JP2004352571A - ガラス組成物及びガラス基板 - Google Patents
ガラス組成物及びガラス基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004352571A JP2004352571A JP2003153238A JP2003153238A JP2004352571A JP 2004352571 A JP2004352571 A JP 2004352571A JP 2003153238 A JP2003153238 A JP 2003153238A JP 2003153238 A JP2003153238 A JP 2003153238A JP 2004352571 A JP2004352571 A JP 2004352571A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass substrate
- substrate
- sio
- thermal expansion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 134
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 111
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims abstract description 23
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- -1 lanthanoid metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 9
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 32
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910001149 41xx steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 229910000943 NiAl Inorganic materials 0.000 description 3
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002441 CoNi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】重量%で、SiO2:45〜75%、Al2O3:1〜20%、B2O3:0〜8%(ただし、ゼロを含む)、SiO2+Al2O3+B2O3:60〜90%、R2O(R=Li,Na,K)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、R’O(R’=Mg,Ca,Sr,Ba,Zn)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、TiO2+ZrO2+LnxOy:0〜12%(ただしゼロを含む、またLnxOyはランタノイド金属酸化物及びY2O3,Nb2O5,Ta2O5からなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を意味する)の各ガラス成分を有する構成とした。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はガラス基板及びこれに用いるガラス組成物に関し、より詳細には磁気ディスク、光磁気ディスク、DVD、MDなどの情報記録用媒体や光通信用素子などの基板として用いるガラス基板及びこれに用いるガラス組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、磁気ディスク用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型にはアルミニウム合金が、他方ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型にはガラス基板が一般に使用されていたが、アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が携帯型のみならず据え置き型の機器やその他の家庭用情報機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
【0003】
ガラス基板としては、基板表面のアルカリ元素を他のアルカリ元素と置換することにより圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させた化学強化ガラスが知られている。しかし化学強化ガラスでは煩雑なイオン交換工程が必要であり、またイオン交換後の再加工が不可能であるため製造歩留を上げることが難しかった。また、ガラス基板にイオン交換性を持たせるために、アルカリイオンの基板中での移動が容易となるようにしていたので、基板表面のアルカリイオンが、磁性膜を成膜する際の加熱工程時に表面に移動して溶出したり、あるいは磁性膜を侵食したり、磁性膜の付着強度を劣化させたりする問題があった。
【0004】
一方、化学強化処理を行わない一般的なガラス基板としてはソーダライム基板があるが、このソーダライム基板を情報記録用基板として用いるには機械的強度、化学的耐久性が不十分であった。また、液晶基板などに使用されているガラス材料では、高温での熱安定性を維持するため無アルカリあるいは低アルカリ化によって線熱膨張係数を低く抑えているので、SUS鋼などでできたクランプやスピンドルモータ部材の線熱膨張係数との差が大きく、記録媒体の記録装置への取付け時や情報記録時に不具合が生じることがあった。また機械的強度が不十分であるため情報記録用基板へ適用は困難であった。
【0005】
また光フィルタや光スイッチなどの光通信用素子でも基板としてガラス基板が用いられているが、ガラス基板から溶出したアルカリ成分によって前記素子が劣化することがあった。また、ガラス基板上に形成される膜の密度が大きくなるほど、温度・湿度の変化による波長シフトが抑制されるところ、従来広く用いられている真空蒸着法では形成できる膜の密度に限界があった。
【0006】
さらには、ガラス基板を情報記録用として用いる場合に、情報記録用膜をガラス基板上に形成する際、表面に加わえられる圧力や加熱、衝撃によりガラス基板にクラックが入り、製品の歩留まりが低下することがあった。
【0007】
【特許文献1】
特開2001−19466号公報(特許請求の範囲の欄、表1〜表5)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、強化処理を行うことなく熱衝撃に強いガラス基板及びガラス組成物を提供することにあり、さらには高い機械的強度を有し、また線熱膨張係数がモータ部材のそれに近く、さらには高い破壊靭性を有するガラス基板及びガラス組成物を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、重量%で、SiO2:45〜75%、Al2O3:1〜20%、B2O3:0〜8%(ただし、ゼロを含む)、SiO2+Al2O3+B2O3:60〜90%、R2O(R=Li,Na,K)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、R’O(R’=Mg,Ca,Sr,Ba,Zn)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、TiO2+ZrO2+LnxOy:0〜12%(ただしゼロを含む、またLnxOyはランタノイド金属酸化物及びY2O3,Nb2O5,Ta2O5からなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を意味する)の各ガラス成分を有することを特徴とするガラス組成物が提供される。なお、以下「%」は特に断りのない限り「重量%」を意味するものとする。
【0010】
また本発明によれば、前記ガラス組成物から作製したことを特徴とするガラス基板が提供される。
【0011】
ここで耐熱衝撃性の観点から、強化処理を行うことなく、前記式(1)から算出される熱衝撃度数を40より大きくすることが望ましい。
【0012】
強化処理を行うことなく、比弾性率E/ρを30以上、破壊靭性値Kcを1.00以上、線熱膨張係数αを40×10−7〜90×10−7/℃、ガラス転移温度Tgを500℃以上とするのが好ましい。
【0013】
また、表面積/体積(以下、「比表面積」と記すことがある)を1〜50/mmの範囲とし、最も薄い部分の厚みを2mm以下とするのが好ましい。
【0014】
なお、比弾性率(E/ρ)はヤング率Eを比重ρで割った値であって、ヤング率はJIS R 1602ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて測定し、比重ρはアルキメデス法により25℃の蒸留水中で測定したものである。また破壊靭性値Kcは、ビッカース硬度試験機を用いて、荷重500g、負荷時間15secの条件下にてビッカース圧子にて圧痕をつけ下記式から算出した(図2を参照)。
(式中、Kc:破壊靭性値(Pa・m1/2)、E:弾性率(Pa)、Hv:ビッカース硬度(Pa)、P:押し込み荷重(N)、C:クラック長さの平均の半分(m)、a:圧痕の対角線長さの平均の半分(m))
【0015】
線熱膨張係数Aは、示差膨張測定装置を用いて、荷重:5g、温度範囲:25〜100℃、昇温速度:5℃/minの条件で測定した値である。ガラス転移点Tgは、粉末状に調整したガラス試料を示差熱測定装置を用いて、荷重5gで、25〜700℃の温度範囲を5℃/minの昇温率で加熱し測定した値である。また、比表面積S/Vは、ガラス基板が円盤状の場合には例えば図3に示すようにして算出する。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明者等は、強化処理を行うことなく耐熱衝撃性を高めるべく鋭意検討を重ねた。その結果、ガラスのマトリックス成分としてSiO2を用い、そこに所定量のAl2O3及びB2O3を含有させてガラスの骨格を形成することにより所定の剛性が得られ、またR2O(R:Li,Na,K)及びR’O(R’:Mg,Ca,Sr,Ba,Zn)の総量、さらには(TiO2+ZrO2+LnxOy)の総量を所定範囲とすることにより高い耐熱衝撃性を得られることを見出し本発明をなすに至った。
【0017】
以下、本発明に係るガラス組成物の成分についてその限定した理由について説明する。まずSiO2はガラスのマトリックスを形成する成分である。その含有量が45%未満では、ガラスの構造が不安定となり化学的耐久性が劣化すると共に、溶融時粘性特性が悪くなり成形性に支障を来す。一方含有量が75%を超えると、溶融性が悪くなり生産性が低下すると共に、十分な剛性が得られなくなる。そこで含有量を45〜75%の範囲と定めた。より好ましい範囲は48〜74%の範囲である。
【0018】
Al2O3はガラスのマトリックス中に入り、ガラス構造を安定化させ、化学的耐久性を向上させる効果を奏する。含有量が1%未満では十分な安定化効果が得られない。他方20%を超えると溶融性が悪くなり、生産性に支障を来す。そこで含有量を1〜20%の範囲と定めた。より好ましい範囲は3〜18%の範囲である。
【0019】
B2O3は溶融性を改善し生産性を向上させると共に、ガラスのマトリックス中に入りガラス構造を安定化させ、化学的耐久性を向上させる効果を奏する。含有量が8%を超えると、溶融時粘性特性が悪くなり、成形性に支障を来すと共に、ガラスが不安定になる。そこで含有量を8%以下(ただしゼロを含む)の範囲と定めた。より好ましい上限値は6%であり、好ましい下限値は1%である。
【0020】
ガラスの骨格成分であるこれら3つのガラス成分の総量が60%より少ないと、ガラスの構造が脆弱となる一方、前記総量が90%を超えると、溶融性が低下し生産性が落ちる。そこで前記総量を60〜90%の範囲と定めた。より好ましい範囲は65〜88%の範囲である。
【0021】
アルカリ金属酸化物R2O(R=Li,Na,K)は、溶融性を改善し、線熱膨張係数を増大させる効果を奏する。その総量が20%超えるとガラス骨格間に分散されるアルカリ量が過剰となりアルカリ溶出量が増大する。そこでアルカリ金属酸化物の総量を20%以下(ただしゼロを含む)の範囲と定めた。一方、アルカリ金属酸化物の総量が2%未満であると溶融性の改善および線熱膨張係数の増大という効果が充分には得られないことがある。したがって、好ましい下限値は2%である。アルカリ金属酸化物の総量のより好ましい上限値は18%である。また、アルカリ溶出量を低減する、いわゆるアルカリ混合効果を得るためには、前記アルカリ金属酸化物の各成分の下限含有量をそれぞれ0.1%とするのが望ましい。一方、化学的耐久性および溶融安定性の観点から、上限含有量をLi2OとNa2Oとは15%、K2Oは10%とするのが望ましい。
【0022】
また2価の金属酸化物R’O(R’:Mg,Ca,Sr,Ba,Zn)は、剛性を上げると共に溶融性を改善し、ガラス構造を安定化させる効果を奏する。R’Oの総量が20%を超えると、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低下する。そこでR’Oの含有量を20%以下と定めた。R’Oの総量のより好ましい上限値は18%である。R’Oの各成分の好適含有量は次の通りである。
【0023】
MgOは剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏する。含有量が20%を超えるとガラス構造が不安定となり、溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低下するおそれがある。したがって含有量は0〜19%の範囲が好ましい。より好ましい上限値は18%である。
【0024】
またCaOは線熱膨張係数及び剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏する。含有量が10%を超えると、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低下するおそれがある。したがって含有量は0〜10%の範囲が好ましい。より好ましい上限値は9%である。
【0025】
SrOは線熱膨張係数を上げ、ガラス構造を安定化すると共に、溶融性を改善する効果を奏する。含有量が8%を超えるとガラス構造が不安定となるおそれがある。したがって含有量は0〜8%の範囲が好ましい。より好ましい上限値は6%である。
【0026】
BaOはSrOを同じ効果を奏し、その含有量が8%を超えるとガラス構造が不安定となるおそれがある。したがって含有量は0〜8%の範囲が好ましい。より好ましい上限値は6%である。
【0027】
ZnOは化学的耐久性及び剛性を上げると共に溶融性を改善する効果を奏する。含有量が6%を超えると、ガラス構造が不安定となり溶融生産性が低下すると共に化学的耐久性が低下するおそれがある。したがって含有量は0〜6%の範囲が好ましい。より好ましい上限値は5%である。
【0028】
TiO2はガラスの構造を強固にし、剛性を向上させると共に溶融性を改善する効果を奏する。またZrO2もガラスの構造を強固にし剛性を向上させると共に化学的耐久性を向上させる効果を奏する。そしてLnxOyはガラスの構造を堅固にし剛性および靭性を向上させる効果を奏する。なお、このLnxOyはランタノイド金属酸化物及びY2O3,Nb2O5,Ta2O5からなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を意味し、ランタノイド金属酸化物としては、Ln2O3やLnOなどが種類があり、LnとしてはLa、Ce、Er、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Tm、Yb、Luなどが挙げられる。ここで(TiO2+ZrO2+LnxOy)が12%を超えるとガラスが不安定となり、靭性が大幅に低下すると共に失透傾向が高まり生産性が著しく低下する。そこでこれらの総量を12%以下と定めた。より好ましい総量は0〜11.5%の範囲である。
【0029】
本発明のガラス組成物には、Sb2O3などの清澄剤を2%以下の範囲でさらに添加してもよい。その他必要により従来公知のガラス成分及び添加剤を本発明の効果を害しない範囲で添加しても構わない。
【0030】
次に本発明のガラス基板について説明する。本発明のガラス基板の大きな特徴は前記ガラス組成物を用いて製造したことにある。ガラス基板の製造方法に特に限定はなく、これまで公知の製造方法を用いることができる。例えば、各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等を使用し、所望の割合に秤量し、粉末で十分に混合して調合原料とする。これを例えば1,300〜1,550℃に加熱された電気炉中の白金坩堝などに投入し、溶融清澄後、撹拌均質化して予め加熱された鋳型に鋳込み、徐冷してガラスブロックにする。次に、ガラス転移点付近まで再加熱し、徐冷して歪み取りを行う。そして得られたガラスブロックを円盤形状にスライスして、内周および外周を同心円としてコアドリルを用いて切り出す。あるいは溶融ガラスをプレス成形して円盤状に成形する。そして、このようにして得られた円盤状のガラス基板は、さらにその両面を粗研磨および研磨された後、水、酸、アルカリの少なくとも1つの液で洗浄されて最終的なガラス基板とされる。
【0031】
ここで、本発明のガラス基板を例えば情報記録用媒体の基板として用いる場合に、ヘッドの浮上量や記録媒体の膜厚を小さくする観点などから、研磨工程後のガラス基板の表面粗度Raを1nm以下とし、且つ洗浄工程後の表面粗度Ra’を表面粗度Raの1.5倍以下とするのが好ましい。アルカリ成分を多く含む、強化処理を行ったガラス基板の場合には、研磨により表面粗度Raを1nm以下にすることは可能であるが、次の洗浄工程において、水や酸、アルカリで基板表面を表面洗浄したときに、化学的耐久性が低いため表面が激しく浸食される結果、洗浄工程後の表面粗度Ra’が大きくなってしまう。一方、強化処理しないガラス基板では一般に、基板の表面および内部の組成が均質であるので、洗浄工程においても基板の表面粗度Ra’は大きくは変化しない。このため、ガラス成分を最適化することにより洗浄工程後の表面粗度Ra’を研磨工程後の表面粗度Raの1.5倍以下とすることも可能となる。
【0032】
本発明に係るガラス基板ではつぎの諸物性を満足しているのが好ましい。まず、前記式(1)から算出される熱衝撃度数が40より大きいことが好ましい。この熱衝撃度数が40以下であると、急激な熱衝撃が加わった際基板が割れることがあるからである。より好ましい熱衝撃度数は45以上である。
【0033】
比弾性率(E/ρ)が30以上であるのが好ましい。強化処理を行っていないガラス基板では機械的強度は基板の剛性に依存するため、比弾性率が30よりも小さいと、基板の機械的強度が不十分となり、HDD搭載時に外部から衝撃を受けた際、HDD部材との締結部分から破損しやすくなるからである。より好ましい比弾性率(E/ρ)は32以上である。
【0034】
破壊靭性値Kcは1.00以上が好ましい。ガラス基板を情報記録用媒体として用いる場合、破壊靭性値Kcが1.00未満であると、ガラス基板表面に磁性膜などの記録膜を形成する工程において加わえられる圧力などによりガラス基板にひび割れが生じることがあるからである。また、破壊靭性値Kcが1.00未満であると、基板の機械加工において基板が損傷を受けやすくなり、加工歩留まりが大きく低下する。破壊靭性値Kcのより好ましい下限値は1.02である。
【0035】
線熱膨張係数αは40×10−7〜90×10−7/℃の範囲が好ましい。線熱膨張係数αがこの範囲から外れると、ガラス基板を用いた情報記録用媒体を取り付ける駆動部の材料の線熱膨張係数との差が大きくなって、情報記録用媒体の固定部に応力が発生し、基板の破損や基板の変形による記録位置のズレが発生し、記録の読み書きができなくなるからである。線熱膨張係数のより好ましい下限値は42×10−7/℃であり、より好ましい上限値は85×10−7/℃である。
【0036】
ガラス転移温度Tgは500℃以上が好ましい。ガラス転移温度をこのような範囲とするには、例えば骨格成分であるSiO2,B2O3,Al2O3の総量及びそれら比率、そしてガラス転移温度を大幅に低下させる成分であるアルカリ金属酸化物の添加量を、目的とする主物性を劣化させない範囲で調整すればよい。
【0037】
比表面積S/Vは1〜50の範囲が好ましい。比表面積S/Vが1より小さいと、板厚が厚くなり実用化が困難となることがあり、一方比表面積S/Vが50より大きいと、板厚が薄くなり加工の際割れやすくなることがあるからである。比表面積S/Vのより好ましい範囲は1.02〜45である。
【0038】
またガラス基板の最も薄い部分の厚みは2mm以下であるのが好ましい。ハードディスクドライブ装置などは小型薄型化が近年急速に進んでいるため、前記厚みが2mmより厚いと、現在及び将来におけるハードディスクドライブ装置などへの搭載に適さなくなり汎用性が低下するからである。より好ましい厚みは1.5mm以下である。
【0039】
本発明のガラス基板は、その大きさに限定はなく3.5,2.5,1.8インチ、あるいはそれ以下の小径ディスクとすることもでき、またその厚さは2mmや1mm、0.63mm、あるいはそれ以下といった薄型とすることもできる。
【0040】
次に、本発明のガラス基板を用いた情報記録用媒体について説明する。情報記録用媒体の基板として本発明のガラス基板を用いると、耐久性および高記録密度が実現される。以下、図面に基づき情報記録用媒体について説明する。
【0041】
図1は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクDは、円形のガラス基板1の表面に磁性膜2を直接形成したものである。磁性膜2の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約0.3〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05〜0.1μm程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【0042】
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNiやCrを加えたCo系合金などが好適である。具体的には、Coを主成分とするCoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPtや、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtB、CoCrPtSiOなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜(例えば、Cr、CrMo、CrVなど)で分割しノイズの低減を図った多層構成(例えば、CoPtCr/CrMo/CoPtCr、CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTaなど)としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、SiO2、BNなどからなる非磁性膜中にFe、Co、FeCo、CoNiPt等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。
【0043】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【0044】
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Coを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からCr単体やCr合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等の多層下地層としてもよい。
【0045】
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO2)層を形成してもよい。
【0046】
以上、情報記録用媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、情報記録用媒体はこれに限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも本発明のガラス基板を用いることができる。
【0047】
また、本発明のガラス基板は光通信用素子にも好適に使用できる。従来のガラス基板に比べて線熱膨張係数が40×10−7〜90×10−7/℃の範囲と大きいので、蒸着工程で加熱されたガラス基板が冷却されて縮む量が大きくなり、このガラス基板の収縮により基板表面に形成された膜が圧縮されてその密度が大きくなる。この結果、温度・湿度の変化による波長シフトが抑制される。
【0048】
以下、波長多重分割(「DWDM」;Dense Wavelength Division Multiplexing)用の光フィルタを例に本発明のガラス基板を用いた光通信用素子について説明する。誘電体多層膜を用いた光フィルタは高屈折率層と低屈折率層とを有し、これらの層を積層した構造を有している。これらの層を形成する方法としては、特に限定はなく従来公知の方法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法などを用いることができる。この中でも生産性が高いことから真空蒸着法が推奨される。真空蒸着は、真空中で蒸着材料を加熱し、発生した蒸気を基体上に凝縮・付着させて薄膜を形成する方法である。蒸着材料の加熱方法には、抵抗加熱、外熱ルツボ、電子ビーム、高周波、レーザーなどの各種方法がある。具体的な蒸着条件として、真空度は1×10−3〜5×10−3Pa程度である。蒸着中は真空度が一定となるように電磁弁を制御して導入酸素量を調整する。そして層厚モニターにより所定層厚となったところでシャターを閉じて蒸着を終了する。
【0049】
各膜厚としては特に限定はないが、光学的膜厚が波長の1/4とするのが基本であって、一般的に1μm程度までである。また、総層数は一般的に100層を超える。用いる膜材料としては例えば、誘電体や半導体、金属であって、この中でも誘電体が特に好ましい。
【0050】
以上、本発明のガラス基板を用いた光通信用素子の一実施態様としてDWDM用の光フィルタについて説明したが、光通信用素子はこれに限定されるものではなく、本発明のガラス基板は光スイッチ、合分波素子などの光通信用素子にも使用できる。
【0051】
【実施例】
実施例1〜48,比較例1〜5
定められた量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合したのち、電気炉中で1,550℃で溶解した。原料が充分に溶解したのち、撹拌羽をガラス融液に挿入し、約1時間撹拌した。その後、撹拌羽を取り出し、30分間静置したのち、治具に融液を流しこむことによってガラスブロックを得た。その後各ガラスのガラス転移点付近までガラスブロックを再加熱し、徐冷して歪取りを行った。得られたガラスブロックを約1.5mmの厚さ、2.5インチの円盤形状にスライスし、内周,外周を同心円としてカッターを用いて切り出した。そして、両面を粗研磨及び研磨、洗浄を行って実施例及び比較例のガラス基板を作製した。作製したガラス基板について各種物性評価を行った。なお、物性評価方法は前記の通りである。また、熱衝撃性試験A及び熱衝撃性試験Bについては下記試験方法および判定基準で行った。結果を合わせて表1〜表4に示す。
【0052】
(熱衝撃性試験A)
外径65mm、内径20mm、厚さ0.635mmの円盤形状のガラス基板を、300℃の電気炉内に30分間放置した後、20℃の冷水中に投入し、ガラス基板が割れなかった場合を「○」、割れた場合を「×」とした。
【0053】
(熱衝撃性試験B)
外径48mm、内径12mm、厚さ0.508mmの円盤形状のガラス基板を、300℃の電気炉内に30分間放置した後、20℃の冷水中に投入し、ガラス基板が割れなかった場合を「○」、割れた場合を「×」とした。
【0054】
【表1】
【0055】
【表2】
【0056】
【表3】
【0057】
【表4】
【0058】
表1〜表3から明らかなように、実施例1〜48のガラス基板では、線熱膨張係数αは43.2×10−7〜74.6×10−7/℃の範囲とHDDの部材と近い値であった。また破壊靭性値Kcは1.02以上であり、比弾性率E/ρは32.4以上と従来のガラス基板に比べ大きい値であった。そしてまたガラス転移温度Tgは504℃以上であった。このようなガラス基板の物性値から算出した実施例1〜48のガラス基板の熱衝撃度数Hは40よりいずれも大きく、熱衝撃性試験A及びBにおいてガラス基板が割れることはなかった。
【0059】
一方、表4によれば、比較例1のガラス基板では、(TiO2+ZrO2+LnxOy)の含有量が12.5%と多かったため、破壊靭性値が低くなると共に熱衝撃度数Hが小さくなり、熱衝撃性試験A及びBにおいてガラス基板が割れてしまった。また比較例2のガラス基板では、SiO2の含有量が43.6%と少なく、そしてR’Oの含有量が22.2%と多く、さらに(TiO2+ZrO2+LnxOy)の含有量が19.7%と多かったため、ガラスの構造が軟弱となり線熱膨張係数α、破壊靭性値Kc、熱衝撃度数Hにおいて所望値が得られなかった。一方、SiO2の含有量が77.1%と多かった比較例3のガラス基板では、破壊靭性値Kc及び比弾性率が低下すると共に、熱衝撃度数Hが小さくなった。比較例4のガラス基板では、Al2O3及びR2O(R:Li,Na,K)の含有量が多く、また比較例5のガラス基板では、B2O3および骨格成分(SiO2+Al2O3+B2O3)の含有量が多かったため、破壊靭性値Kc及び熱衝撃度数Hにおいて所望値が得られなかった。
【0060】
【発明の効果】
本発明に係るガラス組成物及びガラス基板は、強化処理を行うことなく高い耐熱衝撃性を有するので、ガラス基板表面に記録膜などを形成する工程において生じる急激な熱変化によっても破損することがない。また高い剛性を有し、さらには適度な表面硬度を有し基板表面の傷を防止すると共に研磨などの表面加工が容易である。そしてまた従来に比べ線熱膨張係数が高くHDDの部材のそれに近くなったので、記録装置への取付け時や情報記録時に不具合が生じることがない。また破壊靭性値が高いので情報記録用基板の製造時などに基板が破損することがない。高い比弾性率を有するので、ガラス基板の高速回転時における回転安定性が向上する。
【0061】
本発明に係るガラス基板を情報記録用媒体に使用すると、表面処理が容易で、製造工程中において破損することがなく、耐久性に優れ、高い記録密度が得られる。
【0062】
また本発明に係るガラス基板を光通信用素子に使用すると、経時変化が少なく、温度・湿度の変化による波長シフトを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のガラス基板を用いた情報記録用媒体の一例を示す斜視図である。
【図2】ビッカース圧子で押圧したときにできるガラス基板表面の圧痕とクラックの模式図である。
【図3】比表面積(=表面積/体積)の算出例を示す図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板
2 磁性膜
D 磁気ディスク
Claims (5)
- 重量%で、
SiO2:45〜75%、
Al2O3:1〜20%、
B2O3:0〜8%(ただし、ゼロを含む)、
SiO2+Al2O3+B2O3:60〜90%、
R2O(R=Li,Na,K)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、
R’O(R’=Mg,Ca,Sr,Ba,Zn)の総量:0〜20%(ただし、ゼロを含む)、
TiO2+ZrO2+LnxOy:0〜12%(ただしゼロを含む、またLnxOyはランタノイド金属酸化物及びY2O3,Nb2O5,Ta2O5からなる群より選ばれた少なくとも1つの化合物を意味する)
の各ガラス成分を有することを特徴とするガラス組成物。 - 請求項1記載のガラス組成物を用いて作製されたことを特徴とするガラス基板。
- 強化処理を行うことなく、比弾性率(E/ρ)が30以上、破壊靭性値Kcが1.00以上、線熱膨張係数αが40×10−7〜90×10−7/℃、ガラス転移温度Tgが500℃以上である請求項2又は3に記載のガラス基板。
- 表面積/体積が1〜50/mmの範囲であって、最も薄い部分の厚みが2mm以下である請求項2〜4のいずれかに記載のガラス基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003153238A JP4726400B2 (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003153238A JP4726400B2 (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004352571A true JP2004352571A (ja) | 2004-12-16 |
JP4726400B2 JP4726400B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=34048244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003153238A Expired - Fee Related JP4726400B2 (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4726400B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006290704A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | ガラス |
US7192898B2 (en) | 2003-05-29 | 2007-03-20 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
JP2009528673A (ja) * | 2006-01-03 | 2009-08-06 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスおよびガラスセラミック上ゲルマニウム構造 |
JP2012106908A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-06-07 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2012141208A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス板の品質試験方法、ガラス板の品質試験装置、およびガラス板の製造方法 |
WO2013146256A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用 |
US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
JPWO2013172247A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-01-12 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラスおよびその利用 |
CN108101358A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-06-01 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物 |
US10150691B2 (en) | 2012-07-17 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
CN110255895A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-09-20 | 醴陵旗滨电子玻璃有限公司 | 含碱硼硅酸盐玻璃及其制备方法 |
JP2021527023A (ja) * | 2018-06-08 | 2021-10-11 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスにおける破壊抵抗応力プロファイル |
US11292741B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-04-05 | Corning Incorporated | Ion-exchangeable lithium-containing aluminosilicate glasses |
WO2024016788A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 荣耀终端有限公司 | 一种钇铝硅酸盐玻璃、制备方法及电子设备 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI817081B (zh) | 2014-10-08 | 2023-10-01 | 美商康寧公司 | 具有葉長石及矽酸鋰結構的高強度玻璃陶瓷 |
-
2003
- 2003-05-29 JP JP2003153238A patent/JP4726400B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7192898B2 (en) | 2003-05-29 | 2007-03-20 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
JP2006290704A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | ガラス |
JP2009528673A (ja) * | 2006-01-03 | 2009-08-06 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスおよびガラスセラミック上ゲルマニウム構造 |
JP2012106908A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-06-07 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2012141208A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス板の品質試験方法、ガラス板の品質試験装置、およびガラス板の製造方法 |
WO2013146256A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用 |
US8885447B2 (en) | 2012-03-29 | 2014-11-11 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, glass substrate for magnetic recording medium, and their use |
JPWO2013146256A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-12-10 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用 |
JPWO2013172247A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-01-12 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラスおよびその利用 |
US10150691B2 (en) | 2012-07-17 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
US10183887B2 (en) | 2012-07-17 | 2019-01-22 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
US11124444B2 (en) | 2012-07-17 | 2021-09-21 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
US11814316B2 (en) | 2012-07-17 | 2023-11-14 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
CN108101358A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-06-01 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物 |
CN108101358B (zh) * | 2017-12-15 | 2021-05-18 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物 |
JP2021527023A (ja) * | 2018-06-08 | 2021-10-11 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスにおける破壊抵抗応力プロファイル |
JP7492920B2 (ja) | 2018-06-08 | 2024-05-30 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスにおける破壊抵抗応力プロファイル |
US11292741B2 (en) | 2018-12-12 | 2022-04-05 | Corning Incorporated | Ion-exchangeable lithium-containing aluminosilicate glasses |
CN110255895A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-09-20 | 醴陵旗滨电子玻璃有限公司 | 含碱硼硅酸盐玻璃及其制备方法 |
CN110255895B (zh) * | 2019-07-16 | 2021-04-13 | 湖南旗滨医药材料科技有限公司 | 含碱硼硅酸盐玻璃及其制备方法 |
WO2024016788A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 荣耀终端有限公司 | 一种钇铝硅酸盐玻璃、制备方法及电子设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4726400B2 (ja) | 2011-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4530618B2 (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JP4039381B2 (ja) | ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体 | |
KR100866175B1 (ko) | 정보 기록 매체용 유리 기판 및 이것을 이용한 정보 기록매체 | |
JP4726399B2 (ja) | ガラス基板 | |
US9007878B2 (en) | Glass for magnetic recording medium substrate and usage thereof | |
JP4252956B2 (ja) | 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP3996294B2 (ja) | 結晶化ガラスからなる情報記録媒体用基板及び情報記録媒体 | |
JP4282273B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP4726400B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2006327935A (ja) | ガラス基板 | |
JP7165655B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ | |
JP4161756B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP2006327936A (ja) | ガラス基板 | |
JP4151440B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP4225086B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP3793401B2 (ja) | 結晶化ガラスからなる情報記録媒体用基板及び情報記録媒体 | |
JP5375698B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2002338297A (ja) | ガラス基板およびこれを用いた情報記録用媒体、光通信用素子 | |
JP2001189008A (ja) | 情報記録媒体用結晶化ガラス基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050615 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050622 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060323 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070626 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070628 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070824 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080125 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080226 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080321 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110314 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4726400 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |