【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則磁性粒子を含有する磁性層を有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁性層に含有される磁性粒子のサイズを小さくすることは、磁気記録密度を高くする上で必要である。例えば、ビデオテープ、コンピュータテープ、ディスクなどとして広く用いられている磁気記録媒体では、強磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。
磁気記録密度向上に有望な磁性粒子の素材としては、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則合金がある。前記硬磁性規則化合金は規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、磁性粒子のサイズを小さくしても硬磁性を示すことが知られている。
【０００３】
硬磁性を示す磁性粒子は液相法や気相法などにより作製されるが、特に、液相法で作製された直後の磁性粒子は、不規則相で面心立方晶の構造を有している。
面心立方晶は通常、軟磁性あるいは常磁性を示す。軟磁性あるいは常磁性では記録媒体用には適していない。磁気記録媒体に必要な９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）以上の保磁力を有する硬磁性規則合金を得るには、不規則相から規則相へ変態する変態温度以上でアニール処理を施す必要がある。
【０００４】
また、上記磁性粒子を液相法で作製する場合、磁性粒子を構成する金属が酸化されないように、Ａｒ、Ｎ２等の非酸化性雰囲気でアニール処理を行う必要があった。しかし、本発明者の実験によれば、アニール処理を施して合金相を規則化しようとすると、変態温度が高くなり支持体に支障をきたすことがあり、支持体の耐熱性が問題となったり、製造設備上の問題や磁気特性の再現性の問題が生じたりすることが分かった。
【０００５】
変態温度を低下させるための方法が種々提案されている。例えば、▲１▼粒子形成時に磁性粒子以外の第三元素を添加する。▲２▼第三元素からなる基板上に硬磁性規則合金を形成する合金を成膜する。▲１▼の方法は、粒子形成条件が限定され合成上の自由度が少なくなることから好ましくない。▲２▼の方法は、連続膜であるために連続膜を構成する粒子サイズが大きくなり、ノイズを低下させるという当初の目的から逸脱し好ましくない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明は、支持体の耐熱性に制約されることがなく、すなわち、耐熱性が低い支持体を利用することができ、かつ保磁力Ｈｃが高い磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者は、以下に示す本発明により上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、支持体上にＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則相の磁性粒子を含有する磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層の少なくとも一方の面に、融点が６５０℃以下の金属を含有する低融点金属層が密着して形成されていることを特徴とする磁気記録媒体である。
【０００８】
前記低融点金属層に含有される金属の融点としては、好ましくは４００℃以下であり、より好ましくは３００℃以下である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気記録媒体は、支持体上にＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則相の磁性粒子を含有する磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層の少なくとも一方の面に、融点が６５０℃以下の金属（以下、本明細書において「低融点金属」と呼ぶ。）を含有する低融点金属層が密着して形成されていることを特徴としている。
【００１０】
前記低融点金属層は、低融点金属のみから構成しても、合金の形態で構成してもよい。低融点金属層は、磁性層に密着した状態で形成されているが、支持体から近い側と遠い側のいずれでもよく、また、磁性層の両側に形成してもよい。低融点金属を有効に利用する観点から、磁性層の両側に低融点金属層を形成することが最も好ましい。また、磁性層の両側に低融点金属相を形成する場合は、それぞれの低融点金属層を構成する低融点金属を異ならせてもよい。
【００１１】
低融点金属層の層厚としては、５〜１００ｎｍが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましい。低融点金属層は、蒸着法、スパッタ法、塗布法などの各種成膜手法により形成することができる。
【００１２】
本発明において、低融点金属層に含有される低融点金属として、融点が６５０℃以下の低融点金属を用いているが、これは、一般に融点の１／２の温度以上で特に原子の動きが活発になり、アニール時の拡散が容易になるためである。低融点金属の融点としては、好ましくは、４００℃以下であり、より好ましくは、３００℃以下である。低融点金属の具体例としては、Ｂｉ（融点：２７１．３℃）、Ｐｂ（融点：３２７．５℃）、Ｓｂ（融点：６３０．７℃）、Ｉｎ（融点：１５６．６℃）、Ｓｎ（融点：２３１．９７℃）、Ｚｎ（融点：４１９．６℃）、Ｔｌ（融点：３０３．５℃）等が挙げられ、中でも、Ｂｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｉｎが好適に用いられる。
【００１３】
次いで、本発明の磁気記録媒体の磁性層について説明する。磁性層には、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則相を有する磁性粒子を含有する。以下、該磁性粒子の製造方法を通じて磁性粒子について説明する。
【００１４】
（磁性粒子の製造方法および磁性粒子）
磁性粒子は、例えば、硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を液相法もしくは気相法等により作製する合金粒子作製工程、作製した合金粒子に酸化処理を施す酸化処理工程、酸化処理後に非酸化性雰囲気下でアニール処理を施すアニール処理工程、を有する製造方法により製造することができる。
以下、上記各工程を説明する。
【００１５】
＜合金粒子作製工程＞
アニール処理により磁性粒子となる合金粒子は、気相法や液相法により製造することができる。量産性に優れることを考慮すると、液相法が好ましい。液相法としては、従来から知られている種々の方法を適用することができるが、これらに改良を加えた還元法を適用することが好ましく、還元法のなかでも粒径が制御しやすい逆ミセル法が特に好ましい。
【００１６】
（逆ミセル法）
上記逆ミセル法は、少なくとも、（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。
以下、各工程について説明する。
【００１７】
（１）還元工程：
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（Ｉ）を調製する。
【００１８】
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０〜２００ｇ／リットルであることが好ましい。
【００１９】
前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテルおよびアルコール等が挙げられる。
アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等が好ましい。
エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等が好ましい。
アルコールとしては、エトキシエタノール、エトキシプロパノール等が好ましい。
【００２０】
還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリアルコール類；Ｈ２；ＨＣＨＯ、Ｓ２Ｏ６ ２−、Ｈ２ＰＯ２ −、ＢＨ４ −、Ｎ２Ｈ５ ＋、Ｈ２ＰＯ３ −などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して、３〜５０モルであることが好ましい。
【００２１】
ここで、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比が２０を超えると、沈殿が起きやすく、粒子も不揃いとなりやすいといった問題が生じることがある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。
【００２２】
上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製する。
界面活性剤および非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様である。
なお、逆ミセル溶液（Ｉ）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（ＩＩ）溶液中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（Ｉ）の質量比と同一としてもよく、異なっていてもよい。
【００２３】
金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。
ここで、当該ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。
Ｃｕ３Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ３Ｆｅ、ＦｅＰｄ３、Ｆｅ３Ｐｔ、ＦｅＰｔ３、ＣｏＰｔ３、Ｎｉ３Ｐｔ、ＣｒＰｔ３、Ｎｉ３Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ３、ＦｅＰｔ３、ＣｏＰｔ３、Ｆｅ３Ｐｄ、Ｆｅ３Ｐｔ、Ｃｏ３Ｐｔが好ましい。
【００２４】
金属塩の具体例としては、Ｈ２ＰｔＣｌ６、Ｋ２ＰｔＣｌ４、Ｐｔ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）２、Ｎａ２ＰｄＣｌ４、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、ＰｄＣｌ２、Ｐｄ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）２、ＨＡｕＣｌ４、Ｆｅ２（ＳＯ４）３、Ｆｅ（ＮＯ３）３、（ＮＨ４）３Ｆｅ（Ｃ２Ｏ４）３、Ｆｅ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）３、ＮｉＳＯ４、ＣｏＣｌ２、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ３）２などが挙げられる。
【００２５】
金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜１００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。
【００２６】
前記金属塩を適宜選択することで、卑な金属と貴な金属とが合金を形成したＣｕＡｕ型もしくはＣｕ３Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が作製される。
【００２７】
合金粒子は後述するアニール処理によって合金相を不規則相から規則相へ変態させる必要があるが、当該変態温度を下げるために、前記２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｉｎなどの第三元素を加えることが好ましい。これらの第三元素は、それぞれの第三元素の前駆体を、前記金属塩溶液に予め添加しておくことが好ましい。添加量としては、２元系合金に対し、１〜３０ａｔ％であることが好ましく、５〜２０ａｔ％であることがより好ましい。
【００２８】
以上のようにして調製した逆ミセル溶液（Ｉ）と（ＩＩ）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（Ｉ）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は、−５〜３０℃の範囲で、一定の温度とすることが好ましい。
還元温度が−５℃未満では、水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題が生じ、３０℃を超えると、凝集または沈殿が起こりやすく系が不安定となることがある。好ましい還元温度は０〜２５℃であり、より好ましくは５〜２５℃である。
ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５〜３０℃）の範囲にあるものとする。
【００２９】
還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量等により適宜設定する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分とすることがより好ましい。
【００３０】
還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。
好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散な合金粒子を安定な分散液として合成することができる。
【００３１】
前記逆ミセル溶液（Ｉ）および（ＩＩ）の少なくともいずれかに、アミノ基またはカルボキシ基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり、０．００１〜１０モル添加することが好ましい。
【００３２】
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。
添加量が、０．００１モル未満では、合金粒子の単分散性をより向上させされない場合があり、１０モルを超えると凝集が起こる場合がある。
【００３３】
前記分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。
構造式としては、Ｒ−ＮＨ２、ＮＨ２−Ｒ−ＮＨ２、ＮＨ２−Ｒ（ＮＨ２）−ＮＨ２、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３Ｈ−Ｒ−ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３Ｈ−Ｒ（ＳＯ３Ｈ）−ＳＯ３Ｈ、Ｒ−ＳＯ２Ｈ、ＳＯ２Ｈ−Ｒ−ＳＯ２Ｈ、ＳＯ２Ｈ−Ｒ（ＳＯ２Ｈ）−ＳＯ２Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。
【００３４】
分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。
エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。
【００３５】
以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元され、極小サイズで単分散な状態で析出するものと考えられる。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出する。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。
【００３６】
（２）熟成工程：
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。
前記熟成温度は、３０〜９０℃で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲より高温長時間側にずれると、凝集または沈殿が起きやすく、逆に低温短時間側にずれると、反応が完結しなくなり組成が変化することがある。好ましい熟成温度および時間は４０〜８０℃および１０〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０〜７０℃および２０〜１２０分である。
【００３７】
ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃未満では、処方通りの組成が得られないことがある。
【００３８】
以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。
すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、効率良くＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型硬磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。また、熟成の際の温度の撹拌速度を適宜調整することで、得られる合金粒子の粒径を所望なものとすることができる。
【００３９】
前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。
かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。
【００４０】
洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。
水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。
【００４１】
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
当該合金粒子は、単分散であるため、支持体に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞの合金粒子が凝集することがないため、効率良く硬磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。
【００４２】
後述する酸化処理前の合金粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。一般に、１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００４３】
（還元法）
還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。
卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。
【００４４】
前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ３Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。
また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特願２００１−２６９２５５号の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。
【００４５】
酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ２ＰｔＣｌ６・６Ｈ２Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）２、ＲｈＣｌ３・３Ｈ２Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、ＰｄＣｌ２、Ｐｄ（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）２等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。
【００４６】
また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ４・７Ｈ２Ｏ、ＮｉＳＯ４・７Ｈ２Ｏ、ＣｏＣｌ２・６Ｈ２Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ３）２・４Ｈ２Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。
【００４７】
また、既述の逆ミセル法と同様に２元系合金に、第三元素を加えることで硬磁性規則合金への変態温度を下げることが好ましい。添加量としては逆ミセル法と同様である。
【００４８】
例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元することが好ましい。
酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ２、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。
−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ２Ｏ６ ２−、Ｈ２ＰＯ２ −、ＢＨ４ −、Ｎ２Ｈ５ ＋、Ｈ２ＰＯ３ −が好ましく用いることができる。
なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。
【００４９】
貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させることで合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。
前記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはＰＶＰである。
また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．１〜５倍がより好ましい。
【００５０】
吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ２ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）２）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。
【００５１】
前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ２ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ２ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）２）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、チオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。
【００５２】
前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。
【００５３】
反応は必要な合金粒子および溶媒の沸点により８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。温度がこの温度範囲より低いと粒子が成長しないことがある。温度がこの範囲より高いと粒子は制御されないで成長し、望ましくない副産物の生成が増加することがある。
【００５４】
合金粒子の粒径は逆ミセル法と同様で、１〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは３〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは３〜１０ｎｍである。
粒子サイズ（粒径）を大きくする方法としては種晶法が有効である。磁気記録媒体として用いるには合金粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、合金粒子のサイズの標準偏差は１０％未満が好ましく、より好ましくは５％以下である。
【００５５】
粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり好ましくない。そこで粒子サイズを大きくするため既述のように、種晶法を用いることが好ましい。その際、粒子を構成する金属より貴な金属を析出させるケースが出てくる。このとき、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。
【００５６】
合金粒子の最外層は酸化防止の観点から貴な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本発明では貴な金属と卑な金属との合金であることが好ましい。かかる構成は、既述のような、液相法によれば容易かつ効率良く実現させることができる。
【００５７】
合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
【００５８】
合金粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。合金粒子もしくは磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度が高いため好ましい。合金粒子もしくは磁性粒子の内部の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、合金粒子もしくは磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
【００５９】
アニール処理工程の前に以下の酸化処理工程を設けることが、変態温度を下げる観点から好ましい。
＜酸化処理工程＞
作製した合金粒子に酸化処理を施すことで、後の非酸化性雰囲気下でアニール処理を施す際の温度を高くするすることなく、硬磁性を有する磁性粒子を効率よく製造することができる。これは、以下に説明する現象によると考えられる。
すなわち、まず、合金粒子を酸化することで、その結晶格子上に酸素が進入する。酸素が進入した状態でアニール処理を行うと、熱により酸素が結晶格子上から脱離する。酸素が脱離することで欠陥が生じ、かかる欠陥を通じて合金を構成する金属原子の移動が容易になるため、比較的低温でも相変態が起こりやすくなると考えられる。
かかる現象は、例えば、酸化処理後の合金粒子とアニール処理を行った磁性粒子とをＥＸＡＦＳ（広範囲Ｘ線吸収微細構造）測定することで、推察される。
例えば、Ｆｅ−Ｐｔ合金粒子で酸化処理を施さない合金粒子では、Ｆｅ原子と、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。
これに対し、酸化処理を施した合金粒子では、Ｆｅ原子と酸素原子との結合の存在を確認できる。しかし、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合はほとんど見えなくなる。このことは、酸素原子によりＦｅ−Ｐｔ、Ｆｅ−Ｆｅの結合が切られていることを意味する。これによりアニール時にＰｔ原子やＦｅ原子が動きやすくなったと考えられる。
そして、当該合金粒子にアニール処理を施した後は、酸素の存在を確認することができず、Ｆｅ原子の周りにはＰｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。
【００６０】
上記現象を考慮すれば、酸化しないと相変態が進行しにくくなりアニール処理温度を高くする必要が生じることがわかる。しかし、過度に酸化するとＦｅ等の酸化されやすい金属と酸素との相互作用が強くなりすぎて金属酸化物が生成してしまうことも考えられる。
よって、合金粒子の酸化状態を制御することが重要となり、そのためには酸化処理条件を最適なものに設定する必要がある。
【００６１】
酸化処理は、例えば、既述の液相法などにより合金粒子を作製した場合は、作製した後の合金粒子含有液に少なくとも酸素を含有するガスを供給すればよい。
このときの酸素分圧は、全圧の１０〜１００％とすることが好ましく、１５〜５０％とすることが好ましい。
また、酸化処理温度は、０〜１００℃とすることが好ましく、１５〜８０℃とすることが好ましい。
【００６２】
合金粒子の酸化状態は、ＥＸＡＦＳ等で評価することが好ましく、Ｆｅ等の卑な金属と酸素との結合数は、酸素によりＦｅ−Ｆｅ結合、Ｐｔ−Ｆｅ結合を切るという観点から、０．５〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【００６３】
＜アニール処理工程＞
酸化処理を施した合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では硬磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、熱処理（アニール）を施す必要がある。前記熱処理は、示差熱分析（ＤＴＡ）を用い、合金粒子を構成する合金が規則不規則変態する変態温度を求め、その温度以上で行うことが必要である。
上記変態温度は、通常５００℃程度であるが、アニール温度が高すぎると、支持体によっては温度（熱）の影響を受けるため、使用できる支持体に制限がある。従って、アニール処理温度は１５０℃以上４００℃以下とすることが好ましく、３００℃以下とすることがより好ましい。
【００６４】
変態温度を下げるという観点から、磁性層に第三元素を拡散させることが好ましい。さらに、第三元素の融点の１／２付近の温度でアニールした後、相変態を起こす温度でアニールすることが好ましい。この場合、アニール温度は、粒子が融着する温度以下であることが好ましい。また、分散助剤を炭化させる観点から、第三元素の融点は１００℃以上であることが好ましく、粒子の融着防止の観点から、３００℃以下であることが好ましい。
【００６５】
また、粒子状態でアニール処理を施すと粒子の移動が起こりやすく融着が生じやすい。このため高い保磁力は得られるが粒子サイズが大きくなる欠点を有しやすい。従ってアニール処理は、合金粒子の凝集を防ぐ観点から、支持体上などで塗布した状態で行うことが好ましい。
さらに、支持体上で合金粒子をアニールして磁性粒子とすることで、かかる磁性粒子からなる層を磁性層として、磁気記録媒体に供することができる。
【００６６】
変態温度を下げる観点から、アニール時は還元性雰囲気が好ましい。具体的には、Ｈ２、メタンガス、あるいはＡｒ、Ｈｅ、Ｎｅなどの不活性ガスと還元性ガスとの混合ガスが挙げられる。
【００６７】
支持体としては、磁気記録媒体に使用される支持体であれば、無機物および有機物のいずれでもよい。
無機物の支持体としては、Ａｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ｍｇ−Ａｌ−Ｚｎ等のＭｇ合金、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物の支持体と比較して、熱に強い特徴を有している。
【００６８】
有機物の支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ポリオレフィン類；セルロ−ストリアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール；等を用いることができる。
【００６９】
支持体上に合金粒子を塗布するには、前記酸化処理を施した後の合金粒子含有液に必要に応じて種々の添加剤を添加して、支持体上に塗布すればよい。
このときの合金粒子の含有量は所望の濃度（０．０１〜０．１ｍｇ／ｍｌ）とすることが好ましい。
【００７０】
支持体に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。
【００７１】
アニール処理を施す際の雰囲気としては、相変態を効率良く進行させ合金の酸化を防ぐため、Ｈ２、Ｎ２、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等の非酸化性雰囲気下とする。
特に、酸化処理により格子上に存在する酸素を脱離させる観点から、メタン、エタン、Ｈ２等の還元性雰囲気とすることが好ましい。さらに、粒径維持の観点から、還元性雰囲気下の磁場中でアニール処理を行うことが好ましい。なお、Ｈ２雰囲気とする場合は防爆の観点から、不活性ガスを混合させることが好ましい。
また、アニール時に粒子の融着を防止するために、変態温度以下、不活性ガス中で一旦アニール処理を行い、分散剤を炭化した後、還元性雰囲気中で変態温度以上でアニール処理を行うことが好ましい。このとき、必要に応じて変態温度以下の前記アニール処理後に、合金粒子からなる層上にＳｉ系の樹脂等を塗布し、変態温度以上でアニール処理を行うことが最も好ましい態様である。
【００７２】
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、硬磁性を有する磁性粒子が得られる。
【００７３】
既述の本発明の磁性粒子の製造方法により製造される磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜３９８ｋＡ／ｍ（１２００〜５０００Ｏｅ）であることが好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できることを考慮して９５．５〜２７８．６ｋＡ／ｍ（１２００〜３５００Ｏｅ）であることがより好ましい。
また、当該磁性粒子の粒径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００７４】
＜磁気記録媒体＞
本発明の磁気記録媒体は、ビデオテープ、コンピューターテープ等の磁気テープ；フロッピー（Ｒ）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等に適用することができる。
【００７５】
既述のように支持体上に合金粒子（合金粒子含有液）を塗布し、アニール処理を施して磁性粒子とした場合は、かかる磁性粒子からなる層を磁性層とすることができる。
また、支持体上で合金粒子をアニール処理せず、粒子の状態でアニール処理を行って磁性粒子を作製した場合は、当該磁性粒子をオープンニーダー、３本ロールミル等で混練した後、サンドグラインダー等で微分散して塗布液を調製し、公知の方法で支持体上にこれを塗布し磁性層を形成すればよい。
【００７６】
形成される磁性層の厚さは、適用される磁気記録媒体の種類にもよるが、４ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、４ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。
【００７７】
本発明の磁気記録媒体は、磁性層のほかに必要に応じて他の層を有していてもよい。例えば、ディスクの場合、磁性層の反対側の面にさらに磁性層や非磁性層を設けることが好ましい。テープの場合、磁性層の反対側の不溶性支持体面上にバック層を設けることが好ましい。
【００７８】
また、磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。
【００７９】
保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。
【００８０】
カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。
カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。
中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。
【００８１】
このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００Ｋｇ／ｍｍ２以上であることが好ましく、２０００Ｋｇ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。
そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０〜１５６０ｃｍ−１にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。
【００８２】
このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。
【００８３】
カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５〜２０ｎｍとすることが好ましく、５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。
また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質することが好ましい。
【００８４】
磁性層は電磁変換特性を改善するため重層構成としたり、磁性層の下に公知の非磁性下地層や中間層を有していてもよい。走行耐久性および耐食性を改善するため、既述のように、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。
【００８５】
炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。
【００８６】
フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎまたはこれらの共重合体等である。
【００８７】
また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００未満では揮発性が高く、また潤滑性が低いなることがある。また、５０００を超えると、粘度が高くなるため、スライダーとディスクが吸着しやすく、走行停止やヘッドクラッシュなどを発生しやすくなることがある。
このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。
【００８８】
極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。
【００８９】
前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。
【００９０】
防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。
【００９１】
既述のように、磁気記録媒体が磁気テープ等の場合は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面にバックコート層（バッキング層）が設けられていてもよい。バックコート層は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを公知の有機溶剤に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられる層である。
粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができ、また結合剤としてはニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。
また、合金粒子含有液の塗布面およびバックコート層が形成される面には、公知の接着剤層が設けられていてもよい。
【００９２】
以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１〜５ｎｍ、より好ましくは１〜４ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。
このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。
【００９３】
得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【００９４】
【実施例】
［実施例１〜８、比較例１〜８］
（ＦｅＰｔ合金粒子の作製）
高純度Ｎ２ガス中で下記の操作を行った。
ＮａＢＨ４（和光純薬製）０．７６ｇを水（脱酸素：０．１ｍｇ／リットル以下）１６ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）１０．８ｇとデカン（和光純薬製）８０ｍｌとオレイルアミン（東京化成製）２ｍｌとを混合したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（Ｉ）を調製した。
【００９５】
三シュウ酸三アンモニウム鉄（Ｆｅ（ＮＨ４）３（Ｃ２Ｏ４）３）（和光純薬製）０．４６ｇと塩化白金酸カリウム（Ｋ２ＰｔＣｌ４）（和光純薬製）０．３８ｇとを水（脱酸素）８ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ５．４ｇとデカン４０ｍｌとを混合したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製した。
【００９６】
逆ミセル溶液（Ｉ）を２２℃でオムニミキサー（ヤマト科学製）で高速攪拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を瞬時に添加した。１０分後、マグネチックスターラーで攪拌しながら、５０℃に昇温して６０分間熟成した。
次いで、オレイン酸（和光純薬製）２ｍｌを添加して、室温まで冷却した。冷却後大気中に取出した。逆ミセルを破壊するために、水１００ｍｌとメタノール１００ｍｌとの混合溶液を添加して水相と油相とに分離した。油相側に合金粒子が分散した状態が得られた。油相側を水６００ｍｌとメタノール２００ｍｌとの混合溶液で５回洗浄した。
【００９７】
その後、メタノールを１１００ｍｌ添加して合金粒子にフロキュレーションを起こさせて沈降させた。上澄み液を除去して、ヘプタン（和光純薬製）２０ｍｌを添加して再分散した。
さらに、メタノール１００ｍｌ添加による沈降とヘプタン２０ｍｌ添加による分散との沈降分散を３回繰り返して、最後にヘプタン５ｍｌを添加して、水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）が２のＦｅＰｔ合金粒子を含有する合金粒子含有液を調製した。
【００９８】
得られた合金粒子について、収率、組成、体積平均粒径および分布（変動係数）の測定を行ったところ、下記のような結果が得られた。
なお、組成および収率は、ＩＣＰ分光分析（誘導結合高周波プラズマ分光分析）で測定により求めた。
体積平均粒径および分布は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：日立製作所製 ３００ｋＶ）により撮影した粒子を計測して統計処理して求めた。
測定用合金粒子は、調製した合金粒子含有液から合金粒子を捕集し、十分乾燥させ、電気炉で加熱した後のものを使用した。
【００９９】
組成：Ｐｔ４４．５ａｔ％のＦｅＰｔ合金、収率：８５％、
平均粒径：４．２ｎｍ、変動係数：５％
【０１００】
（酸化処理）
合金粒子が４質量％となるように真空脱気を行って、調製した合金粒子含有液を濃縮した。濃縮後、雰囲気を常圧にし合金粒子を酸化するため、酸素ガスを合金粒子含有液中に１時間供給した。酸化処理時に揮発した溶媒は、ヘプタンを加えることで補った。
【０１０１】
（支持体）
（１）支持体１
Ｓｉ支持体表面を焼成して、表面から約３００ｎｍの深さだけＳｉＯ２にした支持体１（厚さ：１ｍｍ）を得た。
（２）支持体２
前記支持体１にＢｉからなる低融点金属層（厚さ：３ｎｍ）を下記条件でスパッタリングし形成した。
［スパッタリング条件］
雰囲気ガス：Ａｒ
スパッタリング圧力：３９９×１０３Ｐａ（３×１０３Ｔｏｒｒ）
ＲＦパワー：５００Ｗ
【０１０２】
（塗布・アニール工程）
各実施例及び比較例毎に、以下の工程Ａ〜工程Ｃのいずれかを行い（表１に示す。）、実施例１〜８及び比較例１〜８の磁気記録媒体を得た。
【０１０３】
（１）工程Ａ
表１に記載の支持体上に、酸化処理後の合金粒子含有液をスピンコーターによって塗布した。この際、塗布量は合金粒子が０．５ｇ／ｍ２となるようにした。塗布後、Ｎ２雰囲気下で昇温速度５０℃／分で昇温し、表１に記載のアニール温度で３０分間加熱し、降温速度５０℃／分で室温まで降温しアニールした。
【０１０４】
（２）工程Ｂ
表１に記載の支持体上に、酸化処理後の合金粒子含有液をスピンコーターによって塗布した。この際、塗布量は合金粒子が０．２５ｇ／ｍ２となるようにした。塗布後、Ｎ２雰囲気下で昇温速度５０℃／分で昇温し、２００℃で１分間加熱し、降温速度５０℃／分で室温まで降温しアニールした。その後、空気に触れないように、Ｎ２雰囲気下で以下の処理をした。
・表１に記載の低融点金属層（厚さ：３ｎｍ）を、前記支持体２と同一の条件でスパッタリングし形成した。
・低融点金属層上に合金粒子含有液をスピンコーターによって塗布した。この際、塗布量は合金粒子が０．２５ｇ／ｍ２となるようにした。
・塗布後、Ｎ２雰囲気下で昇温速度５０℃／分で昇温し、２００℃で１分間加熱し、降温速度５０℃／分で室温まで降温しアニールした。その後、空気に触れないように、Ｎ２雰囲気下で以下の処理をした。
【０１０５】
（３）工程Ｃ
表１に記載の支持体上に、酸化処理後の合金粒子含有液をスピンコーターによって塗布した。この際、塗布量は合金粒子が０．５ｇ／ｍ２となるようにした。次いで、表１に記載の低融点金属層を前記支持体２と同一の条件でスパッタリングし形成した。スパッタリング後、Ｎ２雰囲気下で昇温速度５０℃／分で昇温し、２００℃で３０分間加熱し、降温速度５０℃／分で室温まで降温しアニールした。
【０１０６】
実施例１〜８および比較例１〜８で得られた磁気記録媒体の磁気特性（保磁力）を、東英工業製の高感度磁化ベクトル測定機と同社製ＤＡＴＡ処理装置を使用し、印加磁場１１９４ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の条件で測定した。結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
【０１０８】
表１より、実施例１〜８の磁気記録媒体は、比較例１〜８と比較して、低いアニール温度でも、高い保磁力Ｈｃを有しているのが分かる。特に、実施例１、３、５、７は、アニール温度が４００℃と低温であっても高い保磁力Ｈｃが得られることから、支持体としてアラミドなどの耐熱性が低い有機樹脂をしても、支持体に歪が発生することがない、高い保磁力Ｈｃを有する磁気記録媒体を得ることができる。
【０１０９】
【発明の効果】
本発明によれば、支持体の耐熱性に制約されることがなく、すなわち、耐熱性が低い支持体を利用することができ、かつ保磁力Ｈｃが高い磁気記録媒体を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
In the present invention, CuAu type or Cu3The present invention relates to a magnetic recording medium having a magnetic layer containing Au-type hard magnetic regular magnetic particles.
[0002]
[Prior art]
It is necessary to reduce the size of the magnetic particles contained in the magnetic layer in order to increase the magnetic recording density. For example, in a magnetic recording medium widely used as a video tape, a computer tape, a disk, etc., when the mass of the ferromagnetic material is the same, the noise decreases as the particle size is reduced.
Promising magnetic particle materials for improving magnetic recording density include CuAu type or Cu3There is an Au type hard magnetic ordered alloy. It is known that the hard magnetic ordered alloy has large magnetocrystalline anisotropy due to strain generated during ordering, and exhibits hard magnetism even when the size of the magnetic particles is reduced.
[0003]
Magnetic particles exhibiting hard magnetism are produced by a liquid phase method or a gas phase method. In particular, magnetic particles immediately after being produced by a liquid phase method have an irregular phase and a face-centered cubic structure. Yes.
Face-centered cubic crystals are usually soft or paramagnetic. Soft magnetism or paramagnetism is not suitable for recording media. In order to obtain a hard magnetic ordered alloy having a coercive force of 95.5 kA / m (1200 Oe) or more necessary for a magnetic recording medium, it is necessary to perform an annealing treatment at a temperature higher than the transformation temperature at which the transformation from the disordered phase to the ordered phase occurs.
[0004]
Further, when the magnetic particles are produced by a liquid phase method, Ar, N, and N are prevented so that the metal constituting the magnetic particles is not oxidized.2It was necessary to perform the annealing treatment in a non-oxidizing atmosphere such as. However, according to the experiments of the present inventors, when an annealing process is performed to order the alloy phase, the transformation temperature becomes high and the support may be hindered, and the heat resistance of the support may become a problem. It has been found that there are problems in manufacturing equipment and reproducibility of magnetic properties.
[0005]
Various methods for lowering the transformation temperature have been proposed. For example, (1) a third element other than the magnetic particles is added at the time of particle formation. (2) An alloy for forming a hard magnetic ordered alloy is formed on a substrate made of a third element. The method (1) is not preferred because the particle formation conditions are limited and the degree of freedom in synthesis is reduced. Since the method (2) is a continuous film, the particle size constituting the continuous film becomes large and deviates from the original purpose of reducing noise, which is not preferable.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
From the above, the present invention aims to provide a magnetic recording medium that is not limited by the heat resistance of the support, that is, can use a support having low heat resistance and has a high coercive force Hc. And
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by the present invention described below.
That is, the present invention provides a CuAu type or Cu on the support.3A magnetic recording medium having a magnetic layer containing magnetic particles of an Au-type hard magnetic regular phase, wherein a low melting point metal layer containing a metal having a melting point of 650 ° C. or less adheres to at least one surface of the magnetic layer. It is a magnetic recording medium characterized by being formed.
[0008]
The melting point of the metal contained in the low melting point metal layer is preferably 400 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The magnetic recording medium of the present invention has a CuAu type or Cu on the support.3A magnetic recording medium having a magnetic layer containing magnetic particles of an Au-type hard magnetic regular phase, wherein a metal having a melting point of 650 ° C. or lower is formed on at least one surface of the magnetic layer (hereinafter referred to as “low melting point” in this specification). It is characterized in that a low melting point metal layer containing “metal” is formed in close contact.
[0010]
The low melting point metal layer may be composed of only a low melting point metal or an alloy. The low melting point metal layer is formed in close contact with the magnetic layer, but may be formed on either the near side or the far side from the support, or on both sides of the magnetic layer. From the viewpoint of effectively using the low melting point metal, it is most preferable to form the low melting point metal layer on both sides of the magnetic layer. Further, when the low melting point metal phase is formed on both sides of the magnetic layer, the low melting point metal constituting each low melting point metal layer may be different.
[0011]
The thickness of the low melting point metal layer is preferably 5 to 100 nm, and more preferably 5 to 50 nm. The low melting point metal layer can be formed by various film forming techniques such as vapor deposition, sputtering, and coating.
[0012]
In the present invention, a low melting point metal having a melting point of 650 ° C. or lower is used as the low melting point metal contained in the low melting point metal layer. This is because it becomes active and diffusion during annealing becomes easy. The melting point of the low melting point metal is preferably 400 ° C. or lower, and more preferably 300 ° C. or lower. Specific examples of the low melting point metal include Bi (melting point: 271.3 ° C.), Pb (melting point: 327.5 ° C.), Sb (melting point: 630.7 ° C.), In (melting point: 156.6 ° C.), Sn (Melting point: 231.97 ° C.), Zn (melting point: 419.6 ° C.), Tl (melting point: 303.5 ° C.), etc., among which Bi, Pb, Sb, and In are preferably used.
[0013]
Next, the magnetic layer of the magnetic recording medium of the present invention will be described. For the magnetic layer, CuAu type or Cu3It contains magnetic particles having an Au-type hard magnetic ordered phase. Hereinafter, the magnetic particles will be described through the method for producing the magnetic particles.
[0014]
(Method for producing magnetic particles and magnetic particles)
The magnetic particles include, for example, an alloy particle preparation step in which alloy particles capable of forming a hard magnetic ordered alloy phase are prepared by a liquid phase method or a gas phase method, an oxidation treatment step in which the produced alloy particles are oxidized, and after the oxidation treatment It can be manufactured by a manufacturing method including an annealing process step of performing an annealing process in a non-oxidizing atmosphere.
Hereafter, each said process is demonstrated.
[0015]
<Alloy particle production process>
Alloy particles that become magnetic particles by annealing can be produced by a gas phase method or a liquid phase method. In view of excellent mass productivity, the liquid phase method is preferable. As the liquid phase method, various conventionally known methods can be applied. However, it is preferable to apply a reduction method obtained by improving these methods. Among the reduction methods, the particle size can be easily controlled. The micelle method is particularly preferred.
[0016]
(Reverse micelle method)
The reverse micelle method includes at least (1) a reduction step in which two types of reverse micelle solutions are mixed to perform a reduction reaction, and (2) an aging step in which aging is performed at a predetermined temperature after the reduction reaction.
Hereinafter, each step will be described.
[0017]
(1) Reduction process:
First, a reverse micelle solution (I) is prepared by mixing a water-insoluble organic solvent containing a surfactant and a reducing agent aqueous solution.
[0018]
An oil-soluble surfactant is used as the surfactant. Specifically, sulfonate type (for example, aerosol OT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), quaternary ammonium salt type (for example, cetyltrimethylammonium bromide), ether type (for example, pentaethylene glycol dodecyl ether) and the like can be mentioned. It is done.
The amount of the surfactant in the water-insoluble organic solvent is preferably 20 to 200 g / liter.
[0019]
Preferred examples of the water-insoluble organic solvent that dissolves the surfactant include alkanes, ethers, and alcohols.
The alkane is preferably an alkane having 7 to 12 carbon atoms. Specifically, heptane, octane, isooctane, nonane, decane, undecane, dodecane and the like are preferable.
As the ether, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether and the like are preferable.
As the alcohol, ethoxyethanol, ethoxypropanol and the like are preferable.
[0020]
Examples of the reducing agent in the reducing agent aqueous solution include alcohols; polyalcohols; H2HCHO, S2O6 2-, H2PO2 −, BH4 −, N2H5 +, H2PO3 −Are preferably used alone or in combination of two or more.
The amount of the reducing agent in the aqueous solution is preferably 3 to 50 mol with respect to 1 mol of the metal salt.
[0021]
Here, the mass ratio of water and surfactant (water / surfactant) in the reverse micelle solution (I) is preferably 20 or less. If the mass ratio exceeds 20, precipitation may easily occur and particles may be uneven. The mass ratio is preferably 15 or less, and more preferably 0.5 to 10.
[0022]
Separately from the above, a reverse micelle solution (II) in which a water-insoluble organic solvent containing a surfactant and a metal salt aqueous solution are mixed is prepared.
The conditions (substance used, concentration, etc.) of the surfactant and the water-insoluble organic solvent are the same as in the case of the reverse micelle solution (I).
In addition, the same kind or different kind of reverse micelle solution (I) can be used. The mass ratio of water and surfactant in the reverse micelle solution (II) is the same as that of the reverse micelle solution (I), and may be the same as or different from the mass ratio of the reverse micelle solution (I). It may be.
[0023]
As the metal salt contained in the metal salt aqueous solution, the magnetic particles to be produced are CuAu type or Cu3It is preferable to select appropriately so that an Au-type ferromagnetic ordered alloy can be formed.
Here, examples of the CuAu type ferromagnetic ordered alloy include FeNi, FePd, FePt, CoPt, and CoAu, and among them, FePd, FePt, and CoPt are preferable.
Cu3As an Au type ferromagnetic ordered alloy, Ni3Fe, FePd3, Fe3Pt, FePt3, CoPt3, Ni3Pt, CrPt3, Ni3Mn, among which FePd3, FePt3, CoPt3, Fe3Pd, Fe3Pt, Co3Pt is preferred.
[0024]
Specific examples of metal salts include H2PtCl6, K2PtCl4, Pt (CH3COCHCOCH3)2, Na2PdCl4, Pd (OCOCH3)2, PdCl2, Pd (CH3COCHCOCH3)2, HAuCl4, Fe2(SO4)3, Fe (NO3)3, (NH4)3Fe (C2O4)3, Fe (CH3COCHCOCH3)3, NiSO4CoCl2, Co (OCOCH3)2Etc.
[0025]
The concentration (as the metal salt concentration) in the aqueous metal salt solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, and more preferably 1 to 100 μmol / ml.
[0026]
By appropriately selecting the metal salt, a CuAu type or Cu in which a base metal and a noble metal form an alloy3Alloy particles capable of forming an Au-type ferromagnetic ordered alloy are produced.
[0027]
The alloy particles need to transform the alloy phase from an irregular phase to an ordered phase by an annealing process, which will be described later. In order to lower the transformation temperature, Sb, Pb, Bi, Cu, Ag, It is preferable to add a third element such as Zn or In. As for these third elements, it is preferable to add a precursor of each third element to the metal salt solution in advance. The addition amount is preferably 1 to 30 at% and more preferably 5 to 20 at% with respect to the binary alloy.
[0028]
The reverse micelle solutions (I) and (II) prepared as described above are mixed. The mixing method is not particularly limited, but in consideration of the reduction uniformity, the reverse micelle solution (II) may be added and mixed while stirring the reverse micelle solution (I). preferable. The reduction reaction is allowed to proceed after completion of the mixing, and the temperature at that time is preferably in the range of −5 to 30 ° C. and constant.
When the reduction temperature is less than −5 ° C., there arises a problem that the aqueous phase condenses and the reduction reaction becomes non-uniform. When the reduction temperature exceeds 30 ° C., aggregation or precipitation is likely to occur and the system may become unstable. A preferable reduction temperature is 0 to 25 ° C, more preferably 5 to 25 ° C.
Here, the “constant temperature” means that when the set temperature is T (° C.), the T is in the range of T ± 3 ° C. Even in such a case, the upper limit and the lower limit of the T are in the range of the reduction temperature (−5 to 30 ° C.).
[0029]
The time for the reduction reaction needs to be appropriately set depending on the amount of the reverse micelle solution and the like, but is preferably 1 to 30 minutes, and more preferably 5 to 20 minutes.
[0030]
Since the reduction reaction has a great influence on the monodispersity of the particle size distribution, it is preferable to carry out the reduction reaction while stirring as fast as possible.
A preferred stirring device is a stirring device having a high shearing force. Specifically, the stirring blade basically has a turbine-type or paddle-type structure, and a sharp blade is provided at the end of the blade or at a position in contact with the blade. It is an attached structure and is a stirring device that rotates a blade by a motor. Specifically, devices such as a dissolver (manufactured by Special Machine Industries), an omni mixer (manufactured by Yamato Kagaku), and a homogenizer (manufactured by SMT) are useful. By using these apparatuses, monodispersed alloy particles can be synthesized as a stable dispersion.
[0031]
At least one dispersant having 1 to 3 amino groups or carboxy groups is added to at least one of the reverse micelle solutions (I) and (II) in an amount of 0.001 to 1 mol of alloy particles to be produced. It is preferable to add 10 mol.
[0032]
By adding such a dispersant, it becomes possible to obtain alloy particles that are more monodispersed and have no aggregation.
If the addition amount is less than 0.001 mol, the monodispersity of the alloy particles may not be further improved, and if it exceeds 10 mol, aggregation may occur.
[0033]
As the dispersant, an organic compound having a group that adsorbs to the surface of the alloy particles is preferable. Specifically, it has 1 to 3 amino groups, carboxy groups, sulfonic acid groups or sulfinic acid groups, and these can be used alone or in combination.
As a structural formula, R—NH2, NH2-R-NH2, NH2-R (NH2) -NH2, R-COOH, COOH-R-COOH, COOH-R (COOH) -COOH, R-SO3H, SO3HR-SO3H, SO3HR (SO3H) -SO3H, R-SO2H, SO2HR-SO2H, SO2HR (SO2H) -SO2A compound represented by H, wherein R is a linear, branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon.
[0034]
A particularly preferred compound as a dispersant is oleic acid. Oleic acid is a well-known surfactant in colloid stabilization and has been used to protect metal particles such as iron. The relatively long chains of oleic acid (eg, oleic acid has 18 carbon chains and is ˜20 angstroms (˜2 nm). Oleic acid is not aliphatic but has one double bond). This gives an important steric hindrance to counteract strong magnetic interactions.
Similar long chain carboxylic acids such as erucic acid and linoleic acid are used as well as oleic acid (for example, long chain organic acids having between 8 and 22 carbon atoms can be used alone or in combination). Oleic acid is preferred because it is an inexpensive natural resource (such as olive oil) that is readily available. In addition, oleylamine derived from oleic acid is a useful dispersant like oleic acid.
[0035]
In the reduction process as described above, CuAu type or Cu3A metal having a low redox potential such as Co, Fe, Ni, Cr, etc. in the Au type hard magnetic ordered alloy phase (a metal of about −0.2 V (vs.N.H.E) or less) is reduced to a minimum size. It is thought that it precipitates in a monodispersed state. Thereafter, in the temperature raising step and the aging step described later, the precipitated base metal is used as a nucleus, and a metal having a redox potential such as Pt, Pd, Rh or the like having noble properties (−0.2 V (vs. NH) is formed on the surface. E) More than about metal) is reduced with a base metal to be substituted and deposited. It is thought that the ionized base metal is reduced again by the reducing agent and deposited. By such repetition, CuAu type or Cu3Alloy particles capable of forming an Au-type hard magnetic ordered alloy are obtained.
[0036]
(2) Aging process:
After completion of the reduction reaction, the temperature of the solution after the reaction is raised to the aging temperature.
The aging temperature is preferably a constant temperature of 30 to 90 ° C., and the temperature is higher than the temperature of the reduction reaction. The aging time is preferably 5 to 180 minutes. If the aging temperature and time deviate from the above range to the high temperature and long time side, aggregation or precipitation is likely to occur. Preferred aging temperature and time are 40 to 80 ° C. and 10 to 150 minutes, and more preferable aging temperature and time are 40 to 70 ° C. and 20 to 120 minutes.
[0037]
Here, the “constant temperature” is synonymous with the temperature of the reduction reaction (however, in this case, the “reduction temperature” is the “aging temperature”). It is preferably 5 ° C. or higher, more preferably 10 ° C. or higher, than the temperature of the reduction reaction. If it is less than 5 ° C., the composition as prescribed may not be obtained.
[0038]
In the aging process as described above, noble metal is deposited on the base metal that has been reduced and deposited in the reduction process.
That is, the reduction of the noble metal occurs only on the base metal, and the base metal and the noble metal do not separate separately.3Alloy particles capable of forming an Au-type hard magnetic ordered alloy can be produced in a high yield according to the prescribed composition ratio, and can be controlled to a desired composition. Moreover, the particle diameter of the alloy particle obtained can be made into a desired thing by adjusting suitably the stirring speed of the temperature in the case of ageing | curing | ripening.
[0039]
After the aging, the solution after aging is washed with a mixed solution of water and a primary alcohol, and then subjected to a precipitation treatment with a primary alcohol to generate a precipitate. It is preferable to provide a washing / dispersing step for dispersing with a solvent.
By providing such a cleaning / dispersing step, impurities can be removed, and coating properties when the magnetic layer of the magnetic recording medium is formed by coating can be further improved.
The washing and dispersion are each performed at least once, preferably twice or more.
[0040]
The primary alcohol used for washing is not particularly limited, but methanol, ethanol and the like are preferable. The volume mixing ratio (water / primary alcohol) is preferably in the range of 10/1 to 2/1, and more preferably in the range of 5/1 to 3/1.
When the ratio of water is high, the surfactant may be difficult to remove, and conversely, when the ratio of primary alcohol is high, aggregation may occur.
[0041]
As described above, alloy particles dispersed in the solution (alloy particle-containing liquid) are obtained.
Since the alloy particles are monodispersed, even when applied to a support, they can be kept uniformly dispersed without agglomeration. Therefore, even if annealing treatment is performed, the alloy particles do not aggregate, so that it is possible to efficiently harden and excellent coating suitability.
[0042]
The particle diameter of the alloy particles before the oxidation treatment described later is preferably small from the viewpoint of reducing noise, but if it is too small, it becomes superparamagnetic after annealing and may be unsuitable for magnetic recording. In general, the thickness is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 20 nm, and still more preferably 3 to 10 nm.
[0043]
(Reduction method)
CuAu type or Cu by reduction method3There are various methods for producing alloy particles capable of forming an Au-type ferromagnetic ordered alloy. At least, a metal having a low redox potential (hereinafter sometimes simply referred to as “base metal”), oxidation, A method of reducing a noble metal having a reduction potential (hereinafter sometimes simply referred to as “noble metal”) using a reducing agent or the like in an organic solvent or water, or a mixed solution of an organic solvent and water. It is preferable to apply.
The reduction order of the base metal and the noble metal is not particularly limited, and may be reduced simultaneously.
[0044]
As the organic solvent, alcohol, polyalcohol and the like can be used. Examples of the alcohol include methanol, ethanol and butanol. Examples of the polyalcohol include ethylene glycol and glycerin.
CuAu type or Cu3An example of the Au type ferromagnetic ordered alloy is the same as in the case of the reverse micelle method described above.
Moreover, as a method for precipitating a noble metal first to prepare alloy particles, the method described in paragraphs 18 to 30 of Japanese Patent Application No. 2001-269255 can be applied.
[0045]
Pt, Pd, Rh, etc. can be preferably used as the noble metal having a redox potential, and H2PtCl6・ 6H2O, Pt (CH3COCHCOCH3)2, RhCl3・ 3H2O, Pd (OCOCH3)2, PdCl2, Pd (CH3COCHCOCH3)2Etc. can be dissolved in a solvent and used. The concentration of the metal in the solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, more preferably 0.1 to 100 μmol / ml.
[0046]
Further, Co, Fe, Ni, and Cr can be preferably used as the base metal having a low redox potential, and Fe and Co are particularly preferable. Such metals are FeSO4・ 7H2O, NiSO4・ 7H2O, CoCl2・ 6H2O, Co (OCOCH3)2・ 4H2O or the like can be dissolved in a solvent and used. The concentration of the metal in the solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, more preferably 0.1 to 100 μmol / ml.
[0047]
Moreover, it is preferable to lower the transformation temperature to the hard magnetic ordered alloy by adding a third element to the binary alloy as in the reverse micelle method described above. The amount added is the same as in the reverse micelle method.
[0048]
For example, when reducing and depositing a base metal and a noble metal in this order using a reducing agent, a reducing agent having a base reduction potential lower than −0.2 V (vs. NHE) is used. Using a reducing agent having a redox potential lower than -0.2 V (vs. N. H. E) in addition to a noble metal source obtained by reducing a base metal or a part of a base metal and a noble metal. Then, the reduction is preferably performed using a reducing agent having a reduction potential lower than -0.2 V (vs. NHE).
Although the redox potential depends on the pH of the system, the reducing agent having a redox potential higher than −0.2 V (vs. NHE) includes alcohols such as 1,2-hexadecanediol, and glycerins. , H2, HCHO is preferably used.
Reductants less than -0.2 V (vs. N. H. E) include S.2O6 2-, H2PO2 −, BH4 −, N2H5 +, H2PO3 −Can be preferably used.
In addition, when using with zerovalent metal compounds, such as Fe carbonyl, as a base metal raw material, a base metal reducing agent is not particularly required.
[0049]
The alloy particles can be stably prepared by allowing the adsorbent to be present when the noble metal is reduced and precipitated. It is preferable to use a polymer or a surfactant as the adsorbent.
Examples of the polymer include polyvinyl alcohol (PVA), poly N-vinyl-2pyrrolidone (PVP), gelatin and the like. Of these, PVP is particularly preferable.
The molecular weight is preferably 20,000 to 60,000, more preferably 30,000 to 50,000. The amount of the polymer is preferably 0.1 to 10 times the mass of the alloy particles to be produced, and more preferably 0.1 to 5 times.
[0050]
The surfactant preferably used as the adsorbent preferably contains an “organic stabilizer” which is a long-chain organic compound represented by the general formula: R—X. R in the above general formula is a “tail group” which is a linear or branched hydrocarbon or fluorocarbon chain and usually contains 8 to 22 carbon atoms. X in the above general formula is a “head group” which is a moiety (X) that provides a specific chemical bond to the surface of the alloy particles, and is sulfinate (—SOOH), sulfonate (—SO4).2OH), phosphinate (-POOH), phosphonate (-OPO (OH)2), Carboxylate, and thiol.
[0051]
Examples of the organic stabilizer include sulfonic acid (R-SO2OH), sulfinic acid (R-SOOH), phosphinic acid (R2POOH), phosphonic acid (R-OPO (OH)2), Carboxylic acid (R—COOH), thiol (R—SH) and the like. Among these, oleic acid similar to the reverse micelle method is particularly preferable.
[0052]
The combination of phosphine and organic stabilizer (such as triorganophosphine / acid) can provide excellent control over particle growth and stabilization. Didecyl ether and didodecyl ether can also be used, but phenyl ether or n-octyl ether is preferably used as a solvent because of its low cost and high boiling point.
[0053]
The reaction is preferably performed at a temperature in the range of 80 ° C. to 360 ° C., more preferably 80 ° C. to 240 ° C., depending on the required alloy particles and the boiling point of the solvent. If the temperature is lower than this temperature range, the particles may not grow. If the temperature is above this range, the particles may grow uncontrolled and increase the production of undesirable by-products.
[0054]
The particle size of the alloy particles is the same as in the reverse micelle method, preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 20 nm, and still more preferably 3 to 10 nm.
The seed crystal method is effective as a method for increasing the particle size (particle size). For use as a magnetic recording medium, it is preferable to close-pack with alloy particles in order to increase the recording capacity. For this purpose, the standard deviation of the alloy particle size is preferably less than 10%, more preferably 5% or less. is there.
[0055]
If the particle size is too small, superparamagnetism is undesirable. Therefore, it is preferable to use a seed crystal method as described above in order to increase the particle size. At that time, there are cases in which noble metal is deposited rather than the metal constituting the particle. At this time, since there is a concern about oxidation of the particles, it is preferable to previously hydrotreat the particles.
[0056]
The outermost layer of the alloy particles is preferably made of a noble metal from the viewpoint of oxidation prevention. However, since it tends to aggregate, in the present invention, an alloy of a noble metal and a base metal is preferred. Such a configuration can be easily and efficiently realized by the liquid phase method as described above.
[0057]
It is preferable to remove salts from the solution after the synthesis of the alloy particles from the viewpoint of improving the dispersion stability of the alloy particles. For desalting, there is a method in which alcohol is added excessively to cause light flocculation, and natural sedimentation or centrifugal sedimentation is performed to remove salts together with the supernatant. It is preferable.
As described above, alloy particles dispersed in the solution (alloy particle-containing liquid) are obtained.
[0058]
A transmission electron microscope (TEM) can be used to evaluate the particle size of the alloy particles. Electron diffraction by TEM may be used to determine the crystal system of alloy particles or magnetic particles, but X-ray diffraction is preferred because of its higher accuracy. For analysis of the composition inside the alloy particles or magnetic particles, it is preferable to evaluate by attaching EDAX to an FE-TEM that can narrow the electron beam. Moreover, evaluation of the magnetic property of an alloy particle or a magnetic particle can be performed using VSM.
[0059]
It is preferable from the viewpoint of lowering the transformation temperature to provide the following oxidation treatment step before the annealing treatment step.
<Oxidation process>
By subjecting the produced alloy particles to an oxidation treatment, it is possible to efficiently produce magnetic particles having hard magnetism without increasing the temperature at which the annealing treatment is subsequently performed in a non-oxidizing atmosphere. This is considered to be due to the phenomenon described below.
That is, first, oxygen enters the crystal lattice by oxidizing the alloy particles. When annealing is performed with oxygen entering, oxygen is desorbed from the crystal lattice by heat. Desorption of oxygen causes defects, and the movement of metal atoms constituting the alloy is facilitated through such defects. Therefore, phase transformation is likely to occur even at a relatively low temperature.
Such a phenomenon is inferred, for example, by measuring EXAFS (wide-range X-ray absorption fine structure) of the oxidized alloy particles and the annealed magnetic particles.
For example, in the alloy particles that are not subjected to oxidation treatment with Fe—Pt alloy particles, the existence of bonds between Fe atoms and Pt atoms or Fe atoms can be confirmed.
On the other hand, in the alloy particles subjected to the oxidation treatment, the presence of bonds between Fe atoms and oxygen atoms can be confirmed. However, the bonds with Pt atoms and Fe atoms are almost invisible. This means that Fe—Pt and Fe—Fe bonds are cut by oxygen atoms. As a result, it is considered that Pt atoms and Fe atoms easily move during annealing.
Then, after the alloy particles are annealed, the presence of oxygen cannot be confirmed, and the presence of bonds with Pt atoms and Fe atoms can be confirmed around the Fe atoms.
[0060]
Considering the above phenomenon, it can be seen that if the oxidation is not performed, the phase transformation is difficult to proceed and the annealing temperature needs to be increased. However, if it is excessively oxidized, it is also conceivable that the interaction between oxygen, such as Fe, which is easily oxidized and oxygen becomes so strong that a metal oxide is generated.
Therefore, it is important to control the oxidation state of the alloy particles. For this purpose, it is necessary to set the oxidation treatment condition to an optimum one.
[0061]
In the oxidation treatment, for example, when alloy particles are produced by the liquid phase method described above, a gas containing at least oxygen may be supplied to the produced alloy particle-containing liquid.
The oxygen partial pressure at this time is preferably 10 to 100% of the total pressure, and preferably 15 to 50%.
Moreover, it is preferable to set it as 0-100 degreeC, and, as for oxidation treatment temperature, it is preferable to set it as 15-80 degreeC.
[0062]
The oxidation state of the alloy particles is preferably evaluated by EXAFS or the like, and the number of bonds between a base metal such as Fe and oxygen is 0.5 from the viewpoint that the Fe—Fe bond and Pt—Fe bond are cut by oxygen. It is preferable that it is -4, and it is more preferable that it is 1-3.
[0063]
<Annealing process>
The alloy particles subjected to the oxidation treatment are irregular phases. As described above, hard magnetism cannot be obtained in the irregular phase. Therefore, in order to obtain a regular phase, it is necessary to perform heat treatment (annealing). The heat treatment needs to be performed at or above that temperature by using a differential thermal analysis (DTA) to obtain a transformation temperature at which the alloy constituting the alloy particles undergoes regular and irregular transformation.
The above transformation temperature is usually about 500 ° C. However, if the annealing temperature is too high, depending on the support, it is affected by the temperature (heat), so that there are limitations on the support that can be used. Therefore, the annealing temperature is preferably 150 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, and more preferably 300 ° C. or lower.
[0064]
From the viewpoint of lowering the transformation temperature, it is preferable to diffuse the third element in the magnetic layer. Furthermore, it is preferable to anneal at a temperature that causes a phase transformation after annealing at a temperature near half the melting point of the third element. In this case, the annealing temperature is preferably equal to or lower than the temperature at which the particles are fused. Further, the melting point of the third element is preferably 100 ° C. or higher from the viewpoint of carbonizing the dispersion aid, and is preferably 300 ° C. or lower from the viewpoint of preventing particle fusion.
[0065]
In addition, when annealing is performed in a particle state, the particles are likely to move and fusion is likely to occur. For this reason, although a high coercive force can be obtained, it tends to have a disadvantage that the particle size becomes large. Therefore, the annealing treatment is preferably performed in a state where it is applied on a support from the viewpoint of preventing aggregation of alloy particles.
Furthermore, by annealing the alloy particles on the support to obtain magnetic particles, the layer made of such magnetic particles can be used as a magnetic layer for a magnetic recording medium.
[0066]
From the viewpoint of lowering the transformation temperature, a reducing atmosphere is preferable during annealing. Specifically, H2, Methane gas, or a mixed gas of an inert gas such as Ar, He, and Ne and a reducing gas.
[0067]
The support may be either an inorganic substance or an organic substance as long as it is a support used for a magnetic recording medium.
As the inorganic support, Mg alloys such as Al, Al—Mg, and Mg—Al—Zn, glass, quartz, carbon, silicon, ceramics, and the like are used. These supports are excellent in impact resistance and have rigidity suitable for thinning and high-speed rotation. In addition, it has a feature resistant to heat as compared with an organic support.
[0068]
Examples of organic supports include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefins; cellulose triacetate, polycarbonate, polyamide (including aromatic polyamides such as aliphatic polyamide and aramid), polyimide, polyamideimide , Polysulfone, polybenzoxazole; and the like can be used.
[0069]
In order to apply the alloy particles on the support, various additives may be added to the alloy particle-containing liquid after the oxidation treatment, if necessary, and applied on the support.
In this case, the content of the alloy particles is preferably set to a desired concentration (0.01 to 0.1 mg / ml).
[0070]
As a method of applying to the support, air doctor coat, blade coat, rod coat, extrusion coat, air knife coat, squeeze coat, impregnation coat, reverse roll coat, transfer roll coat, gravure coat, kiss coat, cast coat, spray coat, A spin coat etc. can be used.
[0071]
The atmosphere for annealing treatment is H to prevent phase oxidation and prevent oxidation of the alloy.2, N2, Ar, He, Ne, or other non-oxidizing atmosphere.
In particular, from the viewpoint of desorbing oxygen present on the lattice by oxidation treatment, methane, ethane, H2It is preferable to use a reducing atmosphere such as. Further, from the viewpoint of maintaining the particle size, it is preferable to perform the annealing treatment in a magnetic field under a reducing atmosphere. H2In the case of an atmosphere, it is preferable to mix an inert gas from the viewpoint of explosion prevention.
Also, in order to prevent particle fusion during annealing, annealing should be performed once in an inert gas at or below the transformation temperature, carbonizing the dispersant, and then annealing at or above the transformation temperature in a reducing atmosphere. Is preferred. At this time, it is most preferable to apply Si-based resin or the like on the layer made of alloy particles and perform the annealing treatment at the transformation temperature or higher after the annealing treatment at the transformation temperature or lower as necessary.
[0072]
By performing the annealing treatment as described above, the alloy particles are transformed from an irregular phase to an ordered phase, and magnetic particles having hard magnetism are obtained.
[0073]
The magnetic particles produced by the above-described method for producing magnetic particles of the present invention preferably have a coercive force of 95.5 to 398 kA / m (1200 to 5000 Oe), and when applied to a magnetic recording medium, In consideration of the capability of the head, it is more preferably 95.5 to 278.6 kA / m (1200 to 3500 Oe).
The particle size of the magnetic particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 20 nm, and even more preferably 3 to 10 nm.
[0074]
<Magnetic recording medium>
The magnetic recording medium of the present invention can be applied to magnetic tapes such as video tapes and computer tapes; magnetic disks such as floppy (R) disks and hard disks;
[0075]
As described above, when alloy particles (alloy particle-containing liquid) are applied onto a support and annealed to obtain magnetic particles, a layer made of such magnetic particles can be used as a magnetic layer.
Also, when the magnetic particles are produced by annealing in the state of the particles without annealing the alloy particles on the support, the magnetic particles are kneaded with an open kneader, a three roll mill, etc., and then a sand grinder or the like. The coating liquid may be prepared by finely dispersing and a magnetic layer may be formed by coating on a support by a known method.
[0076]
The thickness of the magnetic layer to be formed depends on the type of magnetic recording medium to be applied, but is preferably 4 nm to 1 μm, and more preferably 4 nm to 100 nm.
[0077]
The magnetic recording medium of the present invention may have other layers as necessary in addition to the magnetic layer. For example, in the case of a disk, it is preferable to further provide a magnetic layer or a nonmagnetic layer on the opposite side of the magnetic layer. In the case of a tape, it is preferable to provide a back layer on the surface of the insoluble support opposite to the magnetic layer.
[0078]
In addition, by forming a very thin protective film on the magnetic layer, the wear resistance is improved, and a lubricant is applied on the protective film to increase the slipperiness, thereby providing sufficient reliability. It can be a magnetic recording medium.
[0079]
As a material of the protective film, oxides such as silica, alumina, titania, zirconia, cobalt oxide and nickel oxide; nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride; carbides such as silicon carbide, chromium carbide and boron carbide; Examples of the carbon include carbon and carbon such as graphite and amorphous carbon, and particularly preferable is a hard amorphous carbon generally called diamond-like carbon.
[0080]
A carbon protective film made of carbon is suitable as a material for the protective film because it has a very thin film thickness and sufficient wear resistance, and hardly causes seizure on the sliding member.
As a method for forming a carbon protective film, a sputtering method is generally used for hard disks, but many methods using plasma CVD with a higher film formation rate have been proposed for products that require continuous film formation such as video tape. ing. Therefore, it is preferable to apply these methods.
Among them, it has been reported that the plasma injection CVD (PI-CVD) method has a very high film formation rate, and the obtained carbon protective film is hard and has a good quality protective film with few pinholes (for example, JP-A-61-61). No. 130487, JP-A 63-279426, JP-A 3-113824, etc.).
[0081]
This carbon protective film has a Vickers hardness of 1000 kg / mm.2Preferably, it is 2000 Kg / mm2More preferably. The crystal structure is preferably an amorphous structure and non-conductive.
When a diamond-like carbon (diamond-like carbon) film is used as the carbon protective film, this structure can be confirmed by Raman light spectroscopic analysis. That is, when a diamond-like carbon film is measured, 1520 to 1560 cm.-1It can be confirmed by detecting a peak. When the structure of the carbon film deviates from the diamond-like structure, the peak detected by Raman light spectroscopic analysis deviates from the above range, and the hardness as a protective film also decreases.
[0082]
As the carbon raw material for forming this carbon protective film, it is preferable to use carbon-containing compounds such as alkanes such as methane, ethane, propane and butane; alkenes such as ethylene and propylene; and alkynes such as acetylene. Further, a carrier gas such as argon or an additive gas such as hydrogen or nitrogen for improving the film quality can be added as necessary.
[0083]
When the carbon protective film is thick, the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated and the adhesion to the magnetic layer is deteriorated. When the carbon protective film is thin, the wear resistance is insufficient. Accordingly, the film thickness is preferably 2.5 to 20 nm, and more preferably 5 to 10 nm.
In order to improve the adhesion between the protective film and the magnetic layer serving as the substrate, the surface of the magnetic layer is preferably etched in advance with an inert gas or surface-modified by exposure to a reactive gas plasma such as oxygen. .
[0084]
The magnetic layer may have a multilayer structure in order to improve electromagnetic conversion characteristics, or may have a known nonmagnetic underlayer or intermediate layer under the magnetic layer. In order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to apply a lubricant or a rust preventive agent on the magnetic layer or protective film as described above. As the lubricant to be added, known hydrocarbon lubricants, fluorine lubricants, extreme pressure additives and the like can be used.
[0085]
Examples of hydrocarbon lubricants include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid; esters such as butyl stearate; sulfonic acids such as octadecyl sulfonic acid; phosphate esters such as monooctadecyl phosphate; stearyl alcohol and oleyl alcohol. Alcohols such as stearamide, amines such as stearylamine, and the like.
[0086]
Examples of the fluorine-based lubricant include a lubricant in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group.
Perfluoropolyether groups include perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF2CF2CF2O)nPerfluoroisopropylene oxide polymer (CF (CF3CF2O)nOr these copolymers.
[0087]
In addition, a compound having a polar functional group such as a hydroxyl group, an ester group, or a carboxyl group at the terminal or in the molecule of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is preferable because of its high effect of reducing frictional force.
Furthermore, this molecular weight is 500-5000, Preferably it is 1000-3000. If it is less than 500, volatility is high and lubricity may be low. On the other hand, if it exceeds 5000, the viscosity becomes high, so that the slider and the disk are likely to be adsorbed, and it may be liable to cause stoppage or head crash.
Specifically, this perfluoropolyether is commercially available under trade names such as FOMBLIN manufactured by Augmond and KRYTOX manufactured by DuPont.
[0088]
Extreme pressure additives include phosphate esters such as trilauryl phosphate; phosphites such as trilauryl phosphite; thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite; dibenzyl disulfide And sulfur-based extreme pressure agents such as
[0089]
The lubricants may be used alone or in combination. As a method for applying these lubricants on the magnetic layer or the protective film, the lubricant is dissolved in an organic solvent and applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or a vacuum deposition method. Can be attached.
[0090]
Examples of rust inhibitors include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine, and pyrimidine, and derivatives in which an alkyl side chain is introduced into the mother nucleus; benzothiazole, 2-mercapton benzothiazole, tetrazaindene And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as ring compounds and thiouracil compounds and derivatives thereof.
[0091]
As described above, when the magnetic recording medium is a magnetic tape or the like, a backcoat layer (backing layer) may be provided on the surface of the nonmagnetic support on which the magnetic layer is not formed. The back coat layer is formed by applying a back coat layer forming paint in which particulate components such as abrasives and antistatic agents and a binder are dispersed in a known organic solvent to the surface of the nonmagnetic support on which the magnetic layer is not formed. It is a layer provided.
Various inorganic pigments and carbon black can be used as the particulate component, and resins such as nitrocellulose, phenoxy resin, vinyl chloride resin, and polyurethane can be used alone or in combination as binders. .
Also, a known adhesive layer may be provided on the surface on which the alloy particle-containing liquid is applied and on the surface on which the backcoat layer is formed.
[0092]
The magnetic recording medium manufactured as described above has a surface centerline average roughness of preferably 0.1 to 5 nm, more preferably 1 to 4 nm, at a cutoff value of 0.25 mm. This is because it is preferable for the magnetic recording medium for high-density recording to have a surface having extremely excellent smoothness.
As a method for obtaining such a surface, there is a method in which a calender treatment is performed after the magnetic layer is formed. Moreover, you may perform a varnish process.
[0093]
The obtained magnetic recording medium can be used by appropriately punching with a punching machine or cutting to a desired size using a cutting machine or the like.
[0094]
【Example】
[Examples 1-8, Comparative Examples 1-8]
(Preparation of FePt alloy particles)
High purity N2The following operation was performed in gas.
NaBH4A reducing agent aqueous solution in which 0.76 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is dissolved in 16 ml of water (deoxygenated: 0.1 mg / liter or less), 10.8 g of aerosol OT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and decane (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) An alkane solution obtained by mixing 80 ml and 2 ml of oleylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was added and mixed to prepare a reverse micelle solution (I).
[0095]
Triammonium iron oxalate (Fe (NH4)3(C2O4)3) (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.46g and potassium chloroplatinate (K2PtCl4) (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) To an aqueous metal salt solution in which 0.38 g is dissolved in 8 ml of water (deoxygenated), an alkane solution obtained by mixing 5.4 g of aerosol OT and 40 ml of decane is added and mixed to obtain a reverse micelle solution (II ) Was prepared.
[0096]
While the reverse micelle solution (I) was stirred at a high speed with an omni mixer (manufactured by Yamato Kagaku) at 22 ° C., the reverse micelle solution (II) was added instantaneously. After 10 minutes, the mixture was heated to 50 ° C. and aged for 60 minutes while stirring with a magnetic stirrer.
Next, 2 ml of oleic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and cooled to room temperature. After cooling, it was taken out into the atmosphere. In order to destroy the reverse micelle, a mixed solution of 100 ml of water and 100 ml of methanol was added to separate into an aqueous phase and an oil phase. A state in which alloy particles were dispersed on the oil phase side was obtained. The oil phase side was washed 5 times with a mixed solution of 600 ml of water and 200 ml of methanol.
[0097]
Thereafter, 1100 ml of methanol was added to cause flocculation of the alloy particles to cause precipitation. The supernatant was removed, and 20 ml of heptane (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was added and redispersed.
Further, the sedimentation dispersion of the precipitation by adding 100 ml of methanol and the dispersion by adding 20 ml of heptane was repeated three times, and finally 5 ml of heptane was added, so that the mass ratio of water to surfactant (water / surfactant) was 2. An alloy particle-containing liquid containing FePt alloy particles was prepared.
[0098]
When the yield, composition, volume average particle diameter and distribution (coefficient of variation) of the obtained alloy particles were measured, the following results were obtained.
The composition and yield were determined by measurement by ICP spectroscopic analysis (inductively coupled high-frequency plasma spectroscopic analysis).
The volume average particle size and distribution were determined by measuring particles taken with a TEM (transmission electron microscope: 300 kV manufactured by Hitachi, Ltd.) and performing statistical processing.
The alloy particles for measurement were used after the alloy particles were collected from the prepared alloy particle-containing liquid, sufficiently dried, and heated in an electric furnace.
[0099]
Composition: Pt 44.5 at% FePt alloy, Yield: 85%,
Average particle diameter: 4.2 nm, coefficient of variation: 5%
[0100]
(Oxidation treatment)
Vacuum deaeration was performed so that the alloy particles were 4% by mass, and the prepared alloy particle-containing liquid was concentrated. After the concentration, oxygen gas was supplied into the alloy particle-containing liquid for 1 hour in order to oxidize the alloy particles under atmospheric pressure. The solvent that volatilized during the oxidation treatment was compensated by adding heptane.
[0101]
(Support)
(1) Support 1
The surface of the Si support is baked, and the SiO.sub.2 is about 300 nm deep from the surface.2A support 1 having a thickness of 1 mm was obtained.
(2) Support body 2
A low melting point metal layer (thickness: 3 nm) made of Bi was formed on the support 1 by sputtering under the following conditions.
[Sputtering conditions]
Atmospheric gas: Ar
Sputtering pressure: 399 × 103Pa (3 × 103Torr)
RF power: 500W
[0102]
(Coating / annealing process)
For each of the examples and comparative examples, one of the following steps A to C was performed (shown in Table 1) to obtain magnetic recording media of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8.
[0103]
(1) Process A
On the support described in Table 1, the alloy particle-containing solution after the oxidation treatment was applied by a spin coater. At this time, the coating amount is 0.5 g / m for alloy particles.2It was made to become. After application, N2In the atmosphere, the temperature was raised at a rate of temperature increase of 50 ° C./minute, heated at the annealing temperature shown in Table 1 for 30 minutes, and cooled to a room temperature at a temperature decrease rate of 50 ° C./minute for annealing.
[0104]
(2) Process B
The alloy particle-containing solution after the oxidation treatment was applied onto the support described in Table 1 by a spin coater. At this time, the coating amount of the alloy particles is 0.25 g / m.2It was made to become. After application, N2In the atmosphere, the temperature was increased at a rate of temperature increase of 50 ° C./min, heated at 200 ° C. for 1 minute, and then decreased to room temperature at a temperature decrease rate of 50 ° C./min for annealing. After that, do not touch the air.2The following treatment was performed in an atmosphere.
A low melting point metal layer (thickness: 3 nm) described in Table 1 was formed by sputtering under the same conditions as those for the support 2.
-The alloy particle containing liquid was apply | coated with the spin coater on the low melting-point metal layer. At this time, the coating amount of the alloy particles is 0.25 g / m.2It was made to become.
・ After application, N2In the atmosphere, the temperature was increased at a rate of temperature increase of 50 ° C./min, heated at 200 ° C. for 1 minute, and then decreased to room temperature at a temperature decrease rate of 50 ° C./min and annealed. After that, do not touch the air.2The following treatment was performed in an atmosphere.
[0105]
(3) Process C
On the support described in Table 1, the alloy particle-containing solution after the oxidation treatment was applied by a spin coater. At this time, the coating amount is 0.5 g / m for alloy particles.2It was made to become. Next, a low melting point metal layer described in Table 1 was formed by sputtering under the same conditions as those for the support 2. N after sputtering2In the atmosphere, the temperature was increased at a rate of temperature increase of 50 ° C./min, heated at 200 ° C. for 30 minutes, and then decreased to room temperature at a temperature decrease rate of 50 ° C./min and annealed.
[0106]
Magnetic characteristics (coercive force) of the magnetic recording media obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8 were applied to a magnetic field applied using a high-sensitivity magnetization vector measuring machine manufactured by Toei Industry and a DATA processing apparatus manufactured by the same company. The measurement was performed under the condition of 1194 kA / m (15 kOe). The results are shown in Table 1.
[0107]
[Table 1]
[0108]
From Table 1, it can be seen that the magnetic recording media of Examples 1 to 8 have a higher coercive force Hc even at a lower annealing temperature than those of Comparative Examples 1 to 8. In particular, in Examples 1, 3, 5, and 7, since a high coercive force Hc is obtained even when the annealing temperature is as low as 400 ° C., an organic resin having low heat resistance such as aramid is used as a support. In addition, it is possible to obtain a magnetic recording medium having a high coercive force Hc, in which no distortion occurs in the support.
[0109]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide a magnetic recording medium that is not limited by the heat resistance of the support, that is, can use a support having low heat resistance and has a high coercive force Hc.
