JP2004106322A - ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム - Google Patents
ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004106322A JP2004106322A JP2002271270A JP2002271270A JP2004106322A JP 2004106322 A JP2004106322 A JP 2004106322A JP 2002271270 A JP2002271270 A JP 2002271270A JP 2002271270 A JP2002271270 A JP 2002271270A JP 2004106322 A JP2004106322 A JP 2004106322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- polyester film
- laminated polyester
- master pellet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】波長365nmのヘイズが8%以下であり、かつ、少なくとも2層からなる積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層(易滑A層と称する。)に含有される不活性粒子の平均粒径r(μm)と該易滑A層の積層厚みt(μm)の関係が下記(1)式を満たすことを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
0.5<t/r≦5 ・・・(1)式
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ドライフィルムフォトレジスト(以下、DFRと略記することがある。)用積層ポリエステルフィルムに関するものであり、さらに詳しくはDFRの支持体として用いられ、透明性及び易滑性に優れ、ファインパターン回路形成性に優れたDFR用積層ポリエステルフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、IT産業機器の小型/軽量化さらには高性能化/低コスト化に伴い、回路形成技術においても、より高密度化、高解像度が求められるようになってきた。ドライフィルムフォトレジストは、この回路形成技術に用いられるものであり、その役割期待が非常に大きい。
【0003】
通常のDFRは、感光層が支持体としてのポリエステルフィルムと保護フィルムである低密度ポリエチレンフィルムに挟まれたサンドイッチ構造をしている。以下に一般的な操作を記載する。すなわち、保護フィルムを剥離しながら、導電性基板にポリエステルフィルムが貼り合わされた状態でレジストをラミネートし、次に導体回路を焼き付けたレチクルをポリエステルフィルム上に置き、その上から感光性樹脂を成分としたレジストに紫外線(例えば、波長365nmにピークを有するI線)を照射して、露光する。その後、レチクル及びポリエステルフィルムを剥離し、溶剤によって未反応レジスト層を除去する。さらに、酸などでエッチングを行うと露出した導電性基板が溶解し、レジストが光反応して除去されなかった部分の導電性基板はそのまま残ることになる。その後、残ったレジスト層を除去すれば、基板上に導体回路が形成される事となる。従って、支持体としてのポリエステルフィルムは、レチクルからの365nm近傍の紫外線を邪魔することなく、正確にレジストに照射させなければならない。すなわち、ポリエステルフィルムの要求特性としては、紫外線365nmにおける光の透過性が良く、ヘイズ値が低いことである。
【0004】
しかしながら、ポリエステルフィルムには、通常、走行性、巻き特性を付与する易滑材としての粒子が含有されているため、露光工程時の紫外線照射の際、粒子による光散乱を引き起こしてしまうためにレジストの解像度を低下させてしまうという問題が生じている。
【0005】
従来より、この相反する易滑性及び高解像度化を両立するフィルム粒子設計が提案されてきたので、以下に説明する。
【0006】
少なくとも片側の最表層に平均粒径が0.01〜3.0μmの粒子を含有する二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、当該最表層表面のRaが0.0055μm以上、Rtが1.5μm未満であり、かつフィルムへーズが1.5%以下であることを特徴とするフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0007】
また、平均粒径が0.01〜0.1μmの一次粒子の凝集体であって、細孔容積が0.5〜2.0ml/g、平均粒径が0.1〜5μmの多孔質シリカ粒子を0.01〜0.1重量%含有し、該多孔質シリカのうち、50μm以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が10個/m2以下であること特徴とするフォトレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
【0008】
また、厚み10μm以上のフィルム支持体にフォトレジスト感光層を積層した感光性積層体であって、該フィルム支持体が、平均粒径0.01〜0.1μmの一次粒子の凝集体である多孔質シリカ粒子を含有するが、フィルム中での50μm以上の大きさの粗大凝集粒子の個数が10個/m2以下であり、厚み25μmにおけるフィルムヘーズが5%以下である二軸延伸ポリエステルフィルムであることを特徴とする感光性積層体も提案されている(例えば、特許文献3参照)。
【0009】
さらに、互いに平均粒径の異なる2種以上の不活性粒子を含むポリエステル組成物からなる厚み1.0〜30.0μmの二軸配向ポリエステルフィルムであって、該不活性粒子は、それぞれAl,Si,Ca及びMgから選ばれた少なくとも1種以上の元素を含み、該不活性粒子の少なくとも1種は、1次粒径が凝集して形成される凝集粒子であり、該フィルム表面の中心線平均粗さ(SRa)及び10点平均粗さ(SRz)がそれぞれ、10〜80nm、700〜1500nmであり、フィルムーフィルム間のエア抜け速度が、20〜120mmHg/hrであり、かつ1/2インチ幅にスリットしたフィルムロール巻き取り速度が250m/minの時の側面ずれ幅が0〜500μmであることを特徴とするフォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルムも提案されている(例えば、特許文献4参照)。
【0010】
最近では、厚みが12μm以上25μm以下の二軸配向ポリエステルフィルムの片面または両面に易滑層を設けた積層フィルムであって、該積層フィルムのへーズ値が1%以下、かつ365nmの光線透過率が86%以上であることを特徴とするドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。
【0011】
しかしながら、これらの提案においても、近年の高解像度化と易滑性の相反する関係を両立することは難しく、現像後のレジストのパターニングに窪み、剥がれ、削れなどの欠陥を有し、さらに走行性においても、しわ、バタツキ、空気の噛み込みなどの問題が生じているため、高解像度化への品質向上、生産性向上の要求が続いているのが現状である。
【0012】
【特許文献1】
特開平7−333853号公報(第1−2頁)
【0013】
【特許文献2】
特開平10−46012号公報(第1−2頁)
【0014】
【特許文献3】
特開平10−128930号公報(第1−2頁)
【0015】
【特許文献4】
特開2000−275860号公報(第1−2頁)
【0016】
【特許文献5】
特開2002−62661号公報(第1−2頁)
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
かかる事情下に鑑み、本発明はレジストの高解像度を達成すると共に、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさない易滑性を付与したドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、解像度を低下させる主因は、光学物性値である波長365nmにおけるヘイズである事を見出し、さらに、それを誘導するフィルム構造上の主因はレジストとの貼り合わせ面であるポリエステルフィルムの表面であることを見出した。この事から、ヘイズを抑えつつ、この表面の凹凸を設計することによって高解像度化と易滑性を両立したドライフィルムフォトレジスト用支持体であるポリエステルフィルムを完成するに至った。
【0019】
すなわち、本発明は、波長365nmのヘイズが8%以下であり、かつ、少なくとも2層からなる積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層(以下、易滑A層と称することがある。)に含有される不活性粒子の平均粒径r(μm)と該易滑A層の積層厚みt(μm)の関係が下記(1)式を満たすことを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムをその骨子とする。
0.5<t/r≦5 ・・・(1)式
【0020】
【本発明の実施の形態】
以下、本発明について、更に詳細に説明をする。
【0021】
本発明の積層ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルである。ここで、主たるとは、50モル%以上であることを言う。
【0022】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルジカルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を挙げることができる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を挙げることができる。中でも好ましくはテレフタル酸とイソフタル酸を挙げることができる。これらの酸成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよく、さらには、ヒドロキシ安息香酸等のオキシ酸等を一部共重合してもよい。
【0023】
また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン等を挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。
【0024】
本発明の積層ポリエステルフィルムに用いられるポリエステルとして、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、エチレンテレフタレートとエチレンイソフタレートとの共重合体、ポリエチレンナフタレート及びその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体等を挙げることができ、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【0025】
本発明に使用するポリエステルは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させた後、この反応の生成物を減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去しつつ重縮合させることによって製造する方法や、酸成分としてジアルキルエステルを用い、これとジオール成分とでエステル交換反応させた後、上記と同様に重縮合させることによって製造する方法等がある。この際、必要に応じて、反応触媒として従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等を用いることもできる。
【0026】
本発明に使用するポリエステルには、必要に応じて各種添加剤を添加しても良い。例えば、滑材としては、有機、無機滑材を用いることができる。その形状としては、凝集粒子、真球状粒子、数珠状粒子、コンペイト状粒子、鱗片状粒子などの粒子を使うことができる。また、その材質としては、無機系としては、酸化珪素、炭酸カルシウム、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、珪酸アルミニウム、マイカ、クレー、タルク等を、有機系としては、ポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ないし無架橋ポリスチレン系樹脂、架橋ないし無架橋アクリル樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂等の樹脂、また有機滑材としてステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、フマール酸アミドなどの各種アミド化合物を挙げることができる。
【0027】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、少なくとも2層からなる積層構造であることが必要である。2層であっても3層以上の構造でもあって良いが、コスト面から考えて図1に示すが如く2層構造が好ましい。なお、多層構造にする一つの理由は、レジストに貼り合わせる面とその反対側の面の機能が異なる方が好ましいためである。
【0028】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、波長365nmのヘイズが8%以下であることが必要である。すなわち、DFRの高解像度化を達成させるためには、パターニング性に最も影響を与える光拡散性の指標である波長365nmのヘイズが、8%以下であることが必要なのである。解像度L/S(Line andSpace)=15/15μ以下を目標とするならば、好ましくはヘイズは3%以下である。
【0029】
光拡散性及び易滑性はフィルム表面に強く依存しており、単層であるとフィルム表面を制御し難くなる。そのため光拡散性を抑制し、易滑性を付与したフィルム表面設計を容易におこなえる観点から、2層以上の多層積層構造であることが必要である。
【0030】
また、本発明の目的のフィルム表面設計を行うために、易滑A層に不活性粒子を含むことが必要であり、フィルム厚み(μm)と不活性粒子の平均粒径r(μm)の関係が規定される。すなわち、本発明の積層ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層(易滑A層)に含有される不活性粒子の平均粒径r(μm)と該易滑A層の積層厚みt(μm)の関係が下記(1)式を満たすことが必要である。なお、不活性粒子としては、前述した有機、無機滑材等を用いることができる。
0.5<t/r≦5 ・・・(1)式
好ましくは、t/rは、0.55以上3以下である。
【0031】
t/rが(1)式の範囲を満足することによって、フィルム最外層厚み内において散乱点となる粒子数を最小限に押さえつつ、かつ粒子による表面突起高さを最大限に出現させ、またその高さを揃えることで一様な光出射角の範囲を保てるため、高解像度化と易滑性を両立したドライフィルムフォトレジスト用支持体である積層ポリエステルフィルムが作製できるのである。
【0032】
t/rが0.5以下であると、積層構造が形成し難く、粒子はフィルム表面から脱落したり、もう一方の層へ移動してしまうために目的の表面設計が達成できないため好ましくなく、また、t/rが5を越えると、粒子による表面突起を形成し難くなるばかりでなく、広範囲な光出射角となるため好ましくない。
【0033】
波長365のヘイズが8%以下であり、かつ、易滑A層において(1)式を満たす積層ポリエステルフィルムを得る方法は特に限定されないが、例えば、添加する不活性粒子の種類と粒径を適宜選択し、かつ各層の厚みを適宜選択することで達成できる。
【0034】
易滑A層の表面のRa、Rttが、それぞれ18nm以下、200nm以上であることが好ましい。より好ましくは、Ra、Rtが、それぞれ16nm以下、220nm以上である。ここで、Ra、Rtとは、それぞれ中心線平均粗さ、最大粗さの事である。Raは、粗さ曲線からその中心の方向に測定長さL部分をとり、この抜き取りの中心線をX軸、縦軸をYとし、粗さ曲線をY=f(x)で表したとき、下記(2)式で与えられる。
Ra=1/L∫L 0|f(x)|dx ・・・(2)式
また、Rtは、粗さ曲線の測定長さ内における最大の山と最深の谷の距離を表す。Raが18nmを越えると表面が荒れ気味となり、365nmにおけ光の散乱が大きくなり、また、Rtが200nm未満であると空気の抜け具合が低下する傾向となり、滑りが悪くなる傾向にある。
【0035】
Ra,Rtを上記した値に制御する方法は特に限定されないが、例えば、前述した(1)式の範囲となるように粒径と各層の厚みを適宜選択することで達成することができる。
【0036】
該易滑A層に隣接するB層において、不活性粒子の平均粒径と粒子濃度は一定値以下であるのが好ましい。すなわち、B層に含まれる不活性粒子の平均粒径は0.3μ以下であることが好ましく、B層に含まれる不活性粒子の粒子濃度は0〜0.08重量%であることが好ましい。より好ましくは、平均粒径が0.2μ以下、粒子濃度が0.005重量%以下である。平均粒径が0.3μを超えるか粒子濃度が0.08重量%を越えると、光散乱が大きくなる傾向となる。
【0037】
B層の厚みは、本発明の積層ポリエステルフィルムを構成する各層の中で最も厚い層であることが好ましい。最外層かつ易滑層であるA層は、最小限の粒子数で光拡散性を抑制し、易滑性を付与するため非常に厚みが薄くなる。そのため隣接するB層を厚くする事により支持体としての強度が付与され好ましいのである。
【0038】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、2層からなる積層ポリエステルフィルムであって、B層の表面をレジスト表面と貼り合わせることが好ましい。A層を貼り合わせると、表面突起により現像後のレジストに窪みや削れの欠点を作りやすいためである。
【0039】
本発明の積層ポリエステルフィルムの厚みは、5〜25μmであることが好ましい。5μm未満であると支持体としての強度が小さくなり、25μmを越えると粒子による光の散乱する距離が長くなるためヘイズが大きくなるからである。
【0040】
本発明の積層ポリエステルフィルムの製造方法は特に限定されず、例えば、溶融ポリマーを押出機に供給して、T型口金等を用いてシート状に溶融押出し、その後、キャスティングドラム上で冷却固化して未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムを樹脂組成物のガラス転移点(Tg)以上の温度で延伸する方法などで得ることができる。この際の延伸の方法は、公知の如く、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸する方法、幅方向に延伸した後に長手方向に延伸する方法で行えばよく、長手方向の延伸、幅方向の延伸を複数回組み合わせて行なってもよい。本発明によれば、延伸温度及び延伸倍率はいくらであっても良いが、通常のポリエステルフィルムの場合、延伸温度は80℃以上130℃以下であり、延伸倍率は2倍以上5倍以下が好ましい。次いで、この延伸されたフィルムを熱処理する。この熱処理は、延伸温度より高く、融点より低い温度で行うのが一般的である。通常のポリエステルの場合、130℃ないし230℃の範囲で行うのが好ましい。この際、フィルムの熱寸法安定性を付与するために弛緩熱処理を施すことも好ましい。
【0041】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ドライフィルムフォトレジスト用に用いられる。
【0042】
本発明において、フィルムの特性は以下の方法で測定した。
【0043】
(1) 平均粒径:r(μm)
粒子を含有したフィルムの断面を走査型電子顕微鏡SEM(日立製作所製S−2100A)を用いて、倍率2000〜10000倍で観察した。観察箇所を変えて粒子個数100個以上について粒径を測定し、その平均値を平均粒径とした。
【0044】
(2) 粒子濃度
ポリエステルを溶解し不活性粒子は溶解させない溶媒を選択し、不活性粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量にたいする比率(重量%)をもって粒子濃度とした。
【0045】
(3)易滑性(静止摩擦係数μs、動摩擦係数μd)
フィルム同士の摩擦係数は、ASTM−D−1894−63に準じ、静摩擦係数μs、動摩擦係数μdを新東科学(株)製表面性測定機HEIDON−14DRを用いて、サンプル移動速度200mm/min、荷重200g、接触面積63.5mm×63.5mmの条件で測定し、アナライジングレコーダTYPE:HEIDON3655E−99で記録し評価し、以下の基準により易滑性を判定した。○と△が合格であり、×が不合格である。
○:μd=0.7未満。
△:μd=0.7以上〜1.0未満。
×:μd=1.0以上。
【0046】
(4)光線透過率及びヘイズ
フィルム幅方向の中央部から、長手4.0×幅3.5cmの寸法に切り出したものをサンプルとし、光線透過率及びヘイズを、ヘイズメータ(スガ試験機製HGM−2DP(C光用))を用いて測定した。
【0047】
(5)表面粗さ
フィルム幅方向の中央部から、長手4.0×幅3.5cmの寸法に切り出したものをサンプルとし、表面粗さ(中心線平均粗さRa及び最大粗さRt)は、小坂研究所製の3次元粗さ計SE−3AKを用いて測定した。
【0048】
(6)波長365nmにおける透過率及びヘイズ
フィルム幅方向の中央部から、長手4.0×幅3.5cmの寸法に切り出したものをサンプルとし、日立製作所製の分光光度計U−3410を用いて特定波長である365nmにおける受光器側に積分球を用いた場合の全光線透過率と用いない場合の直線透過率を測定した。ヘイズは、これらの差を全光線透過率で除し、100を乗じることにより求めた。
【0049】
(7)レジスト解像度の目視検査
ポリエステルフィルムによるレジストの解像度の目視評価方法は、以下のような手順で行った。
1.片面鏡面研磨した6インチSiウエハー上に、東京応化製のネガレジストPMER N−HC600を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み10μmのレジストを得た。
2.窒素循環の通風オーブンを用いて70℃の温度条件で、約20分間の前熱処理を行った。
3.ポリエステルフィルムをゴム製のローラーを用いて、レジスト上面にラミネートし、その上にクロム金属でパターニングされたレチクルを挟んだ状態でI線ステッパーを用いて露光を行った。
4.レジストからフィルムを剥離し、現像液N−A5が入った容器にレジストを入れ約1分間の現像を行った。その後、現像液から取り出し、水で約1分間の洗浄を行った。
5.現像後に作成されたレジストのL/S(μm)(Line and Space)の状態を走査型電子顕微鏡SEM(日立製作所製S−2100A)を用いて約800〜3000倍率で観察した。レジストの解像度の評価は、以下の基準に従った。○と△が合格であり、×が不合格である。
○:L/S=15/15μmが明確に確認できる。
△:L/S=30/30μmが明確に確認できる。
×:L/S=30/30μmが明確に確認できない。
【0050】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0051】
[実施例1]
公知の方法により平均粒径1.1μmの炭酸カルシウムを1重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット1とした。次に、粒子添加を行わなかったポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット2とした。
【0052】
炭酸カルシウムの粒子濃度が0.06重量%となるように、マスターペレット1をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、粒子を添加をおこなっていないポリエチレンテレフタレートのペレットを180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。この二つのポリマを、それぞれ高精度濾過した後、矩形積層部を備えた2層合流ブロックにて、基層部にポリマB層を、片面積層部にポリマA層がくるように積層し、フィッシュテール型の口金よりシート状にして押出した後、静電印加キャスト法を用いて30℃のキャスティングドラムに巻き付けて冷却固化し、未延伸フィルムを作製した。
【0053】
この未延伸フィルムを長手方向に、85.5℃で3.3倍に延伸し、次いで幅方向に100℃の温度で3倍に延伸した後に、220℃の熱処理温度で熱固定し、幅方向に4%の弛緩処理を施して、厚さ16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは1μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0054】
[実施例2]
実施例1に記載したマスターペレット1とマスターペレット2を用意した。次に、平均粒径0.17μmの珪酸アルミニウムを1重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット3とした。
【0055】
炭酸カルシウムの粒子濃度が0.06重量%となるように、マスターペレット1をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、珪酸アルミニウムの粒子濃度が0.03重量%となるように、マスターペレット3をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは1μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0056】
[実施例3]
実施例1に記載したマスターペレット1およびマスターペレット2を用意した。また、実施例2に記載したマスターペレット3を用意した。
【0057】
炭酸カルシウムの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット1をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、珪酸アルミニウムの粒子濃度が0.03重量%となるように、マスターペレット3をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは2μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0058】
[実施例4]
公知の方法により平均粒径1.2μmの凝集シリカを2重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット4とした。次に、実施例1に記載したマスターペレット2と実施例2に記載したマスターペレット3を用意した。
【0059】
凝集シリカの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット4をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、珪酸アルミニウムの粒子濃度が0.03重量%となるように、マスターペレット3をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは2μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0060】
[実施例5]
平均粒径0.17μmのアルミナを2重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット5とした。また、実施例4に記載したマスターペレット4と実施例1で使用したマスターペレット2を用意した。
【0061】
凝集シリカの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット4をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、アルミナの粒子濃度が0.05重量%となるように、マスターペレット5をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは、3μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0062】
[実施例6]
公知の方法により平均粒径0.6μmの炭酸カルシウムを3重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット1’とした。実施例1で使用したマスターペレット2と実施例5で使用したマスターペレット5を用意した。
【0063】
炭酸カルシウムの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット1’をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)さらに、もう一台の押出機2を用意し、アルミナの粒子濃度が0.05重量%となるように、マスターペレット5をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み15μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは2μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において良好な結果が得られた。
【0064】
[比較例1]
実施例5で使用したマスターペレット4を用意した。また、実施例1に記載したマスターペレット2を用意した。
【0065】
凝集シリカの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット4をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1、2に供給し、280℃で溶融した(ポリマA、B層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは、3μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において同時に満たす良好な結果が得られなかった。
【0066】
[比較例2]
実施例1で使用したマスターペレット1と2、実施例5で使用したマスターペレット5を用意した。
【0067】
炭酸カルシウムの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット1をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、アルミナの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット5をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは4μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において同時に満たす良好な結果が得られなかった。
【0068】
[比較例3]
実施例1で使用したマスターペレット2と実施例2で使用したマスターペレット3を用意した
珪酸アルミニウムの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット3をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1、2に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層、B層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは3μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において同時に満たす良好な結果が得られなかった。
【0069】
[比較例4]
公知の方法により平均粒径0.8μmの架橋ポリスチレンを1重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット6とした。次に、平均粒径0.3μmの架橋ポリスチレンを2重量%含有させたポリエチレンテレフタレートのペレットをマスターペレット7とした。また、実施例1で使用したマスターペレット2を用意した。
【0070】
平均粒径0.8μmの架橋ポリスチレンの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット6をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層)。さらに、もう一台の押出機2を用意し、平均粒径0.3μmの架橋ポリスチレンの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット7をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、押出機に供給して280℃で溶融した(ポリマB層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは、4μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において同時に満たす良好な結果が得られなかった。
【0071】
[比較例5]
実施例1で使用したマスターペレット2と比較例4で使用したマスターペレット7を用意した。
【0072】
平均粒径0.3μmの架橋ポリスチレンの粒子濃度が0.1重量%となるように、マスターペレット7をマスターペレット2を用いて希釈した後、180℃で3時間乾燥し、ベント式二軸混練押出機1、2に供給し、280℃で溶融した(ポリマA層、B層)。以下実施例1と同様の操作を行い、厚み16μmのフィルムを得た。ポリマA層の積層厚みは2μmであった。この評価結果は、表1に示した通りであり、易滑性とレジスト解像度の関係において同時に満たす良好な結果が得られなかった。
【0073】
【表1】
【0074】
【発明の効果】
本発明によれば、光の波長365nmにおける光拡散性を抑えつつ、しわ、バタツキなどの走行性の不良を起こさないレジストの高解像化と易滑性を付与したドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】2層積層構造を示す概略図である。
【符号の説明】
1:易滑A層
2:B層
Claims (5)
- 波長365nmのヘイズが8%以下であり、かつ、少なくとも2層からなる積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層(以下、易滑A層と称することがある。)に含有される不活性粒子の平均粒径r(μm)と該易滑A層の積層厚みt(μm)の関係が下記(1)式を満たすことを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
0.5<t/r≦5 ・・・(1)式 - 易滑A層の表面の中心線平均粗さRa、最大粗さRtが、それぞれ18nm以下、200nm以上であることを特徴とする請求項1に記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
- 易滑A層に隣接する層(以下、B層と称することがある。)に含有される不活性粒子の平均粒径が0.3μ以下であり、かつ粒子濃度が0〜0.08重量%であることを特徴とする請求項1または2に記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
- B層の厚みが、積層ポリエステルフィルムを構成する各層の中で最も厚い層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
- 2層からなる積層ポリエステルフィルムであって、B層の表面をレジスト表面と貼り合わせることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002271270A JP2004106322A (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002271270A JP2004106322A (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004106322A true JP2004106322A (ja) | 2004-04-08 |
Family
ID=32268633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002271270A Pending JP2004106322A (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004106322A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006059534A1 (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Fujifilm Corporation | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
JP2016087854A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | 東レ株式会社 | ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム |
KR101739730B1 (ko) | 2010-06-25 | 2017-05-26 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 드라이필름 포토레지스트 |
JP2018123318A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 東レ株式会社 | 転写材用二軸配向ポリエステルフィルムロール |
JP2019188612A (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-31 | 三菱ケミカル株式会社 | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム |
WO2023157918A1 (ja) * | 2022-02-17 | 2023-08-24 | 東京応化工業株式会社 | 中空構造体の製造方法及び積層体 |
-
2002
- 2002-09-18 JP JP2002271270A patent/JP2004106322A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006059534A1 (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Fujifilm Corporation | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
KR101739730B1 (ko) | 2010-06-25 | 2017-05-26 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 드라이필름 포토레지스트 |
JP2016087854A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | 東レ株式会社 | ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム |
JP2018123318A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 東レ株式会社 | 転写材用二軸配向ポリエステルフィルムロール |
JP7172045B2 (ja) | 2017-01-31 | 2022-11-16 | 東レ株式会社 | 転写材用二軸配向ポリエステルフィルムロール |
JP2019188612A (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-31 | 三菱ケミカル株式会社 | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム |
JP7124409B2 (ja) | 2018-04-18 | 2022-08-24 | 三菱ケミカル株式会社 | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム |
WO2023157918A1 (ja) * | 2022-02-17 | 2023-08-24 | 東京応化工業株式会社 | 中空構造体の製造方法及び積層体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008239743A (ja) | ドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルム | |
JP6432283B2 (ja) | ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム | |
JP7000677B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
JP2009233919A (ja) | 帯電防止性離型用積層ポリエステルフィルム | |
JP5614112B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフィルム | |
JP2002062661A (ja) | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム | |
JP2018065250A (ja) | ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムおよびその製造方法 | |
JP2007211073A (ja) | 離型用ポリエステルフィルム | |
JP7463905B2 (ja) | ドライフィルムレジスト用二軸配向ポリエステルフィルム | |
JP2004106322A (ja) | ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム | |
JP4186515B2 (ja) | ドライフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム | |
JP4036068B2 (ja) | ドライフィルムフォトレジスト用フィルム | |
JPWO2020105471A1 (ja) | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | |
JP4610224B2 (ja) | キャスト法によるプラスチックフィルム製造用支持体フィルム | |
JP2000275860A (ja) | フォトレジスト用二軸配向ポリエステルフィルム | |
JP5527381B2 (ja) | 離型用ポリエステルフィルム | |
JP4285077B2 (ja) | ドライフィルムフォトレジスト用積層ポリエステルフィルム | |
JP7000676B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
JP2005077646A (ja) | ドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルム | |
JP4495841B2 (ja) | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム | |
JP2022052031A (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム | |
JP7283040B2 (ja) | 熱可塑性樹脂フィルム | |
JP2004195696A (ja) | セラミックシート製造用離型フィルムロール、セラミックシート製造用離型フィルム積層体ロール、及びセラミックシートの製造方法 | |
JP2004115566A (ja) | ポリエステルフィルム | |
JP2007211072A (ja) | 離型用ポリエステルフィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070412 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080603 |