JP2011058677A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】一つの加熱室内で、複数の被調理対象物を異なる調理条件で加熱調理するときの合計の調理時間を短縮することが可能な加熱調理器を提供する。
【解決手段】加熱調理器１は、加熱室１３０と、第１の供給部４００と、第２の供給部５００とを備える。加熱室１３０は、下段調理物８０１と上段調理物８０２とを加熱調理するためのものである。第１の供給部４００は、加熱室１３０内の下段調理物８０１に１００℃以下の温度の水蒸気を供給するものである。第２の供給部５００は、加熱室１３０内の上段調理物８０２に１００℃よりも高い温度の気体を供給するものである。第１の供給部４００と第２の供給部５００とは、同時に下段調理物８０１と上段調理物８０２とに気体を供給することが可能であるように構成されている。
【選択図】図５

Description

この発明は加熱調理器に関する。

従来、１００℃以下の温度の水蒸気や、水蒸気を１００℃よりも高い温度に加熱した過熱水蒸気を用いて被調理対象物の加熱調理を行う加熱調理器がある。

例えば、特開２００５−６１８１６号公報（特許文献１）には、加熱室の天井部の中央部に、蒸気加熱ヒータを内蔵したサブキャビティが設けられている蒸気調理器が記載されている。この蒸気調理器では、加熱室の中の蒸気は吸込口を通じて送風装置に吸い込まれ、外部循環路を通じてサブキャビティに圧送される。外部循環路を通る気体は、途中で蒸気発生装置より蒸気を吸引し、外部循環路からサブキャビティに入る。蒸気加熱ヒータにより加熱されて過熱状態になった蒸気はサブキャビティの底面パネルに形成された複数の上部噴気孔から、加熱室の底面に届く勢いで下向きに噴出し、被加熱物に衝突する。

特開２００５−６１８１６号公報

特開２００５−６１８１６号公報（特許文献１）に記載の水蒸気調理器では、異なる調理条件で調理される複数の被調理対象物を同時に調理するときには、例えば、まず、必要な加熱時間が比較的長い第１の被調理対象物を加熱室に入れて水蒸気または過熱水蒸気による調理を開始し、次に、必要な加熱時間が比較的短い第２の被調理対象物を加熱室に入れて、水蒸気または過熱水蒸気による調理を開始する。このようにすることにより、第１の被調理対象物と第２の被調理対象物とを別々に、順に調理するよりも、調理に必要な合計の時間を短縮することができる。例えば、第１の被調理対象物と第２の被調理対象物の調理を同時に終了させて、合計の調理時間を第１の被調理対象物の加熱調理に必要な時間にまで短縮することができる。また、加熱調理器によって第２の被調理対象物を加熱室に入れる時刻が報知される構成であってもよい。

しかしながら、このようにして第１の被調理対象物と第２の被調理対象物とを同時に調理する場合には、第１の被調理対象物を加熱室に入れて加熱調理を開始した後、加熱室の扉を開けて、第２の被調理対象物を加熱室に入れる必要がある。そのため、使用者にとって利便性が悪い。また、扉の開閉によって、加熱室の内部の過熱水蒸気や１００℃以下の水蒸気が加熱室の外部に流出するので、加熱室に供給する過熱水蒸気や１００℃以下の水蒸気を新たに生成しなければならず、電力を浪費する。

さらに、第１の被調理対象物と第２の被調理対象物の調理条件のうち、加熱調理に必要な時間だけが異なっている場合には、上述のように、加熱室に入れる時間をずらして一つの加熱室で調理することによって合計の調理時間を短縮することができるが、加熱調理の温度や加熱の方法など、他の調理条件も異なっている場合には、このような蒸気調理器では、一つの加熱室内で同時に調理を行なうことができない。例えば、蒸し調理と焼き調理を一つの加熱室内で同時に行なうことはできない。一つの加熱室内で同時に調理を行うことができない場合には、例えば、まず蒸し調理を行なった後、その調理物を取り出して、新たな調理物を加熱室に入れて、焼き調理を行うことになるので、調理の合計時間を第１の被調理対象物の加熱調理に必要な時間にまで短縮することができない。

そこで、この発明の目的は、複数の被調理対象物を異なる調理条件で加熱調理するときの合計の調理時間を短縮することが可能な加熱調理器を提供することである。

この発明に従った加熱調理器は、加熱室と、第１の供給部と、第２の供給部とを備える。加熱室は、二以上の被調理対象物を加熱調理するためのものである。第１の供給部は、加熱室内の一つの被調理対象物に１００℃以下の温度の水蒸気を供給するものである。第２の供給部は、加熱室内の別の被調理対象物に１００℃よりも高い温度の気体を供給するものである。第１の供給部と第２の供給部とは、同時に二以上の被調理対象物に気体を供給することが可能であるように構成されている。

第１の供給部は、加熱室内の一つの被調理対象物に１００℃以下の温度の水蒸気を供給して、この被調理対象物を、例えば、蒸し調理することができる。一方、第２の供給部は、加熱室内の別の被調理対象物に１００℃よりも高い温度の気体を供給して、この被調理対象物を、例えば、焼き調理することができる。第１の供給部による１００℃以下の温度の水蒸気の供給と、第２の供給部による１００℃よりも高い温度の気体の供給とは、同時にされることが可能である。したがって、同時に、複数の被調理対象物のうち、一つの被調理対象物を例えば蒸し調理し、別の被調理対象物を焼き調理することができる。

第１の供給部が１００℃以下の水蒸気を供給することによる調理と、第２の供給部が１００℃よりも高い温度の気体を供給することによる調理との間に、使用者が加熱室の扉を開閉する必要がないので、水蒸気が加熱室から流出せず、無駄がない。また、使用者にとっても、調理中に加熱室の扉を開閉する必要がなくなる。

このようにすることにより、複数の被調理対象物を異なる調理条件で加熱調理するときの合計の調理時間を短縮することが可能な加熱調理器を提供することができる。

この発明に従った加熱調理器は、第１の供給部と第２の供給部との間に配置される隔壁部を備えることが好ましい。

第１の供給部と第２の供給部との間に配置される隔壁部を備えることにより、第１の供給部によって供給される１００℃以下の水蒸気と、第２の供給部によって供給される１００℃よりも高い温度の気体とが混合することを防ぐことができる。このようにすることにより、より効率よく異なる種類の調理を同時に行うことができる。

この発明に従った加熱調理器においては、第１の供給部は加熱室の下部に配置され、第２の供給部は加熱室の上部に配置されていることが好ましい。

このようにすることにより、加熱室の内部の構造を複雑にしたり、加熱手段を増設したりすることなく、第１の供給部と第２の供給部を加熱室内に設けることができる。また、第１の供給部に供給される１００℃以下の水蒸気によって調理される被調理対象物を、第１の供給部が配置される加熱室の下部に配置し、第２の供給部に供給される１００℃よりも高い温度の気体によって調理される被調理対象物を、第２の供給部が配置される加熱室の上部に配置すれば、これらの被調理対象物の間の温度差を保つことが容易になるので、効果的に複数の調理条件の調理を行うことができる。

この発明に従った加熱調理器においては、第２の供給部は１００℃よりも高い温度の水蒸気を被調理対象物に供給することが好ましい。

第２の供給部が１００℃よりも高い温度の水蒸気、すなわち、過熱水蒸気を被調理対象物に供給することによって、被調理対象物を、低酸素状態で調理することができるので、被調理対象物が含む栄養成分を保持しながら加熱調理することができる。過熱水蒸気を被調理対象物に供給して調理を行うことによって、被調理対象物を乾燥させ過ぎることなく、高い熱量による調理をすることができる。

この発明に従った加熱調理器においては、第２の供給部は１００℃よりも高い温度の空気を被調理対象物に供給することが好ましい。

第２の供給部が１００℃よりも高い温度の空気を被調理対象物に供給することによって、被調理対象物を乾燥させたり、被調理対象物に焦げ目を付けたりすることができる。このようにすることにより、第１の供給部によって供給される１００℃以下の水蒸気による蒸し調理と、第２の供給部によって供給される１００℃よりも高い温度の空気によるオーブン調理とを、一つの加熱室内で同時に行なうことができる。

この発明に従った加熱調理器は、第１の供給部の駆動と第２の供給部の駆動とを制御する制御部を備えることが好ましい。制御部は、第１の供給部と第２の供給部とを別個に駆動させるように制御することが好ましい。

例えば制御部が、第１の供給部によって供給される１００℃以下の水蒸気の量と、第２の供給部によって供給される１００℃よりも高い温度の気体の量とを異なるように制御することによって、より効果的に、一つの加熱室内において、複数の被調理対象物を異なる調理条件で調理することができる。

以上のように、この発明によれば、複数の被調理対象物を異なる調理条件で加熱調理するときの合計の調理時間を短縮することが可能な加熱調理器を提供することができる。

この発明の一つの実施の形態として、加熱調理器の全体の外観を示す正面図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の全体の外観を示す側面図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の加熱室の内部を正面から見た状態を示す図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の加熱室に上載置皿を配置したときの状態を示す図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の内部の構造を模式的に示す図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の制御関連の構成を示すブロック図である。 この発明の一つの実施の形態に係る加熱調理器の上載置皿の形状を模式的に示す図である。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

図１と図２に示すように、加熱調理器１は、直方体形状のキャビネット１００によって全体が覆われている。キャビネット１００の正面には扉１１０が設けられている。加熱調理器１は過熱水蒸気を加熱媒体として調理物を調理するものである。

扉１１０は、下端を中心に垂直面内で回動可能に枢支されている。扉１１０の上部には扉１１０を開閉するためのハンドル１１５が設けられている。扉１１０の中央部１１２には耐熱ガラスをはめ込んで内部を視認できる透過部１１１が設けられる。中央部１１２の左右には、金属製装飾板を表面に設けた左側部１１３および右側部１１４が対称的に配置されている。扉１１０の右側部１１４には操作パネル１２０が設けられている。

図３に示すように、扉１１０は、使用者がハンドル１１５を把持して手前に引くと回動し、垂直に立てられて加熱室１３０を閉塞する閉状態から、水平に倒されて加熱室１３０を開放する開状態へと９０°回動される。扉１１０を開くとキャビネット１００の正面が露出する。

キャビネット１００内において、扉１１０の中央部１１２に対向する位置には加熱室１３０が形成されている。扉１１０の左側部１１３に対向する位置には水タンク室３２１が形成されている。水タンク室３２１には、水蒸気発生用の水を貯溜する水タンク３２２が収納される。扉１１０の右側部１１４に対向する位置には開口部は形成されていないが、内部に制御基板（図示しない）が配置されている。

加熱室１３０は略直方体に形成されている。扉１１０を閉めたときに扉１１０に対向する正面の全面に、被調理対象物を加熱室１３０から出し入れするための開口部１３４が形成されている。上述のように扉１１０が回動されることによって開口部１３４が開閉される。加熱室１３０の壁面はステンレス鋼板で形成され、加熱室１３０の外周面には断熱対策が施されている。

図４に示すように、加熱室１３０の側壁には、上載置皿支持部１３３と下載置皿支持部１３２とが設けられている。上載置皿支持部１３３は、加熱室１３０の比較的上部に配置され、下載置皿支持部１３２は、加熱室の比較的下部に配置されている。上載置皿支持部１３３と下載置皿支持部１３２には、それぞれ、ステンレス鋼板製の上載置皿２０２と下載置皿が係止される。上載置皿２０２上には被調理対象物を載置するステンレス鋼線製のラック２０３が設置される。図４には、上載置皿２０２だけを上載置皿支持部１３３に取り付けた状態を示す。このようにすることにより、上載置皿２０２と下載置皿とにそれぞれ被調理対象物を載置して、一つの加熱室１３０で一度に多くの被調理対象物を加熱調理することができる。

加熱室１３０の奥側の背壁には、左右方向の略中央部に水蒸気供給口４１１と吸気口５１３が形成されている。水蒸気供給口４１１は、下載置皿支持部１３２よりも上方であって、上載置皿支持部１３３よりも下方に形成されている。吸気口５１３は、下載置皿支持部１３２と上載置皿支持部１３３よりも上方に形成されている。加熱室１３０の背壁の左方下部には、水蒸気排気口４２１が形成されている。水蒸気排気口４２１は、下載置皿支持部１３２よりも下方に形成される。

加熱室１３０の左右の側壁の上部には、反射部５２６が形成されている。反射部５２６は、加熱室１３０の側壁に凹設され、表面が曲面により形成されている。反射部５２６は、上載置皿支持部１３３の上方に形成されている。

加熱室１３０内の天面には、過熱水蒸気を噴き出すためのヒータカバー５２３が取り付けられている。ヒータカバー５２３は、ステンレス鋼板によって形成され、平面視が矩形に対して前部の両コーナーが面取りされた略六角形に形成されている。ヒータカバー５２３は上下両面とも塗装等の表面処理によって暗色に仕上げられている。このようにすることにより、ヒータカバー５２３が後述する水蒸気加熱ヒータの輻射熱を吸収して、吸収された熱がヒータカバー５２３の下面から加熱室１３０内に輻射される。

ヒータカバー５２３の底面および周面には複数の噴気口５２４、噴気口５２５が形成されている。それぞれの噴気口５２４、噴気口５２５の周縁は筒状に形成され、噴気口５２４、噴気口５２５の軸方向に気流を案内することができる。噴気口５２４からは、加熱室１３０の中央に向かって気体が噴出される。噴気口５２５からは、加熱室１３０の側壁および扉１１０に向かって気体が噴出される。加熱室１３０の側壁には、上述のように反射部５２６が配置されている。ヒータカバー５２３から反射部５２６に向けて噴き出された過熱水蒸気は反射部５２６で反射してラック２０３の下方に導かれる。

ヒータカバー５２３の右側部の手前側には加熱室１３０内を照明する照明装置１４０が設けられている。

加熱室１３０の底面１３１には、底面ヒータ１５０が配置されている。

次に、加熱調理器１において水蒸気を発生させる水蒸気発生部と、第１の供給部と、第２の供給部の構成について、図５を用いて説明する。

図５に示すように、加熱調理器１の水蒸気発生部３００の水タンク３２２は、上述のように加熱室１３０の左方に配置され、ジョイント部３２０を介して給水部３２４と連通する。このようにすることより、キャビネット１００（図２）に対して水タンク３２２が着脱自在になっている。

水タンク３２２には水位センサ３１８が設けられる。水位センサ３１８は複数の電極を有し、電極間の導通により水位を検知する。本実施形態ではＧＮＤ電極と３本の検知電極によって水位を３段階に検知している。水位センサ３１８の検知によって水タンク３２２の水位が所定水位よりも低下すると、給水を促すように報知される。

給水部３２４には給水路３１７が底部まで延びて浸漬される。給水路３１７は経路途中に給水ポンプ３１９が設けられ、水蒸気発生装置３１０に接続される。水蒸気発生装置３１０は軸方向が垂直な筒型のポット３１１を有し、給水ポンプ３１９の駆動によって水タンク３２２からポット３１１に給水される。

ポット３１１は金属、合成樹脂、セラミック或いはこれらの異種材料の組み合わせ等により筒型に形成され、耐熱性を有している。ポット３１１内には螺旋状のシーズヒータから成る水蒸気発生ヒータ３１４が浸漬される。水蒸気発生ヒータ３１４の通電によってポット３１１内の水が昇温され、水蒸気が発生する。

ポット３１１内には上面から螺旋状の水蒸気発生ヒータ３１４内に延びた筒状の隔離壁３１２が設けられる。隔離壁３１２により水蒸気発生ヒータ３１４と隔離される水位検知室３１３が形成される。隔離壁３１２はポット３１１の底面に対して隙間を有するように形成され、水位検知室３１３の内部と外部とが連通して同じ水位に維持される。

水位検知室３１３内には、ポット３１１内の水位を検知するポット水位センサ７１０が設けられる。ポット水位センサ７１０は複数の電極を有し、電極間の導通によりポット３１１内の水位を検知する。水蒸気発生ヒータ３１４と水位検知室３１３とが隔離壁３１２で隔離されるため、水蒸気発生ヒータ３１４に接した水の沸騰による発泡がポット水位センサ７１０に伝えられにくい。これにより、発泡による電極の導通を回避し、ポット水位センサ７１０の検知精度を向上することができる。

なお、ポット３１１の外周面にヒータ等を密着してポット３１１内の水を昇温してもよい。この時、ポット３１１の周壁はポット３１１内の水を加熱する加熱手段を構成し、水位検知室３１３はポット３１１の周壁に対して隔離して設けられる。また、水蒸気発生ヒータ３１４をＩＨヒータにより形成してもよい。

ポット３１１の上面には、後述する水蒸気流路切替部３３２を介して循環ダクト５１０と水蒸気供給ダクト４１２とに接続する水蒸気供給ダクト３３１が導出される。ポット３１１の周面の上部には給水部３２４に連結される溢水パイプ３２５が設けられる。溢水パイプ３２５によって、ポット３１１の溢水が水タンク３２２に導かれる。溢水パイプ３２５の溢水レベルはポット３１１内の通常の水位レベルよりも高く、水蒸気供給ダクト３３１よりも低い高さに設定されている。

ポット３１１の下端には排水パイプ３１５が導出される。排水パイプ３１５の経路途中には排水バルブ３１６が設けられている。排水パイプ３１５は水タンク３２２内に設けた排水貯溜部３２３に向かって所定角度の勾配を有している。このようにすることにより、排水バルブ３１６を開いてポット３１１内の水を排水貯溜部３２３に排水して貯溜し、水タンク３２２を取り外して廃棄することができる。

水蒸気供給ダクト３３１は、水蒸気流路切替部３３２を介して、水蒸気供給ダクト４１２と循環ダクト５１０とに接続されている。水蒸気流路切替部３３２としては、ダンパや電磁弁が用いられる。水蒸気流路切替部３３２は、水蒸気供給ダクト３３１内の水蒸気を、水蒸気供給ダクト４１２と循環ダクト５１０のいずれに流通させるかを切り替えることができるように構成されている。

次に、第１の供給部４００の構成について説明する。第１の供給部４００は、上述の水蒸気発生部３００と、加熱室１３０の背面壁に形成される水蒸気供給口４１１と、水蒸気供給口４１１に連通する水蒸気供給ダクト４１２とから構成されている。水蒸気流路切替部３３２によって、水蒸気供給ダクト３３１内の水蒸気が水蒸気供給ダクト４１２内に流入するように切り替えられている場合には、水蒸気発生部３００において発生した水蒸気は、水蒸気供給ダクト３３１から水蒸気流路切替部３３２を介して、水蒸気供給ダクト４１２に流入し、水蒸気供給口４１１から加熱室１３０内に流入する。上述のように、水蒸気供給口４１１は下載置皿支持部１３２（図４）に支持される下載置皿２０１よりも上方であって、上載置皿支持部１３３（図４）に支持される上載置皿２０２よりも下方に形成されている。

加熱室１３０の下部には水蒸気排気口４２１を介して加熱室１３０内に連通する水蒸気排気ダクト４２２が導出される。水蒸気排気ダクト４２２は、ステンレス鋼等の金属によって形成されている。水蒸気排気ダクト４２２は、外部に臨む開放端を有し、加熱室１３０内の水蒸気を自然排気する。

次に、第２の供給部５００の構成について説明する。第２の供給部５００は、加熱室１３０の外壁には背面から上面に亘って延びる循環ダクト５１０（循環路）と、循環ダクト５１０内に配置されるダンパ５１１と送風ファン５１２（循環ファン）と、吸気口５１３によって加熱室１３０の内部と連通する排気ダクト５１４と、水蒸気昇温装置５２０と、反射部５２６（図４）とから構成される。水蒸気昇温装置５２０は、水蒸気加熱ヒータ５２１と、上カバー５２２と、ヒータカバー５２３とを備える。ヒータカバー５２３には、上述のように、噴気口５１４、噴気口５２５が形成されている。

循環ダクト５１０は加熱室１３０の背壁に形成された吸気口５１３を開口し、加熱室１３０の上方に配された水蒸気昇温装置５２０に接続される。水蒸気昇温装置５２０の下面はヒータカバー５２３で覆われ、上面は上カバー５２２で覆われる。

循環ダクト５１０内には遠心ファンによって構成される送風ファン５１２が設置されている。水蒸気供給ダクト３３１は送風ファン５１２の上流側に接続される。送風ファン５１２の駆動によって水蒸気発生装置３１０により発生した水蒸気は、水蒸気供給ダクト３３１を介して循環ダクト５１０に流入する。また、加熱室１３０内の水蒸気は吸気口５１３から吸引され、循環ダクト５１０を通ってヒータカバー５２３の噴気口５２４、噴気口５２５から噴き出されて循環する。水蒸気の噴出しと吸引とを共通の送風ファン５１２で行なうことによって、加熱調理器１のコスト増加を抑制することができる。

循環ダクト５１０の上部には電動式のダンパ５１１を介して分岐する排気ダクト５１４が設けられている。排気ダクト５１４は外部に臨む開放端を有し、ダンパ５１１を開いて送風ファン５１２を駆動することにより加熱室１３０内の水蒸気を強制排気する。

水蒸気昇温装置５２０はシーズヒータによって構成される水蒸気加熱ヒータ５２１を備え、水蒸気発生装置３１０で発生した水蒸気をさらに加熱して過熱水蒸気を生成する。水蒸気昇温装置５２０は平面的に見て加熱室１３０の天井部の中央部に配置される。また、加熱室１３０の天面に対して面積が狭く、小さい容積に形成して高い加熱効率が得られるようになっている。

次に、排水部６００の構成について説明する。

加熱室１３０の側方の下部には加熱室１３０の底面１３１に溜まる結露水を排水する排水部６００が設けられる。排水部６００は排水トレイ６０５、配管６０１、６０４およびチューブポンプ６０６を備えている。排水トレイ６０５は扉１１０の下方に着脱自在に配され、排水部６００で搬送された結露水を貯溜する。また、扉１１０の内面に付着した結露水が扉１１０を開いた際に流下して排水トレイ６０５に貯留されるようになっている。

配管６０１は加熱室１３０の側壁に突設して屈曲した樹脂製のパイプによって形成されている。なお、解りやすくするため、図５では配管６０１を加熱室１３０の背壁に描いている。配管６０１の先端は加熱室１３０の底面１３１と隙間を介して離れ、下向きに開口した排水孔６０２を形成する。排水孔６０２には網状のフィルター（図示しない）が設けられている。配管６０４は樹脂製のパイプによって形成され、排水トレイ６０５に対向して開口する。配管６０１、６０４の間はシリコンゴム等によって形成される可撓性のチューブ６０３により連結される。

チューブポンプ６０６においては、有底筒状のハウジング６０７内に回転板６０８が設けられ、回転板６０８の周部に複数のローラー６０９が突設される。チューブ６０３はハウジング６０７の内周壁に沿って環状に配される。ハウジング６０７とローラー６０９との間はチューブ６０３の外径よりも狭く形成され、チューブ６０３がローラー６０９により押圧される。

チューブポンプ６０６の駆動によって回転板６０８が矢印Ａの方向に回転すると、チューブ６０３の長手方向に沿ってローラー６０９が回転しながらチューブ６０３を順次押圧する。これにより、チューブ６０３内の流体が一方向に順次押し出されて搬送され、逆方向の流体の流通が阻止される。

加熱室１３０の底面１３１に溜まる結露水は排水孔６０２から吸引され、排水トレイ６０５に搬送される。排水トレイ６０５に溜まった水は排水トレイ６０５を脱着して廃棄される。これにより、加熱室１３０内の気密性を保持して排水を行うことができる。なお、チューブポンプ６０６により結露水を水タンク３２２の排水貯溜部３２３に搬送してもよい。

なお、通常の場合加熱室１３０内の気体は空気であるが、水蒸気調理を始めると空気が水蒸気で置き換えられる。以下の説明においては、加熱調理中には、加熱室１３０内の気体が水蒸気に置き換わっているものとする。

図６に示すように、加熱調理器１は制御関連の構成として、主に、操作パネル１２０と、水位センサ３１８と、ポット水位センサ７１０と、温度センサ７２０と、湿度センサ７３０と、水蒸気発生ヒータ３１４と、排水バルブ３１６と、給水ポンプ３１９と、水蒸気流路切替部３３２と、ダンパ５１１と、送風ファン５１２と、水蒸気加熱ヒータ５２１と、チューブポンプ６０６と、制御装置７００とを備える。

制御装置７００は、マイクロプロセッサ、メモリおよびタイマを有する。制御装置７００には送風ファン５１２、水蒸気加熱ヒータ５２１、ダンパ５１１、水蒸気発生ヒータ３１４、排水バルブ３１６、給水ポンプ３１９、水蒸気流路切替部３３２、操作パネル１２０、ポット水位センサ７１０、水位センサ３１８、温度センサ７２０、湿度センサ７３０、チューブポンプ６０６が接続される。制御装置７００によって所定のプログラムに従って各部を制御して、加熱調理器１が駆動される。

操作パネル１２０は表示部（図示しない）を有し、制御状況を表示部に表示する。また、操作パネル１２０に配置した各種操作キーを通じて動作指令の入力を行う。操作パネル１２０には各種の音を出す音発生装置（図示しない）も設けられている。温度センサ７２０は加熱室１３０内の温度を検知して制御装置７００に信号を送信する。湿度センサ７３０は加熱室１３０内の湿度を検知して制御装置７００に信号を送信する。制御装置７００は、受信した信号に基づいて、送風ファン５１２、水蒸気加熱ヒータ５２１、ダンパ５１１、水蒸気発生ヒータ３１４、排水バルブ３１６、給水ポンプ３１９、チューブポンプ６０６、水蒸気流路切替部３３２に制御信号を送信し、これらの部材を制御する。

以上のように構成される加熱調理器１における加熱調理について、図１から図６を用いて説明する。

まず、加熱室１３０内の全体を同じ調理条件で調理する場合について説明する。

加熱調理器１において、使用者は、扉１１０を開けて水タンク３２２を水タンク室３２１から引き出し、水タンク３２２内に水を入れる。満水状態にされた水タンク３２２は、水タンク室３２１に押し込まれ、ジョイント部３２０で給水部３２４に連結される。

下載置皿支持部１３２には下載置皿２０１が取り付けられる。下載置皿２０１上には下段調理物８０１が載置される。上載置皿支持部１３３には上載置皿２０２が取り付けられ、上載置皿２０２にはラック２０３が載せられる。上載置皿２０２のラック２０３上には上段調理物８０２が載置される。

使用者は扉１１０を閉じ、操作パネル１２０を操作して所望の調理モードを選択する。上段調理物８０２と下段調理物８０１が同種の被調理対象物であって、調理に必要な加熱量が同じである場合には、通常の調理モード（第１調理モード）が選択される。そして、使用者が操作パネル１２０のスタートキー（図示しない）を押下することにより、制御装置７００に信号が送信されて、調理シーケンスが開始される。給水ポンプ３１９が運転を開始し、水蒸気発生装置３１０に給水される。この時、排水バルブ３１６は閉じられている。また、制御装置７００は、水蒸気流路切替部３３２に制御信号を送信して、水蒸気供給ダクト３３１が循環ダクト５１０と連通するように制御する。

給水ポンプ３１９が駆動されると、給水路３１７を介してポット３１１内に給水される。ポット３１１が所定の水位になると、ポット水位センサ７１０の検知によって給水が停止される。この時、水位センサ３１８により水タンク３２２の水位が監視され、水タンク３２２に調理に必要十分な水がない場合は警告が報知される。

所定量の水がポット３１１に入れられると、水蒸気発生ヒータ３１４に通電され、水蒸気発生ヒータ３１４はポット３１１内の水を直接加熱する。水蒸気発生ヒータ３１４の通電と同じ時期、またはポット３１１内の水が所定温度に到達する時期に、送風ファン５１２および水蒸気加熱ヒータ５２１が通電される。

送風ファン５１２の駆動により吸気口５１３から加熱室１３０内の水蒸気が循環ダクト５１０に吸い込まれる。また、ポット３１１内の水が沸騰すると１００℃且つ１気圧の飽和水蒸気が発生し、飽和水蒸気が水蒸気供給ダクト３３１を介して循環ダクト５１０に流入する。この時、ダンパ５１１は閉じられている。

送風ファン５１２から圧送された水蒸気は循環ダクト５１０を流通して水蒸気昇温装置５２０に流入する。水蒸気昇温装置５２０に流入した水蒸気は水蒸気加熱ヒータ５２１により熱せられて１００℃以上の過熱水蒸気となる。通常、１５０℃から３００℃にまで昇温した過熱水蒸気が使用される。

過熱水蒸気の一部は噴気口５２４から真下方向（矢印Ｂ）に噴き出される。上段の上載置皿支持部１３３に設置された上載置皿２０２は上方から過熱水蒸気が吹き付けられる。

これにより、過熱水蒸気が上段調理物８０２の上面に接触するとともに、上載置皿２０２を通過した過熱水蒸気が下段調理物８０１の上面に接触する。過熱水蒸気の一部は噴気口５２５から側方の斜め下方向に向けて噴き出される。側方に噴き出された過熱水蒸気は反射部５２６で反射し、上段調理物８０２の下方に導かれる。これにより、上段調理物８０２の下面が過熱水蒸気と接触する。また、底面ヒータ１５０が駆動され、下段調理物８０１の下面が加熱される。

上載置皿２０２が通気性を有するように形成されている場合には、下段の下載置皿２０１上の下段調理物８０１の上面にも過熱水蒸気が供給される。また、下載置皿２０１上の下段調理物８０１の下面は加熱室１３０の底面に配された底面ヒータ１５０により加熱される。

上段調理物８０２と下段調理物８０１の表面が１００℃以下の場合は、過熱水蒸気が上段調理物８０２と下段調理物８０１の表面で凝縮する。この凝縮熱（潜熱）は、５３９ｃａｌ／ｇと大きいため、対流伝熱に加えて上段調理物８０２と下段調理物８０１に大量の熱を与えることができる。これにより、上段調理物８０２と下段調理物８０１は内部温度が急激に上昇する。

また、ヒータカバー５２３の前部に形成される噴気口５２５から扉１１０に向けて斜め下方向に過熱水蒸気の一部が噴き出される。しかし、加熱室１３０内の水蒸気は送風ファン５１２によって吸気口５１３から吸引される。このようにすることにより、扉１１０に直接当たる高温の過熱水蒸気を減らすことができる。従って、扉１１０の加熱を抑制して耐熱性の高い扉１１０を使用する必要がなく、加熱調理器１のコスト増加を防止することができる。

時間の経過に伴って加熱室１３０内の水蒸気量が増加すると、余剰となった水蒸気は水蒸気排気ダクト４２２を通じて外部に放出される。

噴気口５２４、噴気口５２５から噴き出された過熱水蒸気は上段調理物８０２と下段調理物８０１に熱を与えた後、吸気口５１３から循環ダクト５１０内に吸引され、水蒸気昇温装置５２０に流入する。これにより、加熱室１３０内の水蒸気は循環を繰り返して調理が行われる。

調理が所定時間行われると上段調理物８０２と下段調理物８０１が所望の表面状態になり、調理が終了する。そして、制御装置７００によって操作パネル１２０の表示部に調理の終了を表示するとともに合図音が報知される。調理終了を知らされた使用者によって扉１１０が開かれると、ダンパ５１１が開いて加熱室１３０内の水蒸気が排気ダクト５１４から急速に強制排気される。これにより、使用者は高温の水蒸気に触れずに、安全に加熱室１３０内から調理物を取り出すことができる。

次に、加熱室１３０内の複数の被調理対象物を、異なる調理条件で加熱調理する同時調理モード（第２調理モード）について説明する。

同時調理モードの調理を行う場合には、水蒸気供給口４１１から加熱室１３０内に投入される水蒸気を上載置皿２０２の上方へ通しにくいようにすることが望ましい。例えば、図７の（Ａ）に示すように、特別に開口部などを設けない通常の上載置皿２０２ａでは、加熱室１３０および扉１１０（図５）と上載置皿２０２ａとの接触部に若干の隙間が生じるため、耐熱性樹脂の利用などにより加熱室１３０および扉１１０と上載置皿２０２ａとの接触部を隙間のない形状に構成することが望ましい。また、図７の（Ｂ）に示すように、上載置皿２０２ｂの中央部２０２ｃの下面に凹面を形成し、上面に凸面を形成することによって、加熱室１３０に投入された水蒸気８１０を上載置皿２０２ｂの中央部２０２ｃの下面に形成された凹部に流して留めることができる。このようにすることにより、水蒸気８１０が、上載置皿２０２ｂと加熱室１３０および扉１１０との接触部に流入することを抑止することもできる。上載置皿２０２ｂと加熱室１３０および扉１１０との接触部への水蒸気８１０の流入を低減することができれば、上載置皿２０２ｂの上方に１００℃以下の温度の水蒸気８１０が通過することを効果的に抑止することができる。

同時調理モードでは、高温で調理する必要のある上段調理物８０２が上載置皿２０２に載置され、乾燥を抑えて低温で調理する必要のある下段調理物８０１が下載置皿２０１に載置される。例えば、強い火力でパリッとしてこんがり焼くことが望まれる肉、魚、トースト等の被調理対象物が上載置皿２０２に載置される。また、温度を上げすぎず乾燥させずに調理することが望ましい野菜や卵等の被調理対象物が下載置皿２０１に載置される。

同時調理モードの調理を開始すると、まず、制御装置７００は水蒸気流路切替部３３２に制御信号を送信して、第１調理モードと同様に、水蒸気供給ダクト３３１が循環ダクト５１０と連通するように、水蒸気流路切替部３３２を制御する。水蒸気発生部３００において発生した水蒸気は、水蒸気供給ダクト３３１を通って、循環ダクト５１０内に流入する。循環ダクト５１０内では、第１調理モードと同様に、水蒸気が加熱されて過熱水蒸気になる。過熱水蒸気は、上段調理物８０２に供給される。上段調理物８０２に供給された過熱水蒸気は、送風ファン５１２が駆動されることによって吸気口５１３から再び循環ダクト５１０内に排出される。

次に、制御装置７００は水蒸気流路切替部３３２に制御信号を送信して、水蒸気供給ダクト３３１が水蒸気供給ダクト４１２と連通するように、水蒸気流路切替部３３２を制御する。水蒸気発生部３００において発生した水蒸気は、水蒸気供給ダクト３３１を通って、水蒸気供給ダクト４１２内に流入する。水蒸気供給ダクト４１２内の水蒸気は、水蒸気供給口４１１から加熱室１３０内に流入して、下段調理物８０１に供給される。

同時調理モードによる調理が行なわれている間、下段調理物８０１には水蒸気発生部３００で発生した水蒸気が供給され続ける。また同時に、循環ダクト５１０を通って加熱室１３０内を循環する水蒸気は、循環ダクト５１０内の水蒸気昇温装置５２０によって昇温されて過熱水蒸気になって、上段調理物８０２に供給される。

このように、下段調理物８０１には１００℃以下の水蒸気が供給されて例えば蒸し調理が行われると同時に、上段調理物８０２には１００℃よりも高い温度の水蒸気、例えば、１５０℃から３００℃にまで昇温した過熱水蒸気が供給されて、例えば焼き調理が行われる。

なお、制御装置７００が第２の供給部５００の水蒸気加熱ヒータ５２１を、水蒸気発生部３００の水蒸気発生ヒータ３１４と別個に制御することによって、上段調理物８０２と下段調理物８０１に応じて予熱期間および本加熱期間の調理時間を変更することができる。また、水蒸気発生部３００において発生される水蒸気の量や、水蒸気流路切替部３３２を制御することによって、水蒸気供給ダクト４１２から加熱室１３０内に供給される水蒸気の量を調節することができる。このように、水蒸気供給ダクト４１２から加熱室１３０内に供給される水蒸気の量を調節することによって、下段調理物８０１を１００℃よりも低い温度域の温度で調理することができる。また、上段調理物８０２と下段調理物８０１の調理に必要な時間が大きく異なる場合は、同時調理モードの開始および終了を上下段個別のタイミングで行い、先に調理を完了された調理物は加熱室１３０内で保温される制御とすることができる。

また、同時調理モードにおいては、制御装置７００は水蒸気流路切替部３３２に制御信号を送信して、最初から水蒸気供給ダクト３３１が水蒸気供給ダクト４１２と連通するように、水蒸気流路切替部３３２を制御することによって、上段調理物８０２を、１００℃よりも高い温度に加熱された空気で調理することができる。循環ダクト５１０内に水蒸気が供給されない場合に、送風ファン５１２と水蒸気加熱ヒータ５２１とを駆動することによって、循環ダクト５１０内を通って加熱室１３０内を循環する空気を１００℃以上に加熱し、過熱水蒸気の代わりに上段調理物８０２に供給することができる。

このように、加熱調理器１では、一度の調理で同時に、飽和水蒸気と過熱水蒸気、または、飽和水蒸気と１００℃より高い温度に加熱された空気の特徴を生かした調理を行うことができて、調理に必要な合計の時間を大幅に短縮することができる。

以上のように、加熱調理器１は、加熱室１３０と、第１の供給部４００と、第２の供給部５００とを備える。加熱室１３０は、下段調理物８０１と上段調理物８０２とを加熱調理するためのものである。第１の供給部４００は、加熱室１３０内の下段調理物８０１に１００℃以下の温度の水蒸気を供給するものである。第２の供給部５００は、加熱室１３０内の上段調理物８０２に１００℃よりも高い温度の気体を供給するものである。第１の供給部４００と第２の供給部５００とは、同時に下段調理物８０１と上段調理物８０２とに気体を供給することが可能であるように構成されている。

第１の供給部４００は、加熱室１３０内の下段調理物８０１に１００℃以下の温度の水蒸気を供給して、下段調理物８０１を、例えば、蒸し調理することができる。一方、第２の供給部５００は、加熱室１３０内の上段調理物８０２に１００℃よりも高い温度の気体を供給して、上段調理物８０２を、例えば、焼き調理することができる。第１の供給部４００による１００℃以下の温度の水蒸気の供給と、第２の供給部５００による１００℃よりも高い温度の気体の供給とは、同時にされることが可能である。したがって、同時に、下段調理物８０１と上段調理物８０２とのうち、下段調理物８０１を例えば蒸し調理し、上段調理物８０２を焼き調理することができる。

第１の供給部４００が１００℃以下の水蒸気を供給することによる調理と、第２の供給部５００が１００℃よりも高い温度の気体を供給することによる調理との間に、使用者が加熱室１３０の扉１１０を開閉する必要がないので、水蒸気が加熱室１３０から流出せず、無駄がない。また、使用者にとっても、調理中に加熱室１３０の扉１１０を開閉する必要がなくなる。

このようにすることにより、下段調理物８０１と上段調理物８０２とを異なる調理条件で加熱調理するときの合計の調理時間を短縮することが可能な加熱調理器１を提供することができる。

また、加熱調理器１は、第１の供給部４００と第２の供給部５００との間に配置される上載置皿２０２部を備える。

第１の供給部４００と第２の供給部５００との間に配置される上載置皿２０２部を備えることにより、第１の供給部４００によって供給される１００℃以下の水蒸気と、第２の供給部５００によって供給される１００℃よりも高い温度の気体とが混合することを防ぐことができる。このようにすることにより、より効率よく異なる種類の調理を同時に行うことができる。

また、加熱調理器１においては、第１の供給部４００は加熱室１３０の下部に配置され、第２の供給部５００は加熱室１３０の上部に配置されている。

このようにすることにより、加熱室１３０の内部の構造を複雑にしたり、加熱手段を増設したりすることなく、第１の供給部４００と第２の供給部５００を加熱室１３０内に設けることができる。また、第１の供給部４００に供給される１００℃以下の水蒸気によって調理される下段調理物８０１を、第１の供給部４００が配置される加熱室１３０の下部に配置し、第２の供給部５００に供給される１００℃よりも高い温度の気体によって調理される上段調理物８０２を第２の供給部５００が配置される加熱室１３０の上部に配置すれば、下段調理物８０１と上段調理物８０２との間の温度差を保つことが容易になるので、効果的に複数の調理条件の調理を行うことができる。

また、加熱調理器１においては、第２の供給部５００は１００℃よりも高い温度の水蒸気を上段調理物８０２に供給する。

第２の供給部５００が１００℃よりも高い温度の水蒸気、すなわち、過熱水蒸気を上段調理物８０２に供給することによって、上段調理物８０２を、低酸素状態で調理することができるので、上段調理物８０２が含む栄養成分を保持しながら加熱調理することができる。過熱水蒸気を上段調理物８０２に供給して調理を行うことによって、上段調理物８０２を乾燥させ過ぎることなく、高い熱量による調理をすることができる。

また、加熱調理器１においては、第２の供給部５００は１００℃よりも高い温度の空気を上段調理物８０２に供給する。

第２の供給部５００が１００℃よりも高い温度の空気を上段調理物８０２に供給することによって、上段調理物８０２を乾燥させたり、上段調理物８０２に焦げ目を付けたりすることができる。このようにすることにより、第１の供給部４００によって供給される１００℃以下の水蒸気による蒸し調理と、第２の供給部５００によって供給される１００℃よりも高い温度の空気によるオーブン調理とを、一つの加熱室１３０内で同時に行なうことができる。

また、加熱調理器１は、第１の供給部４００の駆動と第２の供給部５００の駆動とを制御する制御装置７００を備える。制御装置７００は、第１の供給部４００と第２の供給部５００とを別個に駆動させるように制御する。

例えば制御装置７００が、第１の供給部４００によって供給される１００℃以下の水蒸気の量と、第２の供給部５００によって供給される１００℃よりも高い温度の気体の量とを異なるように制御することによって、より効果的に、一つの加熱室１３０内において、下段調理物８０１と上段調理物８０２とを異なる調理条件で調理することができる。

以上に開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正と変形を含むものである。

本発明は、加熱室内の上下段に被加熱物を配して二段調理ができる家庭用や業務用の加熱調理器に適用することができる。

１：加熱調理器、１３０：加熱室、２０２，２０２ａ，２０２ｂ：上載置皿、４００：第１の供給部、５００：第２の供給部、７００：制御装置、８０１：下段調理物、８０２：上段調理物。

Claims (6)

1. 二以上の被調理対象物を加熱調理するための加熱室と、
   前記加熱室内の一つの被調理対象物に１００℃以下の温度の水蒸気を供給する第１の供給部と、
   前記加熱室内の別の被調理対象物に１００℃よりも高い温度の気体を供給する第２の供給部とを備え、
   前記第１の供給部と前記第２の供給部とは、同時に二以上の被調理対象物に気体を供給することが可能であるように構成されている、加熱調理器。
2. 前記第１の供給部と前記第２の供給部との間に配置される隔壁部を備える、請求項１に記載の加熱調理器。
3. 前記第１の供給部は前記加熱室の下部に配置され、
   前記第２の供給部は前記加熱室の上部に配置されている、請求項１または請求項２に記載の加熱調理器。
4. 前記第２の供給部は１００℃よりも高い温度の水蒸気を被調理対象物に供給する、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の加熱調理器。
5. 前記第２の供給部は１００℃よりも高い温度の空気を被調理対象物に供給する、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の加熱調理器。
6. 前記第１の供給部の駆動と前記第２の供給部の駆動とを制御する制御部を備え、
   前記制御部は、前記第１の供給部と前記第２の供給部とを別個に駆動させるように制御する、請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の加熱調理器。
   

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