JP2004322565A - 積層体 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明では、軽量で、高い透明性、水蒸気バリア性を有する積層体を提供することにある。また、従来の包装用途だけでなく、ディスプレイ用途にまで応用のできるバリア性の積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、第1層として硫黄原子またはリン原子含有層、第2層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体である。さらには、前記第1層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする積層体である。
【選択図】図1
【解決手段】基材の少なくとも片面に、第1層として硫黄原子またはリン原子含有層、第2層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体である。さらには、前記第1層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする積層体である。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は高レベルの水蒸気バリア性を必要とする液晶ディスプレイや有機ELディスプレイの基板あるいは被覆フィルムでも使用可能な透明で水蒸気バリア性のある積層体を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来包装用フィルムとして、プラスチック基材にSiO2、SiOx、AlOxのような金属酸化物薄膜をコーティングしたガスバリアフィルムが用いられている(例えば特許文献1、2参照)。これらの多くは包装する内容物の品質保持できるよう水蒸気・酸素などに対しバリア性が高く、また内容物が外側からでも視認できるよう透明性が高い。
【0003】
近年このような透明ガスバリアフィルムは包装用だけでなく液晶や有機ELの素子を用いたディスプレイのガラス基板に替わる基板としても注目されている(例えば非特許文献1参照)。これはディスプレイの軽量化・薄型化を狙ったもので、透明性は前面板として使用できることから、ガスバリア性は主に大気中の水蒸気による上記素子の特性劣化を防止できることから必要とされている。
【0004】
しかし水蒸気透過速度を例に取るとディスプレイ用途の水蒸気バリア性は包装用途のそれに比べ2〜4桁低い値を必要とされる。したがって上記のようなディスプレイ用途で使用する場合、従来の金属化合物薄膜をコーティングしただけではガスバリア性が不十分である。
【0005】
この水蒸気バリア性を高めるためプラスチック基材上にコーティングする薄膜の緻密さを向上させることが考えられた。例えば、窒素酸化物(SiOxNy等)が提案されている(例えば特許文献3参照)。これは従来の酸化物に比べ窒素原子の存在により化学結合のネットワークが緻密になり、したがって水蒸気バリア性が向上するものである。しかしディスプレイ用途としては依然として不十分なバリア性であった。
【0006】
また、プラスチック基材に金属酸化物をコーティングした被覆フィルムを複数積層することが提案されている(例えば特許文献4参照)。これにより水蒸気バリア性は著しい向上を示した。しかし積層させる分厚く重くなるため、プラスチック基材を利用することの特長が損なわれてしまう。また透明性の劣化も大きかった。
【0007】
【特許文献1】
特開平07−233463号公報
【特許文献2】
特開平11−262969号公報
【特許文献3】
特開平08−62590号公報
【特許文献4】
特開平10−12376号公報
【非特許文献1】
月刊ディスプレイ7月号,p.11,2001
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような問題を解決すべくなされたものであり、すなわち、軽量で、高い透明性、水蒸気バリア性を有する積層体を提供することにある。また、従来の包装用途だけでなく、ディスプレイ用途にまで応用のできるバリア性の積層体を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、基材の少なくとも片面に、第1層として硫黄原子またはリン原子含有層、第2層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体である。
【0010】
請求項2の発明は、前記第1層が、硫黄含有有機層またはリン含有有機層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体である。
【0011】
請求項3の発明は、前記第1層の厚さが5〜10nmの範囲であることを特徴とする請求項1、2に記載の積層体である。
【0012】
請求項4の発明は、前記第1層に含まれる硫黄原子と有機物の元素組成比S/Cまたはリン原子と有機物の元素組成比P/Cが、1.5以上であることを特徴とする請求項2または3に記載の積層体である。
【0013】
請求項5の発明は、前記第1層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の積層体である。
【0014】
【実施の形態】
以下、詳細に説明する。
本発明に用いる基材としては、特に制限するものではなく、公知のプラスチックなどの基材を用いることができる。このような基材としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂などを用いることができる。また、透明性が高く、可撓性を有しかつその厚さが50〜200μmのフィルムであることが好ましい。また無延伸、1軸あるいは2軸延伸処理していてもよく、さらには紫外線吸収剤など添加剤を含んでいてもかまわない。
【0015】
本発明では、基材と金属酸化物層の間に、硫黄原子またはリン原子含有層を設けることを特徴とするものである。
酸素を始めとする気体の透過機構はコーティングする薄膜の欠陥(ピンホールや空孔)の密度、サイズに強く依存しており、すなわち化学結合のネットワークが緻密なほど高いガスバリア性を示す。しかし水蒸気の透過機構については、薄膜と水蒸気(水分子)との相互作用に強く依存しており、膜の緻密化により透過する分子を抑制する物理的作用よりも、水分子と薄膜または薄膜を構成する原子、分子群との親和性を高めることにより透過する分子を抑制する化学的作用で高いガスバリア性を示す。
従って、薄膜と水分子との相互作用を高めることで高いバリア性が得られる。特に硫黄原子やリン原子は水分子と大きい親和性を示すことがわかっている。
そこで、本発明では、基材と金属酸化物層の間に硫黄原子あるいはリン原子を有する層を挿入することで高いガスバリア性を得ることができる。
【0016】
硫黄原子あるいはリン原子を有する層としてはプラズマ重合法により成膜した硫黄含有有機層またはリン含有有機層を用いることができる。ここでいうプラズマ重合とは真空雰囲気におかれたチャンバー内にプラズマ雰囲気を作り出し、同時に重合性の気体あるいは液体モノマーを気化供給し、プラズマによる化学結合の切断、生長を繰り返し行い重合薄膜を得る方法である。一般にこのプラズマ重合法によって得られた有機薄膜は架橋が非常に促進され化学結合が緻密なネットワーク構造を有している。したがってプラズマ重合法により成膜した硫黄含有有機層またはリン含有有機層は高い水蒸気バリア性を有することとなる。
【0017】
前記硫黄含有有機層またはリン含有有機層を形成するための気体またはモノマーとしては、二硫化炭素(CS2)、チオクレゾール(CH3−C6H4−SH)、リン酸トリメチル(OP−(OCH3)3)等基本骨格として炭素及び硫黄原子あるいはリン原子が含まれていればよく、その他に酸素原子・窒素原子・水素原子が含まれていてもよい。
【0018】
また、前記第1層の膜厚は5〜10nmが好ましい。膜厚が5nm以下であると十分に膜として構成されず、また10nm以上であると光学吸収をもつため透明性が劣る。
【0019】
また、前記第1層に含まれる硫黄原子と有機物の元素組成比S/Cまたはリン原子と有機物の元素組成比P/Cが、1.5以上であることが好ましい。S/C比あるいはP/C比が1.5以下であると硫黄原子あるいはリン原子による水蒸気バリア効果が不十分となる。
【0020】
また第2層の金属酸化物は透明性が高く、ガスバリア性を有する薄膜であることが好ましく、このようなものであれば、特に制限はなく、公知の材料を用いることができる。
例えば、Si、Ti、Al、Ta、Nb、In、Sn、Zn等から選ばれる一種又は2種以上からなる金属酸化物を用いることができる。
【0021】
前記金属酸化物層は、公知の手法を用いて成膜することができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法など真空成膜法で成膜することができる。これらの方法によれば、真空下においてより緻密な膜を成膜できる。また、十分なガスバリア性を発現させるためまた内部応力による膜のクラック発生を防ぐため、膜厚は50〜100nmであることが望ましい。
【0022】
次に、本発明にかかる積層体の形成法について図面を用いて説明する。図1に本発明を実施するための装置の一例を示す。図1に示すようにバッチ式真空成膜装置1の真空槽2内に基板ホルダー3に基材4を設置してある。この基材4にまず第1層の硫黄含有有機層またはリン含有有機層を形成させるため、ガス導入口5から有機硫黄ガスを真空槽2に導入し同時に放電コイル6に高周波電源7から高周波電圧を印加して基材4上にプラズマ重合膜を形成させる。さらに第2層の金属酸化物を形成させるため、ガス導入口8からアルゴン及び酸素の混合ガスを導入しスパッタ源9に設置の金属ターゲット10から金属粒子をスパッタし基材4上に形成した硫黄含有有機層またはリン含有有機層上に金属酸化物層を形成させる。
【0023】
【実施例】
本発明について実施した成膜について以下詳細に説明する。
【0024】
<実施例1>
まず、基材として厚さ100μmの2軸延伸ポリプロピレンを用いた。排気ポンプにより真空槽内を10−4Paまで排気した。
次に、第1層として、二硫化炭素(CS2)のプラズマ重合膜を形成した。ガス導入口からCS2ガスを導入し、同時に約14MHz高周波電源から500W印加することでプラズマを発生させポリプロピレン基材上に膜を形成させた。これより形成したプラズマ重合膜の膜厚は8nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
次に、第2層として、DCスパッタリングによりAlターゲットをアルゴン、酸素の混合雰囲気中でスパッタしAlOX膜を第1層上に形成した。この膜厚は50nmであった。この時の真空槽内の圧力は7×10−1Paであった。
【0025】
<実施例2>
フィルム基材として厚さ100μmの2軸延伸ポリプロピレンを用いた。排気ポンプにより真空槽内を10−4Paまで排気した。
次に、第1層として、リン酸トリメチルのプラズマ重合膜を形成した。ガス導入口からリン酸トリメチルを加熱、昇華させ導入し、同時に約14MHz高周波電源から300W印加することでプラズマを発生させポリプロピレン基材上に膜を形成させた。これより形成したプラズマ重合膜の膜厚は8nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
次に、第2層として、DCスパッタリングによりAlターゲットをアルゴン、酸素の混合雰囲気中でスパッタしAlOx膜を第1層上に形成した。この膜厚は50nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
【0026】
<比較例1>
第1層のプラズマ重合膜が形成されないこと以外は実施例1と同様にして成膜した。
【0027】
前記実施例1、2及び比較例1で形成したフィルムについて下記の項目の評価を行った。
<水蒸気透過速度>
MOCON社製水蒸気透過速度測定装置(PERMATRAN)により、気温40℃・相対湿度90%RH雰囲気中で測定した。
<光線透過率>
分光スペクトルメーターにより波長550nmでの光線透過率を測定した。
<化学組成>
X線分光スペクトル装置(XPS)により、第1層の有機硫黄膜のC1s及びS2pあるいは有機リン膜のC1s及びP2pにおいてそれぞれのスペクトル強度を測定し化学組成比S/CあるいはP/Cを算出した。
【0028】
【表1】
【0029】
表1に測定結果を示した。実施例1、2に対し、比較例1では第1層を形成させないことで水蒸気バリア性が大幅に劣化した。
【0030】
【発明の効果】
本発明によれば、基材と第2層としての金属酸化物層との間に、第1層として水分子と相互作用が強い硫黄原子あるいはリン原子を含む層を利用することで、高い水蒸気バリア性のある積層体とすることができる。さらに第1層をプラズマ重合による硫黄含有有機層またはリン含有有機層にすることで架橋構造を有する緻密な膜となり、また化学組成比S/Cを1.5以上に制御することで従来にない優れた水蒸気バリア性を可能とした。また第1層の膜厚を5〜10nmに制御し、第2層を透明金属酸化物とすることで優れた透明性を示した。以上の事項により優れた透明水蒸気バリアフィルムを形成することができ、一般包装材料だけでなくディスプレイの基板あるいは被覆フィルムとしても十分に対応できることが示された。
【0031】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層体の形成装置を示す概略図である。
【図2】本発明の積層体の層構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 真空形成装置
2 真空槽
3 基板ホルダー
4 プラスチック基材
5 プラズマ重合用ガス導入口
6 コイル
7 高周波電源
8 スパッタ用ガス導入口
9 スパッタ源
10 ターゲット
21 基材
22 第1層
23 第2層
【発明の属する技術分野】
本発明は高レベルの水蒸気バリア性を必要とする液晶ディスプレイや有機ELディスプレイの基板あるいは被覆フィルムでも使用可能な透明で水蒸気バリア性のある積層体を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来包装用フィルムとして、プラスチック基材にSiO2、SiOx、AlOxのような金属酸化物薄膜をコーティングしたガスバリアフィルムが用いられている(例えば特許文献1、2参照)。これらの多くは包装する内容物の品質保持できるよう水蒸気・酸素などに対しバリア性が高く、また内容物が外側からでも視認できるよう透明性が高い。
【0003】
近年このような透明ガスバリアフィルムは包装用だけでなく液晶や有機ELの素子を用いたディスプレイのガラス基板に替わる基板としても注目されている(例えば非特許文献1参照)。これはディスプレイの軽量化・薄型化を狙ったもので、透明性は前面板として使用できることから、ガスバリア性は主に大気中の水蒸気による上記素子の特性劣化を防止できることから必要とされている。
【0004】
しかし水蒸気透過速度を例に取るとディスプレイ用途の水蒸気バリア性は包装用途のそれに比べ2〜4桁低い値を必要とされる。したがって上記のようなディスプレイ用途で使用する場合、従来の金属化合物薄膜をコーティングしただけではガスバリア性が不十分である。
【0005】
この水蒸気バリア性を高めるためプラスチック基材上にコーティングする薄膜の緻密さを向上させることが考えられた。例えば、窒素酸化物(SiOxNy等)が提案されている(例えば特許文献3参照)。これは従来の酸化物に比べ窒素原子の存在により化学結合のネットワークが緻密になり、したがって水蒸気バリア性が向上するものである。しかしディスプレイ用途としては依然として不十分なバリア性であった。
【0006】
また、プラスチック基材に金属酸化物をコーティングした被覆フィルムを複数積層することが提案されている(例えば特許文献4参照)。これにより水蒸気バリア性は著しい向上を示した。しかし積層させる分厚く重くなるため、プラスチック基材を利用することの特長が損なわれてしまう。また透明性の劣化も大きかった。
【0007】
【特許文献1】
特開平07−233463号公報
【特許文献2】
特開平11−262969号公報
【特許文献3】
特開平08−62590号公報
【特許文献4】
特開平10−12376号公報
【非特許文献1】
月刊ディスプレイ7月号,p.11,2001
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような問題を解決すべくなされたものであり、すなわち、軽量で、高い透明性、水蒸気バリア性を有する積層体を提供することにある。また、従来の包装用途だけでなく、ディスプレイ用途にまで応用のできるバリア性の積層体を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、基材の少なくとも片面に、第1層として硫黄原子またはリン原子含有層、第2層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体である。
【0010】
請求項2の発明は、前記第1層が、硫黄含有有機層またはリン含有有機層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体である。
【0011】
請求項3の発明は、前記第1層の厚さが5〜10nmの範囲であることを特徴とする請求項1、2に記載の積層体である。
【0012】
請求項4の発明は、前記第1層に含まれる硫黄原子と有機物の元素組成比S/Cまたはリン原子と有機物の元素組成比P/Cが、1.5以上であることを特徴とする請求項2または3に記載の積層体である。
【0013】
請求項5の発明は、前記第1層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の積層体である。
【0014】
【実施の形態】
以下、詳細に説明する。
本発明に用いる基材としては、特に制限するものではなく、公知のプラスチックなどの基材を用いることができる。このような基材としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂などを用いることができる。また、透明性が高く、可撓性を有しかつその厚さが50〜200μmのフィルムであることが好ましい。また無延伸、1軸あるいは2軸延伸処理していてもよく、さらには紫外線吸収剤など添加剤を含んでいてもかまわない。
【0015】
本発明では、基材と金属酸化物層の間に、硫黄原子またはリン原子含有層を設けることを特徴とするものである。
酸素を始めとする気体の透過機構はコーティングする薄膜の欠陥(ピンホールや空孔)の密度、サイズに強く依存しており、すなわち化学結合のネットワークが緻密なほど高いガスバリア性を示す。しかし水蒸気の透過機構については、薄膜と水蒸気(水分子)との相互作用に強く依存しており、膜の緻密化により透過する分子を抑制する物理的作用よりも、水分子と薄膜または薄膜を構成する原子、分子群との親和性を高めることにより透過する分子を抑制する化学的作用で高いガスバリア性を示す。
従って、薄膜と水分子との相互作用を高めることで高いバリア性が得られる。特に硫黄原子やリン原子は水分子と大きい親和性を示すことがわかっている。
そこで、本発明では、基材と金属酸化物層の間に硫黄原子あるいはリン原子を有する層を挿入することで高いガスバリア性を得ることができる。
【0016】
硫黄原子あるいはリン原子を有する層としてはプラズマ重合法により成膜した硫黄含有有機層またはリン含有有機層を用いることができる。ここでいうプラズマ重合とは真空雰囲気におかれたチャンバー内にプラズマ雰囲気を作り出し、同時に重合性の気体あるいは液体モノマーを気化供給し、プラズマによる化学結合の切断、生長を繰り返し行い重合薄膜を得る方法である。一般にこのプラズマ重合法によって得られた有機薄膜は架橋が非常に促進され化学結合が緻密なネットワーク構造を有している。したがってプラズマ重合法により成膜した硫黄含有有機層またはリン含有有機層は高い水蒸気バリア性を有することとなる。
【0017】
前記硫黄含有有機層またはリン含有有機層を形成するための気体またはモノマーとしては、二硫化炭素(CS2)、チオクレゾール(CH3−C6H4−SH)、リン酸トリメチル(OP−(OCH3)3)等基本骨格として炭素及び硫黄原子あるいはリン原子が含まれていればよく、その他に酸素原子・窒素原子・水素原子が含まれていてもよい。
【0018】
また、前記第1層の膜厚は5〜10nmが好ましい。膜厚が5nm以下であると十分に膜として構成されず、また10nm以上であると光学吸収をもつため透明性が劣る。
【0019】
また、前記第1層に含まれる硫黄原子と有機物の元素組成比S/Cまたはリン原子と有機物の元素組成比P/Cが、1.5以上であることが好ましい。S/C比あるいはP/C比が1.5以下であると硫黄原子あるいはリン原子による水蒸気バリア効果が不十分となる。
【0020】
また第2層の金属酸化物は透明性が高く、ガスバリア性を有する薄膜であることが好ましく、このようなものであれば、特に制限はなく、公知の材料を用いることができる。
例えば、Si、Ti、Al、Ta、Nb、In、Sn、Zn等から選ばれる一種又は2種以上からなる金属酸化物を用いることができる。
【0021】
前記金属酸化物層は、公知の手法を用いて成膜することができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法など真空成膜法で成膜することができる。これらの方法によれば、真空下においてより緻密な膜を成膜できる。また、十分なガスバリア性を発現させるためまた内部応力による膜のクラック発生を防ぐため、膜厚は50〜100nmであることが望ましい。
【0022】
次に、本発明にかかる積層体の形成法について図面を用いて説明する。図1に本発明を実施するための装置の一例を示す。図1に示すようにバッチ式真空成膜装置1の真空槽2内に基板ホルダー3に基材4を設置してある。この基材4にまず第1層の硫黄含有有機層またはリン含有有機層を形成させるため、ガス導入口5から有機硫黄ガスを真空槽2に導入し同時に放電コイル6に高周波電源7から高周波電圧を印加して基材4上にプラズマ重合膜を形成させる。さらに第2層の金属酸化物を形成させるため、ガス導入口8からアルゴン及び酸素の混合ガスを導入しスパッタ源9に設置の金属ターゲット10から金属粒子をスパッタし基材4上に形成した硫黄含有有機層またはリン含有有機層上に金属酸化物層を形成させる。
【0023】
【実施例】
本発明について実施した成膜について以下詳細に説明する。
【0024】
<実施例1>
まず、基材として厚さ100μmの2軸延伸ポリプロピレンを用いた。排気ポンプにより真空槽内を10−4Paまで排気した。
次に、第1層として、二硫化炭素(CS2)のプラズマ重合膜を形成した。ガス導入口からCS2ガスを導入し、同時に約14MHz高周波電源から500W印加することでプラズマを発生させポリプロピレン基材上に膜を形成させた。これより形成したプラズマ重合膜の膜厚は8nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
次に、第2層として、DCスパッタリングによりAlターゲットをアルゴン、酸素の混合雰囲気中でスパッタしAlOX膜を第1層上に形成した。この膜厚は50nmであった。この時の真空槽内の圧力は7×10−1Paであった。
【0025】
<実施例2>
フィルム基材として厚さ100μmの2軸延伸ポリプロピレンを用いた。排気ポンプにより真空槽内を10−4Paまで排気した。
次に、第1層として、リン酸トリメチルのプラズマ重合膜を形成した。ガス導入口からリン酸トリメチルを加熱、昇華させ導入し、同時に約14MHz高周波電源から300W印加することでプラズマを発生させポリプロピレン基材上に膜を形成させた。これより形成したプラズマ重合膜の膜厚は8nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
次に、第2層として、DCスパッタリングによりAlターゲットをアルゴン、酸素の混合雰囲気中でスパッタしAlOx膜を第1層上に形成した。この膜厚は50nmであった。この時の真空槽内の圧力は5×10−1Paであった。
【0026】
<比較例1>
第1層のプラズマ重合膜が形成されないこと以外は実施例1と同様にして成膜した。
【0027】
前記実施例1、2及び比較例1で形成したフィルムについて下記の項目の評価を行った。
<水蒸気透過速度>
MOCON社製水蒸気透過速度測定装置(PERMATRAN)により、気温40℃・相対湿度90%RH雰囲気中で測定した。
<光線透過率>
分光スペクトルメーターにより波長550nmでの光線透過率を測定した。
<化学組成>
X線分光スペクトル装置(XPS)により、第1層の有機硫黄膜のC1s及びS2pあるいは有機リン膜のC1s及びP2pにおいてそれぞれのスペクトル強度を測定し化学組成比S/CあるいはP/Cを算出した。
【0028】
【表1】
【0029】
表1に測定結果を示した。実施例1、2に対し、比較例1では第1層を形成させないことで水蒸気バリア性が大幅に劣化した。
【0030】
【発明の効果】
本発明によれば、基材と第2層としての金属酸化物層との間に、第1層として水分子と相互作用が強い硫黄原子あるいはリン原子を含む層を利用することで、高い水蒸気バリア性のある積層体とすることができる。さらに第1層をプラズマ重合による硫黄含有有機層またはリン含有有機層にすることで架橋構造を有する緻密な膜となり、また化学組成比S/Cを1.5以上に制御することで従来にない優れた水蒸気バリア性を可能とした。また第1層の膜厚を5〜10nmに制御し、第2層を透明金属酸化物とすることで優れた透明性を示した。以上の事項により優れた透明水蒸気バリアフィルムを形成することができ、一般包装材料だけでなくディスプレイの基板あるいは被覆フィルムとしても十分に対応できることが示された。
【0031】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層体の形成装置を示す概略図である。
【図2】本発明の積層体の層構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 真空形成装置
2 真空槽
3 基板ホルダー
4 プラスチック基材
5 プラズマ重合用ガス導入口
6 コイル
7 高周波電源
8 スパッタ用ガス導入口
9 スパッタ源
10 ターゲット
21 基材
22 第1層
23 第2層
Claims (5)
- 基材の少なくとも片面に、第1層として硫黄原子またはリン原子含有層、第2層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体。
- 前記第1層が、硫黄含有有機層またはリン含有有機層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体。
- 前記第1層の厚さが5〜10nmの範囲であることを特徴とする請求項1、2に記載の積層体。
- 前記第1層に含まれる硫黄原子と有機物の元素組成比S/Cまたはリン原子と有機物の元素組成比P/Cが、1.5以上であることを特徴とする請求項2または3に記載の積層体。
- 前記第1層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の積層体。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009221541A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 無機層の真空成膜法、バリア性積層体、デバイスおよび光学部材 |
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2003
- 2003-04-28 JP JP2003123312A patent/JP2004322565A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009221541A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 無機層の真空成膜法、バリア性積層体、デバイスおよび光学部材 |
US9017524B2 (en) | 2008-03-17 | 2015-04-28 | Fujifilm Corporation | Vacuum film formation method for inorganic layer, barrier laminate, device, and optical component |
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