JP2003534412A - 水素化ブロックコポリマー組成物 - Google Patents
水素化ブロックコポリマー組成物Info
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/04—Reduction, e.g. hydrogenation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L53/02—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers of vinyl-aromatic monomers and conjugated dienes
- C08L53/025—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers of vinyl-aromatic monomers and conjugated dienes modified
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 押し出しシート用途に有利に適用できる耐衝撃強度、加工性及び表面風合に優れたバランスをもつ水素化ブロックコポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 ラメラモルフォロジーと高い芳香族水素化レベルをもつビニル芳香族と共役ジエンポリマーの水素化ブロックコポリマーからなる組成物。
Description
【０００１】
本発明はビニル芳香族モノマーと共役ジエンモノマーの水素化ブロックコポリ
マーの組成物に関する。
マーの組成物に関する。
【０００２】
種々の水素化ブロックコポリマー組成物が１９９９年６月１１日出願の出願番
号０９／３３０，５２０号及び０９／３３０，６６３号のような先行出願に開示
されてきた。さらに、そのような水素化ブロックコポリマー組成物から作られた
成型物品は１９９９年５月１９日出願の出願番号０９／５７５，０６３号及び０
９／５７５，０６２号に開示されてきた。しかしながら、良好な耐衝撃強度、加
工性及び表面外観の組み合わせは押し出しシートのようなこれらのポリマーの或
る用途においては達成困難である。
号０９／３３０，５２０号及び０９／３３０，６６３号のような先行出願に開示
されてきた。さらに、そのような水素化ブロックコポリマー組成物から作られた
成型物品は１９９９年５月１９日出願の出願番号０９／５７５，０６３号及び０
９／５７５，０６２号に開示されてきた。しかしながら、良好な耐衝撃強度、加
工性及び表面外観の組み合わせは押し出しシートのようなこれらのポリマーの或
る用途においては達成困難である。
【０００３】
本発明の目的は押し出しシート用途に有利に適用できる耐衝撃強度、加工性及
び表面風合に優れたバランスをもつ水素化ブロックコポリマー組成物を提供する
ことである。
び表面風合に優れたバランスをもつ水素化ブロックコポリマー組成物を提供する
ことである。
【０００４】
本発明は水素化ブロックコポリマーからなる組成物であって、その水素化ブロ
ックコポリマーが水素化した重合したビニル芳香族モノマーの少なくとも２個の
異なるブロック（ここでは水素化ビニル芳香族ポリマーブロックと呼ぶ）の硬質
セグメント相量、及び水素化した重合した共役ジエンモノマーの少なくとも１個
のブロック（ここでは水素化共役ジエンポリマーブロックと呼ぶ）の軟質セグメ
ント相量からなり、且つ水素化ブロックコポリマーが更にａ）ラメラモルフォロ
ジーが達成されるのに充分な軟質セグメント相量、ｂ）３５，０００から６５，
０００の合計数平均分子量（Ｍｎｔ ）、及びｃ）各水素化ビニル芳香族ポリマ
ーブロックが９０％より大きい水素化レベルをもちそして各水素化共役ジエンポ
リマーブロックが９５％より大きい水素化レベルをもつような水素化レベル、を
もつことを特徴とする水素化ブロックコポリマーからなる組成物であり、耐衝撃
性、加工性及び表面風合いの優れたバランスを示す。
ックコポリマーが水素化した重合したビニル芳香族モノマーの少なくとも２個の
異なるブロック（ここでは水素化ビニル芳香族ポリマーブロックと呼ぶ）の硬質
セグメント相量、及び水素化した重合した共役ジエンモノマーの少なくとも１個
のブロック（ここでは水素化共役ジエンポリマーブロックと呼ぶ）の軟質セグメ
ント相量からなり、且つ水素化ブロックコポリマーが更にａ）ラメラモルフォロ
ジーが達成されるのに充分な軟質セグメント相量、ｂ）３５，０００から６５，
０００の合計数平均分子量（Ｍｎｔ ）、及びｃ）各水素化ビニル芳香族ポリマ
ーブロックが９０％より大きい水素化レベルをもちそして各水素化共役ジエンポ
リマーブロックが９５％より大きい水素化レベルをもつような水素化レベル、を
もつことを特徴とする水素化ブロックコポリマーからなる組成物であり、耐衝撃
性、加工性及び表面風合いの優れたバランスを示す。
【０００５】
本発明の組成物は式Ａ（ＢＡ）ｎ 、ここでＡは水素化ビニル芳香族ポリマー
硬質ブロックでありＢは水素化共役ジエンポリマー軟質ブロックであり、ここで
ｎは１−３の整数、で示される少なくとも３個のブロックをもつ交互ブロックの
水素化ブロックコポリマーからなり、例えばＳＢ’Ｓ、及びＳＢ’ＳＢ’Ｓ（こ
こでＳは水素化ポリスチレン、Ｂ’は水素化ポリブタジエンである）のようなト
リブロック、マルチブロック、テーパードブロック、及びスターブロックコポリ
マーを含む。ブロックコポリマーは、しかしながら、いくつかの追加のブロック
を含んでいてもよく、そこではこれらのブロックはラメラモルフォロジーがなお
達成されている限りは、ブロックコポリマー骨格のどの位置に結合していてもよ
い。このように、線状ブロックとしては例えばＡＢＡ、ＡＢＡＢ、ＡＢＡＢＡ、
及びＡＢＡＢＡＢを含含する。ブロックコポリマーはまた分岐していてもよく、
そこではポリマー鎖はブロックコポリマー骨格に沿ってどの位置に結合していて
もよい。さらに、組成物に要求される性質に適合する限りは、ブロックコポリマ
ーとその対応するホモポリマーとのブレンド物と同様に前述のブロックコポリマ
ーの如何なるブレンド物もまた使用できる。換言すれば、ＡＢＡブロックコポリ
マーは、ラメラモルフォロジーがなお達成されている限りは、ＡＢＡＢＡブロッ
クコポリマー及び／又はＡホモポリマーとブレンドすることができる。
硬質ブロックでありＢは水素化共役ジエンポリマー軟質ブロックであり、ここで
ｎは１−３の整数、で示される少なくとも３個のブロックをもつ交互ブロックの
水素化ブロックコポリマーからなり、例えばＳＢ’Ｓ、及びＳＢ’ＳＢ’Ｓ（こ
こでＳは水素化ポリスチレン、Ｂ’は水素化ポリブタジエンである）のようなト
リブロック、マルチブロック、テーパードブロック、及びスターブロックコポリ
マーを含む。ブロックコポリマーは、しかしながら、いくつかの追加のブロック
を含んでいてもよく、そこではこれらのブロックはラメラモルフォロジーがなお
達成されている限りは、ブロックコポリマー骨格のどの位置に結合していてもよ
い。このように、線状ブロックとしては例えばＡＢＡ、ＡＢＡＢ、ＡＢＡＢＡ、
及びＡＢＡＢＡＢを含含する。ブロックコポリマーはまた分岐していてもよく、
そこではポリマー鎖はブロックコポリマー骨格に沿ってどの位置に結合していて
もよい。さらに、組成物に要求される性質に適合する限りは、ブロックコポリマ
ーとその対応するホモポリマーとのブレンド物と同様に前述のブロックコポリマ
ーの如何なるブレンド物もまた使用できる。換言すれば、ＡＢＡブロックコポリ
マーは、ラメラモルフォロジーがなお達成されている限りは、ＡＢＡＢＡブロッ
クコポリマー及び／又はＡホモポリマーとブレンドすることができる。
【０００６】
引き続き水素化されるブロックコポリマーを調製するのに使用されるビニル芳
香族モノマーは、典型的には次式のモノマーである：
香族モノマーは、典型的には次式のモノマーである：
【０００７】
【化１】
【０００８】
ここでＲ’は水素又はアルキル、Ａｒはフェニル、ハロフェニル、アルキルフェ
ニル、アルキルハロフェニル、ナフチル、ピリジニル、又はアントラセニルであ
り、ここではどのアルキル基もハロ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カ
ルボニル及びカルボキシルのような多官能性基で単又は多置換されていてもよい
１から６個の炭素原子を含む。より好ましくは、Ａｒはフェニルまたはアルキル
フェニルであり、フェニルが最も好ましい。典型的なビニル芳香族モノマーとし
てはスチレン、アルファメチルスチレン、ビニルトルエン特にパラビニルトルエ
ンの全ての異性体、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニ
ルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンの全ての異性体、及びこ
れらの混合物を包含する。ブロックコポリマーは１以上の特定の重合したビニル
芳香族モノマーを含むことができる。換言すれば、ブロックコポリマーはポリス
チレンブロックとポリ−アルファ−メチルスチレンブロックを含むことができる
。水素化ビニル芳香族ポリマーブロックはまた水素化ビニル芳香族の水素化コポ
リマーであってもよく、そこではビニル芳香族部分は、ラメラモルフォロジーが
なお達成されている限り、少なくともコポリマーの５０重量％である。
ニル、アルキルハロフェニル、ナフチル、ピリジニル、又はアントラセニルであ
り、ここではどのアルキル基もハロ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、カ
ルボニル及びカルボキシルのような多官能性基で単又は多置換されていてもよい
１から６個の炭素原子を含む。より好ましくは、Ａｒはフェニルまたはアルキル
フェニルであり、フェニルが最も好ましい。典型的なビニル芳香族モノマーとし
てはスチレン、アルファメチルスチレン、ビニルトルエン特にパラビニルトルエ
ンの全ての異性体、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニ
ルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンの全ての異性体、及びこ
れらの混合物を包含する。ブロックコポリマーは１以上の特定の重合したビニル
芳香族モノマーを含むことができる。換言すれば、ブロックコポリマーはポリス
チレンブロックとポリ−アルファ−メチルスチレンブロックを含むことができる
。水素化ビニル芳香族ポリマーブロックはまた水素化ビニル芳香族の水素化コポ
リマーであってもよく、そこではビニル芳香族部分は、ラメラモルフォロジーが
なお達成されている限り、少なくともコポリマーの５０重量％である。
【０００９】
引き続き水素化されるブロックコポリマーを調製するのに使用される共役ジエ
ンモノマーは、２個の共役二重結合をもつものであれば如何なるモノマーであっ
てもよい。そのようなモノマーとしては、例えば１，３−ブタジエン、２−メチ
ル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、イソプレン及び
類似の化合物、及びそれらの混合物を包含する。一態様においては、共役ジエン
ポリマーブロックはポリブタジエンである。ポリブタジエンは１−ブテン繰り返
し単位の等価物を与えるために水素化する１，２配置か、或いはエチレン繰り返
し単位の等価物を与えるために水素化する１，４配置を含むことができる。
ンモノマーは、２個の共役二重結合をもつものであれば如何なるモノマーであっ
てもよい。そのようなモノマーとしては、例えば１，３−ブタジエン、２−メチ
ル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、イソプレン及び
類似の化合物、及びそれらの混合物を包含する。一態様においては、共役ジエン
ポリマーブロックはポリブタジエンである。ポリブタジエンは１−ブテン繰り返
し単位の等価物を与えるために水素化する１，２配置か、或いはエチレン繰り返
し単位の等価物を与えるために水素化する１，４配置を含むことができる。
【００１０】
ブロックはここでは構造的又は組成的に異なったコポリマーの重合セグメント
からミクロ相分離を示すコポリマーの重合セグメントとして定義される。ミクロ
相分離はブロックコポリマー中での重合セグメントの不溶性によって起こる。ブ
ロックセグメントの分離は異なるガラス転移温度の存在によって検出することが
できる。ミクロ相分離とブロックコポリマーはＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹ、１
９９９年２月号、３２−３８頁の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ−ｄｅｓ
ｉｇｎｅｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”中で広範に議論されている。 本発明の組成物において使用されるブロックコポリマーとしては特定のモルフォ
ロジーをもつものが有利である。モルフォロジーはＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹ
、１９９９年２月号、の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ−ｄｅｓｉｇｎｅ
ｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”中でＢａｔｅｓ及びＦｒｅｄｒｉｃｋｓｏ
ｎによって記載されているような組成パターンを生み出す熔融状態及び固体状態
でのブロックのメソスコ−ピックな自己凝集である。本発明の組成物において使
用される特定の有利なモルフォロジーはラメラモルフォロジーであり、そこでは
ブロックの自己凝集が不連続層に存在する。モルフォロジーはＳＡＸＳ（小角度
Ｘ線散乱）分析によって決定することができ、それは熟練した当業者によく知ら
れておりそしてＴｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅ
ｒｓ，Ｉａｎ Ｗ．Ｈａｍｌｅｙ，５章オックスフォード大学版、１９９９、Ｎ
Ｙに記載されている。
からミクロ相分離を示すコポリマーの重合セグメントとして定義される。ミクロ
相分離はブロックコポリマー中での重合セグメントの不溶性によって起こる。ブ
ロックセグメントの分離は異なるガラス転移温度の存在によって検出することが
できる。ミクロ相分離とブロックコポリマーはＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹ、１
９９９年２月号、３２−３８頁の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ−ｄｅｓ
ｉｇｎｅｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”中で広範に議論されている。 本発明の組成物において使用されるブロックコポリマーとしては特定のモルフォ
ロジーをもつものが有利である。モルフォロジーはＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹ
、１９９９年２月号、の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ−ｄｅｓｉｇｎｅ
ｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”中でＢａｔｅｓ及びＦｒｅｄｒｉｃｋｓｏ
ｎによって記載されているような組成パターンを生み出す熔融状態及び固体状態
でのブロックのメソスコ−ピックな自己凝集である。本発明の組成物において使
用される特定の有利なモルフォロジーはラメラモルフォロジーであり、そこでは
ブロックの自己凝集が不連続層に存在する。モルフォロジーはＳＡＸＳ（小角度
Ｘ線散乱）分析によって決定することができ、それは熟練した当業者によく知ら
れておりそしてＴｈｅ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅ
ｒｓ，Ｉａｎ Ｗ．Ｈａｍｌｅｙ，５章オックスフォード大学版、１９９９、Ｎ
Ｙに記載されている。
【００１１】
ラメラモルフォロジーは異なった手段で達成することができそして軟質ブロッ
クセグメント層の量による。一般的に、軟質セグメント層の量はラメラモルフォ
ロジーを達成するための充分な量である。典型的には、軟質ブロックセグメント
層の量はブロックコポリマーの合計重量基準で共役ジエンの３５重量％より多く
、好ましくは３７より多く、より好ましくは４０より多くそして最も好ましくは
４５から６５重量％、好ましくは６０まで、より好ましくは５５までそして最も
好ましくは４５重量％までである。水素化共役ジエンポリマーブロック／水素化
ビニル芳香族ポリマーブロックの重量比は典型的には３５：６５またはそれ以上
、好ましくは４０以上：６０である。水素化ビニル芳香族ポリマーブロックと水
素化共役ジエンポリマーブロックの合計重量は水素化コポリマーの合計重量の典
型的には少なくとも８０重量％、好ましくは少なくとも９０、そしてより好まし
くは９５重量％である。
クセグメント層の量による。一般的に、軟質セグメント層の量はラメラモルフォ
ロジーを達成するための充分な量である。典型的には、軟質ブロックセグメント
層の量はブロックコポリマーの合計重量基準で共役ジエンの３５重量％より多く
、好ましくは３７より多く、より好ましくは４０より多くそして最も好ましくは
４５から６５重量％、好ましくは６０まで、より好ましくは５５までそして最も
好ましくは４５重量％までである。水素化共役ジエンポリマーブロック／水素化
ビニル芳香族ポリマーブロックの重量比は典型的には３５：６５またはそれ以上
、好ましくは４０以上：６０である。水素化ビニル芳香族ポリマーブロックと水
素化共役ジエンポリマーブロックの合計重量は水素化コポリマーの合計重量の典
型的には少なくとも８０重量％、好ましくは少なくとも９０、そしてより好まし
くは９５重量％である。
【００１２】
本発明に有用な水素化ブロックコポリマーの合計数平均分子量（Ｍｎｔ ）は
典型的には３５，０００から、好ましくは４２，０００から、より好ましくは４
５，０００からそして最も好ましくは４７，０００から８０，０００、典型的に
は７０，０００まで、そして一般的には６０，０００までである。本明細書で参
照されるとき、Ｍｎはゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって、ポリ
スチレン標準との比較で決定される。水素化ブロックコポリマーの分子量と得ら
れる物性は水素化された重合ブロックのそれぞれの分子量に依存する。
典型的には３５，０００から、好ましくは４２，０００から、より好ましくは４
５，０００からそして最も好ましくは４７，０００から８０，０００、典型的に
は７０，０００まで、そして一般的には６０，０００までである。本明細書で参
照されるとき、Ｍｎはゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって、ポリ
スチレン標準との比較で決定される。水素化ブロックコポリマーの分子量と得ら
れる物性は水素化された重合ブロックのそれぞれの分子量に依存する。
【００１３】
水素化ビニル芳香族ポリマーブロックのＭｎａ は典型的には６，０００から
、好ましくは７，０００から、より好ましくは８，０００から５０，０００まで
、好ましくは４０，０００まで、より好ましくは３０，０００までそして最も好
ましくは２５，０００までである。水素化共役ジエンポリマーブロックは典型的
には３，０００から、好ましくは５，０００から３０，０００まで、好ましくは
２５，０００まで、そして最も好ましくは２０，０００までのＭｎｂ をもつ。
、好ましくは７，０００から、より好ましくは８，０００から５０，０００まで
、好ましくは４０，０００まで、より好ましくは３０，０００までそして最も好
ましくは２５，０００までである。水素化共役ジエンポリマーブロックは典型的
には３，０００から、好ましくは５，０００から３０，０００まで、好ましくは
２５，０００まで、そして最も好ましくは２０，０００までのＭｎｂ をもつ。
【００１４】
水素化ブロックコポリマーのそれぞれ独立のブロックはその独自の異なるＭｎ
をもつことができる。換言すれば、例えば、水素化ブロックコポリマー中の２個
の水素化共役ジエンポリマーブロックはそれぞれ別のＭｎをもっていてもよい。
をもつことができる。換言すれば、例えば、水素化ブロックコポリマー中の２個
の水素化共役ジエンポリマーブロックはそれぞれ別のＭｎをもっていてもよい。
【００１５】
本発明の水素化ブロックコポリマーの秩序−無秩序（ｏｒｄｅｒ ｄｉｓｉｏ
ｒｄｅｒ）温度（ＯＤＴ）は水素化ブロックコポリマーの崩壊温度以下でなけれ
ばならずそしてまたＭｎによって決定される。このことは典型的な押し出し温度
で加工することを容易にする。典型的には、ＯＤＴは１５０℃から３５０℃であ
るが、一般的には３５０℃以下、好ましくは３２５、より好ましくは３００以下
、そして最も好ましくは２９０℃以下である。
ｒｄｅｒ）温度（ＯＤＴ）は水素化ブロックコポリマーの崩壊温度以下でなけれ
ばならずそしてまたＭｎによって決定される。このことは典型的な押し出し温度
で加工することを容易にする。典型的には、ＯＤＴは１５０℃から３５０℃であ
るが、一般的には３５０℃以下、好ましくは３２５、より好ましくは３００以下
、そして最も好ましくは２９０℃以下である。
【００１６】
ブロックコポリマーの製造方法は当業者に公知である。典型的には、ブロック
コポリマーはアニオン重合によって製造され、その例はＡｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌ
ｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｈ．Ｌ．Ｈｓｉｅｈ ａｎｄ Ｒ．ｐ．Ｑｕｉｒ
ｋ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９６に引用されてい
る。一態様として、ブロックコポリマーはｓ−ブチルリチウム又はｎ−ブチルリ
チウムのようなカルバニオン開始剤に連続的にモノマー付加させることによって
製造される。別の態様では、コポリマーは１，２−ジブロモエタン、ジクロロジ
メチルシラン、又はフェニルベンゾエートのような２価カップリング剤でトリブ
ロック材料をカップリングさせることによって製造される。この態様では、共役
ジエンポリマーの短鎖（１０モノマー繰り返し単位以下）はビニル芳香族ポリマ
ーのカップリング末端と反応しカップリング反応を促進させることができる。ビ
ニル芳香族ポリマーブロックは典型的にはカップリングし難く、それゆえ、この
技術は通常ビニル芳香族ポリマー末端のカップリングを達成するために使用され
る。ジエンポリマーの短鎖はミクロ相分離が達成されないため異なるブロックを
構成しない。カップリング剤と種々のアニオン重合のために提唱されてきた戦略
はＨｓｉｅｈ ａｎｄ Ｑｕｉｒｋ，１２章、３０７−３３１ページで議論され
ている。別の態様では、２官能性アニオン開始剤がブロックシステムの中心から
重合を開始するために使用され、ここでは引き続くモノマー付加で成長するポリ
マー鎖の両末端に付加する。そのような２官能性開始剤の例は有機リチウム化合
物で処理した１，３−ビス（１−フェニルエチル）ベンゼンであり、米国特許４
，２００，７１８号及び４，１９６，１５４号に記載されている。
コポリマーはアニオン重合によって製造され、その例はＡｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌ
ｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｈ．Ｌ．Ｈｓｉｅｈ ａｎｄ Ｒ．ｐ．Ｑｕｉｒ
ｋ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９６に引用されてい
る。一態様として、ブロックコポリマーはｓ−ブチルリチウム又はｎ−ブチルリ
チウムのようなカルバニオン開始剤に連続的にモノマー付加させることによって
製造される。別の態様では、コポリマーは１，２−ジブロモエタン、ジクロロジ
メチルシラン、又はフェニルベンゾエートのような２価カップリング剤でトリブ
ロック材料をカップリングさせることによって製造される。この態様では、共役
ジエンポリマーの短鎖（１０モノマー繰り返し単位以下）はビニル芳香族ポリマ
ーのカップリング末端と反応しカップリング反応を促進させることができる。ビ
ニル芳香族ポリマーブロックは典型的にはカップリングし難く、それゆえ、この
技術は通常ビニル芳香族ポリマー末端のカップリングを達成するために使用され
る。ジエンポリマーの短鎖はミクロ相分離が達成されないため異なるブロックを
構成しない。カップリング剤と種々のアニオン重合のために提唱されてきた戦略
はＨｓｉｅｈ ａｎｄ Ｑｕｉｒｋ，１２章、３０７−３３１ページで議論され
ている。別の態様では、２官能性アニオン開始剤がブロックシステムの中心から
重合を開始するために使用され、ここでは引き続くモノマー付加で成長するポリ
マー鎖の両末端に付加する。そのような２官能性開始剤の例は有機リチウム化合
物で処理した１，３−ビス（１−フェニルエチル）ベンゼンであり、米国特許４
，２００，７１８号及び４，１９６，１５４号に記載されている。
【００１７】
ブロックコポリマーを調製した後に、コポリマーはコポリマーの共役ジエンポ
リマーブロックとビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの両方における不飽
和部分を取り除くために水素化される。どのような水素化方法も使用でき、その
ような方法は典型的には、硫酸バリウム担持パラジウム（米国特許５，３５２，
７４４号）及び珪藻土担持ニッケル（米国特許３，３３３，０２４号）のような
無機物質に担持した金属触媒の使用が含まれる。さらに、Ｄｉｅ Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｃｈｅｍｉｅの１９７２年１６０巻２９１頁に記載されて
いるように、２−エチルヘキサノン酸とアルキルリチウムの遷移金属塩の組み合
わせから調製される溶解性の均一系触媒がブロックコポリマーを完全に飽和させ
るのに使用される。
リマーブロックとビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの両方における不飽
和部分を取り除くために水素化される。どのような水素化方法も使用でき、その
ような方法は典型的には、硫酸バリウム担持パラジウム（米国特許５，３５２，
７４４号）及び珪藻土担持ニッケル（米国特許３，３３３，０２４号）のような
無機物質に担持した金属触媒の使用が含まれる。さらに、Ｄｉｅ Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｃｈｅｍｉｅの１９７２年１６０巻２９１頁に記載されて
いるように、２−エチルヘキサノン酸とアルキルリチウムの遷移金属塩の組み合
わせから調製される溶解性の均一系触媒がブロックコポリマーを完全に飽和させ
るのに使用される。
【００１８】
コポリマーの水素化はまた水素と米国特許５，３５２，７４４号、米国特許５
，６１２，４２２号及び米国特許５，６４５，２５３号に記載されているような
不均一系触媒を使用して達成することもできる。これらに記載されている触媒は
多孔質シリカに担持した金属結晶からなる不均一系触媒である。ポリマーの水素
化に特に使用されるシリカ担持触媒の例は、表面積が少なくとも１０ｍ２ ／ｇ
で平均孔径が３，０００から６，０００オングストロームの範囲を持つように合
成されたシリカである。このシリカはそれからニッケル、コバルト、ロジュウム
、ルテニュウム、パラジュウム、白金、その他の周期律表第８属の金属、それら
の合金の組み合わせのようなポリマーを接触水素化できるような金属を含浸させ
る。その他の不均一系触媒も平均孔径が５００から３，０００オングストローム
であれば使用できる。
，６１２，４２２号及び米国特許５，６４５，２５３号に記載されているような
不均一系触媒を使用して達成することもできる。これらに記載されている触媒は
多孔質シリカに担持した金属結晶からなる不均一系触媒である。ポリマーの水素
化に特に使用されるシリカ担持触媒の例は、表面積が少なくとも１０ｍ２ ／ｇ
で平均孔径が３，０００から６，０００オングストロームの範囲を持つように合
成されたシリカである。このシリカはそれからニッケル、コバルト、ロジュウム
、ルテニュウム、パラジュウム、白金、その他の周期律表第８属の金属、それら
の合金の組み合わせのようなポリマーを接触水素化できるような金属を含浸させ
る。その他の不均一系触媒も平均孔径が５００から３，０００オングストローム
であれば使用できる。
【００１９】
選択するとすれば、水素化は少なくとも二つの成分の混合物からなる混合水素
化触媒の存在下で実施される。最初の成分は水素化速度を増加させるいくつかの
金属からなり、ニッケル、コバルト、ロジュウム、ルテニュウム、パラジュウム
、白金、その他の周期律表第８属の金属、及びそれらの組み合わせを含む。好ま
しくはロジュウム及び／又は白金が使用される。しかしながら、白金はニトリル
に対しては不十分な水素化触媒として知られており、それゆえ、白金はニトリル
ポリマーの水素化には好ましくない。混合水素化触媒に用いられる第二の成分は
極性物質に晒されたときの周期律表第８属の金属の不活性化を抑制する促進剤か
らなり、ここでは抗不活性化成分と呼ぶことにする。そのような成分は好ましく
はレニュウム、モリブデン、タングステン、タンタル又はニオブ又はこれらの混
合物である。
化触媒の存在下で実施される。最初の成分は水素化速度を増加させるいくつかの
金属からなり、ニッケル、コバルト、ロジュウム、ルテニュウム、パラジュウム
、白金、その他の周期律表第８属の金属、及びそれらの組み合わせを含む。好ま
しくはロジュウム及び／又は白金が使用される。しかしながら、白金はニトリル
に対しては不十分な水素化触媒として知られており、それゆえ、白金はニトリル
ポリマーの水素化には好ましくない。混合水素化触媒に用いられる第二の成分は
極性物質に晒されたときの周期律表第８属の金属の不活性化を抑制する促進剤か
らなり、ここでは抗不活性化成分と呼ぶことにする。そのような成分は好ましく
はレニュウム、モリブデン、タングステン、タンタル又はニオブ又はこれらの混
合物である。
【００２０】
混合触媒中の抗不活性化成分の量は少なくともポリマー組成物中で極性不純物
に晒されたときに周期律表第８属の金属成分の不活性化を抑制するに充分な量で
あり、ここでは不活性化抑制量と呼ぶことにする。周期律表第８属の金属の不活
性化は水素化反応速度の無視できない低下によって立証される。これは極性不純
物が存在する同一条件下で、混合水素化触媒と周期律表第８属の金属のみを含む
触媒の比較で例証され、周期律表第８属の金属のみを含む触媒は水素化反応速度
が混合水素化触媒で得られる速度の７５％以下となる。
に晒されたときに周期律表第８属の金属成分の不活性化を抑制するに充分な量で
あり、ここでは不活性化抑制量と呼ぶことにする。周期律表第８属の金属の不活
性化は水素化反応速度の無視できない低下によって立証される。これは極性不純
物が存在する同一条件下で、混合水素化触媒と周期律表第８属の金属のみを含む
触媒の比較で例証され、周期律表第８属の金属のみを含む触媒は水素化反応速度
が混合水素化触媒で得られる速度の７５％以下となる。
【００２１】
好ましくは、この不活性化抑制量は不活性化抑制成分に対する周期律表第８属
の金属成分の割合が０．５：１から１０：１、より好ましくは１：１から７：１
、そして最も好ましくは１：１から５：１である。
の金属成分の割合が０．５：１から１０：１、より好ましくは１：１から７：１
、そして最も好ましくは１：１から５：１である。
【００２２】
混合触媒はその成分単独でも可能だが、好ましくは触媒は追加的に触媒成分を
担持する担体からなる。一態様としては、金属はシリカ、アルミナまたはカーボ
ンのような担体に担持される。よりよい実施態様としては、狭い孔径分布と１０
ｍ２／ｇより大きい表面積をもつシリカ担体が使用される。
担持する担体からなる。一態様としては、金属はシリカ、アルミナまたはカーボ
ンのような担体に担持される。よりよい実施態様としては、狭い孔径分布と１０
ｍ２／ｇより大きい表面積をもつシリカ担体が使用される。
【００２３】
担体の孔径分布、孔容積、及び平均孔径分布は水銀ポロシメーターでＡＳＴＭ
Ｄ−４２８４−８３の手順に従って測定することができる。
Ｄ−４２８４−８３の手順に従って測定することができる。
【００２４】
孔径分布は典型的には水銀ポロシメーターを用いて測定される。しかしながら
、この方法は６０オングストローム以上の孔径を測定する場合にのみ有効である
。 それゆえ、６０オングストローム以下の孔径を測定するには追加の別の方法を用
いなければならない。そのような一方法は６００オングストローム以下の孔径に
適用されるＡＳＴＭ Ｄ−４６４１−８７の手順に従った窒素脱着法である。そ
れゆえ、狭い孔径分布は少なくとも孔容積の９８％が３００オングストローム以
上の孔径を有し３００オングストローム以下の窒素脱着法で測定された孔容積が
水銀ポロシメーターを用いて測定された孔容積の２％以下であることが必要条件
である。
、この方法は６０オングストローム以上の孔径を測定する場合にのみ有効である
。 それゆえ、６０オングストローム以下の孔径を測定するには追加の別の方法を用
いなければならない。そのような一方法は６００オングストローム以下の孔径に
適用されるＡＳＴＭ Ｄ−４６４１−８７の手順に従った窒素脱着法である。そ
れゆえ、狭い孔径分布は少なくとも孔容積の９８％が３００オングストローム以
上の孔径を有し３００オングストローム以下の窒素脱着法で測定された孔容積が
水銀ポロシメーターを用いて測定された孔容積の２％以下であることが必要条件
である。
【００２５】
表面積はＡＳＴＭ Ｄ−３６６３−８４の手順に従って測定することができる
。 表面積は典型的には１０から１００ｍ２／ｇ、好ましくは１５から９０最も好ま
しくは５０から８５ｍ２／ｇの範囲である。
。 表面積は典型的には１０から１００ｍ２／ｇ、好ましくは１５から９０最も好ま
しくは５０から８５ｍ２／ｇの範囲である。
【００２６】
混合触媒用の担体に要求される平均孔径はポリマーが水素化されているか及び
その分子量（Ｍｎ）に依存する。高分子量のポリマーの水素化において、要求さ
れる量の水素化を得るためには高い平均孔径を持つ担体を使用することが望まし
い。高分子量のポリマー（例えばＭｎ＞２００，０００）を得るためには、典型
的な要求される表面積は１５から２５ｍ２／ｇそして要求される平均孔径は３，
０００から４，０００Åに変化させることができる。低分子量のポリマー（例え
ばＭｎ＜１００，０００）を得るためには、典型的な要求される表面積は４５か
ら８５ｍ２／ｇそして要求される平均孔径は３００から７００Åに変化させるこ
とができる。
その分子量（Ｍｎ）に依存する。高分子量のポリマーの水素化において、要求さ
れる量の水素化を得るためには高い平均孔径を持つ担体を使用することが望まし
い。高分子量のポリマー（例えばＭｎ＞２００，０００）を得るためには、典型
的な要求される表面積は１５から２５ｍ２／ｇそして要求される平均孔径は３，
０００から４，０００Åに変化させることができる。低分子量のポリマー（例え
ばＭｎ＜１００，０００）を得るためには、典型的な要求される表面積は４５か
ら８５ｍ２／ｇそして要求される平均孔径は３００から７００Åに変化させるこ
とができる。
【００２７】
シリカ担体が好ましくそしてホルムアミドのようなゲル化剤を用いて水中で珪
酸カリを化合させ、重合させそして米国特許４，１１２，０３２号に記載されて
いるように導くことによって製造することができる。シリカはそれからＴｈｅ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｓｉｌｉｃａ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓ
ｏｎｓの１９７９年５３９−５４４頁に記載されているように水熱焼成されるが
、その方法は一般にシリカを６００℃から８５０℃の温度で２時間以上水を飽和
させたガスを流して加熱することからなる。水熱焼成は平均孔径の増加とともに
孔径分布を狭くする。選択するとすれば、担体はＴｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
ｏｆ Ｓｉｌｉｃａ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓの１９７９年５
１０−５８１頁に記載されている方法によって調製される。
酸カリを化合させ、重合させそして米国特許４，１１２，０３２号に記載されて
いるように導くことによって製造することができる。シリカはそれからＴｈｅ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｓｉｌｉｃａ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓ
ｏｎｓの１９７９年５３９−５４４頁に記載されているように水熱焼成されるが
、その方法は一般にシリカを６００℃から８５０℃の温度で２時間以上水を飽和
させたガスを流して加熱することからなる。水熱焼成は平均孔径の増加とともに
孔径分布を狭くする。選択するとすれば、担体はＴｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
ｏｆ Ｓｉｌｉｃａ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓの１９７９年５
１０−５８１頁に記載されている方法によって調製される。
【００２８】
シリカ担持触媒は米国特許５，１１０，７７９に記載された方法を用いて製造
される。適切な金属、金属成分、金属を含む化合物又はそれらの混合物は気相蒸
着、水中又は非水溶液中での含浸によって担体上に析出させた後焼成、昇華又は
その他の通常の方法で処理される。これらの方法は、Ｓｔｕｄｉｅｓ ｉｎ Ｓ
ｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ、“ｓｕｃｃｅｓ
ｓｆｕｌ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃａｔａｌｙｓｔ”１９８９年４４巻、１４６から１
５８頁及びＡｐｐｌｉｅｄ Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ
（Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｆｒａｎｃａｉｓ ｄｕ Ｐｅｔｒｏｒｅ Ｐｕｂｌｉ
ｃａｔｉｏｎｓ、１９８７）の７５−１２３頁に説明されている。含浸方法にお
いて、適切な金属を含む化合物は不活性化に対して耐性のある有用な水素化触媒
を製造することができる前述のような金属を含む化合物であればよい。これらの
化合物は塩、配位錯体、有機金属化合物又は共有結合錯体である。
される。適切な金属、金属成分、金属を含む化合物又はそれらの混合物は気相蒸
着、水中又は非水溶液中での含浸によって担体上に析出させた後焼成、昇華又は
その他の通常の方法で処理される。これらの方法は、Ｓｔｕｄｉｅｓ ｉｎ Ｓ
ｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ、“ｓｕｃｃｅｓ
ｓｆｕｌ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃａｔａｌｙｓｔ”１９８９年４４巻、１４６から１
５８頁及びＡｐｐｌｉｅｄ Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ
（Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｆｒａｎｃａｉｓ ｄｕ Ｐｅｔｒｏｒｅ Ｐｕｂｌｉ
ｃａｔｉｏｎｓ、１９８７）の７５−１２３頁に説明されている。含浸方法にお
いて、適切な金属を含む化合物は不活性化に対して耐性のある有用な水素化触媒
を製造することができる前述のような金属を含む化合物であればよい。これらの
化合物は塩、配位錯体、有機金属化合物又は共有結合錯体である。
【００２９】
典型的には、混合担持触媒の合計金属含量はシリカ担持触媒の合計重量基準で
０．１から１０ｗｔ％である。好ましい量はシリカ担持触媒の合計重量基準で２
から８ｗｔ％、より好ましくは０．５から５ｗｔ％である。
０．１から１０ｗｔ％である。好ましい量はシリカ担持触媒の合計重量基準で２
から８ｗｔ％、より好ましくは０．５から５ｗｔ％である。
【００３０】
水素化工程で使用される混合担持触媒の量は水素化触媒が高活性のために、通
常の不飽和ポリマーの水素化反応に要求される量よりもうんと少ない。一般に、
不飽和ポリマーのグラムあたり担持触媒の１グラム以下の量が使用され、０．１
グラム以下が好ましくそして０．０５グラム以下がより好ましい。使用される担
持触媒の量はプロセスのタイプが連続か、半連続か又はバッチかにより、また温
度、圧力及び反応時間（典型的な反応時間は５分から５時間まで変化する）のよ
うなプロセスの条件に依る。連続操作は連続操作の進行の過程で担持触媒が何度
も再使用されるために典型的には不飽和ポリマーの２００，０００重量部以上に
対し１重量部の担持触媒が含まれる。典型的なバッチプロセスは不飽和ポリマー
の５，０００重量部に対し１重量部の担持触媒が使用される。高温及び高圧では
担持触媒量を更に少なくすることができる。選択するとすれば、連続プロセスは
また上記の触媒の固定層を使用することもできる。
常の不飽和ポリマーの水素化反応に要求される量よりもうんと少ない。一般に、
不飽和ポリマーのグラムあたり担持触媒の１グラム以下の量が使用され、０．１
グラム以下が好ましくそして０．０５グラム以下がより好ましい。使用される担
持触媒の量はプロセスのタイプが連続か、半連続か又はバッチかにより、また温
度、圧力及び反応時間（典型的な反応時間は５分から５時間まで変化する）のよ
うなプロセスの条件に依る。連続操作は連続操作の進行の過程で担持触媒が何度
も再使用されるために典型的には不飽和ポリマーの２００，０００重量部以上に
対し１重量部の担持触媒が含まれる。典型的なバッチプロセスは不飽和ポリマー
の５，０００重量部に対し１重量部の担持触媒が使用される。高温及び高圧では
担持触媒量を更に少なくすることができる。選択するとすれば、連続プロセスは
また上記の触媒の固定層を使用することもできる。
【００３１】
水素化薬剤は不飽和ポリマーを効果的に水素化する水素を発生する化合物であ
ればよい。水素化薬剤は限定はしないが、水素ガス、ヒドラジン及び水素化ボロ
ンナトリウムが含まれる。好ましい態様としては、水素化薬剤は水素ガスである
。
ればよい。水素化薬剤は限定はしないが、水素ガス、ヒドラジン及び水素化ボロ
ンナトリウムが含まれる。好ましい態様としては、水素化薬剤は水素ガスである
。
【００３２】
ブロックコポリマーの水素化レベルは一般的には共役ジエンポリマーブロック
の９５％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９０％以上で
あり、典型的には共役ジエンポリマーブロックの９９％以上でそしてビニル芳香
族ポリマーブロックセグメントの９５％以上であり、好ましくは共役ジエンポリ
マーブロックの９９．５％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメン
トの９７％以上であり、より好ましくは、共役ジエンポリマーブロックの９９．
９％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９８．５％以上で
あり、より更に好ましくはビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９９％以
上である。‘水素化レベル’の用語は元の不飽和結合が水素化によって飽和され
る割合を指す。水素化されたビニル芳香族ポリマーの水素化レベルはＵＶ−ＶＩ
Ｓ分光測定法を用いて決定され、一方水素化された共役ジエンポリマーの水素化
レベルはプロトンＮＭＲを用いて決定される。
の９５％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９０％以上で
あり、典型的には共役ジエンポリマーブロックの９９％以上でそしてビニル芳香
族ポリマーブロックセグメントの９５％以上であり、好ましくは共役ジエンポリ
マーブロックの９９．５％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメン
トの９７％以上であり、より好ましくは、共役ジエンポリマーブロックの９９．
９％以上でそしてビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９８．５％以上で
あり、より更に好ましくはビニル芳香族ポリマーブロックセグメントの９９％以
上である。‘水素化レベル’の用語は元の不飽和結合が水素化によって飽和され
る割合を指す。水素化されたビニル芳香族ポリマーの水素化レベルはＵＶ−ＶＩ
Ｓ分光測定法を用いて決定され、一方水素化された共役ジエンポリマーの水素化
レベルはプロトンＮＭＲを用いて決定される。
【００３３】
以下の実施例は本発明を説明するためになされたものであり、本発明の範囲を
限定するものと解釈してはならない。実施例においては、部及び％は特に指定が
なければ重量基準である。
限定するものと解釈してはならない。実施例においては、部及び％は特に指定が
なければ重量基準である。
【００３４】
芳香族の水素化の量は前述のようにＵＶ−ＶＩＳ分光測定法を用いて測定され
る。
る。
【００３５】
Ｍｎは、他に指定がなければ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
って測定された絶対分子量である。 実施例で使用されたポリマー試料は全てアタクチックステレオ構造をもつ。
って測定された絶対分子量である。 実施例で使用されたポリマー試料は全てアタクチックステレオ構造をもつ。
【００３６】
【実施例】Ｐｔ／Ｒｅ触媒の調製
０．４１１ｇのＨ２ＰｔＣｌ６・６（Ｈ２Ｏ）と０．１４７ｇのＮＨ４ＲｅＯ４
を１５．５５ｇの純水に溶解する。この溶液を５．０ｇのシリカに加えそれか
ら一昼夜空気乾燥し、さらに空気乾燥器で１１０℃で３０分乾燥する。触媒を水
素流通下１５０℃で１時間還元し、ＳｉＯ２ 中に３ｗｔ％のＰｔと２ｗｔ％の
Ｒｅを含む触媒を得る。スチレン−ブタジエンブロックコポリマーの水素化 表１に示されるように、撹拌オートクレーブ型反応器中で、上記の還元Ｐｔ／
Ｒｅ触媒１．０ｇを、スチレン（Ｓ）−ブタジエン（Ｂ）ブロックコポリマーの
１５ｗｔ％シクロヘキサン溶液２４０ｇに加える。反応器をシールしそして気相
を窒素でパージし純水素で満たす。それから温度を１５０℃に上げそして反応器
を水素で１０．３ＭＰａに加圧する。ポリマーの分析は芳香族領域の水素化が９
８％以上であることを示している。
ら一昼夜空気乾燥し、さらに空気乾燥器で１１０℃で３０分乾燥する。触媒を水
素流通下１５０℃で１時間還元し、ＳｉＯ２ 中に３ｗｔ％のＰｔと２ｗｔ％の
Ｒｅを含む触媒を得る。スチレン−ブタジエンブロックコポリマーの水素化 表１に示されるように、撹拌オートクレーブ型反応器中で、上記の還元Ｐｔ／
Ｒｅ触媒１．０ｇを、スチレン（Ｓ）−ブタジエン（Ｂ）ブロックコポリマーの
１５ｗｔ％シクロヘキサン溶液２４０ｇに加える。反応器をシールしそして気相
を窒素でパージし純水素で満たす。それから温度を１５０℃に上げそして反応器
を水素で１０．３ＭＰａに加圧する。ポリマーの分析は芳香族領域の水素化が９
８％以上であることを示している。
【００３７】
【表１】
シート実施例
ポリマーを以下の押し出し条件を使用してシートに押し出した：
【００３８】
【表２】
【００３９】
押し出しシートは０．０６５ｉｎ（０．１６５ｃｍ）と０．０８０ｉｎ（０．
２ｃｍ）の間の厚みの範囲であった。トリブロック及びペンタブロックにおいて
、全ての水素化ポリスチレンブロックは等価のＭｎを有していた。
２ｃｍ）の間の厚みの範囲であった。トリブロック及びペンタブロックにおいて
、全ての水素化ポリスチレンブロックは等価のＭｎを有していた。
【００４０】
本発明の組成物は優れた耐衝撃性、加工性及び表面風合い特性を示し、押し出
しシート用途に特に有用である。
しシート用途に特に有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ
，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，
ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ
Ｅ，ＫＧ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ
，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，
ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，Ｓ
Ｄ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ
，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 バーグランド，チャールス エイ
アメリカ合衆国ミシガン州 ミドランド
パインウッド コート 5005
(72)発明者 パーソンズ，ゲリー ディ
アメリカ合衆国ミシガン州 48642 ミド
ランド レッドフェン サークル 5016
(72)発明者 リービッグ，コラ エム
アメリカ合衆国ミシガン州 48642 ミド
ランド ヒーザームーア 800
(72)発明者 ハーン，ステフェン エフ
アメリカ合衆国ミシガン州 48642 ミド
ランド ジェームス ドライブ 4302
Ｆターム(参考） 4F071 AA12X AA22X AA75 AA81
AA86 AF11 AF23 BA01 BB06
BC01
4J100 AB02P AB03P AB04P AB07P
AS01Q AS02Q AS03Q BC43P
BC48P BC49P CA04 CA31
DA01 DA25 DA41 HA03 HB02
HB17 HD04 HE14 HG03
Claims (10)
- 【請求項１】 交互ブロックの水素化ブロックコポリマーからなる組成物で
あって、その水素化ブロックコポリマーが水素化した重合したビニル芳香族モノ
マーの少なくとも２個の異なるブロック（ここでは水素化ビニル芳香族ポリマー
ブロックと呼ぶ）の硬質セグメント相量、及び水素化した重合した共役ジエンモ
ノマーの少なくとも１個のブロック（ここでは水素化共役ジエンポリマーブロッ
クと呼ぶ）の軟質セグメント相量からなり、且つ水素化ブロックコポリマーが更
にａ）ラメラモルフォロジーが達成されるのに充分な軟質セグメント相量、ｂ）
３５，０００から６５，０００の合計数平均分子量（Ｍｎｔ ）、及びｃ）各水
素化ビニル芳香族ポリマーブロックが９０％より大きい水素化レベルをもちそし
て各水素化共役ジエンポリマーブロックが９５％より大きい水素化レベルをもつ
ような水素化レベル、をもつことを特徴とする交互ブロックの水素化ブロックコ
ポリマーからなる組成物。 - 【請求項２】 ビニル芳香族モノマーがスチレンからなりそして共役ジエン
モノマーがブタジエンからなる請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 軟質セグメント相量がブロックコポリマーの合計重量基準で
３５から６５重量％である請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 軟質セグメント相量がブロックコポリマーの合計重量基準で
４０重量％よりは多く６５重量％までである請求項３記載の組成物。 - 【請求項５】 ブロックコポリマーがペンタブロックコポリマーである請求
項２記載の組成物。 - 【請求項６】 ブロックコポリマーがトリブロックコポリマーである請求項
２記載の組成物。 - 【請求項７】 ブロックコポリマーが１５０から３５０℃の秩序無秩序（ｏ
ｒｄｅｒ ｔｏ ｄｉｓｏｒｄｅｒ）転移温度をもつ請求項１記載の組成物。 - 【請求項８】 請求項１記載の組成物から作られた成型物品。
- 【請求項９】 物品が押し出しシートである請求項８記載の成型物品。
- 【請求項１０】 シートが熱成形物品に成形されている請求項９記載の押し
出しシート。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US57506300A | 2000-05-19 | 2000-05-19 | |
| US09/575,063 | 2000-05-19 | ||
| US09/726,864 US6426390B1 (en) | 1999-06-11 | 2000-11-30 | Hydrogenated block copolymer compositions |
| US09/726,864 | 2000-11-30 | ||
| PCT/US2001/010771 WO2001090201A2 (en) | 2000-05-19 | 2001-04-03 | Hydrogenated block copolymer compositions |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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