JP2004216339A

JP2004216339A - 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器

Info

Publication number: JP2004216339A
Application number: JP2003009860A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Kamiyama; 信明神山
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2003-01-17
Filing date: 2003-01-17
Publication date: 2004-08-05

Abstract

【課題】ノズル詰まり検出に要する時間を短縮し、且つ、液滴の浪費を抑制し得る液滴吐出装置、同装置を使用した電気光学装置の製造方法、同方法を使用して製造された電気光学装置、及び同電気光学装置を搭載した電子機器を提供する。
【解決手段】図１に示すように、ノズルを搭載したヘッドに、レーザ光源、及び受光器を設け、描画中に液滴吐出の有無を検出する。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヘッドに配設された複数のノズルから液滴を吐出し、吐出対象物に対して描画を行う液滴吐出装置、同装置を用いた電気光学装置の製造方法、同方法を用いて製造された電気光学装置、及び同電気光学装置を搭載した電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、液晶表示装置のカラーフィルタ、配向膜等の成膜に液滴吐出装置が利用されている。また、液滴吐出装置は、これ以外にも、工業上の様々な分野に利用されている。
液滴吐出装置は、ヘッドと呼ばれる液滴吐出機構を有している。このヘッドには、規則的に複数のノズルが配設されている。そして、液滴吐出装置は、これらのノズルから材料を液滴状に吐出することにより、例えば何らかの製品の構成要素となる基板上に、吐出材料からなるパターンの描画を行う。
【０００３】
一般的に液滴を吐出するノズル径は非常に小さい。従って、例えば吐出する材料の粘性などに起因してノズル詰まりが発生することがある。このノズル詰まりを放置すると、最悪の場合、ノズルから何も吐出されない、所謂「ドット抜け」という現象の原因となる。ドット抜けは、液滴吐出装置を用いて製造される製品の品質に直結する。そこで、従来の液滴吐出装置では、例えば、特許文献１又は特許文献２に開示されるように、ある単位の描画を終えると、ヘッドを描画用の領域から外れた検査用領域に移動させ、複数のノズルから液滴を吐出させて、正常に吐出されるか否かを判定していた。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−２５５０４４号公報
【０００５】
【特許文献２】
特開２０００−２６３７７２号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来技術では、ある単位の描画を終える毎にノズル詰まりがあるか否かを判定するための液滴吐出を行う必要があり、相応の時間を必要とする。また、液滴吐出装置の用途によっては、吐出される材料は非常に高価であり、経済的な問題も無視できなかった。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、ノズル詰まり検出に要する時間を短縮し、且つ、液滴の浪費を抑制し得る液滴吐出装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明に係る液滴吐出装置は、描画パターンに従って、ヘッドに配設された複数のノズルから液滴を吐出し、吐出対象物に対して描画を行う装置であって、各ノズルに対し、１対１に設けられ、当該ノズルから液滴が吐出されるか否かを検出する複数の光学式液滴センサと、前記複数の光学式液滴センサからの出力信号に基づいて液滴吐出の有無を表す検出パターンを生成する生成手段と、前記検出パターンと描画パターンとを比較することによりノズル詰まりを検出する判定手段と、を有することを特徴としている。
【０００８】
このような液滴吐出装置によれば、描画用の液滴吐出をノズル詰まり検出に利用できるので、ノズル詰まり検出に要する時間を大幅に短縮すると共に、液滴の無駄な消費を抑制する効果が得られる。
【０００９】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、前記ノズルに詰まっている物を除去する手段と、前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、該ノズル詰まりによって液滴が吐出されなかった描画点に対して液滴を吐出するための補完描画パターンを生成し、該補完描画パターンに従って液滴の吐出を行う手段と、を具備することを特徴としている。
このような液滴吐出装置によれば、上記効果を保持したまま、ノズル詰まりの為に描画されなかった描画点に対して液滴を吐出することができる。
【００１０】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、前記ノズルを前記吐出対象物に対して相対移動させ、該ノズル詰まりによって液滴が吐出されなかった描画点に対して、該ノズル詰まりが発生したノズル以外のノズルにより液滴を吐出するための補完描画パターンを生成し、該補完描画パターンに従って液滴の吐出を行う手段を具備することを特徴としている。
このような液滴吐出装置によれば、ノズル詰まりを解消する処理の実行回数を減らすことができるから、材料の無駄な消費を、更に抑制する効果が得られる。
【００１１】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、配線、カラーフィルタ、フォトレジスト、マイクロレンズアレイ、エレクトロルミネセンス材料、生体物質、のうちいずれか一のパターン形成を用途とすることを特徴としている。
更に、本発明に係る電気光学装置は、本発明にかかる液滴吐出装置を使用して製造されることを特徴としている。
更に、本発明に係る電子機器は、本発明に係る電気光学装置を搭載することを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施形態】
＜第１実施形態＞
＜Ａ：構成＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る液滴吐出装置の構成を示した図である。同図を用いて、この液滴吐出装置の構成について説明する。
【００１３】
図１において、ヘッド１０は、図２に示す吐出ユニット１１をＮ個有している。図２は、図１において、ヘッド１０に配列された１個の吐出ユニット１１をＡ−Ａ’線から矢印の方向にみた断面図である。尚、図１においては、吐出ユニット１１を簡略に示してある。
図２において、圧力室１３は、例えば、液晶表示装置のカラーフィルタ材料など、用途に応じた多様な材料が充填されている。吐出ユニット１１の底部には、この圧力室１３に貯まった材料を液滴として排出するためのノズル１１ａが設けられている。圧力室１３の天井部分には、圧電素子１２が固定されている。この圧電素子１２は、駆動電圧が与えられることにより、図中下方に伸びるように変形する。これにより、圧力室１３が圧迫されてノズル１１ａから下方に液滴１４が吐出される。
【００１４】
吐出ユニット１１には、この液滴１４の飛行経路を挟んで対向するように、レーザ光源４０と受光器４１が固定されている。また、受光器４１には２値化回路４２が接続されている。これらのレーザ光源４０、受光器４１、及び２値化回路４２は、ノズル１１ａからの液滴の吐出の有無を検出する光学式液滴センサを構成している。更に詳述すると、レーザ光源４０は、ノズル１１ａが吐出する液滴の飛行経路と交差するようにレーザ光を出射する。受光器４１は、例えばフォトトランジスタによって構成されており、レーザ光源４０の出射するレーザ光を受光し、受光量に応じた電圧を出力する。２値化回路４２は、受光器４１の出力電圧を、「０」又は「１」の２値情報に変換する。
【００１５】
図１に示すヘッド１０には、以上説明した吐出ユニット１１が、１本の直線をなすようにＮ個配列されているのである。
図１において、ヘッド搬送部２０は、このヘッド１０をノズル１１ａの配列方向（以降「ヘッド移動方向」とする）に移動させる装置である。
基板３０は、ある製品の部品（例えば液晶表示装置のカラーフィルタとなる基板）であり、本実施形態に係る液滴吐出装置の描画対象物である。液滴吐出装置は、この基板３０の表面の描画領域３０ａに対してＮ個のノズル１１ａから液滴の吐出を行う。基板搬送部３１は、基板３０をノズル１１ａの配列方向と直交する向き（以降「基板移動方向」とする）に移動させる装置である。
ノズル１１ａは、描画時には、ある間隔をあけて基板３０と対向し、基板３０に対して液滴を吐出する。
【００１６】
制御装置５０は、メモリ５１を有している。このメモリ５１には、液滴の吐出によって基板３０の描画領域３０ａに描画すべきパターンを表すビットマップデータ、即ち、描画パターンが記憶されている。制御装置５０は、この描画パターンを描画領域３０ａに描くために、Ｎ個の吐出ユニット１１による液滴の吐出制御、基板３０及びヘッド１０の移動制御を行う。また、制御装置５０は、この描画のための制御を行いながら、Ｎ個の２値化回路４１から液滴の吐出の有無を表す２値情報を収集し、その結果と描画パターンとの比較により、ノズル詰まりの検出を行う。更に制御装置５０は、ノズル詰まりが検出された場合に、ノズル詰まりを解消するためのヘッド回復処理あるいはノズル詰まりにより描画されなかった領域に液滴を吐出する補完描画のための制御を行う。
【００１７】
＜Ｂ：動作＞
以上を踏まえて、本実施形態の動作について説明する。最初に、描画動作について説明する。
本実施形態に係る液滴吐出装置は、ヘッド１０を固定して、基板搬送部３１により基板３０を基板移動方向に所定ピッチずつ歩進駆動しながら、描画領域３０ａの端から端まで描画を行い、その後、基板３０を元の位置に戻す、という動作を行う。この動作を「１パス」と称する。
【００１８】
ヘッド１０に配設された各ノズル１１ａは、１パスの描画で、Ｍ個の描画点に液滴を吐出することができる。従って、本実施形態に係る液滴吐出装置は、１パスの描画で最大Ｎ×Ｍ個の描画点に液滴を吐出することができる。この１パス分の描画動作は、制御装置５０が、その１パスによって描画すべき描画パターンをメモリ５１から読み出し、その描画パターンに従って、各吐出ユニット１１による液滴吐出、基板搬送部３１による基板３０の移動を制御することによって実現される。
【００１９】
１パスの描画を終えると、制御装置５０は、ヘッド搬送部２０によりヘッド１０をヘッド移動方向に所定距離だけ移動させ、次の１パスの描画を行う。即ち、制御装置５０は、次の１パスによって描画すべき描画パターンをメモリ５１から読み出し、その描画パターンに従って、各吐出ユニット１１による液滴吐出、基板搬送部３１による基板３０の移動を制御するのである。本実施形態に係る液滴吐出装置は、このような動作を必要なだけ繰り返すことにより描画領域３０ａ全域の描画を行う。
【００２０】
次に、ノズル詰まり検出について説明する。１パスの描画では、Ｎ×Ｍ個の描画点に対する描画が行われるが、この描画が行われる間、制御装置５０は、Ｎ個の２値化回路４２の出力を監視し、この監視結果に基づき、Ｎ×Ｍ個の描画点に対して液滴が吐出されたか否かを示すＮ行Ｍ列の行列パターンを作成し、メモリ５１に格納する。本実施形態では、このパターンを「検出パターン」と称する。
【００２１】
ここで、描画パターンは、１パスの描画動作において、ヘッド１０の各圧電素子１２に駆動電圧を印加するか否かを「１」、又は「０」の２値情報として表したパターンであるから、実際に全ノズル１１ａが描画パターンに従って液滴を吐出していれば、全描画点について描画パターンと検出パターンは一致するはずである。
しかし、ノズル詰まりが発生した場合、両パターンにおける該当箇所の値は異なる。例えば、ｋ（ｋ≦Ｎ）番目のノズルが、ｈ（ｈ≦Ｍ）番目の描画点において、液滴を吐出する予定であったにも拘わらず、ノズル詰まりを起こして液滴の吐出がなされなかった場合、描画パターンのｋ行ｈ列目の値は「１」で、検出パターンの当該値は「０」となる。このように、パターンを比較することで、制御装置５０は、ノズル詰まりの検出を行うことができる。尚、検出パターンはメモリ５１に記憶される。
【００２２】
図３は、本実施形態における描画処理を説明したフローチャートである。同図を用いて該処理の詳細を説明する。
【００２３】
初めに、制御装置５０は、基板搬送部３１を制御して、基板３０を予め定められた位置にセットする（ステップＳ１０１）。次に、制御装置５０は、メモリ５１から、今回のパスの描画パターンを読み出す（ステップＳ１０２）。次に、制御装置５０は、レーザ光源４０、受光器４１、及び２値化回路４２を動作状態にする（ステップＳ１０３）。次に、制御装置５０は、１パス分の描画を行うべく基板搬送部３１による基板３０の歩進駆動を開始する（ステップＳ１０４）と共に、ヘッド１０のＮ個の圧電素子１２に描画パターンに従って駆動電圧を供給し、今回のパスの液滴吐出を実行する（ステップＳ１０５）。
【００２４】
また、この１パスの描画動作が行われる間、制御装置５０は、Ｎ個の２値化回路４２の出力信号を監視し、今回のパスに関する検出パターンをメモリ５１に格納する（ステップＳ１０６）。１パスの描画動作が終了すると、制御装置５０は、メモリ５１に格納された描画パターンと検出パターンを比較して、ノズル詰まりの有無を判定する（ステップＳ１０７）。
【００２５】
該判定結果が肯定的である場合、即ち、全ノズルに、ノズル詰まりが発生していなかった場合には、制御装置５０は、今回の描画処理で予定された全パス分の描画が終了したかを判定する（ステップＳ１０８）。該判定結果が否定的である場合には、制御装置５０は、次のパスの描画パターンを取得し（ステップＳ１０９）、ヘッド駆動部２０を制御して、ヘッド１０を、次のパスを描画する位置まで移動させる（ステップＳ１１０）。そして、制御装置５０は、処理をステップＳ１０４に戻して、次のパスの描画を開始する。
【００２６】
ステップＳ１０７の判定結果が否定的であった場合、制御装置５０は、補完描画パターンを作成して、メモリ５１に記憶する（ステップＳ１１１）。ここで、補完描画パターンとは、ノズル詰まりの為に液滴が吐出されなかった描画点に液滴を吐出するため、制御装置５０が新たに作成した描画パターンである。補完描画パターンが作成されると、制御装置５０は、図示しないヘッド回復位置まで、ヘッド１０を移動させ、ノズルの詰まりを解消するためのヘッド回復処理をおこなう（ステップＳ１１２）。ヘッド回復処理には、例えばフラッシング処理などが挙げられる。該処理が終了すると、制御装置５０は、ノズル詰まりが解消されたかを確認するため、ステップＳ１０７によってノズル詰まりが発生していると判定されたノズルに対し、液滴の吐出を指示する（ステップＳ１１３）。
【００２７】
レーザ光源４０、及び受光器４１は動作中であるから、制御装置５０は、液滴の吐出を指示されたノズルが、正常に液滴を吐出しているか否かを判定することができる（ステップＳ１１４）。該判定結果が否定的であれば、ヘッド回復処理が実行されたにもかかわらず、ノズル詰まりが解消されていないことになるから、制御装置５０は、処理をステップＳ１１２に戻し、再びヘッド回復処理をおこない、ヘッド１０が回復するまでステップＳ１１２からステップＳ１１４が繰り返される。
【００２８】
ステップＳ１１４の判定結果が肯定的となれば、ノズル詰まりは解消されたことになるので、制御装置５０は、ステップＳ１１１で作成した補完描画パターンを、メモリ５１より取得し（ステップＳ１１５）、処理をステップＳ１０４に戻し、当該補完描画パターンに従って、再び１パスの描画を開始する。
今回の描画処理で描画する全パス分の描画が終了すると、ステップＳ１０８による判定結果は肯定的となって、描画処理は終了する。
【００２９】
本実施形態に係る液滴吐出装置は、このように、描画中の液滴吐出をノズル詰まり検出に利用することができる。従って、従来のように、１パス描画毎に、ノズル詰まり検出用に改めて液滴を吐出する場合と比較して、該検出に要する時間を大幅に短縮することができる。更に、同様の理由から、液滴の吐出回数が大幅に減るので、無駄な液滴吐出が減り、コストダウンの実現も可能となる。
【００３０】
＜第２実施形態＞
上述した第１実施形態では、１パスの描画動作が終了する毎に、ノズル詰まりの判定を行って、ノズル詰まりが発生している場合には、ヘッド回復処理を行った。しかしながら、例えば、１パス毎にノズル詰まりが発生する場合を考えると、ヘッド回復処理に要する時間が無視できなくなる。また、ヘッド回復処理は、全ノズル一斉に実行される為、無駄に液滴を吐出する回数も増加する。そこで、処理時間の短縮化、及び無駄な液滴吐出の抑制を実現し得る第２の実施形態について説明する。
【００３１】
図４は、この第２の実施形態に係る液滴吐出装置における描画処理を説明したフローチャートである。尚、図３と重複するステップには同一の符号を使用し、その説明を省略する。
制御装置５０は、ステップＳ１０７においてノズル詰まりが発生していると判定した場合、補完描画パターンを作成し、メモリ５１に格納する（ステップＳ１２０）。ここで作成される補完描画パターンは、第１実施形態と異なり、正常動作しているノズルで、詰まっているノズルを代替するように作成された描画パターンである。例えば、３番目のノズルにのみ、ノズル詰まりが発生した場合、本実施形態では、ヘッド１０を１描画点分だけヘッド移動方向に移動させ、４番目のノズルで、３番目のノズルが描画する予定だった描画点に液滴を吐出する。このような液滴の吐出を行うための描画パターンが補完描画パターンである。ステップＳ１０７において、詰まっていると判定されたノズルは、今回の描画処理中は不使用とされる。
【００３２】
補完描画パターンが作成されると、制御装置５０は、メモリ５１から補完描画パターンを読み出す（ステップＳ１２１）。次に、制御装置５０は、読み出した補完描画パターンに従って、ヘッド駆動部２０を制御して、ヘッド１０を必要なだけヘッド移動方向に移動させる（ステップＳ１２２）。例えば、上述した場合であれば、４番目のノズルが３番目のノズルの位置にくるように、１描画点分ヘッド１０を移動させる。そして、制御装置５０は、処理をステップＳ１０４に戻して、描画処理を継続する。
【００３３】
ステップＳ１０８における判定結果が肯定的、即ち、今回の描画処理で描画する全パス分の描画が終了すると、制御装置５０は、ヘッド回復処理をおこなう（ステップＳ１１２）。ヘッド回復処理は第１実施形態と同様におこなわれ、ステップＳ１１４において、全ノズルが正常な状態に復帰すると、制御装置５０は、今回の描画処理を終了する。
この場合、ヘッド回復処理は、描画処理終了前に１回行われれば良いから、描画処理に要する時間を短縮できると共に、無駄な液滴の吐出を更に抑制することができる。
【００３４】
尚、上述した第１実施形態において、ヘッド回復処理を何度実行してもノズル詰まりが解消されない場合も考えられる。その場合は、例えば、ヘッド回復処理が予め設定された回数に達した時点で、上述の第２実施形態に切り替り、ノズル詰まりが解消されないノズルを不使用として、以降の処理を継続しても良い。
また、制御装置５０が、メモリ５１に、液滴が正常に吐出されなかった為に描画されなかった描画点を記憶し、描画処理終了後に当該描画点に対する描画パターンをまとめて生成して、描画を実行しても上述の効果を損なうものではない。
【００３５】
尚、本実施形態に係る液滴吐出装置は、配線、カラーフィルタ、フォトレジスト、マイクロレンズアレイ、エレクトロルミネセンス材料、生体物質、のうちいずれか一のパターン形成を用途としてもよい。
【００３６】
＜第３実施形態＞
図５は、本発明の第３実施形態として、本発明に係る液滴吐出装置を用いて製造されたカラーフィルタを搭載した液晶表示装置の構成を例示する斜視図である。本実施形態に係る液晶表示装置４００は、液晶駆動用ＩＣ（図示略）、配線類（図示略）、光源４７０、支持体（図示略）などの付帯要素が装着されている。
液晶表示装置４００の構成を簡単に説明する。液晶表示装置４００は、互いに対向するよう配置された、カラーフィルタ４６０、及びガラス基板４１４と、これらの間に挟持された図示略の液晶層と、カラーフィルタ４６０の上面側（観察者側）に付設された偏光板４１６と、ガラス基板４１４の下面側に付設された図示略の偏光板とを主体として構成されている。カラーフィルタ４６０は透明なガラスからなる基板４６１を具備し、観察者側に設けられた基板であり、ガラス基板４１４はその反対側に設けられる透明な基板である。
【００３７】
基板４６１の下側には、黒色感光性樹脂膜からなる隔壁４６２と、着色部４６３、及びオーバーコート層４６４が順次形成され、更にオーバーコート層４６４の下側に駆動用の電極４１８が形成されている。尚、実際の液晶装置においては、電極４１８を覆って液晶層側と、ガラス基板４１４側の後述する画素電極４３２上に、配向膜が設けられるが、図示、及び説明を省略する。
カラーフィルタ４６０の液晶層側に形成された液晶駆動用の電極４１８は、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）などの透明導電材料を、オーバーコート層４６４の全面に形成させたものである。
【００３８】
ガラス基板４１４上には、絶縁層４２５が形成され、この絶縁層４２５の上には、スイッチング素子としてのＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と、画素電極４３２とが形成されている。
ガラス基板４１４上に形成された絶縁層４２５上には、マトリクス上に走査線４５１と、信号線４５２とが形成され、走査線４５１と信号線４５２とに囲まれた領域毎に画素電極４３２が設けられる。各画素電極４３２のコーナー部分と走査線４５１と信号線４５２との間部分にはＴＦＴが組み込まれており、走査線４５１と信号線４５２に対する信号の印加によってＴＦＴはオン、又はオフの状態となって画素電極４３２への通電が制御されるようになっている。
【００３９】
＜第４実施形態＞
図６は、本発明の第４実施形態として、上記第３実施形態に係る液晶表示装置を用いた電子機器の一例たる携帯電話機の構成を例示する斜視図である。同図において、携帯電話機９２は複数の操作ボタン９２１のほか、受話口９２２、送話口９２３とともに、上述した液晶表示装置４００を備えるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液滴吐出装置の構成図。
【図２】図１の吐出ユニットをＡ−Ａ’線から矢印方向に見た断面図。
【図３】同装置における描画処理のフローチャート。
【図４】本発明の第２実施形態に係る描画処理のフローチャート。
【図５】本発明の第３実施形態に係るカラーフィルタの斜視図。
【図６】本発明の第４実施形態に係る携帯電話機の斜視図。
【符号の説明】
１０・・・ヘッド、１１・・・吐出ユニット、１１ａ・・・ノズル、１２・・・圧電素子、１３・・・圧力室、１４・・・液滴、２０・・・ヘッド搬送部、３０・・・基板、３０ａ・・・描画領域、３１・・・基板搬送部、４０・・・レーザ光源、４１・・・受光器、４２・・・２値化回路、５０・・・制御装置、５１・・・メモリ、４００・・・液晶表示装置、４１４・・・ガラス基板、４１６・・・偏光板、４１８・・・電極、４２５・・・絶縁層、４３２・・・画素電極、４５１・・・走査線、４５２・・・信号線、４６１・・・基板、４６２・・・隔壁、４６３・・・着色部、４６４・・・オーバーコート層、４６０・・・カラーフィルタ、４７０・・・光源、９２・・・携帯電話機、９２１・・・操作ボタン、９２２・・・受話口、９２３・・・送話口。

Claims

描画パターンに従って、ヘッドに配設された複数のノズルから液滴を吐出し、吐出対象物に対して描画を行う装置であって、
各ノズルに対し、１対１に設けられ、当該ノズルから液滴が吐出されるか否かを検出する複数の光学式液滴センサと、
前記複数の光学式液滴センサからの出力信号に基づいて液滴吐出の有無を表す検出パターンを生成する生成手段と、
前記検出パターンと描画パターンとを比較することによりノズル詰まりを検出する判定手段と、
を有することを特徴とする液滴吐出装置。
前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、前記ノズルに詰まっている物を除去する手段と、
前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、該ノズル詰まりによって液滴が吐出されなかった描画点に対して液滴を吐出するための補完描画パターンを生成し、該補完描画パターンに従って液滴の吐出を行う手段と、
を具備することを特徴とする請求項１記載の液滴吐出装置。
前記判定手段によってノズル詰まりが検出された場合に、前記ノズルを前記吐出対象物に対して相対移動させ、該ノズル詰まりによって液滴が吐出されなかった描画点に対して、該ノズル詰まりが発生したノズル以外のノズルにより液滴を吐出するための補完描画パターンを生成し、該補完描画パターンに従って液滴の吐出を行う手段
を具備することを特徴とする請求項１記載の液滴吐出装置。
前記液滴吐出装置は、
配線、カラーフィルタ、フォトレジスト、マイクロレンズアレイ、エレクトロルミネセンス材料、生体物質、のうちいずれか一のパターン形成を用途とする、
ことを特徴とする請求項１から３いずれかに記載の液滴吐出装置。
請求項１から３いずれかに記載の液滴吐出装置を使用することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
請求項５記載の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
請求項６記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。