JP2004531492A - 金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法 - Google Patents
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Abstract
式：［Ｍx］n+［（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）(nx-yz)］(nx-yz)-［Ｌy］z-（式中、Ｍは５〜１０族金属、１２族金属、１４〜１６族金属、Ｃｕ、Ａｕ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｈｆ、Ｒｆ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｌｕ及びアクチノイドから選択される金属であり、Ｌは負又は中性配位子であり、ｎは２、３、４、５、６、７又は８であり、ｘは１以上であり、ｙは０、１、２、３、４、５、６、７又は８であり、ｚは０、１、２、３又は４である）の金属ビストリフルイミド化合物。
Description
【技術分野】
【０００１】
本発明は金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
数種の金属ビストリフルイミド化合物が知られている。ＷＯ９９／４０１２４はチタン及びジルコニウムビストリフルイミドと、ＡｇＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2をＲ1Ｒ2ＭＣｌ2（式中、ＭはＴｉ又はＺｒであり、Ｒ1はインデニル、シクロペンタジエニル又はペンタメチルシクロペンタジエニルであり、Ｒ2は独立してインデニル、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシ、トリフルオロエトキシ、ヘキサフルオロイソプロポキシ又はクロロである）と反応させることによるその製造を開示している。アルミニウムビストリフルイミドとイッテルビウムビストリフルイミドが公知である（Ｓｙｎｌｅｔｔ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９９６，ｐｌ７１）。スカンジウムビストリフルイミドも公知である（Ｓｙｎｌｅｔｔ，Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９９６，ｐａｇｅ ８３９）。マグネシウム及びリチウムビストリフルイミドも公知である（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ｌｅｔｔｅｒｓ １９９７，ｐ２６４５）。
【発明の開示】
【０００３】
化学反応の触媒は化学において非常に重要である。ある種の金属の化合物はルイス酸（電子対受容体）として機能し、反応の反応体（及び生成物）と相互作用して反応速度の増進及び／又は選択性の増進をもたらすことが知られている。多様な酸化状態をとり得る金属（例えば遷移金属）の塩も化学反応を触媒することが知られている。これらの反応の例としてはフリーデル・クラフツ、酸化、還元、ディールス・アルダー、異性化、カップリング、付加及び脱離反応が挙げられる。触媒は均一触媒と不均一触媒の２種類に大別され、均一触媒は反応体及び／又は生成物と同相にあり、不均一触媒は反応体及び／又は生成物と別相にある。均一触媒は反応性及びターンオーバーが高いといった性質をもつが、反応生成物から分離しにくい。不均一触媒は反応性及びターンオーバーが低いといった性質をもつが、反応生成物から比較的簡単に分離できる。反応性及びターンオーバーが高く、反応生成物から容易に分離できる新規触媒が必要とされている。
【０００４】
本発明は式：［Ｍx］n+［（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）(nx-yz)］(nx-yz)-［Ｌy］z-（式中、Ｍは周期表の５〜１０族金属、１２族金属、１４〜１６族金属、Ｃｕ、Ａｕ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｈｆ、Ｒｆ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｌｕ及びアクチノイドから選択される金属であり、Ｌは負又は中性配位子であり、ｎは２、３、４、５、６、７又は８であり、ｘは１以上であり、ｙは０、１、２、３、４、５、６、７又は８であり、ｚは０、１、２、３又は４である）の金属ビストリフルイミド化合物を提供する。
【０００５】
金属ビストリフルイミドとは金属ビストリフルオロメタンスルホンイミドを意味する。Ｍは２種類以上の金属イオンを表すことができる。Ｍは周期表の７、８、９、１０、１２及び１４族から選択することが好ましい。８族とはＦｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｈｓを含む族を意味し、９族とはＣｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｍｔを含む族を意味し、他の族も同様である。カチオンは＋２、＋３又は＋４酸化状態にあることが好ましいが、＋１、＋５、＋６、＋７又は＋８の酸化状態でもよい。ＭはＭｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＰｂから選択することが好ましい。ＭはＭｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）から選択するとより好ましい。本発明の化合物の例としてはカルシウムビストリフルイミド、ストロンチウムビストリフルイミド、バリウムビストリフルイミド、ガリウムビストリフルイミド、インジウムビストリフルイミド、スカンジウムビストリフルイミド、イットリウムビストリフルイミド、ランタンビストリフルイミド、セリウムビストリフルイミド、クロムビストリフルイミド、マンガンビストリフルイミド、鉄ビストリフルイミド、コバルトビストリフルイミド、ニッケルビストリフルイミド、銅ビストリフルイミド、亜鉛ビストリフルイミド、カドミウムビストリフルイミド、スズビストリフルイミド、鉛ビストリフルイミド及びビスマスビストリフルイミドが挙げられる。
【０００６】
Ｌはオキソ（例えばＶＯ2+）、ホスフィン（例えばトリフェニルホスフィン）、水、ハロゲン化物又はケトンから選択することができる。配位子は触媒を製造するための反応混合物又はこの配位子を使用する反応混合物中の溶媒、試薬、又は副生物に由来するものとすることができる。
【０００７】
本発明の化合物はこれまで製造されていない。これらの化合物は、慣用的にルイス酸により触媒される反応に特に有効な触媒であることが判明した。これらの化合物は、ルイス酸を触媒とするか又はルイス酸が仲介する多数の化学変換に利用できる。これらの化合物は、化学変換の反応体又は生成物と過度に強力な錯体を形成しないという点で塩化アルミニウム（ＩＩＩ）といったルイス酸よりも有利である。これらの化合物は、芳香族化合物のアシル化やアルキル化といったフリーデル・クラフツ反応で使用するのに特に適している。芳香族化合物のスルホニル化にも使用できる。フリーデル・クラフツアシル化反応において、「触媒」は一般に化学量論的試薬である。しかし、触媒量を減らすことが可能になり、１モル％という少量の金属ビストリフルイミドを加えてフリーデル・クラフツアシル化反応において定量的な収率が得られる。本発明の化合物は０．００００００１〜１０００モル％、好ましくは０．１〜２０モル％、より好ましくは０．５〜５モル％の濃度で化学反応を触媒する。これにより、触媒の無駄が減る。金属ビストリフルイミド化合物の多くは金属が多様な酸化状態をとることができるので、酸化及び還元の化学変換で利用できる。金属ビストリフルイミド化合物を用いて実施することができる他の化学変換としては、異性化反応、カップリング反応、デカップリング、縮合（アルドール及びクライゼン縮合を含む）、重合、オリゴマー化、二量化、付加、脱離、付加／脱離、水和、脱水、水素化、脱水素、ハロゲン化、スルホン化及びニトロ化が挙げられる。
【０００８】
本発明の金属ビストリフルイミド化合物は、反応体又は生成物に可溶性もしくは部分的に可溶性又は不溶性とすることができる。前者の場合には、溶媒と触媒との両方の機能をもつことができる。また、超臨界溶媒を含む分子性溶媒に可溶性、不溶性又は部分的に可溶性とすることもできるし、イオン液体（反応温度で液体状態にあり、一般に（必ずしもそうでなくてもよいが）室温又は室温付近、即ち２０℃で溶融状態にある溶融塩）に溶解又は懸濁してもよい。これらのいずれの場合にも、金属ビストリフルイミドは化学変換を行う触媒又は試薬として機能しうる。本発明の化合物が反応体に可溶性又は部分的に可溶性である場合には、反応は溶媒の不存在下で進行することができる。あるいは、化合物をイオン液体に溶解又は懸濁することができ、ジクロロメタンといった慣用の溶媒により提供される代用媒質中で反応を進行することもできる。このように、本発明の化合物は無溶媒条件下やイオン液体の存在下で使用できるので、ニトロメタンといった爆発性溶媒やジクロロメタンといった毒性溶媒を使用せずに済むという利点がある。更に、本発明の金属ビストリフルイミドを無溶媒条件下やイオン液体の存在下の反応で使用する場合には、金属トリフルイミドをリサイクルし易い。
【０００９】
特に、新規金属ビストリフルイミド塩Ｚｎ（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）2のＸ線結晶構造を調べると、その優れた触媒特性は結晶構造に起因すると考えられる。金属ビストリフルイミド化合物の構造は、図５〜７にＸ線結晶構造を示す亜鉛ビストリフルイミドの構造に似ていると考えられる。
【００１０】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドはその構造から明らかなように、ビストリフルイミドイオンの（窒素原子でなく）酸素原子により金属に配位する２個のビストリフルイミド基で構成される。金属原子上の残りの２個の八面体配位部位は、隣接するＺｎ（ＮＴｆ2）2基からの酸素原子で占有されている。金属ビストリフルイミド化合物には揮発性のものもあるので、隣接金属ビストリフルイミド基からの配位はかなり弱いと考えられる。
【００１１】
本発明の化合物は揮発性であるので、固体表面への金属又は金属化合物の真空蒸着法で使用するのに適している。これは、固体表面に金属化合物を昇華させ、必要に応じて化合物の非金属部分を除去することにより実施することができる。本発明の化合物は減圧下又は大気圧下で、特に１０００℃未満、より詳細には４００℃未満の温度で揮発性である。表１は金属ビストリフルイミド化合物の沸点／昇華点を示す（ｄｅｃ．は分解を意味する）。
【００１２】
【表１】
【００１３】
本真空蒸着法は、マイクロエレクトロニクス及び半導体産業で応用される。本真空蒸着法は、沸騰前に分解する任意の金属ビストリフルイミド化合物に利用できる。
本発明は金属ビストリフルイミド化合物の製造方法として、
（ａ）水素ビストリフルイミドと金属を反応させる工程、
（ｂ）水素ビストリフルイミドと金属水酸化物を反応させる工程、
（ｃ）水素ビストリフルイミドと金属硫化物を反応させる工程、又は
（ｄ）水素ビストリフルイミドと金属炭化物を反応させるを反応させる工程
を含む方法も提供する。
【００１４】
本方法は、本発明の金属ビストリフルイミド化合物と既知の金属ビストリフルイミド化合物のいずれを製造するのにも適している。従って、上記方法は、Ｍが周期表の１〜１６族金属、ランタノイド、及びアクチノイドから選択される金属である金属ビストリフルイミド化合物に適用できる。
【００１５】
上記方法は、金属又は金属化合物とビストリフルイミド（ビストリフルオロメタンスルホンイミド即ち（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2）との相互作用を含むことが好ましい。好ましくは、金属は遷移金属（ｄブロック又はｆブロック）であるか又は１２〜１６族金属から選択される。金属はＳｎ（ＩＶ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｔｉ（ＩＶ）及びＷ（ＶＩ）から選択することが好ましい。
【００１６】
本方法は水、アルコール、エステル、分子性超臨界溶媒（例えば二酸化炭素）又はイオン性溶媒等の溶媒中で実施することができる。反応は室温で実施してもよいし、高温で実施してもよい。溶媒を使用する場合には、水素ビストリフルイミドと金属化合物とを溶媒の不存在下で相互作用させて金属ビストリフルイミド化合物を製造することもできる。溶媒を蒸発させることにより金属ビストリフルイミド化合物を溶媒から分離するには、一般に好ましくは減圧下で加熱（水分又は他の溶媒を蒸発）して溶媒を蒸発させる。金属ビストリフルイミド化合物の減圧蒸留又は減圧昇華により更に精製することができる。他の何らかの物理又は化学的方法、例えば結晶化により精製することもできる。
【００１７】
本発明の金属ビストリフルイミド化合物は、化学反応を触媒するため又は化学変換を起こすためにｉｎ ｓｉｔｕで製造及び使用することができる。この場合には、金属化合物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物又はフッ化物といった金属ハロゲン化物）をビストリフルイミドイオン源（例えばビストリフルイミドイオン液体）に加える。金属化合物は金属塩化物が好ましい。これらのｉｎ ｓｉｔｕ金属トリフルイミド化合物は、単離された金属トリフルイミド化合物と同等以上の触媒活性をもつ。従って、本発明は金属ビストリフルイミド触媒の製造方法として、ビストリフルイミドイオン液体といったビストリフルイミドイオン源に金属又は金属化合物を加えることを含む方法を提供する。イオン液体は、反応温度で液体状態の溶融塩又は塩混合物である。イオン液体は正電荷をもつカチオンと負電荷をもつアニオンの２成分からなる。カチオンは有機カチオンが好ましく、アニオンは有機又は無機アニオンが好ましい。本方法の前記カチオンは１−アルキルピリジニウム（例えば１−ヘキシルピリジニウム）又は１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン（例えば１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム［ｂｍｉｍ］又は１−エチル−３−メチルイミダゾリウム［ｅｍｉｍ］）が好ましい。本方法の他のカチオンは、他のアルキルもしくはポリアルキルピリジニウム、アルキルもしくはポリアルキルイミダゾリウム、アルキルもしくはポリアルキルピラゾリウム、アルキルもしくはポリアルキルアンモニウム、アルキルもしくはポリアルキルホスホニウム、他のアンモニウム、ホスホニウムカチオン、アルキル化ジアザビシクロ−［５，４，０］−ウンデク−７−エン及び関連カチオン、又はイオン液体と呼ばれる化合物を生じる他の任意のカチオンである。本方法のアニオンは反応中の化学変化に対して安定しており、イオン液体に望ましい物性を与えるものが好ましい。イオン液体に適したアニオンとしては、ビストリフルオロメタンスルホンイミド、ビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ヘキサフルオロリン酸（Ｖ）、テトラフルオロホウ酸（ＩＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸、シアナミド、フルオロもしくはペルフルオロアルキルスルホン酸、ハロゲン、硫酸、硫酸水素、ハロ硫酸、アルキル硫酸、アルキルスルホン酸、アリール硫酸、アリールスルホン酸、硝酸、カルボン酸、リン酸、リン酸水素、リン酸二水素、アルキルリン酸、アルキルホスホン酸、ホスホン酸、亜硝酸、ヒ酸、アンチモン酸、ハロアルミン酸、アルミン酸、ホウ酸、ケイ酸、ハロインジウム酸（ＩＩＩ）、没食子酸、アルキルホウ酸、ハロ没食子酸、又はイオン液体を生じる他の任意のアニオンが挙げられる。イオン液体、触媒、又は、イオン液体と触媒との組合わせは、ジエチルエーテルやヘキサン等の低極性又は非極性有機溶媒に不溶性であることが好ましい。
【００１８】
塩化ベンゾイルによるトルエンのアシル化に使用する触媒として、予め形成させたビストリフルイミド触媒及びｉｎ ｓｉｔｕ形成触媒の例を以下に示す。
【００１９】
【化１】
【００２０】
この反応では、塩化鉄（ＩＩＩ）は生成物（ケトン）と強力な錯体を形成してほぼ不活性になるので、反応を触媒しない（非常に低収率しか得られない）。塩化鉄（ＩＩＩ）をビストリフルイミド源（水素ビストリフルイミド｛ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2｝若しくはビストリフルイミド塩又はイオン液体）に加えると、鉄（ＩＩＩ）トリフルイミド錯体（又は鉄（ＩＩＩ）クロロビストリフルイミド化合物もしくは錯体）が形成される。これらの鉄（ＩＩＩ）トリフルイミド錯体（又は鉄（ＩＩＩ）クロロビストリフルイミド化合物もしくは錯体）はその後、例えばアシル化等の化学反応用触媒として使用することができる。上記反応スキームに示す反応の速度は同等であり、高収率（９９％）が得られる。
【００２１】
このｉｎ ｓｉｔｕ触媒法は、フリーデル・クラフツ化学に通例では結び付けられない金属を触媒として使用できる。また、単離しにくいビストリフルイミド化合物を製造し、触媒として使用することができる。
【００２２】
多くの場合に、金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ形成法は、金属トリフルイミド化合物を単離するよりも好ましい。例えば、スズ（ＩＶ）ビストリフルイミドは単離しにくい化合物である。塩化スズ（ＩＶ）をトリフルイミドイオン液体（例えば［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）に溶かすと、生成する混合物はフリーデル・クラフツアシル化反応を触媒する。これを図４に示し、塩化ベンゾイルとトルエンの反応を触媒する５種のｉｎ ｓｉｔｕ金属トリフルイミド化合物の経時収率を示す（実施例４５〜５０）。
【００２３】
以下、実施例により本発明を例証する。実施例１〜２６は、本発明の新規金属ビストリフルイミド化合物の反応性に関する実施例である。実施例２７〜５０は本発明の金属ビストリフルイミド化合物の製造方法である。
【実施例１】
【００２４】
コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）にコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に３時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒が溶液から沈殿した。生成物の溶液をデカントし、フラスコを更に石油エーテル１５ｃｍ3で洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０５ｇ，単離収率９７％）を得た。（沈殿を含有する）フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒を直接再使用できる。
【実施例２】
【００２５】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）にコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に０．５時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒とイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含む）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０２ｇ，９６％）を得た。フラスコにトルエンと塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒及びイオン液体の組合せを直接再使用でき、活性も低下しない。
【００２６】
実施例１及び２は、コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒を使用するとイオン液体の有無に拘わらず、塩化ベンゾイルでトルエンをアシル化することができることを示す。しかし、イオン液体を使用する場合には反応速度は高く、触媒をリサイクルし易い。イオン液体を使用しない場合、触媒１ｍｏｌ％を使用して還流下に３時間加熱後に、この反応の生成物が定量的収率で得られる（実施例１）。イオン液体［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（［ｅｍｉｍ］＝１−エチル−３−メチルイミダゾリウム）中で反応を実施すると、反応時間は３０分に短縮する（実施例２）。
【実施例３】
【００２７】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）にニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒及びイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０４ｇ，単離収率９７％）を得た。フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒とイオン液体の組合せを直接再使用でき、活性も低下しない。
【００２８】
実施例２及び３の結果を表１に示す。
【００２９】
【表２】
【実施例４】
【００３０】
アニソール（０．３０ｃｍ3，２．８ｍｍｏｌ）、無水酢酸（０．５０ｃｍ3，５．０ｍｍｏｌ）、Ｍ（ＮＴｆ2）n触媒（０．１３７５ｍｍｏｌ（Ｍ＝Ａｌ，ｎ＝３；Ｍ＝Ｚｎ，ｎ＝２；Ｍ＝Ｙｂ，ｎ＝３；Ｍ＝Ｙ，ｎ＝３））をイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＰＦ6］に溶かした。これらの４種の反応物を３０℃に２４時間加熱した。反応混合物のＨＰＬＣ分析により反応の進行を調べ、収率を表２に示す。
【００３１】
【表３】
【実施例５】
【００３２】
アニソール（０．５０ｃｍ3，４．６ｍｍｏｌ）、無水安息香酸（１．１５ｇ，５．０６ｍｍｏｌ）、Ｍ（ＮＴｆ2）n触媒（０．２３ｍｍｏｌ（Ｍ＝Ａｌ，ｎ＝３，０．２０ｇ；Ｍ＝Ｃｅ，ｎ＝４，０．２９ｇ））をイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に溶かした。これらの２種の反応液を６０℃に２４時間加熱した。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析により反応の進行を調べ、収率を表３に示す。
【００３３】
【表４】
【実施例６】
【００３４】
フルオロベンゼン（５．７７ｇ，６０ｍｍｏｌ）、塩化４−フルオロベンゾイル（４．７５ｇ，３０ｍｍｏｌ）、ＺｎＣｌ2（１．３６ｇ，１０ｍｍｏｌ）及び［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］をオートクレーブに入れ、４８時間撹拌下に１６０℃に加熱した。反応器を冷却し、圧力（ＨＣｌガス）を解放した。ガスクロマトグラフィー分析の結果、９９％の転化率で、２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、３，４’−ジフルオロベンゾフェノン、及び４，４’−ジフルオロベンゾフェノンの比が１７：８：７５である混合物に転化された。石油エーテル（ｂｐ＝４０〜６０℃）で溶媒抽出後に溶媒を蒸発させてジフルオロベンゾフェノンを単離した。イオン液体／塩化亜鉛触媒系は後続反応で使用することができ、活性も変わらなかった。この結果は、［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中でｉｎ ｓｉｔｕ亜鉛触媒を使用すると、従来非反応性であるとされていた芳香族化合物であるフルオロベンゼンを塩化４−フルオロベンゾイルでアシル化して２−、３−又は４−４’−ジフルオロベンゾフェノンの異性体を得ることができることを示す。この触媒は［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］イオン液体に塩化亜鉛（ＩＩ）を溶かすことにより調製した。反応収率は９５％であった（ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体比１７：８：７５）。
【実施例７】
【００３５】
撹拌機と冷却器を取付けたフラスコに安息香酸（０．３１ｇ，２．５ｍｍｏｌ）、ｍ−キシレン（０．５３ｇ，５．０ｍｍｏｌ）、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５０ｇ）及びＭ（ＮＴｆ2）2（Ｍ＝Ｃｏ（０．１４ｇ，０．２５ｍｍｏｌ）又はＺｎ（０．１５ｇ，０．２５ｍｍｏｌ））を入れた。フラスコの内容物を２日間還流下に加熱（約１４０〜１５０℃）した後、室温まで冷却した。生成物をガスクロマトグラフィー分析したところ、９３及び８７％の転化率で（それぞれＣｏ及びＺｎビストリフルイミドによる反応）が２，４−ジメチルベンゾフェノンと恐らく２，６−ジメチルベンゾフェノンに転化された（どちらの場合も異性体比１１：１）。この結果は、亜鉛及びコバルトビストリフルイミドが安息香酸によるｍ−キシレンのベンゾイル化を触媒することを示す。反応は、塩化ベンゾイルを使用した対応反応よりも遅い。触媒をリサイクルし、反応を繰返した。繰り返した実験の結果を表４に示す。
【００３６】
【表５】
【００３７】
安息香酸は反応性が低いので、上記結果は注目に値する。この反応は副生物が水であるので、環境に非常にやさしい反応であることに留意すべきである。更に、非腐食性出発材料（安息香酸）を使用するので、塩化ベンゾイルを使用する対応反応よりも安全に反応を実施できる。これはジメチルベンゾフェノンを製造する優れた方法であると結論づけることができる。
【実施例８】
【００３８】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の亜鉛（ＩＩ）又は銅（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に銅又は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に７２時間加熱した（反応混合物の液滴を石油エーテル（ｂ．ｐ．＝４０〜６０℃）に懸濁し、触媒を濾別することにより、反応をガスクロマトグラフィー分析によりモニターした）。出発材料と生成物は石油エーテル抽出液に可溶性であり、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると触媒が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０ｇ，９５％）を得た。フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより触媒を直接再使用でき、活性も低下しない。ガスクロマトグラフィー分析により測定した収率を表５に示す。
【００３９】
【表６】
【００４０】
亜鉛（ＩＩ）及び銅（ＩＩ）ビストリフルイミド化合物はトルエンのベンゾイル化に有効なアシル化触媒であることが判明した。
【実施例９】
【００４１】
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるｏ−キシレンと塩化ベンゾイルの反応
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１０ｇ）をｏ−キシレン（３．０ｇ，２８．２ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１２０℃に１８時間加熱した（反応混合物の液滴を石油エーテル（ｂ．ｐ．＝４０〜６０℃）に懸濁し、触媒を濾別することにより、反応をガスクロマトグラフィー分析によりモニターした）。出発材料と生成物は石油エーテル抽出液に可溶性であり、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3）を加えると、触媒が分離した相を形成した。ガスクロマトグラフィー分析により測定した収率は９９％であり、３，４−：２，３−ジメチルベンゾフェノン異性体比が６．０：１であった。アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはｏ−キシレンのベンゾイルに有効な触媒であることが判明した。１ｍｏｌ％触媒を使用して反応させた場合、１２０℃で１８時間後に対応するベンゾフェノンの２種の異性体（３，４−：２，３−異性体比が６：１）が定量的収率で得られた。
【実施例１０】
【００４２】
金属ビストリフルイミド触媒によるトルエンと塩化ベンゾイルの反応
種々の金属（１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｌ）ビストリフルイミド塩（１ｍｏｌ％）をトルエン（３．０ｇ，３２．６ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１１０℃に１２０時間まで加熱した。反応を定間隔でガスクロマトグラフィー分析によりモニターし、９９％完了したと判断されると、室温まで冷却して反応を停止した。石油エーテル（１５ｃｍ3）を加えると、触媒が分離した相を形成した。石油エーテル抽出液をデカントした後、１ｍｍＨｇでクーゲルロール蒸留により生成物を単離した。様々な時間間隔後の収率を表６に示す。形成された生成物はメチルベンゾフェノンである。これらの全反応で、異性体比は約７６％パラ対２４％オルトであることが判明した。この結果を表６に示す。表１は［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中Ｃｏ及びＮｉビストリフルイミドに必要な時間を示す。
【００４３】
【表７】
【００４４】
表６から、選択した化合物間に顕著な反応性の差が認められる。このうち、４種の化合物（即ちマンガン、コバルト、ニッケル及び鉛）は予想外に高い反応性をもち、その一方、亜鉛ビストリフルイミドやアルミニウムビストリフルイミドは比較的穏やかな活性を有する。「従来のフリーデル・クラフツ化学」はＡｌビストリフルイミドが最良の触媒であるとしているが、上記結果は全く相異する。ＣｏとＰｂの触媒反応性が特に注目される。対照的に、リチウム及びカルシウムビストリフルイミドは活性が非常に低く、［ｅｍｉｍ］［ビストリフルイミド］では殆ど又は全く反応が認められなかった。
【実施例１１】
【００４５】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）にニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。クロロベンゼン（１．６８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に７２時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応混合物を室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒及びイオン液体が石油エーテル層から相分離した。（石油エーテル中の）生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。有機抽出液を濃縮後、１ｍｍＨｇ（ｂｐ＝１７０〜１９０℃）でクーゲルロール蒸留すると、クロロベンゾフェノン（１．６５ｇ，７４％）が得られた。ＧＣ分析によると、７２時間後に収率７８％であり、４−：２−異性体比が７０：８であった。クロロベンゼンは従来アシル化反応で非反応性であるとされているので、これは注目すべき結果である。従来ではクロロベンゼンのアシル化物を有意な量で単離することはできなかった。
【実施例１２】
【００４６】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド又は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンの塩化ベンゾイルとの反応
２つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）に亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１６ｇ，５ｍｏｌ％）又はコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１５ｇ，５ｍｏｌ％）を加え、触媒が溶けるまで混合物を穏やかに加熱撹拌した。クロロベンゼン（０．６８ｇ，６ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（０．７２ｇ，５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応混合物を室温まで冷却した。シクロヘキサン（１５ｃｍ3）を加えると、触媒及びイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコをシクロヘキサン１５ｃｍ3で３回洗浄後、１ｍｍＨｇ（ｂｐ＝１８０〜２００℃）でクーゲルロール蒸留した。こうして２−及び４−クロロベンゾフェノンの混合物を得た。ＧＣ収率はコバルト触媒で９７％（ｐ−：ｏ−異性体比が６．８：１）、亜鉛触媒で５５％（ｐ−：ｏ−異性体比が６．５：１）であった。
【００４７】
クロロベンゼンは非常にアシル化しにくいので、クロロベンゼンと塩化ベンゾイルの反応を検討した。１ｍｏｌ％触媒で妥当な収率を得ることができたが、５ｍｏｌ％触媒では更に満足な反応速度が得られることが判明した。反応はコバルトビストリフルイミドでは１８時間後に９５％完了し、亜鉛ビストリフルイミドでは５５％完了することが判明した（表７）。生成物を沸騰シクロヘキサンで抽出してイオン液体／触媒をリサイクルした後に、触媒の活性は低下することが判明した。微量の水素ビストリフルイミド（０．１ｍｏｌ％）を加えると触媒の活性は回復した。
【００４８】
【表８】
【実施例１３】
【００４９】
水素及び金属ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
様々な金属ビストリフルイミド化合物：Ｓｒ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中Ｉｎ（ＩＩＩ）、Ｃｒ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｙｂ（ＩＩＩ）、及び水素ビストリフルイミド｛ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2｝（１ｍｏｌ％）をトルエン（１．３８ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１１０℃で１２０時間まで加熱した。様々な間隔でガスクロマトグラフィー分析により反応をモニターし、５日後に反応を停止した。メチルベンゾフェノンの経時収率を図１に示す。塩化ベンゾイルとトルエンとの反応により２−及び４−メチルベンゾフェノンが得られた。これらの化合物は全て活性なフリーデル・クラフツ触媒であることが判明したが、活性の程度はかなり相違した。このうち、インジウム（ＩＩＩ）と鉄（ＩＩＩ）（実施例１４）の活性が最も高く、特に優良な触媒である。ｐ−：ｏ−選択性は３．９〜４．４：１であり、インジウム及び鉄触媒の選択性は４．４：１であった。
【実施例１４】
【００５０】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド又は塩化鉄（ＩＩＩ）によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
２つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）に鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（１ｍｏｌ％）又は塩化鉄（ＩＩＩ）（１ｍｏｌ％）を加え、触媒が溶けるまで混合物を穏やかに加熱撹拌した。トルエン（１．３８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に４８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。メチルベンゾフェノンの経時収率を図２に示す。ここでは、（ａ）［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＯ（ＮＴｆ2）及び（ｂ）［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＣｌ3を用いた２種の個別の方法で鉄触媒の活性を試験した。両方の場合とも活性と選択性は同様であり、ＦｅＣｌ3及びＦｅＯ（ＮＴｆ2）を過剰の［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かすと、触媒前駆物質になる可能性があることを示す。
【実施例１５】
【００５１】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるトルエンのメタンスルホニルクロリドとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコに亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，２．５ｍｏｌ％）を加えた。トルエン（１．３８ｇ，１５ｍｍｏｌ）とメタンスルホニルクロリド（１．１４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全メタンスルホニルクロリドは反応し、（２−，３−及び４−メチルフェニル）メチルスルホンの３種の異性体が形成された（収率＝９９％、ｏ−、ｍ−及びｐ−異性体の異性体比＝３５：１８：４７）。生成物をシクロヘキサン（２０ｃｍ3）に溶かして触媒から抽出後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。触媒をシクロヘキサン（２ｘ２０ｃｍ3）で洗浄し、シクロヘキサン抽出液を合わせてロータリーエバポレーターで濃縮した。生成物を１００〜１１０℃でクーゲルロール蒸留すると、無色油状物１．６２ｇが得られた（単離収率９６％）。
【実施例１６】
【００５２】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるベンゼンとベンゼンスルホニルクロリドの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコで亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。ベンゼン（１．５６ｇ，２０ｍｍｏｌ）とベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全ベンゼンスルホニルクロリドは反応し、ジフェニルスルホンが形成された（収率＝９９％）。生成物を沸騰シクロヘキサン（５ｘ３０ｃｍ3）に溶かして触媒とイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却するとジフェニルスルホンが結晶したので濾取した（２．０３ｇ，単離収率９３％）。Ｚｎ（ＮＴｆ2）2触媒を使用してベンゼンとベンゼンスルホニルクロリドを反応させると、予想されたジフェニルスルホンが９９％収率で得られた（１８時間還流）。ジフェニルスルホンを沸騰シクロヘキサンで抽出すると、イオン液体及び触媒を再使用することができた。
【実施例１７】
【００５３】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるｍ−キシレンとベンゼンスルホニルクロリドの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコで亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かし、ｍ−キシレン（２．１２ｇ，２０ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全てのベンゼンスルホニルクロリドが反応し、主に２，４−ジメチルジフェニルスルホンが形成された（収率＝９９％，異性体比２０：１｛ＮＭＲによる｝）。主生成物は以下に示す通りであり、副異性体の構造は不明であるが、２，６−ジメチル異性体であると考えられる。
【００５４】
【化２】
【００５５】
生成物を沸騰シクロヘキサン（５ｘ３０ｃｍ3）に溶かして触媒及びイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却すると２，４−ジメチルジフェニルスルホンが結晶したので濾取した。
【実施例１８】
【００５６】
金属ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンのベンゼンスルホニルクロリドとの反応
３つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでマグネシウム（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０５８ｇ，０．１ｍｏｌ）、アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．８７ｇ，０．１ｍｍｏｌ）又はコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５ｇ）に溶かした。クロロベンゼン（１．６８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１４４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析によりモニターした。経時収率を図３に示す。生成物を沸騰シクロヘキサン（４ｘ１０ｃｍ3）に溶かして触媒とイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却すると２−及び４−クロロジフェニルスルホン（ｐ−：ｏ−異性体比が９：１）が結晶したので濾取した。選択性はｐ−異性体に対して９：１であり、いずれの場合もｏ−異性体が副異性体であった。図らずも、塩化ベンゾイルとクロロベンゼンの反応でも同一選択性と同等の反応速度が得られた。フェニル−４−クロロフェニルスルホンは殺虫剤である。１ｍｏｌ％触媒を使用した場合には反応は遅いことがわかったが、５ｍｏｌ％触媒を使用すると満足のいく反応速度が得られた。選択した金属塩はイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中アルミニウム（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）及びマグネシウム（ＩＩ）ビストリフルイミドであった。３種の触媒は全てこの反応に有効であることが判明した。反応を以下に示す。
【００５７】
【化３】
【実施例１９】
【００５８】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドによるベンゼンとオクト−１−エンの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。ベンゼン（３．９０ｇ，５０ｍｍｏｌ）とオクト−１−エン（１．１２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。オクト−１−エンピークは消滅し、オクチルベンゼンの３種の異性体（７０％，２−：３−：４−異性体比が２０：２６：５４）及びオクテン二量体（３０％）が形成された。より濃度が低い生成物相をイオン／触媒相からデカントし、クーゲルロール蒸留により精製した。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンとオクト−１−エンの後続の反応に使用したが、活性は低下しなかった。これは、アルケンによるベンゼンのアルキル化に金属ビストリフルイミド触媒を使用した例である。ベンゼン及びオクト−１−エンは［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドの存在下で反応し、３種のオクチルベンゼン異性体と少量のヘキサデセンを形成する（異性体分布は不明）。これを以下に示す。
【００５９】
【化４】
【００６０】
反応の結果、収率７０％（ＧＣによる）で３種のオクチルベンゼンが得られた。異性体比は０．７５：１．００：２．０３であり、４−フェニルオクテンが主生成物であり、２−フェニルオクテンが副生成物であった。反応中にオクト−１−エンが多数のオクテン異性体に異性化することが観察され、この異性化プロセスの速度はアルキル化反応よりもかなり速かった。２回目の試験でもイオン液体／触媒混合物は活性であることが判明した。反応の副生成物がオクテン二量体であることを確認するために、ベンゼンの不存在下で同一反応を実施した（下式参照）。
【００６１】
【化５】
【００６２】
反応はまず、オクテンから４種のオクテン異性体への異性化が進行した。１８時間後に反応はほぼ完了した（＞９５％転化率）。生成物は多数の二量化オクテンと三量化オクテンの異性体であった。６日間反応させると、二量体と三量体のＧＣピークのクラスターがブロード化することが認められ、更に異性化が生じていると予想された。
【実施例２０】
【００６３】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドによるオクト−１−エンの二量化
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５ｇ）に溶かした。オクト−１−エン（１．１２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。オクト−１−エンピークは消滅し、３種のオクテン異性体（オクト−２−エン，オクト−３−エン及びオクト−４−エン）が形成された。水素ビストリフルイミド（０．００２８ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、混合物を更に１８時間加熱した。ガスクロマトグラフィー分析によると、反応はほぼ完了し（＞９９％）、ヘキサデセン及びテトラコセン（オクテンの三量体）の異性体混合物が得られた。より濃度が低い生成物相をイオン／触媒相からデカントし、１ｍｍＨｇでクーゲルロール蒸留により精製した。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をオクト−１−エンの後続の二量化反応に使用したが、活性は低下しなかった。
【実施例２１】
【００６４】
水素及び金属ビストリフルイミド化合物による４−メチルフェノキシベンゾエートのフリース転位
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでイッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１ｇ）及び水素ビストリフルイミド（０．０１ｇ）を［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎＨ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。４−メチルフェノキシベンゾエート（１．０ｇ）を加えた。混合物を還流下に６０℃で２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応生成物は２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノンであった（９０％収率）。４−メチルフェノキシベンゾエートから２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノンへの異性化を以下に示す。
【００６５】
【化６】
【実施例２２】
【００６６】
金属ビストリフルイミド化合物によるｏ−キシレン、ｍ−キシレン、メシチレン及びトルエンのシクロヘキセンとの反応
４個の別個の反応容器において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでイッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１ｇ）を［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎＨ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に溶かした。ｏ−キシレン（１．０６ｇ，１０ｍｍｏｌ）、ｍ−キシレン（１．０６ｇ，１０ｍｍｏｌ）、メシチレン（１．２０ｇ，１０ｍｍｏｌ）又はトルエン（０．９２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を別々のフラスコに加えた後、シクロヘキセン（０．８２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を８０℃で１２時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。シクロヘキセンピークは消滅し、芳香族化合物のアルキル化に由来するピークとシクロヘキセンの二量化反応に由来するピークとが形成された（実施例２６参照）。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンとシクロヘキセンとの後続反応に使用したが、活性は低下しなかった。
【実施例２３】
【００６７】
金属ビストリフルイミド、トリフラート及び水素ビストリフルイミドによるベンゼンのドデク−１−エンとの反応
１０個の別個の反応容器（撹拌機と冷却器を取付けたマルチセルガラス反応器）で、金属トリフルイミド又は金属トリフラート化合物（下表参照）と水素ビストリフルイミド（０．０１ｇ）とを［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎ−Ｈ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に加え、金属化合物が溶けるまで撹拌した。ベンゼン（３．８ｇ，５０ｍｍｏｌ）及びドデク−１−エン（０．８４ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を８０℃で２４時間加熱した。過剰のベンゼンを留去した。混合物を室温まで冷却後にＮＭＲにより分析した。イオン液体と触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンのドデク−１−エンとの後続反応に使用したが、活性は低下しなかった。結果を下表８に示す。
【００６８】
【表９】
【実施例２４】
【００６９】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした金属化合物によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
５つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化チタン（ＩＶ）（１ｍｏｌ％）又は塩化スズ（ＩＶ）（１ｍｏｌ％）、塩化タングステン（ＶＩ）、塩化ハフニウム（ＩＶ）、又は塩化パラジウム（ＩＩ）を加え、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。出発材料からメチルベンゾフェノンへの転化率はパラジウム（ＩＩ）触媒反応（収率７５％）を除いて定量的であった。塩化ベンゾイルのトルエンとの反応における数種の新規金属ビストリフルイミド塩の反応収率の経時変化を図４に示す。これらの反応は平行して実施し、ＧＣ分析により収率を測定した。これらの反応は実施例４５〜５０に更に詳細に説明する。
【００７０】
本発明では、ビストリフルイミドイオン液体に溶かした金属ハロゲン化物をフリーデル・クラフツ反応等の反応に使用することができる。これは、特定の金属ビストリフルイミド塩が製造又は単離しにくい場合に有用である。本発明では、５種の金属ハロゲン化物（塩化物）（反応体に対して１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした。この組合せを使用してトルエンの塩化ベンゾイルとの反応を触媒し、メチルベンゾフェノンを得た。経時収率を図４に示す。選択した全金属から予想通りの生成物が良好な収率で得られたが、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中１ｍｏｌ％塩化スズ（ＩＶ）の組合せが特に有効な触媒であった。イオン液体（通常はビストリフルイミド）に溶かした金属化合物を使用するこの方法は、図３又は４に示した以外の金属（特に遷移金属（ｄブロック又はｆブロック金属））の化合物でも使用することができる。
【実施例２５】
【００７１】
多数の芳香族スルホニル化反応を実施した。これらの反応はフリーデル・クラフツアシル化反応に非常によく似ており、同様の条件下で実施する。主要な違いは−ＳＯ2−Ｘ基を−ＣＯ−Ｘ基（Ｘ＝脱離基）に置換えることである。殆どの場合、選択性、反応性及び収率は対応するアシル化反応と同様であることが判明した。塩化スルフリルのベンゼンとの反応の結果、クロロベンゼン（定量的）及びＳＯ2が形成された。これは分子性溶媒中で実施したＳＯ2Ｃｌ2の芳香族化合物との他の多くの反応と同様である。
【００７２】
【化７】
【実施例２６】
【００７３】
１０％イッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド及び微量の水素ビストリフルイミドを加えたホスホニウムイオン液体中で、シクロヘキセンによる各種芳香族化合物のアルキル化を実施した。副反応も起こりシクロヘキセンの二量体（下式参照）が形成され、この結果、フリーデル・クラフツ反応の収率が僅かに低下する。しかし、金属トリフルイミド化合物を二量化及びオリゴマー化反応に使用できることに留意すべきである。
【００７４】
【化８】
【００７５】
上記の反応は、ホスホニウムイオン液体中で８０℃で１２時間実施した各種芳香族のシクロヘキセンとの反応である。シクロヘキセンの二量化を以下に示す。
【００７６】
【化９】
【実施例２７】
【００７７】
マグネシウムビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで（水素）ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，１．１２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液にマグネシウム（０．０４８ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を１時間撹拌し（水素発生が停止したら完了と判断）、濾過した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、マグネシウムビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色粉末（１．１０ｇ，９５％）が得られた。マグネシウムビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３００℃、１ｍｍＨｇで減圧昇華により精製した。未精製マグネシウムビストリフルイミドは、アニソールと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2と同様であった。Ｍｇ（ＮＴｆ2）2はベンゼンスルホニルクロリドのクロロベンゼンとの反応における良好なスルホン化触媒であることが判明した。
【実施例２８】
【００７８】
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液にアルミニウム粉末（０．０３０ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を加えた。これを還流下に０．５時間加熱した。混合物を室温まで冷却し、過剰のアルミニウムを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、アルミニウムビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色粉末（０．８３ｇ，９６％）が得られた。アルミニウムビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３５０℃、１ｍｍＨｇで減圧昇華により精製した（一部は分解した）。未精製アルミニウムビストリフルイミドは、アニソール又はキシレンと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2と同等であった。
【実施例２９】
【００７９】
マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸マンガン（ＩＩ）（０．１８ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止するまで）０．５時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸マンガンを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、ほぼ白色の粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で２８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（この温度と圧力は、この物質の三重点即ち融点＝沸点に非常に近いと思われる）。未精製マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。
【実施例３０】
【００８０】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に水酸化ニッケル（ＩＩ）（０．１５ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（水酸化物がほぼ溶けて緑色溶液となるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の水酸化ニッケルを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、極薄黄色の粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドをクーゲルロール装置で２８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（図６参照）。未精製ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドはトルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。
【実施例３１】
【００８１】
コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸コバルト（ＩＩ）（０．１９ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止してピンク色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸コバルトを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、薄ピンク色粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３００℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した。未精製コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドはトルエンと塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。これは、塩化ベンゾイルによるクロロベンゼンのアシル化を触媒することが判明した数少ないフリーデル・クラフツアシル化触媒の１つでもある。
【実施例３２】
【００８２】
銅（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸銅（ＩＩ）（０．２０ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止して青／緑色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸銅（ＩＩ）を濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、銅（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、極薄い青／緑色粉末（０．８９ｇ，９５％）が得られた。銅（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で１８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（昇華中に部分的に分解が生じ、銅（ＩＩ）ビストリフルイミドの約半量が失われた）。未精製銅（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した（活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも低かった）。銅（ＩＩ）ビストリフルイミドは良好なフリーデル・クラフツアルキル化触媒であることも判明した。
【実施例３３】
【００８３】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に亜鉛（０．１３ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加えた。これを（Ｈ2の発生が停止して無色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の亜鉛を濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色結晶（０．９１ｇ，９７％）が得られた。これらの結晶の１つをＸ線結晶分析し、その構造を図５〜７に示す。亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で２６０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した。未精製亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンと塩化ベンゾイルの反応の良好なフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。これは、塩化ベンゾイルによるクロロベンゼンのアシル化を触媒することが判明した数少ないフリーデル・クラフツアシル化触媒の１つでもある。
【実施例３４】
【００８４】
インジウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
水酸化インジウム（ＩＩＩ）５．０ｇを水５０ｍｌに溶かし、これにＨＮＴｆ2２７．０ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製インジウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはトルエン、アニソール及びキシレンの塩化ベンゾイル又は無水安息香酸の反応との優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例３５】
【００８５】
ガリウム（ＩＩＩ）トリフルイミド
酸化ガリウム（ＩＩＩ）２．５ｇを水５０ｍｌに懸濁し、これにトリフルオロメタンスルホンイミド２４．０ｇを加え、１００℃に２日間加熱した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製ガリウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンの塩化ベンゾイル又は無水安息香酸との反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例３６】
【００８６】
カルシウムビストリフルイミド
炭酸カルシウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（５．６ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製カルシウムビストリフルイミドは、フリーデル・クラフツ反応において乏しい触媒活性を示すことが判明した。
【実施例３７】
【００８７】
ストロンチウム（ＩＩ）ビストリフルイミド
炭酸ストロンチウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（３．８ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製ストロンチウム（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で乏しい触媒活性を示すことが判明したが、カルシウムビストリフルイミドよりは僅かに活性が高かった。
【実施例３８】
【００８８】
バリウムビストリフルイミド
炭酸バリウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（２．８ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製バリウム（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応でいくらかの触媒活性を示すことが判明し、カルシウム及びストロンチウムビストリフルイミドよりも活性が高かった。
【実施例３９】
【００８９】
スズ（ＩＩ）ビストリフルイミド製法１
金属スズ（５．０ｇ，純度９９．９％）塊を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（１０ｇ）を加えた。この混合物を還流下で７２時間加熱した。得られた混合物を冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。オフホワイトの結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。未精製スズ（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明した（例えば１％Ｓｎ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルから還流下４８時間後に収率９９％が得られた）。反応性は亜鉛ビストリフルイミドと同様であった。
【実施例４０】
【００９０】
スズ（ＩＩ）ビストリフルイミド製法２
酸化スズ（ＩＩ）（１．０ｇ）粉末を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５．０ｇ）を加えた。この混合物を還流下に４８時間加熱した。生成したスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置するとオフホワイトの沈殿が得られた。オフホワイトの沈殿を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。未精製スズ（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明した（例えば１％Ｓｎ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルで還流下６時間後に収率９９％が得られた）。
【実施例４１】
【００９１】
鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド
炭酸鉛（ＩＩ）１３．０ｇを水５０ｍＬに取り、これに新たに調製したＨＮＴｆ2２８．０ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドは、フリーデル・クラフツ反応で良好な触媒活性を示すことが判明した（例えば、１％Ｐｂ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルで還流下４８時間後に収率９９％が得られた）。触媒活性は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドよりも良好であった。
【実施例４２】
【００９２】
クロム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
金属クロム（１．０ｇ，純度９９．９５％）片を水（２０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５ｇ）を加えた。この混合物を還流下に１４４時間加熱した。生成した混合物を冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、緑色固体が得られた。固体を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。この固体は乾燥工程で発生した大量のＨＮＴｆ2から形成されたオキソクロムビストリフルイミド種ＣｒＯ（ＮＴｆ2）を含んでいると考えられた。未精製クロム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明し、Ｚｎ（ＮＴｆ2）2の活性と同等であった。
【実施例４３】
【００９３】
タングステンビストリフルイミド
金属タングステン（１．０ｇ，純度９９％）フィリングを水（２０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５ｇ）を加えた。この混合物を還流下で１４４時間加熱した。得られたスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。触媒の厳密な構造は不明であるが、塩化ベンゾイルのトルエンとの反応で試験した単離金属ビストリフルイミド触媒全てのうちで最も優れていることが判明した。
【実施例４４】
【００９４】
鉄（ＩＩ）ビストリフルイミド
金属鉄（５．０ｇ，純度９９．９５％）塊を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（１０ｇ）を加えた。この混合物を還流下で７２時間加熱した。生成したスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、薄黄色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。薄黄色結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。
【実施例４５】
【００９５】
鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
本化合物は（Ｆｅ（ＮＴｆ2）2（ＯＨ）（ＯＨ2）であると考えられる）クリーム色結晶又は（ＦｅＯ（ＮＴｆ2）であると考えられる）茶色固体の２形態で単離することができる。茶色い沈殿が形成されるまで、硝酸鉄（ＩＩＩ）（１０ｇ）の水溶液に水酸化ナトリウム溶液（１Ｍ）を加えた。水和水酸化鉄（ＩＩＩ）の沈殿を減圧濾取し、水洗した。沈殿（約５ｇ）を蒸留水に懸濁し、過剰の水素ビストリフルイミド（２０ｇ）を加えた。沈殿はゆっくりと溶けて透明な薄茶色溶液となった。この溶液を濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、クーゲルロール蒸留装置に移した。未反応水素ビストリフルイミドを１００℃、１ｍｍＨｇで留去すると、水和鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミドのクリーム色結晶固体が残った。１７０℃、１ｍｍＨｇで４時間更に加熱すると、水素ビストリフルイミドが発生し、茶色固体が形成された（ＦｅＯ（ＮＴｆ2））。これらの固体はどちらも、濃度１ｍｏｌ％でトルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例４６】
【００９６】
パラジウム（ＩＩ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化パラジウム（ＩＩ）（０．０３５ｇ）を加えた。塩化パラジウム（ＩＩ）が溶けて黄色／オレンジ色透明溶液になるまで、これを撹拌下に穏やかに加熱した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【００９７】
塩化パラジウム（ＩＩ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性を、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）の塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率７５％及びｐ−：ｏ−比が４．５：１）。
【実施例４７】
【００９８】
タングステン（ＶＩ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化タングステン（ＶＩ）（０．０７９ｇ）を加えた。塩化タングステン（ＶＩ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌下に穏やかに加熱した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【００９９】
塩化タングステン（ＶＩ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下で２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−：ｏ−比４．１：１）。
【実施例４８】
【０１００】
スズ（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化スズ（ＩＶ）（０．０５２ｇ）を加えた。塩化スズ（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０１】
塩化スズ（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性を、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）の塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下で２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．２：１）。
【実施例４９】
【０１０２】
チタン（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化チタン（ＩＶ）（０．０３８ｇ）を加えた。塩化チタン（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０３】
塩化チタン（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）の反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．５：１）。
【実施例５０】
【０１０４】
ハフニウム（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化ハフニウム（ＩＶ）（０．０６４ｇ）を加えた。塩化ハフニウム（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０５】
塩化ハフニウム（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）の反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．４２：１）。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】図１は、金属ビストリフルイミドに触媒される塩化ベンゾイルのトルエンとの反応の収率の経時変化を示す。
【図２】図２は、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＣｌ3及び１％Ｆｅ（ＩＩＩ）ビストリフルイミドに触媒される塩化ベンゾイルのトルエンとの反応収率の経時変化を示す。
【図３】図３は、フェニル−４−クロロフェニルスルホンの合成における収率の経時変化を示す。
【図４】トルエンと塩化ベンゾイルとを１１０℃で反応させてメチルベンゾフェノンを得るため、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした金属塩化物１モル％に触媒される５種の反応について、収率の経時変化を示す。
【図５】図５はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
【図６】図６はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
【図７】図７はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
【０００１】
本発明は金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
数種の金属ビストリフルイミド化合物が知られている。ＷＯ９９／４０１２４はチタン及びジルコニウムビストリフルイミドと、ＡｇＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2をＲ1Ｒ2ＭＣｌ2（式中、ＭはＴｉ又はＺｒであり、Ｒ1はインデニル、シクロペンタジエニル又はペンタメチルシクロペンタジエニルであり、Ｒ2は独立してインデニル、シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、メチル、メトキシ、ヒドロキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシ、トリフルオロエトキシ、ヘキサフルオロイソプロポキシ又はクロロである）と反応させることによるその製造を開示している。アルミニウムビストリフルイミドとイッテルビウムビストリフルイミドが公知である（Ｓｙｎｌｅｔｔ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９９６，ｐｌ７１）。スカンジウムビストリフルイミドも公知である（Ｓｙｎｌｅｔｔ，Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９９６，ｐａｇｅ ８３９）。マグネシウム及びリチウムビストリフルイミドも公知である（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ｌｅｔｔｅｒｓ １９９７，ｐ２６４５）。
【発明の開示】
【０００３】
化学反応の触媒は化学において非常に重要である。ある種の金属の化合物はルイス酸（電子対受容体）として機能し、反応の反応体（及び生成物）と相互作用して反応速度の増進及び／又は選択性の増進をもたらすことが知られている。多様な酸化状態をとり得る金属（例えば遷移金属）の塩も化学反応を触媒することが知られている。これらの反応の例としてはフリーデル・クラフツ、酸化、還元、ディールス・アルダー、異性化、カップリング、付加及び脱離反応が挙げられる。触媒は均一触媒と不均一触媒の２種類に大別され、均一触媒は反応体及び／又は生成物と同相にあり、不均一触媒は反応体及び／又は生成物と別相にある。均一触媒は反応性及びターンオーバーが高いといった性質をもつが、反応生成物から分離しにくい。不均一触媒は反応性及びターンオーバーが低いといった性質をもつが、反応生成物から比較的簡単に分離できる。反応性及びターンオーバーが高く、反応生成物から容易に分離できる新規触媒が必要とされている。
【０００４】
本発明は式：［Ｍx］n+［（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）(nx-yz)］(nx-yz)-［Ｌy］z-（式中、Ｍは周期表の５〜１０族金属、１２族金属、１４〜１６族金属、Ｃｕ、Ａｕ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｈｆ、Ｒｆ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｌｕ及びアクチノイドから選択される金属であり、Ｌは負又は中性配位子であり、ｎは２、３、４、５、６、７又は８であり、ｘは１以上であり、ｙは０、１、２、３、４、５、６、７又は８であり、ｚは０、１、２、３又は４である）の金属ビストリフルイミド化合物を提供する。
【０００５】
金属ビストリフルイミドとは金属ビストリフルオロメタンスルホンイミドを意味する。Ｍは２種類以上の金属イオンを表すことができる。Ｍは周期表の７、８、９、１０、１２及び１４族から選択することが好ましい。８族とはＦｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｈｓを含む族を意味し、９族とはＣｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｍｔを含む族を意味し、他の族も同様である。カチオンは＋２、＋３又は＋４酸化状態にあることが好ましいが、＋１、＋５、＋６、＋７又は＋８の酸化状態でもよい。ＭはＭｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＰｂから選択することが好ましい。ＭはＭｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）から選択するとより好ましい。本発明の化合物の例としてはカルシウムビストリフルイミド、ストロンチウムビストリフルイミド、バリウムビストリフルイミド、ガリウムビストリフルイミド、インジウムビストリフルイミド、スカンジウムビストリフルイミド、イットリウムビストリフルイミド、ランタンビストリフルイミド、セリウムビストリフルイミド、クロムビストリフルイミド、マンガンビストリフルイミド、鉄ビストリフルイミド、コバルトビストリフルイミド、ニッケルビストリフルイミド、銅ビストリフルイミド、亜鉛ビストリフルイミド、カドミウムビストリフルイミド、スズビストリフルイミド、鉛ビストリフルイミド及びビスマスビストリフルイミドが挙げられる。
【０００６】
Ｌはオキソ（例えばＶＯ2+）、ホスフィン（例えばトリフェニルホスフィン）、水、ハロゲン化物又はケトンから選択することができる。配位子は触媒を製造するための反応混合物又はこの配位子を使用する反応混合物中の溶媒、試薬、又は副生物に由来するものとすることができる。
【０００７】
本発明の化合物はこれまで製造されていない。これらの化合物は、慣用的にルイス酸により触媒される反応に特に有効な触媒であることが判明した。これらの化合物は、ルイス酸を触媒とするか又はルイス酸が仲介する多数の化学変換に利用できる。これらの化合物は、化学変換の反応体又は生成物と過度に強力な錯体を形成しないという点で塩化アルミニウム（ＩＩＩ）といったルイス酸よりも有利である。これらの化合物は、芳香族化合物のアシル化やアルキル化といったフリーデル・クラフツ反応で使用するのに特に適している。芳香族化合物のスルホニル化にも使用できる。フリーデル・クラフツアシル化反応において、「触媒」は一般に化学量論的試薬である。しかし、触媒量を減らすことが可能になり、１モル％という少量の金属ビストリフルイミドを加えてフリーデル・クラフツアシル化反応において定量的な収率が得られる。本発明の化合物は０．００００００１〜１０００モル％、好ましくは０．１〜２０モル％、より好ましくは０．５〜５モル％の濃度で化学反応を触媒する。これにより、触媒の無駄が減る。金属ビストリフルイミド化合物の多くは金属が多様な酸化状態をとることができるので、酸化及び還元の化学変換で利用できる。金属ビストリフルイミド化合物を用いて実施することができる他の化学変換としては、異性化反応、カップリング反応、デカップリング、縮合（アルドール及びクライゼン縮合を含む）、重合、オリゴマー化、二量化、付加、脱離、付加／脱離、水和、脱水、水素化、脱水素、ハロゲン化、スルホン化及びニトロ化が挙げられる。
【０００８】
本発明の金属ビストリフルイミド化合物は、反応体又は生成物に可溶性もしくは部分的に可溶性又は不溶性とすることができる。前者の場合には、溶媒と触媒との両方の機能をもつことができる。また、超臨界溶媒を含む分子性溶媒に可溶性、不溶性又は部分的に可溶性とすることもできるし、イオン液体（反応温度で液体状態にあり、一般に（必ずしもそうでなくてもよいが）室温又は室温付近、即ち２０℃で溶融状態にある溶融塩）に溶解又は懸濁してもよい。これらのいずれの場合にも、金属ビストリフルイミドは化学変換を行う触媒又は試薬として機能しうる。本発明の化合物が反応体に可溶性又は部分的に可溶性である場合には、反応は溶媒の不存在下で進行することができる。あるいは、化合物をイオン液体に溶解又は懸濁することができ、ジクロロメタンといった慣用の溶媒により提供される代用媒質中で反応を進行することもできる。このように、本発明の化合物は無溶媒条件下やイオン液体の存在下で使用できるので、ニトロメタンといった爆発性溶媒やジクロロメタンといった毒性溶媒を使用せずに済むという利点がある。更に、本発明の金属ビストリフルイミドを無溶媒条件下やイオン液体の存在下の反応で使用する場合には、金属トリフルイミドをリサイクルし易い。
【０００９】
特に、新規金属ビストリフルイミド塩Ｚｎ（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）2のＸ線結晶構造を調べると、その優れた触媒特性は結晶構造に起因すると考えられる。金属ビストリフルイミド化合物の構造は、図５〜７にＸ線結晶構造を示す亜鉛ビストリフルイミドの構造に似ていると考えられる。
【００１０】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドはその構造から明らかなように、ビストリフルイミドイオンの（窒素原子でなく）酸素原子により金属に配位する２個のビストリフルイミド基で構成される。金属原子上の残りの２個の八面体配位部位は、隣接するＺｎ（ＮＴｆ2）2基からの酸素原子で占有されている。金属ビストリフルイミド化合物には揮発性のものもあるので、隣接金属ビストリフルイミド基からの配位はかなり弱いと考えられる。
【００１１】
本発明の化合物は揮発性であるので、固体表面への金属又は金属化合物の真空蒸着法で使用するのに適している。これは、固体表面に金属化合物を昇華させ、必要に応じて化合物の非金属部分を除去することにより実施することができる。本発明の化合物は減圧下又は大気圧下で、特に１０００℃未満、より詳細には４００℃未満の温度で揮発性である。表１は金属ビストリフルイミド化合物の沸点／昇華点を示す（ｄｅｃ．は分解を意味する）。
【００１２】
【表１】
本真空蒸着法は、マイクロエレクトロニクス及び半導体産業で応用される。本真空蒸着法は、沸騰前に分解する任意の金属ビストリフルイミド化合物に利用できる。
本発明は金属ビストリフルイミド化合物の製造方法として、
（ａ）水素ビストリフルイミドと金属を反応させる工程、
（ｂ）水素ビストリフルイミドと金属水酸化物を反応させる工程、
（ｃ）水素ビストリフルイミドと金属硫化物を反応させる工程、又は
（ｄ）水素ビストリフルイミドと金属炭化物を反応させるを反応させる工程
を含む方法も提供する。
【００１４】
本方法は、本発明の金属ビストリフルイミド化合物と既知の金属ビストリフルイミド化合物のいずれを製造するのにも適している。従って、上記方法は、Ｍが周期表の１〜１６族金属、ランタノイド、及びアクチノイドから選択される金属である金属ビストリフルイミド化合物に適用できる。
【００１５】
上記方法は、金属又は金属化合物とビストリフルイミド（ビストリフルオロメタンスルホンイミド即ち（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2）との相互作用を含むことが好ましい。好ましくは、金属は遷移金属（ｄブロック又はｆブロック）であるか又は１２〜１６族金属から選択される。金属はＳｎ（ＩＶ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｔｉ（ＩＶ）及びＷ（ＶＩ）から選択することが好ましい。
【００１６】
本方法は水、アルコール、エステル、分子性超臨界溶媒（例えば二酸化炭素）又はイオン性溶媒等の溶媒中で実施することができる。反応は室温で実施してもよいし、高温で実施してもよい。溶媒を使用する場合には、水素ビストリフルイミドと金属化合物とを溶媒の不存在下で相互作用させて金属ビストリフルイミド化合物を製造することもできる。溶媒を蒸発させることにより金属ビストリフルイミド化合物を溶媒から分離するには、一般に好ましくは減圧下で加熱（水分又は他の溶媒を蒸発）して溶媒を蒸発させる。金属ビストリフルイミド化合物の減圧蒸留又は減圧昇華により更に精製することができる。他の何らかの物理又は化学的方法、例えば結晶化により精製することもできる。
【００１７】
本発明の金属ビストリフルイミド化合物は、化学反応を触媒するため又は化学変換を起こすためにｉｎ ｓｉｔｕで製造及び使用することができる。この場合には、金属化合物（例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物又はフッ化物といった金属ハロゲン化物）をビストリフルイミドイオン源（例えばビストリフルイミドイオン液体）に加える。金属化合物は金属塩化物が好ましい。これらのｉｎ ｓｉｔｕ金属トリフルイミド化合物は、単離された金属トリフルイミド化合物と同等以上の触媒活性をもつ。従って、本発明は金属ビストリフルイミド触媒の製造方法として、ビストリフルイミドイオン液体といったビストリフルイミドイオン源に金属又は金属化合物を加えることを含む方法を提供する。イオン液体は、反応温度で液体状態の溶融塩又は塩混合物である。イオン液体は正電荷をもつカチオンと負電荷をもつアニオンの２成分からなる。カチオンは有機カチオンが好ましく、アニオンは有機又は無機アニオンが好ましい。本方法の前記カチオンは１−アルキルピリジニウム（例えば１−ヘキシルピリジニウム）又は１，３−ジアルキルイミダゾリウムカチオン（例えば１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム［ｂｍｉｍ］又は１−エチル−３−メチルイミダゾリウム［ｅｍｉｍ］）が好ましい。本方法の他のカチオンは、他のアルキルもしくはポリアルキルピリジニウム、アルキルもしくはポリアルキルイミダゾリウム、アルキルもしくはポリアルキルピラゾリウム、アルキルもしくはポリアルキルアンモニウム、アルキルもしくはポリアルキルホスホニウム、他のアンモニウム、ホスホニウムカチオン、アルキル化ジアザビシクロ−［５，４，０］−ウンデク−７−エン及び関連カチオン、又はイオン液体と呼ばれる化合物を生じる他の任意のカチオンである。本方法のアニオンは反応中の化学変化に対して安定しており、イオン液体に望ましい物性を与えるものが好ましい。イオン液体に適したアニオンとしては、ビストリフルオロメタンスルホンイミド、ビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ヘキサフルオロリン酸（Ｖ）、テトラフルオロホウ酸（ＩＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸、シアナミド、フルオロもしくはペルフルオロアルキルスルホン酸、ハロゲン、硫酸、硫酸水素、ハロ硫酸、アルキル硫酸、アルキルスルホン酸、アリール硫酸、アリールスルホン酸、硝酸、カルボン酸、リン酸、リン酸水素、リン酸二水素、アルキルリン酸、アルキルホスホン酸、ホスホン酸、亜硝酸、ヒ酸、アンチモン酸、ハロアルミン酸、アルミン酸、ホウ酸、ケイ酸、ハロインジウム酸（ＩＩＩ）、没食子酸、アルキルホウ酸、ハロ没食子酸、又はイオン液体を生じる他の任意のアニオンが挙げられる。イオン液体、触媒、又は、イオン液体と触媒との組合わせは、ジエチルエーテルやヘキサン等の低極性又は非極性有機溶媒に不溶性であることが好ましい。
【００１８】
塩化ベンゾイルによるトルエンのアシル化に使用する触媒として、予め形成させたビストリフルイミド触媒及びｉｎ ｓｉｔｕ形成触媒の例を以下に示す。
【００１９】
【化１】
この反応では、塩化鉄（ＩＩＩ）は生成物（ケトン）と強力な錯体を形成してほぼ不活性になるので、反応を触媒しない（非常に低収率しか得られない）。塩化鉄（ＩＩＩ）をビストリフルイミド源（水素ビストリフルイミド｛ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2｝若しくはビストリフルイミド塩又はイオン液体）に加えると、鉄（ＩＩＩ）トリフルイミド錯体（又は鉄（ＩＩＩ）クロロビストリフルイミド化合物もしくは錯体）が形成される。これらの鉄（ＩＩＩ）トリフルイミド錯体（又は鉄（ＩＩＩ）クロロビストリフルイミド化合物もしくは錯体）はその後、例えばアシル化等の化学反応用触媒として使用することができる。上記反応スキームに示す反応の速度は同等であり、高収率（９９％）が得られる。
【００２１】
このｉｎ ｓｉｔｕ触媒法は、フリーデル・クラフツ化学に通例では結び付けられない金属を触媒として使用できる。また、単離しにくいビストリフルイミド化合物を製造し、触媒として使用することができる。
【００２２】
多くの場合に、金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ形成法は、金属トリフルイミド化合物を単離するよりも好ましい。例えば、スズ（ＩＶ）ビストリフルイミドは単離しにくい化合物である。塩化スズ（ＩＶ）をトリフルイミドイオン液体（例えば［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）に溶かすと、生成する混合物はフリーデル・クラフツアシル化反応を触媒する。これを図４に示し、塩化ベンゾイルとトルエンの反応を触媒する５種のｉｎ ｓｉｔｕ金属トリフルイミド化合物の経時収率を示す（実施例４５〜５０）。
【００２３】
以下、実施例により本発明を例証する。実施例１〜２６は、本発明の新規金属ビストリフルイミド化合物の反応性に関する実施例である。実施例２７〜５０は本発明の金属ビストリフルイミド化合物の製造方法である。
【実施例１】
【００２４】
コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）にコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に３時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒が溶液から沈殿した。生成物の溶液をデカントし、フラスコを更に石油エーテル１５ｃｍ3で洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０５ｇ，単離収率９７％）を得た。（沈殿を含有する）フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒を直接再使用できる。
【実施例２】
【００２５】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）にコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に０．５時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒とイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含む）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０２ｇ，９６％）を得た。フラスコにトルエンと塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒及びイオン液体の組合せを直接再使用でき、活性も低下しない。
【００２６】
実施例１及び２は、コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒を使用するとイオン液体の有無に拘わらず、塩化ベンゾイルでトルエンをアシル化することができることを示す。しかし、イオン液体を使用する場合には反応速度は高く、触媒をリサイクルし易い。イオン液体を使用しない場合、触媒１ｍｏｌ％を使用して還流下に３時間加熱後に、この反応の生成物が定量的収率で得られる（実施例１）。イオン液体［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（［ｅｍｉｍ］＝１−エチル−３−メチルイミダゾリウム）中で反応を実施すると、反応時間は３０分に短縮する（実施例２）。
【実施例３】
【００２７】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）にニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１時間加熱し（ガスクロマトグラフィー分析により少なくとも９９％完了と判断）、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒及びイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０４ｇ，単離収率９７％）を得た。フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより、触媒とイオン液体の組合せを直接再使用でき、活性も低下しない。
【００２８】
実施例２及び３の結果を表１に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】
アニソール（０．３０ｃｍ3，２．８ｍｍｏｌ）、無水酢酸（０．５０ｃｍ3，５．０ｍｍｏｌ）、Ｍ（ＮＴｆ2）n触媒（０．１３７５ｍｍｏｌ（Ｍ＝Ａｌ，ｎ＝３；Ｍ＝Ｚｎ，ｎ＝２；Ｍ＝Ｙｂ，ｎ＝３；Ｍ＝Ｙ，ｎ＝３））をイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＰＦ6］に溶かした。これらの４種の反応物を３０℃に２４時間加熱した。反応混合物のＨＰＬＣ分析により反応の進行を調べ、収率を表２に示す。
【００３１】
【表３】
【００３２】
アニソール（０．５０ｃｍ3，４．６ｍｍｏｌ）、無水安息香酸（１．１５ｇ，５．０６ｍｍｏｌ）、Ｍ（ＮＴｆ2）n触媒（０．２３ｍｍｏｌ（Ｍ＝Ａｌ，ｎ＝３，０．２０ｇ；Ｍ＝Ｃｅ，ｎ＝４，０．２９ｇ））をイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に溶かした。これらの２種の反応液を６０℃に２４時間加熱した。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析により反応の進行を調べ、収率を表３に示す。
【００３３】
【表４】
【００３４】
フルオロベンゼン（５．７７ｇ，６０ｍｍｏｌ）、塩化４−フルオロベンゾイル（４．７５ｇ，３０ｍｍｏｌ）、ＺｎＣｌ2（１．３６ｇ，１０ｍｍｏｌ）及び［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］をオートクレーブに入れ、４８時間撹拌下に１６０℃に加熱した。反応器を冷却し、圧力（ＨＣｌガス）を解放した。ガスクロマトグラフィー分析の結果、９９％の転化率で、２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、３，４’−ジフルオロベンゾフェノン、及び４，４’−ジフルオロベンゾフェノンの比が１７：８：７５である混合物に転化された。石油エーテル（ｂｐ＝４０〜６０℃）で溶媒抽出後に溶媒を蒸発させてジフルオロベンゾフェノンを単離した。イオン液体／塩化亜鉛触媒系は後続反応で使用することができ、活性も変わらなかった。この結果は、［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中でｉｎ ｓｉｔｕ亜鉛触媒を使用すると、従来非反応性であるとされていた芳香族化合物であるフルオロベンゼンを塩化４−フルオロベンゾイルでアシル化して２−、３−又は４−４’−ジフルオロベンゾフェノンの異性体を得ることができることを示す。この触媒は［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］イオン液体に塩化亜鉛（ＩＩ）を溶かすことにより調製した。反応収率は９５％であった（ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体比１７：８：７５）。
【実施例７】
【００３５】
撹拌機と冷却器を取付けたフラスコに安息香酸（０．３１ｇ，２．５ｍｍｏｌ）、ｍ−キシレン（０．５３ｇ，５．０ｍｍｏｌ）、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５０ｇ）及びＭ（ＮＴｆ2）2（Ｍ＝Ｃｏ（０．１４ｇ，０．２５ｍｍｏｌ）又はＺｎ（０．１５ｇ，０．２５ｍｍｏｌ））を入れた。フラスコの内容物を２日間還流下に加熱（約１４０〜１５０℃）した後、室温まで冷却した。生成物をガスクロマトグラフィー分析したところ、９３及び８７％の転化率で（それぞれＣｏ及びＺｎビストリフルイミドによる反応）が２，４−ジメチルベンゾフェノンと恐らく２，６−ジメチルベンゾフェノンに転化された（どちらの場合も異性体比１１：１）。この結果は、亜鉛及びコバルトビストリフルイミドが安息香酸によるｍ−キシレンのベンゾイル化を触媒することを示す。反応は、塩化ベンゾイルを使用した対応反応よりも遅い。触媒をリサイクルし、反応を繰返した。繰り返した実験の結果を表４に示す。
【００３６】
【表５】
安息香酸は反応性が低いので、上記結果は注目に値する。この反応は副生物が水であるので、環境に非常にやさしい反応であることに留意すべきである。更に、非腐食性出発材料（安息香酸）を使用するので、塩化ベンゾイルを使用する対応反応よりも安全に反応を実施できる。これはジメチルベンゾフェノンを製造する優れた方法であると結論づけることができる。
【実施例８】
【００３８】
［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の亜鉛（ＩＩ）又は銅（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
トルエン（３．０ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に銅又は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に７２時間加熱した（反応混合物の液滴を石油エーテル（ｂ．ｐ．＝４０〜６０℃）に懸濁し、触媒を濾別することにより、反応をガスクロマトグラフィー分析によりモニターした）。出発材料と生成物は石油エーテル抽出液に可溶性であり、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると触媒が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。石油エーテル抽出液を合わせて溶媒を蒸発させ、生成物をクーゲルロール装置で減圧蒸留（ｂｐ＝１６０〜１７０℃，１ｍｍＨｇ）により精製した。こうしてメチルベンゾフェノン（４．０ｇ，９５％）を得た。フラスコにトルエン及び塩化ベンゾイルを加えて反応を繰返すことにより触媒を直接再使用でき、活性も低下しない。ガスクロマトグラフィー分析により測定した収率を表５に示す。
【００３９】
【表６】
亜鉛（ＩＩ）及び銅（ＩＩ）ビストリフルイミド化合物はトルエンのベンゾイル化に有効なアシル化触媒であることが判明した。
【実施例９】
【００４１】
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるｏ−キシレンと塩化ベンゾイルの反応
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１０ｇ）をｏ−キシレン（３．０ｇ，２８．２ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１２０℃に１８時間加熱した（反応混合物の液滴を石油エーテル（ｂ．ｐ．＝４０〜６０℃）に懸濁し、触媒を濾別することにより、反応をガスクロマトグラフィー分析によりモニターした）。出発材料と生成物は石油エーテル抽出液に可溶性であり、室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3）を加えると、触媒が分離した相を形成した。ガスクロマトグラフィー分析により測定した収率は９９％であり、３，４−：２，３−ジメチルベンゾフェノン異性体比が６．０：１であった。アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはｏ−キシレンのベンゾイルに有効な触媒であることが判明した。１ｍｏｌ％触媒を使用して反応させた場合、１２０℃で１８時間後に対応するベンゾフェノンの２種の異性体（３，４−：２，３−異性体比が６：１）が定量的収率で得られた。
【実施例１０】
【００４２】
金属ビストリフルイミド触媒によるトルエンと塩化ベンゾイルの反応
種々の金属（１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｌ）ビストリフルイミド塩（１ｍｏｌ％）をトルエン（３．０ｇ，３２．６ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３．０ｇ，２１．３ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１１０℃に１２０時間まで加熱した。反応を定間隔でガスクロマトグラフィー分析によりモニターし、９９％完了したと判断されると、室温まで冷却して反応を停止した。石油エーテル（１５ｃｍ3）を加えると、触媒が分離した相を形成した。石油エーテル抽出液をデカントした後、１ｍｍＨｇでクーゲルロール蒸留により生成物を単離した。様々な時間間隔後の収率を表６に示す。形成された生成物はメチルベンゾフェノンである。これらの全反応で、異性体比は約７６％パラ対２４％オルトであることが判明した。この結果を表６に示す。表１は［ｅｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中Ｃｏ及びＮｉビストリフルイミドに必要な時間を示す。
【００４３】
【表７】
表６から、選択した化合物間に顕著な反応性の差が認められる。このうち、４種の化合物（即ちマンガン、コバルト、ニッケル及び鉛）は予想外に高い反応性をもち、その一方、亜鉛ビストリフルイミドやアルミニウムビストリフルイミドは比較的穏やかな活性を有する。「従来のフリーデル・クラフツ化学」はＡｌビストリフルイミドが最良の触媒であるとしているが、上記結果は全く相異する。ＣｏとＰｂの触媒反応性が特に注目される。対照的に、リチウム及びカルシウムビストリフルイミドは活性が非常に低く、［ｅｍｉｍ］［ビストリフルイミド］では殆ど又は全く反応が認められなかった。
【実施例１１】
【００４５】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンの塩化ベンゾイルとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）にニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、触媒が溶けるまで混合物を撹拌した。クロロベンゼン（１．６８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に７２時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応混合物を室温まで冷却した。石油エーテル（１５ｃｍ3，ｂｐ＝４０〜６０℃）を加えると、触媒及びイオン液体が石油エーテル層から相分離した。（石油エーテル中の）生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコを石油エーテル１５ｃｍ3で３回洗浄した。有機抽出液を濃縮後、１ｍｍＨｇ（ｂｐ＝１７０〜１９０℃）でクーゲルロール蒸留すると、クロロベンゾフェノン（１．６５ｇ，７４％）が得られた。ＧＣ分析によると、７２時間後に収率７８％であり、４−：２−異性体比が７０：８であった。クロロベンゼンは従来アシル化反応で非反応性であるとされているので、これは注目すべき結果である。従来ではクロロベンゼンのアシル化物を有意な量で単離することはできなかった。
【実施例１２】
【００４６】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中のコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド又は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンの塩化ベンゾイルとの反応
２つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）に亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１６ｇ，５ｍｏｌ％）又はコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１５ｇ，５ｍｏｌ％）を加え、触媒が溶けるまで混合物を穏やかに加熱撹拌した。クロロベンゼン（０．６８ｇ，６ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（０．７２ｇ，５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応混合物を室温まで冷却した。シクロヘキサン（１５ｃｍ3）を加えると、触媒及びイオン液体が相分離した。生成物の溶液をデカントし、（イオン液体及び触媒を含有する）フラスコをシクロヘキサン１５ｃｍ3で３回洗浄後、１ｍｍＨｇ（ｂｐ＝１８０〜２００℃）でクーゲルロール蒸留した。こうして２−及び４−クロロベンゾフェノンの混合物を得た。ＧＣ収率はコバルト触媒で９７％（ｐ−：ｏ−異性体比が６．８：１）、亜鉛触媒で５５％（ｐ−：ｏ−異性体比が６．５：１）であった。
【００４７】
クロロベンゼンは非常にアシル化しにくいので、クロロベンゼンと塩化ベンゾイルの反応を検討した。１ｍｏｌ％触媒で妥当な収率を得ることができたが、５ｍｏｌ％触媒では更に満足な反応速度が得られることが判明した。反応はコバルトビストリフルイミドでは１８時間後に９５％完了し、亜鉛ビストリフルイミドでは５５％完了することが判明した（表７）。生成物を沸騰シクロヘキサンで抽出してイオン液体／触媒をリサイクルした後に、触媒の活性は低下することが判明した。微量の水素ビストリフルイミド（０．１ｍｏｌ％）を加えると触媒の活性は回復した。
【００４８】
【表８】
【００４９】
水素及び金属ビストリフルイミド触媒によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
様々な金属ビストリフルイミド化合物：Ｓｒ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｉｎ（ＩＩＩ）、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中Ｉｎ（ＩＩＩ）、Ｃｒ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｙｂ（ＩＩＩ）、及び水素ビストリフルイミド｛ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2｝（１ｍｏｌ％）をトルエン（１．３８ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）の混合物に加えた。混合物を１１０℃で１２０時間まで加熱した。様々な間隔でガスクロマトグラフィー分析により反応をモニターし、５日後に反応を停止した。メチルベンゾフェノンの経時収率を図１に示す。塩化ベンゾイルとトルエンとの反応により２−及び４−メチルベンゾフェノンが得られた。これらの化合物は全て活性なフリーデル・クラフツ触媒であることが判明したが、活性の程度はかなり相違した。このうち、インジウム（ＩＩＩ）と鉄（ＩＩＩ）（実施例１４）の活性が最も高く、特に優良な触媒である。ｐ−：ｏ−選択性は３．９〜４．４：１であり、インジウム及び鉄触媒の選択性は４．４：１であった。
【実施例１４】
【００５０】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド又は塩化鉄（ＩＩＩ）によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
２つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（１．０ｇ）に鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（１ｍｏｌ％）又は塩化鉄（ＩＩＩ）（１ｍｏｌ％）を加え、触媒が溶けるまで混合物を穏やかに加熱撹拌した。トルエン（１．３８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４１ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に４８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。メチルベンゾフェノンの経時収率を図２に示す。ここでは、（ａ）［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＯ（ＮＴｆ2）及び（ｂ）［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＣｌ3を用いた２種の個別の方法で鉄触媒の活性を試験した。両方の場合とも活性と選択性は同様であり、ＦｅＣｌ3及びＦｅＯ（ＮＴｆ2）を過剰の［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かすと、触媒前駆物質になる可能性があることを示す。
【実施例１５】
【００５１】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるトルエンのメタンスルホニルクロリドとの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコに亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．１３ｇ，２．５ｍｏｌ％）を加えた。トルエン（１．３８ｇ，１５ｍｍｏｌ）とメタンスルホニルクロリド（１．１４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全メタンスルホニルクロリドは反応し、（２−，３−及び４−メチルフェニル）メチルスルホンの３種の異性体が形成された（収率＝９９％、ｏ−、ｍ−及びｐ−異性体の異性体比＝３５：１８：４７）。生成物をシクロヘキサン（２０ｃｍ3）に溶かして触媒から抽出後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。触媒をシクロヘキサン（２ｘ２０ｃｍ3）で洗浄し、シクロヘキサン抽出液を合わせてロータリーエバポレーターで濃縮した。生成物を１００〜１１０℃でクーゲルロール蒸留すると、無色油状物１．６２ｇが得られた（単離収率９６％）。
【実施例１６】
【００５２】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるベンゼンとベンゼンスルホニルクロリドの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコで亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。ベンゼン（１．５６ｇ，２０ｍｍｏｌ）とベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全ベンゼンスルホニルクロリドは反応し、ジフェニルスルホンが形成された（収率＝９９％）。生成物を沸騰シクロヘキサン（５ｘ３０ｃｍ3）に溶かして触媒とイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却するとジフェニルスルホンが結晶したので濾取した（２．０３ｇ，単離収率９３％）。Ｚｎ（ＮＴｆ2）2触媒を使用してベンゼンとベンゼンスルホニルクロリドを反応させると、予想されたジフェニルスルホンが９９％収率で得られた（１８時間還流）。ジフェニルスルホンを沸騰シクロヘキサンで抽出すると、イオン液体及び触媒を再使用することができた。
【実施例１７】
【００５３】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドによるｍ−キシレンとベンゼンスルホニルクロリドの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコで亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かし、ｍ−キシレン（２．１２ｇ，２０ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。全てのベンゼンスルホニルクロリドが反応し、主に２，４−ジメチルジフェニルスルホンが形成された（収率＝９９％，異性体比２０：１｛ＮＭＲによる｝）。主生成物は以下に示す通りであり、副異性体の構造は不明であるが、２，６−ジメチル異性体であると考えられる。
【００５４】
【化２】
生成物を沸騰シクロヘキサン（５ｘ３０ｃｍ3）に溶かして触媒及びイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却すると２，４−ジメチルジフェニルスルホンが結晶したので濾取した。
【実施例１８】
【００５６】
金属ビストリフルイミド触媒によるクロロベンゼンのベンゼンスルホニルクロリドとの反応
３つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでマグネシウム（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０５８ｇ，０．１ｍｏｌ）、アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．８７ｇ，０．１ｍｍｏｌ）又はコバルト（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５ｇ）に溶かした。クロロベンゼン（１．６８ｇ，１５ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルホニルクロリド（１．７６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１４４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析によりモニターした。経時収率を図３に示す。生成物を沸騰シクロヘキサン（４ｘ１０ｃｍ3）に溶かして触媒とイオン液体から抽出した後、シクロヘキサン抽出液をデカントした。冷却すると２−及び４−クロロジフェニルスルホン（ｐ−：ｏ−異性体比が９：１）が結晶したので濾取した。選択性はｐ−異性体に対して９：１であり、いずれの場合もｏ−異性体が副異性体であった。図らずも、塩化ベンゾイルとクロロベンゼンの反応でも同一選択性と同等の反応速度が得られた。フェニル−４−クロロフェニルスルホンは殺虫剤である。１ｍｏｌ％触媒を使用した場合には反応は遅いことがわかったが、５ｍｏｌ％触媒を使用すると満足のいく反応速度が得られた。選択した金属塩はイオン液体［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中アルミニウム（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）及びマグネシウム（ＩＩ）ビストリフルイミドであった。３種の触媒は全てこの反応に有効であることが判明した。反応を以下に示す。
【００５７】
【化３】
【００５８】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドによるベンゼンとオクト−１−エンの反応
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。ベンゼン（３．９０ｇ，５０ｍｍｏｌ）とオクト−１−エン（１．１２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。オクト−１−エンピークは消滅し、オクチルベンゼンの３種の異性体（７０％，２−：３−：４−異性体比が２０：２６：５４）及びオクテン二量体（３０％）が形成された。より濃度が低い生成物相をイオン／触媒相からデカントし、クーゲルロール蒸留により精製した。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンとオクト−１−エンの後続の反応に使用したが、活性は低下しなかった。これは、アルケンによるベンゼンのアルキル化に金属ビストリフルイミド触媒を使用した例である。ベンゼン及びオクト−１−エンは［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドの存在下で反応し、３種のオクチルベンゼン異性体と少量のヘキサデセンを形成する（異性体分布は不明）。これを以下に示す。
【００５９】
【化４】
反応の結果、収率７０％（ＧＣによる）で３種のオクチルベンゼンが得られた。異性体比は０．７５：１．００：２．０３であり、４−フェニルオクテンが主生成物であり、２−フェニルオクテンが副生成物であった。反応中にオクト−１−エンが多数のオクテン異性体に異性化することが観察され、この異性化プロセスの速度はアルキル化反応よりもかなり速かった。２回目の試験でもイオン液体／触媒混合物は活性であることが判明した。反応の副生成物がオクテン二量体であることを確認するために、ベンゼンの不存在下で同一反応を実施した（下式参照）。
【００６１】
【化５】
反応はまず、オクテンから４種のオクテン異性体への異性化が進行した。１８時間後に反応はほぼ完了した（＞９５％転化率）。生成物は多数の二量化オクテンと三量化オクテンの異性体であった。６日間反応させると、二量体と三量体のＧＣピークのクラスターがブロード化することが認められ、更に異性化が生じていると予想された。
【実施例２０】
【００６３】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドによるオクト−１−エンの二量化
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミド（０．０６２ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］（０．５ｇ）に溶かした。オクト−１−エン（１．１２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に１８時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。オクト−１−エンピークは消滅し、３種のオクテン異性体（オクト−２−エン，オクト−３−エン及びオクト−４−エン）が形成された。水素ビストリフルイミド（０．００２８ｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、混合物を更に１８時間加熱した。ガスクロマトグラフィー分析によると、反応はほぼ完了し（＞９９％）、ヘキサデセン及びテトラコセン（オクテンの三量体）の異性体混合物が得られた。より濃度が低い生成物相をイオン／触媒相からデカントし、１ｍｍＨｇでクーゲルロール蒸留により精製した。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をオクト−１−エンの後続の二量化反応に使用したが、活性は低下しなかった。
【実施例２１】
【００６４】
水素及び金属ビストリフルイミド化合物による４−メチルフェノキシベンゾエートのフリース転位
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでイッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１ｇ）及び水素ビストリフルイミド（０．０１ｇ）を［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎＨ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（１．０ｇ）に溶かした。４−メチルフェノキシベンゾエート（１．０ｇ）を加えた。混合物を還流下に６０℃で２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。反応生成物は２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノンであった（９０％収率）。４−メチルフェノキシベンゾエートから２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノンへの異性化を以下に示す。
【００６５】
【化６】
【００６６】
金属ビストリフルイミド化合物によるｏ−キシレン、ｍ−キシレン、メシチレン及びトルエンのシクロヘキセンとの反応
４個の別個の反応容器において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた丸底フラスコでイッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド（０．１ｇ）を［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎＨ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に溶かした。ｏ−キシレン（１．０６ｇ，１０ｍｍｏｌ）、ｍ−キシレン（１．０６ｇ，１０ｍｍｏｌ）、メシチレン（１．２０ｇ，１０ｍｍｏｌ）又はトルエン（０．９２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を別々のフラスコに加えた後、シクロヘキセン（０．８２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を８０℃で１２時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。シクロヘキセンピークは消滅し、芳香族化合物のアルキル化に由来するピークとシクロヘキセンの二量化反応に由来するピークとが形成された（実施例２６参照）。イオン液体及び触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンとシクロヘキセンとの後続反応に使用したが、活性は低下しなかった。
【実施例２３】
【００６７】
金属ビストリフルイミド、トリフラート及び水素ビストリフルイミドによるベンゼンのドデク−１−エンとの反応
１０個の別個の反応容器（撹拌機と冷却器を取付けたマルチセルガラス反応器）で、金属トリフルイミド又は金属トリフラート化合物（下表参照）と水素ビストリフルイミド（０．０１ｇ）とを［ｎ−Ｈ29Ｃl4（ｎ−Ｈ13Ｃ6）3Ｐ］［ＮＴｆ2］（２．０ｇ）に加え、金属化合物が溶けるまで撹拌した。ベンゼン（３．８ｇ，５０ｍｍｏｌ）及びドデク−１−エン（０．８４ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を８０℃で２４時間加熱した。過剰のベンゼンを留去した。混合物を室温まで冷却後にＮＭＲにより分析した。イオン液体と触媒を減圧下６０℃に１時間加熱して再使用に備えた。イオン液体及び触媒をベンゼンのドデク−１−エンとの後続反応に使用したが、活性は低下しなかった。結果を下表８に示す。
【００６８】
【表９】
【００６９】
［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした金属化合物によるトルエンの塩化ベンゾイルとの反応
５つの別個の反応において、磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化チタン（ＩＶ）（１ｍｏｌ％）又は塩化スズ（ＩＶ）（１ｍｏｌ％）、塩化タングステン（ＶＩ）、塩化ハフニウム（ＩＶ）、又は塩化パラジウム（ＩＩ）を加え、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を還流下に２４時間加熱し、上記実施例と同様にガスクロマトグラフィー分析により分析した。出発材料からメチルベンゾフェノンへの転化率はパラジウム（ＩＩ）触媒反応（収率７５％）を除いて定量的であった。塩化ベンゾイルのトルエンとの反応における数種の新規金属ビストリフルイミド塩の反応収率の経時変化を図４に示す。これらの反応は平行して実施し、ＧＣ分析により収率を測定した。これらの反応は実施例４５〜５０に更に詳細に説明する。
【００７０】
本発明では、ビストリフルイミドイオン液体に溶かした金属ハロゲン化物をフリーデル・クラフツ反応等の反応に使用することができる。これは、特定の金属ビストリフルイミド塩が製造又は単離しにくい場合に有用である。本発明では、５種の金属ハロゲン化物（塩化物）（反応体に対して１ｍｏｌ％）を［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした。この組合せを使用してトルエンの塩化ベンゾイルとの反応を触媒し、メチルベンゾフェノンを得た。経時収率を図４に示す。選択した全金属から予想通りの生成物が良好な収率で得られたが、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中１ｍｏｌ％塩化スズ（ＩＶ）の組合せが特に有効な触媒であった。イオン液体（通常はビストリフルイミド）に溶かした金属化合物を使用するこの方法は、図３又は４に示した以外の金属（特に遷移金属（ｄブロック又はｆブロック金属））の化合物でも使用することができる。
【実施例２５】
【００７１】
多数の芳香族スルホニル化反応を実施した。これらの反応はフリーデル・クラフツアシル化反応に非常によく似ており、同様の条件下で実施する。主要な違いは−ＳＯ2−Ｘ基を−ＣＯ−Ｘ基（Ｘ＝脱離基）に置換えることである。殆どの場合、選択性、反応性及び収率は対応するアシル化反応と同様であることが判明した。塩化スルフリルのベンゼンとの反応の結果、クロロベンゼン（定量的）及びＳＯ2が形成された。これは分子性溶媒中で実施したＳＯ2Ｃｌ2の芳香族化合物との他の多くの反応と同様である。
【００７２】
【化７】
【００７３】
１０％イッテルビウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド及び微量の水素ビストリフルイミドを加えたホスホニウムイオン液体中で、シクロヘキセンによる各種芳香族化合物のアルキル化を実施した。副反応も起こりシクロヘキセンの二量体（下式参照）が形成され、この結果、フリーデル・クラフツ反応の収率が僅かに低下する。しかし、金属トリフルイミド化合物を二量化及びオリゴマー化反応に使用できることに留意すべきである。
【００７４】
【化８】
上記の反応は、ホスホニウムイオン液体中で８０℃で１２時間実施した各種芳香族のシクロヘキセンとの反応である。シクロヘキセンの二量化を以下に示す。
【００７６】
【化９】
【００７７】
マグネシウムビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで（水素）ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，１．１２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液にマグネシウム（０．０４８ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を１時間撹拌し（水素発生が停止したら完了と判断）、濾過した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、マグネシウムビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色粉末（１．１０ｇ，９５％）が得られた。マグネシウムビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３００℃、１ｍｍＨｇで減圧昇華により精製した。未精製マグネシウムビストリフルイミドは、アニソールと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2と同様であった。Ｍｇ（ＮＴｆ2）2はベンゼンスルホニルクロリドのクロロベンゼンとの反応における良好なスルホン化触媒であることが判明した。
【実施例２８】
【００７８】
アルミニウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液にアルミニウム粉末（０．０３０ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を加えた。これを還流下に０．５時間加熱した。混合物を室温まで冷却し、過剰のアルミニウムを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、アルミニウムビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色粉末（０．８３ｇ，９６％）が得られた。アルミニウムビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３５０℃、１ｍｍＨｇで減圧昇華により精製した（一部は分解した）。未精製アルミニウムビストリフルイミドは、アニソール又はキシレンと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2と同等であった。
【実施例２９】
【００７９】
マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸マンガン（ＩＩ）（０．１８ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止するまで）０．５時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸マンガンを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、ほぼ白色の粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で２８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（この温度と圧力は、この物質の三重点即ち融点＝沸点に非常に近いと思われる）。未精製マンガン（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。
【実施例３０】
【００８０】
ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に水酸化ニッケル（ＩＩ）（０．１５ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（水酸化物がほぼ溶けて緑色溶液となるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の水酸化ニッケルを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、極薄黄色の粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドをクーゲルロール装置で２８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（図６参照）。未精製ニッケル（ＩＩ）ビストリフルイミドはトルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。
【実施例３１】
【００８１】
コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで、ビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸コバルト（ＩＩ）（０．１９ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止してピンク色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸コバルトを濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、薄ピンク色粉末（０．９０ｇ，９７％）が得られた。コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドをクーゲルロール装置で３００℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した。未精製コバルト（ＩＩ）ビストリフルイミドはトルエンと塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。触媒活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも高かった。これは、塩化ベンゾイルによるクロロベンゼンのアシル化を触媒することが判明した数少ないフリーデル・クラフツアシル化触媒の１つでもある。
【実施例３２】
【００８２】
銅（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に炭酸銅（ＩＩ）（０．２０ｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加えた。これを（ＣＯ2の発生が停止して青／緑色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の炭酸銅（ＩＩ）を濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、銅（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、極薄い青／緑色粉末（０．８９ｇ，９５％）が得られた。銅（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で１８０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した（昇華中に部分的に分解が生じ、銅（ＩＩ）ビストリフルイミドの約半量が失われた）。未精製銅（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンと塩化ベンゾイルとの反応のフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した（活性はＺｎ（ＮＴｆ2）2よりも低かった）。銅（ＩＩ）ビストリフルイミドは良好なフリーデル・クラフツアルキル化触媒であることも判明した。
【実施例３３】
【００８３】
亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドの製造
磁気撹拌機を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコでビストリフルイミド（ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2，０．８４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の蒸留水（５ｇ）溶液に亜鉛（０．１３ｇ，２．０ｍｍｏｌ）を加えた。これを（Ｈ2の発生が停止して無色溶液になるまで）１時間撹拌した。混合物から過剰の亜鉛を濾去した。水分をロータリーエバポレーターで蒸発させ、亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドを真空乾燥装置で１５０℃、１ｍｍＨｇで４時間加熱乾燥すると、白色結晶（０．９１ｇ，９７％）が得られた。これらの結晶の１つをＸ線結晶分析し、その構造を図５〜７に示す。亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドを、クーゲルロール装置で２６０℃、１ｍｍＨｇで減圧蒸留／昇華により精製した。未精製亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンと塩化ベンゾイルの反応の良好なフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。これは、塩化ベンゾイルによるクロロベンゼンのアシル化を触媒することが判明した数少ないフリーデル・クラフツアシル化触媒の１つでもある。
【実施例３４】
【００８４】
インジウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
水酸化インジウム（ＩＩＩ）５．０ｇを水５０ｍｌに溶かし、これにＨＮＴｆ2２７．０ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製インジウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはトルエン、アニソール及びキシレンの塩化ベンゾイル又は無水安息香酸の反応との優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例３５】
【００８５】
ガリウム（ＩＩＩ）トリフルイミド
酸化ガリウム（ＩＩＩ）２．５ｇを水５０ｍｌに懸濁し、これにトリフルオロメタンスルホンイミド２４．０ｇを加え、１００℃に２日間加熱した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製ガリウム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドは、トルエン、アニソール及びキシレンの塩化ベンゾイル又は無水安息香酸との反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例３６】
【００８６】
カルシウムビストリフルイミド
炭酸カルシウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（５．６ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製カルシウムビストリフルイミドは、フリーデル・クラフツ反応において乏しい触媒活性を示すことが判明した。
【実施例３７】
【００８７】
ストロンチウム（ＩＩ）ビストリフルイミド
炭酸ストロンチウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（３．８ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製ストロンチウム（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で乏しい触媒活性を示すことが判明したが、カルシウムビストリフルイミドよりは僅かに活性が高かった。
【実施例３８】
【００８８】
バリウムビストリフルイミド
炭酸バリウム（ＩＩ）１．０ｇを水５０ｍＬに懸濁し、これに新たに調製したＨＮＴｆ2（２．８ｇ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、４日間１５０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製バリウム（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応でいくらかの触媒活性を示すことが判明し、カルシウム及びストロンチウムビストリフルイミドよりも活性が高かった。
【実施例３９】
【００８９】
スズ（ＩＩ）ビストリフルイミド製法１
金属スズ（５．０ｇ，純度９９．９％）塊を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（１０ｇ）を加えた。この混合物を還流下で７２時間加熱した。得られた混合物を冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。オフホワイトの結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。未精製スズ（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明した（例えば１％Ｓｎ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルから還流下４８時間後に収率９９％が得られた）。反応性は亜鉛ビストリフルイミドと同様であった。
【実施例４０】
【００９０】
スズ（ＩＩ）ビストリフルイミド製法２
酸化スズ（ＩＩ）（１．０ｇ）粉末を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５．０ｇ）を加えた。この混合物を還流下に４８時間加熱した。生成したスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置するとオフホワイトの沈殿が得られた。オフホワイトの沈殿を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。未精製スズ（ＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明した（例えば１％Ｓｎ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルで還流下６時間後に収率９９％が得られた）。
【実施例４１】
【００９１】
鉛（ＩＩ）ビストリフルイミド
炭酸鉛（ＩＩ）１３．０ｇを水５０ｍＬに取り、これに新たに調製したＨＮＴｆ2２８．０ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、３日間１２０℃で減圧（１ｍｍＨｇ）乾燥した。未精製鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドは、フリーデル・クラフツ反応で良好な触媒活性を示すことが判明した（例えば、１％Ｐｂ（ＮＴｆ2）2＋トルエン＋塩化ベンゾイルで還流下４８時間後に収率９９％が得られた）。触媒活性は亜鉛（ＩＩ）ビストリフルイミドよりも良好であった。
【実施例４２】
【００９２】
クロム（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
金属クロム（１．０ｇ，純度９９．９５％）片を水（２０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５ｇ）を加えた。この混合物を還流下に１４４時間加熱した。生成した混合物を冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、緑色固体が得られた。固体を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。この固体は乾燥工程で発生した大量のＨＮＴｆ2から形成されたオキソクロムビストリフルイミド種ＣｒＯ（ＮＴｆ2）を含んでいると考えられた。未精製クロム（ＩＩＩ）ビストリフルイミドはフリーデル・クラフツ反応で触媒活性を示すことが判明し、Ｚｎ（ＮＴｆ2）2の活性と同等であった。
【実施例４３】
【００９３】
タングステンビストリフルイミド
金属タングステン（１．０ｇ，純度９９％）フィリングを水（２０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（５ｇ）を加えた。この混合物を還流下で１４４時間加熱した。得られたスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、無色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して、残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。触媒の厳密な構造は不明であるが、塩化ベンゾイルのトルエンとの反応で試験した単離金属ビストリフルイミド触媒全てのうちで最も優れていることが判明した。
【実施例４４】
【００９４】
鉄（ＩＩ）ビストリフルイミド
金属鉄（５．０ｇ，純度９９．９５％）塊を水（５０ｍＬ）に懸濁し、水素ビストリフルイミド（ＨＮＴｆ2）（１０ｇ）を加えた。この混合物を還流下で７２時間加熱した。生成したスラリーを冷却し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮すると、薄黄色溶液が得られ、放置すると結晶が生じた。薄黄色結晶を１５０℃、１ｍｍＨｇで加熱して残留水及び水素ビストリフルイミドを除去した。
【実施例４５】
【００９５】
鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミド
本化合物は（Ｆｅ（ＮＴｆ2）2（ＯＨ）（ＯＨ2）であると考えられる）クリーム色結晶又は（ＦｅＯ（ＮＴｆ2）であると考えられる）茶色固体の２形態で単離することができる。茶色い沈殿が形成されるまで、硝酸鉄（ＩＩＩ）（１０ｇ）の水溶液に水酸化ナトリウム溶液（１Ｍ）を加えた。水和水酸化鉄（ＩＩＩ）の沈殿を減圧濾取し、水洗した。沈殿（約５ｇ）を蒸留水に懸濁し、過剰の水素ビストリフルイミド（２０ｇ）を加えた。沈殿はゆっくりと溶けて透明な薄茶色溶液となった。この溶液を濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、クーゲルロール蒸留装置に移した。未反応水素ビストリフルイミドを１００℃、１ｍｍＨｇで留去すると、水和鉄（ＩＩＩ）ビストリフルイミドのクリーム色結晶固体が残った。１７０℃、１ｍｍＨｇで４時間更に加熱すると、水素ビストリフルイミドが発生し、茶色固体が形成された（ＦｅＯ（ＮＴｆ2））。これらの固体はどちらも、濃度１ｍｏｌ％でトルエンの塩化ベンゾイルとの反応の優れたフリーデル・クラフツ触媒であることが判明した。
【実施例４６】
【００９６】
パラジウム（ＩＩ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化パラジウム（ＩＩ）（０．０３５ｇ）を加えた。塩化パラジウム（ＩＩ）が溶けて黄色／オレンジ色透明溶液になるまで、これを撹拌下に穏やかに加熱した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【００９７】
塩化パラジウム（ＩＩ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性を、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）の塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率７５％及びｐ−：ｏ−比が４．５：１）。
【実施例４７】
【００９８】
タングステン（ＶＩ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化タングステン（ＶＩ）（０．０７９ｇ）を加えた。塩化タングステン（ＶＩ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌下に穏やかに加熱した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【００９９】
塩化タングステン（ＶＩ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下で２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−：ｏ−比４．１：１）。
【実施例４８】
【０１００】
スズ（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化スズ（ＩＶ）（０．０５２ｇ）を加えた。塩化スズ（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０１】
塩化スズ（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］の組合せの触媒活性を、トルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）の塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）との反応で試験した。混合物を還流下で２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．２：１）。
【実施例４９】
【０１０２】
チタン（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化チタン（ＩＶ）（０．０３８ｇ）を加えた。塩化チタン（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０３】
塩化チタン（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）の反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．５：１）。
【実施例５０】
【０１０４】
ハフニウム（ＩＶ）及びビストリフルイミドイオンをベースとする金属ビストリフルイミド化合物のｉｎ ｓｉｔｕ製造
磁気撹拌機及び還流冷却器を取付けた２５ｃｍ3丸底フラスコで１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］）（２．０ｇ）に塩化ハフニウム（ＩＶ）（０．０６４ｇ）を加えた。塩化ハフニウム（ＩＶ）が溶けて透明溶液になるまでこれを撹拌した。その後、この溶液をフリーデル・クラフツアシル化触媒として使用した。
【０１０５】
塩化ハフニウム（ＩＶ）／［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］組合せの触媒活性をトルエン（２．８１ｇ，３０ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（２．８４ｇ，２０ｍｍｏｌ）の反応で試験した。混合物を還流下に２４時間加熱し、ガスクロマトグラフィー分析により分析した。この結果、メチルベンゾフェノンが得られた（収率９９％及びｐ−対ｏ−比４．４２：１）。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】図１は、金属ビストリフルイミドに触媒される塩化ベンゾイルのトルエンとの反応の収率の経時変化を示す。
【図２】図２は、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］中の１％ＦｅＣｌ3及び１％Ｆｅ（ＩＩＩ）ビストリフルイミドに触媒される塩化ベンゾイルのトルエンとの反応収率の経時変化を示す。
【図３】図３は、フェニル−４−クロロフェニルスルホンの合成における収率の経時変化を示す。
【図４】トルエンと塩化ベンゾイルとを１１０℃で反応させてメチルベンゾフェノンを得るため、［ｂｍｉｍ］［ＮＴｆ2］に溶かした金属塩化物１モル％に触媒される５種の反応について、収率の経時変化を示す。
【図５】図５はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
【図６】図６はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
【図７】図７はＺｎ（ＮＴｆ2）2の構造を示す。
Claims (13)
- 式：［Ｍx］n+［（Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2）(nx-yz)］(nx-yz)-［Ｌy］z-
(式中、Ｍは５〜１０族金属、１２族金属、１４〜１６族金属、Ｃｕ、Ａｕ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｈｆ、Ｒｆ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｌｕ及びアクチノイドから選択される金属であり、
Ｌは負又は中性配位子であり、
ｎは２、３、４、５、６、７又は８であり、
ｘは１以上であり、
ｙは０、１、２、３、４、５、６、７又は８であり、
ｚは０、１、２、３又は４である）
の金属ビストリフルイミド化合物。 - Ｍが周期表の７、８、９、１０、１２及び１４族金属から選択される請求項１に記載の化合物。
- ＭがＭｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＰｂから選択される請求項１に記載の化合物。
- ＭがＭｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）及びＩｎ（ＩＩ）から選択される請求項３に記載の化合物。
- 請求項１から４のいずれかに記載の化合物を触媒とする、芳香族環の求電子置換反応、異性化、重合、又は、化合物もしくは分子への転位を実施する方法。
- 請求項１から４のいずれかに記載の金属ビストリフルイミド化合物を使用する、固体表面への金属蒸着方法。
- 請求項１から４のいずれかに記載の金属ビストリフルイミド化合物を昇華により精製する方法。
- （ａ）水素ビストリフルイミドと金属を反応させる工程、
（ｂ）水素ビストリフルイミドと金属水酸化物を反応させる工程、
（ｃ）水素ビストリフルイミドと金属硫化物を反応させる工程、又は
（ｄ）水素ビストリフルイミドと金属炭化物を反応させる工程
を含む、金属ビストリフルイミド化合物の製造方法。 - ビストリフルイミドイオン液体といったビストリフルイミドイオン源に金属化合物を加える工程を含む、金属ビストリフルイミド触媒の製造方法。
- 金属化合物が金属ハロゲン化物である請求項９に記載の方法。
- ビストリフルイミドイオン源が、ビストリフルオロメタンスルホンイミド又はビスペンタフルオロエタンスルホンイミドをアニオンとして有するイオン液体である、請求項９又は１０に記載の方法。
- 金属ビストリフルイミドを昇華により回収する請求項９から１１のいずれかに記載の方法。
- 請求項９から１２のいずれかに記載の方法により得られるビストリフルイミド触媒。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB0106001A GB0106001D0 (en) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | Preparation of metal triflimide salts |
| GBGB0106000.3A GB0106000D0 (en) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | Use of metal triflimide catalysts for the catalysis of chemical reactions |
| PCT/GB2002/000989 WO2002072260A2 (en) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | Metal bis-triflimide compounds, their synthesis and their uses |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004531492A true JP2004531492A (ja) | 2004-10-14 |
Family
ID=26245810
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002571437A Expired - Fee Related JP4365584B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | ビス−トリフルイミド化合物に触媒される方法 |
| JP2002571212A Pending JP2004531492A (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | 金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002571437A Expired - Fee Related JP4365584B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | ビス−トリフルイミド化合物に触媒される方法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7781625B2 (ja) |
| EP (3) | EP1370508A2 (ja) |
| JP (2) | JP4365584B2 (ja) |
| KR (1) | KR20030093236A (ja) |
| CN (1) | CN1328254C (ja) |
| AT (1) | ATE370786T1 (ja) |
| AU (2) | AU2002238707A1 (ja) |
| BR (1) | BR0208094A (ja) |
| CA (2) | CA2440942A1 (ja) |
| DE (1) | DE60221991T2 (ja) |
| ES (1) | ES2292722T3 (ja) |
| PT (1) | PT1414568E (ja) |
| WO (2) | WO2002072519A2 (ja) |
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-
2002
- 2002-03-12 EP EP02704905A patent/EP1370508A2/en not_active Withdrawn
- 2002-03-12 CA CA002440942A patent/CA2440942A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-12 JP JP2002571437A patent/JP4365584B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-12 JP JP2002571212A patent/JP2004531492A/ja active Pending
- 2002-03-12 AU AU2002238707A patent/AU2002238707A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-12 DE DE60221991T patent/DE60221991T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-12 EP EP02706922A patent/EP1414568B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-12 BR BR0208094-0A patent/BR0208094A/pt not_active Application Discontinuation
- 2002-03-12 ES ES02706922T patent/ES2292722T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-12 US US10/471,259 patent/US7781625B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-12 EP EP07010851A patent/EP1857432A3/en not_active Withdrawn
- 2002-03-12 US US10/471,257 patent/US6998497B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-12 AT AT02706922T patent/ATE370786T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-03-12 WO PCT/GB2002/000988 patent/WO2002072519A2/en active Application Filing
- 2002-03-12 KR KR10-2003-7011956A patent/KR20030093236A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-03-12 PT PT02706922T patent/PT1414568E/pt unknown
- 2002-03-12 CA CA002440937A patent/CA2440937A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-12 WO PCT/GB2002/000989 patent/WO2002072260A2/en active IP Right Grant
- 2002-03-12 CN CNB028094212A patent/CN1328254C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-12 AU AU2002241085A patent/AU2002241085B2/en not_active Ceased
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1414568B1 (en) | 2007-08-22 |
| ES2292722T3 (es) | 2008-03-16 |
| AU2002241085B2 (en) | 2007-03-29 |
| US7781625B2 (en) | 2010-08-24 |
| ATE370786T1 (de) | 2007-09-15 |
| CA2440942A1 (en) | 2002-09-19 |
| KR20030093236A (ko) | 2003-12-06 |
| US6998497B2 (en) | 2006-02-14 |
| WO2002072519A3 (en) | 2002-11-21 |
| JP4365584B2 (ja) | 2009-11-18 |
| EP1414568A2 (en) | 2004-05-06 |
| DE60221991D1 (de) | 2007-10-04 |
| DE60221991T2 (de) | 2008-05-15 |
| BR0208094A (pt) | 2004-03-02 |
| WO2002072260A3 (en) | 2004-02-26 |
| CN1507371A (zh) | 2004-06-23 |
| US20040171895A1 (en) | 2004-09-02 |
| EP1857432A2 (en) | 2007-11-21 |
| JP2004528306A (ja) | 2004-09-16 |
| EP1370508A2 (en) | 2003-12-17 |
| CN1328254C (zh) | 2007-07-25 |
| PT1414568E (pt) | 2007-12-04 |
| CA2440937A1 (en) | 2002-09-19 |
| EP1857432A3 (en) | 2008-05-14 |
| US20040138433A1 (en) | 2004-07-15 |
| WO2002072260A2 (en) | 2002-09-19 |
| WO2002072519A2 (en) | 2002-09-19 |
| AU2002238707A1 (en) | 2002-09-24 |
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| JPH0476987B2 (ja) |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
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