JP2004044993A - 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 - Google Patents
蒸気発生機能付き高周波加熱装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004044993A JP2004044993A JP2002229075A JP2002229075A JP2004044993A JP 2004044993 A JP2004044993 A JP 2004044993A JP 2002229075 A JP2002229075 A JP 2002229075A JP 2002229075 A JP2002229075 A JP 2002229075A JP 2004044993 A JP2004044993 A JP 2004044993A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steam
- heating
- evaporating dish
- heating chamber
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/647—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
- H05B6/6473—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with convection heating
- H05B6/6479—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with convection heating using steam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
【解決手段】被加熱物を収容する加熱室11に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部13と、加熱室11内で蒸気を発生する蒸気発生部15と、加熱室11内の空気を撹拌する循環ファン17とを備えた。また、加熱室11内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータ19を備え、蒸気発生部15は、水溜凹所を有する蒸発皿35を加熱することで蒸気を発生する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の高周波加熱装置は、加熱用の高周波発生装置を備えた電子レンジや、この電子レンジに熱風を発生させるコンベクションヒータを付加したコンピネーションレンジ等がある。また、蒸気を加熱室に導入して加熱するスチーマーや、スチーマーにコンベクションヒータを付加したスチームコンベクションオーブン等も加熱調理器として利用されている。
【0003】
上記の加熱調理器により食品等を加熱調理する際、食品の加熱仕上がり状態が最も良好な状態になるように加熱調理器を制御する。即ち、高周波加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はコンビネーションレンジ、蒸気加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はスチームコンベクションオーブンによりそれぞれ制御することができる。しかし、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた調理は、それぞれの加熱処理を別個の加熱調理器間で加熱食品を移し替えて行う等の手間が生じることになる。その不便を解消するために、高周波加熱と、蒸気加熱と、電熱加熱とを一台の加熱調理器で実現したものがある。この加熱調理器は、例えば、特開昭54−115448号公報に開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記公報の構成によれば、加熱蒸気発生のための気化室が加熱室の下方に埋設されており、常に貯水タンクから一定水位で水が供給されるようになっている。従って、日常における加熱室周辺の清掃作業が行いにくく、特に気化室においては、蒸気発生の過程で水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮され、気化室底部やパイプ内に沈殿固着し、蒸気発生量が少なくなり、その結果、カビ等の繁殖しやすい不衛生な環境となる問題があった。
【0005】
また、蒸気を加熱室に導入する方法として、加熱室の外側に配置されたボイラー等の加熱手段により蒸気を発生させ、ここで発生した蒸気を加熱室に供給する方式も考えられるが、蒸気導入のためのパイプに雑菌の繁殖、凍結による破損、錆等による異物混入等の問題を生じ、また、加熱手段の分解・清掃が困難であることが多く、食品を扱うために特に衛生上配慮の必要がある加熱調理器においては、外部から蒸気を導入する方式は採用し難いものであった。
【0006】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができ、また、加熱効率を高めることのできる、蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的達成のため、本発明の請求項1記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気発生部とを備えたことを特徴とする。
【0008】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の内部へ蒸気が供給されるため、加熱室内にいち早く蒸気を供給できる。また、加熱方式としては、高周波加熱と蒸気加熱の両方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、両方を所定の順番で行ったりすることが自在にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な調理方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となる。
【0009】
請求項2記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸気発生部が、加熱室内に配設されて加熱により水溜凹所を有する蒸発皿から蒸気を発生させることを特徴とする。
【0010】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室内部に設けた蒸発皿から蒸気を発生するようにしているので、加熱室内に直接蒸気が供給されると共に、蒸気発生部の清掃を簡単に行うことができる。これにより、加熱室周辺を常に衛生的な環境に保つことができる。また、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた加熱を簡単に実現することができる
【0011】
請求項3記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸発皿が、前記加熱室の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に配設されていることを特徴とする。
【0012】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿が加熱室の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に配設されているので、蒸発皿が被加熱物の取り出しの邪魔にならず、また、蒸発皿が高温になっていても、被加熱物を出し入れする際に蒸発皿に手を触れるおそれがないので、安全性が高まる。
【0013】
請求項4記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、前記蒸発皿が、前記加熱室のいずれかの側壁面に沿った底面に配設されていることを特徴とする。
【0014】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の側壁面に沿った底面に蒸発皿を配設することで、蒸発皿からの蒸気を加熱室内に効率よく供給することができる。
【0015】
請求項5記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸発皿が、該蒸発皿の上面を前記加熱室の底面から所定高さ上方になる位置に配設されていることを特徴とする。
【0016】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の底面に被加熱物からしみ出した汁等の液体が、底面を伝って蒸発皿内に流れ込むことを防止して、蒸発皿を衛生的に保つことができる。
【0017】
請求項6記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸発皿が、被加熱物が載置される前記加熱室底面に沿って配設されていることを特徴とする。
【0018】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、被加熱物が載置される加熱室底面に沿った蒸発皿から蒸気が発生する。
【0019】
請求項7記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸気発生部が、前記蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータを備えていることを特徴とする。
【0020】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータで蒸発皿を加熱することにより蒸気を発生するようにしているので、簡単な構造で効率良く蒸気を発生することができる。
【0021】
請求項8記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸気発生部が、前記蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板を備えていることを特徴とする。
【0022】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を反射板により蒸発皿に向けて反射するようにしているので、ヒータの発生する熱を高効率で蒸気発生のために利用することができる。
【0023】
請求項9記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸発皿が、長手方向両端部に該長手方向に沿って水溜凹所が徐々に浅くなるテーパ部を有することを特徴とする。
【0024】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、水溜凹所へ注入した水が常に蒸発皿の中央部に溜まるようになり、これにより、蒸発皿加熱ヒータの全長を短くでき、コンパクト化が図られる。
【0025】
請求項10記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、前記蒸気発生部へ水を供給する給水部を備えたことを特徴とする。
【0026】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、給水部によって蒸発皿へ水を補給できるようにしたので、蒸発皿の水溜容量に拘わらず、大量の蒸気を長時間にわたって連続発生させることができ、蒸気加熱による長時間の調理が可能となる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の好適な実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図2はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図3は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図4は蒸気発生部の断面図である。
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置100は、被加熱物を収容する加熱室11に、高周波(マイクロ波)と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン13と、加熱室11内で蒸気を発生する蒸気発生部15と、加熱室11内の空気を撹拌・循環させる循環ファン17と、加熱室11内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ19と、加熱室11の壁面に設けた検出用孔を通じて加熱室11内の温度を検出する赤外線センサ20とを備えている。
【0028】
加熱室11は、前面開放の箱形の本体ケース10内部に形成されており、本体ケース10の前面に、加熱室11の被加熱物取出口を開閉する透光窓21a付きの開閉扉21が設けられている。開閉扉21は、下端が本体ケース10の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっている。加熱室11と本体ケース10との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室11の背後の空間は、循環ファン17及びその駆動モータ23(図7参照)を収容した循環ファン室25となっており、加熱室11の後面の壁が、加熱室11と循環ファン室25とを画成する仕切板27となっている。仕切板27には、加熱室11側から循環ファン室25側への吸気を行う吸気用通風孔29と、循環ファン室25側から加熱室11側への送風を行う送風用通風孔31とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔29,31は、多数のパンチ孔として形成されている。
【0029】
循環ファン17は、矩形の仕切板27の中央部に回転中心を位置させて配置されており、循環ファン室25内には、この循環ファン17を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ19が設けられている。そして、仕切板27に形成された吸気用通風孔29は循環ファン17の前面に配置され、送風用通風孔31は矩形環状のコンベクションヒータ19に沿って配置されている。循環ファン17を回すと、風は循環ファン17の前面側から駆動モータ23のある後面側に流れるように設定されているので、加熱室11内の空気が、吸気用通風孔29を通して循環ファン17の中心部に吸い込まれ、循環ファン室25内のコンベクションヒータ19を通過して、送風用通風孔31から加熱室11内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室11内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室25を経由して循環されるようになっている。
【0030】
マグネトロン13は、例えば加熱室11の下側の空間に配置されており、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根33が設けられている。そして、マグネトロン13からの高周波を、回転するスタラー羽根33に照射することにより、該スタラー羽根33によって高周波を加熱室11内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン13やスタラー羽根33は、加熱室11の底部に限らず、加熱室11の上面や側面側に設けることもできる。
【0031】
蒸気発生部15は、図2に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所35aを有した蒸発皿35と、蒸発皿35の下側に配設され、図3及び図4に示すように蒸発皿35を加熱する蒸発皿加熱ヒータ37と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿35に向けて反射する断面略U字形の反射板39とから構成されている。蒸発皿35は、例えばステンレス製の細長板状のもので、加熱室11の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を仕切板27に沿わせた向きで配設されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ37としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。
【0032】
図5は蒸気発生機能付き高周波加熱装置100を制御するための制御系のブロック図である。この制御系は、例えばマイクロプロセッサを備えてなる制御部501を中心に構成されている。制御部501は、主に、電源部503、記憶部505、入力操作部507、表示パネル509、加熱部511、冷却用ファン61等との間で信号の授受を行っている。
【0033】
入力操作部507には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ519、高周波加熱や蒸気加熱等の加熱方法を切り替える切替スイッチ521、予め用意されているプログラムをスタートさせる自動調理スイッチ523等の種々の操作スイッチが接続されている。
加熱部511には、高周波発生部13、蒸気発生部15、循環ファン17、赤外線センサ20等が接続されている。また、高周波発生部13は、電波撹拌部(スタラー羽根の駆動部)33と協働して動作し、蒸気発生部15には、蒸発皿加熱ヒータ37、室内気加熱ヒータ19(コンベクションヒータ)等が接続されている。なお、このブロック図には、上で説明した機械的構成要素以外の要素(例えば、送水ポンプ55や扉送風用ダンパ84、排気用ダンパ87等)も含まれているが、これらについては後の実施形態で説明する。
【0034】
次に、上述した蒸気発生機能付き高周波加熱装置100の基本的な動作について、図6のフローチャートを参照しながら説明する。
操作の手順としては、まず、加熱しようとする食品を皿等に載せて加熱室11内に入れ、開閉扉21を閉める。そして、加熱方法、加熱温度又は時間を入力操作部507により設定して(ステップ10、以降はS10と略記する)、スタートスイッチをONにする(S11)。すると、制御部501の動作によって自動的に加熱処理が行われる(S12)。
【0035】
即ち、制御部501は、設定された加熱温度・時間を読み取り、それに基づいて最適な調理方法を選択・実行し、設定された加熱温度・時間に達したか否かを判断して(S13)、設定値に達したときに、各加熱源を停止して加熱処理を終了する(S14)。なお、S12では、蒸気発生、室内気加熱ヒータ、循環ファン回転、高周波加熱を、それぞれ個別或いは同時に行う。
【0036】
上記した動作の際に、例えば「蒸気発生+循環ファンON」のモードが選択・実行された場合の作用を説明する。このモードが選択されると、図7に本高周波加熱装置100の動作説明図を示すように、蒸発皿加熱ヒータ37がONされることで、蒸発皿35の水が加熱され蒸気Sが発生する。蒸発皿35から上昇する蒸気Sは、仕切板27の略中央部に設けた吸気用通風孔29から循環ファン17の中心部に吸引され、循環ファン室25を経由して、仕切板27の周部に設けた送風用通風孔31から、加熱室11内へ向けて吹き出される。吹き出された蒸気は、加熱室11内において撹拌されて、再度、仕切板27の略中央部の吸気用通風孔29から循環ファン室25側に吸引される。これにより加熱室11内と循環ファン室25に循環経路が形成される。なお、仕切板27の循環ファン17の配置位置下方には送風用通風孔31を設けずに、発生した蒸気を吸気用通風孔29に導かれるようにしている。そして、図中白抜き矢印で示すように、蒸気が加熱室11を循環することによって、被加熱物Mに蒸気が吹き付けられる。
【0037】
この際、室内気加熱ヒータ19をONにすることによって、加熱室11内の蒸気を加熱できるので、加熱室11内を循環する蒸気の温度を高温に設定することができる。従って、いわゆる過熱蒸気が得られて、被加熱物Mの表面に焦げ目を付けた加熱調理も可能となる。また、高周波加熱を行う場合は、マグネトロン13をONにし、スタラー羽根33を回転することで、高周波を加熱室11内に撹拌しながら供給して、ムラのない高周波加熱調理を行うことができる。
【0038】
このように、本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室11の外部ではなく内部で蒸気を発生する構成にしているので、加熱室11内を清掃する場合と同様に、蒸気を発生する部分、つまり蒸発皿35の清掃を簡単に行うことができる。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて蒸発皿35の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿35の表面に付着したものを布等で拭き取るだけできれいに払拭することができる。また、特に汚れが激しい場合は、図8に示すように、蒸発皿35を加熱室11外に取り出して洗浄することもでき、蒸発皿35の清掃を簡単にできる。また、場合によっては、新しい蒸発皿35と交換することも簡単に行える。従って、蒸発皿35を含めて、清掃しやすくなり、加熱室11の内部を常に衛生的な環境に保つことが容易となる。
【0039】
また、この高周波加熱装置では、蒸発皿35を、加熱室11の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に配設しているので、被加熱物の取り出しの邪魔にならず、蒸発皿35がたとえ高温になっていても、被加熱物を出し入れする際に蒸発皿35に手を触れるおそれもなく安全性に優れる。
さらに、図9に蒸発皿と加熱室底面の位置関係を示すように、蒸発皿35を、蒸発皿35の上面35bが加熱室11の底面に対して高さhだけ上方になる位置に設置することで、加熱室11の底面に被加熱物からしみ出した汁等の液体が、底面を伝って蒸発皿35内に流れ込むことを防止している。これにより、蒸発皿35を衛生的に保つことができ、また、蒸発皿35と底面との間の段付き部の面22が被加熱物取出口に向いているため、この面22も容易に清掃できる。
【0040】
さらに、この高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータ37で蒸発皿35を加熱することにより蒸気を発生させているので、簡単な構造で効率良く蒸気を供給することができ、加熱によりある程度高い温度の蒸気が発生するので、単に加湿するだけの調理、あるいは高周波加熱と併用して乾燥を防止しつつ加熱する調理も可能である。
また、蒸発皿加熱ヒータ37の輻射熱は、反射板39で蒸発皿35に向けて反射させているので、蒸発皿加熱ヒータ37の発生する熱を無駄なく効率良く蒸気発生のために利用することができる。
【0041】
そして、この高周波加熱装置では、加熱室11内の空気を循環ファン17で循環・撹拌するようにしているので、蒸気加熱を行う際に、蒸気を加熱室11内の隅々にまでむらなく行き渡らせることができる。従って、加熱室11内に蒸気が充満するものの、滞留することはなく、蒸気が加熱室11内全体に行き渡ることになり、その結果として、赤外線センサ20による被加熱物の温度計測時に、赤外線センサが加熱室11内の蒸気粒子の温度を計測することなく、確実に被加熱物の温度が計測され、温度の測定精度を高めることができる。これにより、検出温度を参照してなされる加熱処理が、誤動作することなく適正に行われるようになる。
【0042】
また、加熱方法としては、高周波加熱と蒸気加熱の双方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、双方を所定の順番で行ったりすることが自由にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な加熱方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、効率の良い調理が可能となる。
【0043】
また、加熱室11内を循環する空気を、循環ファン室25に装備した室内気加熱ヒータ19で加熱できるようにしているので、加熱室11で発生させた蒸気の温度を自在に調整することができる。例えば、蒸気の温度を100℃以上の高温に設定することもできるため、過熱蒸気によって被加熱物を効率良く昇温させることができると共に、被加熱物表面を乾燥させて、場合によっては表面に焦げ目を付けることも可能となる。また、被加熱物が冷凍品の場合には、蒸気の熱容量が大きいために熱伝達が効率よく行われ、短時間で解凍することができる。
【0044】
さらに、この蒸気発生機能付き高周波加熱装置100では、循環ファン17を、加熱室11外に仕切板27を介して独立に設けた循環ファン室25に収容しているので、被加熱物の調理中に飛散する汁類が循環ファン17に付着することをなくすことができる。また同時に、通風を仕切板27に設けた通風孔29,31を通して行うので、通風孔29,31を設ける位置や通風孔29,31の開口面積等によって、加熱室11内に起こる蒸気の流れを自由に変更することができる。
【0045】
なお、上述した蒸発皿35は、水溜凹所の形状を次のようにしてもよい。図10に蒸発皿の他の形状の断面と蒸発皿加熱ヒータとを示す概略的な構成図、図11に図10のA−A断面図、図12に図10のA−A断面の他の例を示す断面図、図13に蒸発皿の更に他の形状を表す概略的な構成図を示した。
図10に示す蒸発皿42は、長手方向両端部に該長手方向に沿って水溜凹所が徐々に浅くなるテーパ部42aを有し、水溜凹所へ注入した水がテーパ部42aに沿って流れ、常に蒸発皿の中央部に溜まるようにしている。この構成により、蒸発皿加熱ヒータ37の全長を短くでき、コンパクト化が図られる。また、水溜凹所底面の横断面は、図11に示すように平面状であってもよいが、図12に示すように曲面形状であってもよい。曲面形状である場合には、水溜凹所の水が常に蒸発皿加熱ヒータ37に近い最下位置に集まり、加熱効率が向上する。また、図13に示す蒸発皿43は、その長手方向に沿って水溜凹所の底面を曲面形状に形成しており、これにより、蒸発皿加熱ヒータ37による熱が集中する中央部付近に水が溜まるようになる。従って、熱効率を高めた加熱が行える。
【0046】
また、蒸発皿35の加熱室11内における配置位置は、被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に限らず、適宜変更することもできる。図14に蒸発皿の配置例を示すように、例えば、図14(a)に示す加熱室のいずれかの側壁面81a、81bに沿った底面(図示例では側壁面81a側を示す)であってもよい。さらに、図14(b)に示す小型の蒸発皿44を、加熱室11底面の隅部(角部)に1つ或いは複数配置してもよい。この場合の小型の蒸発皿44は、例えば椀型の蒸発皿で、その蒸発皿の下部に蒸発皿加熱ヒータを備えたものである。いずれにせよ、加熱室内に蒸気を供給できれば、蒸発皿は任意の位置に配置することができる。なお、発生する蒸気の流れは、通常は上昇流れであるため、蒸発皿は加熱室の下側に設けることが、蒸気の撹拌の観点から好ましい。例えば、加熱室の下側半分の領域内に設けたり、加熱室底面に沿って設けることがよい。また、清掃が容易であれば、加熱室底面の更に下方の空間に設けてもよい。さらには、蒸発皿を規定の位置に固定せず、使用者が任意の位置に配置できるようにしてもよい。この場合には、加熱内容に応じて最適な位置に蒸気発生源を配置することができる。
【0047】
<第2実施形態>
次に、本実施形態に係る第2実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図15及び図16を用いて説明する。なお、以下の説明では前述した第1実施形態と同じ部材に対しては同一の符号を付与することでその説明は省略するものとする。本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図15(a)に示すように、蒸発皿35の上面を、一部に開口41aの設けられた蓋体41で覆っている。これにより、図15(b)に示すように、蒸気の出る位置を、開口41aのある部分に限定することができる。また、開口41aの開口面積に応じて蒸気の供給量を調整することができる。
【0048】
この開口41aは、図16に示すように、仕切板27中央の吸気用通風孔29の下方に配設してある。従って、発生した蒸気は、開口41aから上昇すると、すぐに吸気用通風孔29に吸い込まれることになり、蒸気が無駄に逃げることなく加熱室11内を循環する循環流となる。また、蓋体41を脱着自在に構成することで、開口の大きさを違えた蓋体と交換することも容易となり、加熱条件に応じた適切な蓋体を使用することができる。
【0049】
また、この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図16に示すように、吸気用通風孔29に吸引された蒸気の多くを、主に加熱室11の底面近傍から加熱室11内に吹き出すことができるように、仕切板27に設けた送風用通風孔31aを、仕切板27の下部に多く形成している。これは、蒸気自体が上昇するため、下側から多く吹き出した方が全体の流れの均一化が図れるからである。このようにすることで、加熱室11内における蒸気の流れは、最初底面付近を低く流れた後に、上方に向かう流れとなる。なお、送風用通風孔31bとして、仕切板27の略中間高さ部に設けているが、これは、加熱室11に図示しない被加熱物載置用の2段目のトレイがこの略中間高さ位置に装填されるために、このトレイの載置物に送風するために設けている。
この構成により、前述した実施形態よりも加熱が一層効果的となる循環流れが作り出され、加熱室11内の温度分布が小さく抑えられる。従って、加熱室11内に置かれた被加熱物を均一且つ高速に加熱することができる。
【0050】
また、上記蓋体41は、図17に斜視図を示した他の蓋体にすることもできる。この蓋体45は、円形状の開口45aが長手方向に沿って複数設けられた板状に形成され、その裏面の四隅に、蒸発皿35の上面との間で所定高さの隙間を形成するための脚部45bを厚み方向に突出させて形成している。この蓋体45は、電波損失の低い低誘電率材料であるコージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)からなり、熱衝撃に強く、容易には割れない機械強度を有している。
【0051】
この蓋体45を蒸発皿35に載せることで、図18に示すように、蓋体45の脚部45bによって蒸発皿35との間に所定間隔tの隙間46が生じ、この隙間46が蒸発皿35内の水が加熱されたときの、蓋体45下部における圧力増加を抑制している。これにより、蒸発皿35内の水の温度が上がり、突沸が生じた場合でも、その圧力が隙間46から効率よく逃されて、開口45aから水が飛散することがなくなる。従って、発生する蒸気は安定して開口45aから上方へ流れるようになる。なお、突沸が生じた場合でも、蒸発皿35の両脇の鍔部47によって流路が屈曲されて、隙間46から水が飛散することはなく、加熱室11内への水の飛着は殆どない。
【0052】
なお、上記の説明では、プロペラ式の循環ファンを備えた場合を示したが、図19に示すように、循環ファンとしてシロッコファン18を用いてもよい。この構成によれば、発生風の殆どを下側の送風用通風孔31aから強く吹き出させることができる。従って、蒸気発生部15で発生した蒸気Sをそのまま直接に、加熱室11内で充満させつつ循環させることができる。
【0053】
<第3実施形態>
次に、本発明に係る第3実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図20〜図23を用いて説明する。
図20は本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の要部を示す側面図、図21は管路先端に取り付けたノズルを示す説明図、図22は取り外し可能な水貯留タンクを示す説明図、図23は本体ケースの概念的な一部断面図である。
【0054】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図20に示すように、蒸気発生部15の蒸発皿35に対して水を補給する給水部51を新たに付加したことを特徴としている。給水部51は、水貯留タンク53と、水貯留タンク53から蒸発皿35に対して所定量の水を供給する送水ポンプ55と、水貯留タンク53から蒸発皿35までを接続する給水管路57とを有している。
【0055】
また、給水管路57の蒸発皿35側の端部57aは、図21に示すように、加熱室11の側壁面81aから突出しており、この突出した端部57aに、柔軟な耐熱性樹脂材料からなるノズル52を取り付けている。従って、水貯留タンク53の水は、送水ポンプ55により給水管路57,ノズル52を通じて蒸発皿35に供給される。なお、給水管路57の端部57aは、側壁面(例えば81a)、加熱室奥側の仕切板27のいずれの壁面から吐出させてもよい。
【0056】
本実施形態の構成によれば、蒸発皿35に対し水を連続供給することができるので、長時間の連続蒸気加熱処理が可能となる。また、ノズル52を脱着可能に設けたことにより、蒸発皿と同様に水分中のカルシウムやマグネシウム等が固着したり被加熱物から飛散した液汁等が付着して汚れた場合でも、ノズル52を取り外して洗浄することができる。また、新品のノズルと交換することもでき、メンテナンスが容易となる。このように、ノズル52を給水管路57の端部57aに設けたことで、清掃が簡単になって、常に衛生的な環境で蒸発皿へ水を供給できるようになる。また、ノズル52は柔軟材料で形成されているため、加熱室11内で食器等に接触しても破損することがなく、ノズル52管内の清掃も容易にできる。また、ノズル52を一体の射出成形品として作製することで、大量生産により安価に供給することができる。
【0057】
なお、水貯留タンク53は、図22に本装置の側面側の一部斜視図を示すように、取り扱い性を高めるためカートリッジ式としており、装置に組み込んだときに装置自体が大型化しないように、本体ケース10の比較的高温になりにくい側壁部にコンパクトに埋設してある。この他にも、断熱処理を施して装置の上面側に配設してもよく、下面側に配設してもよい。
【0058】
カートリッジ式の水貯留タンク53は、装置外部から取り出せて簡単に交換できることが好ましく、これにより取扱性を向上することができ、タンクの清掃も容易となる。例えば図示のように、装置側面から蓋59を開閉して出し入れ可能にしてもよく、装置前面から出し入れ可能にしてもよい。また、カートリッジ式の水貯留タンク53は、樹脂やガラス等の透明材料で形成し、タンク収納部分の本体ケース側の壁も透明材料で作ることにより、水貯留タンク53内の水残量を外側から目視確認可能に構成することが好ましい。さらに、残量センサを取り付けて、水貯留タンク53内の水残量を表示パネル509等に表示したり、図示しないスピーカからブザー等を鳴らすことで報知することで、蒸発皿35の空焚き等を未然に防止できる。
【0059】
ここで、装置の側壁部等に樹脂製の水貯留タンク53を配設した場合、水貯留タンク53が加熱室11からの熱の影響を受ける可能性がある。この場合には、図23に本体ケース10の概念的な一部断面図を示すように、水貯留タンク53を、冷却用ファン61(一例として、装置底部に配置され高周波加熱時に高周波発生部13を冷却するためのファンを利用する)からの冷却用風を加熱室11内に送り込む通風路63の途中に配設する。そうした場合、水貯留タンク53が熱影響を受けることを最小限に抑えることができるので、タンク材料の選択の幅を広げられ、敢えて断熱材で水貯留タンク53を保護する必要性も軽減される。
【0060】
<第4実施形態>
次に、本発明に係る第4実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図24を用いて説明する。
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図24に本体ケース10奥側の概念的な縦断面図を示すように、加熱室11及び循環ファン室25とは別に、それら両室11,25と仕切られた自冷ファン室71を設け、この自冷ファン室71に、加熱室11の壁面に設けた検出用孔73を通して加熱室11内の温度を検出する赤外線センサ20と、循環ファン17の駆動軸と同軸に設けられて駆動モータ23を冷却する自冷ファン75とを収容している。そして、自冷ファン75の回転による風圧によって、検出用孔73の近傍の自冷ファン室71側の圧力P1を、加熱室11側の圧力P2よりも高く維持するようにしている。
【0061】
一般に赤外線センサ20によって加熱室11内の温度を測定する場合、検出用孔73に保護用のガラス等の透明部材を取り付けておくと、ガラスに蒸気が付着して正確な測定ができないので、検出用孔73は介装物のない単なる貫通孔としている。しかし、貫通孔の場合、加熱室11側の空気が自由に出入りできるので、赤外線センサ20に蒸気等が付着する可能性があり、これにより温度測定精度が低下する。
【0062】
この点、本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、自冷ファン75の回転による風圧によって、検出用孔73の近傍の自冷ファン室71側の圧力P1を加熱室11側の圧力P2よりも高く維持するようにしているので、加熱室11側の空気が、赤外線センサ20を収容した自冷ファン室71側に侵入することを防ぐことができる。このため、赤外線センサ20に汚れが付着して検出精度が低下することを防止でき、常に高い精度で加熱室11内の温度を測定することができる。従って、正確な温度管理の下で加熱処理を行うことが可能になり、被加熱物への加熱の加減が狙い通りのものとなる。
【0063】
ここで、赤外線センサ20による温度測定方法について説明する。図25は赤外線センサによる温度測定の様子を示す説明図である。赤外線センサ20は、一度に複数点(n点)の温度を同時に検出しながら、赤外線センサ20自体を揺動させることで、図中矢印方向にスキャンし、加熱室11内を複数の測定点(スキャン方向にm点)に対する温度測定を行う。従って、赤外線センサ20の1スキャンで、図25(b)に示すn×m点の測定点における温度検出を行うことができる。被加熱物Mに対する温度は、連続的に検出される各測定点における温度の経過時間に対する上昇率に基づいて被加熱物Mの載置位置を求め、この載置位置における検出温度を被加熱物Mの温度として扱っている。
【0064】
上記赤外線センサ20の温度測定範囲は、蒸発皿35の配置位置を除く加熱室11底面としている。従って、蒸発皿35は、赤外線センサ20による温度測定波から実質的に外れた位置に配設されている。なお、赤外線センサ20のスキャンを加熱室11底面全体にわたって行い、蒸発皿35の位置からの検出データを無効にすることで温度測定を行う方法であってもよい。
【0065】
<第5実施形態>
次に、本発明に係る第5実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図26を用いて説明する。
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図26に本体ケース10の概念的な横断面図を示すように、加熱室11の開閉扉21近くの側壁面81aに、開閉扉21の透光窓21aの内面に対して外気を吹き付ける外気吹出口82を設けている。外気吹出口82は、本体ケース10と加熱室11の側壁面間に確保した側部通風路83に連通されており、その側部通風路83には、ダンパ84を介して後部通風路85が繋がっている。そして、装置底部に設けた冷却用ファン61からの風を、ダンパ84の切り替えにより、側部通風路83を介して外気吹出口82から加熱室11内に吹き出せるようになっている。なお、ダンパ84を他方に切り替えれば、冷却風は排気口88から外部に排気される。
【0066】
このように透光窓21aの内面に向けて外気を吹き付けることにより、蒸気加熱時や高周波加熱時に透光窓21aが蒸気で曇らないようにすることができ、加熱室11内の被加熱物の加熱状態を外側から目視確認することができる。なお、外気の吹き付けは必要な時のみ行えばよく、例えば、加熱終了の所定時間前から外気の吹き付けを開始することで、加熱終了時には透光窓21aの曇りが取れ、しかも、扉開放時に蒸気が手前側に立ちこめることを抑制できる。また、外気を強制的に導入して透光窓21aに吹き付ける構成としているので、開閉扉21を開ける前の時点での蒸気の追い出し効果(冷却効果)が特に優れる。
【0067】
<第6実施形態>
次に、本発明に係る第6実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図27、図28を用いて説明する。
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図27に本体ケースの概略構成を表す正面図、図28に通風経路を説明する平面図を示すように、外気吹出口82を加熱室11の一方の側壁面81aの上部の手前側に配設すると共に、加熱室11内の空気を排気する排気口86を、加熱室11の他方の側壁面81bの下部の奥側に配設している。この場合、排気口86はダンパ87を介して外部に直接繋がっており、加熱室11内の空気や蒸気を即座に装置外部へ排出できるようになっている。
【0068】
このように排気口86を加熱室11の底面近傍に配置することにより、排気を行う際の加熱室11内の空気流れが上面側から底面側へと向かうものとなり、加熱室11内の空気を淀ませることなく効果的に排出できる。また、排気する先が装置外の外気であるから、被加熱物から発生する蒸発成分が装置内壁に付着することを抑制できる効果もある。また、外気吹出口82を手前側に設け、排気口86を加熱室11の奥側に設けることにより、排気される加熱室11内の空気は、加熱室11内の直方体空間を対角線状に気流が横切るようになり、一層効率良く素早い換気を行うことができる。
【0069】
<第7実施形態>
次に、本発明に係る第7実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図29を用いて説明する。
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図29に装置の概略構成図を示すように、蒸発皿加熱ヒータを設けずに、蒸発皿35内の水を高周波加熱により蒸発させるようにしている。この場合、通常のスタラー羽根33による撹拌で、蒸発皿35内の水を高周波加熱してもよいが、望ましくは、スタラー羽根33による高周波の出射先を、蒸発皿35に向けることができるようにスタラー羽根33を設計し、蒸発皿35を集中的に加熱できるようにすることがよい。このことは、スタラー羽根33は通常回転して加熱室11全体を均一に加熱するようにしているが、これを特定の位置で停止させることで実現できる。例えば、所定時間集中して蒸発皿35内の水を加熱した後に、通常の加熱室11内の加熱処理に戻るという制御を実施すれば、蒸気発生と高周波加熱とを蒸発皿加熱ヒータを設けることなく同時に行うことができる。
【0070】
このように、蒸発皿加熱ヒータを省略して、高周波により蒸発皿35内の水を加熱・蒸発させることにより、構成を簡素化してコスト低減を図ることができる。
【0071】
なお、以上の各実施形態においては、高周波を撹拌するためにスタラー羽根33を設けた例について説明したが、図30に示すように、ターンテーブル91を用いて被加熱物を均等に加熱する構成であっても本発明を同様に適用することができる。即ち、蒸発皿35の配置位置を除く加熱室11底面に、図示した場合では、蒸発皿35の手前側にターンテーブル91を配置することで、機能的には遜色なく蒸気発生が行える。
【0072】
次に、蒸気発生部15の蒸気発生方式のバリエーションについて、図31を参照しながら説明する。図において、11は加熱室、401はカートリッジ式の水タンク、402はポンプ、403は排水機構である。(a)は、上述した蒸発皿35と蒸発皿加熱ヒータ37を用いた最もシンプルなタイプである。蒸発皿加熱ヒータ37としてガラス管式の遠赤外線ヒータを用いた場合は、蒸気発生量が10g/分程度で、約40秒で蒸気発生が可能である。また、ハロゲンヒータを用いた場合には、上記と同程度の蒸気発生量であって、約25秒で蒸気発生が可能である。このタイプの構造は単純で安価であり、蒸気発生までの時間が短い利点がある。
【0073】
(b)は、インバータ電源405とIH(電磁誘導加熱)コイル406を用いて蒸発皿35内の水を加熱するタイプである。このタイプでは、蒸気発生量が15g/分程度で、約15秒で蒸気発生が可能であり、蒸気発生までの時間が早い利点がある。
【0074】
(c)は、滴下式IHスチーマ406を用いるタイプで、インバータ電源405とIH(電磁誘導加熱)コイルとを用いて加熱した部材に、水滴を滴下して蒸発させるものである。このタイプは、大型となるが、蒸気発生量が20g/分程度で、約5秒で蒸気発生が可能となる。
【0075】
(d)は、ボイラー407を使用して蒸気を発生させるタイプで、蒸気発生量12〜13g/分程度で約40秒で蒸気発生が可能である。これは排水機構403等が複雑となるが、安価に構成できる。
【0076】
(e)は、超音波式の蒸気発生器408を用いるタイプで、発生した蒸気をファンFで吸い出して、室内気加熱ヒータ19で加熱してから加熱室11に供給するようにしている。
【0077】
【実施例】
ここで、上記した本発明に係る上記発生機能付き高周波加熱装置により、各種の加熱処理を行った例を説明する。
図32は、被加熱物として肉まん1個を加熱した場合の重量変化の様子を示している。肉まんを蒸気で加熱した(蒸した)場合、最終的に良好な状態に加熱できたか否かは水分量の増加で判断できる。
【0078】
(a)は室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータを570Wで加熱し、循環ファンを動作させないで蒸気加熱した場合を示す。(b)はコンベクションヒータを680Wで加熱し、循環ファンを動作させないで蒸気加熱した場合を示す。いずれの場合も、加熱時間に対する水分量の増加分が比較的少なく、単に加熱室11に蒸気を充満させてコンベクションヒータを加熱するだけでは、良好な蒸し上がり効果が得られなかったことが分かる。
【0079】
これに対し、(c)、(d)のように循環ファンを動作させた場合は、比較的高い水分量が得られ、良好な蒸し上がり効果が得られた。また、(c)のように循環ファンの回転数を落とした場合でも、時間が経過すると良好な蒸し上がり効果が得られることが分かった。つまり、循環ファンの動作により、蒸し上げ品の水分量を大きくすることができる。従って、蒸気加熱する場合には蒸気の循環が不可欠であると言える。
【0080】
図33は、循環ファンを動作させた場合とさせない場合の扉と加熱室内の結露量の違いを示す。結露は時間の経過につれて増加するが、循環ファンを動作させることにより、結露量を大きく減らせることが分かる。上記加熱開始から10分経過時において、循環ファン回転なしの場合で、扉7.6g、加熱室14.4gであったものが、循環ファン回転ありの場合で、扉3.1g、加熱室7.3gまで低下し、概ね半分程度にまで結露量を減らすことができる。
【0081】
図34は、蒸気加熱終了時点からの庫内及び扉における結露量の変化を、コンベンションヒータ加熱ありの場合、加熱なしの場合で調べた結果を示す。コンベンションヒータを動作させることにより、特に加熱室の結露量が加熱終了時点での7.3gから、3.0g(1分)、0.3g(2分)と大幅に低下する。また、扉に関しても、3.1gから、2.9g(1分),1.3g(2分)と低下の傾向が見られる。
【0082】
図35は、加熱室に蒸気を充満させたときに循環ファンを動作させた場合とさせない場合における赤外線センサの測定性能を調べた結果を示す。循環ファンを動作させない場合には、途中から赤外線センサの測定値に揺らぎが発生して測定精度が低下しているが、循環ファンを動作させた場合には、常に安定した測定が行えている。つまり、循環ファンを動作させることによって、赤外線センサの検出レベルが安定して、良好な温度測定が行えるようになる。
【0083】
【発明の効果】
本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室に蒸気をいち早く供給することができ、また、蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の扉を開けた状態を示す正面図である。
【図2】図1の蒸気発生機能付き高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図である。
【図3】蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図である。
【図4】同装置の蒸気発生部の断面図である。
【図5】蒸気発生機能付き高周波加熱装置を制御するための制御系のブロック図である。
【図6】蒸気発生機能付き高周波加熱装置の基本的な動作を説明するフローチャートである。
【図7】蒸気発生機能付き高周波加熱装置の動作説明図である。
【図8】蒸発皿を加熱室外に取り出す様子を示す説明図である。
【図9】蒸発皿と加熱室底面の位置関係を示す説明図である。
【図10】蒸発皿の他の形状の断面と蒸発皿加熱ヒータとを示す概略的な構成図である。
【図11】図10のA−A断面図である。
【図12】図10のA−A断面の他の例を示す断面図である。
【図13】蒸発皿の更に他の形状を表す概略的な構成図である。
【図14】蒸発皿の配置例を示す説明図である。
【図15】本発明に係る第2実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置で使用する蒸発皿及び蓋体の斜視図で、(a)は蓋体を被せる前、(b)は蓋体を被せた状態を示す図である。
【図16】蒸気発生機能付き高周波加熱装置による蒸気の循環の様子を示す説明図である。
【図17】他の蓋体の構成を示す斜視図である。
【図18】図17の蓋体を用いた場合の作用を示す説明図である。
【図19】シロッコファンを用いた変形例を示す側面図である。
【図20】本発明に係る第3実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の要部を示す側面図である。
【図21】管路先端に取り付けたノズルを示す説明図である。
【図22】取り外し可能な水貯留タンクを示す説明図である。
【図23】本体ケースの概念的な一部断面図である。
【図24】本発明に係る第4実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の要部を示す縦断面図である。
【図25】赤外線センサによる温度測定の様子を示す説明図である。
【図26】本発明に係る第5実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の概略構成を示す平面図である。
【図27】本発明に係る第6実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の概略構成を示す正面図である。
【図28】図27の装置の通風経路を説明する平面図である。
【図29】本発明に係る第7実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の概略構成図である。
【図30】ターンテーブルを備えた構成例を示す斜視図である。
【図31】蒸気発生部の各種バリエーション(a)〜(e)を示す説明図である。
【図32】被加熱物として肉まん1個を加熱した場合の重量変化の様子を示す図である。
【図33】循環ファンを動作させた場合とさせない場合の扉と加熱室内の結露量の違いを示す図である。
【図34】蒸気加熱終了時点からの庫内及び扉における結露量の変化を、コンベンションヒータ加熱ありの場合、加熱なしの場合で調べた結果を示す図である。
【図35】加熱室に蒸気を充満させたときに循環ファンを動作させた場合とさせない場合における赤外線センサの測定性能を調べた結果を示す図である。
【符号の説明】
11 加熱室
13 マグネトロン(高周波発生部)
15 蒸気発生部
17,18 循環ファン
19 コンベクションヒータ(室内気加熱ヒータ)
20 赤外線センサ
21 開閉扉
21a 透光窓
23 駆動モータ
25 循環ファン室
27 仕切板
29 吸気用通風孔
31,31A,31B 送風用通風孔
33 スタラー羽根(電波撹拌部)
35 蒸発皿
37 蒸発皿加熱ヒータ
39 反射板
41 蓋体
41a 開口
51 給水部
53 水貯留タンク
55 送水ポンプ
71 自冷ファン室
73 検出用孔
75 自冷ファン
82 吹出口
86 排気口
100 蒸気発生機能付き高周波加熱装置
Claims (10)
- 被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、
高周波発生部と、
前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気発生部とを備えたことを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。 - 前記蒸気発生部が、加熱室内に配設されて加熱により水溜凹所を有する蒸発皿から蒸気を発生させることを特徴とする請求項1記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸発皿が、前記加熱室の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に配設されていることを特徴とする請求項2記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸発皿が、前記加熱室のいずれかの側壁面に沿った底面に配設されていることを特徴とする請求項2記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸発皿が、該蒸発皿の上面を前記加熱室の底面から所定高さ上方になる位置に配設されていることを特徴とする請求項2〜請求項4のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸発皿が、被加熱物が載置される前記加熱室底面に沿って配設されていることを特徴とする請求項2〜請求項5のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸気発生部が、前記蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータを備えていることを特徴とする請求項2〜請求項6のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸気発生部が、前記蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板を備えていることを特徴とする請求項7記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸発皿が、長手方向両端部に該長手方向に沿って水溜凹所が徐々に浅くなるテーパ部を有することを特徴とする請求項7又は請求項8記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 前記蒸気発生部へ水を供給する給水部を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002229075A JP2004044993A (ja) | 2002-03-12 | 2002-08-06 | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002067034 | 2002-03-12 | ||
JP2002229075A JP2004044993A (ja) | 2002-03-12 | 2002-08-06 | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002216875A Division JP3827303B2 (ja) | 2002-03-12 | 2002-07-25 | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3473906B1 JP3473906B1 (ja) | 2003-12-08 |
JP2004044993A true JP2004044993A (ja) | 2004-02-12 |
Family
ID=30117343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002229075A Granted JP2004044993A (ja) | 2002-03-12 | 2002-08-06 | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004044993A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005103569A1 (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 加熱調理器及び加熱調理方法 |
JP2007032960A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Hakko Electric Mach Works Co Ltd | 水蒸気発生方法及びその装置 |
WO2007083565A1 (ja) | 2006-01-17 | 2007-07-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 高周波加熱装置 |
JP2008008535A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Sharp Corp | 蒸気発生装置および加熱調理器 |
JP2008275269A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸気発生機能付き加熱装置 |
US9140445B2 (en) | 2007-12-25 | 2015-09-22 | Tokyo Denki University | Superheated steam generation container, superheated steam generator, and superheated steam generation method |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3551936A4 (en) * | 2016-12-06 | 2020-08-05 | Whirlpool Corporation | HUMIDITY CONVECTION FOR MICROWAVE OVEN |
-
2002
- 2002-08-06 JP JP2002229075A patent/JP2004044993A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005103569A1 (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 加熱調理器及び加熱調理方法 |
JP2007032960A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Hakko Electric Mach Works Co Ltd | 水蒸気発生方法及びその装置 |
WO2007083565A1 (ja) | 2006-01-17 | 2007-07-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 高周波加熱装置 |
JP2007192420A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波加熱装置 |
JP4735276B2 (ja) * | 2006-01-17 | 2011-07-27 | パナソニック株式会社 | 高周波加熱装置 |
JP2008008535A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Sharp Corp | 蒸気発生装置および加熱調理器 |
JP2008275269A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸気発生機能付き加熱装置 |
US9140445B2 (en) | 2007-12-25 | 2015-09-22 | Tokyo Denki University | Superheated steam generation container, superheated steam generator, and superheated steam generation method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3473906B1 (ja) | 2003-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3827303B2 (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
EP1458220B1 (en) | High frequency heating apparatus having a steam generating function | |
EP1372358B1 (en) | High frequency heating apparatus with steam generation function | |
WO2005106333A1 (ja) | マイクロ波加熱方法及びその装置 | |
JP4472412B2 (ja) | 加熱調理器 | |
US7304278B2 (en) | Steam generation function-equipped high-frequency heating device | |
WO2005075892A1 (ja) | 加熱調理器及び加熱調理方法 | |
WO2016199395A1 (ja) | 加熱調理器 | |
JP3817186B2 (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置の制御方法 | |
JP4278502B2 (ja) | 高周波加熱調理器 | |
JP2004044993A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP2014052108A (ja) | 加熱調理器 | |
JPH09280569A (ja) | 高周波加熱装置 | |
JP2004044994A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP2004044995A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP3821054B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
WO2016079935A1 (ja) | 加熱調理器 | |
JP4419698B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP2006275505A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP3664157B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
JP2004278853A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP4059166B2 (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 | |
JP2006105592A (ja) | 蒸気発生機能付き高周波加熱装置およびその制御方法 | |
JP2011058677A (ja) | 加熱調理器 | |
JP2019168163A (ja) | 加熱調理器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |