JP2003517917A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003517917A5
JP2003517917A5 JP2001529882A JP2001529882A JP2003517917A5 JP 2003517917 A5 JP2003517917 A5 JP 2003517917A5 JP 2001529882 A JP2001529882 A JP 2001529882A JP 2001529882 A JP2001529882 A JP 2001529882A JP 2003517917 A5 JP2003517917 A5 JP 2003517917A5
Authority
JP
Japan
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001529882A
Other versions
JP2003517917A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US1999/023749 external-priority patent/WO2001026830A1/en
Publication of JP2003517917A publication Critical patent/JP2003517917A/ja
Publication of JP2003517917A5 publication Critical patent/JP2003517917A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2001529882A 1999-10-12 1999-10-12 制御された噴霧質およびガス質を用いた物体乾燥洗浄処理の改良 Pending JP2003517917A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/US1999/023749 WO2001026830A1 (en) 1999-10-12 1999-10-12 Improvements in drying and cleaning objects using controlled aerosols and gases

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003517917A JP2003517917A (ja) 2003-06-03
JP2003517917A5 true JP2003517917A5 (ja) 2006-10-12

Family

ID=22273794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001529882A Pending JP2003517917A (ja) 1999-10-12 1999-10-12 制御された噴霧質およびガス質を用いた物体乾燥洗浄処理の改良

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP1235653A1 (ja)
JP (1) JP2003517917A (ja)
KR (1) KR100604458B1 (ja)
CN (1) CN1276804C (ja)
AU (1) AU1110400A (ja)
WO (1) WO2001026830A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7051743B2 (en) * 2002-10-29 2006-05-30 Yong Bae Kim Apparatus and method for cleaning surfaces of semiconductor wafers using ozone
JP4007980B2 (ja) * 2004-07-15 2007-11-14 エス・イー・エス株式会社 基板乾燥方法及び基板乾燥装置
TWI286796B (en) * 2004-12-14 2007-09-11 Sez Ag Apparatus and method for drying disk-shaped substrates
JP4807045B2 (ja) * 2005-11-21 2011-11-02 パナソニック電工株式会社 ミスト洗浄装置付きレンジフード
DE102006037087A1 (de) * 2006-08-07 2008-02-14 Accel Instruments Gmbh Verfahren zur Reinigung von Innenflächen eines Hochfrequenzresonators sowie Reinigungsvorrichtung
JP5261077B2 (ja) 2008-08-29 2013-08-14 大日本スクリーン製造株式会社 基板洗浄方法および基板洗浄装置
CN102233310A (zh) * 2010-04-20 2011-11-09 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 浸润式镀膜装置
US9174249B2 (en) * 2012-12-12 2015-11-03 Lam Research Corporation Ultrasonic cleaning method and apparatus therefore
JP5680699B2 (ja) * 2013-04-25 2015-03-04 株式会社Screenホールディングス 基板洗浄方法および基板洗浄装置
JP2020203269A (ja) * 2019-06-18 2020-12-24 合同会社アイル・Mtt 気泡飛散の抑制剤およびその使用方法
CN117153713B (zh) * 2023-10-25 2024-02-02 江苏惠达电子科技有限责任公司 频率元器件残留污染物的检测方法、***和设备控制方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4982753A (en) * 1983-07-26 1991-01-08 National Semiconductor Corporation Wafer etching, cleaning and stripping apparatus
US4850534A (en) * 1987-05-30 1989-07-25 Tdk Corporation Ultrasonic wave nebulizer
US5186192A (en) * 1990-12-14 1993-02-16 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Apparatus for cleaning silicon wafer
JP3347814B2 (ja) * 1993-05-17 2002-11-20 大日本スクリーン製造株式会社 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
US5571337A (en) * 1994-11-14 1996-11-05 Yieldup International Method for cleaning and drying a semiconductor wafer
JP3464843B2 (ja) * 1995-03-30 2003-11-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置における基板処理方法および基板処理装置
JP3504023B2 (ja) * 1995-05-26 2004-03-08 株式会社ルネサステクノロジ 洗浄装置および洗浄方法
US5685086A (en) * 1995-06-07 1997-11-11 Ferrell; Gary W. Method and apparatus for drying objects using aerosols
JPH0969509A (ja) * 1995-09-01 1997-03-11 Matsushita Electron Corp 半導体ウェーハの洗浄・エッチング・乾燥装置及びその使用方法
US5954911A (en) * 1995-10-12 1999-09-21 Semitool, Inc. Semiconductor processing using vapor mixtures
JP3369418B2 (ja) * 1996-11-25 2003-01-20 大日本スクリーン製造株式会社 超音波振動子、超音波洗浄ノズル、超音波洗浄装置、基板洗浄装置、基板洗浄処理システムおよび超音波洗浄ノズル製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE2018C020I2 (ja)
BE2015C057I2 (ja)
BE2016C007I2 (ja)
BE2015C018I2 (ja)
BE2014C017I2 (ja)
BE2013C051I2 (ja)
BE2013C020I2 (ja)
BE2013C015I2 (ja)
BE2013C001I2 (ja)
BE2012C036I2 (ja)
BE2011C004I2 (ja)
BE2010C011I2 (ja)
BE2008C046I2 (ja)
BE1025464I2 (ja)
BRPI0017527B8 (ja)
BE2008C047I2 (ja)
BRPI0001672A2 (ja)
BRPI0001542A2 (ja)
BRPI0012675B8 (ja)
BRPI0017522A2 (ja)
BRMU7902607U2 (ja)
CN3097870S (ja)
CN3099822S (ja)
CN3098146S (ja)
CN3099875S (ja)