JP2004362818A - Manufacturing method of thin film pattern, manufacturing method of organic electroluminescent element, manufacturing method of color filter, manufacturing method of plasma display panel, manufacturing method of liquid crystal display panel, and electronic apparatus - Google Patents

Manufacturing method of thin film pattern, manufacturing method of organic electroluminescent element, manufacturing method of color filter, manufacturing method of plasma display panel, manufacturing method of liquid crystal display panel, and electronic apparatus Download PDF

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寛文 酒井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a thin-film pattern capable of alleviating occurrence of string unevenness or dispersing the same on the thin-film pattern in forming it with the use of a droplet discharging system, a manufacturing method of the organic electroluminescent element, a manufacturing method of a color filter, a manufacturing method of a plasma display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display panel, and an electronic apparatus. <P>SOLUTION: The method comprises a first discharging process of regulating a line with an arrow mark 21 to be a first hypothetical scanning line for regulating a movement position of an ink-jet nozzle of a droplet discharging device against a base plate 10 to be an object for forming a thin-film pattern, and discharging droplets by moving the ink-jet nozzle along the line with the arrow mark 21, and a second discharging process of regulating a line with an arrow mark 22 to be a second hypothetical scanning line crossing at almost right angles with the line with the arrow mark 21 and discharging droplets by moving the ink-jet nozzle along the line with the arrow mark 22. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、有機電界発光素子を用いた表示パネルが考え出されている。有機電界発光素子の基本構成は、蛍光性有機分子を含む固体薄膜(発光層)を2枚電極(陰極と陽極)で挟んだものである。その電極に電圧を印加すると、陽極から正孔が陰極から電子が発光層に注入され、その発光層から蛍光が放出される。
【0003】
ところで、発光層のみからなる単層型構造素子では発光効率が低く、耐久性に問題があるため、陽極と発光層間に密着性の良い正孔注入層(正孔注入輸送層)を設けた二層構造型素子が提案されている。この積層構造を採用することで、キャリアの注入/輸送バランスおよびキャリアの再結合部位の制御により、有機電界発光素子の発光効率及び耐久性を向上させることができる。また、この積層構造によれば、発光、注入/輸送といった機能を別々の材料に分担させることができるため、材料及び素子の最適設計が可能になるという利点がある。
【0004】
従来、有機電界発光素子の正孔注入輸送層化合物としては、ポルフィリン化合物、アニリンやピリジンおよびそれらの誘導体低分子、あるいはカーボン層用いた正孔注入輸送層などが提案されている。これらの低分子系材料を用いた正孔注入輸送層形成には、真空蒸着やスパッタによる成膜法が一般的である。高分子材料としてはポリアニリンなどが知られ、スピンコートなどの湿式法で成膜される。
【0005】
ところで、真空蒸着やスパッタによる成膜法はバッチ処理であり長時間を有するため量産効率が悪い。また低分子材料の場合には成膜後結晶化しやすく、素子の信頼性が低下するといった課題を有する。一方、高分子材料の場合は分子設計上の自由度が高く、湿式のため材料の最適化がしやすいという利点を有するが、スピンコートなどの成膜法は材料の殆どを浪費するという大きな問題がある。
【0006】
さらに、フルカラーディスプレイなど材料の微細パターンニングが必要とされる場合、蒸着法では高精度のパターニングが困難であり、またフォトリソグラフィーによるパターニング工程では材料に耐性がないという問題がある。これは高分子材料においても同様な問題である。また、正孔注入層あるいはバッファ層として用いられる材料は導電性を有するものであるから完全なパターニングが実現できなければ同一基板上に設けられた隣の画素間での漏電を引き起こす原因となる。
【0007】
一方、上記問題点を解決するため、すなわち材料や素子設計の最適化を行うことができ、かつ簡便、短時間及び低コストで精度の高いパターニング成膜を行うために、液滴吐出方式を用いた正孔注入層及び発光層などの製造方法が考え出されている。その液滴吐出方式を用いた製造方法は、インクジェットノズルから正孔注入層の成分と溶媒からなる液滴を所望領域に吐出して薄膜パターンを形成するものである(例えば、特許文献1参照)。
【0008】
【特許文献1】
特開2000−106278号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の液滴吐出方式を用いた薄膜パターンの製造方法では、基板に対して仮想的な走査ラインを平行に複数設定し、その走査線に沿ってインクジェットノズルを移動させながら液滴を順次吐出していた。このようにして、液滴を吐出して薄膜パターンを形成すると、その薄膜パターンには走査線と平行な方向に筋形状のムラ(スジムラ)が生じてしまう。
【0010】
このスジムラが発生する原因は、液滴吐出装置のノズルヘッドには複数のインクジェットノズルが備えられておりインクジェットノズル毎に吐出量が若干異なることにあると考えられる。また、平行に複数設定された走査線に沿って液滴を吐出していくので、各インクジェットノズルに吐出量が殆ど同一であっても、隣り合う走査線の中間部分の膜厚が薄くなりことによりスジムラが発生すると考えられる。
【0011】
このようなスジムラが発生すると、薄膜パターンの膜厚が不均一となっているので、その薄膜パターンを例えば画素をなす正孔注入層、発光層又はカラーフィルタとして用いると筋状の発光むらが生じてしまう。
【0012】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出方式を用いて薄膜パターンを形成したときに、その薄膜パターンにスジムラが生じることを低減することができる又はそのスジムラを分散させることができる薄膜パターンの製造方法、有機電界発光素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の薄膜パターンの製造方法は、薄膜パターンの形成対象となる基板に対して、液滴吐出装置のノズルヘッドの移動位置を規定する仮想的な第1走査線を規定し、該ノズルヘッドを該第1走査線に沿って移動させて液滴を吐出する第1方向吐出処理と、前記第1走査線に対して略直角に交わる仮想的な第2走査線を規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査線に沿って移動させて液滴を吐出する第2方向吐出処理とを有することを特徴とする。本発明によれば、第1方向吐出処理において第1走査線にそってノズルヘッドを移動させて液滴の吐出を行い、第2方向吐出処理においては第1走査線に対して略90度の角度で交わる第2走査線にそってノズルヘッドを移動させて液滴の吐出を行う。換言すれば、ある一定方向にノズルヘッドを走査させて液滴の吐出を行い、その後、その方向に対して略90度異なる方向にノズルヘッドを走査させて液滴の吐出を行う。このようにすると、形成しようとする薄膜パターン領域には、互いに直交する2つの走査線に沿って移動するノズルヘッドのノズルから液滴が吐出されるので、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができる。
「スジムラ」が発生するのは、走査毎にノズルからの吐出量などに差が生じること、すなわち走査毎に吐出状態が異なることが主要原因である。そこで、本発明によれば、互いに方向が略90度異なる2つの走査方向を用いて液滴を吐出するので、各走査線間の吐出状態の差が分散されて吐出状態を均一化することができるので、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができ、膜厚などを均一化することができる。したがって、本発明の液状体材料の塗布方法を用いて画素などを形成することで、発光ムラなどを低減するこができる。
【0014】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、前記薄膜パターン形成領域毎に、前記第1方向吐出処理及び前記第2方向吐出処理が行われることが好ましい。
本発明によれば、複数の薄膜パターン形成領域それぞれに第1方向吐出処理及び第2方向吐出処理が行われるので、各薄膜パターン形成領域内における液滴の吐出量などの差を分散でき、また薄膜パターン形成領域同士間における液滴の吐出量などの差も分散することができる。そこで、本発明によれば、各薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減でき、複数の薄膜パターンを全体的に見た場合にも「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0015】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、該複数の薄膜パターン形成領域は、前記第1方向吐出処理が行われる領域と、前記第2方向吐出処理が行われる領域とを少なくとも有することが好ましい。
本発明によれば、基板上には第1方向吐出処理が行われる領域と第2方向吐出処理が行われる領域とがあるので、例えば第1方向吐出処理が行われる領域と第2方向吐出処理とを混在させることにより、その基板全体を見た場合に、各液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0016】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板の全体について前記第1方向吐出処理を行い、その後、該基板の全体について前記第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、基板全体について、液滴吐出量などの液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。また本発明によれば、走査毎に第1方向吐出処理と第2方向吐出処理とを交互に繰り返す方法よりも、ノズルヘッドの総合的な移動距離を低減することができ、均一な膜厚の薄膜パターンを高速に形成することができる。
【0017】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、1本の前記第1走査線及び第2走査線毎に、前記第1方向吐出処理と前記第2方向吐出処理とを交互に繰り返すことが好ましい。
本発明によれば、例えば第1方向吐出処理で形成したドット薄膜が乾燥する前に、そのドット薄膜の一部又は全部に重なるように第2方向吐出処理による新たなドット薄膜を形成することができる。これにより、薄膜パターンの膜厚などをさらに均一化させることができ、「スジムラ」が生じることをさらに低減することができる。
【0018】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記基板が同一材料からなる前記液滴を1つの薄膜パターン形成領域に複数回吐出して1つの薄膜パターンを形成する領域を有し、該複数回吐出において、少なくとも1回は前記第1方向吐出処理を行うとともに、少なくとも1回は前記第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、ある薄膜パターン形成領域に同じ材料を複数回吐出して薄膜パターンを形成する場合に、その領域に対して第1方向吐出処理と第2方向吐出処理とを行う。これにより、薄膜パターン形成領域に対する同じ材料による複数回の液滴吐出において、各吐出状態の差が分散されるので、同じ材料からなる薄膜の厚みなどが均一な薄膜パターンを形成することができ、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0019】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液滴吐出装置のノズルヘッドが液滴を吐出する複数のノズルを備えており、前記第1方向吐出処理を行う前記ノズルと前記第2方向吐出処理を行う前記ノズルとは、別のものとすることが好ましい。
本発明によれば、第1方向吐出処理で使用するノズルと第2方向吐出処理で使用するノズルとを別のものとするので、各ノズル間で吐出量などの差があってもその吐出量の差を分散させることができる。そこで、本発明によれば、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0020】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記液滴吐出装置のノズルヘッドが液滴を吐出する複数のノズルを備えており、前記第1方向吐出処理及び前記第2方法吐出処理の少なくとも一方は、1つの薄膜パターン形成領域に対して、複数の前記ノズルにて同時又は逐次的に液滴を塗布する処理を有することが好ましい。
本発明によれば、1つの薄膜パターン形成領域(例えば画素など)に対して複数のノズルで略同時に液滴を吐出することができるので、高速に薄膜パターンを形成でき、かつ、ノズル間の吐出量などの差を分散することができる。そこで、本発明によれば、「スジムラ」が少ない薄膜パターンを高速に形成することができる。
【0021】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第1方向吐出処理を行った後であって、該第1方向吐出処理で形成された液状体からなる薄膜が略完全に乾燥する前に、前記第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、例えば第1方向吐出処理で形成されたドット薄膜が完全に乾燥する前に、その薄膜ドットの全部又は一部と重なるように、第2方向吐出処理で新たなドット薄膜を形成することができる。そこで、本発明によれば、第1方向吐出処理で形成されたドット薄膜と第2方向吐出処理で形成されたドット薄膜との境界をなじませで平坦化することができるので、膜厚などがより均一な薄膜パターンを形成することができる。
【0022】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第1方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部と、前記第2方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部とが重なるように、該第1方向吐出処理及び第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
本発明によれば、第1方向吐出処理で形成されたドット薄膜と第2方向吐出処理で形成されたドット薄膜とで、薄膜パターン形成領域の全体に隙間無く薄膜を形成することができる。そこで、本発明によれば、薄膜パターン形成領域の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【0023】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第1方向吐出処理における1回の吐出量と、前記第2方向吐出処理における1回の吐出量とを異なる量にすることが好ましい。
本発明によれば、例えばノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができ、均一な薄膜パターンを形成することができる。また、本発明によれば、例えば薄膜パターン形成領域が細長い形状の場合、その領域の長手方向に走査するときは吐出量を多くし、短手方向に走査するときは吐出量を少なくするなどして、より高速に均一な薄膜パターンを形成することができる。
【0024】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記第1方向吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも1つと、該少なくとも1つに対応する前記第2吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも1つとを、異なる値にすることが好ましい。
本発明によれば、例えばノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができ、均一な薄膜パターンを形成することができる。
【0025】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンが画素であることが好ましい。
本発明によれば、有機EL装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶表示装置などの画素について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な画素を製造することができる。
【0026】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記正孔注入輸送層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから正孔注入輸送材料を吐出することによって前記正孔注入輸送層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第1走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記正孔注入輸送層を形成することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における正孔注入層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその正孔注入層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を製造することができる。
【0027】
また、本発明の有機電界発光素子の製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから発光層形成材料を吐出することによって前記発光層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第1走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記発光層を形成することを特徴とする。
本発明によれば、有機電界発光素子における発光層について液滴吐出方式で薄膜パターンを形成する場合にその発光層に「スジムラ」が生じることを低減することができ、「発光ムラ」が少ない高品位な有機電界発光素子を製造することができる。
【0028】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記発光層を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする。
本発明によれば、例えば有機電界発光素子の発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機電界発光素子においてそのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一に形成することができる。そこで、本発明によればカラーフィルタを備える有機電界発光素子からなる表示パネルについて、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【0029】
また、本発明の液状体材料の塗布方法は、基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記電極を形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記電極に仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記電極を形成することを特徴とする。
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの電極をなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、高精度にプラズマディスプレイパネルの電極を形成することができる。
【0030】
また、本発明の液状体材料の塗布方法は、基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記カラーフィルタを形成し、前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする。
本発明によれば、液晶表示パネルのカラーフィルタをなす薄膜パターンを液滴吐出方式で形成する場合に、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができ、液晶表示パネルにおける色むらなどを大幅に低減させることができる。
【0031】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンがフォトレジスト膜であることが好ましい。
本発明によれば、例えばフォトリソグラフィ法を用いて基板に各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記薄膜パターンの製造方法で形成することができる。そして、本発明によれば、フォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを高精度に形成することができる。
【0032】
また、本発明の薄膜パターンの製造方法は、前記薄膜パターンが基板上に複数形成されるものであり、前記第1走査線及び第2走査線は、複数の前記薄膜パターンの領域を横断するように設定され、該第1走査線及び第2走査線それぞれにおける1回の走査で横断される該複数の薄膜パターンの領域それぞれについて、少なくとも1つの液滴を着弾させることが好ましい。
本発明によれば、基板に対してノズルを一方に移動させることで1回の走査を行い、その走査で第1方向吐出処理又は第2方向吐出処理を行い、複数のパターンそれぞれに液滴を着弾させるので、高速に高精度なパターンを形成することができる。
【0033】
本発明の電子機器は、前記薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、「スジムラ」の少ない薄膜パターンを構成要素とした電子機器を提供することができるので、例えばその薄膜パターンを画素として用いることにより、発光むらの少なく表示部を備えた電子機器を提供することができる。また、例えば上記「スジムラ」の少ない薄膜パターンを半導体集積回路などの構成要素とすることにより、コンパクトでありながら高性能であって不具合の発生確率が低い電子機器を提供することができる。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る液状体材料の塗布方法について図面を参照して説明する。
図1は本発明の実施形態に係る液状体材料の塗布方法を示す説明図である。図2は図1に示す塗布方法が適用される基板の状態を示す模式断面図である。本実施形態では、フラットパネルディスプレイの一つである有機EL装置の画素部分の製造に、本発明に係る液状体材料の塗布方法を適用した例について説明する。
【0035】
本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いるためには、先ず図2に示すように基板10上に、陽極11、隔壁12及びカソードセパレータ13を形成する。具体的にはガラスなどからなる基板10の上面に、インジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)からなる陽極11の層を形成する。次いで、陽極11の上面の所定位置にインク垂れ防止壁(バンク)として機能する隔壁12を形成する。したがって隔壁12によって各画素の領域が区分けされている。隔壁12の形成は、例えば非感光性ポリイミドをフォトリソグラフィーによって所定形状とすることで行う。次いで、隔壁12の中央付近にカソードセパレータ13を形成する。
【0036】
このように、基板10上に、陽極11、隔壁12及びカソードセパレータ13を形成した後に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて正孔注入層及び発光層を形成する。具体的には、液滴吐出装置のノズルヘッドに設けられたインクジェットノズル1から正孔注入材料(正孔輸送材料:PEDOT)と溶媒などからなる液滴2を吐出することで、隔壁12で囲まれた領域(薄膜パターン形成領域)に所望形状の薄膜パターン30を形成する。ここで、図2に示す隔壁12で区分けされた各画素の領域(薄膜パターン形成領域)は、基板10の全体に規則的に分散配置されているものとする。
【0037】
そして、インクジェットノズル1を図1の矢印付線21,22に示すように行うことで、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法が行われる。具体的には、図1(a)に示すように、液滴吐出方式による薄膜パターンの形成対象となる基板10に対して、液滴吐出装置のノズルヘッド(インクジェットノズル1)の移動位置を規定する仮想的な第1走査線として、矢印付線21を規定する。基板10の全体に複数の画素領域を分散配置する場合は、互いに平行な矢印付線21を所定間隔で基板10の全体に複数設定する。
【0038】
そして、インクジェットノズル1を、矢印付線21に沿って(すなわち図面の縦方向に)、かつその矢印付線21の指す向きに移動させながら、液滴2を吐出させる。このように矢印付線21に沿ってインクジェットノズル1を移動させながら液滴2を吐出する処理を、第1(以下同じ)吐出処理とする。
【0039】
この第1方向吐出処理を行うと、図1(b)に示すように、薄膜パターン(ドット薄膜)31が基板10の上面全体に分散されて形成される。各薄膜パターン31は、各画素の正孔注入層又は発光層をなすものである。
【0040】
従来においては、図1(b)に示すように、インクジェットノズル1を一方向に走査して薄膜パターン31を形成し乾燥させることで正孔注入層を設け、その後に、再度図1(b)に示すように、インクジェットノズル1を一方向に走査して薄膜パターン31を形成し乾燥させることで発光層を設けていた。その後、真空蒸着法によって陰極を形成して有機EL素子を完成させる。
【0041】
このようにして形成された従来の有機EL素子では、陽極と陰極間に電圧を印加して発光させると、矢印付線21に沿う方向にスジムラが観測される。このスジムラは、薄膜パターン31の膜厚が不均一となっていることを示しており、表示品質を低下させるものである。
【0042】
そこで、本実施形態では、図1(a)に示すように第1方向吐出処理を行って図1(b)に示すように薄膜パターン31を形成した後に、次に述べる第2方向吐出処理の塗布動作を行う。第2方向吐出処理は、第1方向吐出処理で形成された薄膜パターン31が完全に乾燥する前に行うのが好ましい。また、第1方向吐出処理で形成された薄膜パターン31に対して、完全乾燥には到らないほどの乾燥処理(中間乾燥処理)を施すことで薄膜パターン31の体積を減らし、次いで第2方向吐出処理の塗布動作を行うものとしてもよい。このようにすることにより、上記スジムラを低減又は分散させることができる。
【0043】
第2方向吐出処理では、図1(c)に示すように、上記第1方向吐出処理で用いた矢印付線(第1走査線)21に対して略直角に交わる仮想的な第2走査線として、矢印付線22を規定する。ここで、矢印付線21と矢印付線22とは、90度以外の角度で交わるものとしてもよい。例えば基板10の全体に複数の画素領域を分散配置する場合は、互いに平行な矢印付線22を所定間隔で基板10の全体に複数設定する。
【0044】
そして、インクジェットノズル1を、矢印付線22に沿って(すなわち図面の横方向に)、かつその矢印付線22の指す向きに移動させながら、液滴2を吐出させる。このように矢印付線22に沿ってインクジェットノズル1を移動させながら液滴2を吐出する処理を、第2(以下同じ)吐出処理とする。
【0045】
この第2方向吐出処理を行うと、図1(d)に示すように、薄膜パターン(ドット薄膜)32が基板10の上面全体に分散されて形成される。この各薄膜パターン32も、薄膜パターン31と同様に、各画素の正孔注入層又は発光層をなすものである。これらにより、各画素の正孔注入層又は発光層は、第1方向吐出処理で形成された薄膜パターン32と第2方向吐出処理で形成された薄膜パターン32とで形成されることとなる。
【0046】
これらの処理において用いられる液滴吐出装置のノズルヘッドには複数のインクジェットノズル1が設けられている。そして、各画素に対して、第1方向吐出処理で使用されたインクジェットノズル1と、第2方向吐出処理で使用されたインクジェットノズル1とは、別のもとなる確率が高い。これは意識的に別のものとしてもよい。また、各画素に対して、第1方向吐出処理の吐出状態(吐出液滴の吐出量、インク物性値、吐出速度など)と第2方向吐出処理の吐出状態とは異なるものとなる。
【0047】
そこで、本実施形態によれば、第1方向吐出処理と第2方向吐出処理とを行うことで、隣り合う走査線同士の吐出状態の差を分散させることができ、薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができ、膜厚などを均一化することができる。したがって、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて各画素の構成要素となる正孔注入層及び発光層などを形成することで、有機EL装置における発光ムラなどを低減させるこができる。
【0048】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法は、有機EL装置におけるカラーフィルタをなす薄膜パターンの形成に適用してもよい。例えば発光層から白色光を放射させ、その白色光をカラーフィルタを介して外部に出射させる有機EL装置において、カラーフィルタをなす薄膜パターンの形成に本実施形態の塗布方法を適用する。このようにすると、そのカラーフィルタをなす薄膜パターンを「スジムラ」を生じさせずに均一に形成することができる。そこで、本実施形態によれば、カラーフィルタを備える有機EL装置について、色むらなどを大幅に低減させることができる。
【0049】
上記の本実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、基板10の全体に複数設定された薄膜パターン形成領域である画素領域毎に、第1方向吐出処理及び第2方向吐出処理を行うことが好ましい。このようにすると、複数の画素領域それぞれに第1方向吐出処理及び第2方向吐出処理が行われるので、1つの画素に複数吐出された液滴同士の吐出量などの差を分散させることができ、また画素薄膜パターン形成領域同士間における液滴の吐出量などの差も分散させることができる。そこで、本塗布方法によれば、各画素を形成する正孔注入層及び発光層などの薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減でき、基板10について全体的に見た場合でも複数の画素に「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0050】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、基板10に複数設定された薄膜パターン形成領域である画素領域が、第1方向吐出処理が行われる画素領域と、第2方向吐出処理が行われる画素領域とに分けられるものとしてもよい。例えば、基板10の上面全体において、第1方向吐出処理が行われる画素領域と第2方向吐出処理が行われる画素領域とが混在するようにする。このようにすると、基板10の全体を見た場合に、複数の画素領域に対する液滴吐出状態の差を分散させることができ、「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0051】
また、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法では、図1(a)に示すように基板10の全体について第1方向吐出処理を行い、その後、図1(c)に示すように基板10の全体について第2方向吐出処理を行っている。このような塗布順序ではなく、ある1本の矢印付線21について第1方向吐出処理を行い、次いで、ある1本の矢印付線22について第2方向吐出処理をするというように、第1方向吐出処理と第2方向吐出処理とを交互に繰り返すものとしてもよい。
【0052】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、薄膜パターン形成領域である各画素領域には同一材料(例えば正孔注入輸送材料)からなる液滴が複数回吐出される。このように各薄膜パターン形成領域に同一材料の液滴を複数回吐出する場合、少なくとも1回は第1方向吐出処理を行い、また少なくとも1回は第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
【0053】
このようにすると、薄膜パターン形成領域(画素領域)に対する同じ材料による複数回の液滴吐出において、各吐出状態の差が分散されるので、同じ材料からなる薄膜の厚みなどが均一な薄膜パターンを形成することができ、その薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを低減することができる。
【0054】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、ノズルヘッドに複数のインクジェットノズル1が設けられた液滴吐出装置を使用し、薄膜パターン形成領域(画素領域)毎に、第1方向吐出処理で使用するインクジェットノズル1と第2方向吐出処理で使用するインクジェットノズル1とを、別のものとすることが好ましい。このようにすると、各インクジェットノズル1間で吐出量などに差があってもその吐出量の差を分散させることができる。そこで、この塗布方法によれば、上記「スジムラ」が生じることをより低減することができる。
【0055】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、ノズルヘッドに複数のインクジェットノズル1が設けられた液滴吐出装置を使用し、1つの薄膜パターン形成領域(画素領域)に対して、隣り合う2個以上のインクジェットノズル1にて同時に又は逐次的に液滴を吐出させるようにしてもよい。この2個以上のインクジェットノズル1による液滴吐出は、上記第1方向吐出処理又は第2方向吐出処理として行う。
【0056】
このようにすると、1つの薄膜パターン形成領域(例えば画素領域)に対して複数のインクジェットノズル1で略同時に液滴を吐出することができるので、高速に薄膜パターンを形成でき、かつ、ノズル間の吐出量などの差を分散することができる。そこで、本塗布方法によれば、「スジムラ」が少ない薄膜パターンを高速に形成することができる。
【0057】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第1方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜パターン31の一部と、第2方向吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜パターン32の一部とが重なるように第1方向吐出処理及び第2方向吐出処理を行うことが好ましい。
【0058】
このようにすると、第1方向吐出処理における1つの吐出液滴で形成されたドット薄膜(薄膜パターン31)と第2方向吐出処理における1つの吐出液滴で形成されたドット薄膜(薄膜パターン32)とで、薄膜パターン形成領域の全体に隙間無く薄膜を形成することができる。そこで、この塗布方法によれば、薄膜パターン形成領域(例えば画素領域)の全体について塗り残しなく、かつ「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【0059】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第1方向吐出処理における1つの液滴の吐出量と、第2方向吐出処理における1つの液滴の吐出量とを異なる値にしてもよい。このようにすると、液滴吐出装置におけるノズルヘッドの走査方向の相違に関連づけられたインクジェットノズル1の吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減するように、吐出量を制御することができる。したがって、この塗布方法によれば、より均一な薄膜パターンを形成することができ、「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【0060】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法においては、第1方向吐出処理における液滴の粘度、表面張力、濃度、インク組成比と、第2方向吐出処理における液滴の粘度、表面張力、濃度、インク組成比とを異なる値にしてもよい。この方法は、例えば第1方向吐出処理で使用するインクジェットノズル1(第1ノズル)と第2方向吐出処理で使用するインクジェットノズル1(第2ノズル)とを別のものとして、第1ノズルに供給する液状体と第2ノズルに供給する液状体とを異なるものにすることで実現できる。
【0061】
このようにすることにより、ノズルヘッドの走査方向の相違による吐出状態の違い又は液滴の着弾状態の違いを低減することができる。したがって、この塗布方法によれば、より均一な薄膜パターンを形成することができ、「スジムラ」が少ない高精度な薄膜パターンを形成することができる。
【0062】
また、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法は、フォトレジスト膜を構成する薄膜パターンの形成に適用してもよい。例えば図2における隔壁12の形成に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いてもよい。このようにすると、各種パターンを転写形成するときに形成するフォトレジスト膜を、液滴吐出方式を用いた上記実施形態の塗布方法で形成することができる。そして、本塗布方法によればフォトレジスト膜に「スジムラ」が生じることを低減することができるので、フォトリソグラフィ法及び液滴吐出方式を用いて各種薄膜パターンを低コストでかつ高精度に形成することができる。
【0063】
<有機EL装置の製造方法>
次に、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いた有機EL装置の製造方法について、図3を参照して具体的に説明ずる。本製造方法では、有機EL装置における正孔注入輸送層を上記実施形態の液状体材料の塗布方法で形成する。
【0064】
正孔注入輸送層用組成物は、主として正孔注入輸送層を形成する導電性化合物、分散溶媒、湿潤剤を含み、液滴吐出方式によるパターン成膜に用いられる。この正孔注入輸送層を形成する導電性化合物は陽極よりイオン化ポテンシャルが低い化合物が望ましい。例えば、陽電極としてインジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)を用いた場合、低分子系材料としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物が挙げられる。
【0065】
なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、粘度調製剤、老化防止剤、pH調製剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。
【0066】
導電性化合物(正孔注入輸送層成分)として、銅フタロシアニンを用いた場合の、正孔注入輸送層用組成物の物性的特性について検討した。試料は表1乃至表10に示す組成物イ乃至組成物ヌを調整した。
【0067】
組成物イ
【表1】

Figure 2004362818
【0068】
組成物ロ
【表2】
Figure 2004362818
【0069】
組成物ハ
【表3】
Figure 2004362818
【0070】
組成物ニ
【表4】
Figure 2004362818
【0071】
組成物ホ
【表5】
Figure 2004362818
【0072】
組成物ヘ
【表6】
Figure 2004362818
【0073】
組成物ト
【表7】
Figure 2004362818
【0074】
組成物チ
【表8】
Figure 2004362818
【0075】
組成物リ
【表9】
Figure 2004362818
【0076】
組成物ヌ
【表10】
Figure 2004362818
【0077】
(吐出評価)表1〜表8に示す組成物イ〜組成物チのインクジェットヘッドを構成するノズル面構成材料に対する接触角、粘度および表面張力を測定し、それらの吐出性を評価した。吐出評価はインクジェットプリント装置(エプソン製MJ−500C)を用いて行った。
【0078】
なお、粘度は20℃での測定値である。これらの結果を表11に示す。
【0079】
【表11】
Figure 2004362818
この結果から、接触角は30°から170°、特に、35°から65°が好ましいことがわかる。また、粘度は1cpから20cp、特に、2cpから4cpが好ましく、表面張力は20dyneから70dyne、特に、25dyneから40dyneの範囲が好ましいことがわかる。
【0080】
また、湿潤剤としてグリセリンが混入されている組成物イ乃至組成物ハは、湿潤剤が混入されていない組成物ヘ乃至組成物チと比較すると、吐出性に優れていることがわかる。従って、インク組成物中に湿潤剤が含まれていることが好ましい。湿潤剤を混入することで、インク組成物がノズル口で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えば、グリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコール類が挙げられるが、グリセリンが特に好ましい。
【0081】
(正孔注入輸送層用組成物の製法)表1乃至表3、及び、表9、表10にそれぞれ示す組成物イ乃至組成物ハ、及び、組成物リ、組成物ヌを製造し、超音波処理前後の正孔注入輸送層形成化合物(銅フタロシアニン)の粒度分布を測定した。さらに、超音波処理後、濾過工程を経た上記正孔注入輸送層用組成物を用い液滴吐出方式のパターニングにより形成された正孔注入輸送層の成膜性を評価した。
【0082】
これらの結果を表12に示す。超音波処理の効果は1μm以下の粒度分布の割合で示した。なお、スチレンアクリル樹脂分散液での粒径は1μm以上である。
【0083】
【表12】
Figure 2004362818
この結果から、前記分散液を4時間超音波処理することで分散性を上げることができることがわかる。また、超音波処理分散液をさらに濾過することによって、より均一な正孔注入輸送層膜を得ることができる。また、導電性化合物の分散極性溶媒としては、水、又は、水とメタノール或いはエトキシエタノールとの混合溶媒であることが好ましく(組成物イ乃至組成物ハ)、これらの溶媒を用いた場合、成膜性も良いことがわかる。
【0084】
(有機電界発光素子の製造工程)表1乃至表3に示す組成物イ乃至組成物ハを用いて、以下に示す手順で液滴吐出方式による正孔注入輸送層のパターニング成膜を行い、有機電界発光素子(発光層)を製造した。
【0085】
陽極形成工程(図3(A))
本工程はガラス基板102上に陽極101を形成する工程である。ガラス基板102としては、酸やアルカリ等の薬品に侵されにくく、量産可能であるものが好ましい。ITO透明電極を基板102上に0.1μmの厚さで成膜し、例えば100μmピッチでパターニングする。
【0086】
仕切部材形成工程(同図(B))
本工程は、ガラス基板102上に仕切部材103を形成する工程である。具体的には、陽極(ITO電極)101間を埋め、インク垂れ防止壁(バンク)を兼ねた非感光性ポリイミド(仕切部材)をフォトリソグラフィーにより形成した。ここで、仕切部材103の形成には、図1に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いてもよい。仕切部材103は例えば幅20μm、厚さ2.0μmとした。
【0087】
正孔注入輸送層用組成物吐出工程(同図(C))
さらに、インクジェットプリント装置(エプソン製MJ−800C)104のヘッド105から正孔注入輸送層用組成物イ乃至ハ(図中106)を吐出し、正孔注入輸送層107をパターンニング成膜した。この成膜では、図1に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いた。パターン成膜後、200℃10分の乾燥処理により正孔注入輸送層を形成した。正孔注入輸送層用組成物吐出時において、バンク越しの塗布は見られず、「スジムラ」の少ない、高精度の正孔注入輸送層パターンが得られた。
【0088】
発光層組成物充填工程(同図(D))
次いで、緑色発光層としてPPV前駆体(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))組成物を製造した。液滴吐出方式により発光層組成物108を吐出し、発光層109をパターンニング成膜した。この成膜でも、図1に示す本実施形態の液状体材料の塗布方法を用いた。発光層109としては赤色発光を示すローダミンBをドープしたPPVや青色発光を示すクマリンをドープしたPPVを用いても良い。赤、緑、青の3原色発光を示す発光層を正孔注入輸送層上に更にパターニングすることにより、色ムラがない高品位なフルカラー有機ELディスプレイの製造が可能となる。
【0089】
陰極形成工程(同図(E))
最後に、発光層109を覆うように陰電極110を蒸着して有機電界発光素子を形成した。
【0090】
本有機EL装置の製造方法によれば、スジ形状の色ムラなどがない有機EL装置を簡便に短時間かつ低コストで実現できる。
【0091】
<プラズマディスプレイパネルの製造方法>
次に、上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法について、図4を参照して具体的に説明する。本製造方法では、プラズマディスプレイパネルにおける電極配線パターンを上記実施形態の液状体材料の塗布方法で形成する。図4は本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて製造されたプラズマディスプレイパネルの一例を示す断面図である。
【0092】
プラズマディスプレイパネル120は、2枚のガラス基板121,129が張り合わせられ、両基板により形成される空間に不活性ガスが充填されたものである。ガラス基板121,129には、それぞれ、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法で形成された電極(透明電極122、バス電極123、アドレス電極127)などが設けられている。次に、プラズマディスプレイパネル120の構成について具体的に説明する。
【0093】
プラズマディスプレイパネル120において、放電空間125を挟む基板対のうち観察側のガラス基板121の内面には、画面の水平方向のセル列であるライン毎にサステイン電極が配列されている。サステイン電極は、透明導電膜である透明電極122と、抵抗値を低減するための金属膜であるバス電極123とからなる。透明電極122とバス電極123は、上述の図1に示す液状体材料の塗布方法で設けられたものである。すなわち、透明電極122は、図1に示す液滴吐出方式で形成されたインジウム錫酸化物であり、バス電極123も図1に示す液滴吐出方式で形成されている。
【0094】
透明電極122とバス電極123は、交流駆動のための誘電体層124で被覆されている。誘電体層124は、透光性を有している。背面側のガラス基板129の内側には、アドレス電極127、隔壁128及びカラー表示のための3色(赤R,緑G,青B)の蛍光体126R,126G,126Bが設けられている。隔壁128によって、放電空間125がライン方向に単位発光領域毎に区画されている。放電空間125には、アルゴン又はネオンなどからなる放電ガスが充填されている。蛍光体126R,126G,126Bは、放電で生じた紫外線で局部的に励起されて所定色の可視光を放つ。表示における1単位の発光領域は、ライン方向に並ぶ3つの単位発光領域で構成される。各単位発光領域の範囲内の構造体がセルである。
【0095】
次に、上記の構造を有するプラズマディスプレイパネル120の製造工程について説明する。なお、2枚のガラス基板121,129のうち観察側(表示面側)のガラス基板121を観察面側基板構造体と呼び、ガラス基板121と反対側(背面側)のガラス基板29を背面側基板構造体と呼ぶ。
先ず、観察面側基板構造体としては、光透過性のガラス基板121の上に透明電極122を形成する。透明電極122の形成は、図1に示すようにインジウム錫酸化物を塗布する方式で行う。次いで、透明電極122の上にバス電極123を形成する。バス電極123の形成も図1に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、透明電極122及びバス電極を被覆する誘電体層124を形成することで、観察面側基板構造体が完成する。
【0096】
一方、背面側基板構造体としては、先ず、ガラス基板129上にアドレス電極127を形成する。このアドレス電極127の形成も、図1に示すように導電性材料を塗布する方式で行う。次いで、隔壁128を形成した後、隔壁128で仕切られた空間に蛍光体126R,126G,126Bがスクリーン印刷法などで形成される。この蛍光体126R,126G,126Bは、例えば、所定発光色の蛍光体粉末と、セルロース系又はアクリル系の増粘剤樹脂とアルコール系又はエステル系等の有機溶剤とからなるビヒクルとを混合した蛍光体ペーストを、スクリーン印刷法により形成する。赤色の光を発する蛍光体126R、緑色の光を発する蛍光体126G、青色の光を発する蛍光体126Bは、アドレス電極127方向に、交互に形成される。次いで、蛍光体126R,126G,126Bは、大気圧の空気中雰囲気で熱処理が施され、ビヒクルの揮発成分を蒸発させる。この熱処理が蛍光体の焼成工程と呼ばれるものである。
蛍光体126R,126G,126Bの焼成が終わると、観察面側基板構造体と背面側基板構造体を張り合わせ、内部を真空排気した後、不活性ガスを充填することで、プラズマディスプレイパネル120が完成する。
【0097】
これらにより本実施形態のプラズマディスプレイパネル120の製造方法では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127の形成に、本実施形態に係る液状体材料の塗布方法(液滴吐出方式)を使用しているので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物及び導電性材料の無駄となる量を大幅に低減することができる。また、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120の製造方法では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【0098】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120では、バス電極123に断線があったとしても、その導電性パターンの下にはインジウム錫酸化物からなる透明電極123が形成されているので、基板上の配線としては繋がっており、プラズマディスプレイパネル120における所定の機能を発揮することができる。
【0099】
さらに、本実施形態のプラズマディスプレイパネル120では、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を液滴吐出方式で形成するときに、図1に示すように、ノズルの走査線を交差させるようにして液滴を塗布させるので、透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127をなす薄膜パターンに「スジムラ」が生じることを抑えることができる。そこで、本製造方法によれば、プラズマディスプレイパネル120の透明電極122、バス電極123及びアドレス電極127を高精度に形成することができるので、高品位な画像を表示することができ、電流リークなどの不具合の発生確率が低いプラズマディスプレイパネル120を提供することができる。
【0100】
<液晶装置の製造方法>
次に、上記実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いた液晶装置の製造方法について、図5を参照して具体的に説明する。本製造方法では、液晶装置における電極配線パターン及びカラーフィルタを上記実施形態の塗布方法で形成する。図5は本実施形態に係る液状体材料の塗布方法を用いて製造された液晶装置200の一例を示す断面図である。
【0101】
図5に示すように、下側基板201の液晶層203側表面上には、カラーフィルター205、有機膜などからなる平坦化膜206、透明電極207、配向膜209が順次積層形成されている。一方、上側基板202の液晶層203側表面上には、インジウム錫酸化物からなる透明電極208と配向膜210とが順次積層形成されている。また、液晶層203内には多数の球状のスペーサー213が配置されている。
【0102】
カラーフィルター205は、所定のパターンに形成された赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層205aと隣接する着色層205a間を遮光する遮光層(ブラックマトリクス)205bとからなっている。また、配向膜209、210はポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層203の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。カラーフィルター205及び平坦化膜206は、少なくとも表示領域内に形成され、かつシール材204よりも内側にのみ形成されている。
【0103】
次に、上記構造の液晶装置200の製造方法について説明する。
先ず、下側基板201の表面に、カラーフィルター205、平坦化膜206、透明電極207、配向膜209を順次形成する。ここで、カラーフィルタ205及び透明電極207は、それぞれ図1に示す液状体材料の塗布方法で形成する。
【0104】
また、上側基板202の表面に、透明電極208と配向膜210とを順次形成する。ここで、透明電極208も図1に示す液状体材料の塗布方法で形成する。すなわち基板202の表面にインジウム錫酸化物を液滴吐出装置で液滴吐出させることで透明電極208を形成する。
【0105】
次いで、表面にカラーフィルター205、平坦化膜206、透明電極207、配向膜209が順次積層形成された下側基板201と、透明電極208及び配向膜210を順次積層形成された上側基板202とを、未硬化のシール材204を介して貼着した後、未硬化のシール材204を、液晶の注入口を形成するように硬化し、液晶セルを形成する。
次いで、真空注入法により液晶セル内に液晶を吸引して液晶層203を形成することにより上記構造の液晶装置200が製造される。
【0106】
これらにより、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、インジウム錫酸化物などからなる透明電極207,208を液滴吐出方式で形成するので、フォトリソグラフィやエッチングで製造した場合に比べて、インジウム錫酸化物などの無駄となる量を大幅に低減することができる。
また、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、透明電極207,208を形成するときに、フォトマスクを作る必要がないので、製造期間を短縮することができるとともに、製造コストを低減することができる。
【0107】
さらに、本実施形態の液晶装置200の製造方法では、カラーフィルター205及び透明電極207,208を液滴吐出方式で形成するときに、図1に示すような順序で液滴を塗布するので、筋形状の発光ムラが少ない高品位な液晶装置200を製造することができる。
【0108】
(電子機器)
上記実施形態の薄膜パターン形成方法を用いて製造された電気光学装置(有機EL装置、プラズマディスプレイパネル又は液晶装置)を備えた電子機器の例について説明する。
図6は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図6において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0109】
図7は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図7において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0110】
図8は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記電気光学装置を用いた表示部を示している。
【0111】
図6から図8に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、表示部などにおける発光むら及び電流リークなどを低減させた高品位な電子機器を低コストで提供することができる。
【0112】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の液状体材料の塗布方法の説明図である。
【図2】同上実施形態が適用される基板の状態を示す模式断面図である。
【図3】有機EL装置の製造方法を示す断面図である。
【図4】プラズマディスプレイパネルの製造方法を示す断面図である。
【図5】液晶装置の製造方法を示す断面図である。
【図6】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図7】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【図8】本発明の実施形態に係る電子機器の一例を示す図である。
【符号の説明】
1…インクジェットノズル、2…液滴、10…基板、11…陽極、12…隔壁、13…カソードセパレータ、21,22…矢印付線、30,31,32…薄膜パターン[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a thin film pattern using a droplet discharge method, a method for manufacturing an organic electroluminescent device, a method for manufacturing a color filter, a method for manufacturing a plasma display panel, a method for manufacturing a liquid crystal display panel, and electronic equipment.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a display panel using an organic electroluminescent element has been devised. The basic configuration of an organic electroluminescent device is such that a solid thin film (light emitting layer) containing fluorescent organic molecules is sandwiched between two electrodes (a cathode and an anode). When a voltage is applied to the electrode, holes are injected from the anode, electrons are injected from the cathode into the light emitting layer, and fluorescence is emitted from the light emitting layer.
[0003]
By the way, since a single-layer structure element composed of only a light-emitting layer has low luminous efficiency and has a problem in durability, a two-layer structure in which a positive hole injection layer (hole injection transport layer) having good adhesion is provided between the anode and the light-emitting layer. Layered devices have been proposed. By employing this laminated structure, the luminous efficiency and durability of the organic electroluminescent device can be improved by controlling the carrier injection / transport balance and the carrier recombination site. In addition, according to this laminated structure, functions such as light emission and injection / transport can be assigned to different materials, so that there is an advantage that optimal design of materials and elements becomes possible.
[0004]
Conventionally, porphyrin compounds, aniline, pyridine and derivatives thereof, low molecular weight compounds, hole injection / transport layers using carbon layers, and the like have been proposed as hole injection / transport layer compounds for organic electroluminescent devices. For forming a hole injection transport layer using these low molecular materials, a film forming method by vacuum evaporation or sputtering is generally used. Polyaniline or the like is known as a polymer material, and is formed by a wet method such as spin coating.
[0005]
By the way, the film formation method by vacuum evaporation or sputtering is a batch process and has a long time, so that mass production efficiency is poor. Further, in the case of a low molecular material, there is a problem that the film is easily crystallized after film formation, and the reliability of the device is reduced. On the other hand, polymer materials have a high degree of freedom in molecular design, and have the advantage of being easy to optimize materials because of the wet process. However, film formation methods such as spin coating waste most of the material. There is.
[0006]
Further, when fine patterning of a material is required, such as in a full-color display, it is difficult to perform high-precision patterning by a vapor deposition method, and there is a problem that the material is not resistant in a patterning step by photolithography. This is a similar problem for polymer materials. Further, since the material used as the hole injection layer or the buffer layer has conductivity, if complete patterning cannot be realized, it may cause a leakage between adjacent pixels provided on the same substrate.
[0007]
On the other hand, in order to solve the above-mentioned problems, that is, to optimize the material and element design, and to perform simple, short-time, low-cost, and highly accurate patterning film formation, a droplet discharge method is used. A method for manufacturing a hole injection layer, a light emitting layer, and the like has been devised. The manufacturing method using the droplet discharge method is to form a thin film pattern by discharging droplets composed of a component of a hole injection layer and a solvent from an inkjet nozzle to a desired region (for example, see Patent Document 1). .
[0008]
[Patent Document 1]
JP-A-2000-106278
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional method of manufacturing a thin film pattern using the droplet discharge method, a plurality of virtual scanning lines are set in parallel with the substrate, and the droplets are sequentially moved while moving the inkjet nozzles along the scanning lines. It was discharging. When a thin film pattern is formed by discharging droplets in this manner, stripe-shaped unevenness (streaks) occurs in the thin film pattern in a direction parallel to the scanning line.
[0010]
It is considered that the cause of the streaks is that the nozzle head of the droplet discharge device is provided with a plurality of ink jet nozzles, and the discharge amount is slightly different for each ink jet nozzle. In addition, since droplets are ejected along a plurality of scanning lines set in parallel, even if the ejection amount is almost the same for each inkjet nozzle, the film thickness in the middle part of adjacent scanning lines may be reduced. It is considered that uneven streaks occur due to this.
[0011]
When such uneven streaks occur, the thickness of the thin film pattern becomes non-uniform. If the thin film pattern is used as, for example, a hole injection layer, a light emitting layer, or a color filter that forms a pixel, streak-like uneven light emission occurs. Would.
[0012]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and when a thin film pattern is formed by using a droplet discharge method, it is possible to reduce the occurrence of streaks in the thin film pattern or to disperse the streaks. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a thin film pattern, a method of manufacturing an organic electroluminescent device, a method of manufacturing a color filter, a method of manufacturing a plasma display panel, a method of manufacturing a liquid crystal display panel, and an electronic device.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention provides a virtual first scan for defining a movement position of a nozzle head of a droplet discharge device with respect to a substrate on which a thin film pattern is formed. A first direction ejection process that defines a line and moves the nozzle head along the first scanning line to eject droplets; and a virtual second scan that intersects at a substantially right angle to the first scanning line. A second direction discharge process for defining a line and moving the nozzle head along the second scanning line to discharge droplets. According to the present invention, in the first direction discharge processing, the nozzle head is moved along the first scanning line to discharge droplets, and in the second direction discharge processing, the liquid droplet is ejected by approximately 90 degrees with respect to the first scanning line. Droplets are ejected by moving the nozzle head along the second scanning line intersecting at an angle. In other words, the droplets are ejected by scanning the nozzle head in a certain direction, and thereafter, the droplets are ejected by scanning the nozzle head in a direction substantially 90 degrees different from the direction. In this way, droplets are ejected from the nozzles of the nozzle head that moves along two scanning lines that are orthogonal to each other in the thin film pattern region to be formed. Can be suppressed.
The occurrence of “streaks” is mainly caused by a difference in the ejection amount from the nozzles in each scan, that is, a different ejection state in each scan. Therefore, according to the present invention, droplets are ejected using two scanning directions having directions substantially different from each other by 90 degrees, so that a difference in ejection state between each scanning line is dispersed and the ejection state can be made uniform. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of “streaks” in the thin film pattern, and to make the film thickness uniform. Therefore, by forming pixels and the like using the liquid material application method of the present invention, emission unevenness and the like can be reduced.
[0014]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, a plurality of the thin film pattern forming regions are set on the substrate, and the first direction discharging process and the second direction discharging process are performed for each of the thin film pattern forming regions. Preferably.
According to the present invention, since the first direction discharge process and the second direction discharge process are performed on each of the plurality of thin film pattern formation regions, it is possible to disperse the difference in the droplet discharge amount and the like in each thin film pattern formation region, It is also possible to disperse the difference in the amount of discharged droplets between the thin film pattern formation regions. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the occurrence of “streaks” in each thin film pattern, and to reduce the occurrence of “streaks” even when a plurality of thin film patterns are viewed as a whole.
[0015]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, a plurality of the thin film pattern forming regions are set on the substrate, and the plurality of thin film pattern forming regions are a region where the first direction discharge process is performed, and It is preferable to have at least a region where a two-way ejection process is performed.
According to the present invention, since the substrate includes the region where the first direction discharge process is performed and the region where the second direction discharge process is performed, for example, the region where the first direction discharge process is performed and the region where the first direction discharge process is performed. By mixing the above, it is possible to disperse the difference between the droplet discharge states when the entire substrate is viewed, and it is possible to reduce the occurrence of “streaks”.
[0016]
In the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, it is preferable that the first direction discharge process is performed on the entire substrate, and then the second direction discharge process is performed on the entire substrate.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the difference of the droplet discharge state, such as a droplet discharge amount, can be disperse | distributed with respect to the whole board | substrate, and it can reduce that "streaks" generate | occur | produce. Further, according to the present invention, the total moving distance of the nozzle head can be reduced and a uniform film thickness can be obtained, as compared with a method in which the first direction discharge processing and the second direction discharge processing are alternately repeated for each scan. A thin film pattern can be formed at a high speed.
[0017]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, it is preferable that the first direction discharge process and the second direction discharge process are alternately repeated for each of the first scanning line and the second scanning line.
According to the present invention, for example, before the dot thin film formed in the first direction discharge process is dried, a new dot thin film is formed by the second direction discharge process so as to partially or entirely overlap the dot thin film. it can. As a result, the thickness of the thin film pattern can be made more uniform, and the occurrence of "streaks" can be further reduced.
[0018]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, the substrate includes a region in which the substrate is formed by discharging the droplets made of the same material a plurality of times to one thin film pattern formation region to form one thin film pattern. In the ejection, it is preferable that the first direction ejection process is performed at least once and the second direction ejection process is performed at least once.
According to the present invention, when a thin film pattern is formed by discharging the same material to a certain thin film pattern formation region a plurality of times, the first direction discharge process and the second direction discharge process are performed on the region. With this, in a plurality of droplet discharges of the same material with respect to the thin film pattern formation region, the difference in each discharge state is dispersed, so that a thin film pattern with a uniform thickness of a thin film made of the same material can be formed, The occurrence of “streaks” in the thin film pattern can be reduced.
[0019]
Further, in the method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention, the nozzle head of the droplet discharge device includes a plurality of nozzles for discharging droplets, and the nozzle for performing the first direction discharge processing and the second direction discharge It is preferable that the nozzle for performing the processing is different from the nozzle for performing the processing.
According to the present invention, since the nozzles used in the first direction discharge process and the nozzles used in the second direction discharge process are different, even if there is a difference in the discharge amount between the nozzles, the discharge amount Can be dispersed. Thus, according to the present invention, it is possible to reduce the occurrence of "streaks" in the thin film pattern.
[0020]
Also, the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention includes a plurality of nozzles from which a nozzle head of the droplet discharge device discharges droplets, and at least one of the first direction discharge process and the second method discharge process. Preferably, the method preferably includes a process of simultaneously or sequentially applying droplets to one thin film pattern formation region using the plurality of nozzles.
According to the present invention, since a plurality of nozzles can discharge droplets to a single thin film pattern formation region (for example, a pixel or the like) substantially simultaneously, a thin film pattern can be formed at a high speed, and the discharge between nozzles can be performed. Differences such as amounts can be dispersed. Therefore, according to the present invention, it is possible to form a thin film pattern with less "streaks" at a high speed.
[0021]
Further, the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, after performing the first direction discharge process, and before the thin film made of the liquid material formed in the first direction discharge process is almost completely dried, It is preferable to perform the second direction discharge processing.
According to the present invention, for example, before the dot thin film formed in the first direction ejection process is completely dried, a new dot thin film is formed in the second direction ejection process so as to overlap all or a part of the thin film dot. Can be formed. Therefore, according to the present invention, the boundary between the dot thin film formed in the first direction discharge process and the dot thin film formed in the second direction discharge process can be flattened by blending. A more uniform thin film pattern can be formed.
[0022]
In the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, a part of the thin film formed by the droplets discharged in the first direction discharge process and the droplets formed by the second direction discharge process are formed. It is preferable to perform the first direction discharge processing and the second direction discharge processing so that a part of the thin film overlaps.
According to the present invention, a thin film can be formed without gaps over the entire thin film pattern formation region by the dot thin film formed by the first direction discharge process and the dot thin film formed by the second direction discharge process. Therefore, according to the present invention, it is possible to form a high-precision thin-film pattern without leaving unpainted over the entire thin-film pattern forming region and with less "streaks".
[0023]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, it is preferable that a single discharge amount in the first direction discharge process and a single discharge amount in the second direction discharge process be different.
According to the present invention, for example, it is possible to reduce the difference in the ejection state or the difference in the landing state of the droplet due to the difference in the scanning direction of the nozzle head, and it is possible to form a uniform thin film pattern. Further, according to the present invention, for example, when the thin film pattern formation region has an elongated shape, the ejection amount is increased when scanning in the longitudinal direction of the region, and the ejection amount is decreased when scanning in the short direction. Thus, a uniform thin film pattern can be formed at a higher speed.
[0024]
Further, in the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, at least one of a viscosity, a concentration, a surface tension, and an ink composition ratio of a droplet in the first direction discharge processing and the second discharge corresponding to the at least one of the droplets may be used. It is preferable that at least one of the viscosity, the concentration, the surface tension, and the ink composition ratio of the droplet in the processing is set to a different value.
According to the present invention, for example, it is possible to reduce the difference in the ejection state or the difference in the landing state of the droplet due to the difference in the scanning direction of the nozzle head, and it is possible to form a uniform thin film pattern.
[0025]
In the method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention, it is preferable that the thin film pattern is a pixel.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming a thin film pattern by the droplet discharge method about the pixel of an organic EL device, a plasma display panel, or a liquid crystal display device, it can reduce the occurrence of "streaks" in the thin film pattern. Thus, a high-quality pixel with less "light emission unevenness" can be manufactured.
[0026]
Further, the method of manufacturing an organic electroluminescent device of the present invention is a method of manufacturing an organic electroluminescent device, wherein a light emitting device having a light emitting layer and a hole injection / transport layer between electrodes is formed on a substrate. Forming a hole injecting and transporting layer by discharging droplets with an ink jet head formed in a liquid drop discharging device, wherein the ink jet head and a stage holding the substrate are relatively moved. The hole injection transport layer is formed by discharging a hole injection transport material from the nozzle, and when the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual Defining a first scanning line, moving the nozzle head along the first scanning line to eject a droplet, and intersecting the first scanning line at a substantially right angle to the first scanning line. A second injection line is defined by defining a virtual second scan line and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets, thereby forming the hole injection transport layer. And
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming a thin film pattern by the droplet discharge method about the hole injection layer in an organic electroluminescent element, it can reduce that "streaks" generate | occur | produce in the hole injection layer, ”And a high-quality organic electroluminescent device with a small amount of
[0027]
The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to the present invention is a method for manufacturing an organic electroluminescent device, wherein a light emitting device having a light emitting layer and a hole injection / transport layer between electrodes is formed on a substrate. Forming a layer by ejecting droplets by an inkjet head formed in a droplet ejection device, wherein the nozzle is moved in accordance with relative movement of the inkjet head and a stage holding the substrate. The light emitting layer is formed by discharging the light emitting layer forming material from, and when the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scanning line is defined in the light emitting layer. A first ejection process for ejecting liquid droplets by moving the nozzle head along the first scan line, and a virtual second scan which intersects the first scan line at a substantially right angle. Defining a line, and forming a light emitting layer between the second discharge process for discharging the liquid droplet by moving the nozzle head along a second scan line.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming a thin film pattern by the droplet discharge method about the light emitting layer in an organic electroluminescent element, it can reduce that "streaks" generate | occur | produce in the light emitting layer, and the "light emission unevenness" is small. A high-quality organic electroluminescent device can be manufactured.
[0028]
Further, the method for producing a color filter of the present invention is directed to a color filter in which a light emitting element having a light emitting layer and a hole injection / transport layer between electrodes is formed on a substrate, and a color filter is formed on a light emitting direction side. A manufacturing method, comprising a step of forming the color filter by discharging droplets with an inkjet head formed in a droplet discharge device, wherein the inkjet head and a stage holding the substrate are relatively positioned. When the inkjet head and the stage holding the substrate move relative to each other, a virtual first scan line is defined in the color filter, A first ejection process for ejecting liquid droplets by moving along the first scanning line, and a virtual ejection process intersecting the first scanning line at a substantially right angle. Defining a second scan line, and forming the color filter in the second discharge process for discharging the liquid droplet by moving the nozzle head along a second scan line.
According to the present invention, for example, a thin film pattern forming a color filter in an organic electroluminescent element that emits white light from a light emitting layer of the organic electroluminescent element and emits the white light to the outside through a color filter is referred to as a “smear streak”. Can be formed uniformly without causing the occurrence of. Therefore, according to the present invention, it is possible to greatly reduce color unevenness and the like in a display panel including an organic electroluminescent element having a color filter.
[0029]
Further, the method for applying a liquid material according to the present invention is a method for manufacturing a plasma display panel having electrodes formed on a substrate, wherein the electrodes are formed by an inkjet head formed in a droplet discharge device. Forming an electrode by ejecting droplets, wherein the inkjet head and the stage holding the substrate are relatively moved to form the electrode, and the inkjet head and the stage holding the substrate are A first discharge process of defining a virtual first scan line on the electrode when moving relatively, and moving a nozzle head along the first scan line to discharge droplets; A virtual second scanning line that intersects the scanning line at a substantially right angle is defined, and the nozzle head is moved along the second scanning line to discharge a droplet. And forming said electrode by the output processing.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming the thin film pattern which forms the electrode of a plasma display panel by the droplet discharge method, it can reduce that "streaks" generate | occur | produce in the thin film pattern, and the plasma display panel can be formed with high precision. Electrodes can be formed.
[0030]
The method for applying a liquid material according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display panel having a color filter formed on a substrate, wherein the color filter is formed in a droplet discharge device. Forming a color filter by relatively moving the ink jet head and the stage holding the substrate, and holding the ink jet head and the substrate. A first discharge process of defining a virtual first scan line on the color filter when the stage relatively moves, and moving the nozzle head along the first scan line to discharge droplets; Defining a virtual second scanning line that intersects the first scanning line at a substantially right angle, and moves the nozzle head along the second scanning line. By moving and forming the color filter in the second discharge process for discharging liquid droplets.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming the thin film pattern which forms the color filter of a liquid crystal display panel by a droplet discharge method, it can reduce that "streaks" generate | occur | produce in the thin film pattern, and the color unevenness in a liquid crystal display panel can be reduced. Etc. can be greatly reduced.
[0031]
In the method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention, it is preferable that the thin film pattern is a photoresist film.
According to the present invention, for example, a photoresist film formed when various patterns are transferred and formed on a substrate by using a photolithography method can be formed by the above-described method for manufacturing a thin film pattern using a droplet discharge method. According to the present invention, the occurrence of "streaks" in the photoresist film can be reduced, so that various thin film patterns can be formed with high precision using the photolithography method and the droplet discharge method.
[0032]
Further, in the method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention, a plurality of the thin film patterns are formed on a substrate, and the first scanning line and the second scanning line cross the regions of the plurality of the thin film patterns. It is preferable that at least one droplet lands in each of the regions of the plurality of thin film patterns that are traversed by one scan in each of the first scan line and the second scan line.
According to the present invention, a single scan is performed by moving a nozzle to one side with respect to a substrate, and a first direction discharge process or a second direction discharge process is performed by the scan, and droplets are applied to a plurality of patterns, respectively. Since it is landed, a high-precision pattern can be formed at high speed.
[0033]
An electronic apparatus according to another aspect of the invention includes a thin film pattern manufactured using the method for manufacturing a thin film pattern.
According to the present invention, it is possible to provide an electronic device having a thin-film pattern with less “streaks” as a component. For example, by using the thin-film pattern as a pixel, an electronic device having a display unit with less uneven light emission is provided. Can be provided. Further, for example, by using a thin film pattern with less “streaks” as a component of a semiconductor integrated circuit or the like, it is possible to provide an electronic device that is compact, has high performance, and has a low probability of occurrence of a defect.
[0034]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a method for applying a liquid material according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is an explanatory view showing a method for applying a liquid material according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic sectional view showing a state of a substrate to which the coating method shown in FIG. 1 is applied. In the present embodiment, an example will be described in which the method of applying a liquid material according to the present invention is applied to manufacture of a pixel portion of an organic EL device that is one of flat panel displays.
[0035]
In order to use the method for applying a liquid material according to the present embodiment, first, an anode 11, a partition 12, and a cathode separator 13 are formed on a substrate 10 as shown in FIG. Specifically, a layer of the anode 11 made of indium tin oxide (ITO) is formed on the upper surface of the substrate 10 made of glass or the like. Next, a partition wall 12 functioning as an ink dripping prevention wall (bank) is formed at a predetermined position on the upper surface of the anode 11. Therefore, the area of each pixel is divided by the partition wall 12. The partition 12 is formed, for example, by shaping a non-photosensitive polyimide into a predetermined shape by photolithography. Next, a cathode separator 13 is formed near the center of the partition wall 12.
[0036]
After the anode 11, the partition 12, and the cathode separator 13 are formed on the substrate 10, the hole injection layer and the light emitting layer are formed by using the liquid material application method according to the present embodiment. More specifically, a droplet 2 composed of a hole injection material (hole transport material: PEDOT) and a solvent is discharged from an inkjet nozzle 1 provided in a nozzle head of a droplet discharge device to surround the partition wall 12. The thin film pattern 30 having a desired shape is formed in the region (the thin film pattern formation region). Here, it is assumed that the regions (thin film pattern formation regions) of the pixels divided by the partition walls 12 shown in FIG. 2 are regularly distributed over the entire substrate 10.
[0037]
Then, the application method of the liquid material according to the present embodiment is performed by performing the inkjet nozzle 1 as shown by arrows 21 and 22 in FIG. Specifically, as shown in FIG. 1A, the movement position of a nozzle head (inkjet nozzle 1) of a droplet discharge device is defined with respect to a substrate 10 on which a thin film pattern is formed by a droplet discharge method. The arrowed line 21 is defined as a virtual first scanning line to be executed. When a plurality of pixel regions are dispersedly arranged on the entire substrate 10, a plurality of parallel lines 21 with arrows are set at predetermined intervals on the entire substrate 10.
[0038]
Then, the droplet 2 is discharged while moving the inkjet nozzle 1 along the arrowed line 21 (that is, in the vertical direction in the drawing) and in the direction indicated by the arrowed line 21. The process of discharging the droplet 2 while moving the inkjet nozzle 1 along the arrowed line 21 in this manner is referred to as a first (hereinafter the same) discharge process.
[0039]
When this first-direction ejection process is performed, as shown in FIG. 1B, thin film patterns (dot thin films) 31 are dispersedly formed on the entire upper surface of the substrate 10. Each thin film pattern 31 forms a hole injection layer or a light emitting layer of each pixel.
[0040]
Conventionally, as shown in FIG. 1B, a hole injection layer is provided by scanning the ink jet nozzle 1 in one direction to form a thin film pattern 31 and drying the thin film pattern 31. Thereafter, FIG. As shown in (1), the light emitting layer was provided by scanning the inkjet nozzle 1 in one direction to form a thin film pattern 31 and drying it. Thereafter, a cathode is formed by a vacuum evaporation method to complete the organic EL device.
[0041]
In the conventional organic EL device thus formed, when a voltage is applied between the anode and the cathode to emit light, stripes are observed in the direction along the arrowed line 21. The uneven streaks indicate that the film thickness of the thin film pattern 31 is non-uniform, and degrade the display quality.
[0042]
Therefore, in the present embodiment, after performing the first direction discharge process as shown in FIG. 1A and forming the thin film pattern 31 as shown in FIG. 1B, the second direction discharge process described below is performed. Perform coating operation. The second direction discharge process is preferably performed before the thin film pattern 31 formed in the first direction discharge process is completely dried. In addition, the volume of the thin film pattern 31 is reduced by subjecting the thin film pattern 31 formed by the first direction discharge process to a drying process (intermediate drying process) that does not reach complete drying, and then to the second direction. The application operation of the ejection processing may be performed. By doing so, the above-mentioned uneven streaks can be reduced or dispersed.
[0043]
In the second direction ejection process, as shown in FIG. 1C, a virtual second scanning line that intersects at a substantially right angle with the arrowed line (first scanning line) 21 used in the first direction ejection process. Is defined as a line 22 with an arrow. Here, the arrowed line 21 and the arrowed line 22 may intersect at an angle other than 90 degrees. For example, when a plurality of pixel areas are dispersedly arranged on the entire substrate 10, a plurality of parallel lines 22 with arrows are set on the entire substrate 10 at predetermined intervals.
[0044]
Then, the droplet 2 is ejected while moving the inkjet nozzle 1 along the arrowed line 22 (that is, in the horizontal direction of the drawing) and in the direction indicated by the arrowed line 22. The process of discharging the droplet 2 while moving the inkjet nozzle 1 along the arrowed line 22 in this manner is referred to as a second (hereinafter the same) discharge process.
[0045]
When this second-direction ejection process is performed, as shown in FIG. 1D, a thin film pattern (dot thin film) 32 is dispersedly formed on the entire upper surface of the substrate 10. Each of the thin film patterns 32 also forms a hole injection layer or a light emitting layer of each pixel similarly to the thin film pattern 31. As a result, the hole injection layer or the light emitting layer of each pixel is formed by the thin film pattern 32 formed by the first direction discharge process and the thin film pattern 32 formed by the second direction discharge process.
[0046]
A plurality of inkjet nozzles 1 are provided in a nozzle head of a droplet discharge device used in these processes. Then, for each pixel, there is a high probability that the ink jet nozzle 1 used in the first direction discharge process and the ink jet nozzle 1 used in the second direction discharge process are different from each other. This may be intentionally different. For each pixel, the ejection state of the first-direction ejection process (the ejection amount of ejected droplets, ink physical properties, ejection speed, etc.) is different from the ejection state of the second-direction ejection process.
[0047]
Therefore, according to the present embodiment, by performing the first direction discharge processing and the second direction discharge processing, it is possible to disperse the difference between the discharge states of the adjacent scanning lines, and “smear streaks” appear in the thin film pattern. It is possible to suppress the occurrence and to make the film thickness and the like uniform. Therefore, by forming the hole injection layer, the light emitting layer, and the like which are the components of each pixel by using the liquid material application method according to the present embodiment, it is possible to reduce uneven light emission in the organic EL device. .
[0048]
Further, the method for applying a liquid material according to the present embodiment may be applied to the formation of a thin film pattern forming a color filter in an organic EL device. For example, in an organic EL device that emits white light from a light emitting layer and emits the white light to the outside through a color filter, the coating method of the present embodiment is applied to the formation of a thin film pattern forming a color filter. In this way, the thin film pattern forming the color filter can be formed uniformly without causing "streaks". Thus, according to the present embodiment, it is possible to greatly reduce color unevenness and the like in an organic EL device including a color filter.
[0049]
In the method of applying a liquid material according to the above-described embodiment, the first-direction ejection process and the second-direction ejection process can be performed for each pixel region that is a plurality of thin film pattern formation regions set on the entire substrate 10. preferable. With this configuration, the first direction discharge process and the second direction discharge process are performed on each of the plurality of pixel regions, so that a difference in the discharge amount between the plurality of droplets discharged on one pixel can be dispersed. In addition, the difference in the amount of discharged liquid droplets between the pixel thin film pattern formation regions can be dispersed. Therefore, according to the present coating method, it is possible to reduce the occurrence of “streaks” in a thin film pattern such as a hole injection layer and a light emitting layer that form each pixel. The occurrence of "streaks" can be reduced.
[0050]
Further, in the method for applying a liquid material according to the present embodiment, a plurality of pixel regions, which are thin film pattern forming regions set on the substrate 10, include a pixel region where the first direction discharge process is performed and a pixel region where the second direction discharge process is performed. It may be divided into a pixel area to be performed. For example, on the entire upper surface of the substrate 10, a pixel region where the first direction discharge process is performed and a pixel region where the second direction discharge process is performed are mixed. In this way, when the entire substrate 10 is viewed, the difference between the droplet discharge states for a plurality of pixel regions can be dispersed, and the occurrence of "streaks" can be reduced.
[0051]
Further, in the method for applying a liquid material according to the above-described embodiment, a first direction discharge process is performed on the entire substrate 10 as shown in FIG. 1A, and thereafter, the substrate 10 is coated as shown in FIG. Are subjected to the second direction discharge processing. Instead of such an application sequence, the first direction ejection processing is performed for a certain arrowed line 21, and then the second direction ejection processing is performed for a certain arrowed line 22. The ejection process and the second direction ejection process may be alternately repeated.
[0052]
In the method for applying a liquid material according to the present embodiment, a plurality of droplets made of the same material (for example, a hole injection transport material) are ejected to each pixel region that is a thin film pattern formation region. When a plurality of droplets of the same material are ejected to each thin film pattern formation region in this manner, it is preferable to perform the first-direction ejection process at least once and to perform the second-direction ejection process at least once.
[0053]
In this way, in a plurality of droplet discharges of the same material with respect to the thin film pattern formation region (pixel region), the difference in each discharge state is dispersed, so that a thin film pattern of the same material having a uniform thickness and the like can be formed. This can reduce the occurrence of “streaks” in the thin film pattern.
[0054]
Further, in the method for applying a liquid material according to the present embodiment, a droplet discharge device in which a plurality of inkjet nozzles 1 are provided in a nozzle head is used, and a thin film pattern forming region (pixel region) is provided in a first direction. It is preferable that the inkjet nozzle 1 used in the ejection process and the inkjet nozzle 1 used in the second direction ejection process are different. In this way, even if there is a difference in the ejection amount between the inkjet nozzles 1, the difference in the ejection amount can be dispersed. Thus, according to this coating method, the occurrence of the above-mentioned "streaks" can be further reduced.
[0055]
Further, in the method for applying a liquid material according to the present embodiment, a droplet discharge device in which a plurality of inkjet nozzles 1 are provided in a nozzle head is used, and one thin film pattern formation region (pixel region) is used. Droplets may be ejected simultaneously or sequentially by two or more adjacent inkjet nozzles 1. The droplet discharge by the two or more inkjet nozzles 1 is performed as the above-described first direction discharge processing or second direction discharge processing.
[0056]
In this way, a plurality of inkjet nozzles 1 can discharge droplets substantially simultaneously to one thin film pattern formation region (for example, a pixel region), so that a thin film pattern can be formed at a high speed, It is possible to disperse the difference in the discharge amount and the like. Therefore, according to the present coating method, a thin film pattern with less “streaks” can be formed at a high speed.
[0057]
In the method for applying a liquid material according to the present embodiment, a part of the thin film pattern 31 formed by the droplets discharged in the first direction discharge process and the droplets discharged in the second direction discharge process It is preferable to perform the first direction discharge processing and the second direction discharge processing so that a part of the thin film pattern 32 formed by the above process overlaps.
[0058]
Thus, the dot thin film (thin film pattern 31) formed by one ejection droplet in the first direction ejection process and the dot thin film (thin film pattern 32) formed by one ejection droplet in the second direction ejection process Thus, a thin film can be formed without gaps over the entire thin film pattern formation region. Therefore, according to this coating method, it is possible to form a high-precision thin-film pattern without leaving unpainted over the entire thin-film pattern forming region (for example, a pixel region) and with little "streaks".
[0059]
In the method of applying a liquid material according to the present embodiment, the ejection amount of one droplet in the first direction ejection process and the ejection amount of one droplet in the second direction ejection process are set to different values. Is also good. By doing so, it is possible to control the ejection amount so as to reduce the difference in the ejection state of the ink jet nozzle 1 or the difference in the landing state of the droplet associated with the difference in the scanning direction of the nozzle head in the droplet ejection device. it can. Therefore, according to this coating method, a more uniform thin film pattern can be formed, and a high-precision thin film pattern with less "streaks" can be formed.
[0060]
Further, in the method for applying a liquid material according to the present embodiment, the viscosity, surface tension, concentration, and ink composition ratio of the droplet in the first direction discharge process, and the viscosity and surface tension of the droplet in the second direction discharge process , Density, and ink composition ratio may be different values. In this method, for example, the inkjet nozzle 1 (first nozzle) used in the first direction ejection process and the inkjet nozzle 1 (second nozzle) used in the second direction ejection process are supplied to the first nozzle separately. This can be realized by making the liquid material to be supplied and the liquid material supplied to the second nozzle different from each other.
[0061]
By doing so, it is possible to reduce the difference in the ejection state or the difference in the landing state of the droplet due to the difference in the scanning direction of the nozzle head. Therefore, according to this coating method, a more uniform thin film pattern can be formed, and a high-precision thin film pattern with less "streaks" can be formed.
[0062]
Further, the method for applying a liquid material according to the present embodiment may be applied to the formation of a thin film pattern constituting a photoresist film. For example, the method of applying a liquid material according to the present embodiment may be used to form the partition 12 in FIG. By doing so, the photoresist film formed when transferring and forming various patterns can be formed by the coating method of the above embodiment using the droplet discharge method. According to this coating method, it is possible to reduce the occurrence of “streaks” in the photoresist film. Therefore, various thin film patterns are formed at low cost and with high precision using the photolithography method and the droplet discharge method. be able to.
[0063]
<Method of Manufacturing Organic EL Device>
Next, a method for manufacturing an organic EL device using the method for applying a liquid material according to the above embodiment will be specifically described with reference to FIG. In this manufacturing method, the hole injection / transport layer in the organic EL device is formed by the method for applying a liquid material of the above embodiment.
[0064]
The composition for a hole injecting and transporting layer mainly contains a conductive compound for forming the hole injecting and transporting layer, a dispersion solvent and a wetting agent, and is used for pattern formation by a droplet discharging method. The conductive compound forming the hole injection transport layer is preferably a compound having an ionization potential lower than that of the anode. For example, when indium tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide) is used as the positive electrode, a porphyrin compound such as copper phthalocyanine is used as the low-molecular material.
[0065]
In addition, other additives and a film stabilizing material may be added. For example, a viscosity adjuster, an antioxidant, a pH adjuster, a preservative, a resin emulsion, a leveling agent and the like can be used.
[0066]
The physical properties of the composition for the hole injection transport layer when copper phthalocyanine was used as the conductive compound (component of the hole injection transport layer) were examined. Samples were prepared from compositions A to N shown in Tables 1 to 10.
[0067]
Composition i
[Table 1]
Figure 2004362818
[0068]
Composition b
[Table 2]
Figure 2004362818
[0069]
Composition c
[Table 3]
Figure 2004362818
[0070]
Composition D
[Table 4]
Figure 2004362818
[0071]
Composition e
[Table 5]
Figure 2004362818
[0072]
Composition
[Table 6]
Figure 2004362818
[0073]
Composition
[Table 7]
Figure 2004362818
[0074]
Composition
[Table 8]
Figure 2004362818
[0075]
Composition
[Table 9]
Figure 2004362818
[0076]
Composition Nu
[Table 10]
Figure 2004362818
[0077]
(Ejection Evaluation) The contact angles, viscosities, and surface tensions of the compositions A to H shown in Tables 1 to 8 with respect to the material constituting the nozzle surface of the ink jet head were measured, and their ejection properties were evaluated. The ejection evaluation was performed using an inkjet printing apparatus (MJ-500C manufactured by Epson).
[0078]
The viscosity is a value measured at 20 ° C. Table 11 shows the results.
[0079]
[Table 11]
Figure 2004362818
From this result, it is understood that the contact angle is preferably from 30 ° to 170 °, particularly preferably from 35 ° to 65 °. Further, it is understood that the viscosity is preferably from 1 cp to 20 cp, particularly preferably from 2 cp to 4 cp, and the surface tension is preferably from 20 dyne to 70 dyne, particularly preferably from 25 dyne to 40 dyne.
[0080]
Further, it can be seen that the compositions A to C in which glycerin is mixed as a wetting agent are superior in ejection property as compared with the compositions F to H in which no wetting agent is mixed. Therefore, it is preferable that the ink composition contains a wetting agent. By mixing the wetting agent, it is possible to effectively prevent the ink composition from drying and solidifying at the nozzle opening. Examples of such a wetting agent include polyhydric alcohols such as glycerin and diethylene glycol, and glycerin is particularly preferred.
[0081]
(Preparation of Composition for Hole Injection and Transport Layer) Compositions 1 to 3 shown in Tables 1 to 3 and Tables 9 and 10, respectively, and Compositions 1 and 2 were prepared. The particle size distribution of the hole injection transport layer forming compound (copper phthalocyanine) before and after the sonication was measured. Further, after the ultrasonic treatment, the film forming property of the hole injection transport layer formed by patterning by the droplet discharge method using the above-described composition for a hole injection transport layer that had been subjected to a filtration step was evaluated.
[0082]
Table 12 shows the results. The effect of the ultrasonic treatment was shown by the ratio of the particle size distribution of 1 μm or less. The particle size of the styrene acrylic resin dispersion is 1 μm or more.
[0083]
[Table 12]
Figure 2004362818
From this result, it is understood that the dispersibility can be improved by subjecting the dispersion to ultrasonic treatment for 4 hours. Further, by further filtering the ultrasonically treated dispersion liquid, a more uniform hole injection transport layer film can be obtained. Further, as the polar solvent for dispersing the conductive compound, water or a mixed solvent of water and methanol or ethoxyethanol is preferable (compositions (a) to (c)). It can be seen that the film properties are also good.
[0084]
(Manufacturing process of organic electroluminescent element) Using compositions A to C shown in Tables 1 to 3, patterning and film formation of a hole injection / transport layer by a droplet discharge method were performed according to the following procedure. An electroluminescent device (light emitting layer) was manufactured.
[0085]
Anode formation process (FIG. 3A)
This step is a step of forming the anode 101 on the glass substrate 102. It is preferable that the glass substrate 102 be hardly affected by chemicals such as acids and alkalis and be mass-produced. An ITO transparent electrode is formed on the substrate 102 to a thickness of 0.1 μm, and is patterned at a pitch of, for example, 100 μm.
[0086]
Partition member forming process (FIG. (B))
This step is a step of forming the partition member 103 on the glass substrate 102. Specifically, a space between the anodes (ITO electrodes) 101 was filled, and a non-photosensitive polyimide (partition member) also serving as an ink dripping prevention wall (bank) was formed by photolithography. Here, the partition member 103 may be formed by using the liquid material application method of the present embodiment shown in FIG. The partition member 103 has, for example, a width of 20 μm and a thickness of 2.0 μm.
[0087]
Step of discharging composition for hole injecting and transporting layer (Fig. (C))
Furthermore, hole injection transport layer compositions A to C (106 in the figure) were ejected from the head 105 of an inkjet printing apparatus (MJ-800C manufactured by Epson) 104 to form a hole injection transport layer 107 by patterning. In this film formation, the method of applying the liquid material of the present embodiment shown in FIG. 1 was used. After pattern formation, a hole injection transport layer was formed by a drying process at 200 ° C. for 10 minutes. At the time of discharging the composition for a hole injecting and transporting layer, application over the bank was not observed, and a highly accurate hole injecting and transporting layer pattern with little "streaks" was obtained.
[0088]
Light emitting layer composition filling step (FIG. (D))
Next, a PPV precursor (poly (para-phenylenevinylene)) composition was produced as a green light-emitting layer. The light-emitting layer composition 108 was discharged by a droplet discharge method, and the light-emitting layer 109 was formed into a patterned film. Also in this film formation, the liquid material application method of the present embodiment shown in FIG. 1 was used. As the light emitting layer 109, PPV doped with rhodamine B emitting red light or PPV doped with coumarin emitting blue light may be used. By further patterning a light emitting layer that emits light of three primary colors of red, green, and blue on the hole injecting and transporting layer, a high-quality full-color organic EL display without color unevenness can be manufactured.
[0089]
Cathode forming process (Fig. (E))
Finally, a negative electrode 110 was deposited so as to cover the light emitting layer 109 to form an organic electroluminescent device.
[0090]
According to the method for manufacturing an organic EL device, an organic EL device free from streak-like color unevenness can be easily realized in a short time and at low cost.
[0091]
<Method of manufacturing plasma display panel>
Next, a method for manufacturing a plasma display panel using the thin film pattern forming method of the above embodiment will be specifically described with reference to FIG. In the present manufacturing method, the electrode wiring pattern in the plasma display panel is formed by the method of applying the liquid material of the above embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a plasma display panel manufactured by using the liquid material application method according to the present embodiment.
[0092]
The plasma display panel 120 has two glass substrates 121 and 129 bonded to each other, and a space formed by both substrates is filled with an inert gas. Each of the glass substrates 121 and 129 is provided with an electrode (transparent electrode 122, bus electrode 123, address electrode 127) formed by the method for applying a liquid material according to the present embodiment, and the like. Next, the configuration of the plasma display panel 120 will be specifically described.
[0093]
In the plasma display panel 120, on the inner surface of the glass substrate 121 on the observation side of the pair of substrates sandwiching the discharge space 125, sustain electrodes are arranged for each line which is a horizontal cell row of the screen. The sustain electrode includes a transparent electrode 122 which is a transparent conductive film, and a bus electrode 123 which is a metal film for reducing a resistance value. The transparent electrode 122 and the bus electrode 123 are provided by the above-described liquid material application method shown in FIG. That is, the transparent electrode 122 is indium tin oxide formed by the droplet discharge method shown in FIG. 1, and the bus electrode 123 is also formed by the droplet discharge method shown in FIG.
[0094]
The transparent electrode 122 and the bus electrode 123 are covered with a dielectric layer 124 for AC driving. The dielectric layer 124 has a light transmitting property. Inside the glass substrate 129 on the back side, address electrodes 127, partition walls 128, and phosphors 126R, 126G, 126B of three colors (red R, green G, blue B) for color display are provided. The partition 128 divides the discharge space 125 into unit light emitting regions in the line direction. The discharge space 125 is filled with a discharge gas such as argon or neon. The phosphors 126R, 126G, 126B are locally excited by ultraviolet rays generated by the discharge and emit visible light of a predetermined color. One unit light emitting area in the display is composed of three unit light emitting areas arranged in the line direction. The structure within each unit light emitting region is a cell.
[0095]
Next, a manufacturing process of the plasma display panel 120 having the above structure will be described. The glass substrate 121 on the observation side (display surface side) of the two glass substrates 121 and 129 is referred to as an observation surface side substrate structure, and the glass substrate 29 on the opposite side (back side) to the glass substrate 121 is on the back side. It is called a substrate structure.
First, as an observation surface side substrate structure, a transparent electrode 122 is formed on a light transmissive glass substrate 121. The formation of the transparent electrode 122 is performed by a method of applying indium tin oxide as shown in FIG. Next, a bus electrode 123 is formed on the transparent electrode 122. The formation of the bus electrode 123 is also performed by a method of applying a conductive material as shown in FIG. Next, an observation surface side substrate structure is completed by forming a dielectric layer 124 covering the transparent electrode 122 and the bus electrode.
[0096]
On the other hand, as the rear substrate structure, first, an address electrode 127 is formed on a glass substrate 129. The formation of the address electrode 127 is also performed by applying a conductive material as shown in FIG. Next, after forming the partition wall 128, the phosphors 126R, 126G, 126B are formed in the space partitioned by the partition wall 128 by a screen printing method or the like. The phosphors 126R, 126G, and 126B are, for example, a mixture of a phosphor powder having a predetermined emission color and a vehicle made of a cellulose-based or acrylic-based thickener resin and an alcohol-based or ester-based organic solvent. The body paste is formed by a screen printing method. The phosphor 126R that emits red light, the phosphor 126G that emits green light, and the phosphor 126B that emits blue light are alternately formed in the direction of the address electrode 127. Next, the phosphors 126R, 126G, and 126B are subjected to a heat treatment in an air atmosphere at atmospheric pressure to evaporate volatile components of the vehicle. This heat treatment is called a firing step of the phosphor.
After the firing of the phosphors 126R, 126G, 126B is completed, the observation surface side substrate structure and the back surface substrate structure are bonded together, and the inside thereof is evacuated and filled with an inert gas to complete the plasma display panel 120. I do.
[0097]
Accordingly, in the manufacturing method of the plasma display panel 120 of the present embodiment, the liquid material application method (droplet discharging method) according to the present embodiment is used for forming the transparent electrode 122, the bus electrode 123, and the address electrode 127. Therefore, the amount of waste of indium tin oxide and the conductive material can be significantly reduced as compared with the case where it is manufactured by photolithography or etching. Further, in the method of manufacturing the plasma display panel 120 of the present embodiment, it is not necessary to form a photomask when forming the transparent electrode 122, the bus electrode 123, and the address electrode 127, so that the manufacturing period can be shortened. In addition, manufacturing costs can be reduced.
[0098]
Further, in the plasma display panel 120 of the present embodiment, even if the bus electrode 123 is disconnected, the transparent electrode 123 made of indium tin oxide is formed under the conductive pattern, so that the It is connected as a wiring and can exhibit a predetermined function in the plasma display panel 120.
[0099]
Further, in the plasma display panel 120 of the present embodiment, when forming the transparent electrode 122, the bus electrode 123, and the address electrode 127 by the droplet discharge method, as shown in FIG. Since the droplets are applied, the occurrence of “streaks” in the thin film pattern forming the transparent electrode 122, the bus electrode 123, and the address electrode 127 can be suppressed. Therefore, according to the present manufacturing method, the transparent electrode 122, the bus electrode 123, and the address electrode 127 of the plasma display panel 120 can be formed with high precision, so that a high-quality image can be displayed and current leakage and the like can be performed. It is possible to provide the plasma display panel 120 having a low probability of occurrence of the above-mentioned problem.
[0100]
<Manufacturing method of liquid crystal device>
Next, a method for manufacturing a liquid crystal device using the method for applying a liquid material according to the above embodiment will be specifically described with reference to FIG. In this manufacturing method, an electrode wiring pattern and a color filter in a liquid crystal device are formed by the coating method of the above embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a liquid crystal device 200 manufactured using the liquid material application method according to the present embodiment.
[0101]
As shown in FIG. 5, a color filter 205, a flattening film 206 made of an organic film, a transparent electrode 207, and an alignment film 209 are sequentially formed on the surface of the lower substrate 201 on the liquid crystal layer 203 side. On the other hand, on the liquid crystal layer 203 side surface of the upper substrate 202, a transparent electrode 208 made of indium tin oxide and an alignment film 210 are sequentially laminated. Further, a large number of spherical spacers 213 are arranged in the liquid crystal layer 203.
[0102]
The color filter 205 includes a red (R), green (G), and blue (B) colored layer 205a formed in a predetermined pattern, and a light-shielding layer (black matrix) 205b that shields between the adjacent colored layers 205a. ing. The alignment films 209 and 210 are made of an alignment polymer such as polyimide, and their surfaces are rubbed in a predetermined direction using a cloth or the like according to the alignment state of the liquid crystal layer 203 when no electric field is applied. . The color filter 205 and the flattening film 206 are formed at least in the display area, and are formed only inside the sealant 204.
[0103]
Next, a method for manufacturing the liquid crystal device 200 having the above structure will be described.
First, a color filter 205, a planarizing film 206, a transparent electrode 207, and an alignment film 209 are sequentially formed on the surface of the lower substrate 201. Here, the color filter 205 and the transparent electrode 207 are each formed by the liquid material application method shown in FIG.
[0104]
Further, a transparent electrode 208 and an alignment film 210 are sequentially formed on the surface of the upper substrate 202. Here, the transparent electrode 208 is also formed by the liquid material application method shown in FIG. That is, the transparent electrode 208 is formed by discharging indium tin oxide on the surface of the substrate 202 by a droplet discharge device.
[0105]
Next, a lower substrate 201 on which a color filter 205, a flattening film 206, a transparent electrode 207, and an alignment film 209 are sequentially laminated on the surface, and an upper substrate 202 on which a transparent electrode 208 and an alignment film 210 are sequentially laminated are formed. After sticking through the uncured sealing material 204, the uncured sealing material 204 is cured so as to form a liquid crystal inlet, thereby forming a liquid crystal cell.
Next, the liquid crystal is sucked into the liquid crystal cell by a vacuum injection method to form the liquid crystal layer 203, whereby the liquid crystal device 200 having the above structure is manufactured.
[0106]
Thus, in the method of manufacturing the liquid crystal device 200 of the present embodiment, the transparent electrodes 207 and 208 made of indium tin oxide or the like are formed by a droplet discharge method, so that indium is used as compared with the case of manufacturing by photolithography or etching. The amount of waste such as tin oxide can be significantly reduced.
Further, in the method of manufacturing the liquid crystal device 200 of the present embodiment, it is not necessary to form a photomask when forming the transparent electrodes 207 and 208, so that the manufacturing period can be shortened and the manufacturing cost can be reduced. Can be.
[0107]
Further, in the method of manufacturing the liquid crystal device 200 according to the present embodiment, when forming the color filter 205 and the transparent electrodes 207 and 208 by the droplet discharge method, droplets are applied in the order shown in FIG. A high-quality liquid crystal device 200 with less light emission unevenness in shape can be manufactured.
[0108]
(Electronics)
An example of an electronic apparatus including an electro-optical device (organic EL device, plasma display panel, or liquid crystal device) manufactured using the thin film pattern forming method of the above embodiment will be described.
FIG. 6 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 6, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the electro-optical device.
[0109]
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a wristwatch-type electronic device. 7, reference numeral 1100 denotes a watch main body, and reference numeral 1101 denotes a display unit using the electro-optical device.
[0110]
FIG. 8 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer. 8, reference numeral 1200 denotes an information processing device, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing device main body, and reference numeral 1206 denotes a display unit using the above-described electro-optical device.
[0111]
Since the electronic apparatus shown in FIGS. 6 to 8 includes the electro-optical device of the above embodiment, it is possible to provide a high-quality electronic apparatus with reduced light emission unevenness and current leakage in a display unit or the like at low cost. Can be.
[0112]
Note that the technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. The configuration and the like are merely examples, and can be appropriately changed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram of a method for applying a liquid material according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a state of a substrate to which the embodiment is applied.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing an organic EL device.
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a plasma display panel.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a liquid crystal device.
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to an embodiment of the invention.
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to an embodiment of the invention.
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus according to an embodiment of the invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ink jet nozzle, 2 ... Droplet, 10 ... Substrate, 11 ... Anode, 12 ... Partition wall, 13 ... Cathode separator, 21, 22 ... Line with arrow, 30, 31, 32 ... Thin film pattern

Claims (19)

インクジェットヘッドに形成される複数のノズルから液滴を吐出し、基板上に所定のパターンを形成する薄膜パターンの製造方法であって、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから液滴を吐出することよってパターンを形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、仮想的な第1走査ラインを規定し、前記インクジェットヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とを有することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
A method of manufacturing a thin film pattern for discharging droplets from a plurality of nozzles formed in an inkjet head and forming a predetermined pattern on a substrate,
Forming a pattern by discharging droplets from the nozzles as the inkjet head and the stage holding the substrate move relative to each other,
When the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scan line is defined, and the inkjet head is moved along the first scan line to discharge droplets. A first ejection process;
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets. A method for producing a thin film pattern, comprising:
前記基板において薄膜パターン形成領域は複数設定されており、
前記薄膜パターン形成領域毎に、前記第1吐出処理及び前記第2吐出処理が行われることを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターンの製造方法。
A plurality of thin film pattern forming regions are set on the substrate,
The method according to claim 1, wherein the first ejection process and the second ejection process are performed for each of the thin film pattern formation regions.
前記基板において前記薄膜パターン形成領域は複数設定されており、
該複数の薄膜パターン形成領域は、前記第1吐出処理が行われる領域と、前記第2吐出処理が行われる領域とを少なくとも有することを特徴とする請求項1に記載の薄膜パターンの製造方法。
A plurality of the thin film pattern forming regions are set on the substrate,
2. The method according to claim 1, wherein the plurality of thin film pattern forming regions include at least a region where the first ejection process is performed and a region where the second ejection process is performed. 3.
前記基板の全体について前記第1吐出処理を行い、その後、該基板の全体について前記第2吐出処理を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the first discharge process is performed on the entire substrate, and then the second discharge process is performed on the entire substrate. 5. . 前記第1吐出処理と前記第2吐出処理とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the first discharge processing and the second discharge processing are alternately repeated. 5. 前記基板は、同一材料からなる前記液滴を1つの薄膜パターン形成領域に複数回吐出して1つの薄膜パターンを形成する領域を有し、
該複数回吐出において、少なくとも1回は前記第1吐出処理を行うとともに、少なくとも1回は前記第2吐出処理を行うことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。
The substrate has a region where a single thin film pattern is formed by discharging the droplets of the same material to a single thin film pattern formation region a plurality of times,
6. The thin film pattern according to claim 1, wherein in the multiple ejections, the first ejection processing is performed at least once, and the second ejection processing is performed at least once. 7. Manufacturing method.
前記第1吐出処理を行う前記ノズルと前記第2吐出処理を行う前記ノズルとは、異なることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。The method of manufacturing a thin film pattern according to claim 1, wherein the nozzle that performs the first discharge process is different from the nozzle that performs the second discharge process. 前記第1吐出処理及び前記第2吐出処理の少なくとも一方は、複数の前記ノズルにて同時又は逐次的に液滴を塗布する処理を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。8. The method according to claim 1, wherein at least one of the first ejection process and the second ejection process includes a process of applying droplets simultaneously or sequentially with the plurality of nozzles. 9. 3. The method for producing a thin film pattern according to item 1. 前記第1吐出処理を行った後であって、該第1吐出処理で形成された液状体からなる薄膜が略完全に乾燥する前に、前記第2吐出処理を行うことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。The second discharge process is performed after the first discharge process is performed and before the liquid thin film formed in the first discharge process is almost completely dried. The method for producing a thin film pattern according to any one of claims 1 to 8. 前記第1吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部と、前記第2吐出処理で吐出された液滴によって形成された薄膜の一部とが重なるように、該第1吐出処理及び第2吐出処理を行うことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。The first ejection is performed so that a part of the thin film formed by the droplets ejected in the first ejection process and a part of the thin film formed by the droplets ejected in the second ejection process overlap. The method for manufacturing a thin film pattern according to claim 1, wherein the processing and the second ejection processing are performed. 前記第1吐出処理における1回の吐出量と、前記第2吐出処理における1回の吐出量とを異なる量にすることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。The thin film pattern according to any one of claims 1 to 10, wherein an amount of one ejection in the first ejection process and an amount of one ejection in the second ejection process are different. Manufacturing method. 前記第1方向吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも1つと、該少なくとも1つに対応する前記第2吐出処理における液滴の粘度、濃度、表面張力及びインク組成比のいちの少なくとも1つとを、異なる値にすることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。At least one of the viscosity, concentration, surface tension, and ink composition ratio of the droplet in the first direction discharge process, and the viscosity, concentration, surface tension, and surface tension of the droplet in the second discharge process corresponding to the at least one of the droplets. 12. The method according to claim 1, wherein at least one of the ink composition ratios has a different value. 電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記正孔注入輸送層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから正孔注入輸送材料を吐出することによって前記正孔注入輸送層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第1走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記正孔注入輸送層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
A method for manufacturing an organic electroluminescent device, wherein a light emitting device having a light emitting layer and a hole injection transport layer between electrodes is formed on a substrate,
Forming a hole injection transport layer by discharging droplets with an inkjet head formed in a droplet discharge device,
Forming the hole injecting and transporting layer by discharging a hole injecting and transporting material from the nozzle with the relative movement of the inkjet head and the stage holding the substrate,
When the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scan line is defined on the light emitting layer, and the nozzle head is moved along the first scan line to move the liquid. A first ejection process for ejecting droplets;
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets is performed. A method for manufacturing an organic electroluminescent device, comprising forming a hole injection transport layer.
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、
前記発光層を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することに伴い前記ノズルから発光層形成材料を吐出することによって前記発光層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記発光層に仮想的な第1走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記発光層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。
A method for manufacturing an organic electroluminescent device, wherein a light emitting device having a light emitting layer and a hole injection transport layer between electrodes is formed on a substrate,
A step of forming the light emitting layer by discharging droplets with an inkjet head formed in a droplet discharge device,
Forming the light emitting layer by discharging the light emitting layer forming material from the nozzle with the relative movement of the stage holding the inkjet head and the substrate,
When the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scan line is defined on the light emitting layer, and the nozzle head is moved along the first scan line to move the liquid. A first ejection process for ejecting droplets;
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets is performed. A method for manufacturing an organic electroluminescent device, comprising forming a light emitting layer.
電極間に発光層と正孔注入輸送層とを有する発光素子が基板に形成されてなり、発光方向側にカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記発光層を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
A method for manufacturing a color filter, wherein a light emitting element having a light emitting layer and a hole injection transport layer between electrodes is formed on a substrate, and a color filter is formed on a light emitting direction side,
Forming a color filter by discharging droplets by an inkjet head formed in a droplet discharge device,
Forming the light emitting layer by relatively moving the inkjet head and the stage holding the substrate,
When the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scan line is defined in the color filter, and the nozzle head is moved along the first scan line to move the liquid. A first ejection process for ejecting droplets;
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets is performed. A method for manufacturing a color filter, comprising forming a color filter.
基板に形成された電極を有してなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極を、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記電極を形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記電極に仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A method for manufacturing a plasma display panel having electrodes formed on a substrate,
A step of forming the electrodes by discharging droplets with an inkjet head formed in a droplet discharge device,
Forming the electrodes by relatively moving the inkjet head and the stage holding the substrate,
When the inkjet head and the stage holding the substrate relatively move, a virtual first scan line is defined on the electrode, and the nozzle head is moved along the first scan line to form a droplet. A first discharge process for discharging
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets is performed. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising forming electrodes.
基板に形成されたカラーフィルタを有してなる液晶表示パネルの製造方法であって、
前記カラーフィルタを、液滴吐出装置に形成されるインクジェットヘッドにより液滴を吐出することにより形成する工程を有し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動することによって前記カラーフィルタを形成し、
前記インクジェットヘッドと前記基板を保持するステージとが相対的に移動する際、前記カラーフィルタに仮想的な第1走査ラインを規定し、前期ノズルヘッドを該第1走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第1吐出処理と、
前記第1走査ラインに対して略直角に交わる仮想的な第2走査ラインを規定し、前記ノズルヘッドを該第2走査ラインに沿って移動させて液滴を吐出する第2吐出処理とで前記カラーフィルタを形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
A method for manufacturing a liquid crystal display panel having a color filter formed on a substrate,
Forming a color filter by discharging droplets by an inkjet head formed in a droplet discharge device,
Forming the color filter by relatively moving the stage holding the inkjet head and the substrate,
When the inkjet head and the stage holding the substrate move relatively, a virtual first scan line is defined in the color filter, and the nozzle head is moved along the first scan line to move the liquid. A first ejection process for ejecting droplets;
A second discharge process of defining a virtual second scan line that intersects the first scan line at a substantially right angle and moving the nozzle head along the second scan line to discharge droplets is performed. A method for manufacturing a liquid crystal display panel, comprising forming a color filter.
前記薄膜パターンは、フォトレジスト膜であることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法。The method according to any one of claims 1 to 12, wherein the thin film pattern is a photoresist film. 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の薄膜パターンの製造方法を用いて製造された薄膜パターンを備えることを特徴とする電子機器。An electronic apparatus comprising a thin film pattern manufactured by using the method for manufacturing a thin film pattern according to claim 1.
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