JP2005077533A - 光学素子、レンズ系、及び投影露光装置 - Google Patents
光学素子、レンズ系、及び投影露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005077533A JP2005077533A JP2003305387A JP2003305387A JP2005077533A JP 2005077533 A JP2005077533 A JP 2005077533A JP 2003305387 A JP2003305387 A JP 2003305387A JP 2003305387 A JP2003305387 A JP 2003305387A JP 2005077533 A JP2005077533 A JP 2005077533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens system
- optical
- liquid
- optical element
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【構成】 反射防止膜45は、液体71に接しており、液体71に対して耐食性を有する必要がある。さらに、バルク材43も、反射防止膜45が例えばポーラスで液体71に対して浸透性を有する場合、液体71に対して耐食性を有する必要がある。そこで、バルク材43や反射防止膜45を旧来の材料であるCaF2結晶等とせず、例えば弗化ランタンからなるバルク材43上に弗化マグネシウムからなる反射防止膜45を堆積する。これにより、液体71に接触する光学素子41すなわち反射防止膜45やバルク材43が侵食されにくくなり、レンズ系LSの光学性能を良好に維持することができる。
【選択図】 図1
Description
図1は、第1実施形態に係る液浸型のレンズ系を示す図である。このレンズ系LSは、鏡筒31内に複数の光学素子を備えており、そのうちの1つの光学素子41が鏡筒31の下端から突起している。レンズ系LSの下方には、浸液である液体71を介して半導体ウェハ等である物体OBが配置されている。
弗化ランタンからなるバルク材43上に、弗化マグネシウム膜、弗化ランタン膜、弗化マグネシウム膜の順で真空蒸着方法による成膜を行って、3層の積層体からなる反射防止膜45を形成した。ここで、弗化マグネシウムと弗化ランタンの屈折率はそれぞれ1.43と1.69である。各層の光学的膜厚は、λを設計主波長とするとバルク材43上の第1層である弗化マグネシウム膜については0.41λとし、第2層である弗化マグネシウム膜については0.28λとし、第3層である弗化マグネシウム膜については0.22λとした。
以下、第2実施形態に係る液浸型のレンズ系について説明する。第2実施形態のレンズ系は、第1実施形態のレンズ系を変更したものであり、以下では主に変更点について説明する。
バルク材143を構成するための第1部材143aを弗化マグネシウム単結晶基板で形成し、第2部材143bをサファイア単結晶基板で形成し、両者の光学軸がレンズ系LSの光軸と一致するように両部材143a,143bを張り合わせてバルク材143とする。この際、第2部材143bの外側面上には、弗化マグネシウム膜、弗化ランタン膜、弗化マグネシウム膜の順で真空蒸着方法による成膜を行うことによって、3層の積層体からなる反射防止膜145が形成されている。各層の光学的膜厚は、第2部材143b上の第1層である弗化マグネシウム膜については0.41λとし、第2層である弗化マグネシウム膜については0.28λとし、第3層である弗化マグネシウム膜については0.22λとした。
以下、第3に係る投影露光装置について説明する。本実施形態は、第1若しくは第2実施形態のレンズ系LSをステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置に適用したものである。
Claims (9)
- 少なくとも1つの光学面が水を含む所定の浸液に接触した状態で使用される光透過型の光学素子を備える液浸型のレンズ系であって、
前記光学素子は、CaF2結晶材料よりも水に対する溶解度が小さい光透過材料を含んで形成されていることを特徴とするレンズ系。 - 前記光学素子は、所定形状のバルク材と当該バルク材の表面に形成さる反射防止膜とを有し、前記バルク材及び前記反射防止膜は、ともにCaF2結晶材料よりも水に対する溶解度が小さい光透過材料で形成されていることを特徴とする請求項1記載のレンズ系。
- 前記光学素子は、投影露光用の紫外光を透過させることを特徴とする請求項1及び請求項2のいずれか一項記載のレンズ系。
- 前記光透過材料は、弗化物及び酸化物の少なくとも一方であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項記載のレンズ系。
- 前記光透過材料は、NdF3、LaF3、YF3、MgF2、LiSrAlF6、LiCaAlF6、水晶、及びサファイアの少なくとも1つであることを特徴とする請求項4記載のレンズ系。
- 前記バルク材は、異種の光透過材料からなる複数の光学的部分を含んで形成されているとともに、当該複数の光学的部分は、相互に複屈折の影響を相殺することを特徴とする請求項2記載のレンズ系。
- 前記光透過材料は、レーザコンパクションの少ない材料で形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4及び請求項6のいずれか一項記載のレンズ系。
- 前記光学素子は、前記レンズ系の対物側に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項記載のレンズ系。
- 投影光学系を用いてマスクのパターン像を基板上に投影露光する装置であって、
露光光によってマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターン像を基板上に形成する請求項1から請求項8のいずれか一項記載の液浸型のレンズ系と
を備える投影露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003305387A JP4880869B2 (ja) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | レンズ系及び投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003305387A JP4880869B2 (ja) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | レンズ系及び投影露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005077533A true JP2005077533A (ja) | 2005-03-24 |
JP4880869B2 JP4880869B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=34408814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003305387A Expired - Fee Related JP4880869B2 (ja) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | レンズ系及び投影露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4880869B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005078773A1 (ja) * | 2004-02-18 | 2005-08-25 | Nikon Corporation | 結像光学系、露光装置、および露光方法 |
JP2006309220A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | 投影対物レンズ |
JP2007017632A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
WO2007055199A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2007514192A (ja) * | 2003-12-15 | 2007-05-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 高開口数と平面状端面とを有する投影対物レンズ |
JP2007165934A (ja) * | 2003-08-29 | 2007-06-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 |
JP2007214501A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Nikon Corp | 光学素子及び投影露光装置 |
JP2007529762A (ja) * | 2003-12-19 | 2007-10-25 | カール ツァイス エスエムテー アクチエンゲゼルシャフト | 結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ |
JP2013070087A (ja) * | 2003-12-15 | 2013-04-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10255319A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | 原盤露光装置及び方法 |
JP2003121750A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Nikon Corp | 液浸系顕微鏡対物レンズ |
JP2003161882A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
JP2004207709A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2004535603A (ja) * | 2001-07-18 | 2004-11-25 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | 結晶レンズを備えた対物レンズにおける複屈折の補正 |
JP2004356205A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Tadahiro Omi | スキャン型露光装置および露光方法 |
-
2003
- 2003-08-28 JP JP2003305387A patent/JP4880869B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10255319A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | 原盤露光装置及び方法 |
JP2004535603A (ja) * | 2001-07-18 | 2004-11-25 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | 結晶レンズを備えた対物レンズにおける複屈折の補正 |
JP2003121750A (ja) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Nikon Corp | 液浸系顕微鏡対物レンズ |
JP2003161882A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
JP2004207709A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2004356205A (ja) * | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Tadahiro Omi | スキャン型露光装置および露光方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007165934A (ja) * | 2003-08-29 | 2007-06-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 |
JP4586032B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2010-11-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 |
JP2007514192A (ja) * | 2003-12-15 | 2007-05-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 高開口数と平面状端面とを有する投影対物レンズ |
JP2013070087A (ja) * | 2003-12-15 | 2013-04-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ |
JP2007529762A (ja) * | 2003-12-19 | 2007-10-25 | カール ツァイス エスエムテー アクチエンゲゼルシャフト | 結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ |
WO2005078773A1 (ja) * | 2004-02-18 | 2005-08-25 | Nikon Corporation | 結像光学系、露光装置、および露光方法 |
JP2006309220A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | 投影対物レンズ |
JP2007017632A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
WO2007055199A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2007214501A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Nikon Corp | 光学素子及び投影露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4880869B2 (ja) | 2012-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4492539B2 (ja) | 液浸型光学系及び投影露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP4816769B2 (ja) | 光学素子及び露光装置 | |
US8767173B2 (en) | Optical element and projection exposure apparatus based on use of the optical element | |
JP4771300B2 (ja) | 光学素子及び露光装置 | |
US8149381B2 (en) | Optical element and exposure apparatus | |
US7812926B2 (en) | Optical element, exposure apparatus based on the use of the same, exposure method, and method for producing microdevice | |
JP2013070087A (ja) | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ | |
JP2004205698A (ja) | 投影光学系、露光装置および露光方法 | |
JP4880869B2 (ja) | レンズ系及び投影露光装置 | |
TW200908083A (en) | Exposure apparatus and semiconductor device fabrication method | |
TWI395069B (zh) | 投影光學系統、曝光裝置以及曝光方法 | |
US20080100909A1 (en) | Optical element, liquid immersion exposure apparatus, liquid immersion exposure method, and method for producing microdevice | |
KR20090034736A (ko) | 노광장치, 노광 방법 및 디바이스 제조방법 | |
JP2006165285A (ja) | 光学素子及び露光装置 | |
JP2007005571A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009244881A (ja) | 光学部材、光引き回しユニット及び露光装置 | |
JP2006179759A (ja) | 光学素子及び投影露光装置 | |
JP2005257769A (ja) | 光学薄膜、光学素子及びそれを用いた露光装置及び露光方法 | |
JP2010097986A (ja) | 投影光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2011238959A (ja) | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060721 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090924 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091120 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4880869 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |