【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高いガスバリア性が要求される用途向けの樹脂フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、樹脂フィルムは、食品包装、磁気テープなど工業的にさまざまな分野で使用されているのは周知の通りである。特に、食品包装の分野では、食品の品質保持期間を長くするため包装用樹脂フィルムは高いガスバリア性が必要であり、エチレンビニルアルコール共重合樹脂フィルムなどが使用されている。
【０００３】
さらに、高いガスバリア性が要求されるフィルム液晶などの用途では、樹脂フィルムの透明性が要求される場合、樹脂フィルム上にＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３を真空成膜したものが用いられ、透明性が不要の場合、樹脂フィルム上にＡｌなどの金属を真空中で薄膜形成したものが用いられる。これらの用途で用いられるフィルムの場合、透湿率は最も低いものでも０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ程度である。
【０００４】
一方、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という。）は、自己発光、高速応答性などの点から、平面ディスプレイ、平面光源などの発光素子として近年盛んに研究開発が行われている。有機ＥＬ素子は一対の電極間に正孔輸送層、発光層、電子注入層からなる有機材料を含む発光領域を備え、両電極から発光層にキャリアを注入することによって発光層を発光させるものである。
【０００５】
しかし、有機ＥＬ素子は、例えば、発光領域を構成する有機層などへの水分や酸素の侵入による素子劣化が極めて発生しやすく、これに伴いダークスポットの発生、成長や発光効率の低下等を招くという問題がある。このため通常、ガラス基板上に上記有機ＥＬ素子を形成し、その後ガラスやアルミニウムなどからなるキャップを有機ＥＬ素子に被せ、水分や酸素の侵入を防いでいる。高温高湿環境下において素子劣化を防ぐためには、有機ＥＬ素子の形成部分に対する外部からの透湿率を１×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ程度以下にする必要がある。
【０００６】
従来、有機ＥＬ素子の封止については、主に二つの方法による検討が行われてきた。その一つは、ガラス製キャップを有機ＥＬ素子に封着するものであり、他方は、蒸着法などの真空成膜技術を用いて、有機ＥＬ素子の外表面に保護膜を形成するものである。
【０００７】
ガラス製キャップなどを封着して有機ＥＬ素子を封止する方法としては、無機エレクトロルミネッセンス素子で既に用いられているように、背面電極の外側にガラス板を設け、背面電極とガラス板の間にシリコンオイルを封入する方法などがある。
【０００８】
保護膜を形成して有機ＥＬ素子を封止する方法については、例えば特開平６−９６８５８号公報にＧｅＯ、ＳｉＯ、ＡｌＦ３などをイオンプレーティング法を用いて有機ＥＬ素子の外表面に形成する方法が開示されている。
【０００９】
また、特開平７−２１１４５５号公報においては、吸水率１％以下の吸水物質と吸水率０．１％以下の防湿性物質からなる保護膜を有機ＥＬ素子に形成する方法が開示されている。
【００１０】
さらに、特開平１０−４１０６７号公報においては、有機ＥＬ素子の外表面に、最下層に絶縁性化合物を有する少なくとも２層以上の積層膜からなる膜厚３〜３０μｍの保護膜を形成する方法が開示されている。
【００１１】
図５に従来の有機ＥＬ素子の断面図を示す。図５において、５０はガラス基板であり、その上に有機ＥＬから成る発光素子５１が形成され、その上に防湿材５２とアルミキャップ５３が配置されている。また、図示はしていないが、前記ガラス基板上にはインジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、ＺｎＯなどからなる透明導電材料あるいはＡｌなどからなる金属材料が用いられた電極が形成され、この電極上に有機材料を含んだ前記発光素子５１が形成され、その上に透明電極が形成されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
このように従来は、ガラス基板が有機ＥＬ素子の基板として用いられていたが、ガラス基板は重くて割れやすいため、最近ではガラス基板に代えて樹脂フィルムを用いることが検討されている。また、有機ＥＬ素子を樹脂フィルムの上に形成して、フレキシブルなディスプレイにすることも検討されている。
【００１３】
しかし、前述のように、樹脂フィルムの透湿率は最も低いものでも０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ程度であるため、この上に有機ＥＬ素子を形成し、さらに理想的なキャップを被せたとしても、フィルム側からの水分や酸素の侵入によって、たちまち素子劣化が発生し、有機ＥＬ素子が機能しなくなるという問題がある。ここで、樹脂フィルムの透湿率を小さくするには、樹脂フィルム上に形成する薄膜の膜厚を厚くする必要があるが、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３の場合、厚膜化するとクラックや膜欠陥が発生しやすくなり、逆に透湿率が低下してしまう。このように従来は、十分に低い透湿率が得られる樹脂フィルム基板を形成することは困難であった。
【００１４】
本発明は前記従来の問題を解決するためになされたものであり、水分や酸素の侵入が極めて少ない積層膜付きフィルムとその製造方法、及びそれを用いた耐久性、信頼性の高いフィルム型表示素子を提供するものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の積層膜付きフィルムは、樹脂フィルムの両面に積層膜を備えたフィルムであって、前記積層膜が、樹脂膜と無機膜とからなる層を少なくとも一層以上積層して形成されていることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の積層膜付きフィルムの製造方法は、回転するキャンの上に樹脂フィルムを連続的に搬送させ、前記樹脂フィルムにプラズマ処理を行った後、前記樹脂フィルムの上に樹脂膜と無機膜とをそれぞれ積層し、その後、前記工程を複数回行って前記樹脂フィルムの両面に、樹脂膜と無機膜とからなる層を少なくとも一層以上積層することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明のフィルム型表示素子は、前記積層膜付きフィルムの片面に第１の電極を備え、前記第１の電極の上に発光素子を備え、前記発光素子の上に第２の電極を備え、前記第２の電極の上に樹脂膜と無機膜とからなる層を少なくとも一層以上備えていることを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１９】
本発明の積層膜付きフィルムは、前記無機膜がＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ及びインジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）からなる群から選択された透明材料から形成されていることが好ましい。
【００２０】
また、前記無機膜は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｉ及びＣｕからなる群から選択された不透明金属材料から形成されていることが好ましい。
【００２１】
また、前記樹脂膜は、紫外線硬化モノマーを硬化させてなるポリマー膜であることが好ましい。
【００２２】
また、前記紫外線硬化モノマーは、ビニル基、アクリロイル基及びメタクロイル基からなる群から選択された官能基を有することが好ましい。
【００２３】
また、前記積層膜を構成する樹脂膜と無機膜とからなる層の数は、５層〜２０層が好ましい。
【００２４】
また、前記積層膜を構成する樹脂膜と無機膜との屈折率が、ほぼ同じであることが好ましい。
【００２５】
また、本発明の積層膜付きフィルムは、可視光領域での光の透過率が６０％以上９５％以下であることが好ましい。
【００２６】
また、前記積層膜の透湿性は、温度４０℃、湿度９０％の雰囲気において０．０１ｇ／ｍ２／２４Ｈｒ以下であることが好ましい。
【００２７】
また、前記積層膜の酸素透過率は、温度２５℃、湿度９０％の雰囲気において０．０１ｃｍ３／ｍ２／２４Ｈｒ／１気圧以下であることが好ましい。
【００２８】
また、前記樹脂フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリスチレン及びポリメタクリル酸メチルアクリレートからなる群から選択された透明樹脂から形成されていることが好ましい。
【００２９】
また、前記樹脂フィルムは、ポリイミド、ポリアミド及びポリフェニレンスルフィドからなる群から選択された不透明樹脂から形成されていることが好ましい。
【００３０】
また、前記樹脂フィルムの厚みは、０．０１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００３１】
また、本発明の積層膜付きフィルムの製造方法は、前記樹脂膜と無機膜とからなる層の形成を１つ又は２つのキャンを用いて行うことができる。
【００３２】
また、本発明のフィルム型表示素子は、前記樹脂膜と無機膜とからなる層の形成が、蒸着法、スパッタリング法及びＣＶＤ法からなる群から選択された一つで行われることが好ましい。
【００３３】
また、本発明のフィルム型表示素子は、前記ガスバリア膜が発光素子の防湿効果と反射防止の機能を有することが好ましい。
【００３４】
なお、本発明の積層膜付きフィルムの使途としては、冷蔵庫などに使用されるガスバリア膜、ＣＲＴ、液晶、プラズマ、ＥＬなどのディスプレイ表面のバリア膜や反射防止膜、また、有機ＥＬの封止材などがある。
【００３５】
次に、本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。
【００３６】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る積層膜付きフィルムの断面図である。図１において、１０は樹脂フィルム基板、１１は樹脂膜、１２は無機膜、１３は樹脂膜、１４は無機膜であり、樹脂フィルム基板１０の両面に樹脂膜１１、１３及び無機膜１２、１４からなる積層膜１５を形成している。
【００３７】
積層膜付きフィルムは、積層膜１５を片面のみに設けると、樹脂フィルム基板１０と積層膜１５との線膨張係数が異なり、カールが発生する。これを防止するために、樹脂フィルム基板１０の両面に積層膜１５を形成した。樹脂膜１１、１３と無機膜１２、１４との積層体である積層膜は、樹脂膜としてＤＣＰＡ（市販品）を使用し、無機膜としてＡｌを使用して、それぞれ蒸着法により積層して形成した。
【００３８】
上記積層膜付きフィルムを冷蔵庫などのガスバリア材として使用する場合、ガスバリア膜を両面に形成することによってガスバリア性が２倍になる。また、これをディスプレイの反射防止膜として使用する場合には両面コートが必要で、このためにも両面に積層膜を形成する必要がある。
【００３９】
本発明の積層膜付きフィルムを反射防止膜として使用する場合は、樹脂膜としてＤＣＰＡを使用し、無機膜としてフッ化マグネシウムを使用して、それぞれ蒸着法により形成した。
【００４０】
樹脂フィルム基板１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリスチレン及びポリメタクリル酸メチルアクリレートからなる群から選択された透明樹脂から形成することができる。この樹脂フィルム基板が透明な場合とは、積層膜を反射防止膜とする場合や、有機ＥＬの光の取り出しを樹脂フィルム基板側から行う場合である。
【００４１】
また、樹脂フィルム基板１０としては、ポリイミド、ポリアミド及びポリフェニレンスルフィドからなる群から選択された不透明樹脂から形成してもよい。この樹脂フィルム基板が不透明な場合とは、冷蔵庫などのガスバリア材として使用する場合や、有機ＥＬの保護膜として使用してオーバーコート側から光を取り出す場合である。
【００４２】
樹脂膜１１、１３は、紫外線硬化モノマーを樹脂フィルム状に形成し、電子線で硬化させてなるポリマー膜である。また、樹脂膜１１、１３は、ＤＣＰＡを用いて厚さ０．３μｍ程度に、蒸着法により形成した。通常、樹脂膜は透明であることが望ましい。
【００４３】
透明な無機膜１２、１４は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＩＴＯなどから形成される。
【００４４】
この無機膜が透明な場合とは、前述の樹脂フィルム基板と同様に、ガスバリア膜を反射防止膜とする場合や、有機ＥＬの光の取り出しを樹脂フィルム基板側から行う場合である。
【００４５】
なお、無機膜１２、１４は、Ａｌ２Ｏ３を用いて厚さ３０ｎｍ程度に、蒸着法により形成した。
【００４６】
また、不透明な無機膜１２、１４は、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕなどの金属材料から形成される。不透明な場合とは、冷蔵庫などのガスバリア材として使用する場合である。
【００４７】
（実施の形態２）
図２は、本発明の実施の形態２に係る積層膜付きフィルムの製造方法を示す工程図である。図２において、真空槽２０の中で、回転する１つのキャン２１上に樹脂フィルム基板２２を連続的に搬送させ、前記樹脂フィルム基板２２の片面にプラズマ処理装置２３によりプラズマ処理を行った後、樹脂膜形成装置２４及び無機膜形成装置２５を用いて樹脂膜及び無機膜の形成を行う。その後、その樹脂フィルム基板２２の原反を巻き戻し、再度同様にして樹脂フィルム基板２２の同一面に、プラズマ処理、樹脂膜及び無機膜の形成を行い、樹脂膜及び無機膜からなる積層膜を複数層形成する。続いて、樹脂フィルム基板２２の裏面も同様にして積層膜を同じ層数だけ形成する。これにより本発明の積層膜付きフィルムを得ることができる。
【００４８】
本発明の積層膜付きフィルムは、その防湿性、酸素バリア性などを必要とするため、その製造方法では、まず、樹脂フィルム基板の中の水分をプラズマ処理することで除去した後、樹脂膜と無機膜の材料を目的に応じて選定し、蒸着法などで薄膜形成を行った。
【００４９】
（実施の形態３）
図３は、本発明に係る実施の形態３の積層膜付きフィルムの製造方法を示す工程図である。図３において、真空槽３０の中で、回転する２つのキャン３１、３２の上に、樹脂フィルム基板３３を連続的に搬送させ、第１のキャン３１において、順次、プラズマ処理装置３４を用いてプラズマ処理を行った後、樹脂膜形成装置３５、無機膜形成装置３６を用いて樹脂膜及び無機膜の形成を行う。続いて、連続して第２のキャン３２において、順次、プラズマ処理装置３７を用いてプラズマ処理を行った後、樹脂膜形成装置３８、無機膜形成装置３９を用いて樹脂膜及び無機膜の形成を行う。この工程を複数回行うことにより、樹脂膜及び無機膜からなる積層膜を複数層形成する。これにより本発明の積層膜付きフィルムを得ることができる。
【００５０】
本発明の積層膜付きフィルムは、その防湿性、酸素バリア性などを必要とするため、その製造方法では、実施の形態２と同様に、まず、樹脂フィルム基板の中の水分をプラズマ処理することで除去し、樹脂膜と無機膜の材料を目的に応じて選定し、蒸着法などで薄膜形成を行った。
【００５１】
（実施の形態４）
図４は、本発明に係る実施の形態４の積層膜付きフィルムを用いたフィルム型表示素子の断面図である。図４において、積層膜付きフィルム４０は、樹脂フィルム基板４１の両面に樹脂膜４２と無機膜４３とからなる積層膜を積層して形成されている。また、積層膜付きフィルム４０の片面には発光素子４４が形成され、さらにその上から樹脂膜４５と無機膜４６とが、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などで形成され、本発明のフィルム型表示素子を構成している。なお、発光素子４４は、図示はしていなが、正の電極をＩＴＯで形成し、その上に発光素子を蒸着法で形成し、その上に負の電極を形成してある。
【００５２】
ここで、無機膜４３、４６は酸化アルミニウムを用いて反応性蒸着法で形成されており、樹脂膜４２、４５はＤＣＰＡを用いて蒸着法で形成されている。樹脂膜４２、４５は０．３μｍの厚さで、無機膜４３、４６は３０ｎｍの厚さとした。また、積層膜付きフィルム４０の片面に発光素子４４を形成するので、その積層膜が良い下地膜になるという効果もある。さらに、積層膜付きフィルム４０の他方の面にも積層膜が形成されているので、面積の広い樹脂フィルム基板４１からの水、酸素の侵入も遮断されるのである。なお、発光素子４４としては、有機ＥＬ素子を用いているが、外部からの水分遮断性が優れたものとなっているので、耐久性及び信頼性の高いフィルム型表示素子を提供できる。
【００５３】
透明の樹脂フィルム基板、透明の積層膜、透明の正電極、発光素子、透明の負電極を形成することにより、両面から発光光を取り出すことのできるフィルム型表示素子が実現できる。
【００５４】
このフィルム型表示素子におけるダークスポットの経時変化を検討するために、温度４０℃、湿度９０％の恒温恒湿槽内で、５００時間放置する放置試験を実施し、放置試験の前後において成長した単位面積当たりのダークスポットの数を顕微鏡観察により測定した。その結果、本発明の表示素子は、ダークスポットの成長が認められなかった。
【００５５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の積層膜付きフィルムは、樹脂フィルムの両面に積層膜を備えたフィルムであって、前記積層膜が、樹脂膜と無機膜とからなる層を少なくとも一層以上積層して形成されているため、水分や酸素の侵入の極めて少ない樹脂フィルム基板を提供でき、またそれを用いることにより、耐久性、信頼性の高いフィルム型表示素子を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層膜付きフィルムの断面図である。
【図２】本発明の積層膜付きフィルムの製造方法の工程図である。
【図３】本発明の積層膜付きフィルムの他の製造方法の工程図である。
【図４】本発明のフィルム型表示素子の断面図である。
【図５】従来の有機ＥＬ素子の断面図である。
【符号の説明】
１０、２２、３３、４１ 樹脂フィルム基板
１１、１３、４２、４５ 樹脂膜
１２、１４、４３、４６ 無機膜
１５ 積層膜
２０、３０ 真空槽
２１、３１、３２ キャン
２３、３４ プラズマ処理装置
２４、３５ 樹脂膜形成装置
２５、３６ 無機膜形成装置
４４、５１ 発光素子
４０ 積層膜付きフィルム
５０ ガラス基板
５２ 防湿材
５３ アルミキャップ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a resin film for applications requiring high gas barrier properties.
[0002]
[Prior art]
In recent years, it is well known that resin films are used in various industrial fields such as food packaging and magnetic tape. In particular, in the field of food packaging, a resin film for packaging needs to have a high gas barrier property in order to extend the quality maintaining period of food, and ethylene vinyl alcohol copolymer resin films and the like are used.
[0003]
Further, in applications such as film liquid crystal where a high gas barrier property is required, when transparency of a resin film is required, a film formed by vacuum deposition of SiO 2 or Al 2 O 3 on the resin film is used. Is unnecessary, a resin film formed of a metal such as Al on a resin film in a vacuum is used. In the case of films used in these applications, the lowest moisture permeability is about 0.1 g / m 2 / day / atm.
[0004]
On the other hand, organic electroluminescent elements (hereinafter, referred to as organic EL elements) have been actively researched and developed in recent years as light emitting elements such as flat displays and flat light sources from the viewpoint of self-emission and high-speed response. The organic EL element includes a light emitting region including an organic material including a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron injection layer between a pair of electrodes, and emits light from the light emitting layer by injecting carriers into the light emitting layer from both electrodes. is there.
[0005]
However, in the organic EL element, for example, element deterioration due to intrusion of moisture or oxygen into an organic layer or the like constituting a light-emitting region is extremely likely to occur, which leads to dark spots, growth, a decrease in luminous efficiency, and the like. There is a problem. For this reason, usually, the organic EL element is formed on a glass substrate, and thereafter, a cap made of glass, aluminum, or the like is placed on the organic EL element to prevent moisture and oxygen from entering. In order to prevent element deterioration in a high-temperature and high-humidity environment, it is necessary to reduce the moisture permeability from the outside to the formation portion of the organic EL element to about 1 × 10 −4 g / m 2 / day / atm or less.
[0006]
Conventionally, sealing of an organic EL element has been mainly studied by two methods. One is to seal a glass cap to the organic EL element, and the other is to form a protective film on the outer surface of the organic EL element by using a vacuum film forming technique such as an evaporation method. .
[0007]
As a method of sealing an organic EL element by sealing a glass cap or the like, a glass plate is provided outside a back electrode, and silicon is provided between the back electrode and the glass plate, as has been already used for an inorganic electroluminescence element. There is a method of filling oil.
[0008]
The method of sealing an organic EL device by forming a protective film is formed on the outer surface of the organic EL device using, for example, in JP-A No. 6-96858 GeO, SiO, etc. AlF 3 ion plating A method is disclosed.
[0009]
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-212455 discloses a method of forming a protective film made of a water-absorbing substance having a water absorption of 1% or less and a moisture-proof substance having a water absorption of 0.1% or less on an organic EL device.
[0010]
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-41067 discloses a method of forming a protective film having a thickness of 3 to 30 μm comprising at least two or more laminated films having an insulating compound in the lowermost layer on the outer surface of an organic EL device. It has been disclosed.
[0011]
FIG. 5 shows a cross-sectional view of a conventional organic EL element. In FIG. 5, reference numeral 50 denotes a glass substrate, on which a light emitting element 51 made of organic EL is formed, on which a moisture proof material 52 and an aluminum cap 53 are arranged. Although not shown, an electrode using a transparent conductive material such as indium-tin oxide (ITO) or ZnO or a metal material such as Al is formed on the glass substrate. The light emitting element 51 containing an organic material is formed thereon, and a transparent electrode is formed thereon.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, conventionally, a glass substrate has been used as a substrate of an organic EL element. However, since a glass substrate is heavy and easily broken, use of a resin film instead of a glass substrate has recently been studied. Also, studies have been made to form an organic EL element on a resin film to form a flexible display.
[0013]
However, as described above, the lowest moisture permeability of the resin film is about 0.1 g / m 2 / day / atm. Therefore, an organic EL element is formed thereon, and an ideal cap is placed thereon. Even so, there is a problem that the element is deteriorated immediately due to the intrusion of moisture or oxygen from the film side, and the organic EL element does not function. Here, in order to reduce the moisture permeability of the resin film, it is necessary to increase the thickness of the thin film formed on the resin film. However, in the case of SiO 2 or Al 2 O 3 , cracks and film Defects are likely to occur, and conversely, the moisture permeability decreases. As described above, conventionally, it has been difficult to form a resin film substrate capable of obtaining a sufficiently low moisture permeability.
[0014]
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and has a laminated film with a very small intrusion of moisture and oxygen, a method for producing the same, and a highly durable and reliable film display using the same. An element is provided.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
The film with a laminated film of the present invention is a film having a laminated film on both sides of a resin film, wherein the laminated film is formed by laminating at least one layer composed of a resin film and an inorganic film. It is characterized by.
[0016]
Further, the method for producing a film with a laminated film of the present invention is such that a resin film is continuously conveyed on a rotating can, a plasma treatment is performed on the resin film, and then a resin film and an inorganic film are formed on the resin film. And laminating each of the films, and thereafter, performing the step a plurality of times to laminate at least one layer composed of a resin film and an inorganic film on both surfaces of the resin film.
[0017]
Further, the film-type display element of the present invention includes a first electrode on one surface of the film with a laminated film, a light-emitting element on the first electrode, and a second electrode on the light-emitting element. Wherein at least one layer comprising a resin film and an inorganic film is provided on the second electrode.
[0018]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
[0019]
In the film with a laminated film of the present invention, the inorganic film is preferably formed of a transparent material selected from the group consisting of SiO 2 , Al 2 O 3 , ZnO, and indium-tin oxide (ITO).
[0020]
Preferably, the inorganic film is formed of an opaque metal material selected from the group consisting of Si, Al, Ni and Cu.
[0021]
Further, the resin film is preferably a polymer film obtained by curing an ultraviolet curable monomer.
[0022]
Further, it is preferable that the ultraviolet curable monomer has a functional group selected from the group consisting of a vinyl group, an acryloyl group and a methacryloyl group.
[0023]
Further, the number of layers comprising the resin film and the inorganic film constituting the laminated film is preferably 5 to 20 layers.
[0024]
Further, it is preferable that the refractive index of the resin film and the refractive index of the inorganic film constituting the laminated film are substantially the same.
[0025]
Further, the film with a laminated film of the present invention preferably has a light transmittance of 60% or more and 95% or less in a visible light region.
[0026]
The moisture permeability of the laminated film is preferably 0.01 g / m 2 / 24Hr or less in an atmosphere at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90%.
[0027]
The oxygen permeability of the laminated film, the temperature 25 ° C., it is preferably not more than 0.01cm 3 / m 2 / 24Hr / 1 atm in an atmosphere of 90% humidity.
[0028]
Preferably, the resin film is formed of a transparent resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, polypropylene, polystyrene, and polymethyl methacrylate.
[0029]
Further, it is preferable that the resin film is formed of an opaque resin selected from the group consisting of polyimide, polyamide and polyphenylene sulfide.
[0030]
The thickness of the resin film is preferably 0.01 mm or more and 0.5 mm or less.
[0031]
In the method for producing a film with a laminated film of the present invention, the formation of the layer composed of the resin film and the inorganic film can be performed using one or two cans.
[0032]
Further, in the film display element of the present invention, it is preferable that the formation of the layer comprising the resin film and the inorganic film is performed by one selected from the group consisting of a vapor deposition method, a sputtering method and a CVD method.
[0033]
Further, in the film type display element of the present invention, it is preferable that the gas barrier film has a moisture-proof effect and an anti-reflection function of the light-emitting element.
[0034]
The film with a laminated film of the present invention is used as a gas barrier film used in refrigerators and the like, a barrier film on a display surface such as a CRT, a liquid crystal, a plasma, an EL, an antireflection film, and a sealing material for an organic EL. and so on.
[0035]
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0036]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a film with a laminated film according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, 10 is a resin film substrate, 11 is a resin film, 12 is an inorganic film, 13 is a resin film, 14 is an inorganic film, and resin films 11 and 13 and inorganic films 12 and 14 are formed on both surfaces of the resin film substrate 10. Is formed.
[0037]
When the laminated film 15 is provided only on one side of the film with a laminated film, the resin film substrate 10 and the laminated film 15 have different coefficients of linear expansion, and curl occurs. In order to prevent this, the laminated films 15 were formed on both surfaces of the resin film substrate 10. The laminated film, which is a laminated body of the resin films 11 and 13 and the inorganic films 12 and 14, is formed by using DCPA (commercially available) as the resin film, using Al as the inorganic film, and laminating each by an evaporation method. did.
[0038]
When the film with a laminated film is used as a gas barrier material for a refrigerator or the like, gas barrier properties are doubled by forming a gas barrier film on both surfaces. Further, when this is used as an antireflection film of a display, a double-sided coating is required. For this purpose, it is necessary to form a laminated film on both sides.
[0039]
When the film with a laminated film of the present invention was used as an anti-reflection film, DCPA was used as a resin film, and magnesium fluoride was used as an inorganic film, and each was formed by a vapor deposition method.
[0040]
The resin film substrate 10 can be formed from a transparent resin selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, polypropylene, polystyrene, and polymethyl methacrylate. The case where the resin film substrate is transparent is a case where the laminated film is an anti-reflection film or a case where the light of the organic EL is extracted from the resin film substrate side.
[0041]
Further, the resin film substrate 10 may be formed of an opaque resin selected from the group consisting of polyimide, polyamide, and polyphenylene sulfide. The case where the resin film substrate is opaque refers to a case where the resin film substrate is used as a gas barrier material of a refrigerator or the like, or a case where light is extracted from the overcoat side by using the resin film substrate as a protective film of an organic EL.
[0042]
The resin films 11 and 13 are polymer films formed by forming an ultraviolet curable monomer into a resin film shape and curing with an electron beam. The resin films 11 and 13 were formed to a thickness of about 0.3 μm using DCPA by an evaporation method. Usually, it is desirable that the resin film is transparent.
[0043]
The transparent inorganic films 12 and 14 are formed from SiO 2 , Al 2 O 3 , ZnO, ITO, or the like.
[0044]
The case where the inorganic film is transparent is a case where the gas barrier film is used as an anti-reflection film or the case where the light of the organic EL is extracted from the resin film substrate side, similarly to the above-mentioned resin film substrate.
[0045]
The inorganic films 12 and 14 were formed using Al 2 O 3 to a thickness of about 30 nm by an evaporation method.
[0046]
The opaque inorganic films 12 and 14 are formed from a metal material such as Al, Ni, and Cu. An opaque case is a case where it is used as a gas barrier material of a refrigerator or the like.
[0047]
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing a film with a laminated film according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 2, after a resin film substrate 22 is continuously conveyed onto one rotating can 21 in a vacuum chamber 20, and one side of the resin film substrate 22 is subjected to plasma processing by a plasma processing apparatus 23, The resin film and the inorganic film are formed using the resin film forming device 24 and the inorganic film forming device 25. Thereafter, the original film of the resin film substrate 22 is rewound, and the plasma treatment, the formation of the resin film and the formation of the inorganic film are performed on the same surface of the resin film substrate 22 in the same manner, and the laminated film formed of the resin film and the inorganic film is formed. Multiple layers are formed. Subsequently, the same number of laminated films are formed on the back surface of the resin film substrate 22 in the same manner. Thereby, the film with a laminated film of the present invention can be obtained.
[0048]
Since the film with a laminated film of the present invention requires its moisture-proof properties, oxygen barrier properties, and the like, in the manufacturing method, first, water in the resin film substrate is removed by plasma treatment, and then the resin film is removed. The material of the inorganic film was selected according to the purpose, and a thin film was formed by a vapor deposition method or the like.
[0049]
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing a film with a laminated film according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 3, a resin film substrate 33 is continuously conveyed onto two rotating cans 31 and 32 in a vacuum chamber 30, and sequentially in a first can 31 using a plasma processing device 34. After performing the plasma treatment, the resin film and the inorganic film are formed using the resin film forming device 35 and the inorganic film forming device 36. Subsequently, in the second can 32, the plasma processing is sequentially performed using the plasma processing apparatus 37 in the second can 32, and then the resin film and the inorganic film are formed using the resin film forming apparatus 38 and the inorganic film forming apparatus 39. I do. By performing this step a plurality of times, a plurality of laminated films including a resin film and an inorganic film are formed. Thereby, the film with a laminated film of the present invention can be obtained.
[0050]
Since the film with a laminated film of the present invention requires its moisture-proof property, oxygen barrier property, and the like, in the manufacturing method, first, the water in the resin film substrate is plasma-treated as in the second embodiment. Then, the materials of the resin film and the inorganic film were selected according to the purpose, and a thin film was formed by an evaporation method or the like.
[0051]
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a cross-sectional view of a film-type display element using the film with a laminated film according to the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 4, a film with a laminated film 40 is formed by laminating a laminated film composed of a resin film 42 and an inorganic film 43 on both surfaces of a resin film substrate 41. A light emitting element 44 is formed on one surface of the film 40 with a laminated film, and a resin film 45 and an inorganic film 46 are further formed thereon by a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like. It constitutes a display element. Although not shown, the light emitting element 44 has a positive electrode formed of ITO, a light emitting element formed thereon by a vapor deposition method, and a negative electrode formed thereon.
[0052]
Here, the inorganic films 43 and 46 are formed by a reactive evaporation method using aluminum oxide, and the resin films 42 and 45 are formed by an evaporation method using DCPA. The resin films 42 and 45 had a thickness of 0.3 μm, and the inorganic films 43 and 46 had a thickness of 30 nm. Further, since the light emitting element 44 is formed on one side of the film 40 with a laminated film, there is also an effect that the laminated film becomes a good base film. Further, since the laminated film is formed on the other surface of the film with a laminated film 40, the intrusion of water and oxygen from the resin film substrate 41 having a large area is also blocked. In addition, although the organic EL element is used as the light emitting element 44, the film type display element having high durability and reliability can be provided because the organic light emitting element 44 has excellent moisture barrier property from the outside.
[0053]
By forming a transparent resin film substrate, a transparent laminated film, a transparent positive electrode, a light emitting element, and a transparent negative electrode, a film type display element capable of extracting emitted light from both sides can be realized.
[0054]
In order to examine the change over time of dark spots in this film type display element, a standing test was conducted in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% for 500 hours, and the unit grown before and after the leaving test was performed. The number of dark spots per area was determined by microscopic observation. As a result, in the display element of the present invention, growth of dark spots was not recognized.
[0055]
【The invention's effect】
As described above, the film with a laminated film of the present invention is a film having a laminated film on both sides of a resin film, wherein the laminated film is formed by laminating at least one layer of a resin film and an inorganic film. Therefore, it is possible to provide a resin film substrate with very little moisture and oxygen penetration, and to use the resin film substrate to realize a film-type display element having high durability and reliability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a film with a laminated film of the present invention.
FIG. 2 is a process chart of the method for producing a film with a laminated film of the present invention.
FIG. 3 is a process chart of another method for producing a film with a laminated film of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a film type display element of the present invention.
FIG. 5 is a sectional view of a conventional organic EL element.
[Explanation of symbols]
10, 22, 33, 41 Resin film substrate 11, 13, 42, 45 Resin film 12, 14, 43, 46 Inorganic film 15 Laminated film 20, 30 Vacuum tank 21, 31, 32 Can 23, 34 Plasma processing device 24, 35 Resin film forming device 25, 36 Inorganic film forming device 44, 51 Light emitting element 40 Film with laminated film 50 Glass substrate 52 Moisture proof material 53 Aluminum cap
