JP2005044896A - フォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フォークにボートを載せて搬送する際にボートの位置ずれが生じることのないフォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るフォークは、複数のウエハ2が搭載されたボート3を反応管の内外に搬送するフォーク1であって、前記ボート3を支持するボート支持領域4と、前記ボート支持領域4に設けられ、前記ボート3を支持する際に位置決めする位置決め部材としての凸部11,12と、を具備するものである。これにより、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをボート支持領域に載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明に係るフォークは、複数のウエハ2が搭載されたボート3を反応管の内外に搬送するフォーク1であって、前記ボート3を支持するボート支持領域4と、前記ボート支持領域4に設けられ、前記ボート3を支持する際に位置決めする位置決め部材としての凸部11,12と、を具備するものである。これにより、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをボート支持領域に載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に係わり、特に、フォークにボートを載せて搬送する際にボートの位置ずれが生じることのないフォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5は、従来のフォークの概略を示す断面図である。
石英ガラス製のフォーク101は、横型拡散炉又は横型CVD(chemical vapor deposition)炉などの反応管(図示せず)の内外に、複数のウエハ102が搭載されたボート103を搬送するものである。ボート103にはウエハ102が立てられた状態で複数並べられている。フォーク101には、ボート103を支えるボート支持領域104が設けられている。このボート支持領域104は、円管を同一の弧状に切ってある領域であり、ボート103を載置する領域は平らな形状を持っている。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−83775号公報(3〜4頁、図1,図5)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のフォークでは、ボート支持領域104における平らな形状を持つ領域の任意の位置にボート103を載せて搬送していたため、ボート支持領域におけるボートの位置が多少ずれることがある。その結果、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置も多少ずれることとなり、反応管内でのウエハ処理ポジションが一定しないことがあった。それにより、均熱域での処理再現性が悪くなり、ウエハ処理にばらつきが生じることがある。
【0005】
また、ボート103をフォーク101に載せた際にボート支持領域104におけるボート103の位置ずれが生じた場合、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルの原因となることもあり、ウエハが損傷することもある。
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、フォークにボートを載せて搬送する際にボートの位置ずれが生じることのないフォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係るフォークは、複数のウエハが搭載されたボートを反応管の内外に搬送するフォークであって、
前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を具備する。
【0007】
上記フォークによれば、ボート支持領域にボートの位置決め部材を設けているため、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをボート支持領域に載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。
【0008】
また、本発明に係るフォークにおいて、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置された凸部であることも可能である。
また、本発明に係るフォークにおいて、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置されたテーパーの付いた切り欠き部であることも可能である。
【0009】
また、本発明に係るフォークにおいて、前記ボートの両端に位置決め用テーパーが設けられており、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの前記位置決め用テーパーが嵌め合わされるように配置されたテーパーの付いた切り欠き部であることも可能である。
【0010】
本発明に係る半導体製造装置は、反応管内でウエハに加熱処理を行う横型加熱処理装置と、
複数のウエハが搭載されたボートを前記反応管の内外に搬送するフォークと、
を具備する半導体製造装置であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を有するものである。
【0011】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、複数枚のウエハをボートに載置し、前記ボートをフォークのボート支持領域に位置決めして載置し、前記フォークを反応管内に挿入し、前記ボートを前記反応管内に載置した後、前記フォークを前記反応管から取り出す工程と、
前記反応管内で前記ウエハに加熱処理を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、を有するものである。
【0012】
上記半導体装置の製造方法によれば、フォークのボート支持領域にボートの位置決め部材を設けているため、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをフォークに載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
(実施の形態1)
図1(A)は、本発明の実施の形態1によるフォークの概略を示す断面図であり、図1(B)は、図1(A)に示すa−a’に沿った断面図である。図2は、横型拡散炉を模式的に示す構成図である。
【0014】
図1(A),(B)に示す石英ガラス製のフォーク1は、図2に示す横型拡散炉5の反応管6の内外に、複数のウエハ2が搭載されたボート3を搬送するものである。
図2に示すように、横型拡散炉5は反応管6を有しており、この反応管6は、半導体ウエハ2の主面の直径より大きい内径を有している。また、反応管6の外周部には、管外を囲むようにヒータ7が配置されている。
【0015】
反応管6の尾管側(一端)には窒素ガス等の不活性ガスを矢印2のように炉内に導入するためのガス導入口8が設けられている。ガス導入口8には不活性ガスを供給する配管(図示せず)に接続されている。反応管6の頭管側(他端)には、複数の半導体ウエハ2を並べて載置した石英ガラス製のボートを管内に矢印10のように挿入するボート挿入口9が設けられている。ボート挿入口9には平面が四角形状の板状体である石英製シャッター(図示せず)が開閉自在に取り付けられている。
【0016】
図1(A),(B)に示すように、ボート3にはウエハ2が立てられた状態で複数並べられている。フォーク1には、ボート3を支えるボート支持領域4が設けられている。このボート支持領域4は、円管を同一の弧状に切ってある領域であり、ボート3を載置する領域は平らな形状を持っている。このボート支持領域4においてボートが実際に支持される場所に位置決め部材としての凸部(ノッチ)11,12が設けられている。つまり、凸部11はボート3の両端に接するように形成されており、凸部11と凸部12との間に位置するようにボート3を載せることにより、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0017】
次に、フォークを用いた半導体装置の製造方法について説明する。
まず、横型拡散炉で加熱処理を行うウエハ2をボート3に載置する。これにより、ボート3には複数枚のウエハ2が所定間隔をあけられて並べられる。次いで、このボート3をフォーク1のボート支持領域4に載置する。この際、図1(A)に示すように、凸部11と凸部12との間にボート3の両端が位置するように配置される。
【0018】
次いで、ボートを支持したフォーク1を図2に示す横型拡散炉5の反応管6内に矢印10のように挿入する。図2に示す横型拡散炉5においては予めヒータ7により反応管6を加熱すると共に、ガス導入口8から例えば窒素ガスを炉内に導入する。そして、反応管6の内部を窒素ガスの雰囲気とすると共に、反応管内の温度を所定温度まで昇温しておく。
【0019】
次いで、反応管6内の所定位置にボート3を載置し、フォーク1を反応管3から引き出す。次いで、シャッターを閉じてボート挿入口9を閉口する。この後、ガス導入口8の窒素ガスの炉内への導入を停止し、所定の条件で所定のガスをガス導入口8から反応管内に導入し、ウエハ2に所定の加熱処理を行う。
【0020】
次に、前記加熱処理が終了した後、再びフォーク1にボート3を載置し、フォークとともにボートを反応管から引き出す。このようにしてウエハへの加熱処理を終了する。
尚、上記実施の形態1では、横型拡散炉を用いてウエハの加熱処理を行っているが、これに限定されるものではなく、反応管内でウエハに加熱処理を行う半導体製造装置であれば、他の装置を用いることも可能であり、例えば、横型CVD炉を用いてCVD処理を行うことも可能である。
【0021】
上記実施の形態1によれば、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としての凸部(ノッチ)11,12を設けているため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0022】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
【0023】
(実施の形態2)
図3(A)は、本発明の実施の形態2によるフォークの概略を示す断面図であり、図3(B)は、図3(A)に示すb−b’に沿った断面図である。図3において図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
【0024】
ボート支持領域4においてボートが実際に支持される場所に位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15が設けられている。つまり、テーパー13,14はボート3の両端に接するように形成されており、テーパー13とテーパー14との間に位置するようにボート3を載せることにより、ボート3が切り欠き部15にテーパー13,14に沿って定位置にとどまる。その結果、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0025】
上記実施の形態2においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。すなわち、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15を設けているため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0026】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
【0027】
(実施の形態3)
図4(A)は、本発明の実施の形態3によるフォークの概略を示す断面図であり、図4(B)は、図4(A)に示すc−c’に沿った断面図である。図4において図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
【0028】
ボート支持領域4においてボート3が実際に支持される場所に位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15が設けられている。そして、このテーパー13,14の形状にほぼ一致するテーパー16,17がボート3の両端には位置決め用のテーパーとして設けられている。つまり、ボート支持領域のテーパー13はボート3の一端のテーパー16に接するようにテーパー角度や形状をほぼ一致させて形成されており、ボート支持領域のテーパー14はボート3の他端のテーパー17に接するようにテーパー角度や形状をほぼ一致させて形成されている。従って、テーパー13とテーパー14との間にボート3の位置決め用のテーパー16,17が位置するようにボート3を載せることにより、ボート3が切り欠き部15に嵌め合わされ、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めできる。よって、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0029】
上記実施の形態3においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。すなわち、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15を設けると共に、ボート3の両端にも位置決め用のテーパー16,17を設けている。このため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0030】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
尚、本発明は上記実施の形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるフォークの概略を示す断面図。
【図2】横型拡散炉を模式的に示す構成図。
【図3】本発明の実施の形態2によるフォークの概略を示す断面図。
【図4】本発明の実施の形態3によるフォークの概略を示す断面図。
【図5】従来の半導体装置の製造方法を示す断面図。
【符号の説明】
1,101…フォーク、2,102…ウエハ、3,103…ボート、4,104…ボート支持領域、5…横型拡散炉、6…反応管、7…ヒータ、8…ガス導入口、9…ボート挿入口、10…矢印、11,12…凸部、13,14…テーパー、15…切り欠き部、16,17…テーパー
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に係わり、特に、フォークにボートを載せて搬送する際にボートの位置ずれが生じることのないフォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5は、従来のフォークの概略を示す断面図である。
石英ガラス製のフォーク101は、横型拡散炉又は横型CVD(chemical vapor deposition)炉などの反応管(図示せず)の内外に、複数のウエハ102が搭載されたボート103を搬送するものである。ボート103にはウエハ102が立てられた状態で複数並べられている。フォーク101には、ボート103を支えるボート支持領域104が設けられている。このボート支持領域104は、円管を同一の弧状に切ってある領域であり、ボート103を載置する領域は平らな形状を持っている。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−83775号公報(3〜4頁、図1,図5)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のフォークでは、ボート支持領域104における平らな形状を持つ領域の任意の位置にボート103を載せて搬送していたため、ボート支持領域におけるボートの位置が多少ずれることがある。その結果、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置も多少ずれることとなり、反応管内でのウエハ処理ポジションが一定しないことがあった。それにより、均熱域での処理再現性が悪くなり、ウエハ処理にばらつきが生じることがある。
【0005】
また、ボート103をフォーク101に載せた際にボート支持領域104におけるボート103の位置ずれが生じた場合、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルの原因となることもあり、ウエハが損傷することもある。
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、フォークにボートを載せて搬送する際にボートの位置ずれが生じることのないフォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係るフォークは、複数のウエハが搭載されたボートを反応管の内外に搬送するフォークであって、
前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を具備する。
【0007】
上記フォークによれば、ボート支持領域にボートの位置決め部材を設けているため、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをボート支持領域に載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。
【0008】
また、本発明に係るフォークにおいて、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置された凸部であることも可能である。
また、本発明に係るフォークにおいて、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置されたテーパーの付いた切り欠き部であることも可能である。
【0009】
また、本発明に係るフォークにおいて、前記ボートの両端に位置決め用テーパーが設けられており、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの前記位置決め用テーパーが嵌め合わされるように配置されたテーパーの付いた切り欠き部であることも可能である。
【0010】
本発明に係る半導体製造装置は、反応管内でウエハに加熱処理を行う横型加熱処理装置と、
複数のウエハが搭載されたボートを前記反応管の内外に搬送するフォークと、
を具備する半導体製造装置であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を有するものである。
【0011】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、複数枚のウエハをボートに載置し、前記ボートをフォークのボート支持領域に位置決めして載置し、前記フォークを反応管内に挿入し、前記ボートを前記反応管内に載置した後、前記フォークを前記反応管から取り出す工程と、
前記反応管内で前記ウエハに加熱処理を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、を有するものである。
【0012】
上記半導体装置の製造方法によれば、フォークのボート支持領域にボートの位置決め部材を設けているため、ボート支持領域において正確にボートを位置決めでき、ボートをフォークに載置した後もボートが位置ずれすることを抑制できる。従って、反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
(実施の形態1)
図1(A)は、本発明の実施の形態1によるフォークの概略を示す断面図であり、図1(B)は、図1(A)に示すa−a’に沿った断面図である。図2は、横型拡散炉を模式的に示す構成図である。
【0014】
図1(A),(B)に示す石英ガラス製のフォーク1は、図2に示す横型拡散炉5の反応管6の内外に、複数のウエハ2が搭載されたボート3を搬送するものである。
図2に示すように、横型拡散炉5は反応管6を有しており、この反応管6は、半導体ウエハ2の主面の直径より大きい内径を有している。また、反応管6の外周部には、管外を囲むようにヒータ7が配置されている。
【0015】
反応管6の尾管側(一端)には窒素ガス等の不活性ガスを矢印2のように炉内に導入するためのガス導入口8が設けられている。ガス導入口8には不活性ガスを供給する配管(図示せず)に接続されている。反応管6の頭管側(他端)には、複数の半導体ウエハ2を並べて載置した石英ガラス製のボートを管内に矢印10のように挿入するボート挿入口9が設けられている。ボート挿入口9には平面が四角形状の板状体である石英製シャッター(図示せず)が開閉自在に取り付けられている。
【0016】
図1(A),(B)に示すように、ボート3にはウエハ2が立てられた状態で複数並べられている。フォーク1には、ボート3を支えるボート支持領域4が設けられている。このボート支持領域4は、円管を同一の弧状に切ってある領域であり、ボート3を載置する領域は平らな形状を持っている。このボート支持領域4においてボートが実際に支持される場所に位置決め部材としての凸部(ノッチ)11,12が設けられている。つまり、凸部11はボート3の両端に接するように形成されており、凸部11と凸部12との間に位置するようにボート3を載せることにより、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0017】
次に、フォークを用いた半導体装置の製造方法について説明する。
まず、横型拡散炉で加熱処理を行うウエハ2をボート3に載置する。これにより、ボート3には複数枚のウエハ2が所定間隔をあけられて並べられる。次いで、このボート3をフォーク1のボート支持領域4に載置する。この際、図1(A)に示すように、凸部11と凸部12との間にボート3の両端が位置するように配置される。
【0018】
次いで、ボートを支持したフォーク1を図2に示す横型拡散炉5の反応管6内に矢印10のように挿入する。図2に示す横型拡散炉5においては予めヒータ7により反応管6を加熱すると共に、ガス導入口8から例えば窒素ガスを炉内に導入する。そして、反応管6の内部を窒素ガスの雰囲気とすると共に、反応管内の温度を所定温度まで昇温しておく。
【0019】
次いで、反応管6内の所定位置にボート3を載置し、フォーク1を反応管3から引き出す。次いで、シャッターを閉じてボート挿入口9を閉口する。この後、ガス導入口8の窒素ガスの炉内への導入を停止し、所定の条件で所定のガスをガス導入口8から反応管内に導入し、ウエハ2に所定の加熱処理を行う。
【0020】
次に、前記加熱処理が終了した後、再びフォーク1にボート3を載置し、フォークとともにボートを反応管から引き出す。このようにしてウエハへの加熱処理を終了する。
尚、上記実施の形態1では、横型拡散炉を用いてウエハの加熱処理を行っているが、これに限定されるものではなく、反応管内でウエハに加熱処理を行う半導体製造装置であれば、他の装置を用いることも可能であり、例えば、横型CVD炉を用いてCVD処理を行うことも可能である。
【0021】
上記実施の形態1によれば、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としての凸部(ノッチ)11,12を設けているため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0022】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
【0023】
(実施の形態2)
図3(A)は、本発明の実施の形態2によるフォークの概略を示す断面図であり、図3(B)は、図3(A)に示すb−b’に沿った断面図である。図3において図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
【0024】
ボート支持領域4においてボートが実際に支持される場所に位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15が設けられている。つまり、テーパー13,14はボート3の両端に接するように形成されており、テーパー13とテーパー14との間に位置するようにボート3を載せることにより、ボート3が切り欠き部15にテーパー13,14に沿って定位置にとどまる。その結果、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0025】
上記実施の形態2においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。すなわち、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15を設けているため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0026】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
【0027】
(実施の形態3)
図4(A)は、本発明の実施の形態3によるフォークの概略を示す断面図であり、図4(B)は、図4(A)に示すc−c’に沿った断面図である。図4において図1と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
【0028】
ボート支持領域4においてボート3が実際に支持される場所に位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15が設けられている。そして、このテーパー13,14の形状にほぼ一致するテーパー16,17がボート3の両端には位置決め用のテーパーとして設けられている。つまり、ボート支持領域のテーパー13はボート3の一端のテーパー16に接するようにテーパー角度や形状をほぼ一致させて形成されており、ボート支持領域のテーパー14はボート3の他端のテーパー17に接するようにテーパー角度や形状をほぼ一致させて形成されている。従って、テーパー13とテーパー14との間にボート3の位置決め用のテーパー16,17が位置するようにボート3を載せることにより、ボート3が切り欠き部15に嵌め合わされ、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めできる。よって、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることがない。
【0029】
上記実施の形態3においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。すなわち、フォークのボート支持領域4にボート3の位置決め部材としてテーパー13,14の付いた切り欠き部15を設けると共に、ボート3の両端にも位置決め用のテーパー16,17を設けている。このため、ボート支持領域4において正確にボート3を位置決めでき、ボート3をフォーク1に載置した後もボート3が位置ずれすることを抑制できる。従って、横型拡散炉の反応管内に挿入してボートを載置した位置がずれることを抑制でき、反応管内でのウエハ処理ポジションを一定にすることができる。それにより、均熱域での処理再現性を向上でき、ウエハ処理にばらつきが生じることを防止できる。
【0030】
また、本実施の形態では、ボート3をフォーク1に載せた際にボート支持領域4におけるボート3の位置ずれを抑制できるため、フォークによるボートの搬送時に搬送トラブルが起こりにくく、ウエハが損傷することも抑制できる。
尚、本発明は上記実施の形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるフォークの概略を示す断面図。
【図2】横型拡散炉を模式的に示す構成図。
【図3】本発明の実施の形態2によるフォークの概略を示す断面図。
【図4】本発明の実施の形態3によるフォークの概略を示す断面図。
【図5】従来の半導体装置の製造方法を示す断面図。
【符号の説明】
1,101…フォーク、2,102…ウエハ、3,103…ボート、4,104…ボート支持領域、5…横型拡散炉、6…反応管、7…ヒータ、8…ガス導入口、9…ボート挿入口、10…矢印、11,12…凸部、13,14…テーパー、15…切り欠き部、16,17…テーパー
Claims (6)
- 複数のウエハが搭載されたボートを反応管の内外に搬送するフォークであって、
前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を具備するフォーク。 - 前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置された凸部である請求項1に記載のフォーク。
- 前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの両端が接するように配置されたテーパーの付いた切り欠き部である請求項1に記載のフォーク。
- 前記ボートの両端に位置決め用テーパーが設けられており、前記位置決め部材は、前記ボートを前記ボート支持領域に支持した際に該ボートの前記位置決め用テーパーが嵌め合わされるように配置されたテーパーの付いた切り欠き部である請求項1に記載のフォーク。
- 反応管内でウエハに加熱処理を行う横型加熱処理装置と、
複数のウエハが搭載されたボートを前記反応管の内外に搬送するフォークと、
を具備する半導体製造装置であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、
前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、
を有するものである半導体製造装置。 - 複数枚のウエハをボートに載置し、前記ボートをフォークのボート支持領域に位置決めして載置し、前記フォークを反応管内に挿入し、前記ボートを前記反応管内に載置した後、前記フォークを前記反応管から取り出す工程と、
前記反応管内で前記ウエハに加熱処理を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記フォークは、前記ボートを支持するボート支持領域と、前記ボート支持領域に設けられ、前記ボートを支持する際に位置決めする位置決め部材と、を有するものである半導体装置の製造方法。
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JP2003201136A JP2005044896A (ja) | 2003-07-24 | 2003-07-24 | フォーク、半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
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-
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- 2003-07-24 JP JP2003201136A patent/JP2005044896A/ja not_active Withdrawn
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