JP2003522020A - 合成ガス用の２段階冷却プロセス - Google Patents

合成ガス用の２段階冷却プロセス

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Abstract

(57)【要約】 あらゆるタイプの廃棄物を処理及び利用する方法であって、固体及び／又は液体形状の汚染物質を含有する、分別されない、未処理の産業、家庭、及び／又は特殊な廃棄物ならびに廃棄された工業製品は段階的な温度増加に曝され、熱分離され、又は物質変換される。生じた固体残留物は高温溶融物に転化される。前記被処理物は回分操作でコンパクトなパケットに圧縮され、増大する温度の方向に複数の温度処理段階を通過し、少なくとも１つの低温段階において、加圧を維持しながら、形状の調整及び反応容器の壁との摩擦接触が維持される。少なくとも１つの高温帯域において、前記被処理物は合成ガスを生成し、そしてガス透過性チャージを形成する。また前記合成ガスのための安定化帯域が前記ガス透過性チャージの上方に設置され、そして前記生成した合成ガスは前記安定化帯域から排出される。このように構成された前記方法において、前記排出された合成ガスは、前記高温反応器を出た直後に、第１の衝撃的な水の付与に曝されて１５０℃〜２００℃まで冷却され、次いで第２の衝撃的な水の付与に曝されて９０℃以下に冷却されることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明はあらゆるタイプの廃棄物を処理及び利用する方法及び装置に関するも
のである。本発明において、固体及び／又は液体形状のあらゆる種類の汚染物質
を含む分別されない、未処理の産業、家庭及び／又は特殊な廃棄物ならびに廃棄
された産業製品は段階的に温度を付与され、熱分離され、又は物質変換される。
【０００２】 本発明は特に環境中に放出される廃ガス中のＣＯＳの放出を回避する方法に関
する。 発明は更に前記方法に適する装置に関する。
【０００３】 廃棄物処理の公知の方法は、環境破壊の実質的な要素である増大するごみの問
題を満足には解決できない。自動車及び家庭電化製品のような複合材料から形成
される廃棄された工業製品及び油、バッテリー、エナメル、ペイント、毒性スラ
ッジ、医薬品、病院の廃棄物は種々の法律により厳密に規定される特殊な処理手
段に供される。
【０００４】 一方、家庭廃棄物は管理できない不均質混合物であって、これは実質的にあら
ゆる種類の特殊な廃棄物部分と有機成分を含んでおり、環境への強い影響の割り
には未だ分別されていない。
【０００５】 廃棄物の処理及び回収方法の一つは廃棄物の焼却である。公知のごみ焼却プラ
ントにおいて、処理される廃棄物は約１０００℃までの広い温度領域を通過する
。これらの温度において、鉱物及び金属廃棄物は、できるかぎり、後のガス生成
工程を妨害しないために、溶解しないほうがよい。固形物に残留するエネルギー
は使用されないか、又は不十分に使用される。
【０００６】 廃棄物を高温に保持する時間が短く、また窒素含量の大きい燃焼空気がばらば
らな焼却廃棄物に多量に必要であることに起因して多量の塵が発生するため、有
害な塩素化炭化水素の生成が促進される。そのため、塵焼却プラントからの廃棄
物ガスを後に高温で焼却する手段が採用されている。このような装置の高い資本
経費を無駄にしないために、塵を多量に含む研摩性で腐蝕性の熱い廃棄物ガスは
熱交換器に通される。熱交換器における比較的長い滞留時間を通じて、塩素化炭
化水素は廃棄物ガスにより運ばれる塵と結合し、最終的に妨害物を形成して装置
を故障させるため、強い毒性物質として処分される必要がある。生じる損害とそ
の処理費用は見積もりできないほど大きい。
【０００７】 従来の反応器における公知の熱分解方法はごみ焼却のそれに類似した広範囲の
温度スペクトルを有する。高温度がガス抜き帯域で実施される。自生する熱ガス
は、未だ熱分解されていない廃棄物を予熱するために使用され、その結果、この
熱ガス自体は冷却されて、塩素化炭化水素の新たな生成に適した温度範囲を通過
するため、危険である。生態学的に安全で使用できる純粋なガスを製造するため
に、一般に熱分解ガスは浄化前に分解装置に通される。 上述した焼却方法と熱分解方法は、焼却又は熱分解を通じて蒸発する液体又は固
体物質が全ての汚染物質の破壊に必要な反応器中の温度と滞留時間に到達する前
に、燃焼又は熱分解ガスと混合して排出されるという欠点を有する。蒸発した水
は水性ガスの生成に利用されない。従って、一般的には、焼却プラントには焼却
室が連結し、熱分解プラントには分解装置が連結する。
【０００８】 廃棄物の処理及び利用の方法はＥＰ９１１１８１５８．４により知られており
、これは上述の欠点を回避する。前記廃棄物は段階的な温度上昇に曝され、熱分
離され、又は物質変換され、そして生じた固体残留物は高温溶融物に変換される
。この目的を達成するために、前記被処理物は回分操作でコンパクトなパケット
に圧縮され、増大する温度の方向に複数の温度処理段階を通過し、低温段階にお
いて、加圧を維持しながら反応容器の壁に対する適合性と摩擦接触が維持され、
そして有機成分がガス抜きされ、高温帯域において、前記被処理物はガス透過性
層を形成し、また合成ガスが酸素の制御された添加によって生じる。この合成ガ
スは前記高温帯域から排出されて、更に利用できる。
【０００９】 高温反応器から排出された未精製の合成ガスの一部は冷水を熱い未精製の合成
ガス流に噴射する装置を有する急速ガス冷却用のガス室に接続する。この急速ガ
ス冷却（衝撃的な冷却）は汚染物質の再合成を防止する。何故ならば、急冷に基
づいて、未精製合成ガスが急速に臨界温度範囲を通過して、汚染物質の新たな合
成が生じないような温度まで冷却されるからである。また、冷水を未精製の合成
ガス中に噴射すると、ガス流中に同伴された液体又は固体粒子がガス流に乗せら
れ、その結果、急速冷却の後に、良好に予備浄化された未精製合成ガスが得られ
る。
【００１０】 ＥＰ９１１１８１５８．４に記述されたプラントの場合、Ｈ2Ｓばかりでなく
少量のＣＯＳもまた廃棄物中に含まれる硫黄成分から生成し、これらは生成した
合成ガスと共にガス状でガス化領域から出る。
【００１１】 粗合成ガス中に存在するＨ2Ｓ成分は次いで鉄キレートを有するガスウオッシ
ュに吸収され、そして元素硫黄へ酸化されて、前記粗合成ガスから除去され、一
方、前記ＣＯＳはその一部だけが前記鉄キレートによって結合し、及び／又は分
解する。吸収されないＣＯＳは合成ガス中に残留し、そして次の、例えば合成ガ
スの熱利用を通じて、ＳＯ2に変換され、汚染物質として大気中に放出される。
【００１２】 従って、本発明の目的は本発明の処理及び利用のプロセスが有害なＳＯ2を放
出することなく実施できる方法及び装置を提供することである。 この目的は請求項１に従う方法及び請求項１２に従う装置によって達成される
。本発明に従う方法及び本発明に従う装置の好ましい態様はそれぞれの従属請求
項により与えられる。
【００１３】 本発明の方法は上述したＥＰ９１１１８１５８．４に開示された方法から継続
するものであって、前記方法及び装置に関連するこの出版物の開示の内容は本発
明の開示内容に完全に包含される。
【００１４】 本発明によれば、上述の汚染の悩みは高温反応器で生じた合成ガスを冷却する
ために２段階の衝撃的な水の付与に曝すことにより回避される。第１の衝撃的な
冷却において、合成ガスは１５０℃〜２００℃の温度まで冷却されて、所定の時
間保持される。次いで、更なる衝撃的な水の付与が９０℃以下に冷却されるまで
実施される。
【００１５】 衝撃的な冷却のため、合成ガス中のダイオキシン及びフランの改質は生じない
。合成ガスは第１段階で１５０℃〜２００℃の温度まで冷却される結果、合成ガ
ス中に含まれるＣＯＳは次いで下記の反応式に従って水蒸気の存在下で硫化水素
に変換される。 ＣＯＳ ＋ Ｈ2Ｏ → ＣＯ2 ＋ Ｈ2Ｓ
【００１６】 この変換を達成するために、ガス容積に応じて、ガスが上記温度の１５０℃〜
２００℃まで衝撃的に冷却されるように、十分な水が第１冷却段階のガス流中に
有利に噴射される。この冷却水の噴射によって、前記冷却された粗合成ガスは、
ＣＯＳをＨ2Ｓに変換するためにＣＯＳの変換に必要な水蒸気を高い割合で既に
含有している。
【００１７】 次いで、粗合成ガスの最終温度は冷却水の噴射を用いた第２の衝撃的な水冷に
よって９０℃以下に設定される。 硫化水素が粗合成ガス中に存在し、そしてこれが次のガス浄化段階で鉄キレー
トを用いて除去されるため、この粗合成ガスはＣＯＳ‐Ｈ2Ｓ成分をほとんど含
有しない。従って、この粗合成ガスの後の熱利用を通じて、ＳＯ2の生成も回避
され、そして熱利用された排ガスは他の通常のＳＯ2成分を除去される。
【００１８】 水の噴射は好ましくはスイッチを入れたり切ったりできる多数のノズルを用い
た２段階の急速冷却により実施される。即ち、合成ガス中に噴射される水の量は
、合成ガスの所望の終了温度が第１の水冷の場合１５０℃〜２００℃を達成でき
、第２の水冷の場合９０℃以下を達成できるように、それぞれのノズルのスイッ
チの開閉を調節することにより制御できる。
【００１９】 本発明に従う方法及び装置のいくつかの例を以下に説明する。 図１は高温反応器１０を使用して物質の再加工、物質の変換、そして物質の後
処理をするための本発明の装置を示す。 残留廃棄物を圧縮プレスに導入する方法を図１で説明する。この圧縮は圧縮プ
レス１によって実施され、その構造は、例えば車両の解体に使用するような公知
の塵プレスに相当する。旋回式のプレス板２は混合廃棄物をプレス１に詰め込む
ことができる。押圧面３は前記プレスの充填空間が十分に開放されるように左側
の場所に位置する。プレス板２を図示のように水平位置に回転させることにより
、最初に廃棄物は垂直方向に圧縮される。その後、押圧面３は連続線で示す位置
まで水平に移動し、そして廃棄物パケットを水平方向に圧縮する。このために必
要な反力は図示しない伸縮自在のカウンタプレートにより吸収される。圧縮工程
が完了するとすぐに、前記カウンタプレートは引っ込み、そして圧縮された廃棄
物プラグは右側方向に移動する押圧面３を用いてバッチ炉６の非加熱領域５中に
押し込まれ、その結果、前記バッチ炉全体の内容物が更に移動して、再度圧縮さ
れ、そして前記チャンネル壁、即ち炉壁との密着が維持される。次に押圧面３が
左側の元の位置に復帰し、前記カウンタプレートが挿入され、そしてプレス板２
が破線で示す垂直位置に回転して復帰する。圧縮プレス１が次の充填のために準
備される。廃棄物の圧縮は極めて強いため、バッチ炉６の非加熱領域５中に押し
込まれた廃棄物プラグは気密になる。バッチ炉は、矢印の方向に加熱スリーブ８
を通して流れる火炎及び／又は廃ガスにより加熱される。
【００２０】 圧縮された廃棄物がバッチ炉６のチャンネルを通して押圧されると、ガス抜き
帯域がバッチ炉６の中央面の方向に膨張し、この膨張はバッチ炉の直角断面の横
幅／高さの比が２より大きいことに基づいて表面積が増大することにより促進さ
れる。高温反応器１０中に導入されると直ちに、炭素、鉱物及び金属類及び部分
的に分解したガス抜き可能な成分から成る混合物が生成し、この混合物は押圧工
程を通じて一定の圧力を加えられて圧縮される。この混合物は前記高温反応器１
０の入口の領域中で極めて強い輻射熱に曝される。炭化物質中の残留ガスが急激
に膨張すると、前記炭化物質は小片に分解される。このようにして得られた固体
物質ユニットロードは前記高温反応器内にガス透過性層２０を形成し、この層中
の炭化物質の炭素が酸素ランス１２を用いて焼却されて、ＣＯ2及びＣＯを生成
する。この炭化ガスは高温反応器１０を通じてガス透過性層２０の上方を乱流状
に流れてクラッキングにより完全に解毒される。この廃棄物から発生したＣ、Ｃ
Ｏ2、ＣＯ及び水蒸気の間で、温度に依存する反応平衡が合成ガスの生成を通じ
て生じる。
【００２１】 ２０００℃を越える温度を有するガス透過性層２０の芯部領域において、前記
炭化物質の鉱物及び金属成分が溶融する。これらは密度が異なるため、互いに層
状に混合する。例えば、クロム、ニッケル及び銅のような典型的な鉄合金成分は
廃棄物中の鉄と処理可能な合金を形成するが、例えば、アルミニウムのような他
の金属の化合物は溶融鉱物を酸化し、そして酸化物として安定化させる。
【００２２】 これらの溶融物は後処理反応器１６に直接に入り、ここで、Ｏ2ランス１３を
用いて形成された酸素性雰囲気中で１４００℃より高い温度に曝され、必要に応
じて図示されないガスバーナーにより補助される。同伴された炭素粒子は酸化さ
れ、溶融物は均質化されて、その粘度は低下する。
【００２３】 水浴１７中への通常の排出を通じて、鉱物物質及び鉄溶融物は分離した細粒を
形成し、次いで磁気的に分類される。 安定化領域を形成する高温反応器１０の上方部分で生成した粗合成ガスは粗合
成ガス管３０を経由して容器又は室１４に導かれ、ここで合成ガスは２段階の衝
撃的な水噴射により９０℃以下に冷却される。ガス中に伴なわれる成分（鉱物及
び／又は溶融状態の金属）が前記冷水中に堆積し、水蒸気が凝縮し、その結果、
ガス容積が減少して、それ自体は公知である衝撃的な冷却後のガス精製が促進さ
れる。合成ガス流の衝撃的な冷却に使用される水は浄化後に必要に応じて冷却用
に再使用可能であり、例えば、沈降機３２を経由して再循環できる。冷却水を粗
合成ガス流中に噴射することによる粗合成ガスの急速冷却を通じて、液体成分及
び固体成分（塵等）が粗合成ガスから除去されるのみならず、冷却水も粗合成ガ
スからガス成分を更に吸収する。これは、例えば、ガス微小気泡を冷却水中に乳
化することにより実施されるか、又は粗合成ガスからのガスを溶解することによ
り実施される。
【００２４】 室１４において、９０℃以下の冷却は２段階の方法で実施される。最初の段階
で合成ガスが１５０℃〜２００℃の温度に冷却されるように合成ガス中に水を噴
射する。次いで、合成ガス中に含まれるＣＯＳがＨ2Ｓに転換されるまで前記冷
却された合成ガスをこの温度に保持する。次いで、合成ガスを９０℃以下に冷却
するために、第２段階の衝撃的な急速冷却を冷水の更なる噴射により実施する。
【００２５】 冷却水が室１４から管３１を経由して沈降領域、即ちラメラ清澄槽(lamellar
classifier)３２に入り、ここで冷却水に含まれる固形物、例えば浮動成分が沈
降し、そして含有ガスが冷却水からガス抜きされる。このように清浄化された冷
却水は管３３を経由して粗合成ガスを冷却するために再び室１４に循環されて、
循環が始まる。
【００２６】 室１４で浄化された粗合成ガスは管３０ａを経由して室１４を出て、次に洗浄
器３４、３４ａ、３４ｂ及び３４ｃで精密な洗浄又は精密な浄化を実施される。
洗浄器３４ａはＨ2Ｓが鉄キレートを用いて粗合成ガスから除去された後、純粋
な硫黄として排出される洗浄段階を構成する。
【００２７】 このように十分に浄化された合成ガスは管３８を経由して使用のために、例え
ばガス発生器３５に供給されるか、又は故障の場合には、煙道を有する燃焼室に
供給され、ここで空気が強制的に供給されて環境に安全な方法で焼却され、そし
て廃棄される。
【００２８】 合成ガスはＣＯＳ及びＨ2Ｓを含まないため、この合成ガスから生じた廃ガス
、例えば、ガス発生器３５の廃ガスはもはや多くの二酸化硫黄成分を含有しない
。従って、硫黄成分は放出されない。これらの廃ガスは環境中に直接に、即ち、
廃ガスを浄化することなく煙突３６を経由して放出できる。
【００２９】 図２は２段急速冷却される室１４を示し、図２の構成要素は図１と同じ参照番
号で示されるので、更に説明はしない。 まだ浄化されない合成ガスは管３０及び中心管１０１を経由して室１４内に入
る。前記中心管内に、水ノズル１０５を有する第１の水噴射装置１０３が設けら
れる。この水噴射装置１０３は管３３ａを経由して冷却水を供給されて、中心管
１０１内の合成ガス流中に冷却水を散布する。それぞれの水ノズル１０５のスイ
ッチを入れたり切ったりすることにより、冷却水により冷却された合成ガスが１
５０℃〜２００℃の温度を有するように水流を制御できる。このように最初に衝
撃的に１５０℃〜２００℃に冷却された合成ガスは中心管１０１に沿って流れ、
そしてこの合成ガス中に含まれるＣＯＳはＨ2Ｓに転換される。中心管１０１の
容積又は長さに応じて、含有されたＣＯＳが完全に分解される時にのみ合成ガス
が急速冷却の第２段階に入るように合成ガスの滞留時間を１５０℃〜２００℃に
おいて制御できる。
【００３０】 中心管１０１の末端部において、合成ガスは中心管１０１を取り囲む室１４の
内部に入り、ここで水ノズル１０５ａを有する第２の水噴射装置１０４を通って
水が散布され、そして９０℃以下の温度まで衝撃的に冷却される。水噴射装置１
０４は冷却水管３３ｂを介して冷却水を供給される。ノズル１０５ａを経由して
散布される冷却水の量は、冷却された合成ガスの温度が９０℃以下になるように
それぞれの水ノズル１０５ａのスイッチを入れたり切ったりすることにより、制
御される。従って、ダイオキシン又はフランは合成ガス中で新たに合成されない
。このように９０℃以下に冷却された合成ガスは管３０ａを経由して図１のガス
精密洗浄器３４〜３４ｃの方向に室１４を出る。
【００３１】 室１４は更に水溜め１０２及び出口管３１を有しており、これらを経由して噴
射冷却水は集められ、そして排出される（図１を参照）。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に従う装置の略図である。
【図２】 本発明に従う急速ガス冷却装置の略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２３Ｇ 5/44 Ｆ２７Ｄ 17/00 １０４Ｇ ４Ｈ０６０ Ｆ２３Ｊ 15/06 １０４Ｋ ４Ｋ０５６ Ｆ２７Ｄ 17/00 １０４ Ｂ０１Ｄ 53/34 １２１Ａ Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｋ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 キス，ギュンター・ハー スイス国ツェーハー−6648 ミヌジオ，ヴ ィア・リファピアナ 18 Ｆターム(参考） 3K061 AA16 AA18 AB02 AB03 AC01 BA01 CA01 CA07 3K065 AA16 AA18 AB02 AB03 AC01 BA01 3K070 DA03 DA06 DA07 DA37 DA46 DA52 DA83 4D002 AA03 AC10 BA03 DA22 DA61 4D004 AA46 AC05 CA24 CA29 CB15 CB31 CB41 DA01 DA02 DA03 DA06 DA11 4H060 AA01 AA02 BB03 BB16 BB23 BB24 CC04 DD02 DD12 DD24 FF04 FF07 GG01 4K056 AA05 BA01 BA02 BB01 CA20 DA17 DA39 DB02 DB05 FA08

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 あらゆるタイプの廃棄物を処理及び利用する方法であって、
    固体及び／又は液体形状の汚染物質を含有する、分別されない、未処理の産業、
    家庭、及び／又は特殊な廃棄物ならびに廃棄された工業製品は段階的な温度増加
    に曝され、熱分離され、又は物質変換され、そして生じた固体残留物は高温溶融
    物に転化され、前記被処理物は回分操作でコンパクトなパケットに圧縮され、増
    大する温度の方向に複数の温度処理段階を通過し、少なくとも１つの低温段階に
    おいて、加圧を維持しながら、形状の調整及び反応容器の壁との摩擦接触が維持
    され、少なくとも１つの高温帯域において、前記被処理物は合成ガスを生成し、
    そしてガス透過性チャージを形成し、また前記合成ガスのための安定化帯域が前
    記ガス透過性チャージの上方に設置され、そして前記生成した合成ガスは前記安
    定化帯域から排出される、前記方法において、 前記排出された合成ガスは、前記高温反応器を出た直後に、第１の衝撃的な水
    の付与に曝されて１５０℃〜２００℃まで冷却され、次いで第２の衝撃的な水の
    付与に曝されて９０℃以下に冷却されることを特徴とする、前記方法。
  2. 【請求項２】 前記排出された合成ガスは前記第1の水の付与と第２の水の
    付与との間において約１５０℃〜２００℃で所定の時間維持されることを特徴と
    する、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記第１及び／又は第２の水の付与に使用される水の量は合
    成ガスの体積流量に依存して制御されることを特徴とする、請求項１又は２記載
    の方法。
  4. 【請求項４】 前記合成ガスへの水の付与は多数のノズルを経由して実施さ
    れることを特徴とする、請求項１〜３いずれかに記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記付与された水の量はそれぞれスイッチを入れたノズルに
    より付与される水の量を一定に維持しながら、それぞれのノズルのスイッチを入
    れたり切ったりすることにより変化することを特徴とする、請求項４記載の方法
    。
  6. 【請求項６】 前記第２の水の付与の後に、前記合成ガスに含まれる硫化水
    素（Ｈ2Ｓ）は鉄キレートを用いて前記合成ガスから除去されることを特徴とす
    る、請求項１〜５いずれかに記載の方法。
  7. 【請求項７】 標準的な操作において、少なくとも前記低温段階は、加圧に
    より形状の調整及び反応容器の壁との摩擦接触を維持しながら、酸素を排除して
    実施されることを特徴とする、請求項１〜６いずれかに記載の方法。
  8. 【請求項８】 標準的な操作において、前記低温段階は１００℃〜６００℃
    の温度で実施されることを特徴とする、請求項１〜７いずれかに記載の方法。
  9. 【請求項９】 標準的な操作において、前記高温段階は酸素を加えて実施さ
    れることを特徴とする、請求項１〜８いずれかに記載の方法。
  10. 【請求項１０】 標準的な操作において、前記チャージの炭素成分は二酸化
    炭素中に酸素を計量して添加することによりガス化され、その結果、前記二酸化
    炭素は前記炭素含有チャージを通り抜ける時に一酸化炭素に還元されることを特
    徴とする、請求項９記載の方法。
  11. 【請求項１１】 標準的な操作において、前記高温段階は１０００℃を超え
    る温度で実施されることを特徴とする、請求項１〜１０いずれかに記載の方法。
  12. 【請求項１２】 あらゆるタイプの処理物質を複数の熱処理段階で再加工し
    、変換し、そして後処理する装置であって、この装置は酸素が排除される少なく
    とも１つの低温段階と、１０００℃を越える温度で酸素が供給される少なくとも
    １つの高温段階と、前記高温段階に設けられた安定化帯域と、前記高温段階で生
    じるガス混合物の出口とを含み、そして前記熱処理段階の全ての反応空間はロッ
    クされることなく固定された方法で互いに連結され、また前記高温段階において
    酸素を供給する装置及び燃料を供給する装置が設けられた、前記装置において、 前記高温段階のガス出口側は前記ガス流中において第１の急速ガス冷却及び前
    記第１ガス冷却に続く第２の急速ガス冷却に接続し、これらはそれぞれ前記ガス
    混合物又は廃ガスの熱流中に冷水を噴射するための第１又は第２の水噴射装置を
    有することを特徴とする、前記装置。
  13. 【請求項１３】 前記第１及び／又は第２の急速ガス冷却は前記ガス混合物
    流中に噴射された冷水の量又は前記冷水の流れ強度を制御する制御装置を有する
    ことを特徴とする、請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記噴射された冷水の量又は流れ強度は前記第１の急速冷
    却における合成ガスが約１５０℃〜２００℃まで衝撃的に冷却され、及び／又は
    前記第２の急速冷却における合成ガスが約９０℃以下に衝撃的に冷却されること
    を特徴とする、請求項１３記載の装置。
  15. 【請求項１５】 前記第１及び／又は第２の水噴射装置は前記第１又は第２
    の急速冷却に水を噴射する多数のノズルを有することを特徴とする、請求項１２
    〜１４いずれかに記載の装置。
  16. 【請求項１６】 前記ノズルはスイッチを切りそして入れることができるこ
    とを特徴とする、請求項１５記載の方法。
  17. 【請求項１７】 前記第２急速ガス冷却の後にガス浄化装置が配置されるこ
    とを特徴とする、請求項１２〜１６いずれかに記載の装置。
  18. 【請求項１８】 前記ガス浄化装置は鉄キレートを用いてＨ2Ｓを除去する
    浄化段階を有することを特徴とする、請求項１７記載の装置。
  19. 【請求項１９】 前記第２急速ガス冷却において、前記合成ガス混合物のガ
    スを利用する装置、例えばガスエンジン、ジェネレータ等が後に配置されること
    を特徴とする、請求項１２〜１８いずれかに記載の装置。
  20. 【請求項２０】 低温段階の反応空間は横方向に配置された外側から加熱さ
    れる長方形断面の回分炉であって、その炉の高さに対する炉の幅の比は２より大
    きく、その炉の長さはＬOfen≧５√ＦOfenの関係式によって与えられ、ここでＦ Ofen は前記回分炉の横断表面であることを特徴とする、請求項１２〜１９いずれ
    かに記載の装置。
  21. 【請求項２１】 高温段階の反応空間は立て軸炉の構造を有し、この炉の基
    部の上方に前記低温段階の反応空間が開放することを特徴とする、請求項１２〜
    ２０いずれかに記載の装置。
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