JP4059166B2 - 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 - Google Patents

Description

本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関するもので、特にその蒸気加熱に関するものである。

従来の高周波加熱装置は、加熱用の高周波発生装置を備えた電子レンジや、この電子レンジに熱風を発生させるコンベクションヒータを付加したコンビネーションレンジ等がある。また、蒸気を加熱室に導入して加熱するスチーマーや、スチーマーにコンベクションヒータを付加したスチームコンベクションオーブン等も加熱調理器として利用されている。

上記の加熱調理器により食品等を加熱調理する際、食品の加熱仕上がり状態が最も良好な状態になるように加熱調理器を制御する。即ち、高周波加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はコンビネーションレンジ、蒸気加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はスチームコンベクションオーブンによりそれぞれ制御することができる。しかし、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた調理は、それぞれの加熱処理を別個の加熱調理器間で加熱食品を移し替えて行う等の手間が生じることになる。その不便を解消するために、高周波加熱と、蒸気加熱と、電熱加熱とを一台の加熱調理器で実現したものがある（例えば特許文献１参照）。
特開昭５４−１１５４４８号公報

ところが、上記公報の構成によれば、加熱蒸気発生のための気化室が加熱室の下方に埋設されており、常に貯水タンクから一定水位で水が供給されるようになっている。従って、日常における加熱室周辺の清掃作業が行いにくく、特に気化室においては、蒸気発生の過程で水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮され、気化室底部やパイプ内に沈殿固着し、蒸気発生量が少なくなり、その結果、カビ等の繁殖しやすい不衛生な環境となる問題があった。

また、蒸気を加熱室に導入する方法として、加熱室の外側に配置されたボイラー等の加熱手段により蒸気を発生させ、ここで発生した蒸気を加熱室に供給する方式も考えられるが、蒸気導入のためのパイプに雑菌の繁殖、凍結による破損、錆等による異物混入等の問題を生じ、また、加熱手段の分解・清掃が困難であることが多く、食品を扱うために特に衛生上配慮の必要がある加熱調理器においては、外部から蒸気を導入する方式は採用し難いものであった。

さらに、加熱調理器には被加熱物の温度を測定する赤外線センサ等の温度センサを設ける場合が多いが、蒸気が加熱室内に充満すると、赤外線センサは、被加熱物の温度ではなく、被加熱物との間に存在する蒸気の浮遊粒子の温度を測定するようになる。このため、被加熱物の温度を正確に計ることができなくなる。すると、赤外線センサの温度検出結果に基づいてなされる加熱制御が正常に動作しなくなり、例えば加熱不足、加熱過剰等の不具合が発生し、特にシーケンシャルな手順で自動調理を行う場合には、加熱不良のまま次のステップに進むことになり、単なる再加熱や放冷等により対処できず、調理が失敗に終わる可能性もある。

また、被加熱物の種類や冷凍品、冷蔵品等といった各温度状態に応じて、必ずしも加熱効率の高い加熱パターンで加熱することができず、加熱時間が長くなるという問題があった。

そこで、上記事情を考慮して、本出願人は先に、先行発明として、蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができ、また、被加熱物の温度を正確に測定することで適正な加熱処理を行うことができるようにし、また、加熱効率を高めることのできる蒸気発生機能付き高周波加熱装置を開発した。

図１〜図７は本出願人の先行発明に係る蒸気発生部を備えた蒸気発生機能付き高周波加熱装置を示している。

図１は高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図３は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図４は蒸気発生部の断面図である。

この蒸気発生機能付き高周波加熱装置６０は、被加熱物を収容する加熱室６２に、高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン７０と、加熱室６２内で蒸気を発生する蒸気発生部６９と、加熱室６２内の空気を撹拌・循環させる循環ファン６４と、加熱室６２内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ６６と、加熱室６２の壁面に設けた検出用孔を通じて加熱室６２内の温度を検出する赤外線センサ６３とを備えている。

加熱室６２は、前面開放の箱形の本体ケース６１内部に形成されており、本体ケース６１の前面に、加熱室６２の被加熱物取出口を開閉する透光窓７１ａ付きの開閉扉７１が設けられている。開閉扉７１は、下端が本体ケース６１の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっている。加熱室６２と本体ケース６１との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室６２の背後の空間は、循環ファン６４及びその駆動モータ８４（図７参照）を収容した循環ファン室６７となっており、加熱室６２の後面の壁が、加熱室６２と循環ファン室６７とを画成する仕切板６８となっている。仕切板６８には、加熱室６２側から循環ファン室６７側への吸気を行う吸気用通風孔６５と、循環ファン室６７側から加熱室６２側への送風を行う送風用通風孔７２とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔６５，７２は、多数のパンチ孔として形成されている。

循環ファン６４は、矩形の仕切板６８の中央部に回転中心を位置させて配置されており、循環ファン室６７内には、この循環ファン６４を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ６６が設けられている。そして、仕切板６８に形成された吸気用通風孔６５は循環ファン６４の前面に配置され、送風用通風孔７２は矩形環状のコンベクションヒータ６６に沿って配置されている。循環ファン６４を回すと、風は循環ファン６４の前面側から駆動モータ８４のある後面側に流れるように設定されているので、加熱室６２内の空気が、吸気用通風孔６５を通して循環ファン６４の中心部に吸い込まれ、循環ファン室６７内のコンベクションヒータ６６を通過して、送風用通風孔７２から加熱室６２内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室６２内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室６７を経由して循環されるようになっている。

マグネトロン７０は、例えば加熱室６２の下側の空間に配置されており、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根７３が設けられている。そして、マグネトロン７０からの高周波を、回転するスタラー羽根７３に照射することにより、該スタラー羽根７３によって高周波を加熱室６２内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン７０やスタラー羽根７３は、加熱室６２の底部に限らず、加熱室６２の上面や側面側に設けることもできる。

蒸気発生部６９は、図２に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所７５ａを有した蒸発皿７５と、蒸発皿７５の下側に配設され、図３及び図４に示すように蒸発皿７５を加熱する蒸発皿加熱ヒータ７６と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿７５に向けて反射する断面略Ｕ字形の反射板７７とから構成されている。蒸発皿７５は、例えばステンレス製の細長板状のもので、加熱室６２の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を仕切板６８に沿わせた向きで配設されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ７６としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。

図５は蒸気発生機能付き高周波加熱装置６０を制御するための制御系のブロック図である。この制御系は、例えばマイクロプロセッサを備えてなる制御部７０１を中心に構成されている。制御部７０１は、主に、電源部７０３、記憶部７０５、入力操作部７０７、表示パネル７０９、加熱部７１１、冷却用ファン８１等との間で信号の授受を行っている。

入力操作部７０７には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ７１９、高周波加熱や蒸気加熱等の加熱方法を切り替える切替スイッチ７２１、予め用意されているプログラムをスタートさせる自動調理スイッチ７２３等の種々の操作スイッチが接続されている。

加熱部７１１には、高周波発生部７０、蒸気発生部６９、循環ファン６４、赤外線センサ６３等が接続されている。また、高周波発生部７０は、電波撹拌部（スタラー羽根の駆動部）７３と協働して動作し、蒸気発生部６９には、蒸発皿加熱ヒータ７６、室内気加熱ヒータ６６（コンベクションヒータ）等が接続されている。なお、このブロック図には、上で説明した機械的構成要素以外の要素（例えば、送水ポンプ８０や扉送風用ダンパ８２、排気用ダンパ８３等）も含まれているが、これらについては後の実施形態で説明する。

次に、上述した蒸気発生機能付き高周波加熱装置６０の基本的な動作について、図６のフローチャートを参照しながら説明する。

操作の手順としては、まず、加熱しようとする食品を皿等に載せて加熱室６２内に入れ、開閉扉７１を閉める。そして、加熱方法、加熱温度又は時間を入力操作部７０７により設定して（ステップ１０、以降はＳ１０と略記する）、スタートスイッチをＯＮにする（Ｓ１１）。すると、制御部７０１の動作によって自動的に加熱処理が行われる（Ｓ１２）。

即ち、制御部７０１は、設定された加熱温度・時間を読み取り、それに基づいて最適な調理方法を選択・実行し、設定された加熱温度・時間に達したか否かを判断して（Ｓ１３）、設定値に達したときに、各加熱源を停止して加熱処理を終了する（Ｓ１４）。なお、Ｓ１２では、蒸気発生、室内気加熱ヒータ、循環ファン回転、高周波加熱を、それぞれ個別或いは同時に行う。

上記した動作の際に、例えば「蒸気発生＋循環ファンＯＮ」のモードが選択・実行された場合の作用を説明する。このモードが選択されると、図７に本高周波加熱装置６０の動作説明図を示すように、蒸発皿加熱ヒータ７６がＯＮされることで、蒸発皿７５の水が加熱され蒸気Ｓが発生する。蒸発皿７５から上昇する蒸気Ｓは、仕切板６８の略中央部に設けた吸気用通風孔６５から循環ファン６４の中心部に吸引され、循環ファン室６７を経由して、仕切板６８の周部に設けた送風用通風孔７２から、加熱室６２内へ向けて吹き出される。吹き出された蒸気は、加熱室６２内において撹拌されて、再度、仕切板６８の略中央部の吸気用通風孔６５から循環ファン室６７側に吸引される。これにより加熱室６２内と循環ファン室６７に循環経路が形成される。なお、仕切板６８の循環ファン６４の配置位置下方には送風用通風孔７２を設けずに、発生した蒸気を吸気用通風孔６５に導かれるようにしている。そして、図中白抜き矢印で示すように、蒸気が加熱室６２を循環することによって、被加熱物Ｍに蒸気が吹き付けられる。

この際、室内気加熱ヒータ６６をＯＮにすることによって、加熱室６２内の蒸気を加熱できるので、加熱室６２内を循環する蒸気の温度を高温に設定することができる。従って、いわゆる過熱蒸気が得られて、被加熱物Ｍの表面に焦げ目を付けた加熱調理も可能となる。また、高周波加熱を行う場合は、マグネトロン７０をＯＮにし、スタラー羽根７３を回転することで、高周波を加熱室６２内に撹拌しながら供給して、ムラのない高周波加熱調理を行うことができる。

このように、先行発明の高周波加熱装置によれば、加熱室６２の外部ではなく内部で蒸気を発生する構成にしているので、加熱室６２内を清掃する場合と同様に、蒸気を発生する蒸発皿７５の清掃を簡単に行うことができる。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて蒸発皿７５の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿７５の表面に付着したものを布等で拭き取るだけできれいに払拭することができる。 また、図４で説明したように、高周波加熱装置の内部に設置された蒸発皿を加熱ヒータで輻射加熱しており、さらに加熱ヒータからの輻射熱を反射板で蒸発皿へ反射するようにしているので、加熱効率がアップする。

図９は平板状ヒータ装置の分解斜視図である。

（Ａ）において、２０は金属製蒸発皿で、皿の側面２１と底部２２とで皿部を構成し、ビス孔２３が開けられている。

（Ｂ１）において、１１はアルミダイキャストで作られたヒータ装置、１１１は蒸発皿底部１１への当接部、１１２は取付部、１１３は鋳込まれたＵ字型シーズヒータである。ビス孔１１７と（Ａ）のビス孔２３がビス１９で固定される。

（Ｂ２）において、（Ｂ１）と同じ符号は同一物を指すので説明は省略する。ここでは、シーズヒータ１１３がＵ字型をして鋳込まれているのが判る。また、アルミダイキャストの裏側には、２個の***部１１ａ、１１ｂが形成されており、図で左側の第１の***部１１ａには後述するサーミスタを挿入するための挿入孔が形成されている。

また、図で右側の第２の***部１１ｂには後述する給水パイプ１１４が固定されている。このような構成にすることにより、シーズヒータ１１３で発熱した熱はアルミダイキャスト当接部１１１から蒸発皿２０に直接熱伝導されることになるので、図８の（Ｂ）に示す従来の管ヒータ１３と反射板１４による輻射式加熱装置１５と比べて熱伝導が著しく速くなり、従ってスチームによる加熱調理が速くなる。

このようにして、先行発明においては、加熱効率が従来装置よりも大きく改善され、かつ手入れも簡単に行えるようになった。

しかしながら、本出願人はまだこれに満足せず、さらに加熱効率のアップを求め、また反射板が嵩張るため小型化の流れにそぐわなかったので、これを使用しないことを考えた。

また同じワット数でありながら、水を滴下したときに滴下された水の蒸発に至るまでの速さが著しく速くなる小型化された先行発明の構成では、ヒータ装置が直接ビスで蒸発皿に固定されていたので、図１３の(a)から(b)に示すように、ヒータ装置２０８の熱により蒸発皿２０６が変形してしまうと、ヒータ装置２０８と蒸発皿２０６の接触面にスキマが生じる。スキマが生じると、蒸発皿２０６とヒータ装置２０８の密着が悪くなり、ヒータ装置２０８の温度が蒸発皿２０６へ熱伝導し難くなり蒸気発生の効率が落ちる、また、ヒータ装置２０８の温度は上昇し続けるのでサーミスタによりヒータ装置２０８の通電がＯＦＦし、更に蒸気の発生が悪くなるという課題を有していた。

また、ヒータ装置と蒸発皿の接触面にスキマがある場合と、スキマなしの場合の加熱室内の蒸気温度（スキマなしの場合１０分後に９０℃以上となる）との温度差は数十度となってしまう。

本発明は、前記従来の課題はもちろん先行発明の課題をも解決するもので、蒸発皿とヒータ装置との密着を良くし、サーミスタのヒータ装置への通電ＯＦＦを無くし、最良の蒸気発生を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の発明は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置を蒸発皿の裏側に押し付けるように配設するとともに、蒸発皿はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成したことを特徴とする。

また、請求項２記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の発明は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成して、ヒータ装置を弾性的に前記蒸発皿に押し付ける構成としたことを特徴とする。

このような構成にすることにより、高周波加熱と蒸気加熱を一台の加熱装置で実現でき、かつ、蒸発皿の清掃作業の容易化を保ちつつヒータ装置は常に蒸発皿に密着している状態になり、ヒータ装置の熱は蒸発皿の水に伝わる。

以上のように、本発明によれば、高周波加熱と蒸気加熱を一台の加熱装置で実現でき、かつ、蒸発皿の清掃作業の容易化を保ちつつヒータ装置は常に蒸発皿に密着している状態になり、熱の伝達性が向上することで、同ワット数でありながら、水を滴下したときに滴下された水の蒸発に至るまでの速さを著しく速くすることができるようになる。

第１の発明は、高周波発生部と、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置を蒸発皿の裏側に押し付けるように配設するとともに、蒸発皿はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成したことにより、そして、第２の発明は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成して、ヒータ装置を弾性的に前記蒸発皿に押し付ける構成としたことにより、ヒータ装置は常に蒸発皿に密着している状態になり、ヒータ装置の熱は蒸発皿の水に伝わりサーミスタにより通電をＯＦＦされることがなくなるので、安定した蒸気量が確保できる。

第３の発明は、特に、第1、第２の発明の保持板を、蒸発皿にビス締めすることなく加熱室に取り付けることにより、ヒータ装置を蒸発皿の裏側に押し付ける構成としたことにより、蒸発皿とヒータ装置は常に連動し、ヒータ装置の熱により蒸発皿が変形し隙間が発生した場合にも、保持板がヒータ装置を押し付け蒸発皿との密着を確保することができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

図８は本発明に係る加熱装置の概略構成を示す側面断面図で、Ａ１は本発明の第１の実施の形態、Ｂは上述した先行発明のものをそれぞれ示している。

（実施の形態１）
第１の実施の形態を示す図８の（Ａ１）において、１０は装置本体筺体、１１は平板状ヒータ装置である。平板状ヒータ装置１１は、アルミニウムダイキャストにＵ字型シーズヒータを埋め込んだヒータ装置を平板状に仕上げたもので、この平板状部分を鉄板製蒸発皿の裏側に直付けしているのが特徴である。

この平板状ヒータ装置は先に説明した図９の平板状ヒータ装置と同じものであり、シーズヒータ１１３で発熱した熱はアルミダイキャスト当接部１１１から蒸発皿２０に直接熱伝導されることになるので、図８の（Ｂ）に示す先行発明の管ヒータ１３と反射板１４による輻射式加熱装置１５と比べて熱伝導が著しく速くなり、従ってスチームによる加熱調理が速くなる。

図１０は、実施の形態に係る平板状ヒータ装置に保持板を取り付けた斜視図である。

図１０において、保持板２０９にヒータ装置２０８を取り付けた構成であり、ビス等による固定もしくは、嵌合などによる固定でもかまわない。 図１２は、本発明の第１の実施の形態に係る蒸発皿とヒータ装置周辺の断面図を示す。

図１２において、蒸発皿２０６は加熱室２０７の後方下部に位置しヒータ装置２０８の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置２０８側に向かって凸となる凸形状になっている、ヒータ装置２０８は保持板２０９により蒸発皿２０６に押し付けられている。保持板２０９はビス２１０で蒸発皿２０６と加熱室２０７の左右に友締めされているものであり、蒸発皿２０６とヒータ装置２０８は密着しているがビス２１０等による直接的かつ機械的固定はされていない。

更に保持板２０９は図１２から明らかなようにヒータ装置２０８の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置２０８側に向かって凸となる凸形状にして、ヒータ装置２０８を弾性的に押し付けるようになっている。実験では蒸発皿２０６／ヒータ装置２０８の凸形状の高さは０．５ｍｍ〜１．５ｍｍが最適な密着状態を維持できた。

ここで、蒸発皿２０６とヒータ装置２０８が密着していてスキマがない場合と、密着していなくてスキマがある場合の加熱室内の温度の違いを図１４と図１５を用いて説明する。

図１４は、ヒータ装置２０８と蒸発皿２０６に隙間が発生した状態におけるヒータ温度及び加熱室内の温度を示す図である。

図１５は、ヒータ装置２０８と蒸発皿２０６が密着状態におけるヒータ温度及び加熱室内の温度を示す図である。

図１４のグラフに示すようにスキマがある場合、ヒータ装置２０８の熱はスキマにより蒸発皿２０６に熱伝導ができなくヒータ装置２０８自身の温度が上昇してしまい、ヒータ保護の為のヒータＯＦＦレベルにかかり通電がされなくなる、この為グラフのように加熱室の温度は７０℃〜８０℃位になってしまい蒸気による調理が可能な温度(茶碗蒸の卵液
の凝固に必要な温度は８２℃以上)に達しないので調理ができない。

図１５のグラフに示すようにスキマがなくヒータ装置２０８と蒸発皿２０６が密着している場合は、ヒータ装置２０８の熱は蒸発皿２０６に熱伝導し蒸発皿２０６内の水に熱変換される為、ヒータ装置２０８自身の温度はヒータＯＦＦレベルまで上がらず常に通電された状態になり、効率良く水を蒸気に変換することができ加熱室の温度も９０℃以上となり、蒸気による調理に十分な温度を確保することができる。

また、ヒータ装置２０８は保持板２０９により蒸発皿２０６に押し付けられた構成になっており、ヒータ装置２０８の熱により蒸発皿２０６が変形しても、ビス２１０等でヒータ装置２０８と蒸発皿２０６が固定されていないので保持板２０９により押し付けられ密着を維持できる、更に蒸発皿２０６と保持板２０９は対向するように凸形状にすることで、より密着度を増すことができる。

以上のように、保持板２０９はヒータ装置２０８を蒸発皿２０６に押し付けるように配設することにより、ヒータ装置２０８は常に蒸発皿２０６に密着している状態になり、ヒータ装置２０８の熱は蒸発皿２０６の水に伝わりサーミスタにより通電をＯＦＦされることがなくなるので、安定した蒸気量を提供することができるようになり、蒸篭なみの蒸し料理を提供することができる。

ヒータ装置に電流を流してから蒸発開始するまでの時間を計測したところ、従来例では約６０秒かかったが、本発明によれば約３０秒で約３０秒の短縮ができた。

また、発生する蒸気量についてみると、従来例では１分につき１０ｃｃであるのに対して本発明によれば１分につき１２〜１３ｃｃであり、２０〜３０％も多く蒸発させることができた。このように、開始時間の短縮と蒸発量のアップによる調理時間の短縮が可能となる。

なお、蒸発皿に対して、ヒータ装置の取り付け位置や個数については、調理器の使用用途によって構成は多数考えられる。図１１にその一例を紹介する。

図１１は本発明に係る高周波加熱装置における蒸発皿の設置個所と個数を説明する図で、（ａ）は高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、（ｂ）は蒸発皿の位置を示す概略正面図である。

図１１（ａ）において、４０は蒸気発生機能付き高周波加熱装置、４１は加熱室内の上天井、４２は右側壁、４３は左側壁、４４は底面、４５は蒸発皿付き金属板、４６Ｒは右蒸発皿、４６Ｌは左蒸発皿、４７Ｒは右給水口、４７Ｌは左給水口、４９は循環ファンである。

本発明に係る蒸発皿４６は上述のように、蒸発能力が大きいので従来のような電子レンジの奥に横に横断して設ける（図１の１５参照）必要はなく、図１１（ｂ）のように電子レンジの奥の右隅か左隅に１ヵ所（（ｂ）の（イ））か又は（ロ）のように電子レンジの奥の左右両隅に２ヶ所設けるようにすればよい。

この場合、従来と同程度の蒸発能力を得るのであれば１個で十分である。

ただ、料理の種類によって瞬時的にスチームを多く必要とする場合等には２個あるのが便利で、その場合両方を使い、スチームをそれほど必要としない場合は一方だけで済ませるようにすればスチームのコントロールをすることができるようになる。また、別の使い方としては、一方を連続加熱動作させながら、もう一方を停止または断続動作させてスチーム調整を行うことも可能である。

たとえば、冷凍シュウマイに、輻射熱によるスチーム（従来例）と伝導熱によるスチーム（本発明）を当てて調理したところ、その重量変化率が、従来例では０．９％増しであるのに対して、本発明では１．６％増しとなった。すなわち、伝導熱により高速蒸発させたスチームの熱と電波を併用して温めると、輻射熱によるよりも、庫内に早く蒸気が行き渡って食品表面に付くので、食品に水分を与えながら温めることができ、輻射熱によるスチームの増加（０．９％増し）よりもさらに水分が増え（１．６％増し）、よりしっとりとしたシューマイが出来上がることとなる。

また、焼きとりの調理では従来例では２．６％減となるのに対して本発明では２．３％減となった。すなわち、伝導熱により高速蒸発させたスチームの熱と電波を併用して温めると、輻射熱による従来装置よりも、庫内に早く蒸気が行き渡って調理が早く終了するので、電波加熱による食品の乾燥を早く止めることができ、従来装置の乾燥による重量の減少（２．６％減）よりも、乾燥が少ない（２．３％減）ため、パサパサ感がより少なくなることとなる。

このように、本発明によれば加熱に要する時間が従来よりも短くなるので電波で加熱する時間も短くなり、したがってその間対象物の水分が蒸発してゆく時間も短くなり、対象物の水分の減り方が少なくなる。

以上のように、本発明にかかる蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、水を滴下したときに滴下された水の蒸発に至るまでの速さを著しく速くすることができる上に蒸気量を安定することができるため、被加熱物に応じた蒸気加熱方式を容易に実現でき、蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する加熱器等の用途にも適用できる。

本発明の第１実施形態及び先行発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の扉を開けた状態を示す正面図 図１の蒸気発生機能付き高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図 蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図 同装置の蒸気発生部の断面図 蒸気発生機能付き高周波加熱装置を制御するための制御系のブロック図 蒸気発生機能付き高周波加熱装置の基本的な動作を説明するフローチャート 蒸気発生機能付き高周波加熱装置の動作説明図 本発明及び先行発明に係る加熱装置の概略構成を示す側面断面図で、（Ａ１）は本発明の第１の実施の形態を示す側面断面図（Ｂ）は先行発明のものを示す側面断面図 実施の形態に係る平板状ヒータ装置の分解斜視図で、（Ａ）は蒸発皿を示す図（Ｂ１）はヒータ装置の蒸発皿への取り付け側から斜視図（Ｂ２）はヒータ装置の裏側からみた斜視図 実施の形態に係る平板状ヒータ装置に保持板を取り付けた斜視図 実施の形態に係る高周波加熱装置における蒸発皿の設置個所と個数を説明する図で、（ａ）は高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図（ｂ）は蒸発皿の位置を示す概略正面図 実施の形態に係る蒸発皿とヒータ装置周辺の断面図 ヒータ装置を蒸発皿に固定した場合における不具合を説明する断面図（図１のＡ−Ａ断面）で、（ａ）蒸発皿が変形する前の状態を示す断面図（ｂ）蒸発皿が変形後の状態を示す断面図 ヒータ装置と蒸発皿に隙間が発生した状態におけるヒータ温度及び加熱室内の温度を示す図 ヒータ装置と蒸発皿が密着状態におけるヒータ温度及び加熱室内の温度を示す図

符号の説明

１０ 装置本体筺体
１１ 平板状ヒータ装置
２０ 金属製蒸発皿
４５ 蒸発皿
５０ サーミスタ
６２ 加熱室
１１３ Ｕ字型シーズヒータ
２０６ 蒸発皿
２０７ 加熱室
２０８ ヒータ装置
２０９ 保持板
２１０ ビス

Claims (3)

1. 被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置を蒸発皿の裏側に押し付けるように配設するとともに、蒸発皿はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成した蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
2. 被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室の底面に設けられた蒸発皿および該蒸発皿を加熱するヒータ装置とで構成されて前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、前記ヒータ装置を保持する保持板とを備え、前記ヒータ装置をアルミダイキャストにシーズヒータを埋め込んで成るヒータ装置とし、前記保持板はヒータ装置の長手方向に沿う長手軸がヒータ装置側に向かって凸となる形状に形成して、ヒータ装置を弾性的に前記蒸発皿に押し付ける構成とした蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
3. 保持板は蒸発皿にビス締めすることなく加熱室に取り付けることにより、ヒータ装置を蒸発皿の裏側に押し付ける構成とした請求項１または２に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。

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