4層構造が残存し、領域SRにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633の5層構造が残存する。なお、エッチング処理時には、エッチングマスク71〜73自体もエッチングされるため、それらのエッチングマスク71〜73の厚さが目減りする。
Subsequently, by using the series of
最後に、エッチングマスク71〜73を除去することにより、図9に示したように、上記した密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633の残存構造により、図2に示した下部電極層16R,16G,16Bが完成する。具体的には、青色の光EBを放出する有機発光素子30Bが形成されることとなる領域SBでは、密着層161B、共振層162Bおよびバリア層163B(163B1)が積層された積層構造を有する下部電極層16Bが形成され、このバリア層163Bは、バリア層部分1631(バリア層163B1)よりなる単層構造として形成される。また、緑色の光EGを放出する有機発光素子30Gが形成されることとなる領域SGでは、密着層161G、共振層162Gおよびバリア層163Gが積層された積層構造を有する下部電極層16Gが形成され、このバリア層163Gは、バリア層部分1631(下部バリア層163G1),1632(上部バリア層163G2)よりなる2層構造として形成される。さらに、赤色の光ERを放出する有機発光素子30Rが形成されることとなる領域SRでは、密着層161R、共振層162Rおよびバリア層163Rが積層された積層構造を有する下部電極層16Rが形成され、このバリア層163Rは、バリア層部分1631(下部バリア層163R1),1632(中間バリア層163R2),1633(上部バリア層163R3)よりなる3層構造として形成される。
Finally, by removing the etching masks 71 to 73, as shown in FIG. 9, due to the remaining structure of the
なお、上記した厚さT1,T2,T3は、最終的に有機発光素子30R,30G,30Bにおいてそれぞれ赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBを放出させることが可能な限り、自由に設定可能である。一例を挙げれば、発光層を含む層18の総厚=約40nm〜70nmの場合には、T1,T2,T3=約2nm〜100nmである。より具体的な例を挙げれば、発光層を含む層18の総厚=約50nm〜60nmの場合には、T1=約2nm〜20nm、(T1+T2)=約20nm〜50nm、(T1+T2+T3)=約50nm〜80nmである。参考までに、例えば、図1に示した補助配線40は、有機発光素子30Rと形成手順と同様の手順を経て、並列的に形成可能である。
The thicknesses T1, T2, and T3 described above are arbitrary as long as the red light ER, the green light EG, and the blue light EB can be finally emitted from the organic
本実施の形態に係る有機ELディスプレイでは、図1および図2に示したように、有機発光素子30R,30G,30Bのうちの下部電極層16R,16G,16Bが、駆動用基板11に近い側から順に密着層161R,161G,161B、共振層162R,162G,162Bおよびバリア層163R,163G,163Bが積層された構成を有し、これらのバリア層163R,163G,163Bの厚さDR,DG,DBが各有機発光素子30R,30G,30B間において互いに異なるようにしたので(DR>DG>DB)、例えば、「有機ELディスプレイの動作」として上記したように、厚さDR,DG,DB間の差異に基づく有機発光素子30R,30G,30B間の共振長の差異に起因した光の干渉現象を利用して、発光層を含む層18においた発生した白色光を3色の光、すなわち赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに変換することが可能となる。したがって、本実施の形態では、これらの3色の光ER,EG,EBを利用して映像を表示することができる。
In the organic EL display according to the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the
特に、本実施の形態では、上記した表示機構を構築可能な構造的特徴に基づき、上記「背景技術」の項において説明した従来の有機ELディスプレイとは異なり、以下で説明するように、表示性能面および製造可能性面の双方において利点を有する。 In particular, in the present embodiment, the display performance is different from the conventional organic EL display described in the section of “Background Art” on the basis of the structural features capable of constructing the display mechanism described above, as described below. It has advantages both in terms of surface and manufacturability.
すなわち、製造可能性面に関しては、3色(R,G,B)の光を放出するために、各色の光を別々に発生可能な3種類の発光層を利用する構成的要因に起因して、これらの3種類の発光層を蒸着する際にメタルマスクを使用して塗り分けが必要であった従来の有機ELディスプレイとは異なり、図2に示したように、3色の光ER,EG,EBを放出するために単色の光(白色光)を発生可能な1種類の発光層182を利用し、すなわち各有機発光素子30R,30G,30B間において発光層182が共通化しており、メタルマスクを使用して発光層182を塗り分ける必要がないため、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能である。
That is, in terms of manufacturability, in order to emit light of three colors (R, G, B), due to structural factors using three types of light emitting layers that can generate light of each color separately. Unlike the conventional organic EL display, which requires separate coating using a metal mask when depositing these three types of light emitting layers, as shown in FIG. 2, the three colors of light ER, EG , EB is used, and one type of light emitting layer 182 capable of generating monochromatic light (white light) is used, that is, the light emitting layer 182 is shared between the organic
一方、表示性能面に関しては、白色光を発生させる発光層を利用した上で、色変換用の高濃度かつ厚めのカラーフィルタのみを利用して白色光を3色(R,G,B)の光に変換していた従来の有機ELディスプレイとは異なり、カラーフィルタのみを使用して色変換を行う代わりに、図1および図2に示したように、カラーフィルタ52と共に、上記した厚さDR,DG,DB間の差異に基づく有機発光素子30R,30G,30B間の共振長の差異に起因した光の干渉現象を併用して白色光を3色の光ER,EG,EBに変換しているため、カラーフィルタ52が低濃度かつ薄めで済む。この結果、色変換時にカラーフィルタ52の光吸収に起因して光の利用損失が大きくなることを防止し、すなわち光の利用効率を確保することが可能である。
On the other hand, in terms of display performance, after using a light-emitting layer that generates white light, white light is converted into three colors (R, G, B) using only a high-density and thick color filter for color conversion. Unlike the conventional organic EL display which has been converted to light, instead of performing color conversion using only the color filter, the thickness DR described above is used together with the
したがって、本実施の形態では、表示性能面および製造可能性面の双方において利点を有することが可能になるため、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することができる。この場合には、特に、製造面において、メタルマスクを使用した発光層182の塗り分けが不要となる点に基づき、その塗り分け作業時にパーティクルが混入して発光層182に欠陥が生じることを防止することもできる。 Therefore, in this embodiment, since it is possible to have advantages in both display performance and manufacturability, it is possible to ensure both display performance and manufacturability. In this case, in particular, on the manufacturing side, based on the point that the light-emitting layer 182 using a metal mask is not separately applied, it is possible to prevent the light-emitting layer 182 from being defective due to particles being mixed during the separate operation. You can also
また、本実施の形態では、有機発光素子30R,30G,30Bがそれぞれ共振層162R,162G,162Bを含み、これらの共振層162R,162G,162Bと上部電極層19との間で光を共振させる共振構造を有するようにしたので、「有機ELディスプレイの動作」として上記したように、光ER,EG,EBの色純度が向上する。したがって、各光ER,EG,EBのいずれに関しても高ピーク強度および狭波長幅の良質なスペクトルを確保し、色再現性に優れた映像を表示することができる。この場合には、特に、高反射性の銀または銀を含む合金を使用して共振層162R,162G,162Bを構成すれば、共振される光の利用効率が高まるため、表示性能をより向上させることができる。
In the present embodiment, the organic
また、本実施の形態では、バリア層163R,163G,163Bが上記したように有機発光素子30R,30G,30B間において共振長に差異を設ける機能を果たす上、共振層162R,162G,162Bを保護する機能も果たすため、それらの共振層162R,162G,162Bが大気中の酸素や硫黄成分と反応して酸化または腐食したり、あるいは有機ELディスプレイの製造工程中において使用された薬液などと反応して腐食することを防止することができる。
In the present embodiment, the barrier layers 163R, 163G, and 163B serve to provide a difference in resonance length between the organic
また、本実施の形態では、下部電極層16R,16G,16Bが平坦化層15との密着性を高めるための密着層161R,161G,161Bを含んで構成されているため、これらの下部電極層16R,16G,16Bを平坦化層15に強固に固定することができる。
In the present embodiment, since the
また、本実施の形態では、共振層162R,162G,162Bよりも仕事関数が大きい材料を使用してバリア層163R,163G,163Bを構成したので、発光層182への正孔の注入量を増加させることができる。 In this embodiment, since the barrier layers 163R, 163G, and 163B are formed using a material having a work function larger than that of the resonance layers 162R, 162G, and 162B, the amount of holes injected into the light emitting layer 182 is increased. Can be made.
本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法では、バリア層163R,163G,163Bの厚さDR,DG,DBが各有機発光素子30R,30G,30B間において互いに異なるような特徴的な構成を有する下部電極層16R,16G,16Bを形成するために、既存の薄膜プロセスしか使用せず、新規かつ煩雑な製造プロセスを使用しない。しかも、その既存の薄膜プロセスのみを使用した上で、下部電極層16R,16G,16Bを継続的に再現性よく形成することが可能である。したがって、本実施の形態では、下部電極層16R,16G,16Bを備えた有機ELディスプレイを容易かつ安定に製造することができる。
The organic EL display manufacturing method according to the present embodiment has a characteristic configuration in which the thicknesses DR, DG, and DB of the barrier layers 163R, 163G, and 163B are different from each other between the organic
[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
本実施の形態に係る表示装置としての有機ELディスプレイは、下部電極層16R,16G,16Bの形成工程が異なる点を除いて、上記第1の実施の形態において説明した有機ELディスプレイの構成(図1〜図3)と同様の構成を有しており、その有機ELディスプレイの製造工程と同様の製造工程を使用して製造可能である。この有機ELディスプレイでは、特に、例えば、下部電極層16R,16G,16Bのうちのバリア層163R,163G,163Bを高精度に形成するために、バリア層部分1631が酸化錫(SnO2 )または酸化クロム(CrO)により構成され、バリア層部分1632がITOにより構成され、バリア層部分1633がIZOにより構成されているのが好ましい。
The organic EL display as the display device according to the present embodiment has the configuration of the organic EL display described in the first embodiment except that the formation steps of the
図10〜図17は有機ELディスプレイのうちの下部電極層16R,16G,16Bの製造工程を説明するためのものであり、いずれも図2に対応する断面構成を表している。なお、図10〜図17では、上記第1の実施の形態において説明した構成要素と同一の要素に同一の符号を付している。
10 to 17 are for explaining a manufacturing process of the
下部電極層16R,16G,16Bを形成する際には、まず、図10に示したように、例えばスパッタリングを使用して、平坦化層15を覆うように、密着層161(厚さ=約20nm)と、共振層162(厚さ=約100nm)と、第1のバリア層部分としてのバリア層部分1631(厚さ=T1)と、第2のバリア層部分としてのバリア層部分1632(厚さ=T2)と、第3のバリア層部分としてのバリア層部分1633(厚さ=T3)とをこの順に形成して積層させる。密着層161およびバリア層部分1631〜1633の形成材料としては、いずれに関しても上記第1の実施の形態において説明した金属、金属酸化物、金属窒化物または金属化合物を使用し、例えば、密着層161およびバリア層部分1632としてITO、バリア層部分1631として酸化錫(SnO2 )、バリア層部分1633としてIZOをそれぞれ使用する。また、共振層162の形成材料としては、上記第1温実施の形態において説明した銀や銀を含む合金を使用し、例えば銀パラジウム銅合金(AgPdCu)を使用する。このバリア層部分1631〜1633を形成する際には、上記にて図2を参照して説明したように、有機発光素子30R,30G,30Bにおいてそれぞれ光の干渉現象を利用して白色光を赤色の光ER、緑色の光EGおよび青色の光EBに変換するために必要な共振長を確保し得るように、厚さT1〜T3をそれぞれ設定する。特に、ITOよりなるバリア層部分1632を形成する際には、例えば、後工程においてIZOよりなるバリア層部分1633をウェットエッチングする際に、バリア層部分1632がエッチング処理の進行を停止させるストップ層として機能し得るように、そのバリア層部分1632を高温下で成膜するか、あるいは成膜後にアニールし、結晶化させる。なお、スパッタリングを使用して密着層161、共振層162、バリア層部分1631〜1633を形成して積層させる際には、例えば、これらの一連の層を同一の真空環境中において連続的に形成する。
When forming the
なお、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633の形成条件は、例えば、以下の通りである。すなわち、スパッタリングガスとしては、密着層161およびバリア層部分1632を形成するためにアルゴン(Ar)に酸素(O2 )が0.3%混合された混合ガスを使用し、共振層162を形成するためにアルゴンガスを使用し、バリア層部分1631を形成するためにアルゴン(Ar)に酸素(O2 )が0.5%混合された混合ガスを使用し、バリア層部分1633を形成するためにアルゴン(Ar)に酸素(O2 )が1.0%混合された混合ガスを使用する。また、スパッタリング条件としては、いずれの場合においても圧力=約0.5Pa、DC出力=約500Wとする。
The formation conditions of the
続いて、図11に示したように、バリア層部分1633のうち、有機発光素子30Rが形成されることとなる第1の領域としての領域SR上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第1のマスクとしてのエッチングマスク81をパターン形成する。
Subsequently, as illustrated in FIG. 11, a first mask made of, for example, a photoresist film is formed on the region SR as the first region in which the organic
続いて、エッチングマスク81と共にウェットエッチングを使用し、バリア層部分1633をエッチングしてパターニングすることにより、図12に示したように、バリア層部分1633のうち、エッチングマスク81により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去し、領域SRにバリア層部分1633を残存させると共に、その領域SBの周辺領域にバリア層部分1632を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、エッチャントとして、例えば、リン酸(H3 PO4 )と硝酸(HNO3 )と酢酸(CH3 COOH)との混酸、あるいはシュウ酸(C2 H2 O4 )を使用する。このウェットエッチング処理時には、上記したように、エッチャントに対して耐性を有する結晶化ITOよりなるバリア層部分1632がストップ層として機能し、バリア層部分1633のエッチングが完了した時点でエッチング処理の進行が停止するため、そのエッチング処理がバリア層部分1632まで及ぶことが防止される。
Subsequently, by using wet etching together with the
続いて、図13に示したように、バリア層部分1632の露出面のうち、有機発光素子30Gが形成されることとなる第2の領域としての領域SG上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第2のマスクとしてのエッチングマスク82をパターン形成する。なお、エッチングマスク82を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク82を形成する前に使用済みのエッチングマスク81を一旦除去したのち、そのエッチングマスク82を形成すると同時にエッチングマスク81を改めて形成し直すようにする。
Subsequently, as shown in FIG. 13, a first layer made of, for example, a photoresist film is formed on the exposed surface of the
続いて、エッチングマスク81,82と共にウェットエッチングを使用し、バリア層部分1632をエッチングしてパターニングすることにより、図14に示したように、バリア層部分1632のうち、エッチングマスク81,82により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去し、領域SR,SGにバリア層部分1632を残存させると共に、それらの領域SR,SGの周辺領域にバリア層部分1631を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、エッチャントとして、例えば、塩酸(HCl)、塩酸を含む酸、あるいはフッ酸と硝酸との混酸を使用する。このウェットエッチング処理時には、上記したバリア層部分1632と同様に、エッチャントに対して耐性を有する酸化錫よりなるバリア層部分1631がストップ層として機能し、バリア層部分1632のエッチングが完了した時点でエッチング処理の進行が停止するため、そのエッチング処理がバリア層部分1631まで及ぶことが防止される。
Subsequently, by using wet etching together with the etching masks 81 and 82, the
続いて、図15に示したように、バリア層部分1631の露出面のうち、有機発光素子30Bが形成されることとなる第3の領域としての領域SB上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第3のマスクとしてのエッチングマスク83をパターン形成する。なお、エッチングマスク83を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク83を形成する前に使用済みのエッチングマスク81,82を一旦除去したのち、そのエッチングマスク83を形成すると同時にエッチングマスク81,82を改めて形成し直すようにする。
Subsequently, as shown in FIG. 15, the first surface made of, for example, a photoresist film is formed on the exposed surface of the
続いて、エッチングマスク81〜83と共にドライエッチングを使用し、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図16に示したように、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631のうち、エッチングマスク81〜83により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去する。このエッチング処理により、密着層161、共振層162およびバリア層部分1631が各領域SR,SG,SBごとに分離され、具体的には、領域SRにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633よりなる5層構造が残存し、領域SGにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631,1632よりなる4層構造が残存し、領域SBにおいて密着層161、共振層162およびバリア層部分1631よりなる3層構造が残存する。なお、エッチング処理時には、エッチングマスク81〜83自体もエッチングされるため、それらのエッチングマスク81〜83の厚さが目減りする。
Subsequently, by using dry etching together with the etching masks 81 to 83, the
最後に、エッチングマスク81〜83を除去することにより、図17に示したように、上記した密着層161、共振層162およびバリア層部分1631〜1633の残存構造により、上記第1の実施の形態において図9に示した場合と同様に、図2に示した下部電極層16R,16G,16Bが完成する。
Finally, by removing the etching masks 81 to 83, as shown in FIG. 17, due to the remaining structure of the
本実施の形態に係る有機ELディスプレイの製造方法においても、既存の薄膜プロセスのみを使用して下部電極層16R,16G,16Bを継続的に再現性よく形成することが可能であるため、上記第1の実施の形態と同様に、有機ELディスプレイを容易かつ安定に製造することができる。
Also in the method of manufacturing the organic EL display according to the present embodiment, the
特に、本実施の形態では、エッチャントに対して互いに異なる耐性を有する材料を使用してバリア層部分1631〜1633を形成し、具体的には、バリア層部分1633をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用してバリア層部分1632を形成すると共に、同様にバリア層部分1632をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用してバリア層部分1631を形成するようにしたので、バリア層部分1633をエッチングする際にバリア層部分1632がエッチング処理を停止させるためのストップ層として機能すると共に、同様にバリア層部分1632をエッチングする際にバリア層部分1631がストップ層として機能する。したがって、エッチング処理が不必要な箇所にまで及ぶことを防止することが可能になるため、下部電極層16R,16G,16Bを高精度に形成することができる。
In particular, in this embodiment, the
また、本実施の形態では、スパッタリングを使用して密着層161、共振層162、バリア層部分1631〜1633を形成して積層させる際に、これらの一連の層を同一の真空環境中において連続的に形成するようにしたので、これらの一連の層を複数の真空環境中、すなわち真空環境と大気圧環境とを経由しながら形成する場合とは異なり、各層間に大気圧環境中の異物が混入することを防止し、その各層間の界面を清浄に保つことができる。
Further, in this embodiment, when the
なお、本実施の形態に係る有機ELディスプレイに関する動作、作用および効果は、上記第1の実施の形態と同様である。 The operation, action, and effect relating to the organic EL display according to the present embodiment are the same as those in the first embodiment.
以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、それらの実施の形態と同様の効果を得ることが可能な限りにおいて自由に変形可能である。 As described above, the present invention has been described with reference to some embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and as long as the same effects as those embodiments can be obtained. Can be freely deformed.
具体的には、例えば、上記各実施の形態では、図3に示したように、発光層182において白色光を発生させるために、その発光層182を赤色発光層182R、緑色発光層182Gおよび青色発光層182Bが積層された3層構造として構成したが、必ずしもこれに限られるものではなく、白色光を発生させることが可能な限りにおいて、発光層182の構成は自由に変更可能である。この発光層182に関する上記した3層構造以外の構造としては、例えば、(1)白色光を発生可能な白色発光材料を使用した単層構造や、(2)赤色発光材料、緑色発光材料および青色発光材料が混合された混合材料を使用した単層構造や、(3)赤色発光材料および緑色発光材料が混合された混合材料よりなる混合発光層と、緑色発光材料および青色発光材料が混合された混合材料よりなる他の混合発光層とが積層された2層構造などが挙げられる。これらのいずれの場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。 Specifically, for example, in each of the above embodiments, as shown in FIG. 3, in order to generate white light in the light emitting layer 182, the light emitting layer 182 is changed into a red light emitting layer 182R, a green light emitting layer 182G, and a blue light emitting layer 182G. The three-layer structure in which the light-emitting layer 182B is stacked is used. However, the structure is not necessarily limited thereto, and the structure of the light-emitting layer 182 can be freely changed as long as white light can be generated. Examples of the structure other than the above three-layer structure related to the light emitting layer 182 include (1) a single layer structure using a white light emitting material capable of generating white light, and (2) a red light emitting material, a green light emitting material, and a blue color. A single layer structure using a mixed material in which light emitting materials are mixed, or (3) a mixed light emitting layer made of a mixed material in which red light emitting material and green light emitting material are mixed, and a green light emitting material and a blue light emitting material are mixed. Examples thereof include a two-layer structure in which another mixed light emitting layer made of a mixed material is stacked. In any of these cases, the same effects as those of the above embodiments can be obtained.
また、上記各実施の形態では、発光層182において白色光を発生させるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、各有機発光素子30R,30G,30B間の共振長の差異を利用して発光層182において発生した光を3色の光ER,EG,EBに変換することが可能な限り、発光層182において発生させる光の色は自由に変更可能である。この場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。
In each of the above embodiments, white light is generated in the light emitting layer 182. However, the present invention is not necessarily limited to this. For example, the difference in resonance length between the organic
また、上記各実施の形態では、各有機発光素子30R,30G,30Bを構成するバリア層163R,163G,163Bの厚さDR,DG,DBの間にDR>DG>DBの関係が成立している場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、上記各実施の形態と同様の効果を得ることが可能な限り、厚さDR,DG,DBの間の関係は自由に変更可能である。この点に関してより詳細に説明すれば、上記各実施の形態において説明したDR>DG>DBの関係は、一連の数式(数2〜数4)中のmR,mG,mBの間にmR=mG=mBの関係(例えばmR=mG=mB=0)が成立している場合に成立するものであり、これらのmR,mG,mBの値の設定によっては厚さDR,DG,DB間の関係が変更し得る。一例を挙げれば、mR,mG,mBの間にmR(=mG)≠mBの関係(例えばmR=mG=0,mB=1)の関係が成立している場合には、厚さDR,DG,DBの間にDB>DR>DGの関係が成立することとなる。この場合には、特に、最も厚いバリア層163Bの厚さが約100nm以上となり得る。
In each of the above embodiments, the relationship DR> DG> DB is established between the thicknesses DR, DG, DB of the barrier layers 163R, 163G, 163B constituting the organic
また、上記各実施の形態では、図1および図2に示したように、本発明をトップエミッション型の有機ELディスプレイに適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図18および図19に示したように、本発明をボトムエミッション型の有機ELディスプレイに適用するようにしてもよい。図18はボトムエミッション型の有機ELディスプレイの断面構成を表しており、図19は図18に示した有機ELディスプレイを構成する有機発光素子30R,30G,30Bおよび補助配線40の断面構成を拡大して模式的に表している。この有機ELディスプレイは、主に、図18に示したように、(1)TFT12(121〜123)が有機発光素子30(30R,30G,30B)の配設位置に対応しないようにずれて配置され、(2)カラーフィルタ52が駆動用基板11とTFT12および層間絶縁層13との間に配設されていると共に、図19に示したように、(3)共振層162R,162G,162Bの厚さが上部電極層19の厚さよりも薄くなっている点を除き、図1に示したトップエミッション型の有機ELディスプレイとほぼ同様の構成を有している。この有機ELディスプレイでは、有機発光素子30R,30G,30Bは、共振層162R,162G,162Bと上部電極層19との間で共振させた光ER,EG,EBを下部電極層16R,16G,16Bを経由して放出するようになっている。この場合の共振層162R,162G,162Bの厚さは約1nm〜50nmであり、上部電極層19の厚さは約100nm〜300nmである。なお、ボトムエミッション型の有機ELディスプレイでは、例えば、図18に示したように保護層20、接着層60および封止パネル50(封止用基板51)を備える代わりに、脱酸素材を含む中空構造の封止キャップを備える場合もある。このボトムエミッション型の有機ELディスプレイにおいても、上記各実施の形態において説明したトップエミッション型の有機ELディスプレイと同様の効果を得ることができる。
In each of the above embodiments, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the case where the present invention is applied to a top emission type organic EL display has been described. However, the present invention is not necessarily limited thereto. As shown in FIGS. 18 and 19, the present invention may be applied to a bottom emission type organic EL display. FIG. 18 shows a cross-sectional configuration of the bottom emission type organic EL display, and FIG. 19 is an enlarged cross-sectional configuration of the organic
また、上記各実施の形態では、本発明の有機発光装置を表示装置としての有機ELディスプレイに適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、本発明の有機発光装置を有機ELディスプレイ以外の他の表示装置に適用するようにしてもよい。もちろん、本発明の有機発光装置は、例えば、表示装置以外の他の装置にも適用することが可能である。この「表示装置以外の他の装置」としては、例えば、照明装置などが挙げられる。これらの場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。 In each of the above embodiments, the case where the organic light-emitting device of the present invention is applied to an organic EL display as a display device has been described. However, the present invention is not necessarily limited thereto. You may make it apply to other display apparatuses other than an organic electroluminescent display. Of course, the organic light-emitting device of the present invention can also be applied to devices other than the display device, for example. Examples of the “device other than the display device” include a lighting device. In these cases, the same effects as those of the above embodiments can be obtained.
本発明に係る有機発光装置およびその製造方法、ならびに有機発光装置を備えた表示装置は、例えば、有機ELディスプレイおよびその製造方法に適用することが可能である。 The organic light emitting device and the manufacturing method thereof according to the present invention and the display device including the organic light emitting device can be applied to, for example, an organic EL display and a manufacturing method thereof.
10…駆動パネル、11…駆動用基板、12(121〜123)…TFT、13…層間絶縁層、14…配線、15…平坦化層、16R,16G,16B…下部電極層、17…層内絶縁層、18…発光層を含む層、19…上部電極層、20…保護層、30(30R,30G,30B)…有機発光素子、40…補助配線、50…封止パネル、51…封止用基板、52…カラーフィルタ、52R…赤色領域、52G…緑色領域、52B…青色領域、60…接着層、161,161R,161G,161B…密着層、71〜73,81〜83…エッチングマスク、162,162R,162G,162B…共振層、163R(163R1),163G,163B…バリア層、163G1,163B1…下部バリア層、163B2…中間バリア層、163G2,163B3…上部バリア層、181…正孔輸送層、182…発光層、182R…赤色発光層、182G…緑色発光層、182B…青色発光層、183…電子輸送層、1631〜1633…バリア層部分、DR,DG,DB,HR,HG,HB…厚さ、E…光(映像表示用の光)、ER…赤色の光、EG…緑色の光、EB…青色の光、LR,LG,LB…光学的距離、PR1,PG1,PB1,PR2,PG2,PB2…端面、SR,SG,SB…領域。
DESCRIPTION OF
Claims (32)
前記第1の電極層は、前記基体に近い側から順に、前記基体との密着性を高めるための密着層と、前記発光層において発生した光を前記第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有し、
前記バリア層の厚さは、前記3つの有機発光素子間において互いに異なっている
ことを特徴とする有機発光装置。 Each of the three organic light emitting devices includes a first electrode layer, a layer including a light emitting layer, and a second electrode layer in order from the side close to the substrate. And an organic light emitting device that emits light generated in the light emitting layer by converting the light generated in the light emitting layer into light of three different colors,
The first electrode layer causes the light generated in the light emitting layer to resonate with the second electrode layer, in order from the side closer to the base, in order to improve the adhesiveness with the base. For example, and a barrier layer for protecting the resonance layer is laminated,
The thickness of the said barrier layer is mutually different between the said three organic light emitting elements. The organic light emitting device characterized by the above-mentioned.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the thickness of the layer including the light-emitting layer is equal between the three organic light-emitting elements.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light emitting device according to claim 1, wherein the layer including the light emitting layer is an organic layer.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting layer generates light of the same color between the three organic light-emitting elements.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The light emitting layer includes a red light emitting layer that generates red light, a green light emitting layer that generates green light, and a blue light emitting layer that generates blue light in order from the side closer to the first electrode layer. The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the organic light-emitting device has a stacked configuration.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 2. The organic light emitting device according to claim 1, wherein the barrier layers have different thicknesses corresponding to the three colors of light emitted from the three organic light emitting elements.
ことを特徴とする請求項6記載の有機発光装置。 The thickness of the barrier layer is set so that the light generated in the light emitting layer by the three organic light emitting elements can be converted into red light, green light, and blue light, respectively, and emitted. The organic light-emitting device according to claim 6.
ことを特徴とする請求項7記載の有機発光装置。 The thickness of the barrier layer decreases in order corresponding to the red light, the green light, and the blue light emitted from the three organic light emitting devices. Organic light emitting device.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the barrier layer has a thickness in a range of 1 nm to 100 nm.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The barrier layer includes indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), cadmium (Cd), titanium (Ti), chromium (Cr), gallium (Ga), and aluminum (Al). The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the organic light-emitting device is made of a light transmissive material containing at least one metal, an alloy of the metal, a metal oxide, or a metal nitride thereof.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The barrier layer includes indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), and oxide. 2. The light-transmitting material comprising at least one metal oxide selected from the group comprising cadmium (CdO), titanium oxide (TiO 2 ) and chromium oxide (CrO 2 ). The organic light-emitting device described.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the barrier layer is made of a material having a work function larger than that of the resonance layer.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The adhesion layer is made of chromium (Cr), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), cadmium (Cd), titanium (Ti), aluminum (Al), magnesium (Mg), and molybdenum (Mo). The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the organic light-emitting device includes at least one metal selected from the group including a metal alloy, a metal oxide, or a metal nitride thereof.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the resonance layer is made of silver (Ag) or an alloy containing silver.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The resonance layer is composed of silver (Ag), palladium (Pd), neodymium (Nd), samarium (Sm), yttrium (Y), cerium (Ce), europium (Eu), gadolinium (Gd), and terbium (Tb). , Dysprosium (Dy), erbium (Er), ytterbium (Yb), scandium (Sc), ruthenium (Ru), copper (Cu), and an alloy containing at least one kind of gold (Au) The organic light-emitting device according to claim 1, wherein
前記密着層は、前記平坦化層との密着性を高めるためのものである
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The substrate is provided with a planarizing layer for planarizing a base region in which the three organic light emitting elements are disposed,
The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the adhesion layer is for improving adhesion with the planarization layer.
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。
(数1)
(2L)/λ+Φ/(2π)=m
(式中、L,λ,Φ,mは、Lが共振層(共振層のうちのバリア層に隣接する第1の端面)と第2の電極層(第2の電極層のうちの発光層を含む層に隣接する第2の端面)との間の光学的距離、λが放出したい光のスペクトルのピーク波長、Φが共振層(第1の端面)および第2の電極層(第2の端面)で生じる反射光の位相シフト、mが整数をそれぞれ表している。) 2. The organic light-emitting device according to claim 1, wherein an optical distance L between the resonance layer and the second electrode layer satisfies the relationship of Equation 1. 3.
(Equation 1)
(2L) / λ + Φ / (2π) = m
(Wherein, L, λ, Φ, m, L is a resonance layer (first end face adjacent to the barrier layer of the resonance layer) and a second electrode layer (light emitting layer of the second electrode layer). The optical distance between the second layer and the second end surface adjacent to the layer containing λ, λ is the peak wavelength of the spectrum of light to be emitted, Φ is the resonant layer (first end surface), and the second electrode layer (second The phase shift of the reflected light generated at the end face), m represents an integer.)
ことを特徴とする請求項1記載の有機発光装置。 The three organic light emitting elements resonate light generated in the light emitting layer between the resonant layer and the second electrode layer, and then either the first electrode layer or the second electrode layer. The organic light-emitting device according to claim 1, wherein the light of the three colors is emitted via one of them.
前記共振層の厚さは1nm以上50nm以下の範囲内、前記第2の電極層の厚さは100nm以上300nm以下の範囲内である
ことを特徴とする請求項18記載の有機発光装置。 The three organic light emitting devices emit the light of the three colors via the first electrode layer,
19. The organic light emitting device according to claim 18, wherein a thickness of the resonance layer is in a range of 1 nm to 50 nm, and a thickness of the second electrode layer is in a range of 100 nm to 300 nm.
前記共振層の厚さは100nm以上300nm以下の範囲内、前記第2の電極層の厚さは1nm以上10nm以下の範囲内である
ことを特徴とする請求項18記載の有機発光装置。 The three organic light emitting devices emit the light of the three colors via the second electrode layer,
19. The organic light-emitting device according to claim 18, wherein a thickness of the resonance layer is in a range of 100 nm to 300 nm, and a thickness of the second electrode layer is in a range of 1 nm to 10 nm.
前記基体に近い側から順に、前記基体との密着性を高めるための密着層と、前記発光層において発生した光を前記第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有するように、前記第1の電極層を形成する工程を含み、
前記バリア層の厚さが、前記3つの有機発光素子間において互いに異なるようにする
ことを特徴とする有機発光装置の製造方法。 Each of the three organic light emitting devices includes a first electrode layer, a layer including a light emitting layer, and a second electrode layer in order from the side close to the substrate. And a method of manufacturing an organic light emitting device that converts the light generated in the light emitting layer into light of three different colors and emits the light,
In order from the side closer to the substrate, an adhesion layer for improving adhesion to the substrate, a resonance layer for resonating light generated in the light emitting layer with the second electrode layer, and this resonance A step of forming the first electrode layer so as to have a configuration in which a barrier layer for protecting the layer is laminated.
The method of manufacturing an organic light emitting device, wherein the thickness of the barrier layer is different between the three organic light emitting elements.
前記基体を覆うように、前記密着層と、前記共振層と、前記バリア層の一部を構成する第1のバリア層部分とをこの順に形成して積層させる工程と、
この第1のバリア層部分のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第1の有機発光素子が形成されることとなる第1の領域上に、第1のマスクをパターン形成する工程と、
この第1のマスクおよびその周辺の前記第1のバリア層部分を覆うように、前記バリア層の他の一部を構成する第2のバリア層部分を形成する工程と、
この第2のバリア層部分のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第2の有機発光素子が形成されることとなる第2の領域上に、第2のマスクをパターン形成する工程と、
この第2のマスクおよびその周辺の前記第2のバリア層部分を覆うように、前記バリア層のさらに他の一部を構成する第3のバリア層部分を形成する工程と、
この第3のバリア層部分のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第3の有機発光素子が形成されることとなる第3の領域上に、第3のマスクをパターン形成する工程と、
前記第1、第2および第3のマスクを使用し、前記密着層、前記共振層、ならびに前記第1、第2および第3のバリア層部分を連続的にエッチングしてパターニングする工程と、を含み、
前記第1の電極層のうちの前記バリア層を、前記第1の領域において前記第1のバリア層部分により形成し、前記第2の領域において前記第1および第2のバリア層部分により形成し、前記第3の領域において前記第1、第2および第3のバリア層部分により形成する
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 The step of forming the first electrode layer includes:
Forming and laminating the adhesion layer, the resonance layer, and a first barrier layer portion constituting a part of the barrier layer in this order so as to cover the substrate;
Patterning a first mask on a first region of the first barrier layer portion where the first organic light emitting element of the three organic light emitting elements is to be formed;
Forming a second barrier layer portion constituting another part of the barrier layer so as to cover the first mask and the first barrier layer portion around the first mask;
A step of patterning a second mask on a second region in which the second organic light-emitting element of the three organic light-emitting elements is to be formed in the second barrier layer portion;
Forming a third barrier layer portion constituting still another part of the barrier layer so as to cover the second mask and the second barrier layer portion around the second mask; and
A step of patterning a third mask on a third region of the third barrier layer portion on which the third organic light emitting element of the three organic light emitting elements is to be formed;
Using the first, second and third masks to continuously etch and pattern the adhesion layer, the resonant layer, and the first, second and third barrier layer portions; Including
The barrier layer of the first electrode layer is formed by the first barrier layer portion in the first region, and is formed by the first and second barrier layer portions in the second region. The method of manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the first, second, and third barrier layer portions are formed in the third region.
ことを特徴とする請求項22記載の有機発光装置の製造方法。 23. The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 22, wherein the first, second and third organic light emitting elements emit blue light, green light and red light, respectively.
前記基体を覆うように、前記密着層と、前記共振層と、前記バリア層を構成する第1、第2および第3のバリア層部分とをこの順に形成して積層させる工程と、
この第3のバリア層部分のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第1の有機発光素子が形成されることとなる第1の領域上に、第1のマスクをパターン形成する工程と、
この第1のマスクを使用し、前記第3のバリア層部分をエッチングしてパターニングすることにより、前記第1の領域に前記第3のバリア層部分を残存させると共に、その第1の領域の周辺領域に前記第2のバリア層部分を露出させる工程と、
前記第2のバリア層部分の露出面のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第2の有機発光素子が形成されることとなる第2の領域上に、第2のマスクをパターン形成する工程と、
この第2のマスクと共に前記第1のマスクを使用し、前記第2のバリア層部分をエッチングしてパターニングすることにより、前記第1および第2の領域に前記第2のバリア層部分を残存させると共に、それらの第1および第2の領域の周辺領域に前記第1のバリア層部分を露出させる工程と、
前記第1のバリア層部分の露出面のうち、前記3つの有機発光素子のうちの第3の有機発光素子が形成されることとなる第3の領域上に、第3のマスクをパターン形成する工程と、
この第3のマスクと共に前記第1および第2のマスクを使用し、前記密着層、前記共振層および前記第1のバリア層部分を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記第1、第2および第3の領域に前記第1のバリア層部分を残存させる工程と、を含み、
前記第1の電極層のうちの前記バリア層を、前記第1の領域において前記第1、第2および第3のバリア層部分により形成し、前記第2の領域において前記第1および第2のバリア層部分により形成し、前記第3の領域において前記第1のバリア層部分により形成する
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 The step of forming the first electrode layer includes:
Forming and laminating the adhesion layer, the resonance layer, and the first, second, and third barrier layer portions constituting the barrier layer in this order so as to cover the substrate;
Patterning a first mask on a first region of the third barrier layer portion where the first organic light emitting element of the three organic light emitting elements is to be formed;
Using the first mask, the third barrier layer portion is etched and patterned, thereby leaving the third barrier layer portion in the first region and surrounding the first region. Exposing the second barrier layer portion in a region;
A second mask is patterned on a second region of the exposed surface of the second barrier layer where a second organic light emitting element of the three organic light emitting elements is to be formed. Process,
The first mask is used together with the second mask, and the second barrier layer portion is etched and patterned to leave the second barrier layer portion in the first and second regions. And exposing the first barrier layer portion in a peripheral region of the first and second regions;
A third mask is patterned on a third region of the exposed surface of the first barrier layer where a third organic light emitting element of the three organic light emitting elements is to be formed. Process,
The first and second masks are used together with the third mask, and the adhesion layer, the resonance layer, and the first barrier layer are continuously etched and patterned, whereby the first and second masks are formed. Leaving the first barrier layer portion in the second and third regions,
The barrier layer of the first electrode layer is formed by the first, second, and third barrier layer portions in the first region, and the first and second regions are formed in the second region. The method of manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the organic light-emitting device is formed of a barrier layer portion and is formed of the first barrier layer portion in the third region.
ことを特徴とする請求項24記載の有機発光装置の製造方法。 25. The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 24, wherein the first, second, and third organic light emitting elements emit red light, green light, and blue light, respectively.
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 At least one metal selected from the group comprising indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), cadmium (Cd), titanium (Ti), chromium (Cr), gallium (Ga) and aluminum (Al) The method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the barrier layer is formed using a light-transmitting material including an alloy of the metal, a metal oxide, or a metal nitride thereof.
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 Indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), cadmium oxide (CdO), The light-transmitting material containing at least one metal oxide of the group containing titanium oxide (TiO 2 ) and chromium oxide (CrO 2 ) is used to form the barrier layer. 21. A method for producing an organic light emitting device according to item 21.
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 Of the group comprising chromium (Cr), indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), cadmium (Cd), titanium (Ti), aluminum (Al), magnesium (Mg) and molybdenum (Mo) The method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the adhesion layer is formed using at least one metal, an alloy of the metal, a metal oxide, or a metal nitride thereof.
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 The method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the resonance layer is formed using silver (Ag) or an alloy containing silver.
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 Along with silver (Ag), palladium (Pd), neodymium (Nd), samarium (Sm), yttrium (Y), cerium (Ce), europium (Eu), gadolinium (Gd), terbium (Tb), dysprosium (Dy) And using the alloy including at least one member selected from the group including erbium (Er), ytterbium (Yb), scandium (Sc), ruthenium (Ru), copper (Cu) and gold (Au). The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 21, wherein:
この平坦化層に、前記密着層を形成する
ことを特徴とする請求項21記載の有機発光装置の製造方法。 And a step of forming a planarizing layer on the substrate for planarizing a base region where the three organic light emitting elements are to be formed.
The method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 21, wherein the adhesion layer is formed on the planarizing layer.
前記第1の電極層は、前記基体に近い側から順に、前記基体との密着性を高めるための密着層と、前記発光層において発生した光を前記第2の電極層との間で共振させるための共振層と、この共振層を保護するためのバリア層とが積層された構成を有し、
前記バリア層の厚さは、前記3つの有機発光素子間において互いに異なっている
ことを特徴とする表示装置。
An organic light-emitting device having a configuration in which three organic light-emitting elements are provided on a base, and the three organic light-emitting elements of the organic light-emitting device are all arranged in order from the side close to the base, the first electrode layer, The display device has a configuration in which a layer including a light emitting layer and a second electrode layer are stacked, and displays an image by converting light generated in the light emitting layer into light of three different colors and emitting the light. And
The first electrode layer causes the light generated in the light emitting layer to resonate with the second electrode layer, in order from the side closer to the base, in order to improve the adhesiveness with the base. For example, and a barrier layer for protecting the resonance layer is laminated,
The thickness of the said barrier layer is mutually different between the said three organic light emitting elements. The display apparatus characterized by the above-mentioned.
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JP (1) | JP4179119B2 (en) |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006302748A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Seiko Epson Corp | Electroluminescence device, manufacturing method of electroluminescence device and electronic apparatus |
JP2007012370A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Sony Corp | Organic luminescent element and organic luminescent device |
KR100778818B1 (en) | 2005-07-15 | 2007-11-22 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | Electroluminescence device, method of manufacturing electroluminescence device, and electronic apparatus |
KR100852111B1 (en) | 2005-07-13 | 2008-08-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | Flat panel display apparatus and method of manufacturing the same |
WO2009119591A1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士電機ホールディングス株式会社 | Organic electroluminescence element |
US7601988B2 (en) | 2004-09-24 | 2009-10-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
KR100922763B1 (en) | 2008-03-13 | 2009-10-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting display apparatus and method of manufacturing thereof |
JP2010503166A (en) * | 2006-09-07 | 2010-01-28 | サン−ゴバン グラス フランス | SUBSTRATE FOR ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE, USE AND PRODUCTION PROCESS OF SUBSTRATE, AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE |
JP2010067517A (en) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | Patterning method of thin film, electronic material thin film, and organic electroluminescent display |
US7923920B2 (en) | 2006-10-24 | 2011-04-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic light-emitting elements of LED with light reflection layers in each spaced on opposite sides of transparent conductive layer |
JP2012142238A (en) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Sony Corp | Organic el display device and electronic apparatus |
JP2013045766A (en) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Samsung Display Co Ltd | Organic light-emitting display device and manufacturing method thereof |
KR101344256B1 (en) | 2010-08-04 | 2013-12-23 | 캐논 가부시끼가이샤 | Display apparatus |
US8865320B2 (en) | 2007-03-29 | 2014-10-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Light-emitting device |
KR101475066B1 (en) * | 2007-12-12 | 2014-12-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic Light Emitting Display and Manufacturing Method for the same |
JP2015015076A (en) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Organic el display device and method for manufacturing the same |
JP2017142975A (en) * | 2016-02-10 | 2017-08-17 | セイコーエプソン株式会社 | Electro-optic device and electronic device |
US9905809B2 (en) | 2005-01-21 | 2018-02-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2018078095A (en) * | 2016-10-28 | 2018-05-17 | キヤノン株式会社 | White light-emitting device having multiple organic el elements |
JP2019135724A (en) * | 2019-05-08 | 2019-08-15 | セイコーエプソン株式会社 | Electro-optic device and electronic device |
JP2019179716A (en) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | Organic electroluminescent display device, method of manufacturing organic electroluminescent display device, and nanoimprint mold |
JP2021520599A (en) * | 2018-05-09 | 2021-08-19 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | Display board, its manufacturing method and display device |
WO2023073489A1 (en) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Display device, display module, and electronic apparatus |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998013725A1 (en) * | 1996-09-24 | 1998-04-02 | Seiko Epson Corporation | Projection display having light source |
JPH11282383A (en) * | 1998-01-13 | 1999-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | Electrode substrate and its manufacture |
WO2000076010A1 (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-14 | Seiko Epson Corporation | Multiple wavelength light emitting device, electronic apparatus, and interference mirror |
JP2002532830A (en) * | 1998-12-08 | 2002-10-02 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | Display device |
JP2002299057A (en) * | 2001-03-21 | 2002-10-11 | Agilent Technol Inc | Organic light-emitting device |
JP2003142277A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Tohoku Pioneer Corp | Organic el color display, and manufacturing method of the same |
JP2004253390A (en) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Eastman Kodak Co | Color organic light-emitting display |
-
2003
- 2003-09-19 JP JP2003328989A patent/JP4179119B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998013725A1 (en) * | 1996-09-24 | 1998-04-02 | Seiko Epson Corporation | Projection display having light source |
JPH11282383A (en) * | 1998-01-13 | 1999-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | Electrode substrate and its manufacture |
JP2002532830A (en) * | 1998-12-08 | 2002-10-02 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | Display device |
WO2000076010A1 (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-14 | Seiko Epson Corporation | Multiple wavelength light emitting device, electronic apparatus, and interference mirror |
JP2003528421A (en) * | 1999-06-02 | 2003-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | Multi-wavelength light emitting device, electronic device and interference mirror |
JP2002299057A (en) * | 2001-03-21 | 2002-10-11 | Agilent Technol Inc | Organic light-emitting device |
JP2003142277A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-16 | Tohoku Pioneer Corp | Organic el color display, and manufacturing method of the same |
JP2004253390A (en) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Eastman Kodak Co | Color organic light-emitting display |
Cited By (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7601988B2 (en) | 2004-09-24 | 2009-10-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US8723196B2 (en) | 2004-09-24 | 2014-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US8450755B2 (en) | 2004-09-24 | 2013-05-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US8188491B2 (en) | 2004-09-24 | 2012-05-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US7875893B2 (en) | 2004-09-24 | 2011-01-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US10333108B2 (en) | 2005-01-21 | 2019-06-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US9905809B2 (en) | 2005-01-21 | 2018-02-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
JP4677822B2 (en) * | 2005-04-22 | 2011-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ELECTROLUMINESCENT DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRONIC DEVICE |
JP2006302748A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Seiko Epson Corp | Electroluminescence device, manufacturing method of electroluminescence device and electronic apparatus |
JP2007012370A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Sony Corp | Organic luminescent element and organic luminescent device |
US7598671B2 (en) | 2005-07-13 | 2009-10-06 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display and method of manufacturing the same |
US8187482B2 (en) | 2005-07-13 | 2012-05-29 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display and method of manufacturing the same |
KR100852111B1 (en) | 2005-07-13 | 2008-08-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | Flat panel display apparatus and method of manufacturing the same |
KR100778818B1 (en) | 2005-07-15 | 2007-11-22 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | Electroluminescence device, method of manufacturing electroluminescence device, and electronic apparatus |
JP2010503166A (en) * | 2006-09-07 | 2010-01-28 | サン−ゴバン グラス フランス | SUBSTRATE FOR ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE, USE AND PRODUCTION PROCESS OF SUBSTRATE, AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE |
US7923920B2 (en) | 2006-10-24 | 2011-04-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic light-emitting elements of LED with light reflection layers in each spaced on opposite sides of transparent conductive layer |
US8865320B2 (en) | 2007-03-29 | 2014-10-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Light-emitting device |
KR101475066B1 (en) * | 2007-12-12 | 2014-12-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic Light Emitting Display and Manufacturing Method for the same |
US8344619B2 (en) | 2008-03-13 | 2013-01-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same |
KR100922763B1 (en) | 2008-03-13 | 2009-10-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting display apparatus and method of manufacturing thereof |
WO2009119591A1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士電機ホールディングス株式会社 | Organic electroluminescence element |
JP2010067517A (en) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | Patterning method of thin film, electronic material thin film, and organic electroluminescent display |
KR101344256B1 (en) | 2010-08-04 | 2013-12-23 | 캐논 가부시끼가이샤 | Display apparatus |
JP2012142238A (en) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Sony Corp | Organic el display device and electronic apparatus |
US10276833B2 (en) | 2011-08-25 | 2019-04-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode display and manufacturing method thereof |
JP2013045766A (en) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Samsung Display Co Ltd | Organic light-emitting display device and manufacturing method thereof |
JP2015015076A (en) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Organic el display device and method for manufacturing the same |
US10263218B2 (en) | 2016-02-10 | 2019-04-16 | Seiko Epson Corportion | Electro-optical device with a luminance adjustment layer |
US11201315B2 (en) | 2016-02-10 | 2021-12-14 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device with a luminance adjustment layer |
JP2017142975A (en) * | 2016-02-10 | 2017-08-17 | セイコーエプソン株式会社 | Electro-optic device and electronic device |
US10658620B2 (en) | 2016-02-10 | 2020-05-19 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic equipment |
TWI719129B (en) * | 2016-02-10 | 2021-02-21 | 日商精工愛普生股份有限公司 | Electro-optical device and electronic equipment |
JP2018078095A (en) * | 2016-10-28 | 2018-05-17 | キヤノン株式会社 | White light-emitting device having multiple organic el elements |
JP7016633B2 (en) | 2016-10-28 | 2022-02-07 | キヤノン株式会社 | White light emitting device having multiple organic EL elements |
JP2019179716A (en) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 大日本印刷株式会社 | Organic electroluminescent display device, method of manufacturing organic electroluminescent display device, and nanoimprint mold |
JP2021520599A (en) * | 2018-05-09 | 2021-08-19 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | Display board, its manufacturing method and display device |
JP2019135724A (en) * | 2019-05-08 | 2019-08-15 | セイコーエプソン株式会社 | Electro-optic device and electronic device |
WO2023073489A1 (en) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Display device, display module, and electronic apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4179119B2 (en) | 2008-11-12 |
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