JP2004093827A - 集光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】集光装置は、光源10および20と合光素子30を備えている。光源10、20は、それぞれ半導体レーザアレイスタック12、22と、コリメートレンズ16、26と、光路変換素子18、28とを備えている。合光素子30は、半導体レーザアレイスタック12からの光束と半導体レーザアレイスタック22とからの光束を合成する。したがって、高い光密度のレーザ光束が生成される。合光素子30の光透過部32および光反射部34が半導体レーザアレイ12、22の積層方向に沿って細長い帯状であれば、活性層14、24が位置ズレを有していても、活性層14、24から出射した光束が合光素子30によって適切に受光される。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高い光密度のレーザ光束を生成する集光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
高出力のレーザ素子として、半導体レーザアレイスタックが知られている。特開平9−181376号公報および特開2002−9385号公報には、半導体レーザアレイスタックの一例が記載されている。図2は、半導体レーザアレイスタックの一例を示す斜視図である。図3は、半導体レーザアレイの前端面(光出射面)を示す図である。図2に示されるように、半導体レーザアレイスタック12は、複数の半導体レーザアレイ11と複数のヒートシンク13とが交互に配置された構造を有している。ヒートシンク13は、半導体レーザアレイ11を冷却する。図3に示されるように、半導体レーザアレイ11では、複数の活性層14が水平方向に沿って配置されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
半導体レーザアレイスタック12では、半導体レーザアレイ11が垂直方向に積層される結果、複数の活性層14が行列状に配置される。各活性層14は、レーザ光を放出する。これらの活性層14から出射するレーザ光は、一つの光束を形成する。活性層14を高い密度で配置することにより、高い光密度の光束が得られる。しかし、近年では、光密度のさらなる向上が要望されている。
【0004】
そこで、この発明は、極めて高い光密度のレーザ光束を生成できる集光装置の提供を課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る集光装置は、第1の光源と、第2の光源と、第1の合光素子とを備えている。第1の光源は、第1の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが第1の方向と垂直な方向に複数個積層された第1の半導体レーザアレイスタックと、複数の活性層から出射した複数の光束を第1の方向と垂直な面内で屈折させる第1のコリメートレンズと、第1のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第1の光路変換素子とを備えている。第2の光源は、第2の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが第2の方向と垂直な方向に複数個積層された第2の半導体レーザアレイスタックと、複数の活性層から出射した複数の光束を第2の方向と垂直な面内で屈折させる第2のコリメートレンズと、第2のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第2の光路変換素子とを備えている。ここで、光束の横断面とは、その光束の中心軸に実質的に垂直な断面をいう。第1の合光素子は、第1の光源からの光束と第2の光源からの光束とを合成する。第1の合光素子は、第1の光路変換素子から出射した光束を受光する光透過部と、第2の光路変換素子から出射した光束を受光する光反射部を有している。第1の合光素子は、光透過部を透過した光束と光反射部で反射した光束とを合成する。
【0006】
第1の半導体レーザアレイスタックからの光束と第2の半導体レーザアレイスタックからの光束は、合光素子を用いて合成される。したがって、高い光密度のレーザ光束が生成される。半導体レーザアレイスタックの活性層から出射した光束は、コリメートレンズの屈折作用によって、活性層の配列方向と垂直な面内での光束の拡がりが抑えられる。光路変換素子によって光束の横断面がほぼ90°回転させられると、活性層の配列方向において光束の拡がりが抑えられる。これにより、光束の横断面は、半導体レーザアレイの積層方向に長く活性層の配列方向に短い形状となる。このため、合光素子の光透過部および光反射部が半導体レーザアレイの積層方向に沿って細長い帯状であれば、活性層が位置ズレを有していても、活性層から出射した光束が合光素子によって適切に受光される。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図示の便宜上、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致しない。
【0008】
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る集光装置を示す概略斜視図である。本実施形態に係る集光装置は、第1の光源10、第2の光源20および合光素子30から構成されている。
【0009】
第1の光源10は、一つの半導体レーザアレイスタック12と、複数のコリメートレンズ16と、複数の光路変換素子18とから構成されている。これらは相互に光学的に結合されている。
【0010】
図2は、半導体レーザアレイスタックの斜視図である。半導体レーザアレイスタック12は、図2に示すように、複数の半導体レーザアレイ11と複数のヒートシンク13とがz軸方向に沿って交互に配置された構造を有している。図3は、半導体レーザアレイ11の前端面(光出射面)を示す図である。図4は、活性層14の前端面を示す図である。各半導体レーザアレイ11は、複数の活性層14を有している。半導体レーザアレイ11は、幅1cmの間に活性層14が、500μmの間隔でy軸方向に一列に配列された構造を有している。その活性層14の断面は、100μmの幅、1μmの厚さを有している。図5は、半導体レーザアレイから出射した光束の拡がり角を示す図である。この活性層14から出射する光束の拡がり角は、図5に示されるように、活性層14の厚み方向、すなわち垂直方向(z軸方向)で30°であり、活性層14の幅方向、すなわち水平方向(y軸方向)で8°である。
【0011】
ヒートシンク13は、半導体レーザアレイ11を冷却する。ヒートシンク13は、銅製の平板状部材を組み合わせて形成した冷却水路を有している。冷却水は、この冷却水路内を循環する。
【0012】
図6は、コリメートレンズ16の一例としてのシリンドリカルレンズを示す斜視図である。図6に示すように、x軸方向の長さが0.2mmであり、y軸方向の長さが12mmであり、z軸方向の長さが0.6mmである。シリンドリカルレンズ16は、y軸方向に沿って細長い形状をしている。シリンドリカルレンズ16の前後のレンズ面は、y軸方向に沿った母線をもつ円柱面である。
【0013】
シリンドリカルレンズ16は、母線方向を含む面内では屈折作用を有しないが、母線に垂直な面内では屈折作用を有している。上述のように、活性層14から出射する光束の垂直方向の拡がり角が大きいので、集光効率を高めるためには、屈折作用を利用して光束の拡がりを抑える必要がある。そこで、相互に対向するシリンドリカルレンズ16と半導体レーザアレイ11は、シリンドリカルレンズ16の母線と半導体レーザアレイ11の垂直方向(z軸方向)とが直交するように設置する。このように設置すると、活性層14から出射した光束をシリンドリカルレンズ16の母線に垂直な面内で屈折させ、平行化することができる。すなわち、コリメートレンズ16は、各活性層14から出射した光束の垂直方向(z軸方向)の成分を屈折させ、平行化する。また、この平行化を効率良く行うために、シリンドリカルレンズ16を活性層14と近接させて配置する。このため、コリメートレンズ16は、半導体レーザアレイ11と1対1に対応している。すなわち、コリメートレンズ16の設置数は、半導体レーザアレイ11の数に等しい。各コリメートレンズ16は、それぞれ一つの半導体レーザアレイ11と対向するように配置されている。したがって、一つの半導体レーザアレイ11の活性層14から出射する光束は、すべて一つのコリメートレンズ16に入射する。
【0014】
図7は、光路変換素子18の一例を示す斜視図である。光路変換素子18は、ガラス、石英等の透光性材料からなる。x軸方向の長さは1.5mm、y軸方向の長さは12mm、z軸方向の長さは1.5mmである。このように、光路変換素子18は、y軸方向に沿って細長い形状をしている。
【0015】
光路変換素子18は、コリメートレンズ16で平行化された光束の横断面をほぼ90°回転させる。このため、光路変換素子18は、シリンドリカルレンズ16と1対1に対応させて配置する。すなわち、各光路変換素子18は、それぞれ一つのコリメートレンズ16と対向するよう配置される。したがって、一つのシリンドリカルレンズ16から出射するすべての光束は、対応する一つの光路変換素子18に入射する。
【0016】
光路変換素子18は、互いに対向する入射面180と出射面181とを有している。この入射面180は、並列に配置された幅0.5mmの複数の円柱面を有している。これらの円柱面は、y軸方向に対して45°の角度で延びている。これらの円柱面の数は、半導体レーザアレイ11の活性層14の数に等しい。すなわち、これらの円柱面は活性層14と1対1に対応している。反射面181も同様に、並列に配置された幅0.5mmの複数の円柱面を有している。これらの円柱面も、y軸方向に対して45°の角度で延びている。これらの円柱面も、活性層14と1対1に対応している。したがって、一つの半導体レーザアレイ11の各活性層14から出射する光束は、すべて対応する一つの光路変換素子18に入射する。
【0017】
なお、光路変換素子の他の例は、特許第3071360号公報に記載されている。
【0018】
第2の光源20は、第1の光源10と同様に、一つの半導体レーザアレイスタック22と、複数のシリンドリカルレンズ26と、複数の光路変換素子28とから構成されている。これらは、相互に光学的に結合されている。半導体レーザアレイスタック22、シリンドリカルレンズ26および光路変換素子28の構成は、それぞれ半導体レーザアレイスタック12、シリンドリカルレンズ16および光路変換素子18と同じであるため、詳細な説明は省略する。但し、第2の光源20の向きは、第1の光源10の向きと異なっている。具体的には、半導体レーザアレイスタック12を構成する半導体レーザアレイ11は、y軸方向に沿って並列に配列された複数の活性層14を有している。これに対し、半導体レーザアレイスタック22を構成する半導体レーザアレイ21は、x軸方向に沿って並列に配列された複数の活性層24を有している。シリンドリカルレンズ26は、半導体レーザアレイ21の活性層24に対応してx軸方向に沿って配置されている。光路変換素子28も同様に、半導体レーザアレイ21の活性層24に対応してx軸方向に沿って配置されている。
【0019】
図8は、合光素子30の平面図である。合光素子30は、複数の光透過部32と複数の光反射部34とが交互に並列配置された平板からなる。光透過部32および光反射部34の各々は、同一寸法の帯状をしている。光透過部32および光反射部34は、半導体レーザアレイ11、21の積層方向(垂直方向)に沿って細長い長方形である。合光素子30は、透過性物質を主材としたプレートからなる。各光透過部32の表面には、光透過性薄膜が形成されている。各光反射部34の表面には、光反射性薄膜が形成されている。各光透過部32は、光路変換素子18から出射した光束を受光する。一方、各光反射部34は、光路変換素子28から出射した光束を受光する。
【0020】
合光素子30は、第1の光源10の活性層14から出射する光束の中心軸15に対して、45°の角度で傾斜している。合光素子30は、第2の光源20の活性層24から出射する光束の中心軸15に対しても同様に、45°の角度で傾斜している。合光素子30の表面は、第1の光源10と対向しており、合光素子30の裏面は、第2の光源20と対向している。
【0021】
一つの光透過部32は、第1の光源10の半導体レーザアレイスタック12の行列状に配置された活性層14の一つの列に対応している。各列の活性層14から出射するすべての光束は、対応する一つの光透過部32に入射する。一方、一つの光反射部34は、第2の光源20の半導体レーザアレイスタック22の行列状に配置された活性層24の一つの列に対応している。各列の活性層24から出射するすべての光束は、対応する一つの光反射部34に入射する。このため、第1の光源10の活性層14から出射した光束は、すべて合光素子30の光透過部32を透過する。一方、第2の光源20の活性層24から出射した光束は、すべて合光素子30の光反射部34によって反射される。その結果、それぞれの光束は、合光素子30の裏面側で同一方向に進行する。これらの光束は、一つの合成光61を形成する(図1)。
【0022】
次に、図9および図10を参照しながら、本実施形態に係る集光装置の作用について説明する。ここで、図9(a)は、活性層14、24で発生した光の出射時の横断面(出射パターン)を示している。図9(b)は、活性層14、24から出射した光束がシリンドリカルレンズ16、26を通過した後の当該光束の横断面を示している。図9(c)は、シリンドリカルレンズ16、26を通過した光束が光路変換素子18、28を通過した後の当該光束の横断面を示している。
図10(a)は、第1の光源10から出射した光束が合光素子30の光透過部32を透過する時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図10(b)は、第2の光源20から出射した光束が合光素子30の光透過部34で反射される時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図10(c)は、第1の光源10から出射した光束と第2の光源20から出射した光束との合成光61の中心軸15に対して垂直な横断面図である。
【0023】
図4に示されるように、活性層14、24の横断面の垂直方向の長さは、水平方向の長さの100分の1である。したがって、活性層14、24から出射する際、光束の横断面は水平方向に細長い(図9(a))。活性層14,24から出射した光束がシリンドリカルレンズ16、26に到達するまでに多少拡散しても、その光束の横断面の垂直方向の長さは水平方向の長さの10分の1以下に抑えることができる。すなわち、シリンドリカルレンズ16、26に入射する光束の横断面も、水平方向に細長い形状を有している。
【0024】
この光束がシリンドリカルレンズ16、26を透過すると、シリンドリカルレンズ16、26の母線方向と垂直な面内で屈折される。この結果、光束の垂直方向成分が平行化される(図9(b))。一方、光束の水平方向成分は、屈折作用を受けないため、水平方向の拡がり角に変化はない。
【0025】
活性層14から出射した光束は、シリンドリカルレンズ16を透過した後、光路変換素子18に入射する。光路変換素子18は、その光束の横断面を光束の中心軸15のまわりにほぼ90°回転させる(図9(c))。これにより、垂直方向で平行化された光束は、水平方向で平行化された光束へ変換される。これにより、光束の横断面は、垂直方向に長く水平方向に短い形状となる。
【0026】
活性層24から出射した光束も第1の光源と同様に、シリンドリカルレンズ26を透過すると光束の垂直方向成分が平行化される。この光束は、光路変換素子28を透過すると、水平方向で平行化された光束へ変換される。この結果、第2の光源20においても、光束は水平方向で拡がらなくなる。光路変換素子18と同様に、光路変換素子28から出射する光束の横断面も垂直方向に長く水平方向に短い形状となる。
【0027】
光路変換素子18および28から出射する光束は、合光素子30の光透過部32および光反射部34にそれぞれ向かう。光透過部32および光反射部34は、それぞれ垂直方向に細長い形状を有している。各活性層14、24から光透過部32または光反射部34へ向かう光束の幅は、光透過部32および光反射部34のそれぞれの幅よりも十分に狭い。このため、各活性層14、24から出射した光束は、合光素子30の光透過部32または光反射部34の各幅の範囲内で受光される。半導体レーザアレイスタック12、22では、活性層14、24が水平方向および垂直方向に沿って行列状に配列されている。各列の活性層14から出射した光束は、対応する各光透過部32を透過する(図10(a))。一方、各列の活性層24から出射した光束は、対応する各光反射部34で反射される(図10(b))。各光透過部32を透過した光束と各光反射部34によって反射された光束は、一つの合成光61を形成する。合成光61の光密度は、第1の光源10から出射する光束の光密度と第2の光源20から出射する光束の光密度とを加算したものとなる(図10(c))。半導体レーザアレイスタック12、22からの高い光密度の光束が合成されるので、極めて高い光密度の光束を得ることができる。
【0028】
上記の説明では、すべての活性層14、24が所定の位置に配置されているものと想定している。しかし、実際には、半導体レーザアレイスタック12,22の組み立てにおいて、半導体レーザアレイ11、21を積層する際に、活性層14、24が所定の位置からずれることがある。本実施形態は、このような場合でも光密度を損なわずに合成光61を形成できる。以下では、この点について説明する。
【0029】
半導体レーザアレイ11、21は、半導体工程で精密に製造されるので、個々の半導体レーザアレイ11、21において活性層14、24の水平方向の間隔の誤差は非常に小さい。しかし、半導体レーザアレイスタック12,22の組み立ては機械的な工程によって行われるので、半導体レーザアレイ11、21の積層間隔が不均一となる可能性がある。この場合、活性層14,24の位置が、所定の位置から垂直方向にずれることになる。この位置ズレは、通常50μm程度である。
【0030】
以下では、半導体レーザアレイスタック22において、垂直方向の位置ズレが生じた場合における本実施形態の集光装置の作用を説明する。なお、半導体レーザアレイスタック12は位置ズレを有していないものとする。図11(a)は、第1の光源10から出射した光束が合光素子30の光透過部32を透過する時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図11(b)は、第2の光源20から出射した光束が合光素子30の光透過部34で反射される時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図11(c)は、第1の光源10から出射した光束と第2の光源20から出射した光束との合成光61の中心軸15に対して垂直な横断面図である。半導体レーザアレイスタック22では、2番目に積層した半導体レーザアレイ21が所定の位置より垂直方向にずれている。このため、図11(b)に示されるように、2段目以上の光束が全体的に垂直方向にずれている。しかし、光反射部34が垂直方向に細長い形状を有しているので、このような位置ズレがあっても、光束は光反射部34に入射することができる。この結果、図11(c)に示されるように、第1の光源10からの光束と第2の光源20からの光束を適切に合成でき、高い光密度を得ることができる。
【0031】
上記の説明は、活性層が垂直方向の位置ズレを有していることを想定している。実際、ほとんどの場合、活性層の位置ズレは垂直方向に限られている。しかし、半導体レーザアレイスタック12、22の組み立ての際に、活性層14、24が所定の位置から水平方向にわずかにずれる可能性もある。
【0032】
以下では、半導体レーザアレイスタック12が水平方向の位置ズレを生じた場合における本実施形態の集光装置の作用を説明する。なお、半導体レーザアレイスタック22は位置ズレを有していないものとする。図12(a)は、第1の光源10から出射した光束が合光素子30の光透過部32を透過する時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図12(b)は、第2の光源20から出射した光束が合光素子30の光透過部34で反射される時の当該光束の中心軸15に対して垂直な横断面図である。図12(c)は、第1の光源10から出射した光束と第2の光源20から出射した光束との合成光61の中心軸15に対して垂直な横断面図である。半導体レーザアレイスタック12では、2番目に積層した半導体レーザアレイ11が水平方向の位置ズレを有している。このため、図12(a)に示されるように、2段目の光束は全体的に右にずれている。しかし、このような位置ズレがあっても、光束は光透過部32に入射することができる。活性層14から光透過部32に入射する光束の横断面は、光路変換素子18の作用により、垂直方向に長く水平方向に短い形状となっている。この光束の幅は、光透過部32の幅よりも極めて狭い。このため、活性層14が水平方向に多少の位置ズレを有していても、光透過部32は活性層14からの光束を受光することができる。この結果、図12(c)に示されるように、第1の光源10からの光束と第2の光源20からの光束を適切に合成できる。
【0033】
以上、詳細に説明したように、本実施形態に係る集光装置は、2つ半導体レーザアレイスタック12、22からの光束を合光素子30で合成するので、極めて高い光密度のレーザ光束を生成できる。合光素子30の光透過部32と光反射部34とは垂直方向に細長い形状を有しているので、活性層14、24が垂直方向の位置ズレを有していても適切に光束を合成でき、高い光密度を得ることができる。
【0034】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る集光装置について説明する。図13は、本実施形態に係る集光装置の平面図である。第1の実施形態の集光装置は、2つの光源と1枚の合光素子とから構成されているのに対し、本実施形態の集光装置は、3つの光源と2枚の合光素子とから構成されている。第1の実施形態の集光装置は、2つの光源から出射した光束を合成するのに対し、本実施形態の集光装置は、3つの光源から出射した光束を合成する。
【0035】
本実施形態に係る集光装置は、第1の光源10、第2の光源20、第3の光源40、第1の合光素子30および第2の合光素子50から構成されている。第1の光源10、第2の光源20および第1の合光素子30の構成および配置は、第1実施形態に関して説明した通りである。
【0036】
第3の光源40は、第1の光源10および第2の光源20と同一の構成を有している。すなわち、第3の光源40は、一つの半導体レーザアレイスタック42と、複数のコリメートレンズ46と、複数の光路変換素子48とから構成されている。なお、半導体レーザアレイスタック42、コリメートレンズ46および光路変換素子48の構成は、それぞれ半導体レーザアレイスタック12,22、コリメートレンズ16,26および光路変換素子18、28と同じである。これらは相互に光学的に結合されている。半導体レーザアレイスタック42は、図2に示すように半導体レーザアレイ11とヒートシンク13とをz軸方向に沿って交互に配置させた構造を有している。半導体レーザアレイ11は、複数の活性層44を有している。ヒートシンク13は、半導体レーザーアレイ11を冷却する。
【0037】
コリメートレンズ46は、各活性層44から出射した光束の垂直方向の成分を屈折させ、平行化する。コリメートレンズ46は、半導体レーザアレイ11から出射した光束を効率良く屈折させるため、半導体レーザアレイ11と1対1に対応している。コリメートレンズ46の設置数は、半導体レーザアレイ11の数に等しい。各コリメートレンズ46は、それぞれ一つの半導体レーザアレイ11と対向するように設置されている。したがって、一つの半導体レーザアレイ11の活性層44から出射する光束は、すべて一つのコリメートレンズ46に入射する。
【0038】
光路変換素子48は、コリメートレンズ46によって平行化された光束の横断面をほぼ90°回転させる。光路変換素子48も、半導体レーザアレイ11から出射した光束の光路を効率良く変換するため、半導体レーザアレイ11と1対1に対応している。すなわち、光路変換素子48の設置数も半導体レーザアレイ11の数に等しい。各光路変換素子48は、それぞれ一つのコリメートレンズ46と対向するように設置されている。したがって、一つのシリンドリカルレンズ46から出射するすべての光束は、対応する一つの光路変換素子48に入射する。
光路変換素子48は、互いに対向する入射面180と出射面181とを有している。入射面180と出射面181とは、それぞれ複数の円柱面を有している。これら円柱面の数は、半導体レーザアレイ11の活性層44の数に等しい。すなわち、これら円柱面は活性層44と1対1に対応している。したがって、一つの半導体レーザアレイ11の各活性層44から出射する光束は、すべて対応する一つの光路変換素子48に入射する。
【0039】
第3の光源40の向きは、第2の光源20の向きと同じであり、第1の光源10の向きとは異なっている。第1の光源10の半導体レーザアレイスタック12を構成する半導体レーザアレイ11は、y軸方向に沿って並列に配列された複数の活性層14を有しているのに対し、第2および第3の光源20、40の半導体レーザアレイスタック22、42を構成する半導体レーザアレイ11は、x軸方向に沿って並列に配列された複数の活性層24、44を有している。このため、シリンドリカルレンズ46は、各半導体レーザアレイ11の活性層44に対応してx軸方向に沿って配置されている。光路変換素子48も同様に、x軸方向に沿って配置されている。
【0040】
第1実施形態で説明したように、第1の光源10から出射した光束は、第1の合光素子30の各光透過部32を透過する。一方、第2の光源20から出射した光束は、第1の合光素子30の各光反射部34によって反射される。各光源10、20から出射した光束は合光素子30の対応する各光透過部32または各光反射部34で受光される。その結果、それぞれの光束は、第1の合光素子30の裏面側で同一方向に進行する。これらの光束は、一つの合成光61となる(図13)。
【0041】
第2の合光素子50は、第1の合光素子30と同一の構成を有している。すなわち、第2の合光素子50も、図8に示すような複数の光透過部と複数の光反射部とが交互に並列配置された平板からなる。光透過部および光反射部は、半導体レーザアレイの積層方向(垂直方向)に沿って細長い長方形である。第2の合光素子50の各光透過部は、第1の合光素子30から出射した合成光61を受光する。一方、第2の合光素子50の光反射部は、光路変換素子48から出射した光束を受光する。第2の合光素子50は、合成光61の中心軸に対して、45°の角度で傾斜している。第2の合光素子50は、第3の光源40の活性層44から出射する光束の中心軸に対しても同様に、45°の角度で傾斜している。第2の合光素子50の表面は、第1の合光素子30と対向しており、第2の合光素子50の裏面は、第3の光源40と対向している。第2の合光素子50の一つの光反射部は、第3の光源40の行列状に配置された活性層44の一つの列に対応している。各列の活性層44から出射するすべて光束は、対応する一つの光反射部に入射する。
【0042】
合成光61は、第2の合光素子50の光透過部を透過する。一方、第3の光源40から出射した光束は、第2の合光素子50の対応する各光反射部によって反射される。その結果、それぞれの光束は、第2の合光素子50の裏側で同一方向に進行する。これらの光束は、一つの合成光65を形成する(図13)。
【0043】
次に、本実施形態に係る集光装置の作用効果について説明する。図14は、3つの光源10、20、40から出射する光束が、2枚の合光素子30、50によって一つの合成光65が形成される様子を示す図である。図14(a)は、第1の光源10から出射した光束が第1の合光素子30の各光透過部32を通過する時の当該光束の中心軸に対して垂直な横断面図である。図14(b)は、第2の光源20から出射した光束が第1の合光素子30の各光反射部34で反射される時の当該光束の中心軸に対して垂直な横断面図である。図14(c)は、第3の光源40から出射した光束が第2の合光素子50の各光反射部で反射される時の当該光束の中心軸に対して垂直な横断面図である。図14(d)は、第1の光源10ら出射した光束と第2の光源20から出射した光束との合成光61の中心軸に対して垂直な横断面図である。図14(e)は、合成光61と第3の光源40から出射した光束との合成光65の中心軸に対して垂直な横断面図である。
【0044】
第1の実施形態で説明したように、光透過部32を透過した光束(図14(a))と光反射部34によって反射された光束(図14(b))は、一つの合成光61を形成する(図14(d))。合成光61は、第2の合光素子50の各光透過部を透過する。
【0045】
一方、第3の光源40の光路変換素子48から出射した光束は、第2の合光素子50の各光反射部によって反射される。半導体レーザアレイスタック42の行列状に配置された各活性層44の各列から出射した光束は、対応する各光反射部によって反射される(図14(c))。光透過部を透過した合成光61と光反射部によって反射された光束は、一つの合成光65を形成する。合成光65の光密度は、上述の第1の光源10から出射する光束の光密度と第2の光源20から出射する光束の光密度とを加算したものに、さらに第3の光源40から出射する光束の光密度を加算したものとなる(図14(e))。したがって、半導体レーザアレイスタック12、22および42からの高い光密度の光束が合成されるので、光密度を極めて高くすることができる。
【0046】
また、半導体レーザアレイスタック12、22または44が位置ズレを生じている場合がある。しかし、第1の実施形態と同様に、第2の合光素子50も垂直方向に細長い光透過部と光反射部とを有している。このため、このような場合でも光密度を損なわずに合成光65を形成できる。したがって、3つの光源からの光束を合光素子で合成するので、極めて高い光密度のレーザ光束を生成できる。
【0047】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明した。しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【0048】
例えば、上記実施形態では、コリメートレンズの一例としてシリンドリカルレンズを使用する。この代わりに、ガラスファイバレンズ、セルフォックレンズ等を使用しても良い。また、本発明は、4つ以上の光源を用いる集光装置であってもよい。
【0049】
上記実施形態の合光素子30、50では、帯状の平面形状を有する光透過部32と光反射部34とが交互に配置されている。このような合光素子の代わりに、図15に示されるような合光素子70を用いてもよい。合光素子70は、行列状に配置された長方形の光透過部72と、光透過部72の間に配置された格子状の光反射部74とを有している。なお、光反射部74の代わりに、光透過部72を格子の形状とし、光反射部74を長方形としてもよい。
【0050】
上記第2の実施形態では、合成光61に第2の合光素子50を透過させ、第3の光源40から出射した光束を第2の合光素子50で反射して合成光65を形成している。この代わりに、第3の光源40から出射した光束に第2の合光素子50を透過させ、合成光61を第2の合光素子50で反射して合成光65を形成しても良い。この場合、第2の合光素子50の光透過部は、第3の光路変換素子48から出射した光束を受光する。一方、第2の合光素子50の光反射部は、合成光61を受光する。
【0051】
上記第1の実施形態では、第1の光源10および第2の光源20のうち一つの半導体レーザアレイスタックのみが位置ズレを有している。しかし、2以上の半導体レーザアレイスタックが垂直方向および/または水平方向の位置ズレを生じた場合であっても、合成光61を形成できる。
【0052】
【発明の効果】
本発明の集光装置は、複数の半導体レーザアレイスタックから出射した光束を合光素子により適切に合成するので、極めて高い光密度のレーザ光束を生成することができる。したがって、本発明の集光装置は、高い光密度を要する固体レーザ励起、印刷、材料加工または医療の分野に好適に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る集光装置を示す概略斜視図である。
【図2】第1の実施形態に係る集光装置で用いる半導体レーザアレイスタックの斜視図である。
【図3】第1の実施形態に係る集光装置で用いる半導体レーザアレイの前端面(光出射面)を示す図である。
【図4】半導体レーザアレイの活性層の前端面を示す図である。
【図5】半導体レーザアレイから出射した光束の拡がり角を示す図である。
【図6】第1の実施形態に係る集光装置で用いるシリンドリカルレンズの斜視図である。
【図7】第1の実施形態に係る集光装置で用いる光路変換素子の斜視図である。
【図8】第1の実施形態に係る集光装置で用いる合光素子の平面図である。
【図9】第1の実施形態に係る集光装置での光束の横断面を示す図である。
【図10】第1の実施形態に係る集光装置によって光束が合成される様子を表す図である。
【図11】第1の実施形態に係る集光装置において活性層が垂直方向の位置ズレを有する場合に光束が合成される様子を表す図である。
【図12】第1の実施形態に係る集光装置において活性層が水平方向の位置ズレを有する場合に光束が合成される様子を表す図である。
【図13】第2の実施形態に係る集光装置を示す概略斜視図である。
【図14】第2の実施形態に係る集光装置によって光束が合成される様子を表す図である。
【図15】本発明の集光装置に使用される合光素子の他の例を示す図である。
【符号の説明】
10…第1の光源、12…第1の半導体レーザアレイスタック、14、24…活性層、16…第1のシリンドリカルレンズ、18…第1の光路変換素子、20…第2の光源、22…第2の半導体レーザアレイスタック、26…第2のシリンドリカルレンズ、28…第2の光路変換素子、30…第1の合光素子、32…光透過部、34…光反射部、61…合成光。
Claims (7)
- 第1の光源と、第2の光源と、前記第1の光源からの光束と前記第2の光源からの光束とを合成する第1の合光素子と、を備える集光装置であって、
前記第1の光源は、第1の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが前記第1の方向と垂直な方向に複数個積層された第1の半導体レーザアレイスタックと、前記複数の活性層から出射した複数の光束を前記第1の方向と垂直な面内で屈折させる第1のコリメートレンズと、前記第1のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第1の光路変換素子とを備えており、
前記第2の光源は、第2の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが前記第2の方向と垂直な方向に複数個積層された第2の半導体レーザアレイスタックと、前記複数の活性層から出射した複数の光束を前記第2の方向と垂直な面内で屈折させる第2のコリメートレンズと、前記第2のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第2の光路変換素子とを備えており、
前記第1の合光素子は、前記第1の光路変換素子から出射した光束を受光する光透過部を有しており、
前記第1の合光素子は、前記第2の光路変換素子から出射した光束を受光する光反射部を有しており、
前記第1の合光素子は、前記光透過部を透過した光束と前記光反射部で反射された光束とを合成する
集光装置。 - 前記第1の合光素子の前記光透過部および前記光反射部は、ともに前記半導体レーザアレイの積層方向に沿って細長い帯状であり、
前記第1の合光素子は、前記光透過部と前記光反射部とが交互に配置された平板である
請求項1に記載の集光装置。 - 前記第1の合光素子は、第1および第2の光源の活性層からそれぞれ出射する光束の中心軸に対して45度の角度で傾斜しており、
前記第1の合光素子の表面は、前記第1の光源と対向しており、
前記第1の合光素子の裏面は、前記第2の光源と対向している
請求項2に記載の集光装置。 - 第3の光源と、第2の合光素子と、をさらに備える請求項1に記載の集光装置であって、
前記第3の光源は、第3の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが前記第3の方向と垂直な方向に複数個積層された第3の半導体レーザアレイスタックと、前記複数の活性層から出射した複数の光束を前記第3の方向と垂直な面内で屈折させる第3のコリメートレンズと、前記第3のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第3の光路変換素子とを備えており、
前記第2の合光素子は、前記第1の合光素子によって合成された光束を受光する光透過部を有しており、
前記第2の合光素子は、前記第3の光路変換素子から出射した光束を受光する光反射部を有しており、
前記第2の合光素子は、前記光透過部を透過した光束と前記光反射部で反射された光束とを合成する
請求項1に記載の集光装置。 - 第3の光源と、第2の合光素子と、をさらに備える請求項1に記載の集光装置であって、
前記第3の光源は、第3の方向に沿って並列に配列された複数の活性層を有する半導体レーザアレイが前記第3の方向と垂直な方向に複数個積層された第3の半導体レーザアレイスタックと、前記複数の活性層から出射した複数の光束を前記第3の方向と垂直な面内で屈折させる第3のコリメートレンズと、前記第3のコリメートレンズによって屈折された光束を受光し、その光束の横断面をほぼ90°回転させる第3の光路変換素子とを備えており、
前記第2の合光素子は、前記第3の光路変換素子から出射した光束を受光する光透過部を有しており、
前記第2の合光素子は、前記第1の合光素子によって合成された光束を受光する光反射部を有しており、
前記第2の合光素子は、前記光透過部を透過した光束と前記光反射部で反射された光束とを合成する
請求項1に記載の集光装置。 - 前記第2の合光素子の前記光透過部および前記光反射部は、ともに前記半導体レーザアレイの積層方向に沿って細長い帯状であり、
前記第2の合光素子は、前記光透過部と前記光反射部とが交互に配置された平板である
請求項4又は5に記載の集光装置。 - 前記第2の合光素子は、第1の合光素子によって合成される光束および第3の光源の活性層から出射する光束の中心軸に対して45度の角度で傾斜しており、
前記第2の合光素子の表面は、前記第1の合光素子と対向しており、
前記第2の合光素子の裏面は、前記第3の光源と対向している
請求項6に記載の集光装置。
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