JP2004063454A - 蒸着装置 - Google Patents

Abstract

【課題】大面積基板を用いた多面取りに適し、且つ、ＥＬ材料の利用効率が高く、膜の均一性にすぐれた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板保持手段１２上に基板１３および蒸着マスク１４を載せ、蒸着源ホルダ１７と被蒸着物（基板１３）との間隔を３０ｃｍ以下、好ましくは２０ｃｍ以下、さらに好ましくは５〜１５ｃｍと狭め、さらに蒸着の際、蒸着源ホルダ１７を絶縁物（バンク、隔壁とも呼ばれる）１０に合わせてＸ方向またはＹ方向に移動させ、且つ、シャッター１５を開閉することによって成膜を行う。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は蒸着により成膜可能な材料（以下、蒸着材料という）の成膜に用いられる成膜装置および該成膜装置を用いた有機発光素子で代表される発光装置の作製方法に関する。特に、基板に対向して設けられた複数の蒸着源から蒸着材料を蒸発させて成膜を行う蒸着方法及び蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、自発光型の発光素子としてＥＬ素子を有した発光装置の研究が活発化している。この発光装置は有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ　ＥＬ　Ｄｉｓｐｌａｙ）又は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）とも呼ばれている。これらの発光装置は、動画表示に適した速い応答速度、低電圧、低消費電力駆動などの特徴を有しているため、新世代の携帯電話や携帯情報端末（ＰＤＡ）をはじめ、次世代ディスプレイとして大きく注目されている。
【０００３】
このＥＬ素子は、有機化合物を含む層（以下、ＥＬ層と記す）が陽極と、陰極との間に挟まれた構造を有し、陽極と陰極とに電場を加えることにより、ＥＬ層からルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）が発光する。またＥＬ素子からの発光は、一重項励起状態から基底状態に戻る際の発光（蛍光）と三重項励起状態から基底状態に戻る際の発光（リン光）とがある。
【０００４】
このようなＥＬ素子をマトリクス状に配置して形成された発光装置には、パッシブマトリクス駆動（単純マトリクス型）とアクティブマトリクス駆動（アクティブマトリクス型）といった駆動方法を用いることが可能である。しかし、画素密度が増えた場合には、画素（又は１ドット）毎にスイッチが設けられているアクティブマトリクス型の方が低電圧駆動できるので有利であると考えられている。
【０００５】
また、上記のＥＬ層は「正孔輸送層／発光層／電子輸送層」に代表される積層構造を有している。また、ＥＬ層を形成するＥＬ材料は低分子系（モノマー系）材料と高分子系（ポリマー系）材料に大別され、低分子系材料は、図１４に示すような蒸着装置を用いて成膜される。
【０００６】
図１４に示す蒸着装置は基板ホルダ１４０３に基板を設置し、ＥＬ材料、つまり蒸着材料を封入したルツボ１４０１と、昇華するＥＬ材料の上昇を防止するシャッター１４０２と、ルツボ内のＥＬ材料を加熱するヒータ（図示しない）とを有している。そして、ヒータにより加熱されたＥＬ材料が昇華し、回転する基板に成膜される。このとき、均一に成膜を行うために、基板とルツボとの間の距離は１ｍ以上離す必要がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述の蒸着装置や蒸着方法では、蒸着によりＥＬ層を形成する場合、昇華したＥＬ材料の殆どが蒸着装置の成膜室内の内壁、シャッターまたは防着シールド（蒸着材料が成膜室の内壁に付着することを防ぐための保護板）に付着してしまった。そのため、ＥＬ層の成膜時において、高価なＥＬ材料の利用効率が約１％以下と極めて低く、発光装置の製造コストは非常に高価なものとなっていた。
【０００８】
また従来の蒸着装置は、均一な膜を得るため、基板と蒸着源との間隔を１ｍ以上離す必要があった。そのため、蒸着装置自体が大型化し、蒸着装置の各成膜室の排気に要する時間も長時間となるため成膜速度が遅くなり、スループットが低下してしまった。さらに、蒸着装置は基板を回転させる構造であるため、大面積基板を目的とする蒸着装置には限界があった。
【０００９】
またＥＬ材料は、酸素や水の存在により容易に酸化して劣化してしまう問題がある。しかし、蒸着法により成膜を行う際には、容器（ガラス瓶）に入れられた蒸着材料を所定の量取りだし、蒸着装置内での被膜形成物に対向させた位置に設置された容器（代表的にはルツボ、蒸着ボート）に移しかえており、この移しかえ作業において蒸着材料に、酸素や水、さらには不純物が混入する恐れがあった。
【００１０】
さらにガラス瓶から容器に移しかえる際に、例えば、グローブなどが備えられた成膜室の前処理室内で人間の手により行われていた。しかし、前処理室にグローブを備えた場合、真空とすることができず、大気圧で作業を行うこととなり、不純物の混入する可能性が高かった。例え、窒素雰囲気とされた前処理室内で移しかえを行うとしても、水分や酸素を極力低減することは困難であった。またロボットを使用することも考えられるが、蒸発材料は粉状であるため、移しかえる作業を行うロボットの作製は非常に困難である。そのため、ＥＬ素子の形成、すなわち下部電極上にＥＬ層を形成する工程から上部電極形成工程までの工程を、不純物混入を避けることが可能な一貫したクローズドシステムとすることは困難であった。
【００１１】
そこで本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高め、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。また本発明の蒸着装置及び蒸着方法により作製される発光装置およびその作製方法を提供するものである。
【００１２】
また、本発明は、例えば、基板サイズが、３２０ｍｍ×４００ｍｍ、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、４００ｍｍ×５００ｍｍ、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ、６００ｍｍ×７２０ｍｍ、６２０ｍｍ×７３０ｍｍ、６８０ｍｍ×８８０ｍｍ、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ、１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ、１１５０ｍｍ×１３００ｍｍのような大面積基板に対して、効率よくＥＬ材料を蒸着する方法を提供するものである。
【００１３】
上記大面積基板は、基板保持手段（永久磁石など）により固定して保持する際に部分的に基板がたわむ恐れがあるという問題が考えられる。また、大面積化すると薄いマスクも撓むおそれがある。
【００１４】
さらに本発明は、ＥＬ材料への不純物混入を避けることが可能な製造システムを提供する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、大面積基板を用い、多面取り（１枚の基板から複数のパネルを形成する）を行う際、後にスクライブラインとなる部分が接するように基板を支える基板保持手段を設ける。即ち、位置合わせを行って基板保持手段の上に基板を載せ、基板保持手段の下方に設けられた蒸着源ホルダから蒸着材料を昇華させて基板保持手段で接していない領域に蒸着を行う。こうすることによって、大面積基板のたわみを１ｍｍ以下に抑えることができる。
【００１６】
また、マスク（代表的にはメタルマスク）を用いる場合、位置合わせを行って基板保持手段の上にマスクを載せ、さらに位置合わせを行ってマスクの上に基板を載せればよい。こうすることによって、マスクのたわみを１ｍｍ以下に抑えることができる。また、蒸着マスクが基板と密接するようにしてもよいし、ある程度の間隔を有して固定する基板ホルダや蒸着マスクホルダを適宜設けてもよい。
【００１７】
また、マスクやチャンバー内壁をクリーニングする場合には、上記基板保持手段を導電材料で形成し、基板保持手段に接続された高周波電源によってプラズマを発生させてマスクやチャンバー内壁に付着した蒸着材料を除去すればよい。
【００１８】
さらに、上記目的を達成するために本発明は、基板と蒸着源とが相対的に移動することを特徴とする蒸着装置を提供するものである。すなわち本発明は、蒸着内において、蒸着材料が封入された容器を設置した蒸着源ホルダが、基板に対してあるピッチで移動する、または蒸着源に対して基板があるピッチで移動することを特徴とする。また、昇華した蒸着材料の端（すそ）が重なる（オーバーラップさせる）ように、蒸着源ホルダをあるピッチで移動させると好ましい。
【００１９】
この蒸着源ホルダは、単数でも複数でもよいが、ＥＬ層の積層膜ごとに設けると効率よく連続的に蒸着することができる。また蒸着源ホルダに設置される容器は単数でも複数でもよく、また同一の蒸着材料が封入された容器を複数設置してもよい。なお、異なる蒸着材料を有する容器を設置した場合には、昇華した蒸着材料が混合された状態で基板に成膜することができる（これを共蒸着という）。
【００２０】
次に、本発明の基板と蒸着源とが相対的に移動する経路の概略について説明する。なお図２を用いて、基板に対し蒸着源ホルダが移動する例で説明するが、本発明は基板と蒸着源とが相対的に移動すればよく、蒸着源ホルダの移動経路は図２に限定されるものではない。さらに、４つの蒸着源ホルダＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの場合で説明するが、蒸着源ホルダはいくつ設けてもよいことは言うまでもない。
【００２１】
図２（Ａ）には、基板１３と、蒸着源が設置された蒸着源ホルダＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄと、蒸着源ホルダＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが基板に対して移動する経路とが記載される。まず、蒸着源ホルダＡは、破線で示すようにＸ軸方向に順に移動し、Ｘ軸方向の成膜を終了する。なお、成膜の開始と終了は蒸着源ホルダに設けられたシャッターの開閉、または蒸着源の加熱手段であるヒータのオンオフによって行う。次にＹ軸方向に順に移動し、Ｙ軸方向の成膜終了後、点線の位置で停止する。その後、同様に蒸着源ホルダＢ、Ｃ、Ｄが破線で示すようにＸ軸方向に順に移動し、Ｘ軸方向の成膜を終了する。次にＹ軸方向に順に移動し、Ｙ軸方向の成膜終了後、停止する。なお、蒸着源ホルダは、Ｙ軸方向から移動を開始してもよく、移動の経路は図２（Ａ）に限定されない。また、Ｘ軸方向とＹ軸方向とを交互に移動しても構わない。
【００２２】
そして、各蒸着源ホルダは元の位置に戻り、次の基板に対する蒸着を開始する。各蒸着源ホルダが元の位置に戻るタイミングは、成膜終了後から、次の成膜前の間であればよく、他の蒸着源ホルダが成膜を行っている最中でも構わない。また、各蒸着源ホルダが停止した位置から次の基板に蒸着を開始しても構わない。
【００２３】
次に図２（Ａ）と異なる経路を、図２（Ｂ）を用いて説明する。図２（Ｂ）をみると、蒸着源ホルダＡは、破線で示すようにＸ軸方向に順に移動し、次にＹ軸方向に順に移動し、成膜終了後、点線で示すように蒸着源ホルダＤの後ろに停止する。その後、同様に蒸着源ホルダＢ、Ｃ、Ｄが破線で示すようにＸ軸方向に順に移動し、次にＹ軸方向に順に移動し、成膜終了後、前の蒸着源ホルダの後ろに停止する。
【００２４】
このように、蒸着源ホルダが元の位置に戻るよう経路を設定することにより、蒸着源ホルダの不要な移動がなく、成膜速度の向上、強いては発光装置のスループットを向上することができる。
【００２５】
なお、図２（Ａ）及び（Ｂ）において、蒸着源ホルダＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄが移動を開始するタイミングは、前の蒸着源ホルダが停止した後でもよいし、停止する前であってもよい。また、蒸着された膜が固化する前に、次の蒸着源ホルダの移動を開始する場合、積層構造を有するＥＬ層において、各膜との界面に蒸着材料が混合された領域（混合領域）を形成することができる。
【００２６】
このような、基板と蒸着源ホルダＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄとが相対的に移動する本発明により、基板と蒸着源ホルダとの距離を長く設ける必要なく装置の小型化を達成できる。また蒸着装置が小型となるため、昇華した蒸着材料が成膜室内の内壁、または防着シールドへ付着することが低減され、蒸着材料を無駄なく利用することができる。さらに本発明の蒸着方法において、基板を回転させる必要がないため、大面積基板に対応可能な蒸着装置を提供することができる。また、蒸着源ホルダが基板に対してＸ軸方向及びＹ軸方向に移動する本発明により、蒸着膜を均一に成膜することが可能となる。
【００２７】
また、本発明は、蒸着処理を行う複数の成膜室が連続して配置された製造装置を提供できる。このように、複数の成膜室において蒸着処理を行うため、発光装置のスループットが向上される。
【００２８】
さらに本発明は、蒸着材料が封入された容器を、大気に曝すことなく蒸着装置に直接設置することを可能とする製造システムを提供することができる。このような本発明により、蒸着材料の取り扱いが容易になり、蒸着材料への不純物混入を避けることができる。
【００２９】
本明細書で開示する発明の構成１は、図１にその一例を示すように、
基板に対向して配置した蒸着源ホルダから有機化合物材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う蒸着装置であって、
前記基板が配置される成膜室には、基板保持手段と、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、前記蒸着源ホルダは蒸着材料が封入された容器と、前記容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、
前記蒸着源ホルダを移動させる手段は前記蒸着源ホルダをあるピッチでＸ軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでＹ軸方向に移動させる機能を有し、
前記基板保持手段は、基板と前記蒸着ホルダとの間に配置されていることを特徴とする蒸着装置である。
【００３０】
また、上記構成１において、前記基板保持手段は、マスクを挟んで、端子部となる領域、切断領域、または基板端部と重なることを特徴としている。
【００３１】
また、上記構成１において、図４に示すように、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の頂点で基板またはマスクを支えることを特徴としている。
【００３２】
また、プラズマ発生手段を設けてもよく、本発明で開示する発明の他の構成は、
基板に対向して配置した蒸着源ホルダから有機化合物材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う蒸着装置であって、
前記基板が配置される成膜室には、基板保持手段と、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、前記蒸着源ホルダは蒸着材料が封入された容器と、前記容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、
前記蒸着源ホルダを移動させる手段は前記蒸着源ホルダをあるピッチでＸ軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでＹ軸方向に移動させる機能を有し、
前記基板保持手段は、基板と前記蒸着ホルダとの間に配置されており、
前記成膜室は、前記成膜室内を真空にする真空排気処理室と連結され、且つ、前記成膜室内にプラズマを発生させることを特徴とする蒸着装置である。
【００３３】
また、上記構成２において、前記基板保持手段は導電性材料からなり、前記基板保持手段に高周波電源が接続されていることを特徴としている。
【００３４】
また、前記基板保持手段は、形状記憶合金から作製してもよく、例えばＮｉ−Ｔｉ系合金を用いてもよい。形状記憶合金とは、一定の形を記憶し、変形しても加熱によってもとの形状に戻ることのできる合金であり、変形が結晶構造の転移によらず、原子間の結合を変えないマルテンサイト変態によって生じる。マルテンサイト状態の形状記憶合金は、オーステナイト相に変態する温度以上に加熱されると、マルテンサイト相からオーステナイト相に変態する。このとき、マルテンサイト相状態において付与されていた形状が解除され、もとの形状に復帰する。
【００３５】
また、上記構成２において、前記基板保持手段は、マスクを挟んで、端子部となる領域、切断領域、または基板端部と重なることを特徴としている。
【００３６】
また、上記構成２において、図４に示すように、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の頂点で基板またはマスクを支えることを特徴としている。
【００３７】
また、上記各構成において、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の高さは１μｍ〜３０μｍ、好ましくは３μｍ〜１０μｍであることを特徴としている。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００３９】
（実施の形態１）
本発明の蒸着装置を図１に示す。図１（Ａ）はＸ方向断面図（Ａ−Ａ’点線における断面）、図１（Ｂ）はＹ方向断面図（Ｂ−Ｂ’点線における断面）、図１（Ｃ）は上面図である。なお、図１は蒸着途中のものを示す。
【００４０】
図１において、成膜室１１は、基板保持手段１２と、蒸着シャッター１５が設置された蒸着源ホルダ１７と、蒸着源ホルダを移動させる手段（図示しない）と、減圧雰囲気にする手段とを有する。そして、成膜室１１には、基板１３と、蒸着マスク１４とが設置される。
【００４１】
また、基板保持手段１２は、金属からなる蒸着マスク１４を重力で固定しており、マスク上に配置される基板１３も固定される。なお、基板保持手段１２に真空吸着機構を設けてマスクを真空吸着して固定してもよい。ここでは、蒸着マスクが基板保持手段１２と密接している例を示したが、蒸着マスクと基板保持手段とが固着してしまうことを防ぐため、互いに接する箇所に絶縁物を設けたり、点接触となるように基板保持手段の形状を適宜変更してもよい。また、ここでは、基板保持手段１２で基板と蒸着マスクの両方を載せる構成とした例を示したが、基板を保持する手段と、蒸着マスクを保持する手段とを別々に設けてもよい。
【００４２】
また、基板保持手段１２と重なる領域には蒸着を行うことができないため、基板保持手段１２は、多面取りする際に切断領域（スクライブラインとなる領域）に設けることが好ましい。或いは、基板保持手段１２は、パネル端子部となる領域と重なるように設けてもよい。図１（Ｃ）に示すように基板保持手段１２は、上方から見ると、１枚の基板１３に点線で示した４つのパネルを形成する例を示しているため、対称な形状である十文字としているが、形状は特に限定されず、非対称な形状としてもよい。また、より多数のパネルを形成する場合、基板保持手段１２を格子形状としてもよい。なお、図示していないが、基板保持手段１２は成膜室に固定されている。なお、図１（Ｃ）では簡略化のため、マスクを図示していない。
【００４３】
また、ＣＣＤカメラ（図示しない）を用いて蒸着マスクや基板や基板保持手段のアライメントを確認するとよい。基板と蒸着マスクにそれぞれアライメントマーカーを設けておき、位置制御を行えばよい。蒸着源ホルダ１７には蒸着材料１８が封入された容器が設置されている。この成膜室１１は、減圧雰囲気にする手段により、真空度が５×１０^−３Ｔｏｒｒ（０．６６５Ｐａ）以下、好ましくは１０^−４〜１０^−６Ｐａまで真空排気される。
【００４４】
また蒸着の際、抵抗加熱により、蒸着材料は予め昇華（気化）されており、蒸着時にシャッター１５が開くことにより基板１３の方向へ飛散する。蒸発した蒸発材料１９は、上方に飛散し、蒸着マスク１４に設けられた開口部を通って基板１３に選択的に蒸着される。なお、マイクロコンピュータにより成膜速度、蒸着源ホルダの移動速度、及びシャッターの開閉を制御できるようにしておくと良い。この蒸着源ホルダの移動速度により蒸着速度を制御することが可能となる。また、シャッター１５とは別に基板シャッターを基板保持手段と蒸着源ホルダとの間に設けてもよい。
【００４５】
また図示しないが、成膜室１１に設けられた水晶振動子により蒸着膜の膜厚を測定しながら蒸着することができる。この水晶振動子を用いて蒸着膜の膜厚を測定する場合、水晶振動子に蒸着された膜の質量変化を、共振周波数の変化として測定することができる。
【００４６】
図１に示す蒸着装置においては、蒸着の際、基板１３と蒸着源ホルダ１７との間隔距離ｄを代表的には３０ｃｍ以下、好ましくは２０ｃｍ以下、さらに好ましくは５ｃｍ〜１５ｃｍに狭め、蒸着材料の利用効率及びスループットを格段に向上させている。
【００４７】
上記蒸着装置において、蒸着源ホルダ１７は、容器（代表的にはルツボ）と、容器の外側に均熱部材を介して配設されたヒータと、このヒータの外側に設けられた断熱層と、これらを収納した外筒と、外筒の外側に旋回された冷却パイプと、ルツボの開口部を含む外筒の開口部を開閉する蒸着シャッター１５とから構成されている。なお、該ヒータが容器に固定された状態で搬送できる容器であってもよい。また容器とは、ＢＮの焼結体、ＢＮとＡｌＮの複合焼結体、石英、またはグラファイトなどの材料で形成された、高温、高圧、減圧に耐えうるものとなっている。
【００４８】
また、蒸着源ホルダ１７は、水平を保ったまま、成膜室１１内をＸ方向またはＹ方向に移動可能な機構が設けられている。ここでは蒸着源ホルダ１７を二次元平面で図２（Ａ）または図２（Ｂ）に示したように蒸着源ホルダをジグザグに移動させる。また、蒸着源ホルダ１７の移動ピッチも絶縁物の間隔に適宜、合わせればよい。なお、絶縁物１０は第１の電極２１の端部を覆うようにストライプ状に配置されている。なお、図２（Ａ）または図２（Ｂ）には簡略化のため、基板保持手段は図示していない。
【００４９】
また、蒸着源ホルダに備えられる有機化合物は必ずしも一つまたは一種である必要はなく、複数であってもよい。例えば、蒸着源ホルダに発光性の有機化合物として備えられている一種類の材料の他に、ドーパントとなりうる別の有機化合物（ドーパント材料）を一緒に備えておいても良い。蒸着させる有機化合物層として、ホスト材料と、ホスト材料よりも励起エネルギーが低い発光材料（ドーパント材料）とで構成し、ドーパントの励起エネルギーが、正孔輸送性領域の励起エネルギーおよび電子輸送層の励起エネルギーよりも低くなるように設計することが好ましい。このことにより、ドーパントの分子励起子の拡散を防ぎ、効果的にドーパントを発光させることができる。また、ドーパントがキャリアトラップ型の材料であれば、キャリアの再結合効率も高めることができる。また、三重項励起エネルギーを発光に変換できる材料をドーパントとして混合領域に添加した場合も本発明に含めることとする。また、混合領域の形成においては、混合領域に濃度勾配をもたせてもよい。
【００５０】
さらに、一つの蒸着源ホルダに備えられる有機化合物を複数とする場合、互いの有機化合物が混ざりあうように蒸発する方向を被蒸着物の位置で交差するように斜めにすることが望ましい。また、共蒸着を行うため、蒸着源ホルダに、４種の蒸着材料（例えば、蒸着材料ａとしてホスト材料２種類、蒸着材料ｂとしてドーパント材料２種類）を備えてもよい。また、画素サイズが小さい場合（或いは各絶縁物の間隔が狭い場合）には、容器内部を４分割して、それぞれを適宜蒸着させる共蒸着を行うことにより、精密に成膜することができる。
【００５１】
また、基板１３と蒸着源ホルダ１７との間隔距離ｄを代表的には３０ｃｍ以下、好ましくは５ｃｍ〜１５ｃｍに狭めるため、蒸着マスク１４も加熱される恐れがある。従って、蒸着マスク１４は、熱によって変形されにくい低熱膨張率を有する金属材料（例えば、タングステン、タンタル、クロム、ニッケルもしくはモリブデンといった高融点金属もしくはこれらの元素を含む合金、ステンレス、インコネル、ハステロイといった材料）を用いることが望ましい。例えば、ニッケル４２％、鉄５８％の低熱膨張合金などが挙げられる。また、加熱される蒸着マスクを冷却するため、蒸着マスクに冷却媒体（冷却水、冷却ガス）を循環させる機構を備えてもよい。
【００５２】
また、マスクに付着した蒸着物をクリーニングするため、プラズマ発生手段により、成膜室内にプラズマを発生させ、マスクに付着した蒸着物を気化させて成膜室外に排気することが好ましい。そのため、基板保持手段１２に高周波電源２０が接続されている。以上により、基板保持手段１２は導電性材料（Ｔｉなど）で形成することが好ましい。また、プラズマを発生させる場合、電界集中を防ぐため、メタルマスクを基板保持手段１２から電気的に浮かした状態とすることが好ましい。
【００５３】
なお、蒸着マスク１４は第１の電極２１（陰極或いは陽極）上に蒸着膜を選択的に形成する際に使用するものであり、全面に蒸着膜を形成する場合には特に必要ではない。
【００５４】
また、成膜室はＡｒ、Ｈ、Ｆ、ＮＦ_３、またはＯから選ばれた一種または複数種のガスを導入するガス導入手段と、気化させた蒸着物を排気する手段とを有している。上記構成により、メンテナンス時に成膜室内を大気にふれることなくクリーニングすることが可能となる。
【００５５】
また、成膜室１１には、成膜室内を真空にする真空排気処理室と連結されている。真空排気処理室としては、磁気浮上型のターボ分子ポンプ、クライオポンプ、またはドライポンプが備えられている。これにより成膜室１１の到達真空度を１０^−５〜１０^−６Ｐａにすることが可能であり、さらにポンプ側および排気系からの不純物の逆拡散を制御することができる。成膜室１１に不純物が導入されるのを防ぐため、導入するガスとしては、窒素や希ガス等の不活性ガスを用いる。導入されるこれらのガスは、装置内に導入される前にガス精製機により高純度化されたものを用いる。従って、ガスが高純度化された後に成膜室１１に導入されるようにガス精製機を備えておく必要がある。これにより、ガス中に含まれる酸素や水、その他の不純物を予め除去することができるため、成膜室１１にこれらの不純物が導入されるのを防ぐことができる。
【００５６】
以上のような蒸着源ホルダが移動する機構を有する成膜室により、基板と蒸着源ホルダとの距離を長くする必要がなく、蒸着膜を均一に成膜することが可能となる。
【００５７】
よって本発明により、基板と蒸着源ホルダとの距離を短くでき、蒸着装置の小型化を達成することができる。そして、蒸着装置が小型となるため、昇華した蒸着材料が成膜室内の内壁、または防着シールドへ付着することが低減され、蒸着材料を有効に利用することができる。さらに、本発明の蒸着方法において、基板を回転させる必要がないため、大面積基板に対応可能な蒸着装置を提供することができる。
【００５８】
また、このように基板と蒸着源ホルダとの距離を短くすることにより、蒸着膜を薄く制御良く蒸着することができる。
【００５９】
（実施の形態２）
次に本発明の基板保持手段の構成について図３を用いて詳述する。
【００６０】
図３（Ａ１）には、基板３０３とマスク３０２が載せられた基板保持手段３０１の斜視図を示しており、図３（Ａ２）は基板保持手段３０１のみを示している。
【００６１】
また、図３（Ａ３）は基板３０３とマスク３０２が載せられた基板保持手段の断面図を示しており、高さｈは１０ｍｍ〜５０ｍｍ、幅ｗは１ｍｍ〜５ｍｍの金属板（代表的にはＴｉ）で構成する。
【００６２】
この基板保持手段３０１によって、基板のたわみ、またはマスクのたわみを抑えることができる。
【００６３】
また、基板保持手段３０１の形状は、図３（Ａ１）〜（Ａ３）に限定されるものではなく、例えば、図３（Ｂ２）に示すような形状としてもよい。
【００６４】
図３（Ｂ２）は、基板の端部を支える部分が設けられた例であり、基板保持手段３０５によって基板３０３のたわみ、またはマスク３０２のたわみを抑えるものである。なお、図３（Ｂ２）は基板保持手段３０５のみを示している。また、図３（Ｂ１）には、基板３０３とマスク３０２が載せられた基板保持手段３０５の斜視図を示している。
【００６５】
また、上記基板保持手段形状に代えて、図３（Ｃ２）に示すような形状としてもよい。図３（Ｃ２）は、基板の端部を支えるマスク枠３０６が設けられた例であり、基板保持手段３０７とマスク枠３０６によって基板３０３のたわみ、またはマスク３０２のたわみを抑えるものである。この場合、別々の材料で形成してもよい。また、マスク枠３０６には図３（Ｃ３）に示すようにマスク３０２の位置を固定する窪みを設けている。
【００６６】
なお、図３（Ｃ２）はマスク枠３０６と基板保持手段３０７のみを示している。また、図３（Ｃ１）には、基板３０３とマスク３０２が載せられた基板保持手段３０５およびマスク枠３０６の斜視図を示している。
【００６７】
また、上記基板保持手段形状に代えて、図４に示すような形状としてもよい。図４ではマスクとの接触を点接触とした例である。こうすることによって蒸着物によってマスクと基板保持手段とが固着しないようにした例である。
【００６８】
図４（Ａ）には、基板４０３とマスク４０２が載せられた基板保持手段４０１の斜視図を示しており、図４（Ｂ）は基板保持手段４０１のみを示している。
【００６９】
また、図４（Ｃ）は基板４０３とマスク４０２が載せられた基板保持手段のＸ方向における断面図を示しており、高さｈ２は１０ｍｍ〜５０ｍｍの金属板（代表的にはＴｉ）で構成する。また、前記基板保持手段４０１は、凸部４０１ａを有し、前記凸部の高さｈ１は１μｍ〜３０μｍ、好ましくは３μｍ〜１０μｍであることを特徴としている。
【００７０】
なお、図４（Ｄ）は基板保持手段のＹ方向における断面図を示している。
【００７１】
次に蒸着源ホルダの具体的な構成について図５を用いて説明する。図５（Ａ）及び（Ｂ）は蒸着源ホルダの拡大図を示す。
【００７２】
図５（Ａ）は、蒸着源ホルダ５０２に蒸着材料が封入された４つの容器５０１を格子状に設け、各容器上にシャッター５０３を設けた構成例であり、図５（Ｂ）は蒸着源ホルダ５１２に蒸着材料が封入された４つの容器５１１を直線状に設け、各容器上にシャッター５１３を設けたの構成例である。
【００７３】
図５（Ａ）または（Ｂ）に記載の蒸着源ホルダ５０２、５１２に、同一材料が封入された容器５０１、５１１を複数設置してもよく、単数の容器を設置しても構わない。また異なる蒸着材料（例えば、ホスト材料とゲスト材料）が封入された容器を設置して共蒸着を行ってもよい。そして上述したように、容器を加熱することにより蒸着材料が昇華し、基板に成膜が行われる。
【００７４】
また、図５（Ａ）または（Ｂ）のように、各容器の上方にシャッター５０３、５１３を設け、昇華した蒸着材料を成膜するか否かを制御するとよい。またシャッターは、全容器の上方に一つのみ設けても構わない。またこのシャッターにより、成膜しない蒸着源ホルダ、すなわち待機している蒸着源ホルダへの加熱を止めることなく、不要な蒸着材料が昇華し、飛散することを低減できる。なお、蒸着源ホルダの構成は図５に限定されるものではなく、実施者が適宜設計すればよい。
【００７５】
以上のような蒸着源ホルダ及び容器により、蒸着材料を効率よく昇華でき、
さらに蒸着材料の大きさが揃った状態で成膜が行えるため、均一でむらのない蒸着膜が形成される。また、蒸着源ホルダに複数の蒸着材料を設置できるため、容易に共蒸着を行うことができる。また、ＥＬ層の膜ごとに成膜室を移動せず、目的に応じたＥＬ層を一度に形成することができる。
【００７６】
（実施の形態３）
次に、上述したような容器に精製した蒸着材料を封入し、搬送後、その容器を直接成膜装置である蒸着装置に設置し、蒸着を行う製造方法のシステムについて、図６を用いて説明する。
【００７７】
図６には、蒸着材料である有機化合物材料を生産、精製している製造者（代表的には材料メーカー）６１８と、蒸着装置を有する発光装置メーカーであり、発光装置の製造者（代表的には生産工場）６１９における製造システムが記載される。
【００７８】
まず発光装置メーカー６１９から材料メーカー６１８に発注６１０を行う。材料メーカー６１８は発注６１０に基づいて、蒸着材料を昇華精製し、第１の容器６１１へ高純度に精製された粉末上の蒸着材料６１２を封入する。その後、材料メーカー６１８が第１の容器の内部または外部に余分な不純物が付着しないように大気から隔離し、清浄環境室内で汚染から防ぐための第２の容器６２１ａ及び６２１ｂへ第１の容器６１１を収納し、密閉する。密閉する際には、第２の容器６２１ａ及び６２１ｂの内部は、真空、または窒素などの不活性ガスで充填することが好ましい。なお、超高純度の蒸着材料６１２を精製または収納する前に第１の容器６１１および第２の容器６２１ａ及び６２１ｂをクリーニングしておくことが好ましい。また、第２の容器６２１ａ及び６２１ｂは、酸素や水分の混入をブロックするバリア性を備えた包装フィルムであってもよいが、自動で取り出し可能とするため、筒状、または箱状の頑丈な遮光性を有する容器とすることが好ましい。
【００７９】
その後、第１の容器６１１は第２の容器６２１ａ及び６２１ｂに密閉されたままの状態で、材料メーカー６１８から発光装置メーカー６１９に搬送６１７される。
【００８０】
発光装置メーカー６１９では、第１の容器６１１は第２の容器６２１ａ及び６２１ｂに密閉されたままの状態で、真空排気可能な処理室６１３に直接導入される。なお、処理室６１３は内部に加熱手段６１４、基板保持手段（図示しない）が設置されている蒸着装置である。
【００８１】
その後、処理室６１３内を真空排気して酸素や水分が極力低減されたクリーンな状態にした後、真空を破ることなく、第２の容器６２１ａ及び６２１ｂから第１の容器６１１を取り出し、第１の容器６１１を加熱手段６１４に接して設置し、蒸着源を用意することができる。なお、処理室６１３には被蒸着物（ここでは基板）６１５が第１の容器６１１に対向するように設置される。
【００８２】
次いで、加熱手段６１４によって蒸着材料に熱を加えて被蒸着物６１５の表面に蒸着膜６１６を形成する。こうして得られた蒸着膜６１６は不純物を含まず、この蒸着膜６１６を用いて発光素子を完成させた場合、高い信頼性と高い輝度を実現することができる。
【００８３】
また成膜後、第１の容器６１１に残留した蒸着材料を、発光装置メーカー６１９において昇華精製してもよい。成膜後に第１の容器６１１を第２の容器６２１ａ及び６２１ｂへ設置し、処理室６１３から取り出し、昇華精製を行う精製室へ搬送する。そこで、残留した蒸着材料を昇華精製し、別の容器へ高純度に精製された粉末上の蒸着材料を封入する。その後、第２の容器で密閉した状態で処理室６１３へ搬送し、蒸着処理を行う。このとき、残留した蒸着材料を精製する温度（Ｔ３）と、上昇している蒸着材料周囲の温度（Ｔ４）と、昇華精製された蒸着材料周囲の温度（Ｔ５）との関係は、Ｔ３＞Ｔ４＞Ｔ５を満たすと好ましい。すなわち、昇華精製する場合、昇華精製される蒸着材料を封入する容器側に向かって温度を低くしておくと、対流が生じ、効率よく昇華精製を行うことができる。なお、昇華精製を行う精製室は、処理室６１３に接して設け、密閉用の第２の容器を使用せずに、昇華精製された蒸着材料を搬送してもよい。
【００８４】
以上のように、第１の容器６１１は一度も大気に触れることなく処理室６１３である蒸着チャンバーに設置され、材料メーカーで蒸着材料６１２を収納した段階での純度を維持したまま、蒸着を行うことを可能とする。従って本発明により、全自動化してスループットを向上させる製造システムを実現するとともに、材料メーカー６１８で精製した蒸着材料６１２への不純物混入を避けることが可能な一貫したクローズドシステムを実現することが可能となる。更に、発注に基づいて材料メーカーで第１の容器６１１に直接蒸着材料６１２を収納するため、必要な量だけを発光装置メーカーに提供し、比較的高価な蒸着材料を効率よく使用することができる。なお、第１の容器や第２の容器は再利用することができ、低コストにもつながる。
【００８５】
次に、搬送する容器の形態について図７を用いて具体的に説明する。搬送に用いる上部（６２１ａ）と下部（６２１ｂ）に分かれる第２の容器は、第２の容器の上部に設けられた第１の容器を固定するための固定手段７０６と、固定手段に加圧するためのバネ７０５と、第２の容器の下部に設けられた第２の容器を減圧保持するためガス経路となるガス導入口７０８と、上部容器６２１ａと下部容器６２１ｂとを固定するＯリング７０７と、留め具７０２と有している。この第２の容器内には、精製された蒸着材料が封入された第１の容器６１１が設置されている。なお、第２の容器はステンレスを含む材料で形成され、第１の容器はチタンを有する材料で形成するとよい。
【００８６】
材料メーカーにおいて、第１の容器６１１に精製した蒸着材料を封入する。そして、Ｏリング７０７を介して第２の上部６２１ａと下部６２１ｂとを合わせ、留め具７０２で上部容器６２１ａと下部容器６２１ｂとを固定し、第２の容器内に第１の容器６１１を密閉する。その後、ガス導入口７０８を介して第２の容器内を減圧し、更に窒素雰囲気に置換し、バネ７０５を調節して固定手段７０６により第１の容器６１１を固定する。なお、第２の容器内に乾燥剤を設置してもよい。このように第２の容器内を真空や減圧、窒素雰囲気に保持すると、蒸着材料へのわずかな酸素や水の付着でさえ防止することができる。
【００８７】
この状態で発光装置メーカー６１９へ搬送され、第１の容器６１１を直接処理室６１３へ設置する。その後、加熱により蒸着材料は昇華し、蒸着膜６１６の成膜が行われる。
【００８８】
次に、図８および図９を用いて、第２の容器に密閉されて搬送される第１の容器を成膜室へ設置する機構を説明する。なお、図８および図９は第１の容器の搬送途中を示すものである。
【００８９】
図８（Ａ）は、第１の容器または第２の容器を載せる台８０４と、蒸着源ホルダ８０３と、台８０４と蒸着源ホルダ８０３とを載せる回転台８０７と、第１の容器を搬送するための搬送手段８０２とを有する設置室８０５の上面図が記載され、図８（Ｂ）は設置室の斜視図が記載される。また、設置室８０５は成膜室８０６と隣り合うように配置され、ガス導入口を介して雰囲気を制御する手段により設置室の雰囲気を制御することが可能である。なお、本発明の搬送手段は、図８に記載されるように第１の容器の側面を挟んで搬送する構成に限定されるものではなく、第１の容器の上方から、該第１の容器を挟んで（つまんで）搬送する構成でも構わない。
【００９０】
このような設置室８０５に、留め具７０２を外した状態で第２の容器を台８０４上に配置する。次いで、雰囲気を制御する手段により、設置室８０５内を減圧状態とする。設置室内の圧力と第２の容器内の圧力とが等しくなるとき、容易に第２の容器は開封できる状態となる。そして搬送手段８０２により、第２容器の上部６２１ａを取り外し、第１の容器６１１は蒸着源ホルダ８０３に設置される。なお図示しないが、取り外した上部６２１ａを配置する箇所は適宜設けられる。そして、蒸着源ホルダ８０３は設置室８０５から成膜室８０６へ移動する。
【００９１】
その後、蒸着源ホルダ８０３に設けられた加熱手段により、蒸着材料は昇華され、成膜が開始される。この成膜時に、蒸着源ホルダ８０３に設けられたシャッター（図示しない）が開くと、昇華した蒸着材料は基板の方向へ飛散し、基板に蒸着され、発光層（正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層を含む）が形成される。
【００９２】
そして、蒸着が完了した後、蒸着源ホルダ８０３は設置室８０５に戻り、搬送手段８０２により、蒸着源ホルダ８０３に設置された第１の容器６１１は、台８０４に設置された第２の容器の下部容器（図示しない）に移され、上部容器６２１ａにより密閉される。このとき、第１の容器と、上部容器６２１ａと、下部容器とは、搬送された組み合わせで密閉することが好ましい。この状態で、設置室８０５を大気圧とし、第２の容器を設置室から取り出し、留め具７０２を固定して材料メーカー６１８へ搬送される。
【００９３】
なお、蒸着を開始する蒸着源ホルダと、蒸着が終了した蒸着源ホルダとの搬送を効率よくおこなうため、回転台８０７は回転する機能を有するとよい。回転台８０７は上記構成に限定されるものではなく、回転台８０７が左右に移動する機能を有し、成膜室８０６に配置される蒸着源ホルダへ近づいた段階で、移動手段８０２により、複数の第１の容器を蒸着源ホルダに設置してもよい。
【００９４】
次に、図８とは異なる第２の容器に密閉されて搬送される複数の第１の容器を複数の蒸着源ホルダに設置する機構を、図９を用いて説明する。
【００９５】
図９（Ａ）は、第１の容器または第２の容器を載せる台９０４と、複数の蒸着源ホルダ９０３と、第１の容器を搬送するための複数の搬送手段９０２と、回転台９０７とを有する設置室９０５の上面図が記載され、図９（Ｂ）は設置室９０５の斜視図が記載される。また、設置室９０５は成膜室９０６と隣り合うように配置され、ガス導入口を介して雰囲気を制御する手段により設置室の雰囲気を制御することが可能である。
【００９６】
このような回転台９０７や複数の搬送手段９０２により、複数の第１の容器６１１を複数の蒸着源ホルダ９０３に設置し、成膜が完了した複数の蒸着源ホルダから複数第１の容器を台９０４に移す作業を効率よく行うことができる。このとき、第１の容器は搬送されてきた第２の容器に設置されることが好ましい。
【００９７】
以上のような蒸着装置で形成された蒸着膜は、不純物を極限まで低くすることができ、この蒸着膜を用いて発光素子を完成させた場合、高い信頼性や輝度を実現することができる。またこのような製造システムにより、材料メーカーで封入された容器を直接蒸着装置に設置できるため、蒸着材料が酸素や水の付着を防止でき、今後のさらなる発光素子の超高純度化への対応が可能となる。また、蒸着材料の残留を有する容器を再度精製することにより、材料の無駄をなくすことができる。さらに、第１の容器及び第２の容器は再利用することができ、低コスト化を実現することができる。
【００９８】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。なお、実施例を説明するための全図において、同一部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００９９】
（実施例１）
本実施例では、絶縁表面を有する基板上にＴＦＴを形成し、さらに発光素子であるＥＬ素子を形成する例を図１０に示す。本実施例では画素部においてＥＬ素子と接続される一つのＴＦＴの断面図を示す。
【０１００】
まず、絶縁表面を有する基板２００上に酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜の積層からなる下地絶縁膜２０１を形成する。ここでは下地絶縁膜２０１として２層構造を用いるが、前記絶縁膜の単層膜または２層以上積層させた構造を用いても良い。下地絶縁膜の一層目としては、プラズマＣＶＤ法を用い、ＳｉＨ_４、ＮＨ_３、及びＮ_２Ｏを反応ガスとして成膜される酸化窒化シリコン膜を１０〜２００ｎｍ（好ましくは５０〜１００ｎｍ）形成する。ここでは、膜厚５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝２７％、Ｎ＝２４％、Ｈ＝１７％）を形成する。次いで、下地絶縁膜のニ層目としては、プラズマＣＶＤ法を用い、ＳｉＨ_４及びＮ_２Ｏを反応ガスとして成膜される酸化窒化シリコン膜を５０〜２００ｎｍ（好ましくは１００〜１５０ｎｍ）の厚さに積層形成する。ここでは、膜厚１００ｎｍの酸化窒化シリコン膜（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝５９％、Ｎ＝７％、Ｈ＝２％）を形成する。
【０１０１】
次いで、下地膜上に半導体層を形成する。半導体層は、非晶質構造を有する半導体膜を公知の手段（スパッタ法、ＬＰＣＶＤ法、またはプラズマＣＶＤ法等）により成膜した後、結晶化処理（レーザー結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの触媒を用いた熱結晶化法等）を行って得られた結晶質半導体膜を所望の形状にパターニングして形成する。この半導体層の厚さは２５〜８０ｎｍ（好ましくは３０〜６０ｎｍ）の厚さで形成する。結晶質半導体膜の材料に限定はないが、好ましくはシリコンまたはシリコンゲルマニウム合金などで形成すると良い。
【０１０２】
また、レーザー結晶化法で結晶質半導体膜を作製する場合には、パルス発振型または連続発振型のエキシマレーザーやＹＡＧレーザー、ＹＶＯ_４レーザーを用いることができる。これらのレーザーを用いる場合には、レーザー発振器から放射されたレーザー光を光学系で線状に集光し半導体膜に照射する方法を用いると良い。結晶化の条件は実施者が適宣選択するものであるが、エキシマレーザーを用いる場合はパルス発振周波数３０Ｈｚとし、レーザーエネルギー密度を１００〜４００ｍＪ／ｃｍ^２（代表的には２００〜３００ｍＪ／ｃｍ^２）とする。また、ＹＡＧレーザーを用いる場合にはその第２高調波を用いパルス発振周波数１〜１０ｋＨｚとし、レーザーエネルギー密度を３００〜６００ｍＪ／ｃｍ^２（代表的には３５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２）とすると良い。そして幅１００〜１０００μｍ、例えば４００μｍで線状に集光したレーザー光を基板全面に渡って照射し、この時の線状レーザー光の重ね合わせ率（オーバーラップ率）を５０〜９８％として行えばよい。
【０１０３】
次いで、フッ酸を含むエッチャントで半導体層の表面を洗浄し、半導体層を覆うゲート絶縁膜２０２を形成する。ゲート絶縁膜２０２はプラズマＣＶＤ法またはスパッタ法を用い、厚さを４０〜１５０ｎｍとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。本実施例では、プラズマＣＶＤ法により１１５ｎｍの厚さで酸化窒化シリコン膜（組成比Ｓｉ＝３２％、Ｏ＝５９％、Ｎ＝７％、Ｈ＝２％）で形成する。勿論、ゲート絶縁膜は酸化窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良い。
【０１０４】
次いで、ゲート絶縁膜２０２の表面を洗浄した後、ゲート電極２１０を形成する。
【０１０５】
次いで、半導体にｐ型を付与する不純物元素（Ｂなど）、ここではボロンを適宜添加して、ソース領域２１１及びドレイン領域２１２を形成する。添加した後、不純物元素を活性化するために加熱処理、強光の照射、またはレーザー光の照射を行う。また、活性化と同時にゲート絶縁膜へのプラズマダメージやゲート絶縁膜と半導体層との界面へのプラズマダメージを回復することができる。特に、室温〜３００℃の雰囲気中において、表面または裏面からエキシマレーザーを用いて不純物元素を活性化させる。またＹＡＧレーザーの第２高調波を照射して活性化させてもよく、ＹＡＧレーザーはメンテナンスが少ないため好ましい活性化手段である。
【０１０６】
以降の工程は、水素化を行った後、有機材料または無機材料からなる（例えば、感光性有機樹脂からなる）絶縁物２１３ａを形成し、その後、窒化アルミニウム膜、ＡｌＮ_ＸＯ_Ｙで示される窒化酸化アルミニウム膜、または窒化珪素膜からなる第１の保護膜２１３ｂを形成する。なお、ＡｌＮ_ＸＯ_Ｙで示される膜は、ＡｌＮまたはＡｌからなるターゲットを用いたＲＦスパッタ法により、前記ガス導入系から酸素または窒素または希ガスを導入して成膜すればよい。ＡｌＮ_ＸＯ_Ｙで示される層中に窒素を数ａｔｍ％以上、好ましくは２．５ａｔｍ％〜４７．５ａｔｍ％含む範囲であればよく、酸素を４７．５ａｔｍ％以下、好ましくは、０．０１〜２０ａｔｍ％未満であればよい。次いで、ソース領域、またはドレイン領域に達するコンタクトホールを形成する。次いで、ソース電極（配線）２１５、ドレイン電極２１４を形成してＴＦＴ（ｐチャネル型ＴＦＴ）を完成させる。このＴＦＴが有機発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｅｖｉｃｅ）に供給する電流を制御するＴＦＴとなる。
【０１０７】
また、本実施例のＴＦＴ構造に限定されず、必要があればチャネル形成領域とドレイン領域（またはソース領域）との間にＬＤＤ領域を有する低濃度ドレイン（ＬＤＤ：Ｌｉｇｈｔｌｙ　Ｄｏｐｅｄ　Ｄｒａｉｎ）構造としてもよい。この構造はチャネル形成領域と、高濃度に不純物元素を添加して形成するソース領域またはドレイン領域との間に低濃度に不純物元素を添加した領域を設けたものであり、この領域をＬＤＤ領域と呼んでいる。さらにゲート絶縁膜を介してＬＤＤ領域をゲート電極と重ねて配置させた、いわゆるＧＯＬＤ（Ｇａｔｅ−ｄｒａｉｎ　Ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ＬＤＤ）構造としてもよい。なお、ゲート電極を積層構造とし、上部ゲート電極と、下部ゲート電極とのテーパ角を異なるようにエッチングし、ゲート電極をマスクとしたセルフアラインでＬＤＤ構造やＧＯＬＤ構造を形成すると好ましい。
【０１０８】
また、本実施例ではｐチャネル型ＴＦＴを用いて説明したが、ｐ型不純物元素に代えてｎ型不純物元素（Ｐ、Ａｓ等）を用いることによってｎチャネル型ＴＦＴを形成することができることは言うまでもない。
【０１０９】
また、本実施例ではトップゲート型ＴＦＴを例として説明したが、ＴＦＴ構造に関係なく本発明を適用することが可能であり、例えばボトムゲート型（逆スタガ型）ＴＦＴや順スタガ型ＴＦＴに適用することが可能である。
【０１１０】
次いで、画素部において、ドレイン領域と接する接続電極に接する第１の電極２１７をマトリクス状に配置する。この第１の電極２１７は、発光素子の陽極または陰極となる。次いで、第１の電極２１７の端部を覆う絶縁物（バンク、隔壁、障壁、土手などと呼ばれる）２１６を形成する。
絶縁物２１６は、感光性の有機樹脂を用いる。例えば、絶縁物２１６の材料としてネガ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物２１６の上端部に第１の曲率半径を有する曲面を有し、前記絶縁物の下端部に第２の曲率半径を有する曲面を有しており、前記第１の曲率半径および前記第２の曲率半径は、０．２μｍ〜３μｍとすることが好ましい。次いで、画素部に有機化合物を含む層２１８を形成し、その上に第２の電極２１９を形成してＥＬ素子を完成させる。この第２の電極２１９は、ＥＬ素子の陰極、または陽極となる。
【０１１１】
また、第１の電極２１７の端部を覆う絶縁物２１６を窒化アルミニウム膜、窒化酸化アルミニウム膜、または窒化珪素膜からなる第２の保護膜で覆ってもよい。
【０１１２】
例えば、絶縁物２１６の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合例を図１０（Ｂ）に示す。ポジ型の感光性アクリルを用いた絶縁物３１６ａの上端部のみに曲率半径を有する曲面を有しており、さらにこの絶縁物３１６ａを窒化アルミニウム膜、窒化酸化アルミニウム膜、または窒化珪素膜からなる第２の保護膜３１６ｂで覆う。
【０１１３】
次に、第１の電極２１７を陽極とする場合、第１の電極２１７の材料として、仕事関数の大きい金属（Ｐｔ、Ｃｒ、Ｗ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎ）を用い、端部を絶縁物（バンク、隔壁、障壁、土手などと呼ばれる）２１６や３１６で覆った後、実施の形態１及び２で示した蒸着源ホルダと成膜室とを有する蒸着装置を用いて、絶縁物２１６や３１６に合わせて蒸着源を移動させながら蒸着を行う。例えば、真空度が５×１０^−３Ｔｏｒｒ（０．６６５Ｐａ）以下、好ましくは１０^−４〜１０^−６Ｐａまで真空排気された成膜室で蒸着を行う。蒸着の際、抵抗加熱により、予め有機化合物は気化されており、蒸着時にシャッターが開くことにより基板の方向へ飛散する。気化された有機化合物は、上方に飛散し、メタルマスクに設けられた開口部を通って基板に蒸着され、発光層（正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層を含む）が形成される。
【０１１４】
また蒸着法により発光素子全体として白色を示す有機化合物を含む層を形成する場合、各発光層を積層することにより形成することができる。例えば、Ａｌｑ_３、部分的に赤色発光色素であるナイルレッドをドープしたＡｌｑ_３、ｐ−ＥｔＴＡＺ、ＴＰＤ（芳香族ジアミン）を順次積層することで白色を得ることができる。
【０１１５】
また、蒸着法を用いる場合、実施の形態３に示したように、成膜室には蒸着材料であるＥＬ材料が予め材料メーカーで収納されている容器（代表的にはルツボ）を設置することが好ましい。設置する際には大気に触れることなく行うことが好ましく、ルツボは第２の容器に密閉した状態のまま成膜室に導入することが好ましい。望ましくは、成膜室に連結して真空排気手段を有するチャンバー（設置室）を備え、そこで真空、または不活性ガス雰囲気で第２の容器からルツボを取り出して、成膜室にルツボを設置する。こうすることにより、ルツボおよび該ルツボに収納されたＥＬ材料を汚染から防ぐことができる。
【０１１６】
次いで、上記発光層上に、第２の電極２１９を陰極として形成する。この第２の電極２１９は、仕事関数の小さい金属（Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃｓ）を含む薄膜と、その上に積層した透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）との積層膜で形成すると好ましい。また、陰極の低抵抗化を図るため、絶縁物２１６上に補助電極を設けてもよい。こうして得られる発光素子は、白色発光を示す。なお、ここでは蒸着法により有機化合物を含む層２１８を形成した例を示したが、特に限定されず、塗布法（スピンコート法、インクジェット法など）により形成してもよい。
【０１１７】
また、本実施例では、有機化合物層として低分子材料からなる層を積層した例を示したが、高分子材料からなる層と、低分子材料からなる層とを積層してもよい。
【０１１８】
なお、ＴＦＴを有するアクティブマトリクス型発光装置は、光の放射方向で２通りの構造が考えられる。一つは、発光素子からの発光が第２の電極を透過して観測者の目に入る構造とする場合であり、上述の工程を用いて作製することができる。
【０１１９】
もう一つの構造は、発光素子からの発光が第１の電極および基板を透過して観測者の目に入るものである。発光素子からの発光が第１の電極を透過して観測者の目に入る構造とする場合、第１の電極２１７は透光性を有する材料を用いることが望ましい。例えば、第１の電極２１７を陽極とする場合、第１の電極２１７の材料として、透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）を用い、端部を絶縁物（バンク、隔壁、障壁、土手などと呼ばれる）２１６で覆った後、有機化合物を含む層２１８を形成し、その上に金属膜（ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、ＡｌＬｉ、ＣａＦ_２、ＣａＮなどの合金、または周期表の１族もしくは２族に属する元素とアルミニウムとを共蒸着法により形成した膜）からなる第２の電極２１９を陰極として形成すればよい。陰極形成の際には蒸着による抵抗加熱法を用い、蒸着マスクを用いて選択的に形成すればよい。
【０１２０】
以上の工程で第２の電極２１９までを形成した後は、基板２００上に形成された発光素子を封止するためにシール剤により封止基板を貼り合わせる。
【０１２１】
ここで、アクティブマトリクス型発光装置全体の外観図について図１１に説明する。なお、図１１（Ａ）は、発光装置を示す上面図、図１１（Ｂ）は図１１（Ａ）をＡ−Ａ’で切断した断面図である。基板１１１０上にソース信号線駆動回１１０１と、路、画素部１１０２と、ゲート信号線駆動回路１１０３を有している。また、封止基板１１０４と、シール剤１１０５と、基板１１１０とで囲まれた内側は、空間１１０７になっている。
【０１２２】
なお、ソース信号線駆動回路１１０１及びゲート信号線駆動回路１１０３に入力される信号を伝送するための配線１１０８は、外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）１１０９からビデオ信号やクロック信号を受け取る。なお、ここではＦＰＣしか図示されないが、このＦＰＣにはプリント配線基盤（ＰＷＢ）が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにＦＰＣもしくはＰＷＢが取り付けられた状態をも含むものとする。
【０１２３】
次に、断面構造について図１１（Ｂ）を用いて説明する。基板１１１０上には駆動回路及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路としてソース信号線駆動回路１１０１と画素部１１０２が示されている。
【０１２４】
なお、ソース信号線駆動回路１１０１はｎチャネル型ＴＦＴ１１２３とｐチャネル型ＴＦＴ１１２４とを組み合わせたＣＭＯＳ回路が形成される。また、駆動回路を形成するＴＦＴは、ＣＭＯＳ回路、ＰＭＯＳ回路もしくはＮＭＯＳ回路で形成してもよい。また、本実施例では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に形成することもできる。
【０１２５】
また、画素部１１０２はスイッチング用ＴＦＴ１１１１と、電流制御用ＴＦＴ１１１２とそのドレインに電気的に接続された第１の電極（陽極）１１１３を含む複数の画素により形成される。
【０１２６】
また、第１の電極（陽極）１１１３の両端には絶縁膜１１１４が形成され、第１の電極（陽極）１１１３上には有機化合物を含む層１１１５が形成される。有機化合物を含む層１１１５は、実施の形態１及び２で示した蒸着装置を用いて、絶縁膜１１１４に合わせて蒸着源ホルダを移動させて形成する。さらに、有機化合物を含む層１１１５上には第２の電極（陰極）１１１６が形成される。これにより、第１の電極（陽極）１１１２、有機化合物を含む層１１１５、及び第２の電極（陰極）１１１６からなる発光素子１１１８が形成される。ここでは発光素子１１１８は白色発光とする例であるので色変換層１１３１と遮光層（ＢＭ）１１３２からなるカラーフィルター（簡略化のため、ここではオーバーコート層は図示しない）が設けている。
【０１２７】
なお、図１１は、発光素子からの発光が第２の電極を透過して観測者の目に入る構造を示すため、カラーフィルターは封止基板側１１０４に配置されるが、発光素子からの発光が第１の電極を透過して観測者の目に入る構造の場合、カラーフィルターは基板１１１０の側に配置すればよい。
【０１２８】
また、第２の電極（陰極）１１１６は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線１１０８を経由してＦＰＣ１１０９に電気的に接続されている。また、絶縁膜１１１４上には第３の電極（補助電極）１１１７が形成されており、第２の電極の低抵抗化を実現している。
【０１２９】
また、基板１１１０上に形成された発光素子１１１８を封止するためにシール剤１１０５により封止基板１１０４を貼り合わせる。なお、封止基板１１０４と発光素子１１１８との間隔を確保するために樹脂膜からなるスペーサを設けても良い。そして、シール剤１１０５の内側の空間１１０７には窒素等の不活性気体が充填されている。なお、シール剤１１０５としてはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、シール剤１１０５はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。さらに、空間１１０７の内部に酸素や水を吸収する効果をもつ物質を含有させても良い。
【０１３０】
また、本実施例では封止基板１１０４を構成する材料としてガラス基板や石英基板の他、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ　Ｐｌａｓｔｉｃｓ）、ＰＶＦ（ポリビニルフロライド）、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。また、シール剤１１０５を用いて封止基板１１０４を接着した後、さらに側面（露呈面）を覆うようにシール剤で封止することも可能である。
【０１３１】
以上のようにして発光素子を封入することにより、発光素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水分や酸素といった有機化合物層の劣化を促す物質が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の高い発光装置を得ることができる。
【０１３２】
また、本実施例ではアクティブマトリクス型の発光装置の例を示したが、本発明を用いてパッシブマトリクス型の発光装置を完成させることもできる。
【０１３３】
また、本実施例は実施の形態１乃至３と自由に組み合わせることができる。
【０１３４】
（実施例２）
本実施例では第１の電極から封止までの作製を全自動化したマルチチャンバー方式の製造装置の例を図１２に示す。
【０１３５】
図１２は、ゲート１００ａ〜１００ｘと、仕込室１０１と、取出室１１９と、搬送室１０２、１０４ａ、１０８、１１４、１１８と、受渡室１０５、１０７、１１１と、成膜室１０６Ｒ、１０６Ｂ、１０６Ｇ、１０６Ｈ、１０６Ｅ、１０９、１１０、１１２、１１３と、蒸着源を設置する設置室１２６Ｒ、１２６Ｇ、１２６Ｂ、１２６Ｅ、１２６Ｈと、前処理室１０３と、封止基板ロード室１１７と、封止室１１６と、カセット室１１１ａ、１１１ｂと、トレイ装着ステージ１２１と、洗浄室１２２と、ベーク室１２３と、マスクストック室１２４とを有するマルチチャンバーの製造装置である。
【０１３６】
以下、予め薄膜トランジスタと、陽極、陽極の端部を覆う絶縁物とが設けられた基板を図１２に示す製造装置に搬入し、発光装置を作製する手順を示す。
【０１３７】
まず、カセット室１１１ａまたはカセット室１１１ｂに上記基板をセットする。基板が大型基板（例えば３００ｍｍ×３６０ｍｍ）である場合はカセット室１１１ａまたは１１１ｂにセットし、通常基板（例えば、１２７ｍｍ×１２７ｍｍ）である場合には、トレイ装着ステージ１２１に搬送し、トレイ（例えば３００ｍｍ×３６０ｍｍ）に複数の基板をセットする。
【０１３８】
次いで、複数の薄膜トランジスタと、陽極、陽極の端部を覆う絶縁物とが設けられた基板を搬送室１１８に搬送し、さらに洗浄室１２２に搬送し、溶液で基板表面の不純物（微粒子など）を除去する。洗浄室１２２において洗浄する場合には、大気圧下で基板の被成膜面を下向きにしてセットする。次いで、乾燥させるためにベーク室１２３に搬送し、加熱を行って溶液を気化させる。
【０１３９】
次いで、成膜室１１２に搬送し、予め複数の薄膜トランジスタと、陽極、陽極の端部を覆う絶縁物とが設けられた基板上に、正孔注入層として作用する有機化合物層を全面に形成する。本実施例では、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を２０［ｎｍ］成膜した。また、正孔注入層としてＰＥＤＯＴを形成する場合は、成膜室１１２にスピンコータを設けておき、スピンコート法により形成すればよい。なお、成膜室１１２においてスピンコート法で有機化合物層を形成する場合には、大気圧下で基板の被成膜面を上向きにしてセットする。このとき、水や有機溶剤を溶媒として用いた成膜を行った後は、焼成を行うためにベーク室１２３に搬送し、真空中での加熱処理を行って水分を気化させる。
【０１４０】
次いで、基板搬送機構が設けられた搬送室１１８から仕込室１０１に搬送する。本実施例の製造装置では、仕込室１０１には、基板反転機構が備わっており、基板を適宜反転させることができる。仕込室１０１は、真空排気処理室と連結されており、真空排気した後、不活性ガスを導入して大気圧にしておくことが好ましい。
【０１４１】
次いで仕込室１０１に連結された搬送室１０２に搬送する。搬送室１０２内には極力水分や酸素が存在しないよう、予め、真空排気して真空を維持しておくことが好ましい。
【０１４２】
また、上記の真空排気処理室としては、磁気浮上型のターボ分子ポンプ、クライオポンプ、またはドライポンプが備えられている。これにより仕込室と連結された搬送室の到達真空度を１０^−５〜１０^−６Ｐａにすることが可能であり、さらにポンプ側および排気系からの不純物の逆拡散を制御することができる。装置内部に不純物が導入されるのを防ぐため、導入するガスとしては、窒素や希ガス等の不活性ガスを用いる。装置内部に導入されるこれらのガスは、装置内に導入される前にガス精製機により高純度化されたものを用いる。従って、ガスが高純度化された後に蒸着装置に導入されるようにガス精製機を備えておく必要がある。これにより、ガス中に含まれる酸素や水、その他の不純物を予め除去することができるため、装置内部にこれらの不純物が導入されるのを防ぐことができる。
【０１４３】
また、不用な箇所に形成された有機化合物を含む膜を除去したい場合には、前処理室１０３に搬送し、メタルマスクを用いて有機化合物膜の積層を選択的に除去すればよい。前処理室１０３はプラズマ発生手段を有しており、Ａｒ、Ｈ、Ｆ、およびＯから選ばれた一種または複数種のガスを励起してプラズマを発生させることによって、ドライエッチングを行う。また、基板に含まれる水分やその他のガスを除去するために、脱気のためのアニールは真空中で行うことが好ましく、搬送室１０２に連結された前処理室１０３に搬送し、そこでアニールを行ってもよい。
【０１４４】
次いで、大気にふれさせることなく、搬送室１０２から受渡室１０５へ、受渡室１０５から搬送室１０４ａへ、基板を搬送する。そして、全面に設けられた正孔注入層（ＣｕＰｃ）上に、正孔輸送層や発光層となる低分子からなる有機化合物層を形成する。発光素子全体として、単色（具体的には白色）、或いはフルカラー（具体的には赤色、緑色、青色）の発光を示す有機化合物層を形成することができるが、本実施例では赤色、緑色、青色の発光を示す有機化合物層を、蒸着法により、各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂにて形成する例を説明する。
【０１４５】
まず、各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂについて説明する。各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂには、実施の形態１及び２に記載した移動可能な蒸着源ホルダが設置されている。この蒸着源ホルダは複数用意されており、第１の蒸着源ホルダには、各色の正孔輸送層を形成するＥＬ材料、第２の蒸着源ホルダには各色の発光層を形成するＥＬ材料、第３の蒸着源ホルダには各色の電子輸送層を形成するＥＬ材料、第４の蒸着源ホルダには各色の電子注入層を形成するＥＬ材料が封入され、この状態で各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂに設置されている。
【０１４６】
これら各成膜室への設置は、実施の形態３に記載した製造システムを用い、ＥＬ材料が予め材料メーカーで収納されている容器（代表的にはルツボ）を直接成膜室に設置することが好ましい。さらに設置する際には大気に触れることなく行うことが好ましく、材料メーカーから搬送する際、ルツボは第２の容器に密閉した状態のまま成膜室に導入することが好ましい。望ましくは、各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂに連結した真空排気手段を有する設置室１２６Ｒ、１２６Ｇ、１２６Ｂを真空、または不活性ガス雰囲気とし、この中で第２の容器からルツボを取り出して、成膜室にルツボを設置する。こうすることにより、ルツボおよび該ルツボに収納されたＥＬ材料を汚染から防ぐことができる。
【０１４７】
次に、成膜工程について説明する。まず、マスクストック室１２４に収納されているメタルマスクが、成膜室１０６Ｒに搬送され、設置される。そして、マスクを用いて正孔輸送層を成膜する。本実施例では、α―ＮＰＤを６０［ｎｍ］成膜した。その後、同一のマスクを用いて、赤色の発光層を成膜し、次いで電子輸送層、電子注入層を成膜する。本実施例では、発光層としてＤＣＭが添加されたＡｌｑ_３を４０［ｎｍ］成膜した後、電子輸送層としてＡｌｑ_３を４０［ｎｍ］成膜し、電子注入層としてＣａＦ_２を１［ｎｍ］成膜した。
【０１４８】
具体的に成膜室１０６Ｒでは、マスクが設置された状態で、正孔輸送層のＥＬ材料が設置された第１の蒸着源ホルダ、発光層のＥＬ材料が設置された第２の蒸着源ホルダ、電子輸送層のＥＬ材料が設置された第３の蒸着源ホルダ、電子注入層が設置された第４の蒸着源ホルダが順に移動し、成膜が行われる。また、成膜の際、抵抗加熱により有機化合物は気化されており、成膜時には、蒸着源ホルダに備えられたシャッター（図示しない）が開くことにより基板の方向へ飛散する。気化された有機化合物は、上方に飛散し、適宜設置するメタルマスク（図示しない）に設けられた開口部（図示しない）を通って基板に蒸着し、成膜される。
【０１４９】
このようにして、大気開放することなく、一つの成膜室において、赤色に発光する発光素子（正孔輸送層から電子注入層）を形成することができる。なお、一つの成膜室において、連続して成膜する層は、正孔輸送層から電子注入層に限定されるものではなく、実施者が適宜設定すればよい。
【０１５０】
そして、赤色の発光素子が形成された基板は、搬送機構１０４ｂにより、成膜室１０６Ｇへ搬送される。またマスクストック室１２４から収納されているメタルマスクが成膜室１０６Ｇへ搬送され、設置される。なおマスクは、赤色の発光素子を形成したときのマスクを利用しても構わない。そして、マスクを用いて正孔輸送層を成膜する。本実施例では、α―ＮＰＤを６０［ｎｍ］成膜した。その後、同一のマスクを用いて、緑色の発光層を成膜し、次いで電子輸送層、電子注入層を成膜する。本実施例では、発光層としてＤＭＱＤが添加されたＡｌｑ_３を４０［ｎｍ］成膜した後、電子輸送層としてＡｌｑ_３を４０［ｎｍ］成膜し、電子注入層としてＣａＦ_２を１［ｎｍ］成膜した。
【０１５１】
具体的に成膜室１０６Ｇでは、マスクが設置された状態で、正孔輸送層のＥＬ材料が設置された第１の蒸着源ホルダ、発光層のＥＬ材料が設置された第２の蒸着源ホルダ、電子輸送層のＥＬ材料が設置された第３の蒸着源ホルダ、電子注入層が設置された第４の蒸着源ホルダが順に移動し、成膜が行われる。また、成膜の際、抵抗加熱により有機化合物は気化されており、成膜時には、蒸着源ホルダに備えられたシャッター（図示しない）が開くことにより基板の方向へ飛散する。気化された有機化合物は、上方に飛散し、適宜設置するメタルマスク（図示しない）に設けられた開口部（図示しない）を通って基板に蒸着し、成膜される。
【０１５２】
このようにして、大気開放することなく、一つの成膜室において、緑色に発光する発光素子（正孔輸送層から電子注入層）を形成することができる。なお、一つの成膜室において、連続して成膜する層は、正孔輸送層から電子注入層に限定されるものではなく、実施者が適宜設定すればよい。
【０１５３】
そして、緑色の発光素子が形成された基板は、搬送機構１０４ｂにより、成膜室１０６Ｂへ搬送される。またマスクストック室１２４から収納されているメタルマスクが成膜室１０６Ｂへ搬送され、設置される。なおマスクは、赤色または緑色の発光素子を形成したときのマスクを利用しても構わない。そして、マスクを用いて正孔輸送層及び青色の発光層として機能する膜を成膜する。本実施例では、α―ＮＰＤを６０［ｎｍ］成膜した。その後、同一のマスクを用いて、ブロッキング層を成膜した後、電子輸送層、電子注入層を成膜する。本実施例では、ブロッキング層としてＢＣＰを１０［ｎｍ］成膜した後、電子輸送層としてＡｌｑ_３を４０［ｎｍ］成膜し、電子注入層としてＣａＦ_２を１［ｎｍ］成膜した。
【０１５４】
具体的に成膜室１０６Ｂでは、マスクが設置された状態で、正孔輸送層及び青色の発光層のＥＬ材料が設置された第１の蒸着源ホルダ、ブロッキング層のＥＬ材料が設置された第２の蒸着源ホルダ、電子輸送層のＥＬ材料が設置された第３の蒸着源ホルダ、電子注入層が設置された第４の蒸着源ホルダが順に移動し、成膜が行われる。また、成膜の際、抵抗加熱により有機化合物は気化されており、成膜時には、蒸着源ホルダに備えられたシャッター（図示しない）が開くことにより基板の方向へ飛散する。気化された有機化合物は、上方に飛散し、適宜設置するメタルマスク（図示しない）に設けられた開口部（図示しない）を通って基板に蒸着し、成膜される。
【０１５５】
このようにして、大気開放することなく、一つの成膜室において、緑色に発光する発光素子（正孔輸送層から電子注入層）を形成することができる。なお、一つの成膜室において、連続して成膜する層は、正孔輸送層から電子注入層に限定されるものではなく、実施者が適宜設定すればよい。
【０１５６】
なお、各色を成膜する順序は本実施例に限定されるものではなく、実施者が適宜設定すればよい。また、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等は、各色で共有することも可能である。例えば成膜室１０６Ｈで赤色、緑色、青色の発光素子に共通する正孔注入層または正孔輸送層を形成し、各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂで各色の発光層を形成し、成膜室１０６Ｅで赤色、緑色、青色の発光素子に共通する電子輸送層または電子注入層を形成してもよい。また、各成膜室において単色（具体的には白色）の発光を示す有機化合物層を形成することも可能である。
【０１５７】
なお、各成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂでは同時に成膜を行うことが可能であり、順に各成膜室を移動することにより、効率よく発光素子を形成することができ、発光装置のタクトは向上する。さらには、ある成膜室がメンテナンスを行っている場合、残りの成膜室で各発光素子を形成することができ、発光装置のスループットは向上する。
【０１５８】
また蒸着法を用いる場合、例えば、真空度が５×１０^−３Ｔｏｒｒ（０．６６５Ｐａ）以下、好ましくは１０^−４〜１０^−６Ｐａまで真空排気された成膜室で蒸着を行うことが好ましい。
【０１５９】
次いで、搬送室１０４ａから受渡室１０７に基板を搬送した後、さらに、大気にふれさせることなく、受渡室１０７から搬送室１０８に基板を搬送する。搬送室１０８内に設置されている搬送機構により、基板を成膜室１１０に搬送し、非常に薄い金属膜（ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、ＡｌＬｉ、ＣａＮなどの合金、または周期表の１族もしくは２族に属する元素とアルミニウムとを共蒸着法により形成した膜）からなる陰極（下層）を、抵抗加熱を用いた蒸着法で形成する。薄い金属層からなる陰極（下層）を形成した後、成膜室１０９に搬送してスパッタ法により透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）からなる陰極（上層）を形成し、薄い金属層と透明導電膜との積層からなる陰極を適宜形成する。
【０１６０】
以上の工程で図１０に示す積層構造の発光素子が形成される。
【０１６１】
次いで、大気に触れることなく、搬送室１０８から成膜室１１３に搬送して窒化珪素膜、または窒化酸化珪素膜からなる保護膜を形成する。ここでは、成膜室１１３内に、珪素からなるターゲット、または酸化珪素からなるターゲット、または窒化珪素からなるターゲットを備えたスパッタ装置とする。例えば、珪素からなるターゲットを用い、成膜室雰囲気を窒素雰囲気または窒素とアルゴンを含む雰囲気とすることによって窒化珪素膜を形成することができる。
【０１６２】
次いで、発光素子が形成された基板を大気に触れることなく、搬送室１０８から受渡室１１１に搬送し、さらに受渡室１１１から搬送室１１４に搬送する。次いで、発光素子が形成された基板を搬送室１１４から封止室１１６に搬送する。なお、封止室１１６には、シール材が設けられた封止基板を用意しておくことが好ましい。
【０１６３】
封止基板は、封止基板ロード室１１７に外部からセットし、用意される。なお、水分などの不純物を除去するために予め真空中でアニール、例えば、封止基板ロード室１１７内でアニールを行うことが好ましい。そして、封止基板に発光素子が設けられた基板と貼り合わせるためのシール材を形成する場合には、搬送室１０８を大気圧とした後、封止基板を封止基板ロード室と搬送室１１４との間でシール材を形成し、シール材を形成した封止基板を封止室１１６に搬送する。なお、封止基板ロード室において、封止基板に乾燥剤を設けてもよい。
【０１６４】
次いで、発光素子が設けられた基板の脱ガスを行うため、真空または不活性雰囲気中でアニールを行った後、シール材が設けられた封止基板と、発光素子が形成された基板とを貼り合わせる。また、密閉された空間には窒素または不活性気体を充填させる。なお、ここでは、封止基板にシール材を形成した例を示したが、特に限定されず、発光素子が形成された基板にシール材を形成してもよい。
【０１６５】
次いで、貼り合わせた一対の基板を封止室１１６に設けられた紫外線照射機構によってＵＶ光を照射してシール材を硬化させる。なお、ここではシール材として紫外線硬化樹脂を用いたが、接着材であれば、特に限定されない。
【０１６６】
次いで、貼り合わせた一対の基板を封止室１１６から搬送室１１４、そして搬送室１１４から取出室１１９に搬送して取り出す。
【０１６７】
以上のように、図１２に示した製造装置を用いることで完全に発光素子を密閉空間に封入するまで大気に曝さずに済むため、信頼性の高い発光装置を作製することが可能となる。なお、搬送室１１４においては、真空と、大気圧での窒素雰囲気とを繰り返すが、搬送室１０２、１０４ａ、１０８は常時、真空が保たれることが望ましい。
【０１６８】
なお、インライン方式の製造装置とすることも可能である。
【０１６９】
また、図１２に示す製造装置に、陽極として透明導電膜を搬入し、上記積層構造による発光方向とは逆方向である発光素子を形成することも可能である。
【０１７０】
また、本実施例は実施の形態１から３、実施例１と自由に組み合わせることができる。
【０１７１】
（実施例３）
本実施例では、実施例２とは異なる第１の電極から封止までの作製を全自動化したマルチチャンバー方式の製造装置の例を図１３に示す。
【０１７２】
図１３は、ゲート１００ａ〜１００ｓと、取出室１１９と、搬送室１０４ａ、１０８、１１４、１１８と、受渡室１０５、１０７と、仕込室１０１と、第１成膜室１０６Ａと、第２成膜室１０６Ｂと、第３成膜室１０６Ｃと、第４成膜室１０６Ｄと、その他の成膜室１０９ａ、１０９ｂ、１１３ａ、１１３ｂと、処理室１２０ａ、１２０ｂと、蒸着源を設置する設置室１２６Ａ、１２６Ｂ、１２６Ｃ、１２６Ｄと、前処理室１０３ａ、１０３ｂと、第１封止室１１６ａ、第２封止室１１６ｂと、第１ストック室１３０ａ、第２ストック室１３０ｂと、カセット室１１１ａ、１１１ｂと、トレイ装着ステージ１２１と、洗浄室１２２と、を有するマルチチャンバーの製造装置である。
【０１７３】
以下、予め薄膜トランジスタと、陽極、陽極の端部を覆う絶縁物とが設けられた基板を図１３に示す製造装置に搬入し、発光装置を作製する手順を示す。
【０１７４】
まず、カセット室１１１ａまたはカセット室１１１ｂに上記基板をセットする。基板が大型基板（例えば３００ｍｍ×３６０ｍｍ）である場合はカセット室１１１ａまたは１１１ｂにセットし、通常基板（例えば、１２７ｍｍ×１２７ｍｍ）である場合には、トレイ装着ステージ１２１に搬送し、トレイ（例えば３００ｍｍ×３６０ｍｍ）に複数の基板をセットする。
【０１７５】
次いで、複数の薄膜トランジスタと、陽極、陽極の端部を覆う絶縁物とが設けられた基板を搬送室１１８に搬送し、さらに洗浄室１２２に搬送し、溶液で基板表面の不純物（微粒子など）を除去する。洗浄室１２２において洗浄する場合には、大気圧下で基板の被成膜面を下向きにしてセットする。
【０１７６】
また、不用な箇所に形成された有機化合物を含む膜を除去したい場合には、前処理室１０３に搬送し、有機化合物膜の積層を選択的に除去すればよい。前処理室１０３はプラズマ発生手段を有しており、Ａｒ、Ｈ、Ｆ、およびＯから選ばれた一種または複数種のガスを励起してプラズマを発生させることによって、ドライエッチングを行う。また、基板に含まれる水分やその他のガスを除去するためやプラズマダメージを低減するために、真空中でアニールを行うことが好ましく、前処理室１０３に搬送し、そこでアニール（例えばＵＶ照射）を行ってもよい。また、有機樹脂材料中に含まれる水分やその他のガスを除去するために、前処理室１０３にて基板を減圧雰囲気で加熱するとよい。
【０１７７】
次いで、基板搬送機構が設けられた搬送室１１８から仕込室１０１に搬送する。本実施例の製造装置では、仕込室１０１には、基板反転機構が備わっており、基板を適宜反転させることができる。仕込室１０１は、真空排気処理室と連結されており、真空排気した後、不活性ガスを導入して大気圧にしておくことが好ましい。
【０１７８】
次いで仕込室１０１に連結された搬送室１０４ａに搬送する。搬送室１０４ａ内には極力水分や酸素が存在しないよう、予め、真空排気して真空を維持しておくことが好ましい。
【０１７９】
また、上記の真空排気処理室としては、磁気浮上型のターボ分子ポンプ、クライオポンプ、またはドライポンプが備えられている。これにより仕込室と連結された搬送室の到達真空度を１０^−５〜１０^−６Ｐａにすることが可能であり、さらにポンプ側および排気系からの不純物の逆拡散を制御することができる。装置内部に不純物が導入されるのを防ぐため、導入するガスとしては、窒素や希ガス等の不活性ガスを用いる。装置内部に導入されるこれらのガスは、装置内に導入される前にガス精製機により高純度化されたものを用いる。従って、ガスが高純度化された後に蒸着装置に導入されるようにガス精製機を備えておく必要がある。これにより、ガス中に含まれる酸素や水、その他の不純物を予め除去することができるため、装置内部にこれらの不純物が導入されるのを防ぐことができる。
【０１８０】
次いで、搬送室１０４ａから第１乃至第４成膜室１０６Ａ〜１０６Ｄへ基板が搬送される。そして、正孔注入層、正孔輸送層や発光層となる低分子からなる有機化合物層を形成する。
【０１８１】
発光素子全体として、単色（具体的には白色）、或いはフルカラー（具体的には赤色、緑色、青色）の発光を示す有機化合物層を形成することができるが、本実施例では、白色の発光を示す有機化合物層を各成膜室１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄにて同時に形成する（並列処理を行う）例を説明する。
なお、白色の発光を示す有機化合物層は、異なる発光色を有する発光層を積層する場合において、赤色、緑色、青色の３原色を含有する３波長タイプと、青色／黄色または青緑色／橙色の補色の関係を用いた２波長タイプに大別されるが、本実施例では、この３波長タイプを用いて白色発光素子を得る例を説明する。
【０１８２】
まず、各成膜室１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄについて説明する。各成膜室１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄには、実施の形態１に記載した移動可能な蒸着源ホルダが設置されている。この蒸着源ホルダは複数用意されており、第１の蒸着源ホルダには白色発光層を形成する芳香族ジアミン（ＴＰＤ）、第２の蒸着源ホルダには白色発光層を形成するｐ−ＥｔＴＡＺ、第３の蒸着源ホルダには白色発光層を形成するＡｌｑ_３、第４の蒸着源ホルダには白色発光層を形成するＡｌｑ_３に赤色発光色素であるＮｉｌｅＲｅｄを添加したＥＬ材料、第５の蒸着源ホルダにはＡｌｑ_３が封入され、この状態で各成膜室に設置されている。
【０１８３】
これら成膜室へＥＬ材料の設置は、実施の形態３に記載した製造システムを用いると好ましい。すなわち、ＥＬ材料が予め材料メーカーで収納されている容器（代表的にはルツボ）を用いて成膜を行うことが好ましい。さらに設置する際には大気に触れることなく行うことが好ましく、材料メーカーから搬送する際、ルツボは第２の容器に密閉した状態のまま成膜室に導入されることが好ましい。望ましくは、各成膜室１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄに連結した真空排気手段を有する設置室１２６Ａ、１２６Ｂ、１２６Ｃ、１２６Ｄを真空、または不活性ガス雰囲気とし、この中で第２の容器からルツボを取り出して、成膜室にルツボを設置する。こうすることにより、ルツボおよび該ルツボに収納されたＥＬ材料を汚染から防ぐことができる。なお、設置室１２６Ａ、１２６Ｂ、１２６Ｃ、１２６Ｄには、メタルマスクをストックしておくことも可能である。
【０１８４】
次に、成膜工程について説明する。成膜室１０６Ａにおいて、上述の設置室から必要に応じ、マスクが搬送され設置される。その後、第１から第５の蒸着源ホルダが順に移動を開始し、基板に対して蒸着が行われる。具体的には、加熱により第１の蒸着源ホルダからＴＰＤが昇華され、基板全面に蒸着される。その後、第２の蒸着源ホルダからｐ―ＥｔＴＡＺが昇華され、第３の蒸着源ホルダからＡｌｑ_３が昇華され、第４の蒸着源ホルダからＡｌｑ_３：ＮｉｌｅＲｅｄが昇華され、第５の蒸着源ホルダからＡｌｑ_３が昇華され、基板全面に蒸着される。
【０１８５】
また蒸着法を用いる場合、例えば、真空度が５×１０^−３Ｔｏｒｒ（０．６６５Ｐａ）以下、好ましくは１０^−４〜１０^−６Ｐａまで真空排気された成膜室で蒸着を行うことが好ましい。
【０１８６】
なお、この各ＥＬ材料が設置された蒸着源ホルダは、各成膜室に設けられており、成膜室１０６Ｂから１０６Ｄにおいても、同様に蒸着が行われる。すなわち、並列に成膜処理を行うことが可能となる。そのため、ある成膜室がメンテナンスやクリーニングを行っていても、残りの成膜室において成膜処理が可能となり、成膜のタクトが向上し、強いては発光装置のスループットを向上することができる。
【０１８７】
次いで、搬送室１０４ａから受渡室１０５に基板を搬送した後、さらに、大気にふれさせることなく、受渡室１０５から搬送室１０８に基板を搬送する。
【０１８８】
次いで、搬送室１０８内に設置されている搬送機構により、基板を成膜室１０９ａまたは成膜室１０９ｂに搬送し、陰極を形成する。この陰極は、抵抗加熱を用いた蒸着法により形成される非常に薄い金属膜（ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、ＡｌＬｉ、ＣａＮなどの合金、または周期表の１族もしくは２族に属する元素とアルミニウムとを共蒸着法により形成した膜）からなる陰極（下層）と、スパッタ法により形成される透明導電膜（ＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ合金）、酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等）からなる陰極（上層）と積層膜で形成するとよい。そのため、この製造装置に薄い金属膜を形成する成膜室を配置すると好ましい。
【０１８９】
以上の工程で図１０に示す積層構造の発光素子が形成される。
【０１９０】
次いで、大気に触れることなく、搬送室１０８から成膜室１１３ａまたは成膜室１１３ｂに搬送して窒化珪素膜、または窒化酸化珪素膜からなる保護膜を形成する。ここでは、成膜室１１３ａまたは１１３ｂ内には、珪素からなるターゲット、または酸化珪素からなるターゲット、または窒化珪素からなるターゲットが備えられている。例えば、珪素からなるターゲットを用い、成膜室雰囲気を窒素雰囲気または窒素とアルゴンを含む雰囲気とすることによって窒化珪素膜を形成することができる。
【０１９１】
次いで、発光素子が形成された基板を大気に触れることなく、搬送室１０８から受渡室１０７に搬送し、さらに受渡室１０７から搬送室１１４に搬送する。
【０１９２】
次いで、発光素子が形成された基板を搬送室１１４から処理室１２０ａまたは処理室１２０ｂへ搬送する。この処理室１２０ａまたは１２０ｂでは基板上にシール材を形成する。なお、本実施例では、シール材として紫外線硬化樹脂を用いるが、接着材であれば、特に限定されない。なお、シール材の形成は処理室１２０ａ、１２０ｂを大気圧とした後、行うとよい。そして、シール材が形成された基板は搬送室１１４を介して第１封止室１１６ａ、第２封止室１１６ｂへ搬送される。
【０１９３】
そして、第１ストック室１３０ａ、第２ストック室１３０ｂへは、色変換層（カラーフィルター）と遮光層（ＢＭ）とオーバーコート層が形成された封止基板が搬送される。その後、封止基板は第１封止室１３０ａ、または第２封止室１３０ｂへ搬送される。
【０１９４】
次いで、真空または不活性雰囲気中でアニールを行って、発光素子が設けられた基板の脱ガスを行った後、シール材が設けられた基板と、色変換層が形成された基板とを貼り合わせる。また、密閉された空間には窒素または不活性気体を充填させる。なお、ここでは、基板にシール材を形成した例を示したが、特に限定されず、封止基板にシール材を形成してもよい。すなわち、封止基板に色変換層（カラーフィルター）と遮光層（ＢＭ）とオーバーコート層とシール材を形成した後、第１ストック室１３０ａ、第２ストック室１３０ｂへ搬送してもよい。
【０１９５】
次いで、貼り合わせた一対の基板を第１封止室１１６ａまたは第２封止室１１６ｂに設けられた紫外線照射機構によってＵＶ光を照射してシール材を硬化させる。
【０１９６】
次いで、貼り合わせた一対の基板を封止室１１６から搬送室１１４、そして搬送室１１４から取出室１１９に搬送して取り出す。
【０１９７】
以上のように、図１３に示した製造装置を用いることで完全に発光素子を密閉空間に封入するまで大気に曝さずに済むため、信頼性の高い発光装置を作製することが可能となる。なお、搬送室１１４においては、真空と、大気圧での窒素雰囲気とを繰り返すが、搬送室１０２、１０４ａ、１０８は常時、真空が保たれることが望ましい。
【０１９８】
なお、インライン方式の製造装置とすることも可能である。
【０１９９】
また、図１３に示す製造装置に、陽極として透明導電膜を搬入し、上記積層構造による発光方向とは逆方向である発光素子を形成することも可能である。
【０２００】
図１５には図１３と異なる製造装置の例を記載する。図１３と同様に成膜を行えばよいので、詳しい成膜工程は省略するが、製造装置の構成で異なる点は、受渡室１１１と搬送室１１７が追加して設けられ、搬送室１１７に第２封止室１１６ｂと、第２ストック室１３０ｂと、成膜室（シール形成）１２０ｃ、１２０ｄとが設けられる。すなわち図１５では、全ての成膜室、封止室、ストック室はある搬送室と直接連結されているため、搬送を効率良く行い、さらに発光装置の作製を並列して行うことができ、発光装置のスループットが向上する。
【０２０１】
また、本実施例の発光装置の並列処理方法は、実施例２と組み合わせることができる。すなわち、成膜室１０６Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂを複数設けて、成膜処理を行えばよい。
【０２０２】
また、本実施例は実施の形態、実施例１と自由に組み合わせることができる。
【０２０３】
（実施例４）
本発明の発光装置を用いた電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）、ナビゲーションシステム、音響再生装置（カーオーディオ、オーディオコンポ等）、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等）、記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはＤｉｇｉｔａｌ　Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ　Ｄｉｓｃ（ＤＶＤ）等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置）などが挙げられる。特に、斜め方向から画面を見る機会が多い携帯情報端末は、視野角の広さが重要視されるため、発光装置を用いることが望ましい。それら電子機器の具体例を図１６に示す。
【０２０４】
図１６（Ａ）は発光装置であり、筐体２００１、支持台２００２、表示部２００３、スピーカー部２００４、ビデオ入力端子２００５等を含む。本発明の発光装置は表示部２００３に用いることができる。また本発明により、図１６（Ａ）に示す発光装置が完成される。発光装置は自発光型であるためバックライトが必要なく、液晶ディスプレイよりも薄い表示部とすることができる。なお、発光装置は、パソコン用、ＴＶ放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用発光装置が含まれる。
【０２０５】
図１６（Ｂ）はデジタルスチルカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、受像部２１０３、操作キー２１０４、外部接続ポート２１０５、シャッター２１０６等を含む。本発明の発光装置は表示部２１０２に用いることができる。また本発明により、図１６（Ｂ）に示すデジタルスチルカメラが完成される。
【０２０６】
図１６（Ｃ）はノート型パーソナルコンピュータであり、本体２２０１、筐体２２０２、表示部２２０３、キーボード２２０４、外部接続ポート２２０５、ポインティングマウス２２０６等を含む。本発明の発光装置は表示部２２０３に用いることができる。また本発明により、図１６（Ｃ）に示す発光装置が完成される。
【０２０７】
図１６（Ｄ）はモバイルコンピュータであり、本体２３０１、表示部２３０２、スイッチ２３０３、操作キー２３０４、赤外線ポート２３０５等を含む。本発明の発光装置は表示部２３０２に用いることができる。また本発明により、図１６（Ｄ）に示すモバイルコンピュータが完成される。
【０２０８】
図１６（Ｅ）は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、筐体２４０２、表示部Ａ２４０３、表示部Ｂ２４０４、記録媒体（ＤＶＤ等）読み込み部２４０５、操作キー２４０６、スピーカー部２４０７等を含む。表示部Ａ２４０３は主として画像情報を表示し、表示部Ｂ２４０４は主として文字情報を表示するが、本発明の発光装置はこれら表示部Ａ、Ｂ２４０３、２４０４に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム機器なども含まれる。また本発明により、図１６（Ｅ）に示すＤＶＤ再生装置が完成される。
【０２０９】
図１６（Ｆ）はゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）であり、本体２５０１、表示部２５０２、アーム部２５０３を含む。本発明の発光装置は表示部２５０２に用いることができる。また本発明により、図１６（Ｆ）に示すゴーグル型ディスプレイが完成される。
【０２１０】
図１６（Ｇ）はビデオカメラであり、本体２６０１、表示部２６０２、筐体２６０３、外部接続ポート２６０４、リモコン受信部２６０５、受像部２６０６、バッテリー２６０７、音声入力部２６０８、操作キー２６０９等を含む。本発明の発光装置は表示部２６０２に用いることができる。また本発明により、図１６（Ｇ）に示すビデオカメラが完成される。
【０２１１】
ここで図１６（Ｈ）は携帯電話であり、本体２７０１、筐体２７０２、表示部２７０３、音声入力部２７０４、音声出力部２７０５、操作キー２７０６、外部接続ポート２７０７、アンテナ２７０８等を含む。本発明の発光装置は表示部２７０３に用いることができる。なお、表示部２７０３は黒色の背景に白色の文字を表示することで携帯電話の消費電流を抑えることができる。また本発明により、図１６（Ｈ）に示す携帯電話が完成される。
【０２１２】
なお、将来的に発光材料の発光輝度が高くなれば、出力した画像情報を含む光をレンズ等で拡大投影してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用いることも可能となる。
【０２１３】
また、上記電子機器はインターネットやＣＡＴＶ（ケーブルテレビ）などの電子通信回線を通じて配信された情報を表示することが多くなり、特に動画情報を表示する機会が増してきている。発光材料の応答速度は非常に高いため、発光装置は動画表示に好ましい。
【０２１４】
【発明の効果】
本発明により、基板を回転させる必要がないため、大面積基板に対応可能な蒸着装置を提供することができる。また、大面積基板を用いても基板のたわみを抑え、且つ、多面取りに適した基板保持手段を提供することができる。
【０２１５】
また、本発明により、基板と蒸着源ホルダとの距離を短くでき、蒸着装置の小型化を達成することができる。そして、蒸着装置が小型となるため、昇華した蒸着材料が成膜室内の内壁、または防着シールドへ付着することが低減され、蒸着材料を有効利用することができる。
【０２１６】
また、本発明は、蒸着処理を行う複数の成膜室が連続して配置された製造装置を提供できる。このように、複数の成膜室において並列処理を行うため、発光装置の作製に要する時間を短縮できる。
【０２１７】
さらに本発明は、蒸着材料が封入された容器を、大気に曝すことなく蒸着装置に直接設置することを可能とする製造システムを提供することができる。このような本発明により、蒸着材料の取り扱いが容易になり、蒸着材料への不純物混入を避けることができる。このような製造システムにより、材料メーカーで封入された容器を直接蒸着装置に設置できるため、蒸着材料が酸素や水の付着を防止でき、今後のさらなる発光素子の超高純度化への対応が可能となる。
【０２１８】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蒸着装置を示す図。
【図２】本発明の蒸着ホルダの移動経路を示す図。
【図３】基板保持手段の一例を示す図である。（実施の形態２）
【図４】基板保持手段の一例を示す図である。（実施の形態２）
【図５】本発明の蒸着源ホルダを示す図。
【図６】本発明の製造システムを示す図。
【図７】本発明の搬送容器を示す図。
【図８】本発明の蒸着装置を示す図。
【図９】本発明の蒸着装置を示す図。
【図１０】本発明の発光装置を示す図。
【図１１】本発明の発光装置を示す図。
【図１２】本発明の蒸着装置を示す図。
【図１３】本発明の蒸着装置を示す図。
【図１４】蒸着装置を示す図。
【図１５】本発明の蒸着装置を示す図。
【図１６】本発明を用いた電子機器の一例を示す図。

Claims (8)

1. 基板に対向して配置した蒸着源ホルダから有機化合物材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う蒸着装置であって、
   前記基板が配置される成膜室には、基板保持手段と、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、前記蒸着源ホルダは蒸着材料が封入された容器と、前記容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、
   前記蒸着源ホルダを移動させる手段は前記蒸着源ホルダをあるピッチでＸ軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでＹ軸方向に移動させる機能を有し、
   前記基板保持手段は、基板と前記蒸着ホルダとの間に配置されていることを特徴とする蒸着装置。
2. 請求項１において、前記基板保持手段は、マスクを挟んで、端子部となる領域、切断領域、または基板端部と重なることを特徴とする蒸着装置。
3. 請求項１または請求項２において、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の頂点で基板またはマスクを支えることを特徴とする蒸着装置。
4. 基板に対向して配置した蒸着源ホルダから有機化合物材料を蒸着させて前記基板上に成膜を行う蒸着装置であって、
   前記基板が配置される成膜室には、基板保持手段と、前記蒸着源ホルダを移動させる手段と、前記蒸着源ホルダは蒸着材料が封入された容器と、前記容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターと、を有し、
   前記蒸着源ホルダを移動させる手段は前記蒸着源ホルダをあるピッチでＸ軸方向に移動させ、且つ、あるピッチでＹ軸方向に移動させる機能を有し、
   前記基板保持手段は、基板と前記蒸着ホルダとの間に配置されており、
   前記成膜室は、前記成膜室内を真空にする真空排気処理室と連結され、且つ、前記成膜室内にプラズマを発生させることを特徴とする蒸着装置。
5. 請求項４において、前記基板保持手段は導電性材料からなり、前記基板保持手段に高周波電源が接続されていることを特徴とする蒸着装置。
6. 請求項４または請求項５において、前記基板保持手段は、マスクを挟んで、端子部となる領域、切断領域、または基板端部と重なることを特徴とする蒸着装置。
7. 請求項４乃至６のいずれか一において、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の頂点で基板またはマスクを支えることを特徴とする蒸着装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか一において、前記基板保持手段は、凸部を有し、前記凸部の高さは１μｍ〜３０μｍであることを特徴とする蒸着装置。

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