JP2004164717A - 光記録ディスクの製造方法および光記録ディスク - Google Patents
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Abstract
【課題】製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板２上に塗布して、記録層５を形成し、記録層５上に、放射線硬化性樹脂を含む塗布液を塗布して、光透過層６を形成し、放射線を照射して、記録層５および光透過層６に含まれている放射線硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの製造方法。
【選択図】 図１
【解決手段】色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板２上に塗布して、記録層５を形成し、記録層５上に、放射線硬化性樹脂を含む塗布液を塗布して、光透過層６を形成し、放射線を照射して、記録層５および光透過層６に含まれている放射線硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの製造方法。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録ディスクの製造方法および光記録ディスクに関するものであり、さらに詳細には、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法および基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録ディスクが広く用いられている。
【０００３】
これらの光記録ディスクは、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないタイプのいわゆるＲＯＭ型光ディスクと、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記は可能であるが、データの書き換えができないタイプのいわゆる追記型光ディスクと、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能なタイプのいわゆる書き換え型光ディスクに大別することができる。
【０００４】
広く知られているように、ＲＯＭ型光ディスクにおいては、製造段階で、基板に形成されるプリピットにより、データが記録されるのが一般的であり、書き換え型光ディスクにおいては、たとえば、記録層の材料として、相変化材料が用いられ、その相状態に変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００５】
これに対して、追記型光ディスクにおいては、記録層の材料として、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素が用いられ、その化学的変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００６】
そして、さらに、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように、記録・再生のために照射するレーザー光として、波長が短い青色レーザー光を用いるとともに、記録光学系および再生光学系のレンズとして、開口数の大きいレンズを用い、ポリカーボネートなどによって形成された基板とは反対側から、レーザー光を照射するように構成され、記録層上に、光透過層が設けられた次世代型光記録ディスクが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素を用いて、ポリカーボネートなどによって形成された基板上に、蒸着やスピンコーティングによって、記録層を形成し、記録層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成する場合には、光透過層の形成時に、記録層に含まれている色素が、少しづつ溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることによって、記録層に欠陥が生じ、あるいは、光透過層の膜厚が変化して、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうという問題があった。
【０００８】
かかる問題を解決するとともに、反射特性を改善するために、主として色素からなる記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成し、誘電体層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成するように構成された光記録ディスクが提案されている。
【０００９】
このように、記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成することによって、スピンコーティングによって、光透過層を形成する際に、記録層に含まれている色素が、少しづつ溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることを防止して、記録層に欠陥が生ずること防止するとともに、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうことを防止することが可能になるが、スパッタリングによって、誘電体層を形成する工程が増加するため、製造に要する時間が長くなるとともに、特別の製造設備が必要になり、必然的に、製造コストが増大するという問題があった。
【００１０】
したがって、本発明は、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
また、本発明の別の目的は、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、少なくとも色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、第１の塗布液を調製し、基板上に、第１の塗布液を塗布して、記録層として機能する第１の塗布層を形成し、第１の塗布層上に、主として放射線硬化性樹脂を含む第２の塗布液を塗布して、光透過層として機能する第２の塗布層を形成し、放射線を照射して、第１の塗布層に含まれている放射線硬化性樹脂および第２の塗布層に含まれている放射線硬化性樹脂を硬化させることによって、驚くべきことに、記録層上に、スピンコーティングによって、放射線硬化性樹脂を塗布して、光透過層を形成しても、記録層に含まれている色素の溶出が防止され、欠陥のない記録層を備えた光記録ディスクを製造することができることを見出した。
【００１３】
したがって、本発明の前記目的は、少なくとも色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、第１の塗布液を調製し、基板上に、前記第１の塗布液を塗布して、第１の塗布層を形成し、前記第１の塗布層上に、主として放射線硬化性樹脂を含む第２の塗布液を塗布して、第２の塗布層を形成し、放射線を照射して、前記第１の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂および前記第２の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの製造方法によって達成される。
【００１４】
本発明の好ましい実施態様においては、前記第１の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第１の塗布層を形成し、前記第２の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第２の塗布層を形成するように構成されている。
【００１５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記第２の塗布液に含まれる前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を、前記色素と前記溶剤と混合して、前記第１の塗布液を調製するように構成されている。
【００１６】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクの製造方法は、さらに、前記基板上に、前記第１の塗布層を形成した後に、前記第１の塗布層に放射線を照射するステップを備えている。
【００１７】
本発明の前記目的はまた、基板と、基板上に形成された記録層と、前記記録層上に形成され、放射線硬化性樹脂を含む光透過層を備え、前記記録層が、色素と放射線硬化性樹脂の混合物を含むことを特徴とする光記録ディスクによって達成される。
【００１８】
本発明の好ましい実施態様においては、前記記録層が、前記色素と、前記光透過層に含まれた前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を含んでいる。
【００１９】
本発明において、放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などが好ましく使用される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００２１】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【００２２】
図１に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク１ は、支持基板２を備え、支持基板２の情報ピットやプリグルーブなどの微細凹凸が形成されている側の面上に、金属層３、誘電体層４、記録層５および光透過層６が、この順で、形成されている。
【００２３】
光記録ディスク１は、図１において、矢印で示される向きに、記録または再生のためのレーザー光が照射され、光透過層６を通して、記録層５に、レーザー光が照射されるように構成されている。
【００２４】
支持基体２は、０．３ｍｍないし１．６ｍｍ、好ましくは、０．５ｍｍないし１．３ｍｍの厚さを有し、記録層３が形成される側の面に、情報ピットや、プリグルーブ、ランドなどの微細な凹凸が形成されている。本明細書において、グルーブＧは、レーザー光が入射すべき側に位置する案内溝を指し、ランドＬは隣り合ったグルーブＧの間に形成される。グルーブＧは、通常、スパイラル状に形成される。
【００２５】
グルーブＧの深さＧｄは、ランドＬの最も高い所とグルーブＧの最も低い所の差によって定義され、好ましくは４０ないし１５０ｎｍであり、より好ましくは６０ないし１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制することが可能になる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなるとともに、クロストークが大きくなり、さらに、ウオブル信号のようなプリフォーマット信号か小さくなる傾向があり、好ましくない。一方、グルーブＧの深さＧｄが１５０ｎｍを越えると、ランドＬおよびグルーブＧを精度良く形成することが困難になり、反射信号の低下や感度の低下が生じるおそれがある。
【００２６】
グルーブＧの幅Ｇｗは、グルーブＧの深さＧｄの１／２の深さ位置におけるグルーブの幅によって定義され、好ましくは１１０ないし２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０ないし１９０ｎｍである。グルーブＧのピッチＧｐは、隣り合うグルーブの間隔によって定義され、たとえば、隣り合うグルーブの幅Ｇｗ方向中心の間隔として定義される。グルーブＧのピッチＧｐは、たとえば、２９０ないし３５０ｎｍであり、好ましくは３１０ないし３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークを抑制することが可能になる。
【００２７】
本実施態様にかかる光記録ディスク１のランドＬの部分およびグルーブＧの部分またはランドＬの部分もしくはグルーブＧの部分に、データを記録することもできる。
【００２８】
支持基体２は、光学的には透明である必要はないが、とくに、記録層を形成するために用いる溶剤に溶解しないものを用いることが好ましい。この観点から、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂などの各種プラスチック材料などが、支持基板２を形成するために使用することできる。これらのうち、成形の容易性などから、とくに、ポリカーボネート樹脂やポリオレフィン樹脂が好ましい。プラスチック材料のように撓み易い材料を用いた場合には、光記録ディスク１の反りの発生を抑制することができ、とくに有効である。ただし、ガラス、セラミックス、金属などを用いて、支持基板２を形成してもよい。支持基板２の表面上の凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形によって、支持基板２を形成する際に、形成されることが多いが、プラスチック材料以外の材料を用いて、支持基板２を形成する場合には、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって成形することができる。
【００２９】
本実施態様においては、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４が形成される。これらの金属層３および誘電体層４は、レーザー光によって、データを記録する際に生じる熱を効果的に放熱することができるものであればよく、金属層３は、たとえば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｐｄ、あるいは、これらの合金によって形成することができる。誘電体層４は、たとえば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成され、とくに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２ 、Ａｌ２Ｏ３などによって、誘電体層４を形成することが好ましい。ＺｎＳ−ＳｉＯ２ によって、誘電体層４を形成する場合には、ＳｉＯ２ の含有量を１０ｍｏｌ％以上、４０ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。金属層３および誘電体層４を形成する方法としては、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの手法が挙げられる。
【００３０】
金属層３および誘電体層４の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、５ないし５０ｎｍ程度であり、好ましくは５ないし３０ｎｍ程度である。厚さが５ｎｍ未満となると、充分な放熱効果が得ることができない。その一方で、５０ｎｍを越えると、熱伝導性が良くなり過ぎ、感度が低下するおそれがある。
【００３１】
次いで、有機化合物と放射線硬化性樹脂とを主成分とする記録層５が形成される。
【００３２】
本実施態様においては、有機化合物は、モノメチンシアニン系色素を含んでいる。
【００３３】
ここに、有機化合物と放射線硬化性樹脂とを主成分とするとは、不可避成分を除いて、記録層５が有機化合物と放射線硬化性樹脂とで構成されている場合だけでなく、記録層が、モノメチンシアニン系色素以外の有機化合物を含んでいる場合や、記録層の諸特性向上の目的で、記録層中に１０重量％以下の無機化合物を含有している場合も含まれる。
【００３４】
モノメチンシアニン系色素は、３７０ないし４２５ｎｍの波長の範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、かつ、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有していることが好ましい。
【００３５】
記録時のレーザー光の波長領域３９０ないし４２０ｎｍにおける屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．２以下のモノメチンシアニン系色素を用いることによって、データの記録時において、モノメチンシアニン系色素が３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、３９０ないし４２０ｎｍの波長領域において、低屈折率から高屈折率（たとえば、１．４５ないし１．６５）への屈折率変化が生じる。このようにして、記録ピットが形成され、データが記録される。データの再生時においては、記録ピットとその周囲の未記録部との間の３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光に対する反射率の差を利用して、データが読み取られる。この原理に基づいて、３９０ないし４２０ｎｍの記録時のレーザー光による記録および３９０ないし４２０ｎｍの再生時のレーザー光による再生が行われる。より大きな屈折率変化を生じさせるために、３７０ないし４２５ｎｍの範囲における屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎは、１．１以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎの下限値は、とくに限定されないが、通常は、０．７程度である。
【００３６】
また、モノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．１５以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。記録時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、記録ピット形成部において、記録時のレーザー光を適度に吸収することができ、局所的に、温度が上昇し、溶融または分解による屈折率変化が生じやすい。記録時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５未満である場合には、記録時のレーザー光の吸収率が低下し、通常の記録パワーでのデータの記録が困難となる。また、再生時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、データの未記録部において、所望の反射率が得られ、記録ピットと未記録部との間の反射率差を読み取りやすい。しかしながら、再生時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが大きくなりすぎると、反射率が低下してしまうので、再生時のレーザー光の波長における消衰係数ｋは２．０以下であることが好ましい。このような観点から、モノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．３以上、２．０以下が好ましく、０．４以上、２．０以下がより好ましい。
【００３７】
モノメチンシアニン系色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、薄膜状態のモノメチンシアニン系色素の吸収スペクトルを測定することによって、測定される。薄膜状態の有機化合物の吸収スペクトルは、一般的には、以下のようにして、測定される。吸収スペクトルを測定すべき有機化合物を適切な有機溶媒に溶解させ、得られた溶液を、スピンコーティング法により、グルーブやピットなどが形成されていないポリカーボネート平板上に、有機化合物が特定の配向性を持たないように、塗布して、４０ないし１００ｎｍ程度の膜厚を有する薄膜を形成する。スピンコーティング時の溶媒揮発の際に、有機化合物が著しく結晶化し、あるいは、会合するような場合には、別種の溶媒を選択する。こうして作成した有機化合物薄膜付きポリカーボネート基板の透過吸収スペクトルを、分光光度計にて測定する。
【００３８】
本実施態様において用いられるモノメチンシアニン系色素は、次の一般式で表わされる色素のうち、上述した条件を満たす色素が選ばれる。
【００３９】
【化１】
一般式（１）において、ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群を表わし、含窒素複素環は縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。ＱおよびＱ’は、同一でも異なっていてもよい。
【００４０】
Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基を表わし、アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ１およびＲ１’は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ１’として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし６のアルキル基が挙げられ、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が好ましい。
【００４１】
Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。Ｘ−として用いられる陰イオンとしては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン、ＣｌＯ４ −、ＢＦ４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＳＣＮ−などが挙げられる。
【００４２】
一般式（１）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の例としては、それぞれ、次の一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾール、一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールが挙げられる。なお、これらの一般式（Ａ）ないし（Ｅ）においては、便宜的に、窒素原子が電荷を帯びた状態で示されている。
【００４３】
【化２】
一般式（Ａ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ７およびＲ８は、メチル基あるいはエチル基を表わし、同一でも異なっていてもよい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルコキシ基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４４】
一般式（Ｂ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４５】
一般式（Ｃ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４６】
一般式（Ｄ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ６は、メチル基あるいはエチル基を表わす。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４７】
一般式（Ｅ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４８】
一般式（１）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の一方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニンおよび一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾールおよび一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールから選ばれる。これらのうちでも、モノメチン基の両側の含窒素複素環が同一であるいわゆる対称構造のモノメチンシアニン系色素が好ましい。すなわち、モノメチン基の両側の含窒素複素環がともに、一般式（Ａ）で示されるインドレニンあるいは一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールである対称構造のモノメチンシアニン系色素が、好ましく用いられる。対称構造のモノメチンシアニン系色素は、非対称構造のモノメチンシアニン系色素に比して、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲において、色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が小さくなる傾向があり、データ記録の前後で、大きな変調が得られやすく、好ましい。また、屈折率ｎや消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）を調整したり、溶解性を向上させるなどの目的のために、２種以上のモノメチンシアニン系色素を併用してもよい。
【００４９】
具体的には、以下の構造式で示されるモノメチンシアニン系色素が、好ましく使用される。
【００５０】
【化３】
これらのモノメチンシアニン系色素の中の１種を単独で用い、あるいは、２種以上を併用して、あるいは、さらに、以下に述べる一重項酸素クエンチャーを併用して、３９０ないし４２０ｎｍの波長の範囲における色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）が、所望の値になるように調整する。
【００５１】
本実施態様において、好ましくは、記録層５が、モノメチンシアニン系色素に加えて、一重項酸素クエンチャーを含んでいる。さらに、記録層５が、モノメチンシアニン系色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を含んでいてもよい。
【００５２】
クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系や、ビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系などの金属錯体が好ましく用いられる。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物や、ヒンダードアミンなどのアミン系のクエンチャーも好ましく使用される。
【００５３】
イオン結合体を構成するモノメチンシアニン系色素としては、インドレニン環を有するモノメチンシアニン色素が好ましく、イオン結合体を構成するクエンチャーとしては、ビスフェニルジチオール金属錯体などの金属錯体色素が好ましい。
【００５４】
クエンチャーは、モノメチンシアニン色素と別個に添加しても、イオン結合体の形で用いてもよいが、モノメチンシアニン系色素の総計１モルに対して、１モル以下、とくに、０．０５ないし０．８モル程度を添加することが好ましい。これによって、記録層５の耐光性を向上させることができる。
【００５５】
本実施態様においては、記録層５は、放射線硬化性樹脂を含んでいる。
【００５６】
放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などから選択することができ、とくに、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂が好ましい。
【００５７】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さい樹脂が選ばれる。
【００５８】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物が挙げられ、紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【００５９】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【００６０】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【００６１】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００６２】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂は、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【００６３】
好ましくは、記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、光透過層６に含まれる放射線硬化性樹脂と同一の放射線硬化性樹脂が選ばれる。
【００６４】
記録層５は、好ましくは、スピンコーティング法によって形成される。すなわち、モノメチンシアニン系色素と、放射線硬化性樹脂と、必要に応じて、一重項酸素クエンチャーなどと、適当な溶媒を混合して、塗布液を調製し、スピンコーティング法によって、塗布液を支持基板２上に塗布し、必要に応じて、塗布膜を乾燥して、記録層５を形成することが好ましい。スピンコーティング法に代えて、スクリーン印刷法、ディップ塗布法などを用いて、記録層５を形成することもできる。
【００６５】
塗布液を調製するために用いられる有機溶剤は、用いるモノメチンシアニン系色素に応じて、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、芳香族系溶剤、フッ素アルコール溶剤、ハロゲン化アルキル系溶剤などから、適宜選択することができる。これらの中では、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどが好ましく使用される。
【００６６】
記録層５を形成するための塗布液中の放射線硬化性樹脂の含有量は、３重量％以下が好ましく、放射線硬化性樹脂の含有量が３重量％を越えると、記録層５のレーザ光の吸収が減少し、感度が低下するため、好ましくない。
【００６７】
記録層５は、ランドＬの部分で、３０ないし１２０ｎｍの膜厚を有するように形成され、好ましくは、４０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成され、記録層５は、グルーブＧの部分では、５ないし９５ｎｍ、好ましくは、１０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成される。記録層５の膜厚は、所望の反射率や変調度、隣接トラック、マークの熱干渉を考慮して、設計することが好ましい。これらに影響を与えるパラメータとしては、支持基板２の形状、色素の熱分解挙動や光学特性、隣接する層の光学特性や熱伝導性などが挙げられる。
【００６８】
記録層５上には、光透過層６が形成される。
【００６９】
好ましくは、記録層５上に、光透過層６を形成するのに先立って、紫外線を、記録層５に照射して、記録層５に含まれている紫外線硬化性樹脂を硬化させ、しかる後に、記録層５上に、光透過層６が形成される。
【００７０】
光透過層６を形成する材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、放射線硬化性樹脂から選択することができる。
【００７１】
好ましくは、光透過層６は、紫外線硬化性化合物もしくは電子線硬化性化合物またはそれらの重合用組成物によって形成される。紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【００７２】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【００７４】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００７５】
光透過層６を形成するために用いられる放射線硬化性樹脂としては、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【００７６】
好ましくは、光透過層６を形成するために用いられる放射線硬化性樹脂として、記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂と同一の放射線硬化性樹脂が選ばれる。
【００７７】
光透過層６は、記録層５上に、放射線硬化性樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、その後に、紫外線または電子線を照射して、硬化させて、形成することが好ましい。
【００７８】
光透過層６の膜厚ｔは、一般に、ディスクスキューマージンθ（以下、スキューマージンθと略記する。）と、記録再生時のーザー光の波長λと、対物レンズの開口数ＮＡとの間で相関関係があり、特開平３−２２５６５０号公報に、これらのパラメータとスキューマージンとの関係θ∝λ／｛ｔ×（ＮＡ）３ ｝が示されている。
【００７９】
ここで、光記録ディスク１を実際に量産する場合、スキューマージンθを、歩留まりとコストから、０．４°として、レーザー光の短波長化、対物レンズの開口数の高ＮＡ化を考慮して、λ＝３８０ｎｍで、ＮＡ≧０．７６の場合には、光透過層７の膜厚ｔが１７０μｍ以下であれば、ＤＶＤと同等のスキューマージンθが確保できる。
【００８０】
一方、光透過層６の膜厚ｔの下限は、記録層５を保護する保護機能の確保という観点から、１μｍ以上であることが好ましく、スピンコーティング法により、光透過層７を形成する場合には、光透過層７の膜厚ｔが１ないし１５０μｍであることがより好ましい。
【００８１】
【実施例】
以下、本発明の効果を、より一層、明らかにするために、実施例および比較例を掲げる。
【００８２】
比較例
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を、テトラフルオロプロパノールに溶解して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約５６ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００８３】
【化４】
こうして形成された記録層の光の吸収を求めたところ、図２の曲線Ａで示される結果が得られた。
【００８４】
さらに、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃１を作製した。
【００８５】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃１の光の吸収を求めたところ、図２の曲線Ｂで示される結果が得られた。
【００８６】
図２の曲線Ａおよび曲線Ｂから、上記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素のみを、テトラフルオロプロパノールに溶解して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、形成された記録層の光吸収能に比して、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成して、得られた光記録ディスクサンプル＃１の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域において、大きく低下していることがわかる。
【００８７】
これは、スピンコーティングによって、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を塗布した際に、記録層に含まれている色素が溶出ないし流出したことに起因するものと考えられる。
【００８８】
実施例１
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、０．２４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約７７ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００８９】
【化５】
こうして形成された記録層の光の吸収を求めたところ、図３の曲線Ｃで示される結果が得られた。
【００９０】
次いで、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃２を作製した。
【００９１】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃２の光の吸収を求めたところ、図３の曲線Ｄで示される結果が得られた。
【００９２】
図３の曲線Ｃおよび曲線Ｄから、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、０．２４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、形成された記録層の光吸収能に比して、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成し、得られた光記録ディスクサンプル＃１の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域において、低下しているが、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素のみによって、記録層を形成した場合に比べて、光吸収能の低下が小さいことがわかる。
【００９３】
【化６】
これは、記録層が、モノメチンシアニン系色に加えて、紫外線硬化性樹脂を含んでいるため、スピンコーティングによって、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を塗布した際に、記録層に含まれている色素の溶出や流出が抑制されたためと考えられる。
【００９４】
実施例２
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、１．１４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１２４ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００９５】
【化７】
こうして形成された記録層の光の吸収を求めたところ、図４の曲線Ｅで示される結果が得られた。
【００９６】
次いで、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃３を作製した。
【００９７】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃３の光の吸収を求めたところ、図３の曲線Ｆで示される結果が得られた。
【００９８】
図３の曲線Ｅおよび曲線Ｆから、上記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、１．１４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、記録層を形成し、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成して、得られた光記録ディスクサンプル＃３の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域においても、光透過層を形成する前の記録層の光吸収能よりわずかに低下しているにすぎないことがわかる。
【００９９】
これは、光記録ディスクサンプル＃３の記録層が、実施例１の光記録ディスクサンプル＃２の記録層よりも、より多くの紫外線硬化性樹脂を含んでいるため、スピンコーティングによって、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を塗布した際に、記録層に含まれている色素の溶出や流出がより抑制されたためと考えられる。
【０１００】
比較例、実施例１および実施例２によれば、色素と紫外線硬化性樹脂と溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した場合には、記録層上に、スピンコーティングによって、紫外線硬化性樹脂を塗布する際に、記録層に含まれている色素の溶出や流出を抑制することができ、欠陥のない記録層を備えた光記録ディスクを作製することが可能になることが判明した。
【０１０１】
本発明は、以上の実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１０２】
たとえば、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、光透過層を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂と同じ紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成しているが、色素と、光透過層を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂と同じ紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製することは必ずしも必要でない。
【０１０３】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した後に、光透過層の形成に先立って、記録層に、紫外線を照射しているが、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を含む光透過層を形成した後に、紫外線を照射して、記録層に含まれた紫外線硬化性樹脂および光透過層に含まれた紫外線硬化性樹脂を硬化させてもよく、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した後に、光透過層の形成に先立って、記録層に、紫外線を照射することは必ずしも必要でない。
【０１０４】
さらに、前記実施例１および前記実施例２においては、記録層と光透過層が、同じ紫外線硬化性樹脂を含んでいるが、記録層と光透過層が、同じ紫外線硬化性樹脂を含んでいることは必ずしも必要でなく、記録層と光透過層が、異なる紫外線硬化性樹脂を含んでいてもよい。
【０１０５】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成しているが、紫外線硬化性樹脂を用いることは必ずしも必要でなく、紫外線硬化性樹脂に代えて、電子線硬化性樹脂と色素とを混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成してもよい。
【０１０６】
さらに、前記実施例１および前記実施例２においては、紫外線硬化性樹脂によって、光透過層を形成しているが、紫外線硬化性樹脂によって、光透過層６を形成することは必ずしも必要でなく、紫外線硬化性樹脂に代えて、電子線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成してもよい。
【０１０７】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成しているが、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することは必ずしも必要でなく、他のモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することもできる。
【０１０８】
【化８】
また、前記実施態様においては、下記一般式で示されるモノメチンシアニン系色素（ＱおよびＱ’は、含窒素複素環を形成する原子群、Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基、Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。）を用いて、記録層５が形成され、下記一般式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層５が形成されることが好ましいが、下記一般式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層５を形成することは必ずしも必要でなく、モノメチンシアニン系色素に代えて、トリメチンシアニン系色素を用いて、記録層５を形成することもできるし、さらには、モノメチンシアニン系色素、トリメチンシアニン系色素以外のシアニン系色素を用いて、記録層５を形成してもよい。
【０１０９】
【化９】
【発明の効果】
本発明によれば、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法を提供することが可能になる。
【０１１０】
また、本発明によれば、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクを提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【図２】図２は、比較例における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【図３】図３は、実施例１における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【図４】図４は、実施例２における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【符号の説明】
１ 光記録ディスク
２ 支持基板
３ 金属層
４ 誘電体層
５ 記録層
６ 光透過層
Ｇ グルーブ
Ｌ ランド
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録ディスクの製造方法および光記録ディスクに関するものであり、さらに詳細には、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法および基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録ディスクが広く用いられている。
【０００３】
これらの光記録ディスクは、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないタイプのいわゆるＲＯＭ型光ディスクと、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記は可能であるが、データの書き換えができないタイプのいわゆる追記型光ディスクと、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能なタイプのいわゆる書き換え型光ディスクに大別することができる。
【０００４】
広く知られているように、ＲＯＭ型光ディスクにおいては、製造段階で、基板に形成されるプリピットにより、データが記録されるのが一般的であり、書き換え型光ディスクにおいては、たとえば、記録層の材料として、相変化材料が用いられ、その相状態に変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００５】
これに対して、追記型光ディスクにおいては、記録層の材料として、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素が用いられ、その化学的変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。
【０００６】
そして、さらに、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように、記録・再生のために照射するレーザー光として、波長が短い青色レーザー光を用いるとともに、記録光学系および再生光学系のレンズとして、開口数の大きいレンズを用い、ポリカーボネートなどによって形成された基板とは反対側から、レーザー光を照射するように構成され、記録層上に、光透過層が設けられた次世代型光記録ディスクが提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素を用いて、ポリカーボネートなどによって形成された基板上に、蒸着やスピンコーティングによって、記録層を形成し、記録層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成する場合には、光透過層の形成時に、記録層に含まれている色素が、少しづつ溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることによって、記録層に欠陥が生じ、あるいは、光透過層の膜厚が変化して、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうという問題があった。
【０００８】
かかる問題を解決するとともに、反射特性を改善するために、主として色素からなる記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成し、誘電体層上に、スピンコーティングによって、光透過層を形成するように構成された光記録ディスクが提案されている。
【０００９】
このように、記録層上に、スパッタリングによって、誘電体層を形成することによって、スピンコーティングによって、光透過層を形成する際に、記録層に含まれている色素が、少しづつ溶解して、光透過層中に溶け込んだり、流されたりすることを防止して、記録層に欠陥が生ずること防止するとともに、光記録ディスクの光学的特性や電気的特性が変化してしまうことを防止することが可能になるが、スパッタリングによって、誘電体層を形成する工程が増加するため、製造に要する時間が長くなるとともに、特別の製造設備が必要になり、必然的に、製造コストが増大するという問題があった。
【００１０】
したがって、本発明は、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
また、本発明の別の目的は、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、少なくとも色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、第１の塗布液を調製し、基板上に、第１の塗布液を塗布して、記録層として機能する第１の塗布層を形成し、第１の塗布層上に、主として放射線硬化性樹脂を含む第２の塗布液を塗布して、光透過層として機能する第２の塗布層を形成し、放射線を照射して、第１の塗布層に含まれている放射線硬化性樹脂および第２の塗布層に含まれている放射線硬化性樹脂を硬化させることによって、驚くべきことに、記録層上に、スピンコーティングによって、放射線硬化性樹脂を塗布して、光透過層を形成しても、記録層に含まれている色素の溶出が防止され、欠陥のない記録層を備えた光記録ディスクを製造することができることを見出した。
【００１３】
したがって、本発明の前記目的は、少なくとも色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、第１の塗布液を調製し、基板上に、前記第１の塗布液を塗布して、第１の塗布層を形成し、前記第１の塗布層上に、主として放射線硬化性樹脂を含む第２の塗布液を塗布して、第２の塗布層を形成し、放射線を照射して、前記第１の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂および前記第２の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの製造方法によって達成される。
【００１４】
本発明の好ましい実施態様においては、前記第１の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第１の塗布層を形成し、前記第２の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第２の塗布層を形成するように構成されている。
【００１５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記第２の塗布液に含まれる前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を、前記色素と前記溶剤と混合して、前記第１の塗布液を調製するように構成されている。
【００１６】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、光記録ディスクの製造方法は、さらに、前記基板上に、前記第１の塗布層を形成した後に、前記第１の塗布層に放射線を照射するステップを備えている。
【００１７】
本発明の前記目的はまた、基板と、基板上に形成された記録層と、前記記録層上に形成され、放射線硬化性樹脂を含む光透過層を備え、前記記録層が、色素と放射線硬化性樹脂の混合物を含むことを特徴とする光記録ディスクによって達成される。
【００１８】
本発明の好ましい実施態様においては、前記記録層が、前記色素と、前記光透過層に含まれた前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を含んでいる。
【００１９】
本発明において、放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などが好ましく使用される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００２１】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【００２２】
図１に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク１ は、支持基板２を備え、支持基板２の情報ピットやプリグルーブなどの微細凹凸が形成されている側の面上に、金属層３、誘電体層４、記録層５および光透過層６が、この順で、形成されている。
【００２３】
光記録ディスク１は、図１において、矢印で示される向きに、記録または再生のためのレーザー光が照射され、光透過層６を通して、記録層５に、レーザー光が照射されるように構成されている。
【００２４】
支持基体２は、０．３ｍｍないし１．６ｍｍ、好ましくは、０．５ｍｍないし１．３ｍｍの厚さを有し、記録層３が形成される側の面に、情報ピットや、プリグルーブ、ランドなどの微細な凹凸が形成されている。本明細書において、グルーブＧは、レーザー光が入射すべき側に位置する案内溝を指し、ランドＬは隣り合ったグルーブＧの間に形成される。グルーブＧは、通常、スパイラル状に形成される。
【００２５】
グルーブＧの深さＧｄは、ランドＬの最も高い所とグルーブＧの最も低い所の差によって定義され、好ましくは４０ないし１５０ｎｍであり、より好ましくは６０ないし１２０ｎｍである。グルーブＧの深さＧｄをこのような範囲とすることによって、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを抑制することが可能になる。グルーブＧの深さＧｄが４０ｎｍ未満であると、トラック追従のために必要なトラッキングエラー信号が小さくなるとともに、クロストークが大きくなり、さらに、ウオブル信号のようなプリフォーマット信号か小さくなる傾向があり、好ましくない。一方、グルーブＧの深さＧｄが１５０ｎｍを越えると、ランドＬおよびグルーブＧを精度良く形成することが困難になり、反射信号の低下や感度の低下が生じるおそれがある。
【００２６】
グルーブＧの幅Ｇｗは、グルーブＧの深さＧｄの１／２の深さ位置におけるグルーブの幅によって定義され、好ましくは１１０ないし２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０ないし１９０ｎｍである。グルーブＧのピッチＧｐは、隣り合うグルーブの間隔によって定義され、たとえば、隣り合うグルーブの幅Ｇｗ方向中心の間隔として定義される。グルーブＧのピッチＧｐは、たとえば、２９０ないし３５０ｎｍであり、好ましくは３１０ないし３３０ｎｍである。このような構成とすることによって、クロストークを抑制することが可能になる。
【００２７】
本実施態様にかかる光記録ディスク１のランドＬの部分およびグルーブＧの部分またはランドＬの部分もしくはグルーブＧの部分に、データを記録することもできる。
【００２８】
支持基体２は、光学的には透明である必要はないが、とくに、記録層を形成するために用いる溶剤に溶解しないものを用いることが好ましい。この観点から、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂などの各種プラスチック材料などが、支持基板２を形成するために使用することできる。これらのうち、成形の容易性などから、とくに、ポリカーボネート樹脂やポリオレフィン樹脂が好ましい。プラスチック材料のように撓み易い材料を用いた場合には、光記録ディスク１の反りの発生を抑制することができ、とくに有効である。ただし、ガラス、セラミックス、金属などを用いて、支持基板２を形成してもよい。支持基板２の表面上の凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形によって、支持基板２を形成する際に、形成されることが多いが、プラスチック材料以外の材料を用いて、支持基板２を形成する場合には、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって成形することができる。
【００２９】
本実施態様においては、支持基板２上に、金属層３および誘電体層４が形成される。これらの金属層３および誘電体層４は、レーザー光によって、データを記録する際に生じる熱を効果的に放熱することができるものであればよく、金属層３は、たとえば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｐｄ、あるいは、これらの合金によって形成することができる。誘電体層４は、たとえば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成され、とくに、ＺｎＳ−ＳｉＯ２ 、Ａｌ２Ｏ３などによって、誘電体層４を形成することが好ましい。ＺｎＳ−ＳｉＯ２ によって、誘電体層４を形成する場合には、ＳｉＯ２ の含有量を１０ｍｏｌ％以上、４０ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。金属層３および誘電体層４を形成する方法としては、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの手法が挙げられる。
【００３０】
金属層３および誘電体層４の厚さは、とくに限定されるものではなく、たとえば、５ないし５０ｎｍ程度であり、好ましくは５ないし３０ｎｍ程度である。厚さが５ｎｍ未満となると、充分な放熱効果が得ることができない。その一方で、５０ｎｍを越えると、熱伝導性が良くなり過ぎ、感度が低下するおそれがある。
【００３１】
次いで、有機化合物と放射線硬化性樹脂とを主成分とする記録層５が形成される。
【００３２】
本実施態様においては、有機化合物は、モノメチンシアニン系色素を含んでいる。
【００３３】
ここに、有機化合物と放射線硬化性樹脂とを主成分とするとは、不可避成分を除いて、記録層５が有機化合物と放射線硬化性樹脂とで構成されている場合だけでなく、記録層が、モノメチンシアニン系色素以外の有機化合物を含んでいる場合や、記録層の諸特性向上の目的で、記録層中に１０重量％以下の無機化合物を含有している場合も含まれる。
【００３４】
モノメチンシアニン系色素は、３７０ないし４２５ｎｍの波長の範囲に屈折率ｎ（複素屈折率の実部）の極小値ｎｍｉｎを有し、記録時のレーザー光および再生時のレーザー光の波長における屈折率ｎが１．２以下であり、かつ、３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、屈折率変化を生じる性質を有していることが好ましい。
【００３５】
記録時のレーザー光の波長領域３９０ないし４２０ｎｍにおける屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が１．２以下のモノメチンシアニン系色素を用いることによって、データの記録時において、モノメチンシアニン系色素が３９０ないし４２０ｎｍの波長の記録時のレーザー光を吸収して、溶融または分解し、３９０ないし４２０ｎｍの波長領域において、低屈折率から高屈折率（たとえば、１．４５ないし１．６５）への屈折率変化が生じる。このようにして、記録ピットが形成され、データが記録される。データの再生時においては、記録ピットとその周囲の未記録部との間の３９０ないし４２０ｎｍの波長の再生時のレーザー光に対する反射率の差を利用して、データが読み取られる。この原理に基づいて、３９０ないし４２０ｎｍの記録時のレーザー光による記録および３９０ないし４２０ｎｍの再生時のレーザー光による再生が行われる。より大きな屈折率変化を生じさせるために、３７０ないし４２５ｎｍの範囲における屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎは、１．１以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。屈折率ｎの極小値ｎｍｉｎの下限値は、とくに限定されないが、通常は、０．７程度である。
【００３６】
また、モノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．１５以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。記録時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、記録ピット形成部において、記録時のレーザー光を適度に吸収することができ、局所的に、温度が上昇し、溶融または分解による屈折率変化が生じやすい。記録時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５未満である場合には、記録時のレーザー光の吸収率が低下し、通常の記録パワーでのデータの記録が困難となる。また、再生時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが０．１５以上であると、データの未記録部において、所望の反射率が得られ、記録ピットと未記録部との間の反射率差を読み取りやすい。しかしながら、再生時のレーザー光の波長におけるモノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋが大きくなりすぎると、反射率が低下してしまうので、再生時のレーザー光の波長における消衰係数ｋは２．０以下であることが好ましい。このような観点から、モノメチンシアニン系色素の消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、記録時のレーザー光の波長および再生時のレーザー光の波長のいずれにおいても、０．３以上、２．０以下が好ましく、０．４以上、２．０以下がより好ましい。
【００３７】
モノメチンシアニン系色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）および消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）は、薄膜状態のモノメチンシアニン系色素の吸収スペクトルを測定することによって、測定される。薄膜状態の有機化合物の吸収スペクトルは、一般的には、以下のようにして、測定される。吸収スペクトルを測定すべき有機化合物を適切な有機溶媒に溶解させ、得られた溶液を、スピンコーティング法により、グルーブやピットなどが形成されていないポリカーボネート平板上に、有機化合物が特定の配向性を持たないように、塗布して、４０ないし１００ｎｍ程度の膜厚を有する薄膜を形成する。スピンコーティング時の溶媒揮発の際に、有機化合物が著しく結晶化し、あるいは、会合するような場合には、別種の溶媒を選択する。こうして作成した有機化合物薄膜付きポリカーボネート基板の透過吸収スペクトルを、分光光度計にて測定する。
【００３８】
本実施態様において用いられるモノメチンシアニン系色素は、次の一般式で表わされる色素のうち、上述した条件を満たす色素が選ばれる。
【００３９】
【化１】
【００４０】
Ｒ１およびＲ１’は、アルキル基を表わし、アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ１およびＲ１’は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１およびＲ１’として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし６のアルキル基が挙げられ、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が好ましい。
【００４１】
Ｘ−は陰イオンを表わし、ｍは０または１である。Ｘ−として用いられる陰イオンとしては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン、ＣｌＯ４ −、ＢＦ４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＳＣＮ−などが挙げられる。
【００４２】
一般式（１）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の例としては、それぞれ、次の一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾール、一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールが挙げられる。なお、これらの一般式（Ａ）ないし（Ｅ）においては、便宜的に、窒素原子が電荷を帯びた状態で示されている。
【００４３】
【化２】
【００４４】
一般式（Ｂ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４５】
一般式（Ｃ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４６】
一般式（Ｄ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ６は、メチル基あるいはエチル基を表わす。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４７】
一般式（Ｅ）において、Ｒ１はアルキル基を表わし、アルコキシ基などのように、置換基を有していてもよい。Ｒ１として用いられるアルキル基としては、炭素数１ないし４のアルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基が挙げられ、プロピル基およびブチル基が好ましい。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、水素原子、アルキル基あるいはＣｌなどのハロゲン原子を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【００４８】
一般式（１）において、モノメチン基の両側の含窒素複素環の一方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニンおよび一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールから選ばれ、他方が、一般式（Ａ）で示されるインドレニン、一般式（Ｂ）で示されるキノリン、一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾール、一般式（Ｄ）で示されるベンゾイミダゾールおよび一般式（Ｅ）で示されるベンゾセレナゾールから選ばれる。これらのうちでも、モノメチン基の両側の含窒素複素環が同一であるいわゆる対称構造のモノメチンシアニン系色素が好ましい。すなわち、モノメチン基の両側の含窒素複素環がともに、一般式（Ａ）で示されるインドレニンあるいは一般式（Ｃ）で示されるベンゾチアゾールである対称構造のモノメチンシアニン系色素が、好ましく用いられる。対称構造のモノメチンシアニン系色素は、非対称構造のモノメチンシアニン系色素に比して、３７０ないし４２５ｎｍの波長範囲において、色素の屈折率ｎ（複素屈折率の実部）が小さくなる傾向があり、データ記録の前後で、大きな変調が得られやすく、好ましい。また、屈折率ｎや消衰係数ｋ（複素屈折率の虚部）を調整したり、溶解性を向上させるなどの目的のために、２種以上のモノメチンシアニン系色素を併用してもよい。
【００４９】
具体的には、以下の構造式で示されるモノメチンシアニン系色素が、好ましく使用される。
【００５０】
【化３】
【００５１】
本実施態様において、好ましくは、記録層５が、モノメチンシアニン系色素に加えて、一重項酸素クエンチャーを含んでいる。さらに、記録層５が、モノメチンシアニン系色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を含んでいてもよい。
【００５２】
クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系や、ビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系などの金属錯体が好ましく用いられる。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物や、ヒンダードアミンなどのアミン系のクエンチャーも好ましく使用される。
【００５３】
イオン結合体を構成するモノメチンシアニン系色素としては、インドレニン環を有するモノメチンシアニン色素が好ましく、イオン結合体を構成するクエンチャーとしては、ビスフェニルジチオール金属錯体などの金属錯体色素が好ましい。
【００５４】
クエンチャーは、モノメチンシアニン色素と別個に添加しても、イオン結合体の形で用いてもよいが、モノメチンシアニン系色素の総計１モルに対して、１モル以下、とくに、０．０５ないし０．８モル程度を添加することが好ましい。これによって、記録層５の耐光性を向上させることができる。
【００５５】
本実施態様においては、記録層５は、放射線硬化性樹脂を含んでいる。
【００５６】
放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などから選択することができ、とくに、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂が好ましい。
【００５７】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さい樹脂が選ばれる。
【００５８】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物が挙げられ、紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【００５９】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【００６０】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【００６１】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００６２】
記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂は、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【００６３】
好ましくは、記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂としては、光透過層６に含まれる放射線硬化性樹脂と同一の放射線硬化性樹脂が選ばれる。
【００６４】
記録層５は、好ましくは、スピンコーティング法によって形成される。すなわち、モノメチンシアニン系色素と、放射線硬化性樹脂と、必要に応じて、一重項酸素クエンチャーなどと、適当な溶媒を混合して、塗布液を調製し、スピンコーティング法によって、塗布液を支持基板２上に塗布し、必要に応じて、塗布膜を乾燥して、記録層５を形成することが好ましい。スピンコーティング法に代えて、スクリーン印刷法、ディップ塗布法などを用いて、記録層５を形成することもできる。
【００６５】
塗布液を調製するために用いられる有機溶剤は、用いるモノメチンシアニン系色素に応じて、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、芳香族系溶剤、フッ素アルコール溶剤、ハロゲン化アルキル系溶剤などから、適宜選択することができる。これらの中では、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどが好ましく使用される。
【００６６】
記録層５を形成するための塗布液中の放射線硬化性樹脂の含有量は、３重量％以下が好ましく、放射線硬化性樹脂の含有量が３重量％を越えると、記録層５のレーザ光の吸収が減少し、感度が低下するため、好ましくない。
【００６７】
記録層５は、ランドＬの部分で、３０ないし１２０ｎｍの膜厚を有するように形成され、好ましくは、４０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成され、記録層５は、グルーブＧの部分では、５ないし９５ｎｍ、好ましくは、１０ないし８０ｎｍの膜厚を有するように形成される。記録層５の膜厚は、所望の反射率や変調度、隣接トラック、マークの熱干渉を考慮して、設計することが好ましい。これらに影響を与えるパラメータとしては、支持基板２の形状、色素の熱分解挙動や光学特性、隣接する層の光学特性や熱伝導性などが挙げられる。
【００６８】
記録層５上には、光透過層６が形成される。
【００６９】
好ましくは、記録層５上に、光透過層６を形成するのに先立って、紫外線を、記録層５に照射して、記録層５に含まれている紫外線硬化性樹脂を硬化させ、しかる後に、記録層５上に、光透過層６が形成される。
【００７０】
光透過層６を形成する材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー光波長領域である３９０ないし４２０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、放射線硬化性樹脂から選択することができる。
【００７１】
好ましくは、光透過層６は、紫外線硬化性化合物もしくは電子線硬化性化合物またはそれらの重合用組成物によって形成される。紫外線硬化性化合物および電子線硬化性化合物ならびにそれらの重合用組成物の具体例としては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどのアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合などの紫外線照射または電子線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマーなどを挙げることができる。これらは、多官能化合物、とくに３官能以上の化合物であることが好ましく、１種のみ用いても、２種以上を併用してもよい。単官能化合物を含んでいてもよい。
【００７２】
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては、分子量２０００ないし１００００のものが好適である。これらの例としては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレートなども挙げられるが、とくに好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ） アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ） アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ） アクリレートなどが挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体などが挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化性材料としては、さらに、エポキシ樹脂および光カチオン重合触媒を含有する組成物も、好ましく使用される。エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂が好ましく、とくに、分子内に、２個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの１種以上が好ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量にとくに限定されるものではないが、良好な硬化性が得られることから、６０ないし３００、とくに１００ないし２００であることが好ましい。
【００７４】
光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、とくに限定されるものではない。たとえば、光カチオン重合触媒として、１種以上の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族ないし５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、ＭＦ６ アニオン（ただし、Ｍは、Ｐ、ＡｓまたはＳｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩などを用いることができ、とくに、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いることが好ましい。
【００７５】
光透過層６を形成するために用いられる放射線硬化性樹脂としては、２５℃において、１，０００ないし１０，０００センチポイズの粘度を有するものが好ましい。
【００７６】
好ましくは、光透過層６を形成するために用いられる放射線硬化性樹脂として、記録層５に含まれる放射線硬化性樹脂と同一の放射線硬化性樹脂が選ばれる。
【００７７】
光透過層６は、記録層５上に、放射線硬化性樹脂をスピンコーティング法によって塗布し、その後に、紫外線または電子線を照射して、硬化させて、形成することが好ましい。
【００７８】
光透過層６の膜厚ｔは、一般に、ディスクスキューマージンθ（以下、スキューマージンθと略記する。）と、記録再生時のーザー光の波長λと、対物レンズの開口数ＮＡとの間で相関関係があり、特開平３−２２５６５０号公報に、これらのパラメータとスキューマージンとの関係θ∝λ／｛ｔ×（ＮＡ）３ ｝が示されている。
【００７９】
ここで、光記録ディスク１を実際に量産する場合、スキューマージンθを、歩留まりとコストから、０．４°として、レーザー光の短波長化、対物レンズの開口数の高ＮＡ化を考慮して、λ＝３８０ｎｍで、ＮＡ≧０．７６の場合には、光透過層７の膜厚ｔが１７０μｍ以下であれば、ＤＶＤと同等のスキューマージンθが確保できる。
【００８０】
一方、光透過層６の膜厚ｔの下限は、記録層５を保護する保護機能の確保という観点から、１μｍ以上であることが好ましく、スピンコーティング法により、光透過層７を形成する場合には、光透過層７の膜厚ｔが１ないし１５０μｍであることがより好ましい。
【００８１】
【実施例】
以下、本発明の効果を、より一層、明らかにするために、実施例および比較例を掲げる。
【００８２】
比較例
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を、テトラフルオロプロパノールに溶解して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約５６ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００８３】
【化４】
【００８４】
さらに、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃１を作製した。
【００８５】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃１の光の吸収を求めたところ、図２の曲線Ｂで示される結果が得られた。
【００８６】
図２の曲線Ａおよび曲線Ｂから、上記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素のみを、テトラフルオロプロパノールに溶解して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、形成された記録層の光吸収能に比して、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成して、得られた光記録ディスクサンプル＃１の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域において、大きく低下していることがわかる。
【００８７】
これは、スピンコーティングによって、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を塗布した際に、記録層に含まれている色素が溶出ないし流出したことに起因するものと考えられる。
【００８８】
実施例１
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、０．２４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約７７ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００８９】
【化５】
【００９０】
次いで、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃２を作製した。
【００９１】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃２の光の吸収を求めたところ、図３の曲線Ｄで示される結果が得られた。
【００９２】
図３の曲線Ｃおよび曲線Ｄから、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、０．２４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、形成された記録層の光吸収能に比して、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成し、得られた光記録ディスクサンプル＃１の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域において、低下しているが、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素のみによって、記録層を形成した場合に比べて、光吸収能の低下が小さいことがわかる。
【００９３】
【化６】
【００９４】
実施例２
下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、１．１４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１２４ｎｍの膜厚の記録層を形成した。
【００９５】
【化７】
【００９６】
次いで、記録層上に、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、約１００μｍの膜厚を有する光透過層を形成し、光記録ディスクサンプル＃３を作製した。
【００９７】
こうして作製された光記録ディスクサンプル＃３の光の吸収を求めたところ、図３の曲線Ｆで示される結果が得られた。
【００９８】
図３の曲線Ｅおよび曲線Ｆから、上記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素と、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）と、テトラフルオロプロパノールとを混合して、０．８重量％のモノメチンシアニン系色素と、１．１４５重量％の紫外線硬化性樹脂を含む塗布液を調製し、ポリカーボネートによって形成された支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、記録層を形成し、記録層上に、さらに、紫外線硬化性樹脂である昭和高分子株式会社製特殊ビニルエステル樹脂組成物「スーパーポリエステルＳＳＰ５０−Ｕ１０」（商品名）を、スピンコーティングによって、塗布し、紫外線を照射して、光透過層を形成して、得られた光記録ディスクサンプル＃３の光吸収能は、４００ｎｍないし４７０ｎｍの青色光の波長域においても、光透過層を形成する前の記録層の光吸収能よりわずかに低下しているにすぎないことがわかる。
【００９９】
これは、光記録ディスクサンプル＃３の記録層が、実施例１の光記録ディスクサンプル＃２の記録層よりも、より多くの紫外線硬化性樹脂を含んでいるため、スピンコーティングによって、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を塗布した際に、記録層に含まれている色素の溶出や流出がより抑制されたためと考えられる。
【０１００】
比較例、実施例１および実施例２によれば、色素と紫外線硬化性樹脂と溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した場合には、記録層上に、スピンコーティングによって、紫外線硬化性樹脂を塗布する際に、記録層に含まれている色素の溶出や流出を抑制することができ、欠陥のない記録層を備えた光記録ディスクを作製することが可能になることが判明した。
【０１０１】
本発明は、以上の実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１０２】
たとえば、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、光透過層を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂と同じ紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成しているが、色素と、光透過層を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂と同じ紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製することは必ずしも必要でない。
【０１０３】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した後に、光透過層の形成に先立って、記録層に、紫外線を照射しているが、記録層上に、紫外線硬化性樹脂を含む光透過層を形成した後に、紫外線を照射して、記録層に含まれた紫外線硬化性樹脂および光透過層に含まれた紫外線硬化性樹脂を硬化させてもよく、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成した後に、光透過層の形成に先立って、記録層に、紫外線を照射することは必ずしも必要でない。
【０１０４】
さらに、前記実施例１および前記実施例２においては、記録層と光透過層が、同じ紫外線硬化性樹脂を含んでいるが、記録層と光透過層が、同じ紫外線硬化性樹脂を含んでいることは必ずしも必要でなく、記録層と光透過層が、異なる紫外線硬化性樹脂を含んでいてもよい。
【０１０５】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、色素と、紫外線硬化性樹脂と、溶剤を混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成しているが、紫外線硬化性樹脂を用いることは必ずしも必要でなく、紫外線硬化性樹脂に代えて、電子線硬化性樹脂と色素とを混合して、塗布液を調製し、支持基板上に、スピンコーティングによって、塗布液を塗布して、記録層を形成してもよい。
【０１０６】
さらに、前記実施例１および前記実施例２においては、紫外線硬化性樹脂によって、光透過層を形成しているが、紫外線硬化性樹脂によって、光透過層６を形成することは必ずしも必要でなく、紫外線硬化性樹脂に代えて、電子線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成してもよい。
【０１０７】
また、前記実施例１および前記実施例２においては、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成しているが、下記構造式で示されるモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することは必ずしも必要でなく、他のモノメチンシアニン系色素を用いて、記録層を形成することもできる。
【０１０８】
【化８】
【０１０９】
【化９】
本発明によれば、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備えた光記録ディスクの製造方法であって、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出を効果的に防止して、欠陥のない記録層を形成することができる光記録ディスクの製造方法を提供することが可能になる。
【０１１０】
また、本発明によれば、基板と、基板上に形成され、色素を含む記録層と、記録層上に形成された光透過層を備え、製造コストの増大を招くことなく、記録層に含まれている色素の溶出や流出が防止された光記録ディスクを提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。
【図２】図２は、比較例における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【図３】図３は、実施例１における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【図４】図４は、実施例２における光透過層形成前の光吸収能と、光透過層形成後の光吸収能を示すグラフである。
【符号の説明】
１ 光記録ディスク
２ 支持基板
３ 金属層
４ 誘電体層
５ 記録層
６ 光透過層
Ｇ グルーブ
Ｌ ランド
Claims (6)
- 少なくとも色素と放射線硬化性樹脂と溶剤を混合して、第１の塗布液を調製し、基板上に、前記第１の塗布液を塗布して、第１の塗布層を形成し、前記第１の塗布層上に、主として放射線硬化性樹脂を含む第２の塗布液を塗布して、第２の塗布層を形成し、放射線を照射して、前記第１の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂および前記第２の塗布層に含まれている前記放射線硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする光記録ディスクの製造方法。
- 前記第１の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第１の塗布層を形成し、前記第２の塗布液を、スピンコーティングによって、塗布して、前記第２の塗布層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録ディスクの製造方法。
- 前記第２の塗布液に含まれる前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を、前記色素と前記溶剤と混合して、前記第１の塗布液を調製することを特徴とする請求項１または２に記載の光記録ディスクの製造方法。
- さらに、前記基板上に、前記第１の塗布層を形成した後に、前記第１の塗布層に放射線を照射するステップを備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光記録ディスクの製造方法。
- 基板と、基板上に形成された記録層と、前記記録層上に形成され、放射線硬化性樹脂を含む光透過層を備え、前記記録層が、色素と放射線硬化性樹脂の混合物を含むことを特徴とする光記録ディスク。
- 前記記録層が、前記色素と、前記光透過層に含まれた前記放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を含むことを特徴とする請求項５に記載の光記録ディスク。
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|---|---|---|---|
| JP2002327260A JP2004164717A (ja) | 2002-11-11 | 2002-11-11 | 光記録ディスクの製造方法および光記録ディスク |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137043A (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-25 | Sony Corp | 光情報記録媒体 |
| JP2017059277A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 学校法人神奈川大学 | 光学材料、光学素子、及び物品の屈折率を変化させる方法 |
-
2002
- 2002-11-11 JP JP2002327260A patent/JP2004164717A/ja active Pending
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