JP2005014089A - レーザマーキング方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 被加工物における描画面の形状を考慮することで、平面のみならず曲面の被加工物の表面に投影した平面図形を、または透明な被加工物の内部に投影した平面図形を、歪みなく高速でマーキングする方法を提供する
【解決手段】 レーザ光源から出射されたレーザ光を、図形データに基づきガルバノミラーと結像手段の動作を制御することで被走査面上に結像させながら走査して所定の図形を描画するレーザマーキング方法において、被加工物の形状より算出された補正データにより、平面図形を被加工物の表面あるいは内部に投影した図形として描画するように前記ガルバノミラーおよび結像手段を制御することを特徴とするレーザマーキング方法。
【選択図】図1
【解決手段】 レーザ光源から出射されたレーザ光を、図形データに基づきガルバノミラーと結像手段の動作を制御することで被走査面上に結像させながら走査して所定の図形を描画するレーザマーキング方法において、被加工物の形状より算出された補正データにより、平面図形を被加工物の表面あるいは内部に投影した図形として描画するように前記ガルバノミラーおよび結像手段を制御することを特徴とするレーザマーキング方法。
【選択図】図1
Description
本発明は、ガルバノミラーを使用してレーザ光を走査し、金属、ガラスおよび樹脂等の表面、あるいは、ガラスや樹脂のような透明材料の内部にパターンをマーキングする、即ち、図形を描画するレーザマーキング装置を用いてのレーザマーキング方法に関する。特に、結像手段である集光レンズにより集光したレーザ光を用いて被加工物に図形を描画するレーザマーキング装置を用いてのレーザマーキング方法に関する。
レーザマーキング方法については、特許文献1および特許文献2等により知られている。
例えば、特許文献1において、ガルバノミラーを使用したレーザマーキング装置およびレーザ走査位置の補正処理方法について開示されている。しかしながら、特許文献1に記載の補正処理方法は、一般的なガルバノミラーを使用することにより発生する糸巻き形歪曲および樽形歪曲、あるいは、パターンの回転量を補正する方法、言い換えれば、平面内の走査位置の補正処理方法であり、マーキング対象である被加工物が曲面形状をなす場合の表面の凹凸、あるいは、透明材料の内部にマーキングする際の屈折の影響によりマーキング位置が本来のマーキング位置からズレることの補正方法については開示されていない。また、特許文献1に記載の補正処理方法は、レーザ集光位置の光軸方向のズレに対する補正方法については、開示されていない。
従来技術によるガルバノミラーを使用したレーザマーキング装置では、レーザ光がミラーの中心を起点として放射状に走査されるために、例えば、特許文献1のように、被加工物表面の形状および透明材料に入射する際の屈折等を考慮しない場合、マーキングされたパターンが被加工物の凹凸や屈折を反映して歪んでしまうという問題があった。更に、集光位置を補正しないために、表面の凹凸がレーザ光の加工可能領域から外れマーキングされない部分が生じる問題があった。
また、特許文献2において、ガルバノミラーと直交するX方向およびY方向の2方向に移動可能なステージを組み合わせたレーザマーキング装置におけるレーザ光の集光位置の補正方法について開示されている。しかし、特許文献2に記載のマーキング装置は、移動可能なステージに固定された1個のガルバノミラーが面内を移動してレーザ光を走査する方式であって、集光位置の補正量は、ガルバノミラーのX方向の移動量とY方向の移動量に対して求められるものであり、被加工物の表面の形状に応じた集光位置の補正方法については開示されてはいない。
特許文献2に記載の補正方法において、被加工物表面の形状を考慮しない場合、特許文献2のレーザマーキング装置は被加工面に対して決まった方向からレーザ光を照射するためにマーキングされるパターンが極端に歪むことは避けられるが、表面の凹凸がレーザ光の加工可能領域から外れマーキングされない部分が生じるという問題があった。更に、レーザ光の走査をガルバノミラーの回転でビームを振るのではなく、ガルバノミラー自体の平行移動により行うため、マーキング速度をガルバノミラーの回転による走査方式ほどに上げることが困難であるという問題があった。
特開平2002−321072号公報
特開平2000−202655号公報
従来のレーザマーキング装置において、前述の補正方法を行い、曲面の被加工物の表面に沿って平面図形を描画しようとした場合、レーザ光はXミラーの中心を起点とし放射状に走査されるため、被加工物の表面曲率の影響で、被加工物表面上において加工される点の座標は、元の図形データの座標に一致しない。一致しないために、マーキングされる図形が被加工物表面に投影されたものではなくなり、被加工物表面の表面曲率の影響を受けて歪んでしまうという問題があった。
更に、被加工物の表面曲率が大きくなると、レーザ光の加工可能領域から外れマーキングされない部分が生じるという問題があった。
更に、透明な被加工物の内部に平面図形を描画しようとした場合において、レーザ光がミラーの中心を起点とし放射状に走査される場合、レーザ光は透明材料に入射する際に屈折し、その屈折する角度は描画位置が原点から離れ入射角が大きくなるにつれて大きくなり、かつ、レーザ光の集光位置の軌跡も平面とならない。平面とはならないために、マーキングされる図形は、被加工物内部に投影されたものではなく、原点からの距離に応じて歪んでしまうという問題があった。
本発明は、前述した従来の制御方法に加えて、被加工物における描画面の形状を考慮することで、従来のように平面のみでなく、新たに曲面の被加工物の表面に投影した平面図形を、または透明な被加工物の内部に投影した平面図形を、歪みなく高速で描画するレーザマーキング方法を提供することを目的とする。
本発明のレーザマーキング方法は、従来のレーザマーキング方法において、ミラーや集光レンズを制御するためのデータの作成方法を解析し、該データを本発明のレーザマーキング方法により補正することで、従来のように平面のみならず、新たに曲面の被加工物への描画を可能としたものである。
本発明のレーザマーキング方法は、光源手段から出射したレーザ光を直交する二方向に関して二次元的に走査する一対のガルバノメータとターゲット面上に結像させる結像手段とを有し、描画する平面図形データを投影した被加工物上の点を描画する際にレーザ光が通過する基準平面上の座標を求め、その座標を使ってXミラーとYミラーの振り角および集光位置を補正するための補正データを算出することを特徴とする。
本発明のレーザマーキング方法において、ガルバノメータのXミラーとYミラーの制御については、算出した必要な振り角に応じた信号をXミラーとYミラーの駆動装置へ送信することで、前記結像手段である、例えば、集光レンズについて、焦光位置のズレを求め、言い換えれば、補正データを求め、該補正データを信号に変換し駆動装置に送信し、集光レンズを移動させることを特徴とする。
即ち、本発明は、レーザ光源から出射されたレーザ光を、描画する図形データに基づきガルバノミラーと結像手段の動作を制御することで被走査面上に結像させながら走査して所定の図形を描画するレーザマーキング方法において、被加工物の描画面の形状より算出された補正データにより、平面図形を被加工物の表面に投影した図形として描画するために前記ガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御することを特徴とするレーザマーキング方法である。
更に、本発明は、上記の補正データは、光学系から決まる基準平面と図形を描画する被走査面の形状とを比較して求めた値に基いて算出されることを特徴とする上記のレーザマーキング方法である。
更に、本発明は、被加工物の屈折率に基いて算出された補正データにより、透明な被加工物の内部に平面図形を描画するためにガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御することを特徴とするレーザマーキング方法である。
本発明のレーザマーキング方法を用いると、従来のレーザマーキング装置におけるレーザマーキング方法、即ち、制御方法に加えて、被加工物における描画面の形状を考慮することで、従来のように平面のみでなく、新たに曲面の被加工物の表面に投影した平面図形を、または透明な被加工物の内部に投影した平面図形を、歪ませることなく高速に描画される。
本発明のレーザマーキング方法を用いれば、二式の直交するガルバノミラーと光軸に沿って移動可能な集光レンズを使用してレーザ光を走査するレーザ描画装置において、従来のように平面のみならず、新たに曲面の被加工物の表面や透明な被加工物内に平面図形を投影した図形を歪みなく高速に描画される。
最初に本発明の基幹をなす従来のレーザマーキング方法について説明する。
図6は、平面描画のみを行う従来のレーザマーキング方法を用いた平面描画におけるレーザ集光位置の軌跡を説明するための説明図である。また、図6は、従来のレーザマーキング方法を説明するための図で、集光レンズを動かさない場合のレーザ集光位置の軌跡が曲面となることを説明するための説明図である。
図6に示すように、平面を対象とした2つのガルバノミラーと自動集光レンズを使用したレーザマーカーでは、レーザ光源1から出射したレーザ光をX方向に走査するためのXミラー2とY方向に走査するためのYミラー3を配置し、該レーザ光は、X方向についてはXミラー2の回転軸を中心とて、Y方向についてはYミラー3の回転軸を中心として、図形データに基づくパターンを基準平面6上に形成するように走査される。また、ビームを走査した場合のレーザ集光位置の軌跡は、集光レンズ4と対物レンズ5の配置によりXミラー2から基準平面6までの光路長の変化に無関係にガルバノミラー側に中心を持ち基準平面6の中心Oを頂点とした凸状の曲面7となるため、レーザ集光位置は、CADデータ等を用いて描画する図形データに基づくXミラー2およびYミラー3の動きに連動して集光レンズ4の位置を調整することで、その軌跡が曲面7から基準平面6となるように制御される。制御装置は、光学系のデータを基に、平面図形を描画するためのXミラー2とYミラー3の振り角および集光位置のズレを算出し、更に集光位置のズレから集光レンズ4の移動量を算出し、Xミラー2、Yミラー3および集光レンズ4を制御する。描画においては、Xミラー2とYミラー3の振り角および集光レンズ4の移動量を順次計算して描画する場合と、予め作成されたXミラー2とYミラー3の振り角および集光レンズ4の移動量を順次呼び出して描画する場合がある。
図7は、平面描画のみが行える従来のレーザマーキング装置におけるガルバノミラーおよび結像手段の動作の制御方法の説明図である。また、図7は、従来のレーザマーキング方法における、ミラーの振り角および集光位置のズレ、即ち、補正データを算出を説明するための説明図である。
次いで、平面図形を描画するためのガルバノミラーの振り角に関する補正データの一般的な算出方法について説明する。被加工物の表面を基準平面6とし、レーザ光が基準平面6に対して垂直に入射し、またその集光位置が基準平面6の中心Oと一致する場合を、Xミラー2、Yミラー3および集光レンズ4の基準位置として考える。図形データを表示するための座標系は、基準平面6の中心Oを原点に、直交座表系(X,Y,Z)とする。ただし、基準平面6上の点のZ座標は全て0であるため、ここでは省略して考えて良い。Xミラー2とYミラー3の中心をそれぞれAおよびBとすると、Xミラー2とYミラー3の中心間距離はAB、Yミラー3と基準平面6の中心間距離はBOとなる。Xミラー2とYミラー3の回転によるレーザ光の振れ角をそれぞれθx、θyとすれば、基準平面6上の点Pを描画するためのXミラー2とYミラー3の回転によるレーザ光の振れ角は、次の数1の式および数2の式で表される。補正データとしての、Xミラー2の振り角がθx、Yミラーの振り角がθyである。
また、平面図形を描画するために曲面7上の点P'から基準平面6上の点Pへ、集光レンズ4を移動させて補正すべきレーザの集光位置のズレ、PP’は、数3の式となる。
次いで、本発明のレーザマーキング装置を用いたマーキング方法について説明する。
本発明のマーキング方法により被加工面に投影した平面図形を描画するための装置は、レーザ発振器1から照射されたレーザ光が、光軸に沿って移動可能な図示しないリニアトランスレータに搭載された集光レンズ4と対物レンズ5を通り、走査のためのXミラー2およびYミラー3を経て、加工すべき被加工面上に集光されるように構成される。図形を描画するために必要なXミラー2とYミラー3の振り角および集光位置としての補正データは、与えられた平面図形の座標、言い換えれば、描画する図形データに対し、描画装置の光学系と平面図形を投影する被加工面の形状を基に算出される。
次いで、前述の算出方法に加え、被加工物における描画面の形状を考慮することで、曲面の被加工物の表面に投影した平面図形を、または透明な被加工物の内部に投影した平面図形を、歪みなく高速にマーキングするための、本発明のレーザマーキング方法における平面図形を曲面の被加工物の表面に投影した図形を描画する場合の、描画する図形データに対するXミラーとYミラーの振れ角と集光位置のズレ、即ち、補正データの算出方法について説明する。
図1が、曲面の被加工物の表面に投影した平面図形を描画する際のガルバノミラーの振り角および集光レンズの移動量の算出方法を説明するための図であり、基準平面の中心に取った直交座標系のY方向に沿って見た正面図である。
図2が、曲面の被加工物表面に投影した平面図形を描画する際のガルバノミラーの振り角および集光レンズの移動量としての補正データを算出方法を説明するための図であり、同座標系のX方向に沿ってみた側面図である。
描画する平面図形データの座標を(x,y)、その位置をZ方向に投影した被加工物上の点Qの基準平面6からの距離をzとすると、図形データ描画点である被加工面8上の点はQ(x,y,z)となり、点Qを描画するレーザ光が基準平面6と交差する点がP(X,Y,0)となる。点PのXおよびY座標を被加工物上の点Qの座標を使って表示すると、下記の数4の式および数5の式で表される。尚、aは、Xミラー2とYミラー3の中心間の距離であり、平面に描画する従来のマーキング装置におけるABに相当する距離である。bは、Yミラー3と基準平面6の中心間の距離であり、平面に描画する従来のマーキング装置におけるBOに相当する距離である。
この座標を使用することで、被加工物上の点Qを描画するためのXミラー2とYミラー3によるレーザ光の振れ角θxとθyは、従来の平面描画のみが行えるレーザマーキング装置の場合と同様に考えられ、数6の式および数7の式で表される。
また、レーザ光の集光位置のズレQP'についても同様に考えられ、数8の式により求められる。
図形を描画するために必要なXミラー2とYミラー3の振り角は、レーザ光の振れ角θxとθyの1/2として、集光レンズの移動量は、集光位置のズレに対応する集光レンズの変位量として制御装置で処理する。
次いで、本発明のレーザマーキング方法における平面図形を透明な被加工物の内部に描画する場合の、図形データに対するXミラーとYミラーの振り角および集光位置のズレとしての補正データの算出方法を示す。
図3が、透明な被加工物の内部に平面図形を描画する際のガルバノミラーの振り角および集光レンズの移動量の算出方法を説明するための図であり、基準平面の中心に取った直交座標系のY方向に沿って見た正面図である。
図4が、透明な被加工物の内部に平面図形を描画する際のガルバノミラーの振り角および集光レンズの移動量の算出方法を説明するための図であり、基準平面の中心に取った直交座標系のX方向に沿って見た正面図である。
図3および図4に示すように、透明板は、基準平面6に表面を一致させて配置する。
ある平面図形データの座標を(x,y)、その位置を被加工物の表面からZ方向に深さzに位置する平面9上に投影すると、平面9上の点はQ(x,y,z)となる。点Qを加工するレーザ光は、透明な被加工物の表面である基準平面6上の点P(X,Y,0)で屈折して点Qを通過するとすると、レーザ光の光路は被加工物への入射においてスネルの法則に従うため、透明な被加工物の屈折率をnとする。
図5は、透明な被加工物の内部における点の座標と基準平面6上における点の座標の関係を説明するための説明図である。
図5に示すように、数9の式で表す関係が成り立つ。
また、数9の式を基準平面6上の点Pと図形を投影する平面9上の点Qの座標を使って表示すると数10の式で表わす関係が成り立つ。
更に、レーザ光の入射面において、基準平面6上の点Pと図形を投影する平面9上の点Qの座標について、数11の式で表す関係が成り立つ。
したがって、数10よび数11の式を満たす基準平面6上の点Pの座標XおよびYを求め、この座標を使用することで、透明な被加工物内部の投影面上の点Qを描画するためのXミラー2とYミラー3によるレーザ光の振れ角θxとθyは、平面描画のみが行える従来のレーザマーキング装置の場合と同様に考えられ、数6および数7の式により求められる。
また、レーザ光の集光位置の補正量QP'については、透明な被加工物の内部において集光位置が空気中に比べて屈折率nの分だけ伸びることを考慮したこと以外は、従来の平面描画のみが行えるレーザマーキング装置の場合と同様に考えられるため、数12の式により計算される。
図形を描画するために必要なXミラー2とYミラー3の振り角は、レーザ光の振れ角θxとθyの1/2として、集光レンズの移動量は、集光位置のズレに対応する集光レンズの移動量として制御装置で処理する。
また、投影面が平面の被加工物内部に平面図形を描画する際は、屈折率に基づいて算出された補正データにより、ガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御して描画を行う。被加工物内部に投影した平面図形を描画する際は、描画する図形データに対する被加工物の投影面の形状より算出された補正データに、更に、被加工物の屈折率を加味して算出された補正データ、即ち、XミラーおよびYミラーの振り角、集光位置のズレにより、ガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御して描画を行うことが好ましい。
実施例1
UVパルスレーザー、XミラーとYミラーの2枚を組み合わせたガルバノミラーおよび結像手段からなるレーザマーキング装置を使用して、CADで処理した描画する図形データに基づいた図形を投影した形状に曲面ガラスの表面に描画した。UVパルスレーザの描画条件は、パルスエネルギー90μJ、繰り返し周波数25kHz、走査速度65mm/sとした。曲面ガラスは、半径2000mmの球面の一部で、表面、200×200mmの範囲に図形を描画した。光学系のレイアウトは、XミラーとYミラーの中心間の距離を30mm、そしてYミラーの中心から球面ガラスの頂点までの距離を270mmとした。レーザ光を集光するための、集光レンズとして、集光距離500mmの平凸レンズを使用し、該レンズは、集光位置を調整するために光軸に沿って移動可能なリニアトランスレータに取り付けた。
UVパルスレーザー、XミラーとYミラーの2枚を組み合わせたガルバノミラーおよび結像手段からなるレーザマーキング装置を使用して、CADで処理した描画する図形データに基づいた図形を投影した形状に曲面ガラスの表面に描画した。UVパルスレーザの描画条件は、パルスエネルギー90μJ、繰り返し周波数25kHz、走査速度65mm/sとした。曲面ガラスは、半径2000mmの球面の一部で、表面、200×200mmの範囲に図形を描画した。光学系のレイアウトは、XミラーとYミラーの中心間の距離を30mm、そしてYミラーの中心から球面ガラスの頂点までの距離を270mmとした。レーザ光を集光するための、集光レンズとして、集光距離500mmの平凸レンズを使用し、該レンズは、集光位置を調整するために光軸に沿って移動可能なリニアトランスレータに取り付けた。
x方向、−100mm〜100mm、y方向、−100mm〜100mmにおける基準平面とガラス形状のz方向の差は、照射範囲において表1の値となる。X座標、Y座標および集光位置のズレをそれぞれ表2、表3および表4のように計算した。表1は基準平面と曲面のz方向の差(mm)である。表2は描画する図形データの座標(x、y)に基づいて補正したX座標であり、前述の数4の式により計算した。表3は座標(x、y)に基づいて補正したY座標であり、前述の数5の式で補正した。表4は座標(x、y)に基づいて補正した集光位置であり、前述の数8の式で補正した。
CADから送られた描画する図形の座標(x、y)と予め数4および数5の式で算出した表2〜4のX座標、Y座標、集光位置のズレを比較し、表2に示した座標間のデータに対しては直線補完しながら、表2に示すX座標となるようにXミラーの振り角、表3に示すY座標となるようにYミラーの振り角、および表4に示す集光位置のズレとなるように集光レンズの移動量を制御した。即ち、(x、y)の座標群からなる図形データを描画するためのXミラー、Yミラーの振り角の制御は、CADから送られたxおよびyデータをそのまま使用せず、座標(x、y)から算出した補正座標(X、Y)を数6および数7の式に代入してレーザ光の振れ角θxおよびθyを計算し制御することで、球面ガラスに平面図形を歪みなく投影した図形として描画された。
実施例2
実施例1と同様に、UVパルスレーザー、XミラーとYミラーの2枚を組み合わせたガルバノミラーおよび結像手段からなるレーザマーキング装置を使用して、CADで処理した描画するデータに基づいた図形を平面ガラスの内部に描画した。厚さ15mmで100×100mmの平板ガラスを対象とし、表面から5mm内部に入った位置に平面図形を描画した。UVパルスレーザー照射条件や光学系のレイアウトは実施例1と同じとした。
実施例1と同様に、UVパルスレーザー、XミラーとYミラーの2枚を組み合わせたガルバノミラーおよび結像手段からなるレーザマーキング装置を使用して、CADで処理した描画するデータに基づいた図形を平面ガラスの内部に描画した。厚さ15mmで100×100mmの平板ガラスを対象とし、表面から5mm内部に入った位置に平面図形を描画した。UVパルスレーザー照射条件や光学系のレイアウトは実施例1と同じとした。
ガラスの屈折率は1.52として計算に使用し、照射範囲において、X座標、y座標および集光位置のズレを、それぞれ表5、表6および表7のように計算した。表5は、描画する図形データとしての座標(x、y)に基づいて補正したX座標で、表6は座標(x、y)に基づいて補正したY座標であり、補正データX座標およびY座標は、前述の数10および数11の式を同時に満たす値として求めた。表7は座標(x、y)に基づいて補正した集光位置のズレであり、前述の数12の式で補正した。
CADから送られた描画する図形データとしての座標(x、y)と、予め算出した表5〜表7のX座標、Y座標、集光位置のズレを比較し、表に示した座標間のデータに対しては直線補完しながら、表5のX座標となるようにXミラーの振り角、表6のY座標となるようにYミラーの振り角および表7の集光位置のズレで集光レンズの位置を制御した。すなわち、(x、y)の座標群からなる図形データを描画するための制御量は、CADから送られたxおよびyデータをそのまま使用せず、座標(x、y)から算出したX座標、Y座標を数6および数7の式に代入してレーザ光の振れ角θxおよびθyを算出し制御することで、平面ガラスの内部に歪みなく投影した図形が描画された。
1 レーザ発振器
2 Xミラー
3 Yミラー
4 集光レンズ
5 対物レンズ
6 基準平面
7 集光レンズをその原点に固定したときのレーザ集光位置の軌跡
8 曲面の被加工物の表面
9 透明な被加工物の一定深さに位置する平面
2 Xミラー
3 Yミラー
4 集光レンズ
5 対物レンズ
6 基準平面
7 集光レンズをその原点に固定したときのレーザ集光位置の軌跡
8 曲面の被加工物の表面
9 透明な被加工物の一定深さに位置する平面
Claims (3)
- レーザ光源から出射されたレーザ光を、描画する図形データに基づきガルバノミラーと結像手段の動作を制御することで被走査面上に結像させながら走査して所定の図形を描画するレーザマーキング方法において、被加工物の描画面の形状より算出された補正データにより、平面図形を被加工物の表面に投影した図形として描画するために前記ガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御することを特徴とするレーザマーキング方法。
- 請求項1に記載の補正データは、光学系から決まる基準平面と図形を描画する被走査面の形状とを比較して求めた値に基いて算出されることを特徴とする請求項1に記載のレーザマーキング方法。
- 被加工物の屈折率より算出された補正データにより、透明な被加工物の内部に平面図形を描画するためにガルバノミラーおよび結像手段の動作を制御することを特徴とするレーザマーキング方法。
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