JP2004281982A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】異なる大きさの半導体チップを容易に積層できる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、第1の半導体チップ6に形成され、最下層の配線層と同一層に形成された接触パッド12aと、接触パッド上に形成された接続手段13aと、接続手段上に形成された第1の電極取り出し用パッド7aと、このパッド7a上に形成され、第1の半導体チップ表面から露出した第1の金属ポスト8aと、第1の半導体チップの裏面に形成され、第1の金属ポストに対向する位置からずれた位置に形成され、接触パッド下に形成されたホール6aと、第2の半導体チップ9に形成された第2の電極取り出し用パッド7bと、このパッド7b上に形成され、第2の半導体チップ表面から露出し且つホール内に挿入され、接触パッド12aに接続された第2の金属ポスト8bと、を具備する。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、第1の半導体チップ6に形成され、最下層の配線層と同一層に形成された接触パッド12aと、接触パッド上に形成された接続手段13aと、接続手段上に形成された第1の電極取り出し用パッド7aと、このパッド7a上に形成され、第1の半導体チップ表面から露出した第1の金属ポスト8aと、第1の半導体チップの裏面に形成され、第1の金属ポストに対向する位置からずれた位置に形成され、接触パッド下に形成されたホール6aと、第2の半導体チップ9に形成された第2の電極取り出し用パッド7bと、このパッド7b上に形成され、第2の半導体チップ表面から露出し且つホール内に挿入され、接触パッド12aに接続された第2の金属ポスト8bと、を具備する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係わり、特に、CSP(Chip Size Package)レベルに小型化された半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯電話や情報端末機器類の小型化に伴い、プリント回路基板等への搭載部品の小型、軽量化が要求され、LSI等の半導体装置も、チップ積層構造でCSPレベルの高密度実装が要求される。
そこで最近は、電極貫通型の3次元スタックCSP型半導体装置が提案されている。この半導体装置は次のように製造される。
【0003】
半導体チップの表面からシリコン基板まで到達する垂直な細くて深い孔(深さ70〜100μm/太さ約30μm)をエッチングにより形成し、この深い孔内に絶縁層、メタル密着層、シード層、更にメッキによるCu層等を埋め込むことで該深い孔内に貫通電極を形成し、更に裏面から研削又はエッチングにより前記貫通電極の頭出しを行うことにより半導体チップが作製される。このようにして作製された半導体チップを3次元に積層し、この積層した半導体チップの相互間を貫通電極で接続することにより、各々の半導体チップの導通をとる。そして、これら積層した半導体チップをインターポーザ基板上に配置し、インターポーザ基板の上面と共に樹脂により封止することで、電極貫通型の3次元スタックCSP型半導体装置が製造される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなCSP型半導体装置は、同じ位置に貫通電極を形成した同じ大きさの半導体チップを複数枚積層したものであり、異なる大きさの半導体チップを複数枚積層する場合には不向きであり、また困難であった。
【0005】
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、異なる大きさの半導体チップを容易に積層できる半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置は、基板の表面上にフェイスダウンで第1の半導体チップが配置され、第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで前記第1の半導体チップとは大きさの異なる第2の半導体チップが配置された半導体装置であって、
前記第1の半導体チップに形成され、最下層の配線層と同一層に形成された接触パッドと、
前記接触パッド上に形成された接続手段と、
前記接続手段上に形成された第1の電極取り出し用パッドと、
前記第1の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第1の半導体チップ表面から露出した第1の導電ポストと、
前記第1の半導体チップの裏面に形成され、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置に形成され、前記接触パッド下に形成されたホールと、
前記第2の半導体チップに形成された第2の電極取り出し用パッドと、
前記第2の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第2の半導体チップ表面から露出し且つ前記ホール内に挿入され、前記接触パッドに接続された第2の導電ポストと、
前記基板の表面に形成され、前記第1の導電ポストに接続された配線パターンと、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップが封止された樹脂と、
前記基板の裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を具備する。
【0007】
上記半導体装置によれば、第1の半導体チップの裏面に導電ポストに対向する位置からずれた位置にホールを形成している。このようにホールを導電ポストに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第1の半導体チップとは大きさが異なる第2の半導体チップをフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップの裏面上に積み重ねることが容易となる。つまり、異なる大きさの半導体チップを容易に積層することが可能となる。
【0008】
また、本発明に係る半導体装置においては、前記ホール内の形状及び前記導電ポストの外形状が五角形以上の多角形であることも可能である。
また、本発明に係る半導体装置においては、前記接触パッドと前記第2の導電ポストとはハンダボール、銀ペースト又は金ペーストを介して接続されていることも可能である。
【0009】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、表面に形成された配線パターンと、裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を有する基板と、前記基板の表面上にフェイスダウンで配置された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで配置された前記第1の半導体チップとは大きさが異なる第2の半導体チップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
第1の半導体チップ領域の最下層の配線層と同一層に接触パッドを形成し、前記接触パッド上に接続手段を形成し、前記接続手段上に第1の電極取り出し用パッドを形成し、前記第1の電極取り出し用パッド上に、前記第1の半導体チップ領域の表面から露出する第1の導電ポストを形成し、前記第1の半導体チップ領域の裏面に、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置のホールをエッチング加工又はレーザ加工により形成することにより前記接触パッドを露出させて第1の半導体チップを作製する工程と、
第2の半導体チップ領域に第2の電極取り出し用パッドを形成し、前記第2の電極取り出し用パッド上に、前記第2の半導体チップ領域の表面から露出する第2の導電ポストを形成することにより第2の半導体チップを作製する工程と、
前記第2の半導体チップをフェイスダウンで前記第1の半導体チップの裏面上に配置し、前記第2の導電ポストを前記ホール内に挿入し、前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続し、前記第1の半導体チップを基板の表面上にフェイスダウンで配置し、前記第1の導電ポストを前記配線パターンに接続する工程と、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップを樹脂で封止する工程と、を具備する。
【0010】
また、本発明に係る半導体装置の製造方法において、前記エッチング加工は、前記第1の半導体チップの裏面にマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとして第1の半導体チップの単結晶Si部分を、アルカリ系水溶液を用いてウエットエッチングすることにより前記ホールを形成するものであることが好ましい。
【0011】
また、本発明に係る半導体装置の製造方法においては、前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続する際、前記ホール内の前記接触パッドにインクジェットプリンター機構を用いて銀ペースト又は金ペーストを転写しておき、前記銀ペースト又は金ペーストを介して前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続することも可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明に係る実施の形態による半導体装置を概略的に示す断面図である。
この半導体装置はインターポーザ基板1を有しており、このインターポーザ基板1の上面には配線パターン2が形成されている。インターポーザ基板1の下面にはパッド4が形成されており、パッド4の下には実装用外部端子としてのハンダバンプ3が配置されている。ハンダバンプ3はパッド4に接続されており、パッド4は接続部材5を介して配線パターン2に電気的に接続されている。
【0013】
インターポーザ基板1の上面上にはフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップ6が配置されている。第1の半導体チップ6の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7aが配置されており、電極取り出し用パッド7aの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8aが形成されている。この金属ポスト8aはインターポーザ基板1の配線パターン2に接続されている。
【0014】
前記電極取り出し用パッド7aの上には裏面への引き出し専用の接続手段13aを介して接触パッド12aが配置されている。第1の半導体チップ6の裏面(能動面と逆側の面)には金属ポスト8aに対向する位置からずれた位置(即ち金属ポスト8aと対向しない位置又は金属ポスト8aと対向する位置に隣接する位置)にホール(深い孔)6aが形成されている。このホール6aによって接触パッド12aが露出している。尚、金属ポスト8aは素子の無い領域に配置しても良い。このように金属ポストと素子との距離を保つことで、デバイスへのダメージを避けることができる。
【0015】
第1の半導体チップ6の裏面上にはフェイスダウンボンディングにより第2の半導体チップ9が配置されている。第2の半導体チップ9は第1の半導体チップ6とは大きさが異なるチップである。第2の半導体チップ9の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7bが配置されており、電極取り出し用パッド7bの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8bが形成されている。この金属ポスト8bは第1の半導体チップ6のホール(深い孔)6aによって露出した接触パッド12aに接続されている。前記電極取り出し用パッド7bの上には裏面への引き出し専用の接続手段13bを介して接触パッド12bが配置されている。第2の半導体チップ9の裏面には金属ポスト8bに対向する位置からずれた位置(即ち金属ポスト8bに対向しない位置又は金属ポスト8bと対向する位置に隣接する位置)にホール6aが形成されている。このホール6aによって接触パッド12bが露出している。尚、金属ポスト8bは素子の無い領域に配置しても良い。
【0016】
第2の半導体チップ9の裏面上にはフェイスダウンボンディングにより第3の半導体チップ10が配置されている。第3の半導体チップ10は第2の半導体チップ9とは大きさが異なるチップである。第3の半導体チップ10の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7cが配置されており、電極取り出し用パッド7cの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8cが形成されている。この金属ポスト8cは第2の半導体チップ9のホール(深い孔)6aによって露出した接触パッド12bに接続されている。
【0017】
インターポーザ基板1の上面上、第1〜第3の半導体チップ6,9,10及び金属ポスト8a〜8cは封止樹脂11によりモールド成形されている。
尚、本実施の形態では、金属ポスト8a〜8cを用いているが、金属以外の導電物からなる導電ポストを用いることも可能である。
【0018】
次に、図1に示す半導体装置を製造する方法について図2を参照しつつ説明する。図2は、図1に示す第1〜第3の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの付近を部分的に拡大した断面図である。
まず、図2に示すように、第1の半導体基板(半導体ウエーハ)114を準備する。第1の半導体基板114の内部には、MOSトランジスタ等の半導体素子、これと電気的に接続された各種金属配線、層間絶縁膜などが形成されている。
【0019】
次いで、第1の半導体基板114の上にスパッタリングにより密着層(バリア層)を形成し、この密着層上に第1のAl合金膜を堆積する。次いで、第1のAl合金膜及び密着層をパターニングすることにより、第1の半導体基板114の上には最下層の配線層である第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aが形成される。
次いで、第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aの上にシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜115をCVD(Chemical Vapor Deposition)法により形成する。次いで、第1の層間絶縁膜115をエッチングすることにより、第1の層間絶縁膜115には第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0020】
次に、前記接続孔内及び第1の層間絶縁膜115上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層(図示せず)をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで、第1の層間絶縁膜115上に存在するW膜と密着層をCMP(chemical mechanical polishing)により研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ116a,116bが形成される。Wプラグ116aは接触パッド12aに電気的に接続され、Wプラグ116bは第1のAl合金配線112aに電気的に接続される。
【0021】
この後、Wプラグ116a,116b及び第1の層間絶縁膜115の上に第2のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第2のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ116a,116bの上には第2のAl合金配線117a,117bが形成される。
次いで、第2のAl合金配線117a,117b及び第1の層間絶縁膜115の上にシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜118をCVD法により形成する。次いで、第2の層間絶縁膜118をエッチングすることにより、第2の層間絶縁膜118には第2のAl合金配線117a,117bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0022】
次に、前記接続孔内及び第2の層間絶縁膜118上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層(図示せず)をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで、第2の層間絶縁膜118上に存在するW膜と密着層をCMPにより研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ119a,119bが形成される。Wプラグ119aは第2のAl合金配線117aに電気的に接続され、Wプラグ119bは第2のAl合金配線117bに電気的に接続される。
【0023】
この後、Wプラグ119a,119b及び第2の層間絶縁膜118の上に第3のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第3のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ119a,119bの上には第3のAl合金配線120a,120bが形成される。第3のAl合金配線120a,120bそれぞれはWプラグ119a,119bに電気的に接続される。
【0024】
次いで、第3のAl合金配線120a,120b及び第2の層間絶縁膜118の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜121をCVD法により形成する。次いで、第3の層間絶縁膜121をエッチングすることにより、第3の層間絶縁膜121には第3のAl合金配線120a,120bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0025】
次に、前記接続孔内及び第3の層間絶縁膜121上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで第3の層間絶縁膜121上に存在するW膜と密着層をCMPにより研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ122a,122bが形成される。Wプラグ122aは第3のAl合金配線120aに電気的に接続され、Wプラグ122bは第3のAl合金配線120bに電気的に接続される。
【0026】
この後、Wプラグ122a,122b及び第3の層間絶縁膜121の上に第4のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第4のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ122a,122bの上には第4のAl合金配線123a,123bが形成される。第4のAl合金配線123a,123bそれぞれはWプラグ122a,122bに電気的に接続される。
【0027】
次いで、第4のAl合金配線123a,123b及び第3の層間絶縁膜121の上にシリコン酸化膜からなる絶縁膜126をCVD法により形成する。次いで、絶縁膜126をエッチングすることにより、該絶縁膜126には第4のAl合金配線123a,123bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
次いで、前記接続孔内及び絶縁膜126の上にCrやTiW等の密着層をスパッタリングにより形成し、この密着層上にCuシード層をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上にレジスト(図示せず)を形成し、このレジストをマスクとしてCuを選択メッキして引き出し用の再配線層を形成する。再配線層の厚みをAl合金配線より厚くすることが好ましい。これにより、組み立て強度を増すことができ、信頼性の向上を図ることができる。
【0028】
次に、再配線層の上に新たなレジスト(図示せず)を形成し、このレジストをマスクとして厚いCu層を選択メッキして、金属ポスト(Cuポスト)8aを形成する。尚、Cuメッキ膜からなる金属ポストは厚みや寸法の制御が比較的に容易である。次いで、金属ポスト8a上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ125を形成する。次に、前記レジストを剥離した後、再配線層をマスクにシード層、密着層をエッチング除去すると、各々分離した再配線からなる電極取り出し用パッド7aが形成される。電極取り出し用パッド7aは第4のAl合金配線123a,123bに電気的に接続される。
【0029】
このようにして電極取り出し用パッド7aは、裏面への引き出し専用の接続手段13aを介して接触パッド12aに電気的に接続される。接続手段13aは、Wプラグ116a,119a,122a、第2〜第4のAl合金配線117a,120a,123aによって構成されている。但し、このような構成の引き出し専用の接続手段13aは単なる一例であり、適宜変更して実施することも可能である。例えば、Wプラグの部分をAl合金膜とすることも可能である。
【0030】
次に、金属ポスト8aを含む全表面を保護テープ(図示せず)で覆い、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、半導体ウエーハ114の裏面上に感光性のポリイミド膜(図示せず)を塗布し、このポリイミド膜を露光、現像することにより、ウエーハ114の裏面側の金属ポスト8aに対向する位置に開孔部を有するポリイミドパターンが形成される。
【0031】
次いで、このポリイミドパターンをマスクとして単結晶Si部分をアルカリ系水溶液(例えばKOH)によりウエットエッチング又はCl2ガス、HBrガス、SF6ガス又はこれらの混合ガスを用いてドライエッチングする。これにより、ウエーハ114の裏面には深い孔6aが形成され、この深い孔6aによって接触パッド12aが露出される。このようにしてウエーハレベルでチップ表面に金属ポスト8aを形成し、チップ裏面に深い孔6aを形成した後、電気特性をチェックする。この後、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第1の半導体チップ6が形成される。
【0032】
上述したように単結晶Si部分をウエットエッチングするとテーパー状のホールが形成されるので、金属ポストの配置マージンを増やすことができ、Siと金属ポストのショートを防ぐことができる。従って、歩留まりを向上させることができる。
【0033】
尚、本実施の形態では、深い孔6aを形成する際、エッチングマスクとしてポリイミド膜を用いているが、これに限定されるものではなく、他のエッチングマスク、例えば両面アライナーを用いた厚いフォトシートをマスクとして用いても良いし、酸化膜などのハードマスクを用いても良いし、他の加工方法、例えばレーザを用いて深い孔を形成しても良い。但し、酸化膜などのハードマスクを用いる場合、このハードマスクをパターニングするためのフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程の分だけ工程数が多くなる。また、レーザを用いて深い孔を形成する場合はマスクレスで加工することが可能である。
【0034】
次に、第2の半導体チップ9を第1の半導体チップ6とほぼ同様の方法を用いて作製する。
この後、第3の半導体チップ10を次の方法で作製する。
半導体基板(半導体ウエーハ)214を準備し、この半導体基板214の上に最下層の配線層である第1のAl合金配線212aが形成される。
【0035】
次いで、第1のAl合金配線212aの上にシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜215をCVD法により形成する。次いで、第1の層間絶縁膜215をエッチングすることにより、第1の層間絶縁膜215には第1のAl合金配線212a上に位置する接続孔が形成される。
次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ216bが形成される。Wプラグ216bは第1のAl合金配線212aに電気的に接続される。
【0036】
この後、Wプラグ216b及び第1の層間絶縁膜215の上に第2のAl合金配線217bが形成される。次いで、第2のAl合金配線217b及び第1の層間絶縁膜215の上にシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜218をCVD法により形成する。次いで、第2の層間絶縁膜218に第2のAl合金配線217b上に位置する接続孔が形成される。
【0037】
次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ219bを形成する。Wプラグ219bは第2のAl合金配線217bに電気的に接続される。この後、Wプラグ219b及び第2の層間絶縁膜218の上に第3のAl合金配線220bを形成する。第3のAl合金配線220bはWプラグ219bに電気的に接続される。
【0038】
次いで、第3のAl合金配線220b及び第2の層間絶縁膜218の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜221をCVD法により形成する。次いで、第3の層間絶縁膜221に第3のAl合金配線220b上に位置する接続孔を形成する。次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ222bを形成する。Wプラグ222bは第3のAl合金配線220bに電気的に接続される。
【0039】
この後、Wプラグ222b及び第3の層間絶縁膜221の上に電極取り出し用パッド7cが形成される。電極取り出し用パッド7cはWプラグ222bに電気的に接続される。
次に、電極取り出し用パッド7cを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜226をCVD法により形成する。次いで、パッシベーション膜226をエッチングすることにより、パッシベーション膜226には電極取り出し用パッド7c上に位置する開孔部が形成される。
【0040】
次いで、開孔部内及びパッシベーション膜226上にTi、Ta、W等の高融点金属、その合金もしくはその窒化膜からなる密着層223をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層223の上に続けてCuシード層224をスパッタリングする。
この後、Cuシード層224及び密着層223の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層224上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層224上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8cが形成される。次いで、金属ポスト8c上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ225を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8c及びCuシード層224をマスクとして密着層223をエッチングする。
【0041】
次に、第1の半導体チップを作製する際と同様の方法により、半導体ウエーハ214の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにし、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第3の半導体チップ10を作製する。但し、第3の半導体チップ10の裏面には深い孔6aを形成していない。
【0042】
この後、第1〜第3の半導体チップ6,9,10を重ねて積み上げる。つまり、図1に示すように、第1〜第3の半導体チップ6,9,10を重ね、第1の半導体チップ6のホール6a内に第2の半導体チップ9の金属ポスト8bを挿入し、この金属ポスト8bを第1の半導体チップの接触パッド12aに接続し、第2の半導体チップ9のホール6a内に第3の半導体チップ10の金属ポスト8cを挿入し、この金属ポスト8cを第2の半導体チップの接触パッド12bに接続する。接触パッド12a,12bと金属ポスト8b,8cとを接続した状態は図2に示されている。尚、接触パッド12の下側に形成されている密着層(バリア層)は、金属ポストをAl等との低温共晶で接着する場合には除去することが好ましい。また、半導体チップ6、9、10間に絶縁接着剤や接着シート(図示せず)を配置すれば、チップ間のストレス緩衝、補強もしくは水分の侵入を防ぎ信頼性向上も図る事が出来る。
【0043】
次いで、図1に示すインターポーザ基板1を準備し、第1の半導体チップ6の金属ポスト8aをインターポーザ基板1の配線パターン2に接続する。次いで、第1〜第3の半導体チップ6,9,10及びインターポーザ基板1の上面を封止樹脂11によりモールド成形する。次いで、インターポーザ基板1の下面のパッド4にハンダバンプ3を取り付ける。このようにして半導体装置が形成される。
【0044】
上記実施の形態によれば、第1の半導体チップ6の裏面に金属ポスト8aに対向する位置からずれた位置、即ち金属ポスト8aと対向しない位置又は金属ポスト8aと対向する位置に隣接する位置にホール6aを形成している。このようにホール6aを金属ポスト8aに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第1の半導体チップ6とは大きさが異なる第2の半導体チップ9をフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップ6の裏面上に積み重ねることが可能となる。また、第2の半導体チップ9においてもホール6aを金属ポスト8bに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第2の半導体チップ9とは大きさが異なる第3の半導体チップ10をフェイスダウンボンディングにより第2の半導体チップの裏面上に積み重ねることが可能となる。従って、異なる大きさの半導体チップを容易に積層することが可能となる。
【0045】
また、本実施の形態では、第1及び第2の半導体チップ6,9において半導体基板114,214の上の最下層の配線層と同一層に接触パッド12a,12bを形成し、この接触パッドの上に裏面への引き出し専用の接続手段13a,13bを形成し、この接続手段の上に電極取り出し用パッド7a,7bを形成し、電極取り出し用パッドの上に外部端子として金属ポスト8a,8bを形成している。このため、半導体基板の裏面に深い孔6aを設ける際、接触パッドが露出するまで半導体基板をエッチングすれば良く、接触パッド1より上の絶縁膜をエッチングする必要がない。このため、何段、何種類にもなる絶縁膜の開孔工程を減らすことができ、従来の半導体装置のようにSi基板のサイドエッチで層間絶縁膜のひさしが発生することも無い。従って、深い孔6aを寸法精度、形状精度良くエッチング加工することが可能となり、加工マージンを増加させることができる。よって、歩留まりを向上でき、コストを低減できる。
【0046】
また、本実施の形態では、接触パッド12a,12bを裏面への引き出し専用の接続手段13と電極取り出し用パッド7によって金属ポスト8a,8bに接続している。このため、第1の半導体チップ6の深い孔6a内の接触パッド12aに第2の半導体チップ9の金属ポスト8bを直接接続させることができ、第2の半導体チップ9の深い孔6a内の接触パッド12bに第3の半導体チップ10の金属ポスト8cを直接接続させることができる。つまり、半導体チップの裏面から接触パッドまで到達する深い孔6aを形成し、他の半導体チップ表面の金属ポストを接触パッドに接触させるように積み上げることができる。従って、第1〜第3の半導体チップの相互間の導通をとりながら各々の半導体チップを同じ方向に重ね合わせた積層3次元CSPを形成することができる。
【0047】
尚、上記実施の形態では、第1〜第3の半導体チップ6,9,10に金属ポストをメッキ膜により形成しているが、これに限定されるものではなく、第1〜第3の半導体チップに金属ポストをハンダボールにより形成することも可能である。
また、本実施の形態では、インターポーザ基板1の上に3つの半導体チップを積層した半導体装置としているが、インターポーザ基板の上に2つ又は4つ以上の半導体チップを積層した半導体装置とすることも可能である。
【0048】
図3は、図1に示す半導体装置を製造する他の方法を示す断面図であり、図3は、図1に示す第1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの付近を部分的に拡大した断面図である。
まず、図2に示す半導体基板(半導体ウエーハ)114と同様のものを準備する。
【0049】
次いで、前記半導体基板114の上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第1のエッチングストッパー膜129を形成し、第1のエッチングストッパー膜129上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜130を形成する。次いで、第1の層間絶縁膜130及び第1のエッチングストッパー膜129をエッチングする。これにより、第1の層間絶縁膜130には配線用溝及びパッド用溝が形成される。
【0050】
次いで、配線用溝内、パッド用溝内及び第1の層間絶縁膜130上にTaN、TiW又はTiNからなる密着層(バリア層)131をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層131上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及びパッド用溝内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0051】
この後、第1の層間絶縁膜130上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層131をCMP法により研磨除去する。これにより、第1の層間絶縁膜131の配線用溝内及びパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内には最下層の配線層であるCu配線132aが形成され、パッド用溝内には接触パッド132bが形成される。この接触パッド132bは図1に示す接触パッド12aに相当するものである。
【0052】
次いで、接触パッド132b及びCu配線132aの上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第2のエッチングストッパー膜133を形成する。次いで、第2のエッチングストッパー膜133上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜134を堆積し、第2の層間絶縁膜134上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第3のエッチングストッパー膜135を形成する。この後、第3のエッチングストッパー膜135の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜136を堆積する。
【0053】
次に、第3の層間絶縁膜136、第3のエッチングストッパー膜135及び第2の層間絶縁膜134をエッチングする。これにより、第2、第3の層間絶縁膜134,136及びエッチングストッパー膜135には接続孔が形成される。この後、第2及び第3のエッチングストッパー膜133,135をストッパーとして第3の層間絶縁膜136をエッチングする。これにより、第3の層間絶縁膜136には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0054】
次に、第2及び第3のエッチングストッパー膜133,135をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第3の層間絶縁膜136上に密着層(バリア層)137をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層137上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0055】
この後、第3の層間絶縁膜136上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層137をCMP法により研磨除去する。これにより、第2の層間絶縁膜134の接続孔内及び第3の層間絶縁膜136の配線用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内にはCu配線138a,138bが形成される。
【0056】
次いで、Cu配線138a,138bの上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第4のエッチングストッパー膜145を形成する。次いで、第4のエッチングストッパー膜上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第4の層間絶縁膜146を堆積し、第4の層間絶縁膜146上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第5のエッチングストッパー膜147を形成する。この後、第5のエッチングストッパー膜147の上にシリコン酸化膜からなる第5の層間絶縁膜148を堆積する。
【0057】
次に、第5の層間絶縁膜148、第5のエッチングストッパー膜147及び第4の層間絶縁膜146をエッチングする。これにより、第4、第5の層間絶縁膜146,148及びエッチングストッパー膜147には接続孔が形成される。この後、第4及び第5のエッチングストッパー膜をストッパーとして第5の層間絶縁膜をエッチングする。これにより、第5の層間絶縁膜には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0058】
次に、第4及び第5のエッチングストッパー膜145,147をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第5の層間絶縁膜148上に密着層(バリア層)149をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層149上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0059】
この後、第5の層間絶縁膜148上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層149をCMP法により研磨除去する。これにより、第4の層間絶縁膜146の接続孔内及び第5の層間絶縁膜148の配線用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内にはCu配線150a,150bが形成される。このようにして接触パッド132b上には裏面への引き出し専用の接続手段13aが形成される。
【0060】
次に、Cu配線150a,150bを含む全面上にシリコン窒化膜からなる第6のエッチングストッパー膜139をプラズマCVD法により形成する。次いで、第6のエッチングストッパー膜139上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第6の層間絶縁膜140を堆積し、第6の層間絶縁膜140上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第7のエッチングストッパー膜141を形成する。この後、第7のエッチングストッパー膜141の上にシリコン酸化膜からなる第7の層間絶縁膜142を堆積する。
【0061】
次に、第5の層間絶縁膜142、第7のエッチングストッパー膜141及び第6の層間絶縁膜140をエッチングする。これにより、第6、第7の層間絶縁膜140,142及びエッチングストッパー膜141には接続孔が形成される。この後、第6及び第7のエッチングストッパー膜139,141をストッパーとして第7の層間絶縁膜142をエッチングする。これにより、第7の層間絶縁膜142にはパッド用溝が形成され、パッド用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0062】
次に、第6及び第7のエッチングストッパー膜139,141をエッチングした後、接続孔内、パッド用溝内及び第7の層間絶縁膜142上に密着層(バリア層)143をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層143上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、パッド用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0063】
この後、第7の層間絶縁膜142上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層143をCMP法により研磨除去する。これにより、第6の層間絶縁膜140の接続孔内及び第7の層間絶縁膜142のパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、パッド用溝内には電極取り出し用パッド7aが形成される。電極取り出し用パッド7aは接続手段13aに電気的に接続されると共にCu配線150aに電気的に接続される。
【0064】
次に、電極取り出し用パッド7aを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜144をCVD法により形成する。次いで、パッシベーション膜144をエッチングすることにより、パッシベーション膜144には電極取り出し用パッド7a上に位置する開孔部が形成される。次いで、開孔部内及びパッシベーション膜144上にTi、Ta、W等の高融点金属、その合金もしくはその窒化膜からなる密着層123をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層123の上に続けてCuシード層124をスパッタリングする。
【0065】
この後、Cuシード層124及び密着層123の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層124上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層124上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8aが形成される。次いで、金属ポスト8a上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ125を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8a及びCuシード層124をマスクとして密着層123をエッチングする。
【0066】
次に、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、実施の形態と同様の方法で、ウエーハ114の裏面には深い孔6aが形成され、この深い孔6aによって接触パッド132b下の密着層131が露出される。次いで、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第1の半導体チップ6を作製する。
【0067】
次に、第2の半導体チップ9を第1の半導体チップ6とほぼ同様の方法を用いて作製する。
この後、第3の半導体チップ10を次の方法で作製する。
図2に示す半導体基板(半導体ウエーハ)114と同様のものを準備する。
【0068】
次いで、前記半導体基板114の上にCVD法により第1のエッチングストッパー膜229を形成し、第1のエッチングストッパー膜229上にCVD法により第1の層間絶縁膜230を形成する。次いで、第1の層間絶縁膜230及び第1のエッチングストッパー膜229をエッチングする。これにより、第1の層間絶縁膜230には配線用溝及びパッド用溝が形成される。
【0069】
次いで、配線用溝内、パッド用溝内及び第1の層間絶縁膜230上に密着層231をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層231上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及びパッド用溝内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0070】
この後、第1の層間絶縁膜230上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層231をCMP法により研磨除去する。これにより、第1の層間絶縁膜231配線用溝内には最下層の配線層であるCu配線232aが形成される。
次いで、Cu配線232aの上にCVD法により第2のエッチングストッパー膜233を形成する。次いで、第2のエッチングストッパー膜233上にCVD法により第2の層間絶縁膜234を堆積し、第2の層間絶縁膜234上にCVD法により第3のエッチングストッパー膜235を形成する。この後、第3のエッチングストッパー膜235の上に第3の層間絶縁膜236を堆積する。
【0071】
次に、第3の層間絶縁膜236、第3のエッチングストッパー膜235及び第2の層間絶縁膜234をエッチングする。これにより、第2、第3の層間絶縁膜234,236及びエッチングストッパー膜235には接続孔が形成される。この後、第2及び第3のエッチングストッパー膜233,235をストッパーとして第3の層間絶縁膜236をエッチングする。これにより、第3の層間絶縁膜236には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0072】
次に、第2及び第3のエッチングストッパー膜235,235をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第3の層間絶縁膜236上に密着層237をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層237上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0073】
この後、第3の層間絶縁膜236上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層237をCMP法により研磨除去する。これにより、第2の層間絶縁膜234の配線用溝内にはCu配線238aが形成される。
次いで、Cu配線238aの上に第4のエッチングストッパー膜245を形成する。次いで、第4のエッチングストッパー膜上に第4の層間絶縁膜246を堆積し、第4の層間絶縁膜246上に第5のエッチングストッパー膜247を形成する。この後、第5のエッチングストッパー膜247の上に第5の層間絶縁膜248を堆積する。
【0074】
次に、第5の層間絶縁膜248、第5のエッチングストッパー膜247及び第4の層間絶縁膜246をエッチングする。これにより、第4、第5の層間絶縁膜246,248及びエッチングストッパー膜247には接続孔が形成される。この後、第4及び第5のエッチングストッパー膜をストッパーとして第5の層間絶縁膜をエッチングする。これにより、第5の層間絶縁膜にはパッド用溝が形成され、パッド用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0075】
次に、第4及び第5のエッチングストッパー膜245,247をエッチングした後、接続孔内、パッド用溝内及び第5の層間絶縁膜248上に密着層249をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層249上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、パッド用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0076】
この後、第5の層間絶縁膜248上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層249をCMP法により研磨除去する。これにより、第4の層間絶縁膜246の接続孔内及び第5の層間絶縁膜148のパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、パッド用溝内には電極取り出し用パッド7cが形成される。
次に、電極取り出し用パッド7cを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜244を形成する。次いで、パッシベーション膜244をエッチングすることにより、パッシベーション膜244には電極取り出し用パッド7c上に位置する開孔部が形成される。次いで、開孔部内及びパッシベーション膜244上に密着層223をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層223の上に続けてCuシード層224をスパッタリングする。
【0077】
この後、Cuシード層224及び密着層223の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層224上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層224上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8cが形成される。次いで、金属ポスト8c上にメッキ法により異種金属キャップ225を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8c及びCuシード層224をマスクとして密着層223をエッチングする。
【0078】
次に、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。
上記の方法においても図1に示す半導体装置と同様のものを製造することができ、同様の作用効果を得ることができる。
【0079】
図4は、図3の半導体チップの第1変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
金属ポスト8aの外形及びホール6aの内形それぞれを六角柱、八角柱などの五角以上の多角柱とする。この点以外の構成は図3と同一である。
【0080】
上記第1変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
本変形例では、金属ポストの外形及びホールの内形それぞれを五角以上の多角柱としているため、四角柱とした場合に比べて、バリア膜やシード層を良好に付き回るようにすることができる。その結果、金属ポストの形成不良が生じることを抑制できる。また、組み立て時に、金属ポストとホールが相対的に回転方向にずれてもショートを起こしにくくすることができ、歩留まり及び信頼性を向上できる。
【0081】
図5は、図3の半導体チップの第2変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
金属ポスト8a上にハンダボール14を搭載し、このハンダボール14を用いて接触パッドと金属ポストとを接着する。この点以外の構成は図3と同一である。
上記第2変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
本変形例では、組み立てが容易となる。
【0082】
第2変形例のハンダボールに代えて、金属ポスト8a上にAg−Sn等のハンダメッキ(電解メッキでも無電解メッキでも良い)を施し、このハンダメッキと接触パッド132bとを溶着することとしても良い。
【0083】
図6は、図3の半導体チップの第3変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
半導体チップの裏面からホール6a内で露出した接触パッド132bに、インクジェットプリンター機構を用いてAgペースト15又はAuペーストを転写し、これと接触パッド132bとを接着する。この接着は常温に近い温度で行うことが可能である。この点以外の構成は図3と同一である。
【0084】
上記第3変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
また、本変形例では、インクジェットプリンター機構を用いるため、高い精度でAgペーストなどを転写することができ、Agペーストなどのはみ出しによるホール内Siとのショートが発生することを抑制でき、接着強度も向上できる。
【0085】
尚、本発明は上記の実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、上述した半導体装置はメモリーやロジックなどの種々のLSIに適用することが可能である。また、前記半導体装置を搭載する一例として電子機器のプリント基板が挙げられ、このプリント基板には半導体装置の回路に応じて配線がパターニングされており、この半導体装置は実装工程でプリント基板の必要位置に搭載される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態による半導体装置を概略的に示す断面図。
【図2】図1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの拡大断面図。
【図3】図1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの拡大断面図。
【図4】図3の半導体チップの第1変形例を示す断面図。
【図5】図3の半導体チップの第2変形例を示す断面図。
【図6】図3の半導体チップの第3変形例を示す断面図。
【符号の説明】
1…インターポーザ基板、2…配線パターン、3…ハンダバンプ、4…パッド、5…接続部材、6…第1の半導体チップ、6a…深い孔(ホール)、7a〜7c…電極取り出し用パッド、8a〜8c…金属ポスト、9…第2の半導体チップ、10…第3の半導体チップ、11…封止樹脂、12a,12b…接触パッド、13a,13b…接続手段、14…ハンダボール、15…Agペースト、112a,212a…第1のAl合金配線、114,214…半導体基板(半導体ウエーハ)、115,215…第1の層間絶縁膜、116a,116b,216b…Wプラグ、117a,117b,217b…第2のAl合金配線、118,218…第2の層間絶縁膜、119a,119b,219b…Wプラグ、120a,120b,220b…Wプラグ、121,221…第3の層間絶縁膜、122a,122b,222b…Wプラグ、123,223…密着層、124,224…Cuシード層、125,225…異種金属キャップ、126,226…絶縁膜、129,229…第1のエッチングストッパー膜、130,230…第1の層間絶縁膜、131,231…密着層(バリア層)、132a,232a…Cu配線、132b…接触パッド、133,233…第2のエッチングストッパー膜、134,234…第2の層間絶縁膜、135,235…第3のエッチングストッパー膜、136,236…第3の層間絶縁膜、137,237…密着層(バリア層)、138a,138b,238a…Cu配線、139…第6のエッチングストッパー膜、140…第6の層間絶縁膜、141…第7のエッチングストッパー膜、142…第7の層間絶縁膜、143…密着層(バリア層)、144…パッシベーション膜、145,245…第4のエッチングストッパー膜、146,246…第4の層間絶縁膜、147,247…第5のエッチングストッパー膜、148,248…第5の層間絶縁膜、149,249…密着層(バリア層)、150a,150b…Cu配線
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係わり、特に、CSP(Chip Size Package)レベルに小型化された半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯電話や情報端末機器類の小型化に伴い、プリント回路基板等への搭載部品の小型、軽量化が要求され、LSI等の半導体装置も、チップ積層構造でCSPレベルの高密度実装が要求される。
そこで最近は、電極貫通型の3次元スタックCSP型半導体装置が提案されている。この半導体装置は次のように製造される。
【0003】
半導体チップの表面からシリコン基板まで到達する垂直な細くて深い孔(深さ70〜100μm/太さ約30μm)をエッチングにより形成し、この深い孔内に絶縁層、メタル密着層、シード層、更にメッキによるCu層等を埋め込むことで該深い孔内に貫通電極を形成し、更に裏面から研削又はエッチングにより前記貫通電極の頭出しを行うことにより半導体チップが作製される。このようにして作製された半導体チップを3次元に積層し、この積層した半導体チップの相互間を貫通電極で接続することにより、各々の半導体チップの導通をとる。そして、これら積層した半導体チップをインターポーザ基板上に配置し、インターポーザ基板の上面と共に樹脂により封止することで、電極貫通型の3次元スタックCSP型半導体装置が製造される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなCSP型半導体装置は、同じ位置に貫通電極を形成した同じ大きさの半導体チップを複数枚積層したものであり、異なる大きさの半導体チップを複数枚積層する場合には不向きであり、また困難であった。
【0005】
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、異なる大きさの半導体チップを容易に積層できる半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置は、基板の表面上にフェイスダウンで第1の半導体チップが配置され、第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで前記第1の半導体チップとは大きさの異なる第2の半導体チップが配置された半導体装置であって、
前記第1の半導体チップに形成され、最下層の配線層と同一層に形成された接触パッドと、
前記接触パッド上に形成された接続手段と、
前記接続手段上に形成された第1の電極取り出し用パッドと、
前記第1の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第1の半導体チップ表面から露出した第1の導電ポストと、
前記第1の半導体チップの裏面に形成され、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置に形成され、前記接触パッド下に形成されたホールと、
前記第2の半導体チップに形成された第2の電極取り出し用パッドと、
前記第2の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第2の半導体チップ表面から露出し且つ前記ホール内に挿入され、前記接触パッドに接続された第2の導電ポストと、
前記基板の表面に形成され、前記第1の導電ポストに接続された配線パターンと、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップが封止された樹脂と、
前記基板の裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を具備する。
【0007】
上記半導体装置によれば、第1の半導体チップの裏面に導電ポストに対向する位置からずれた位置にホールを形成している。このようにホールを導電ポストに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第1の半導体チップとは大きさが異なる第2の半導体チップをフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップの裏面上に積み重ねることが容易となる。つまり、異なる大きさの半導体チップを容易に積層することが可能となる。
【0008】
また、本発明に係る半導体装置においては、前記ホール内の形状及び前記導電ポストの外形状が五角形以上の多角形であることも可能である。
また、本発明に係る半導体装置においては、前記接触パッドと前記第2の導電ポストとはハンダボール、銀ペースト又は金ペーストを介して接続されていることも可能である。
【0009】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、表面に形成された配線パターンと、裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を有する基板と、前記基板の表面上にフェイスダウンで配置された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで配置された前記第1の半導体チップとは大きさが異なる第2の半導体チップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
第1の半導体チップ領域の最下層の配線層と同一層に接触パッドを形成し、前記接触パッド上に接続手段を形成し、前記接続手段上に第1の電極取り出し用パッドを形成し、前記第1の電極取り出し用パッド上に、前記第1の半導体チップ領域の表面から露出する第1の導電ポストを形成し、前記第1の半導体チップ領域の裏面に、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置のホールをエッチング加工又はレーザ加工により形成することにより前記接触パッドを露出させて第1の半導体チップを作製する工程と、
第2の半導体チップ領域に第2の電極取り出し用パッドを形成し、前記第2の電極取り出し用パッド上に、前記第2の半導体チップ領域の表面から露出する第2の導電ポストを形成することにより第2の半導体チップを作製する工程と、
前記第2の半導体チップをフェイスダウンで前記第1の半導体チップの裏面上に配置し、前記第2の導電ポストを前記ホール内に挿入し、前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続し、前記第1の半導体チップを基板の表面上にフェイスダウンで配置し、前記第1の導電ポストを前記配線パターンに接続する工程と、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップを樹脂で封止する工程と、を具備する。
【0010】
また、本発明に係る半導体装置の製造方法において、前記エッチング加工は、前記第1の半導体チップの裏面にマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとして第1の半導体チップの単結晶Si部分を、アルカリ系水溶液を用いてウエットエッチングすることにより前記ホールを形成するものであることが好ましい。
【0011】
また、本発明に係る半導体装置の製造方法においては、前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続する際、前記ホール内の前記接触パッドにインクジェットプリンター機構を用いて銀ペースト又は金ペーストを転写しておき、前記銀ペースト又は金ペーストを介して前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続することも可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明に係る実施の形態による半導体装置を概略的に示す断面図である。
この半導体装置はインターポーザ基板1を有しており、このインターポーザ基板1の上面には配線パターン2が形成されている。インターポーザ基板1の下面にはパッド4が形成されており、パッド4の下には実装用外部端子としてのハンダバンプ3が配置されている。ハンダバンプ3はパッド4に接続されており、パッド4は接続部材5を介して配線パターン2に電気的に接続されている。
【0013】
インターポーザ基板1の上面上にはフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップ6が配置されている。第1の半導体チップ6の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7aが配置されており、電極取り出し用パッド7aの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8aが形成されている。この金属ポスト8aはインターポーザ基板1の配線パターン2に接続されている。
【0014】
前記電極取り出し用パッド7aの上には裏面への引き出し専用の接続手段13aを介して接触パッド12aが配置されている。第1の半導体チップ6の裏面(能動面と逆側の面)には金属ポスト8aに対向する位置からずれた位置(即ち金属ポスト8aと対向しない位置又は金属ポスト8aと対向する位置に隣接する位置)にホール(深い孔)6aが形成されている。このホール6aによって接触パッド12aが露出している。尚、金属ポスト8aは素子の無い領域に配置しても良い。このように金属ポストと素子との距離を保つことで、デバイスへのダメージを避けることができる。
【0015】
第1の半導体チップ6の裏面上にはフェイスダウンボンディングにより第2の半導体チップ9が配置されている。第2の半導体チップ9は第1の半導体チップ6とは大きさが異なるチップである。第2の半導体チップ9の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7bが配置されており、電極取り出し用パッド7bの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8bが形成されている。この金属ポスト8bは第1の半導体チップ6のホール(深い孔)6aによって露出した接触パッド12aに接続されている。前記電極取り出し用パッド7bの上には裏面への引き出し専用の接続手段13bを介して接触パッド12bが配置されている。第2の半導体チップ9の裏面には金属ポスト8bに対向する位置からずれた位置(即ち金属ポスト8bに対向しない位置又は金属ポスト8bと対向する位置に隣接する位置)にホール6aが形成されている。このホール6aによって接触パッド12bが露出している。尚、金属ポスト8bは素子の無い領域に配置しても良い。
【0016】
第2の半導体チップ9の裏面上にはフェイスダウンボンディングにより第3の半導体チップ10が配置されている。第3の半導体チップ10は第2の半導体チップ9とは大きさが異なるチップである。第3の半導体チップ10の能動面下(下面)には電極取り出し用パッド7cが配置されており、電極取り出し用パッド7cの下には外部端子としての金属ポスト(導電ポスト)8cが形成されている。この金属ポスト8cは第2の半導体チップ9のホール(深い孔)6aによって露出した接触パッド12bに接続されている。
【0017】
インターポーザ基板1の上面上、第1〜第3の半導体チップ6,9,10及び金属ポスト8a〜8cは封止樹脂11によりモールド成形されている。
尚、本実施の形態では、金属ポスト8a〜8cを用いているが、金属以外の導電物からなる導電ポストを用いることも可能である。
【0018】
次に、図1に示す半導体装置を製造する方法について図2を参照しつつ説明する。図2は、図1に示す第1〜第3の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの付近を部分的に拡大した断面図である。
まず、図2に示すように、第1の半導体基板(半導体ウエーハ)114を準備する。第1の半導体基板114の内部には、MOSトランジスタ等の半導体素子、これと電気的に接続された各種金属配線、層間絶縁膜などが形成されている。
【0019】
次いで、第1の半導体基板114の上にスパッタリングにより密着層(バリア層)を形成し、この密着層上に第1のAl合金膜を堆積する。次いで、第1のAl合金膜及び密着層をパターニングすることにより、第1の半導体基板114の上には最下層の配線層である第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aが形成される。
次いで、第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aの上にシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜115をCVD(Chemical Vapor Deposition)法により形成する。次いで、第1の層間絶縁膜115をエッチングすることにより、第1の層間絶縁膜115には第1のAl合金配線112a及び接触パッド12aそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0020】
次に、前記接続孔内及び第1の層間絶縁膜115上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層(図示せず)をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで、第1の層間絶縁膜115上に存在するW膜と密着層をCMP(chemical mechanical polishing)により研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ116a,116bが形成される。Wプラグ116aは接触パッド12aに電気的に接続され、Wプラグ116bは第1のAl合金配線112aに電気的に接続される。
【0021】
この後、Wプラグ116a,116b及び第1の層間絶縁膜115の上に第2のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第2のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ116a,116bの上には第2のAl合金配線117a,117bが形成される。
次いで、第2のAl合金配線117a,117b及び第1の層間絶縁膜115の上にシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜118をCVD法により形成する。次いで、第2の層間絶縁膜118をエッチングすることにより、第2の層間絶縁膜118には第2のAl合金配線117a,117bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0022】
次に、前記接続孔内及び第2の層間絶縁膜118上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層(図示せず)をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで、第2の層間絶縁膜118上に存在するW膜と密着層をCMPにより研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ119a,119bが形成される。Wプラグ119aは第2のAl合金配線117aに電気的に接続され、Wプラグ119bは第2のAl合金配線117bに電気的に接続される。
【0023】
この後、Wプラグ119a,119b及び第2の層間絶縁膜118の上に第3のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第3のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ119a,119bの上には第3のAl合金配線120a,120bが形成される。第3のAl合金配線120a,120bそれぞれはWプラグ119a,119bに電気的に接続される。
【0024】
次いで、第3のAl合金配線120a,120b及び第2の層間絶縁膜118の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜121をCVD法により形成する。次いで、第3の層間絶縁膜121をエッチングすることにより、第3の層間絶縁膜121には第3のAl合金配線120a,120bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
【0025】
次に、前記接続孔内及び第3の層間絶縁膜121上にTi,TaやW等もしくはその合金もしくはその窒化膜でなる密着層をスパッタリングし、更にCVD法によりW膜を堆積する。次いで第3の層間絶縁膜121上に存在するW膜と密着層をCMPにより研磨除去する。これにより、前記接続孔内にはW膜が埋め込まれたWプラグ122a,122bが形成される。Wプラグ122aは第3のAl合金配線120aに電気的に接続され、Wプラグ122bは第3のAl合金配線120bに電気的に接続される。
【0026】
この後、Wプラグ122a,122b及び第3の層間絶縁膜121の上に第4のAl合金膜をスパッタリングにより堆積し、第4のAl合金膜をパターニングすることにより、Wプラグ122a,122bの上には第4のAl合金配線123a,123bが形成される。第4のAl合金配線123a,123bそれぞれはWプラグ122a,122bに電気的に接続される。
【0027】
次いで、第4のAl合金配線123a,123b及び第3の層間絶縁膜121の上にシリコン酸化膜からなる絶縁膜126をCVD法により形成する。次いで、絶縁膜126をエッチングすることにより、該絶縁膜126には第4のAl合金配線123a,123bそれぞれの上に位置する接続孔が形成される。
次いで、前記接続孔内及び絶縁膜126の上にCrやTiW等の密着層をスパッタリングにより形成し、この密着層上にCuシード層をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上にレジスト(図示せず)を形成し、このレジストをマスクとしてCuを選択メッキして引き出し用の再配線層を形成する。再配線層の厚みをAl合金配線より厚くすることが好ましい。これにより、組み立て強度を増すことができ、信頼性の向上を図ることができる。
【0028】
次に、再配線層の上に新たなレジスト(図示せず)を形成し、このレジストをマスクとして厚いCu層を選択メッキして、金属ポスト(Cuポスト)8aを形成する。尚、Cuメッキ膜からなる金属ポストは厚みや寸法の制御が比較的に容易である。次いで、金属ポスト8a上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ125を形成する。次に、前記レジストを剥離した後、再配線層をマスクにシード層、密着層をエッチング除去すると、各々分離した再配線からなる電極取り出し用パッド7aが形成される。電極取り出し用パッド7aは第4のAl合金配線123a,123bに電気的に接続される。
【0029】
このようにして電極取り出し用パッド7aは、裏面への引き出し専用の接続手段13aを介して接触パッド12aに電気的に接続される。接続手段13aは、Wプラグ116a,119a,122a、第2〜第4のAl合金配線117a,120a,123aによって構成されている。但し、このような構成の引き出し専用の接続手段13aは単なる一例であり、適宜変更して実施することも可能である。例えば、Wプラグの部分をAl合金膜とすることも可能である。
【0030】
次に、金属ポスト8aを含む全表面を保護テープ(図示せず)で覆い、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、半導体ウエーハ114の裏面上に感光性のポリイミド膜(図示せず)を塗布し、このポリイミド膜を露光、現像することにより、ウエーハ114の裏面側の金属ポスト8aに対向する位置に開孔部を有するポリイミドパターンが形成される。
【0031】
次いで、このポリイミドパターンをマスクとして単結晶Si部分をアルカリ系水溶液(例えばKOH)によりウエットエッチング又はCl2ガス、HBrガス、SF6ガス又はこれらの混合ガスを用いてドライエッチングする。これにより、ウエーハ114の裏面には深い孔6aが形成され、この深い孔6aによって接触パッド12aが露出される。このようにしてウエーハレベルでチップ表面に金属ポスト8aを形成し、チップ裏面に深い孔6aを形成した後、電気特性をチェックする。この後、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第1の半導体チップ6が形成される。
【0032】
上述したように単結晶Si部分をウエットエッチングするとテーパー状のホールが形成されるので、金属ポストの配置マージンを増やすことができ、Siと金属ポストのショートを防ぐことができる。従って、歩留まりを向上させることができる。
【0033】
尚、本実施の形態では、深い孔6aを形成する際、エッチングマスクとしてポリイミド膜を用いているが、これに限定されるものではなく、他のエッチングマスク、例えば両面アライナーを用いた厚いフォトシートをマスクとして用いても良いし、酸化膜などのハードマスクを用いても良いし、他の加工方法、例えばレーザを用いて深い孔を形成しても良い。但し、酸化膜などのハードマスクを用いる場合、このハードマスクをパターニングするためのフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程の分だけ工程数が多くなる。また、レーザを用いて深い孔を形成する場合はマスクレスで加工することが可能である。
【0034】
次に、第2の半導体チップ9を第1の半導体チップ6とほぼ同様の方法を用いて作製する。
この後、第3の半導体チップ10を次の方法で作製する。
半導体基板(半導体ウエーハ)214を準備し、この半導体基板214の上に最下層の配線層である第1のAl合金配線212aが形成される。
【0035】
次いで、第1のAl合金配線212aの上にシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜215をCVD法により形成する。次いで、第1の層間絶縁膜215をエッチングすることにより、第1の層間絶縁膜215には第1のAl合金配線212a上に位置する接続孔が形成される。
次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ216bが形成される。Wプラグ216bは第1のAl合金配線212aに電気的に接続される。
【0036】
この後、Wプラグ216b及び第1の層間絶縁膜215の上に第2のAl合金配線217bが形成される。次いで、第2のAl合金配線217b及び第1の層間絶縁膜215の上にシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜218をCVD法により形成する。次いで、第2の層間絶縁膜218に第2のAl合金配線217b上に位置する接続孔が形成される。
【0037】
次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ219bを形成する。Wプラグ219bは第2のAl合金配線217bに電気的に接続される。この後、Wプラグ219b及び第2の層間絶縁膜218の上に第3のAl合金配線220bを形成する。第3のAl合金配線220bはWプラグ219bに電気的に接続される。
【0038】
次いで、第3のAl合金配線220b及び第2の層間絶縁膜218の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜221をCVD法により形成する。次いで、第3の層間絶縁膜221に第3のAl合金配線220b上に位置する接続孔を形成する。次に、前記接続孔内にW膜が埋め込まれたWプラグ222bを形成する。Wプラグ222bは第3のAl合金配線220bに電気的に接続される。
【0039】
この後、Wプラグ222b及び第3の層間絶縁膜221の上に電極取り出し用パッド7cが形成される。電極取り出し用パッド7cはWプラグ222bに電気的に接続される。
次に、電極取り出し用パッド7cを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜226をCVD法により形成する。次いで、パッシベーション膜226をエッチングすることにより、パッシベーション膜226には電極取り出し用パッド7c上に位置する開孔部が形成される。
【0040】
次いで、開孔部内及びパッシベーション膜226上にTi、Ta、W等の高融点金属、その合金もしくはその窒化膜からなる密着層223をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層223の上に続けてCuシード層224をスパッタリングする。
この後、Cuシード層224及び密着層223の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層224上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層224上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8cが形成される。次いで、金属ポスト8c上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ225を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8c及びCuシード層224をマスクとして密着層223をエッチングする。
【0041】
次に、第1の半導体チップを作製する際と同様の方法により、半導体ウエーハ214の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにし、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第3の半導体チップ10を作製する。但し、第3の半導体チップ10の裏面には深い孔6aを形成していない。
【0042】
この後、第1〜第3の半導体チップ6,9,10を重ねて積み上げる。つまり、図1に示すように、第1〜第3の半導体チップ6,9,10を重ね、第1の半導体チップ6のホール6a内に第2の半導体チップ9の金属ポスト8bを挿入し、この金属ポスト8bを第1の半導体チップの接触パッド12aに接続し、第2の半導体チップ9のホール6a内に第3の半導体チップ10の金属ポスト8cを挿入し、この金属ポスト8cを第2の半導体チップの接触パッド12bに接続する。接触パッド12a,12bと金属ポスト8b,8cとを接続した状態は図2に示されている。尚、接触パッド12の下側に形成されている密着層(バリア層)は、金属ポストをAl等との低温共晶で接着する場合には除去することが好ましい。また、半導体チップ6、9、10間に絶縁接着剤や接着シート(図示せず)を配置すれば、チップ間のストレス緩衝、補強もしくは水分の侵入を防ぎ信頼性向上も図る事が出来る。
【0043】
次いで、図1に示すインターポーザ基板1を準備し、第1の半導体チップ6の金属ポスト8aをインターポーザ基板1の配線パターン2に接続する。次いで、第1〜第3の半導体チップ6,9,10及びインターポーザ基板1の上面を封止樹脂11によりモールド成形する。次いで、インターポーザ基板1の下面のパッド4にハンダバンプ3を取り付ける。このようにして半導体装置が形成される。
【0044】
上記実施の形態によれば、第1の半導体チップ6の裏面に金属ポスト8aに対向する位置からずれた位置、即ち金属ポスト8aと対向しない位置又は金属ポスト8aと対向する位置に隣接する位置にホール6aを形成している。このようにホール6aを金属ポスト8aに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第1の半導体チップ6とは大きさが異なる第2の半導体チップ9をフェイスダウンボンディングにより第1の半導体チップ6の裏面上に積み重ねることが可能となる。また、第2の半導体チップ9においてもホール6aを金属ポスト8bに対向する位置からずらして形成することにより、レイアウトの自由度が増し、第2の半導体チップ9とは大きさが異なる第3の半導体チップ10をフェイスダウンボンディングにより第2の半導体チップの裏面上に積み重ねることが可能となる。従って、異なる大きさの半導体チップを容易に積層することが可能となる。
【0045】
また、本実施の形態では、第1及び第2の半導体チップ6,9において半導体基板114,214の上の最下層の配線層と同一層に接触パッド12a,12bを形成し、この接触パッドの上に裏面への引き出し専用の接続手段13a,13bを形成し、この接続手段の上に電極取り出し用パッド7a,7bを形成し、電極取り出し用パッドの上に外部端子として金属ポスト8a,8bを形成している。このため、半導体基板の裏面に深い孔6aを設ける際、接触パッドが露出するまで半導体基板をエッチングすれば良く、接触パッド1より上の絶縁膜をエッチングする必要がない。このため、何段、何種類にもなる絶縁膜の開孔工程を減らすことができ、従来の半導体装置のようにSi基板のサイドエッチで層間絶縁膜のひさしが発生することも無い。従って、深い孔6aを寸法精度、形状精度良くエッチング加工することが可能となり、加工マージンを増加させることができる。よって、歩留まりを向上でき、コストを低減できる。
【0046】
また、本実施の形態では、接触パッド12a,12bを裏面への引き出し専用の接続手段13と電極取り出し用パッド7によって金属ポスト8a,8bに接続している。このため、第1の半導体チップ6の深い孔6a内の接触パッド12aに第2の半導体チップ9の金属ポスト8bを直接接続させることができ、第2の半導体チップ9の深い孔6a内の接触パッド12bに第3の半導体チップ10の金属ポスト8cを直接接続させることができる。つまり、半導体チップの裏面から接触パッドまで到達する深い孔6aを形成し、他の半導体チップ表面の金属ポストを接触パッドに接触させるように積み上げることができる。従って、第1〜第3の半導体チップの相互間の導通をとりながら各々の半導体チップを同じ方向に重ね合わせた積層3次元CSPを形成することができる。
【0047】
尚、上記実施の形態では、第1〜第3の半導体チップ6,9,10に金属ポストをメッキ膜により形成しているが、これに限定されるものではなく、第1〜第3の半導体チップに金属ポストをハンダボールにより形成することも可能である。
また、本実施の形態では、インターポーザ基板1の上に3つの半導体チップを積層した半導体装置としているが、インターポーザ基板の上に2つ又は4つ以上の半導体チップを積層した半導体装置とすることも可能である。
【0048】
図3は、図1に示す半導体装置を製造する他の方法を示す断面図であり、図3は、図1に示す第1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの付近を部分的に拡大した断面図である。
まず、図2に示す半導体基板(半導体ウエーハ)114と同様のものを準備する。
【0049】
次いで、前記半導体基板114の上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第1のエッチングストッパー膜129を形成し、第1のエッチングストッパー膜129上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第1の層間絶縁膜130を形成する。次いで、第1の層間絶縁膜130及び第1のエッチングストッパー膜129をエッチングする。これにより、第1の層間絶縁膜130には配線用溝及びパッド用溝が形成される。
【0050】
次いで、配線用溝内、パッド用溝内及び第1の層間絶縁膜130上にTaN、TiW又はTiNからなる密着層(バリア層)131をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層131上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及びパッド用溝内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0051】
この後、第1の層間絶縁膜130上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層131をCMP法により研磨除去する。これにより、第1の層間絶縁膜131の配線用溝内及びパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内には最下層の配線層であるCu配線132aが形成され、パッド用溝内には接触パッド132bが形成される。この接触パッド132bは図1に示す接触パッド12aに相当するものである。
【0052】
次いで、接触パッド132b及びCu配線132aの上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第2のエッチングストッパー膜133を形成する。次いで、第2のエッチングストッパー膜133上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第2の層間絶縁膜134を堆積し、第2の層間絶縁膜134上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第3のエッチングストッパー膜135を形成する。この後、第3のエッチングストッパー膜135の上にシリコン酸化膜からなる第3の層間絶縁膜136を堆積する。
【0053】
次に、第3の層間絶縁膜136、第3のエッチングストッパー膜135及び第2の層間絶縁膜134をエッチングする。これにより、第2、第3の層間絶縁膜134,136及びエッチングストッパー膜135には接続孔が形成される。この後、第2及び第3のエッチングストッパー膜133,135をストッパーとして第3の層間絶縁膜136をエッチングする。これにより、第3の層間絶縁膜136には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0054】
次に、第2及び第3のエッチングストッパー膜133,135をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第3の層間絶縁膜136上に密着層(バリア層)137をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層137上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0055】
この後、第3の層間絶縁膜136上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層137をCMP法により研磨除去する。これにより、第2の層間絶縁膜134の接続孔内及び第3の層間絶縁膜136の配線用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内にはCu配線138a,138bが形成される。
【0056】
次いで、Cu配線138a,138bの上にCVD法により例えばシリコン窒化膜からなる第4のエッチングストッパー膜145を形成する。次いで、第4のエッチングストッパー膜上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第4の層間絶縁膜146を堆積し、第4の層間絶縁膜146上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第5のエッチングストッパー膜147を形成する。この後、第5のエッチングストッパー膜147の上にシリコン酸化膜からなる第5の層間絶縁膜148を堆積する。
【0057】
次に、第5の層間絶縁膜148、第5のエッチングストッパー膜147及び第4の層間絶縁膜146をエッチングする。これにより、第4、第5の層間絶縁膜146,148及びエッチングストッパー膜147には接続孔が形成される。この後、第4及び第5のエッチングストッパー膜をストッパーとして第5の層間絶縁膜をエッチングする。これにより、第5の層間絶縁膜には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0058】
次に、第4及び第5のエッチングストッパー膜145,147をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第5の層間絶縁膜148上に密着層(バリア層)149をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層149上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0059】
この後、第5の層間絶縁膜148上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層149をCMP法により研磨除去する。これにより、第4の層間絶縁膜146の接続孔内及び第5の層間絶縁膜148の配線用溝内にCu層が埋め込まれ、配線用溝内にはCu配線150a,150bが形成される。このようにして接触パッド132b上には裏面への引き出し専用の接続手段13aが形成される。
【0060】
次に、Cu配線150a,150bを含む全面上にシリコン窒化膜からなる第6のエッチングストッパー膜139をプラズマCVD法により形成する。次いで、第6のエッチングストッパー膜139上にCVD法によりシリコン酸化膜からなる第6の層間絶縁膜140を堆積し、第6の層間絶縁膜140上にCVD法によりシリコン窒化膜からなる第7のエッチングストッパー膜141を形成する。この後、第7のエッチングストッパー膜141の上にシリコン酸化膜からなる第7の層間絶縁膜142を堆積する。
【0061】
次に、第5の層間絶縁膜142、第7のエッチングストッパー膜141及び第6の層間絶縁膜140をエッチングする。これにより、第6、第7の層間絶縁膜140,142及びエッチングストッパー膜141には接続孔が形成される。この後、第6及び第7のエッチングストッパー膜139,141をストッパーとして第7の層間絶縁膜142をエッチングする。これにより、第7の層間絶縁膜142にはパッド用溝が形成され、パッド用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0062】
次に、第6及び第7のエッチングストッパー膜139,141をエッチングした後、接続孔内、パッド用溝内及び第7の層間絶縁膜142上に密着層(バリア層)143をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層143上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、パッド用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0063】
この後、第7の層間絶縁膜142上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層143をCMP法により研磨除去する。これにより、第6の層間絶縁膜140の接続孔内及び第7の層間絶縁膜142のパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、パッド用溝内には電極取り出し用パッド7aが形成される。電極取り出し用パッド7aは接続手段13aに電気的に接続されると共にCu配線150aに電気的に接続される。
【0064】
次に、電極取り出し用パッド7aを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜144をCVD法により形成する。次いで、パッシベーション膜144をエッチングすることにより、パッシベーション膜144には電極取り出し用パッド7a上に位置する開孔部が形成される。次いで、開孔部内及びパッシベーション膜144上にTi、Ta、W等の高融点金属、その合金もしくはその窒化膜からなる密着層123をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層123の上に続けてCuシード層124をスパッタリングする。
【0065】
この後、Cuシード層124及び密着層123の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層124上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層124上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8aが形成される。次いで、金属ポスト8a上にメッキ法によりNi又はAuなどからなる異種金属キャップ125を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8a及びCuシード層124をマスクとして密着層123をエッチングする。
【0066】
次に、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、実施の形態と同様の方法で、ウエーハ114の裏面には深い孔6aが形成され、この深い孔6aによって接触パッド132b下の密着層131が露出される。次いで、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。このようにして第1の半導体チップ6を作製する。
【0067】
次に、第2の半導体チップ9を第1の半導体チップ6とほぼ同様の方法を用いて作製する。
この後、第3の半導体チップ10を次の方法で作製する。
図2に示す半導体基板(半導体ウエーハ)114と同様のものを準備する。
【0068】
次いで、前記半導体基板114の上にCVD法により第1のエッチングストッパー膜229を形成し、第1のエッチングストッパー膜229上にCVD法により第1の層間絶縁膜230を形成する。次いで、第1の層間絶縁膜230及び第1のエッチングストッパー膜229をエッチングする。これにより、第1の層間絶縁膜230には配線用溝及びパッド用溝が形成される。
【0069】
次いで、配線用溝内、パッド用溝内及び第1の層間絶縁膜230上に密着層231をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層231上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及びパッド用溝内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0070】
この後、第1の層間絶縁膜230上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層231をCMP法により研磨除去する。これにより、第1の層間絶縁膜231配線用溝内には最下層の配線層であるCu配線232aが形成される。
次いで、Cu配線232aの上にCVD法により第2のエッチングストッパー膜233を形成する。次いで、第2のエッチングストッパー膜233上にCVD法により第2の層間絶縁膜234を堆積し、第2の層間絶縁膜234上にCVD法により第3のエッチングストッパー膜235を形成する。この後、第3のエッチングストッパー膜235の上に第3の層間絶縁膜236を堆積する。
【0071】
次に、第3の層間絶縁膜236、第3のエッチングストッパー膜235及び第2の層間絶縁膜234をエッチングする。これにより、第2、第3の層間絶縁膜234,236及びエッチングストッパー膜235には接続孔が形成される。この後、第2及び第3のエッチングストッパー膜233,235をストッパーとして第3の層間絶縁膜236をエッチングする。これにより、第3の層間絶縁膜236には配線用溝が形成され、配線用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0072】
次に、第2及び第3のエッチングストッパー膜235,235をエッチングした後、接続孔内、配線用溝内及び第3の層間絶縁膜236上に密着層237をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層237上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、配線用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0073】
この後、第3の層間絶縁膜236上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層237をCMP法により研磨除去する。これにより、第2の層間絶縁膜234の配線用溝内にはCu配線238aが形成される。
次いで、Cu配線238aの上に第4のエッチングストッパー膜245を形成する。次いで、第4のエッチングストッパー膜上に第4の層間絶縁膜246を堆積し、第4の層間絶縁膜246上に第5のエッチングストッパー膜247を形成する。この後、第5のエッチングストッパー膜247の上に第5の層間絶縁膜248を堆積する。
【0074】
次に、第5の層間絶縁膜248、第5のエッチングストッパー膜247及び第4の層間絶縁膜246をエッチングする。これにより、第4、第5の層間絶縁膜246,248及びエッチングストッパー膜247には接続孔が形成される。この後、第4及び第5のエッチングストッパー膜をストッパーとして第5の層間絶縁膜をエッチングする。これにより、第5の層間絶縁膜にはパッド用溝が形成され、パッド用溝は前記接続孔に繋げられる。
【0075】
次に、第4及び第5のエッチングストッパー膜245,247をエッチングした後、接続孔内、パッド用溝内及び第5の層間絶縁膜248上に密着層249をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層249上に電解メッキ用のCuシード層(図示せず)をスパッタリングにより形成する。次いで、このCuシード層上、パッド用溝内及び接続孔内に電解メッキ法によりCu層を形成する。
【0076】
この後、第5の層間絶縁膜248上に存在するCu層、Cuシード層及び密着層249をCMP法により研磨除去する。これにより、第4の層間絶縁膜246の接続孔内及び第5の層間絶縁膜148のパッド用溝内にCu層が埋め込まれ、パッド用溝内には電極取り出し用パッド7cが形成される。
次に、電極取り出し用パッド7cを含む全面上にシリコン窒化膜からなるパッシベーション膜244を形成する。次いで、パッシベーション膜244をエッチングすることにより、パッシベーション膜244には電極取り出し用パッド7c上に位置する開孔部が形成される。次いで、開孔部内及びパッシベーション膜244上に密着層223をスパッタリングにより形成する。次いで、この密着層223の上に続けてCuシード層224をスパッタリングする。
【0077】
この後、Cuシード層224及び密着層223の上にフォトレジスト膜(図示せず)を塗布、もしくはフォトフィルム(図示せず)を貼り、これらを露光、現像することにより、Cuシード層224上にはポスト領域が開孔されたレジストパターンが形成される。次いで、このレジストパターンをマスクとして開孔内のCuシード層224上にCu層を選択メッキ法により形成する。これにより、Cuシード層上にはCu層からなる金属ポスト8cが形成される。次いで、金属ポスト8c上にメッキ法により異種金属キャップ225を形成する。次に、レジストパターンを剥離した後、金属ポスト8c及びCuシード層224をマスクとして密着層223をエッチングする。
【0078】
次に、半導体ウエーハ114の裏面を研削して該ウエーハを所定の厚みにする。次いで、電気特性をチェックし、ウエーハをダイシング工程でチップ毎に分割する。
上記の方法においても図1に示す半導体装置と同様のものを製造することができ、同様の作用効果を得ることができる。
【0079】
図4は、図3の半導体チップの第1変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
金属ポスト8aの外形及びホール6aの内形それぞれを六角柱、八角柱などの五角以上の多角柱とする。この点以外の構成は図3と同一である。
【0080】
上記第1変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
本変形例では、金属ポストの外形及びホールの内形それぞれを五角以上の多角柱としているため、四角柱とした場合に比べて、バリア膜やシード層を良好に付き回るようにすることができる。その結果、金属ポストの形成不良が生じることを抑制できる。また、組み立て時に、金属ポストとホールが相対的に回転方向にずれてもショートを起こしにくくすることができ、歩留まり及び信頼性を向上できる。
【0081】
図5は、図3の半導体チップの第2変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
金属ポスト8a上にハンダボール14を搭載し、このハンダボール14を用いて接触パッドと金属ポストとを接着する。この点以外の構成は図3と同一である。
上記第2変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
本変形例では、組み立てが容易となる。
【0082】
第2変形例のハンダボールに代えて、金属ポスト8a上にAg−Sn等のハンダメッキ(電解メッキでも無電解メッキでも良い)を施し、このハンダメッキと接触パッド132bとを溶着することとしても良い。
【0083】
図6は、図3の半導体チップの第3変形例を示す断面図であり、図3と同一部分には同一符号を付す。
半導体チップの裏面からホール6a内で露出した接触パッド132bに、インクジェットプリンター機構を用いてAgペースト15又はAuペーストを転写し、これと接触パッド132bとを接着する。この接着は常温に近い温度で行うことが可能である。この点以外の構成は図3と同一である。
【0084】
上記第3変形例においても実施の形態と同様の効果を得ることができる。
また、本変形例では、インクジェットプリンター機構を用いるため、高い精度でAgペーストなどを転写することができ、Agペーストなどのはみ出しによるホール内Siとのショートが発生することを抑制でき、接着強度も向上できる。
【0085】
尚、本発明は上記の実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、上述した半導体装置はメモリーやロジックなどの種々のLSIに適用することが可能である。また、前記半導体装置を搭載する一例として電子機器のプリント基板が挙げられ、このプリント基板には半導体装置の回路に応じて配線がパターニングされており、この半導体装置は実装工程でプリント基板の必要位置に搭載される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態による半導体装置を概略的に示す断面図。
【図2】図1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの拡大断面図。
【図3】図1の半導体チップの金属ポスト及び接触パッドの拡大断面図。
【図4】図3の半導体チップの第1変形例を示す断面図。
【図5】図3の半導体チップの第2変形例を示す断面図。
【図6】図3の半導体チップの第3変形例を示す断面図。
【符号の説明】
1…インターポーザ基板、2…配線パターン、3…ハンダバンプ、4…パッド、5…接続部材、6…第1の半導体チップ、6a…深い孔(ホール)、7a〜7c…電極取り出し用パッド、8a〜8c…金属ポスト、9…第2の半導体チップ、10…第3の半導体チップ、11…封止樹脂、12a,12b…接触パッド、13a,13b…接続手段、14…ハンダボール、15…Agペースト、112a,212a…第1のAl合金配線、114,214…半導体基板(半導体ウエーハ)、115,215…第1の層間絶縁膜、116a,116b,216b…Wプラグ、117a,117b,217b…第2のAl合金配線、118,218…第2の層間絶縁膜、119a,119b,219b…Wプラグ、120a,120b,220b…Wプラグ、121,221…第3の層間絶縁膜、122a,122b,222b…Wプラグ、123,223…密着層、124,224…Cuシード層、125,225…異種金属キャップ、126,226…絶縁膜、129,229…第1のエッチングストッパー膜、130,230…第1の層間絶縁膜、131,231…密着層(バリア層)、132a,232a…Cu配線、132b…接触パッド、133,233…第2のエッチングストッパー膜、134,234…第2の層間絶縁膜、135,235…第3のエッチングストッパー膜、136,236…第3の層間絶縁膜、137,237…密着層(バリア層)、138a,138b,238a…Cu配線、139…第6のエッチングストッパー膜、140…第6の層間絶縁膜、141…第7のエッチングストッパー膜、142…第7の層間絶縁膜、143…密着層(バリア層)、144…パッシベーション膜、145,245…第4のエッチングストッパー膜、146,246…第4の層間絶縁膜、147,247…第5のエッチングストッパー膜、148,248…第5の層間絶縁膜、149,249…密着層(バリア層)、150a,150b…Cu配線
Claims (6)
- 基板の表面上にフェイスダウンで第1の半導体チップが配置され、第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで前記第1の半導体チップとは大きさの異なる第2の半導体チップが配置された半導体装置であって、
前記第1の半導体チップに形成され、最下層の配線層と同一層に形成された接触パッドと、
前記接触パッド上に形成された接続手段と、
前記接続手段上に形成された第1の電極取り出し用パッドと、
前記第1の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第1の半導体チップ表面から露出した第1の導電ポストと、
前記第1の半導体チップの裏面に形成され、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置に形成され、前記接触パッド下に形成されたホールと、
前記第2の半導体チップに形成された第2の電極取り出し用パッドと、
前記第2の電極取り出し用パッド上に形成され、前記第2の半導体チップ表面から露出し且つ前記ホール内に挿入され、前記接触パッドに接続された第2の導電ポストと、
前記基板の表面に形成され、前記第1の導電ポストに接続された配線パターンと、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップが封止された樹脂と、
前記基板の裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を具備する半導体装置。 - 前記ホール内の形状及び前記導電ポストの外形状が五角形以上の多角形である請求項1に記載の半導体装置。
- 前記接触パッドと前記第2の導電ポストとはハンダボール、銀ペースト又は金ペーストを介して接続されている請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 表面に形成された配線パターンと、裏面に形成され、前記配線パターンに電気的に接続された実装用外部端子と、を有する基板と、前記基板の表面上にフェイスダウンで配置された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チップの裏面上にフェイスダウンで配置された前記第1の半導体チップとは大きさが異なる第2の半導体チップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、第1の半導体チップ領域の最下層の配線層と同一層に接触パッドを形成し、前記接触パッド上に接続手段を形成し、前記接続手段上に第1の電極取り出し用パッドを形成し、前記第1の電極取り出し用パッド上に、前記第1の半導体チップ領域の表面から露出する第1の導電ポストを形成し、前記第1の半導体チップ領域の裏面に、前記第1の導電ポストに対向する位置からずれた位置のホールをエッチング加工又はレーザ加工により形成することにより前記接触パッドを露出させて第1の半導体チップを作製する工程と、
第2の半導体チップ領域に第2の電極取り出し用パッドを形成し、前記第2の電極取り出し用パッド上に、前記第2の半導体チップ領域の表面から露出する第2の導電ポストを形成することにより第2の半導体チップを作製する工程と、
前記第2の半導体チップをフェイスダウンで前記第1の半導体チップの裏面上に配置し、前記第2の導電ポストを前記ホール内に挿入し、前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続し、前記第1の半導体チップを基板の表面上にフェイスダウンで配置し、前記第1の導電ポストを前記配線パターンに接続する工程と、
前記基板の表面上、第1及び第2の半導体チップを樹脂で封止する工程と、を具備する半導体装置の製造方法。 - 前記エッチング加工は、前記第1の半導体チップの裏面にマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとして第1の半導体チップの単結晶Si部分を、アルカリ系水溶液を用いてウエットエッチングすることにより前記ホールを形成するものである請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続する際、前記ホール内の前記接触パッドにインクジェットプリンター機構を用いて銀ペースト又は金ペーストを転写しておき、前記銀ペースト又は金ペーストを介して前記第2の導電ポストを前記接触パッドに接続する請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法。
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