JP2004511885A5 - - Google Patents

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Claims (43)

  1. 1019原子/cm以上の窒素を有する電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドからなる表面を有する電極。
  2. 上記超ナノ結晶体ダイヤモンドがフィルムである請求項1記載の電極。
  3. 上記超ナノ結晶体ダイヤモンドは、0.2から2.0nm幅の結晶粒界と1(Ωcm)−1以上の周囲温度における伝導性を有する請求項1記載の電極。
  4. 周囲温度における伝導性が10(Ωcm)−1以上である請求項1記載の電極。
  5. 上記フィルムは、2000Å以上の厚さを有し、かつ実質的にピンホールがない請求項1記載の電極。
  6. 上記炭素の供給源が、CHまたはその前駆体、Cまたはその前駆体、C60化合物のうちの1又は2以上である請求項1記載の電極。
  7. 上記炭素が、原料ガス中に体積比で20%以下含まれている請求項6記載の電極。
  8. 原料ガス中における炭素の原子パーセントが約1%であり、その炭素の体積パーセントが20%以下であり、希ガスと平衡状態にある請求項7記載の電極。
  9. 15nmまたはそれ以下の平均結晶粒径を有しかつ1019原子/cm以上の窒素を有し、カーボン源と窒素源を供給し、超ナノ結晶体物質を形成するためのプラズマを発生させるためにそのカーボン源と窒素を希ガス中でエネルギー源に曝して蒸発させることによって作製された電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドからなる表面を有する電極であって、上記原料ガスには2%以下の炭素が含まれている電極。
  10. 上記超ナノ結晶体ダイヤモンドは2000Å以上の厚さを有するフィルムである請求項1記載の電極。
  11. 有毒な物質を有する水溶液を矯正する方法であって、有毒な物質を有する水溶液を、少なくとも一方が1019原子/cm以上の窒素を有し、0.1(Ωcm)−1以上の周囲温度における伝導性を有する電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドからなる表面を有する2つの電極間の電気ポテンシャルに曝すことを含む方法。
  12. 1019原子/cm以上の窒素を有し、0.1(Ωcm)−1以上の周囲温度における伝導性を有する電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンド電極を用いて、神経を横切って電気ポテンシャルを印加することを含む神経を刺激する方法。
  13. 1019原子/cm以上の窒素を有し、0.1(Ωcm)−1以上の周囲温度における伝導性を有する電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドを含む電子放射デバイス。
  14. 上記デバイスは、フラットディスプレイパネル、質量分析又は電子顕微鏡のような電子装置、x線装置、半導体型センサー又はアクチエーター装置における反動推進エンジン又はセンサーにおける1又は2以上の冷陰極である請求項13の電子放射デバイス。
  15. アノードとカソードと電解質型水溶液とを有しており、そのアノードとカソードのうちの少なくとも1つは1019原子/cm以上の窒素を有し、0.1(Ωcm)−1以上の周囲温度における伝導性を有する電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドからなる表面を有する電気化学セル。
  16. 1019原子/cm以上の窒素を含み、周囲温度において0.1(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  17. 前記超ナノ結晶体ダイヤモンドがフィルムである請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  18. 0.2〜2.0nmの範囲の結晶粒界を有する請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  19. 平均結晶粒径が3〜15nmの範囲内にある請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  20. 周囲温度において略1(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  21. 周囲温度において略10(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  22. 周囲温度において略100(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項16記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  23. 15nmまたはそれ以下の平均結晶粒径を有しかつ1019原子/cm以上の窒素を有し、カーボン源と窒素源を供給し、超ナノ結晶体物質を形成するためのプラズマを発生させるためにそのカーボン源と窒素を希ガス中でエネルギー源に曝して蒸発させることによって作製された電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドからなる表面を有する電極であって、その原料ガスには2%以下の炭素が含まれている電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  24. 上記体積プロセスにおいて350℃以上の温度に維持された基板上に成長されたフィルム状のダイヤモンドである請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  25. 炭素源が、CH又はその前駆体、C又はその前駆体及びC60化合物の1又は2以上である請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  26. 前記原料ガス中に窒素が20体積%以上含まれている請求項25記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  27. 原料ガス中の炭素の原子%が略1%であり、前記原料ガス中に窒素が20体積%以上含まれている請求項26記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  28. 前記超ナノ結晶体ダイヤモンドは、100Torr以上のトータル圧力下において350℃〜800℃に維持された基板上に成長されたフィルムからなる請求項26記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  29. 前記基板は、金属又は非金属からなる請求項28記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  30. 前記基板は、シリコン又はシリコン酸化物からなる請求項28記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  31. 周囲温度において0.1(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  32. 周囲温度において1(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  33. 周囲温度において10(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  34. 周囲温度において100(Ω・cm)−1以上の電気伝導性を有する請求項23記載の電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンド。
  35. ガス及び希ガスを含む窒素及び炭素の混合ガスをエネルギー源に曝して、窒素組入れ超ナノ結晶体ダイヤモンドフィルムを堆積させることからなる電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンドフィルムを製造する方法であって、上記原料ガス中の炭素の原子パーセントは約2%未満であり、窒素は約2体積%から約25体積%の範囲で存在し、総量で約1019原子/cm以上の窒素が存在する超ナノ結晶体ダイヤモンドフィルムを製造する方法。
  36. 上記炭素源がCHまたはその前駆体、Cまたはその前駆体及びC60化合物のうちの1以上である請求項35記載の方法。
  37. 上記原料ガス中の炭素の原子パーセントが約1%であり、窒素は総量で約20体積パーセント以下が存在し、アルゴンと平衡状態である請求項36記載の方法。
  38. 上記電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドが、約800℃、約100トールの全圧及び800ワットのマイクロ波パワーで維持されたSiまたはSiO基板上に成長されたフィルムである請求項27記載の方法。
  39. 上記電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドが、周囲温度で約0.1(Ωcm)−1以上の伝導性を有する請求項35記載の方法。
  40. 上記電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドが、周囲温度で約1(Ωcm)−1以上の伝導性を有する請求項35記載の方法。
  41. 上記電気伝導性の超ナノ結晶体ダイヤモンドが、周囲温度で約10(Ωcm)−1以上の伝導性を有する請求項35記載の方法。
  42. 上記電気伝導性の超ナノ結晶性ダイアモンドが、周囲温度で約100(Ωcm)−1以上の伝導性を有する請求項35記載の方法。
  43. ガス及び希ガスを含む窒素及び炭素の混合ガスをエネルギー源に曝して、窒素組入れ超ナノ結晶体ダイヤモンドフィルムを堆積させることからなる既定の伝導性を有する電気伝導性超ナノ結晶体ダイヤモンドフィルムを製造する方法であって、上記原料ガス中の炭素の原子パーセントは約2%未満であり、窒素は約2体積%から約25体積%の範囲の予め選択した濃度で存在し、約0.01以上の既定の伝導性を有する総量で約1019原子/cm以上の窒素が存在する超ナノ結晶体ダイヤモンド材料を製造する方法。
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