JP2003517917A - 制御された噴霧質およびガス質を用いた物体乾燥洗浄処理の改良 - Google Patents
制御された噴霧質およびガス質を用いた物体乾燥洗浄処理の改良Info
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Abstract
(57)【要約】
製造工程で濡れた、または、汚染された可能性のある物体を洗浄および/または乾燥させるための方法および装置を開示する。物体は閉鎖状態のチャンバー（１１）内の洗浄液（２７）中に沈められ、選択された液（３７）からの噴霧粒子（３９）が洗浄液面（２９）上方のチャンバーに導入されて、この面に薄膜（３０）を形成する。洗浄液がゆっくりと排出されると（４１）、幾らかの噴霧粒子が物体の露出面（１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ）上に沈着し、「化学圧搾」効果により露出面から洗浄液残留物を追い出し、除去する。表面汚染物もこの処理工程によって除去される。洗浄液がチャンバーから排出されると、チャンバー圧は外部環境圧に維持され、或いは、外部環境圧附近に維持される。より小さい寸法の噴霧粒子を、かつ/また、チャンバー内でより十分に拡散させて噴霧粒子を供与するために、不活性ガス流が採用されている。選択液から大半の汚染物を除去するために、断続的濾過処理と分流濾過処理（１５９、１６１、１７５）が採用される。流れ偏向装置が選択液の初期の流れを補足フィルタの方向に向け直し、システムが最初に始動された際に（再起動された際に）発現する汚染物粒子の「スパイク」の大半を除去する。噴霧粒子生成のための改良された表面が設けられる。
Description
【０００１】
本発明は、音波手段または超音波手段により生成された噴霧質を利用して、電
子機器部品などの製造物体の乾燥処理および洗浄処理を行う際の改良に関するも
のである。
子機器部品などの製造物体の乾燥処理および洗浄処理を行う際の改良に関するも
のである。
【０００２】
液体や流体などの塗布に関連する処理過程を利用して製造中の物体は、製造過
程を続行する前に各部品がくまなく乾燥されてしまうことを必要とする。例えば
、集積回路の製造にあたり、ドーピング処理、フォトマスク処理、エッチング、
パシベーション処理過程では、或る工程段で特定の液体を供与してから次の工程
段に進む前に、液体残留物を除去することが必要となることが多い。これら液体
残留物の乾燥および除去は完全に行われなければならないが、乾燥処理過程は比
較的短時間のうちに、乾燥処理過程を実現するのにエネルギーおよび化学物質の
消費を最小限にして行うのが理想的である。 加熱ガスまたは過熱ガスを用いて集積回路のような部品を乾燥させる様々な方
法を作業現場筋が既に開示している。このようなアプローチでは、物体表面を乾
燥させるのに加熱ガス、過熱ガス、または、直接ビーム照射を利用し、或いは、
物体表面から不純物を除去したり物体表面に所望の材料を供与するのに超音波ビ
ームおよび活性化学薬品浴による協働作用を利用している。これらのアプローチ
は複雑で、高温で作業することが必要となるのが通例であり、数分の処理時間を
要することが多く、処理チャンバーには特に耐性のあるチャンバー壁を使用する
ことが必要であることが多い。
程を続行する前に各部品がくまなく乾燥されてしまうことを必要とする。例えば
、集積回路の製造にあたり、ドーピング処理、フォトマスク処理、エッチング、
パシベーション処理過程では、或る工程段で特定の液体を供与してから次の工程
段に進む前に、液体残留物を除去することが必要となることが多い。これら液体
残留物の乾燥および除去は完全に行われなければならないが、乾燥処理過程は比
較的短時間のうちに、乾燥処理過程を実現するのにエネルギーおよび化学物質の
消費を最小限にして行うのが理想的である。 加熱ガスまたは過熱ガスを用いて集積回路のような部品を乾燥させる様々な方
法を作業現場筋が既に開示している。このようなアプローチでは、物体表面を乾
燥させるのに加熱ガス、過熱ガス、または、直接ビーム照射を利用し、或いは、
物体表面から不純物を除去したり物体表面に所望の材料を供与するのに超音波ビ
ームおよび活性化学薬品浴による協働作用を利用している。これらのアプローチ
は複雑で、高温で作業することが必要となるのが通例であり、数分の処理時間を
要することが多く、処理チャンバーには特に耐性のあるチャンバー壁を使用する
ことが必要であることが多い。
【０００３】
室温で十分にうまくいくと同時に簡単で、著しい残留物を残さずに明らかに完
全で、１分間程度の短時間のうちに達成することが可能であり、ほぼどのような
材料から作成されたチャンバー壁を備えたチャンバーでも実施することができ、
非常に少量の乾燥剤しか使う必要が無く、しかも、エネルギー消費のうちでもと
りわけ熱エネルギー消費を最小限に抑えた製造処理過程で物体を乾燥および洗浄
する方法と、この方法に関連する装置が必要となる。この処理過程は、広い温度
範囲にわたって実施可能であるべきで、どのような寸法の表面に対しても容易に
縮尺調節することが可能であるべきであるのが好ましい。
全で、１分間程度の短時間のうちに達成することが可能であり、ほぼどのような
材料から作成されたチャンバー壁を備えたチャンバーでも実施することができ、
非常に少量の乾燥剤しか使う必要が無く、しかも、エネルギー消費のうちでもと
りわけ熱エネルギー消費を最小限に抑えた製造処理過程で物体を乾燥および洗浄
する方法と、この方法に関連する装置が必要となる。この処理過程は、広い温度
範囲にわたって実施可能であるべきで、どのような寸法の表面に対しても容易に
縮尺調節することが可能であるべきであるのが好ましい。
【０００４】
本発明はこのような必要に適い、少量の低表面張力の液体を使用することに加
えて（任意で）再生使用可能な洗浄剤を短時間適用することで、物体を乾燥およ
び／または洗浄する方法と、この方法に関連する装置との改良を提供する。一実
施形態では、乾燥されるべき物体は、チャンバー内で水などの洗浄液中に沈めら
れる。洗浄液面は、イソプロピルアルコール（IPA）のような低表面張力の選択
された液体の非常に薄い膜で被覆されるが、この薄膜は、選択液の細い流れを音
波振動または超音波振動させることで作られる噴霧質から形成される。これ以外
の好適な液体としては、エチルアルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフ
ラン、アセトン、過フルオロへキサン、ヘキサン、エーテルがある。薄膜は必要
に応じて連続して補充され、乾燥されるべき物体を被覆している洗浄液はゆっく
りと干上がらせられる。洗浄液と薄膜が干上がると、後段で論じられる「化学圧
搾（chemical squeegeeing）」処理工程により、選択液が物体の表面に短時間接
触して残留水分を除去する。任意で、チャンバーの排液完了後に乾燥N2ガス、CO
ガスまたはCO2ガスのような加熱洗浄液または周囲温度洗浄液を利用して、別な
チャンバー浄化（パージ）または乾燥処理過程に付すことができる。任意で、洗
浄液がチャンバーから排水されると、チャンバー圧は外部環境圧附近またはそれ
以上に維持される。
えて（任意で）再生使用可能な洗浄剤を短時間適用することで、物体を乾燥およ
び／または洗浄する方法と、この方法に関連する装置との改良を提供する。一実
施形態では、乾燥されるべき物体は、チャンバー内で水などの洗浄液中に沈めら
れる。洗浄液面は、イソプロピルアルコール（IPA）のような低表面張力の選択
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ラン、アセトン、過フルオロへキサン、ヘキサン、エーテルがある。薄膜は必要
に応じて連続して補充され、乾燥されるべき物体を被覆している洗浄液はゆっく
りと干上がらせられる。洗浄液と薄膜が干上がると、後段で論じられる「化学圧
搾（chemical squeegeeing）」処理工程により、選択液が物体の表面に短時間接
触して残留水分を除去する。任意で、チャンバーの排液完了後に乾燥N2ガス、CO
ガスまたはCO2ガスのような加熱洗浄液または周囲温度洗浄液を利用して、別な
チャンバー浄化（パージ）または乾燥処理過程に付すことができる。任意で、洗
浄液がチャンバーから排水されると、チャンバー圧は外部環境圧附近またはそれ
以上に維持される。
【０００５】
第１の改良例では、補充ガスの高速フローが選択液の制御可能な広がりをもた
らし、噴霧滴径を減じ、かつ、乾燥作用および／洗浄作用を向上させた「霧」を
生成している。 第２の改良例では、補充ガスの制御されたフローは、より重い選択液粒子（例
えば、噴霧滴径＞10μmのもの）を捕獲するマスクと組み合わされて、噴霧滴径
を減じ、乾燥作用および／洗浄作用を向上させた霧を生成している。 第３の改良例では、選択液は、0.05μmのような選択された値よりも径が大き
い実質的に全ての汚染物を連続除去するために継続して循環および濾過される。 第４の改良例では、搬送装置の始動段階の間に起こる汚染物粒子の「スパイク
」を抑制する、或いは、実質的に除去するために、搬送システムに開閉調節装置
（シャッター）が用いられている。 第５の改良例では、不活性粒子形成面を利用した、改良された噴霧粒子生成シ
ステムが提供されるが、このシステムは噴霧滴径の向上した制御をもたらすとと
もに、かなり小径滴の生成を可能にしている。
らし、噴霧滴径を減じ、かつ、乾燥作用および／洗浄作用を向上させた「霧」を
生成している。 第２の改良例では、補充ガスの制御されたフローは、より重い選択液粒子（例
えば、噴霧滴径＞10μmのもの）を捕獲するマスクと組み合わされて、噴霧滴径
を減じ、乾燥作用および／洗浄作用を向上させた霧を生成している。 第３の改良例では、選択液は、0.05μmのような選択された値よりも径が大き
い実質的に全ての汚染物を連続除去するために継続して循環および濾過される。 第４の改良例では、搬送装置の始動段階の間に起こる汚染物粒子の「スパイク
」を抑制する、或いは、実質的に除去するために、搬送システムに開閉調節装置
（シャッター）が用いられている。 第５の改良例では、不活性粒子形成面を利用した、改良された噴霧粒子生成シ
ステムが提供されるが、このシステムは噴霧滴径の向上した制御をもたらすとと
もに、かなり小径滴の生成を可能にしている。
【０００６】
この処理過程を制御するために変えることができる処理パラメータとしては、
選択液から噴霧粒子を生成する振動周波数と、代表的な噴霧粒子径と、選択液の
搬送速度と、選択液が噴霧粒子の生成のために搬送される時の圧力および温度と
、使用される乾燥用流体（使用されるならば）の温度と、選択液の選択肢および
使用される乾燥用流体（使用されるならば）の選択肢とがある。 本発明は、10リットルから20リットルの容積のチャンバー、または所望に応じ
て、これより小容積または大容積のチャンバー内で物体を乾燥させるのに、１ミ
リリットル（ml）から２ミリリットル程度の少量の選択液を必要とする。このア
プローチは幾つかの利点をもたらす。第一に、この処理過程は室温で、または、
室温附近で実施されてエネルギー消費が殆ど無く、乾燥処理用に加熱液またはガ
ス、或いは、過熱液またはガスを使用する必要が無い。第二に、この処理過程は
大容量の洗浄液（10リットルから20リットル）中に非常に少量の選択液を用いて
、洗浄液と選択液の混合物が通常は、危険な材料に必要となる特殊扱い処置手順
を伴わずに蒸着させることができる。第三に、広範な廉価の選択液を使用するこ
とができる。第四に、選択液の被覆薄膜は、排液後にチャンバー内に残留してい
る洗浄液からの蒸発物を最小限に抑制する。第五に、この処理過程は装置に実質
的変化を加えなくても容易に規模拡大または規模縮小させられる。第六に、この
処理過程は、物体表面に化学結合されることのない大きな径の汚染物を除去する
。
選択液から噴霧粒子を生成する振動周波数と、代表的な噴霧粒子径と、選択液の
搬送速度と、選択液が噴霧粒子の生成のために搬送される時の圧力および温度と
、使用される乾燥用流体（使用されるならば）の温度と、選択液の選択肢および
使用される乾燥用流体（使用されるならば）の選択肢とがある。 本発明は、10リットルから20リットルの容積のチャンバー、または所望に応じ
て、これより小容積または大容積のチャンバー内で物体を乾燥させるのに、１ミ
リリットル（ml）から２ミリリットル程度の少量の選択液を必要とする。このア
プローチは幾つかの利点をもたらす。第一に、この処理過程は室温で、または、
室温附近で実施されてエネルギー消費が殆ど無く、乾燥処理用に加熱液またはガ
ス、或いは、過熱液またはガスを使用する必要が無い。第二に、この処理過程は
大容量の洗浄液（10リットルから20リットル）中に非常に少量の選択液を用いて
、洗浄液と選択液の混合物が通常は、危険な材料に必要となる特殊扱い処置手順
を伴わずに蒸着させることができる。第三に、広範な廉価の選択液を使用するこ
とができる。第四に、選択液の被覆薄膜は、排液後にチャンバー内に残留してい
る洗浄液からの蒸発物を最小限に抑制する。第五に、この処理過程は装置に実質
的変化を加えなくても容易に規模拡大または規模縮小させられる。第六に、この
処理過程は、物体表面に化学結合されることのない大きな径の汚染物を除去する
。
【０００７】
図１は、本発明を実施するのに有用である装置１０の一実施形態を例示してい
る。封入チャンバー１１はハウジング１２により境界規定され、乾燥されるべき
物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃなどを保持するラックが設けられている。物体１３
Ａ、１３Ｂ、１３Ｃは、ハウジング１２の一部である滑動自在な蝶番固定された
入口通路、または、これら以外の動作をし得る開放可能な入口通路１５を通して
チャンバー１１に設置したり、そこから取り出したりされる。入口通路１５が閉
鎖状態または嵌合状態になった時は、チャンバーは封鎖され、好ましくは気密な
態様で封鎖され、チャンバー内の残留ガスは任意で除去することができる。第１
ポート２１と、これに関与する第１弁２３がハウジング１２に取付けられており
、水またはそれ以外の好適な洗浄液２７の液源２５に接続されており、この中に
まず、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃが沈められる。第２ポート３１と、これに関
与する第２弁３３がハウジング１２に取付けられており、物体１３Ａ、１３Ｂ、
１３Ｃを主として乾燥させる選択された乾燥用の液剤または流体３７（「選択液
」と称す）の、圧力が５psiから50psiに維持された加圧下のタンクのような、選
択液源３５に接続されている。 第３ポート４１と、これに関与する第３弁４３は、第１ポート２１および第１
弁２３と同一でもよいが、ハウジング１２に取付けられて、洗浄液２７と吸収選
択液３７とをチャンバー１１から受容および排液する第１の液体タンクまたは流
体タンク、または、これ以外の好適な第１排液受容器４５に接続されている。第
４ポート５１と、これに関与する第４弁５３は、第２ポート３１および第２弁３
３と同一でもよいが、ハウジング１２に取付けられて、選択液３７と、選択液か
らの噴霧滴３９とをチャンバー１１から受容し、そこから排液する第２の液体タ
ンクまたは流体タンク、または、これ以外の好適な第２排液手段５５に接続され
ている。
る。封入チャンバー１１はハウジング１２により境界規定され、乾燥されるべき
物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃなどを保持するラックが設けられている。物体１３
Ａ、１３Ｂ、１３Ｃは、ハウジング１２の一部である滑動自在な蝶番固定された
入口通路、または、これら以外の動作をし得る開放可能な入口通路１５を通して
チャンバー１１に設置したり、そこから取り出したりされる。入口通路１５が閉
鎖状態または嵌合状態になった時は、チャンバーは封鎖され、好ましくは気密な
態様で封鎖され、チャンバー内の残留ガスは任意で除去することができる。第１
ポート２１と、これに関与する第１弁２３がハウジング１２に取付けられており
、水またはそれ以外の好適な洗浄液２７の液源２５に接続されており、この中に
まず、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃが沈められる。第２ポート３１と、これに関
与する第２弁３３がハウジング１２に取付けられており、物体１３Ａ、１３Ｂ、
１３Ｃを主として乾燥させる選択された乾燥用の液剤または流体３７（「選択液
」と称す）の、圧力が５psiから50psiに維持された加圧下のタンクのような、選
択液源３５に接続されている。 第３ポート４１と、これに関与する第３弁４３は、第１ポート２１および第１
弁２３と同一でもよいが、ハウジング１２に取付けられて、洗浄液２７と吸収選
択液３７とをチャンバー１１から受容および排液する第１の液体タンクまたは流
体タンク、または、これ以外の好適な第１排液受容器４５に接続されている。第
４ポート５１と、これに関与する第４弁５３は、第２ポート３１および第２弁３
３と同一でもよいが、ハウジング１２に取付けられて、選択液３７と、選択液か
らの噴霧滴３９とをチャンバー１１から受容し、そこから排液する第２の液体タ
ンクまたは流体タンク、または、これ以外の好適な第２排液手段５５に接続され
ている。
【０００８】
最初、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃはチャンバー１１でラックまたはカセット
（図示せず）に設置され、入口通路１５は閉鎖状態または嵌合状態にされ、チャ
ンバーバーは大気圧または大気圧を僅かに越える圧力を有し、洗浄液２７が第１
ポート２１および第１弁２３を通してチャンバーに入れられ、物体が洗浄液中に
十分に沈んだ状態にする。次に、第１弁２３が閉鎖される。代替例として、物体
１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃは洗浄液２７中に部分的に沈められ、これら物体の表面
の一部が洗浄液の露出面より上で露出状態となる。 次いで、選択液３７の細い流れが第２ポート３１および第２弁３３を通過し、
圧電駆動式ヘッド６１と振動音波ノズルまたは振動超音波ノズル６３とにより受
け取られるが、このノズルは10kHz≦ｆ≦10,000kHz の範囲か、より好ましくは
、20kHz≦ｆ≦100kHzのより狭い範囲で振れ動く選択周波数で振動する。駆動ヘ
ッド６１は周波数発生装置６４に接続され、同装置により駆動されるが、この周
波数発生装置はチャンバー１１の外部に配置されるのが好ましく、また、指示範
囲で振動周波数ｆを選択することができるようにする。選択液３７が振動ノズル
６３に存在しており、ノズルが振動している時には、選択液は複数の噴霧滴３９
に変わり、これらがチャンバー１１内に移動し、洗浄液２７および沈降した物体
１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃでまだ満杯になっていないチャンバーの上位部分１１Ｕ
の大半または全部を占有する。
（図示せず）に設置され、入口通路１５は閉鎖状態または嵌合状態にされ、チャ
ンバーバーは大気圧または大気圧を僅かに越える圧力を有し、洗浄液２７が第１
ポート２１および第１弁２３を通してチャンバーに入れられ、物体が洗浄液中に
十分に沈んだ状態にする。次に、第１弁２３が閉鎖される。代替例として、物体
１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃは洗浄液２７中に部分的に沈められ、これら物体の表面
の一部が洗浄液の露出面より上で露出状態となる。 次いで、選択液３７の細い流れが第２ポート３１および第２弁３３を通過し、
圧電駆動式ヘッド６１と振動音波ノズルまたは振動超音波ノズル６３とにより受
け取られるが、このノズルは10kHz≦ｆ≦10,000kHz の範囲か、より好ましくは
、20kHz≦ｆ≦100kHzのより狭い範囲で振れ動く選択周波数で振動する。駆動ヘ
ッド６１は周波数発生装置６４に接続され、同装置により駆動されるが、この周
波数発生装置はチャンバー１１の外部に配置されるのが好ましく、また、指示範
囲で振動周波数ｆを選択することができるようにする。選択液３７が振動ノズル
６３に存在しており、ノズルが振動している時には、選択液は複数の噴霧滴３９
に変わり、これらがチャンバー１１内に移動し、洗浄液２７および沈降した物体
１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃでまだ満杯になっていないチャンバーの上位部分１１Ｕ
の大半または全部を占有する。
【０００９】
図２Ａは、図１に示された装置と併用することができる好適な駆動ヘッド６１
Ａおよび振動ノズル６３Ａを例示している。振動ノズル６３Ａはその内部に中空
の柱６５Ａが直径d(col)≒200μmで形成されているのが好ましく、ここを通して
選択液３７（斜線表示）が流動する。次いで、振動ノズルが選択液３７の小滴３
９を「振い落とし」、これが概ね円筒状パターンの噴霧滴群を形成し、チャンバ
ー１１の洗浄液上方部分へ移動する。 図２Ｂは、別な好適な駆動ヘッド６１Ｂと、内部に薄い中空柱６５Ｂを有して
おり、そこを通って選択液３７が流動する振動ノズル６３Ｂとを例示している。
ハウジング６７Ｂはノズル６３Ｂを包囲して、環状の高温または低温の不活性ガ
ス６９Ｂを噴霧滴３９に向けて方向付け、この噴霧滴が円錐状またはそれ以外の
所望のパターンでチャンバー内に移動し、チャンバーの全体に噴霧滴がより向上
した分布状態になるようにしている。これ以外の多くのヘッド／振動ノズルの組
み合わせをここで使用することができる。 より高い周波数ｆの採用は、平均径d(mean)がより小さい噴霧滴３９を生成す
る傾向があることが分かっている。20kHz≦ｆ≦100kHzの範囲の振動周波数ｆに
ついては、平均噴霧滴径は10μm≦d(mean)≦50μmの範囲にあると推定される。
薄膜開口６６の径d(mean)を変動させ、振動ノズル６３Ａまたは６３Ｂの振動の
周波数ｆを変動させることにより、平均噴霧滴径を変動させることができる。
Ａおよび振動ノズル６３Ａを例示している。振動ノズル６３Ａはその内部に中空
の柱６５Ａが直径d(col)≒200μmで形成されているのが好ましく、ここを通して
選択液３７（斜線表示）が流動する。次いで、振動ノズルが選択液３７の小滴３
９を「振い落とし」、これが概ね円筒状パターンの噴霧滴群を形成し、チャンバ
ー１１の洗浄液上方部分へ移動する。 図２Ｂは、別な好適な駆動ヘッド６１Ｂと、内部に薄い中空柱６５Ｂを有して
おり、そこを通って選択液３７が流動する振動ノズル６３Ｂとを例示している。
ハウジング６７Ｂはノズル６３Ｂを包囲して、環状の高温または低温の不活性ガ
ス６９Ｂを噴霧滴３９に向けて方向付け、この噴霧滴が円錐状またはそれ以外の
所望のパターンでチャンバー内に移動し、チャンバーの全体に噴霧滴がより向上
した分布状態になるようにしている。これ以外の多くのヘッド／振動ノズルの組
み合わせをここで使用することができる。 より高い周波数ｆの採用は、平均径d(mean)がより小さい噴霧滴３９を生成す
る傾向があることが分かっている。20kHz≦ｆ≦100kHzの範囲の振動周波数ｆに
ついては、平均噴霧滴径は10μm≦d(mean)≦50μmの範囲にあると推定される。
薄膜開口６６の径d(mean)を変動させ、振動ノズル６３Ａまたは６３Ｂの振動の
周波数ｆを変動させることにより、平均噴霧滴径を変動させることができる。
【００１０】
選択液３７は、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃに無反応であるとともに、チャン
バー１１の壁とも無反応であるべきであり、洗浄液の表面張力よりも実質的に低
い表面張力を有しているべきである。好適な選択液としては、イソプロピルアル
コール、エチルアルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン
、過フルオロヘキサン、ヘキサン、エーテルはもとより、これら以外の多くの低
表面張力の液体および流体がある。これらの物質を、いずれであれ選択液として
使用するのであれば、特に耐性のある材料から作成されたチャンバー壁を設ける
必要は無い。 選択液３７は大気圧を越える５psiから50psiの圧力で選択液源３５内に保持さ
れて、搬送を容易にするとともに、選択液の僅かな揮発も抑制することができる
が、抑制しなければ揮発は自然に発生する。好ましい洗浄液である脱イオン水は
温度T≒20℃で表面張力σ＝73ダイン/cmであり、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ｎへキサン、エーテルのような有機分子は温
度T＝20℃で表面張力σが17ダイン/cm≦σ≦23ダイン/cmの範囲にあるため、σ
（選択液）<< 室温におけるσ（選択液）となる。 室温または室温附近で選択液３７を使用するのがここでは好ましい。実質的に
室温より上昇した温度で選択液３７を使用すると、選択液３７の表面張力と相対
的に洗浄液２７の表面張力を低下させることができ、従って、この処理過程につ
いて頼りとなっていた化学圧搾効果に干渉することができる。
バー１１の壁とも無反応であるべきであり、洗浄液の表面張力よりも実質的に低
い表面張力を有しているべきである。好適な選択液としては、イソプロピルアル
コール、エチルアルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン
、過フルオロヘキサン、ヘキサン、エーテルはもとより、これら以外の多くの低
表面張力の液体および流体がある。これらの物質を、いずれであれ選択液として
使用するのであれば、特に耐性のある材料から作成されたチャンバー壁を設ける
必要は無い。 選択液３７は大気圧を越える５psiから50psiの圧力で選択液源３５内に保持さ
れて、搬送を容易にするとともに、選択液の僅かな揮発も抑制することができる
が、抑制しなければ揮発は自然に発生する。好ましい洗浄液である脱イオン水は
温度T≒20℃で表面張力σ＝73ダイン/cmであり、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ｎへキサン、エーテルのような有機分子は温
度T＝20℃で表面張力σが17ダイン/cm≦σ≦23ダイン/cmの範囲にあるため、σ
（選択液）<< 室温におけるσ（選択液）となる。 室温または室温附近で選択液３７を使用するのがここでは好ましい。実質的に
室温より上昇した温度で選択液３７を使用すると、選択液３７の表面張力と相対
的に洗浄液２７の表面張力を低下させることができ、従って、この処理過程につ
いて頼りとなっていた化学圧搾効果に干渉することができる。
【００１１】
噴霧粒子は、位相変性を未だ受けておらず、蒸気の形態に至っていない選択液
３７の分子の群すなわち集合体である。従って、振動ノズルを用いて１グラムの
選択液３７を噴霧滴３９に変換するのに要するエネルギーＥ(噴霧質）（典型的
な音波ヘッドでは1.6ワット、或いは、２ml/分の流速では100ジュール/gmを下回
る）は、１グラムの選択液３７を蒸気の形態に加熱変換するのに要する気化のエ
ネルギーＥ(蒸気）よりも遥かに低い。Ｅ(噴霧質)／Ｅ(蒸気)で表される比は2パ
ーセントより低いと推定される。噴霧粒子の生成は室温または室温附近で実施す
ることができるが、Ｔ＝60℃ないし200℃のような非常に高温を採用する必要は
ないし、この処理過程については推奨できない。また、チャンバー１１内の複数
物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃを乾燥させるのには、例えば１mlから５ml程度のほ
んの少量の選択液３７しか必要ではない。 噴霧滴３９はチャンバー１１内に移動し、これら液滴の大半が洗浄液２７の露
出面２９（静穏状態であるのが好ましい）上に可変厚さｈ(噴霧質）の薄膜３０
として沈着する。この薄膜３０を形成するのに要する推定時間は40秒から60秒で
ある。膜３０に接合する噴霧滴３９の一部は洗浄液２７内へ拡散し、そのため、
この膜に別な噴霧滴が補充されなければ、膜３０は迅速かつ実質的に消散する。
振動ノズル６３に向かう選択液３７の体積流量ｒ(sel）は、噴霧滴３９が膜３０
に接合する速度がこの膜について選択された厚さｈ(噴霧質）を維持または増大
させるのに十分となるように調節されている。この膜厚ｈ(噴霧質）についての
好ましい範囲は0.5mm≦ｈ(噴霧質)≦５mmであるが、この厚さは、体積流量ｒ(se
l）を増大させることにより大きくすることができる。洗浄液２７の露出面（上
面）が約900cm2の面積を有することになるチャンバー１１については、選択液３
７の体積流量はｒ(sel）＝ｒ２＝１ml／分から５ml／分で十分である。通常は、
体積流量ｒ２＝１ml／分から２ml／分で十分な高さである。排液速度５mm／秒で
チャンバーの液をはくのに要する時間は、径が10cmから20cmの半導体ウエーハで
約20秒から40秒である。従って、膜を確立し、チャンバーから排液するのに要す
る時間（60秒から100秒）の途中で洗浄液２７に吸収され、或いは、洗浄液内に
拡散する選択液３７は極めて少量である。 この処理過程では非常に少量の選択液３７しか使用されないので、選択液源３
５は20mlから25ml程度の比較的少体積であってもよく、選択液源３５はチャンバ
ー１１から１メートルないし４メートルといった相当な距離に設置されることも
ある。これにより、引火点が低い選択液、或いは、起爆する可能性のある選択液
を使用する処理過程の安全が向上する。
３７の分子の群すなわち集合体である。従って、振動ノズルを用いて１グラムの
選択液３７を噴霧滴３９に変換するのに要するエネルギーＥ(噴霧質）（典型的
な音波ヘッドでは1.6ワット、或いは、２ml/分の流速では100ジュール/gmを下回
る）は、１グラムの選択液３７を蒸気の形態に加熱変換するのに要する気化のエ
ネルギーＥ(蒸気）よりも遥かに低い。Ｅ(噴霧質)／Ｅ(蒸気)で表される比は2パ
ーセントより低いと推定される。噴霧粒子の生成は室温または室温附近で実施す
ることができるが、Ｔ＝60℃ないし200℃のような非常に高温を採用する必要は
ないし、この処理過程については推奨できない。また、チャンバー１１内の複数
物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃを乾燥させるのには、例えば１mlから５ml程度のほ
んの少量の選択液３７しか必要ではない。 噴霧滴３９はチャンバー１１内に移動し、これら液滴の大半が洗浄液２７の露
出面２９（静穏状態であるのが好ましい）上に可変厚さｈ(噴霧質）の薄膜３０
として沈着する。この薄膜３０を形成するのに要する推定時間は40秒から60秒で
ある。膜３０に接合する噴霧滴３９の一部は洗浄液２７内へ拡散し、そのため、
この膜に別な噴霧滴が補充されなければ、膜３０は迅速かつ実質的に消散する。
振動ノズル６３に向かう選択液３７の体積流量ｒ(sel）は、噴霧滴３９が膜３０
に接合する速度がこの膜について選択された厚さｈ(噴霧質）を維持または増大
させるのに十分となるように調節されている。この膜厚ｈ(噴霧質）についての
好ましい範囲は0.5mm≦ｈ(噴霧質)≦５mmであるが、この厚さは、体積流量ｒ(se
l）を増大させることにより大きくすることができる。洗浄液２７の露出面（上
面）が約900cm2の面積を有することになるチャンバー１１については、選択液３
７の体積流量はｒ(sel）＝ｒ２＝１ml／分から５ml／分で十分である。通常は、
体積流量ｒ２＝１ml／分から２ml／分で十分な高さである。排液速度５mm／秒で
チャンバーの液をはくのに要する時間は、径が10cmから20cmの半導体ウエーハで
約20秒から40秒である。従って、膜を確立し、チャンバーから排液するのに要す
る時間（60秒から100秒）の途中で洗浄液２７に吸収され、或いは、洗浄液内に
拡散する選択液３７は極めて少量である。 この処理過程では非常に少量の選択液３７しか使用されないので、選択液源３
５は20mlから25ml程度の比較的少体積であってもよく、選択液源３５はチャンバ
ー１１から１メートルないし４メートルといった相当な距離に設置されることも
ある。これにより、引火点が低い選択液、或いは、起爆する可能性のある選択液
を使用する処理過程の安全が向上する。
【００１２】
非常に少量の選択液３７が処理温度で、好ましくは室温で自然に蒸発するが、
これは、その温度における選択液の平衡蒸気圧係数に基づいている。この蒸発し
た部分が閉鎖状態のチャンバー１１内で室温では比較的わずかであるのは当然で
あり、選択液３７の蒸気部分は、選択液３７の液状膜および噴霧質部分と迅速に
平衡状態になる。室温よりも遥かに高い処理温度を採用すると、頃合の高さの平
衡蒸気圧係数を有し、これに付随して増量した選択液の蒸気を伴って、選択液３
７を生成することになる。選択液３７の少量部がこのように自然に蒸発すること
が乾燥処理過程の有用な部分であるという認識はない。 噴霧滴の膜３０が洗浄液２７の表面２９上に確立された後、すなわち、40秒か
ら60秒を要した後、洗浄液２７はチャンバー１１からゆっくりと排出されて第３
ポート４１および第３弁４３を通って排液タンク４５に入る。洗浄液２７を排出
するには、10リットルから20リットルの洗浄液２７を保有しているチャンバーで
推定20秒から40秒を要する。排出速度ｒ(排液）についての好ましい範囲は、チ
ャンバー１１内の洗浄液２７の高さを３mm/秒から10mm/秒の割合で減じてゆく範
囲であり、ｒ(排液）＝５mm/秒がこの処理過程についての好適な排出速度である
。選択液３７の薄膜３０を洗浄液の別途露出した面２９の位置に保存するために
、排液はゆっくりと起こる。洗浄液２７の排出が進むにつれて、振動ノズル６３
を通る選択液３７の細い筋状の流れにより、噴霧滴３９が継続的に生成される。
選択液３７の体積流量ｒ(sel）は、洗浄液２７（吸収噴霧粒子３９も含む）の排
出が進むにつれて、より高い値またはより低い値に達するように調節することが
できる。
これは、その温度における選択液の平衡蒸気圧係数に基づいている。この蒸発し
た部分が閉鎖状態のチャンバー１１内で室温では比較的わずかであるのは当然で
あり、選択液３７の蒸気部分は、選択液３７の液状膜および噴霧質部分と迅速に
平衡状態になる。室温よりも遥かに高い処理温度を採用すると、頃合の高さの平
衡蒸気圧係数を有し、これに付随して増量した選択液の蒸気を伴って、選択液３
７を生成することになる。選択液３７の少量部がこのように自然に蒸発すること
が乾燥処理過程の有用な部分であるという認識はない。 噴霧滴の膜３０が洗浄液２７の表面２９上に確立された後、すなわち、40秒か
ら60秒を要した後、洗浄液２７はチャンバー１１からゆっくりと排出されて第３
ポート４１および第３弁４３を通って排液タンク４５に入る。洗浄液２７を排出
するには、10リットルから20リットルの洗浄液２７を保有しているチャンバーで
推定20秒から40秒を要する。排出速度ｒ(排液）についての好ましい範囲は、チ
ャンバー１１内の洗浄液２７の高さを３mm/秒から10mm/秒の割合で減じてゆく範
囲であり、ｒ(排液）＝５mm/秒がこの処理過程についての好適な排出速度である
。選択液３７の薄膜３０を洗浄液の別途露出した面２９の位置に保存するために
、排液はゆっくりと起こる。洗浄液２７の排出が進むにつれて、振動ノズル６３
を通る選択液３７の細い筋状の流れにより、噴霧滴３９が継続的に生成される。
選択液３７の体積流量ｒ(sel）は、洗浄液２７（吸収噴霧粒子３９も含む）の排
出が進むにつれて、より高い値またはより低い値に達するように調節することが
できる。
【００１３】
図２Ｃは、物体を洗浄するため、および／または、物体を乾燥させるために、
噴霧質の形態で選択液１１７および選択液１１９（例えば、室温のイソプロピル
アルコール（IPA）など）を搬送する改良型の超音波駆動装置を例示している。
第１の流体輸送ライン１０１は選択液を選択液源１０３から軸線方向チャンバー
１０５の第１端へ搬送するが、この軸線方向チャンバーは、10kHz≦ｆ≦10,000k
Hzのような選択周波数範囲にある周波数ｆで振動する略円筒形超音波ノズル１０
７により境界規定されている。ノズル１０７は超音波駆動ヘッド１０９により駆
動されるが、ヘッドは複数の電流搬送コイルを備えていてもよい。コイル電流の
方向が反復的に逆にされると、圧電材料を備えているノズル１０７はコイル電流
の逆流により振動状態に設定され、選択液の噴霧小滴を「振い落とす」。 図２Ｃの装置は不活性ガス源１１３から供給を受ける第２の流体輸送ライン１
１１を備えており、これはガスを不活性ガスプレナム１１４に搬送するが、この
場合、プレナム壁１１５は軸線方向チャンバー１０５の第２端の附近に小開口１
１６を有している。流体輸送ライン１１１は、N2またはCOのような不活性ガスを
概ね室温で１分あたり２リットルから10リットルの流速（単位LPM）でプレナム
１１４へ搬送するのが好ましい。不活性ガスの一部または全部がプレナム１１４
からプレナム開口１１６の位置で選択された（外向きの）方向に追い出され、局
所的に低下した総ガス圧を生じ、これが選択液噴霧粒子の末広がり状の流れ１１
７を生じる結果となる。プレナム開口１１６を通る不活性ガス流が無い場合は、
選択液噴霧粒子１１９のみが発現し、しかも、ノズル１０７の第２端の下方でノ
ズル軸線Ａ-Ａを囲む中央領域にのみ現れる。プレナム開口１１６を通る不活性
ガス流が組み入れられると、不活性ガスが存在していない場合に発生するよりも
大きい「円錐角度」θc,Cの範囲で噴霧粒子が流動する。
噴霧質の形態で選択液１１７および選択液１１９（例えば、室温のイソプロピル
アルコール（IPA）など）を搬送する改良型の超音波駆動装置を例示している。
第１の流体輸送ライン１０１は選択液を選択液源１０３から軸線方向チャンバー
１０５の第１端へ搬送するが、この軸線方向チャンバーは、10kHz≦ｆ≦10,000k
Hzのような選択周波数範囲にある周波数ｆで振動する略円筒形超音波ノズル１０
７により境界規定されている。ノズル１０７は超音波駆動ヘッド１０９により駆
動されるが、ヘッドは複数の電流搬送コイルを備えていてもよい。コイル電流の
方向が反復的に逆にされると、圧電材料を備えているノズル１０７はコイル電流
の逆流により振動状態に設定され、選択液の噴霧小滴を「振い落とす」。 図２Ｃの装置は不活性ガス源１１３から供給を受ける第２の流体輸送ライン１
１１を備えており、これはガスを不活性ガスプレナム１１４に搬送するが、この
場合、プレナム壁１１５は軸線方向チャンバー１０５の第２端の附近に小開口１
１６を有している。流体輸送ライン１１１は、N2またはCOのような不活性ガスを
概ね室温で１分あたり２リットルから10リットルの流速（単位LPM）でプレナム
１１４へ搬送するのが好ましい。不活性ガスの一部または全部がプレナム１１４
からプレナム開口１１６の位置で選択された（外向きの）方向に追い出され、局
所的に低下した総ガス圧を生じ、これが選択液噴霧粒子の末広がり状の流れ１１
７を生じる結果となる。プレナム開口１１６を通る不活性ガス流が無い場合は、
選択液噴霧粒子１１９のみが発現し、しかも、ノズル１０７の第２端の下方でノ
ズル軸線Ａ-Ａを囲む中央領域にのみ現れる。プレナム開口１１６を通る不活性
ガス流が組み入れられると、不活性ガスが存在していない場合に発生するよりも
大きい「円錐角度」θc,Cの範囲で噴霧粒子が流動する。
【００１４】
図２Ｄも、物体を洗浄するため、および／または、物体を乾燥させるために噴
霧質の形態で選択液１３７、１３９を搬送する改良型の超音波駆動装置を例示し
ている。第１の流体輸送ライン１２１、選択液源１２３、略円筒状の超音波ノズ
ル１２７により境界規定された軸線方向チャンバー１２５、超音波駆動ヘッド１
２９、第２の流体輸送ライン１３１、不活性ガス源１３３、不活性ガスプレナム
１３４、プレナム壁１３５、プレナム開口１３６は、図２Ｃの装置におけるそれ
ぞれの構成要素１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１１、１１３、１
１４、１１５、１１６と同一目的を果たす。図２Ｄに示されている実施形態は、
不活性ガスが存在していない場合に発生するより大きい付随する円錐角度θc,D
で噴霧粒子１３７を生成する。 図２Ｄでは、不活性ガスは、概ね一定のプレナム圧で、或いは、図２Ｅに示さ
れているように、最小圧値と最大圧値の間で時間ｔに関して概ね周期的に変動す
るプレナム圧ｐ(プレナム）で、いずれにせよ継続的にプレナム開口１３６から
追い出される。この圧力変動は不活性ガス圧波１４１を生じるが、これに付随す
る圧力勾配はプレナム開口１３６附近に存在する。圧力波１４１は、ノズル１２
７の中央領域から距離を隔てた噴霧粒子１１７を小粒子群に分離させることによ
り、より小さい噴霧粒子を生成し、かつ、より広い付随する円錐角度θc,Dの範
囲で外方向に粒子を拡散させる。中央領域がノズル１２７の軸線附近に位置する
状態で生成される噴霧粒子１３９はより大きい粒子径を維持し、ノズル１２７の
下方の中央領域に位置する１枚以上の粒子マスクすなわち粒子吸収体１４１、１
４３により捕獲される。粒子マスク１４１、１４３により捕獲された選択液噴霧
粒子１３９は貯蔵器１４４内へ排出され、所望されれば、再利用することもでき
る。図２Ｄに示された実施形態は、より大きい付随する円錐角度θc,Dとより小
さい平均噴霧質径とを有している噴霧粒子１３７を生成するが、これは、径が大
きい噴霧粒子はノズル軸線Ａ-Ａに平行に移動する傾向を有しているとともに、
中央に配置された１枚以上の粒子マスク１４１、１４３により捕獲される傾向が
強いからである。
霧質の形態で選択液１３７、１３９を搬送する改良型の超音波駆動装置を例示し
ている。第１の流体輸送ライン１２１、選択液源１２３、略円筒状の超音波ノズ
ル１２７により境界規定された軸線方向チャンバー１２５、超音波駆動ヘッド１
２９、第２の流体輸送ライン１３１、不活性ガス源１３３、不活性ガスプレナム
１３４、プレナム壁１３５、プレナム開口１３６は、図２Ｃの装置におけるそれ
ぞれの構成要素１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１１、１１３、１
１４、１１５、１１６と同一目的を果たす。図２Ｄに示されている実施形態は、
不活性ガスが存在していない場合に発生するより大きい付随する円錐角度θc,D
で噴霧粒子１３７を生成する。 図２Ｄでは、不活性ガスは、概ね一定のプレナム圧で、或いは、図２Ｅに示さ
れているように、最小圧値と最大圧値の間で時間ｔに関して概ね周期的に変動す
るプレナム圧ｐ(プレナム）で、いずれにせよ継続的にプレナム開口１３６から
追い出される。この圧力変動は不活性ガス圧波１４１を生じるが、これに付随す
る圧力勾配はプレナム開口１３６附近に存在する。圧力波１４１は、ノズル１２
７の中央領域から距離を隔てた噴霧粒子１１７を小粒子群に分離させることによ
り、より小さい噴霧粒子を生成し、かつ、より広い付随する円錐角度θc,Dの範
囲で外方向に粒子を拡散させる。中央領域がノズル１２７の軸線附近に位置する
状態で生成される噴霧粒子１３９はより大きい粒子径を維持し、ノズル１２７の
下方の中央領域に位置する１枚以上の粒子マスクすなわち粒子吸収体１４１、１
４３により捕獲される。粒子マスク１４１、１４３により捕獲された選択液噴霧
粒子１３９は貯蔵器１４４内へ排出され、所望されれば、再利用することもでき
る。図２Ｄに示された実施形態は、より大きい付随する円錐角度θc,Dとより小
さい平均噴霧質径とを有している噴霧粒子１３７を生成するが、これは、径が大
きい噴霧粒子はノズル軸線Ａ-Ａに平行に移動する傾向を有しているとともに、
中央に配置された１枚以上の粒子マスク１４１、１４３により捕獲される傾向が
強いからである。
【００１５】
洗浄液２７が図３のチャンバー１１からはけるにつれて、物体１３Ａ、１３Ｂ
、１３Ｃのそれぞれの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃは、露出した洗浄液面２９と
その上に位置する膜３０の上方でますます露出してゆき、チャンバー１１Ｕの上
位部分の噴霧滴３９が、図３に示されているように、露出面１４Ａ、１４Ｂ、１
４Ｃの上に沈着する。また、選択液３７の膜３０の一部は、洗浄液２７と一緒に
第３ポート４１に向けて移動するよりはむしろ、物体面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ
の露出部分の上に沈着するかもしれない。選択液３７は、洗浄液２７の表面張力
σ(洗浄液）よりも遥かに小さい表面張力σ(sel）を有しているように選択され
る。洗浄液２７が水である場合は、付随する表面張力は室温ではσ(洗浄液）＝7
3ダイン/cmである。この場合、選択液３７はイソプロピルアルコール（IPA）か
、エチルアルコールか、メチルアルコールであればよいが、この時のそれぞれの
表面張力は室温で、それぞれに、σ＝21.7ダイン/cm、σ＝22.6ダイン/cm、σ＝
22.8ダイン/cmである。選択液３７は、どのような処理温度を採用していようと
洗浄液を置換する能力、または、可溶性にする能力のゆえに選ばれている。室温
（Ｔ＝20℃）か、それよりも低い温度もここでは採用される。これより幾分高い
温度でも、この処理過程は満足のいく程度にうまくいく。 物体表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃの露出部分が選択液３７の噴霧滴３９を受け
取ると、噴霧滴３９すなわち選択液３７の新たな膜１６Ａ、１６Ｂ，１６Ｃがそ
れぞれの露出部分の上に形成される。洗浄液２７のチャンバー１１からの排出が
進むにつれて、また、排液が完了した後で、膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃの選択液
３７は、物体面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃの露出部分の上に残存している洗浄液２
７の大半または全部を追い払うが、これは主として、選択液３７の表面張力σ(s
el）が洗浄液２７の表面張力σ(洗浄液）よりも遥かに小さいせいである。選択
液により追い払われた洗浄液２７は物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ
、１４Ｂ、１４Ｃを流れ落ちて、チャンバー内に在る分量の洗浄液と一緒に排出
される。物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ上に膜を形
成している選択液３７もこれらの表面を流れ落ちて、その分量の洗浄液２７と一
緒に排出される。従って、選択液３７の膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃは、洗浄液２
７および選択液３７を物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１
４Ｃから除去する際に「化学圧搾される物質」として作用する。
、１３Ｃのそれぞれの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃは、露出した洗浄液面２９と
その上に位置する膜３０の上方でますます露出してゆき、チャンバー１１Ｕの上
位部分の噴霧滴３９が、図３に示されているように、露出面１４Ａ、１４Ｂ、１
４Ｃの上に沈着する。また、選択液３７の膜３０の一部は、洗浄液２７と一緒に
第３ポート４１に向けて移動するよりはむしろ、物体面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ
の露出部分の上に沈着するかもしれない。選択液３７は、洗浄液２７の表面張力
σ(洗浄液）よりも遥かに小さい表面張力σ(sel）を有しているように選択され
る。洗浄液２７が水である場合は、付随する表面張力は室温ではσ(洗浄液）＝7
3ダイン/cmである。この場合、選択液３７はイソプロピルアルコール（IPA）か
、エチルアルコールか、メチルアルコールであればよいが、この時のそれぞれの
表面張力は室温で、それぞれに、σ＝21.7ダイン/cm、σ＝22.6ダイン/cm、σ＝
22.8ダイン/cmである。選択液３７は、どのような処理温度を採用していようと
洗浄液を置換する能力、または、可溶性にする能力のゆえに選ばれている。室温
（Ｔ＝20℃）か、それよりも低い温度もここでは採用される。これより幾分高い
温度でも、この処理過程は満足のいく程度にうまくいく。 物体表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃの露出部分が選択液３７の噴霧滴３９を受け
取ると、噴霧滴３９すなわち選択液３７の新たな膜１６Ａ、１６Ｂ，１６Ｃがそ
れぞれの露出部分の上に形成される。洗浄液２７のチャンバー１１からの排出が
進むにつれて、また、排液が完了した後で、膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃの選択液
３７は、物体面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃの露出部分の上に残存している洗浄液２
７の大半または全部を追い払うが、これは主として、選択液３７の表面張力σ(s
el）が洗浄液２７の表面張力σ(洗浄液）よりも遥かに小さいせいである。選択
液により追い払われた洗浄液２７は物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ
、１４Ｂ、１４Ｃを流れ落ちて、チャンバー内に在る分量の洗浄液と一緒に排出
される。物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ上に膜を形
成している選択液３７もこれらの表面を流れ落ちて、その分量の洗浄液２７と一
緒に排出される。従って、選択液３７の膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃは、洗浄液２
７および選択液３７を物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１
４Ｃから除去する際に「化学圧搾される物質」として作用する。
【００１６】
物体の露出面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃの化学圧搾作用は別な利点を有している
。この処理過程は物体の表面を乾燥させるのみならず、大型の汚染物質粒子が宿
主表面に化学結合されていない場合には、物体表面からこれら汚染粒子の大半を
除去しもする。化学圧搾処理前の剥き出しのシリコン面を適用して試験したとこ
ろ、表１の２列に示されているように、シリコン面上に径が少なくとも0.3μｍ
の多数の汚染物粒子を確認した。次いで、化学圧搾処理を施して、化学圧搾処理
の完了後にシリコン面を再度試験したところ、表１の３列に示されているように
、化学圧搾処理の完了後は汚染物粒子の数が減少しているのが確認された。これ
らの結果の示すところでは、化学圧搾作用のみでも、寸法次第で、0.3μｍより
も径が大きい汚染物粒子の12パーセントから100パーセントを除去している。
。この処理過程は物体の表面を乾燥させるのみならず、大型の汚染物質粒子が宿
主表面に化学結合されていない場合には、物体表面からこれら汚染粒子の大半を
除去しもする。化学圧搾処理前の剥き出しのシリコン面を適用して試験したとこ
ろ、表１の２列に示されているように、シリコン面上に径が少なくとも0.3μｍ
の多数の汚染物粒子を確認した。次いで、化学圧搾処理を施して、化学圧搾処理
の完了後にシリコン面を再度試験したところ、表１の３列に示されているように
、化学圧搾処理の完了後は汚染物粒子の数が減少しているのが確認された。これ
らの結果の示すところでは、化学圧搾作用のみでも、寸法次第で、0.3μｍより
も径が大きい汚染物粒子の12パーセントから100パーセントを除去している。
【表１】
大型汚染物粒子の化学圧搾除去
粒子寸法 化学圧搾前の粒子数 化学圧搾後の粒子数
0.329-0.517μｍ 8 7
0.518-0.810 7 2
0.811-1.270 7 2
1.271-1.990 3 1
1.991-3.130 6 1
3.131-4.910 6 0
【００１７】
洗浄液２７がチャンバー１１から十分にはかれた状態になり、物体１３Ａ、１
３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃが十分に露出する頃には、第２ポー
ト３１および第２弁３３が閉じられ、振動ノズル６３が遮断され、第４ポート５
１および第４弁５３が開放状態になる。次いで、残留する選択液３７、噴霧滴３
９、洗浄液２７、洗浄液からの蒸気および選択液からの蒸気が第４ポート５１を
通してチャンバー１１から除去される。処理過程のこの部分は更に10秒から20秒
を要することがあるが、所望されれば、より長期間継続されて、残留選択液３７
と残留洗浄液２７を膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃから、更にはチャンバー１１から
完全に除去することができる。ここで、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの乾燥処理
が実質的に完了する。 任意で、高温または室温の乾燥窒素Ｎ2、一酸化炭素ＣＯ、二酸化炭素ＣＯ2、
または、他の不活性ガスを第５ポート７１およびこれに関与する第５弁７３を通
してチャンバー１１に入れて、チャンバー１１を浄化し、かつ/または、物体１
３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃから残留物質を洗浄する
ことができる。高温のパージガスがパージガスタンク７５からチャンバー１１に
受容され、第６ポート８１および第６弁８３を通して除去されるが、このポート
と弁は第５ポート７１および第５弁７３それぞれと同一であってもよい。高温パ
ージガスがチャンバー１１から使用済みパージガスタンク８５に受容されて、再
生利用され、処理され、或いは、廃棄処理される。処理過程のこの部分が含まれ
ている場合は、更に30秒から60秒を要することがある。
３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃが十分に露出する頃には、第２ポー
ト３１および第２弁３３が閉じられ、振動ノズル６３が遮断され、第４ポート５
１および第４弁５３が開放状態になる。次いで、残留する選択液３７、噴霧滴３
９、洗浄液２７、洗浄液からの蒸気および選択液からの蒸気が第４ポート５１を
通してチャンバー１１から除去される。処理過程のこの部分は更に10秒から20秒
を要することがあるが、所望されれば、より長期間継続されて、残留選択液３７
と残留洗浄液２７を膜１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃから、更にはチャンバー１１から
完全に除去することができる。ここで、物体１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの乾燥処理
が実質的に完了する。 任意で、高温または室温の乾燥窒素Ｎ2、一酸化炭素ＣＯ、二酸化炭素ＣＯ2、
または、他の不活性ガスを第５ポート７１およびこれに関与する第５弁７３を通
してチャンバー１１に入れて、チャンバー１１を浄化し、かつ/または、物体１
３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃから残留物質を洗浄する
ことができる。高温のパージガスがパージガスタンク７５からチャンバー１１に
受容され、第６ポート８１および第６弁８３を通して除去されるが、このポート
と弁は第５ポート７１および第５弁７３それぞれと同一であってもよい。高温パ
ージガスがチャンバー１１から使用済みパージガスタンク８５に受容されて、再
生利用され、処理され、或いは、廃棄処理される。処理過程のこの部分が含まれ
ている場合は、更に30秒から60秒を要することがある。
【００１８】
図４は、本発明の一実施形態で実行される工程段を示したフローチャートであ
る。工程９１では、乾燥されるべき、かつ/または、洗浄されるべき物体１３Ａ
、１３Ｂ、１３Ｃ（図１および図３）がチャンバー内に設置され、チャンバーが
閉じられる。工程９３では、洗浄液２７がチャンバー内に入れられて、物体を部
分的または（好ましくは）十分に沈降させる。工程９５では、選択液３７の噴霧
滴がチャンバー内に形成され、選択液の膜が洗浄液の露出面の上に形成され、維
持される。工程９７では、洗浄液２７および吸収選択液３７がチャンバーからゆ
っくりと排出され、最終的には物体の表面を噴霧滴に晒し、選択液の膜が物体面
に形成されるようにするが、任意で、チャンバー圧は外部環境圧の附近またはそ
れより高く維持される。工程９９では、物体の表面上の選択液の膜は化学圧搾作
用を施し、残留洗浄液２７および残留選択液３７と汚染物質とを物体の表面から
除去する。工程１０１（任意）では、残留している選択液３７および洗浄液２７
がチャンバーから除去される。工程１０３（任意）では、パージガスがチャンバ
ーを通されて、残留しているガスおよび/または液体粒子をチャンバーから除去
する。この時点で既に乾燥および/または洗浄された物体はチャンバーから除去
することができ、或いは、チャンバー内で更に処理されることもある。 どのような排出量ｒ１が選択されようとも、チャンバー１１からの洗浄液２７
の除去により部分真空をチャンバー内に生成するが、この部分真空は駆動ヘッド
６１および振動ノズル６３から少量の選択液をチャンバー内に受け取るだけでは
十分に緩和されることがない。チャンバー１１が十分に気密であるならば、この
真空の生成に応じて、外部からのガスは、ほとんど、または、全く、チャンバー
に入ってこない。しかし、多くのチャンバーが十分には気密でなく、このような
場合、外部環境から相当量のガスが流入しており、恐らくは、このガスと一緒に
１個以上の汚染物粒子が持ち込まれ、これが選択された物体１３Ａ、１３Ｂ、１
３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ上に沈着することがある。これは、本件に
開示されている処置手順および装置の試験の全部ではないが幾つかで観察されて
いる。
る。工程９１では、乾燥されるべき、かつ/または、洗浄されるべき物体１３Ａ
、１３Ｂ、１３Ｃ（図１および図３）がチャンバー内に設置され、チャンバーが
閉じられる。工程９３では、洗浄液２７がチャンバー内に入れられて、物体を部
分的または（好ましくは）十分に沈降させる。工程９５では、選択液３７の噴霧
滴がチャンバー内に形成され、選択液の膜が洗浄液の露出面の上に形成され、維
持される。工程９７では、洗浄液２７および吸収選択液３７がチャンバーからゆ
っくりと排出され、最終的には物体の表面を噴霧滴に晒し、選択液の膜が物体面
に形成されるようにするが、任意で、チャンバー圧は外部環境圧の附近またはそ
れより高く維持される。工程９９では、物体の表面上の選択液の膜は化学圧搾作
用を施し、残留洗浄液２７および残留選択液３７と汚染物質とを物体の表面から
除去する。工程１０１（任意）では、残留している選択液３７および洗浄液２７
がチャンバーから除去される。工程１０３（任意）では、パージガスがチャンバ
ーを通されて、残留しているガスおよび/または液体粒子をチャンバーから除去
する。この時点で既に乾燥および/または洗浄された物体はチャンバーから除去
することができ、或いは、チャンバー内で更に処理されることもある。 どのような排出量ｒ１が選択されようとも、チャンバー１１からの洗浄液２７
の除去により部分真空をチャンバー内に生成するが、この部分真空は駆動ヘッド
６１および振動ノズル６３から少量の選択液をチャンバー内に受け取るだけでは
十分に緩和されることがない。チャンバー１１が十分に気密であるならば、この
真空の生成に応じて、外部からのガスは、ほとんど、または、全く、チャンバー
に入ってこない。しかし、多くのチャンバーが十分には気密でなく、このような
場合、外部環境から相当量のガスが流入しており、恐らくは、このガスと一緒に
１個以上の汚染物粒子が持ち込まれ、これが選択された物体１３Ａ、１３Ｂ、１
３Ｃの露出面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ上に沈着することがある。これは、本件に
開示されている処置手順および装置の試験の全部ではないが幾つかで観察されて
いる。
【００１９】
図３を参照すると、Ｎ2、ＣＯ、または、ＣＯ2のような実質的に不活性の置換
ガス１２２が任意で供与され、チャンバー１１と流体連絡状態にある。貯蔵器１
２１内の不活性ガス１２２がポート１２３およびこれと関連する弁と、圧力制御
装置１２５とを通過し、チャンバー１１に入る。弁と圧力制御装置１２５は、ポ
ート４１と弁４３を利用して洗浄液２７がチャンバーから排出されるとチャンバ
ー内に生成される変化圧を検知する。この変化圧に応じて、弁および圧力制御装
置１２５は不活性ガス貯蔵器１２１から十分な不活性ガス１２２がチャンバーに
入ることができるようにし、このため、チャンバー圧は圧力ｐ≒ｐ(外部）に維
持されるが、但し、ｐ(外部）はチャンバー外部の局部圧に概ね等しいか、或い
は、それよりも高い圧力である。局部外部圧ｐ(外部）よりも幾分か高いチャン
バー圧ｐがここでは好ましく、その結果、チャンバーが十分に気密ではない場合
には、不活性ガス１２２はチャンバー１１から出て外部環境へと移動する傾向が
あるとともに、外部環境からのガスの流入を鈍らせる。任意で、チャンバー１１
内で維持されている圧力ｐは幾分かｐ(外部）よりも低くてもよく、恐らく、0.8
ｐ(外部）程度であり、これも尚、外部環境からチャンバーへのガスの流入を鈍
らせる。洗浄液２７がチャンバー１１から十分に排出され、選択された物体１３
Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃが十分に乾燥および／または
洗浄された後では、選択された物体を処理するのに次の工程を実行する前に、不
活性ガス１２２はチャンバーから不活性ガス貯蔵器１２７へと除去される。 代替例として、チャンバー１１からの洗浄液２７の排出量ｒ１が十分良好に制
御されるのであれば、弁および圧力制御装置１２５はチャンバー１１の内部圧力
を検知する必要がない。このアプローチでは、弁および圧力制御装置１２５はプ
ログラムされた体積流量ｒ３で不活性ガス貯蔵器１２１から不活性ガス１２２を
流入させるが、ここでは、流量ｒ３は、洗浄液２７がチャンバーから排出される
と、チャンバー１１の内部で内部圧力ｐ≒ｐ(外部）を維持するのに十分である
か、または、これよりも高い圧力を維持するのに十分である。 不活性ガス１２２の温度Ｔは洗浄液の温度またはそれに近いのが好ましく、こ
の温度は通常は室温であるか、または、室温よりも幾分低いか幾分高い。パージ
ガス貯蔵器７５は不活性ガス貯蔵器１２１として機能してもよく、その場合は、
弁および圧力制御装置１２５を備えている。
ガス１２２が任意で供与され、チャンバー１１と流体連絡状態にある。貯蔵器１
２１内の不活性ガス１２２がポート１２３およびこれと関連する弁と、圧力制御
装置１２５とを通過し、チャンバー１１に入る。弁と圧力制御装置１２５は、ポ
ート４１と弁４３を利用して洗浄液２７がチャンバーから排出されるとチャンバ
ー内に生成される変化圧を検知する。この変化圧に応じて、弁および圧力制御装
置１２５は不活性ガス貯蔵器１２１から十分な不活性ガス１２２がチャンバーに
入ることができるようにし、このため、チャンバー圧は圧力ｐ≒ｐ(外部）に維
持されるが、但し、ｐ(外部）はチャンバー外部の局部圧に概ね等しいか、或い
は、それよりも高い圧力である。局部外部圧ｐ(外部）よりも幾分か高いチャン
バー圧ｐがここでは好ましく、その結果、チャンバーが十分に気密ではない場合
には、不活性ガス１２２はチャンバー１１から出て外部環境へと移動する傾向が
あるとともに、外部環境からのガスの流入を鈍らせる。任意で、チャンバー１１
内で維持されている圧力ｐは幾分かｐ(外部）よりも低くてもよく、恐らく、0.8
ｐ(外部）程度であり、これも尚、外部環境からチャンバーへのガスの流入を鈍
らせる。洗浄液２７がチャンバー１１から十分に排出され、選択された物体１３
Ａ、１３Ｂ、１３Ｃの表面１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃが十分に乾燥および／または
洗浄された後では、選択された物体を処理するのに次の工程を実行する前に、不
活性ガス１２２はチャンバーから不活性ガス貯蔵器１２７へと除去される。 代替例として、チャンバー１１からの洗浄液２７の排出量ｒ１が十分良好に制
御されるのであれば、弁および圧力制御装置１２５はチャンバー１１の内部圧力
を検知する必要がない。このアプローチでは、弁および圧力制御装置１２５はプ
ログラムされた体積流量ｒ３で不活性ガス貯蔵器１２１から不活性ガス１２２を
流入させるが、ここでは、流量ｒ３は、洗浄液２７がチャンバーから排出される
と、チャンバー１１の内部で内部圧力ｐ≒ｐ(外部）を維持するのに十分である
か、または、これよりも高い圧力を維持するのに十分である。 不活性ガス１２２の温度Ｔは洗浄液の温度またはそれに近いのが好ましく、こ
の温度は通常は室温であるか、または、室温よりも幾分低いか幾分高い。パージ
ガス貯蔵器７５は不活性ガス貯蔵器１２１として機能してもよく、その場合は、
弁および圧力制御装置１２５を備えている。
【００２０】
図５は、比較的小さい径を越える寸法の汚染物が相対的に存在していない状態
に選択液（IPAなど）を維持することを図った改良型の流れ濾過装置を例示して
いる。選択液（例えば、IPAなど）は選択液貯蔵器１５１に保持され、室温で１
分あたり１リットルから10リットル（単位LPM）の範囲であるのが好ましい体積
流量を有している容積移送式ポンプ１５７により、第１流体輸送ライン１５３に
沿って第１チェック弁１５５を通して汲出される。第１ライン１５３の選択液は
、口径が0.1μmから0.2μmの範囲にある複数の開口を有しているのが好ましい第
１フィルタ１５９を通過してから、口径が0.02μmから0.1μmの範囲の（概ね0.0
5μmに等しいのがより好ましい）複数の開口を有しているのが好ましい第２フィ
ルタ１６１を更に通過する。第１フィルタ１５９は、第１フィルタ開口の口径よ
りも大きい径を有している選択液中の汚染物粒子の大半または全部を除去する。
第２フィルタ１６１は、第２フィルタ開口の口径よりも大きい径を有している選
択液中の汚染物粒子の大半または全部を除去し、特に、第１フィルタ開口の口径
よりも大きい径のどのような残留汚染物粒子も除去する。任意で、第１フィルタ
１５９および第２フィルタ１６１は削除してもよい。 次に、選択液は第１ライン１５３に沿って渡り、第１ラインが第２流体輸送ラ
イン１６５および第３流体輸送ライン１６７と交差している接合部１６３に至る
。第２ライン１６５内の選択液は第２チェック弁１６９を通過してから選択液貯
蔵器１５１に帰還する。第３ライン１６７の選択液は第３チェック弁１７１（ニ
ードル弁であるのが好ましい）を通過してから、0.02μmから0.1μmの範囲の（
約0.05μmに等しいのがより好ましい）径の複数の開口を有している大３フィル
タ１７５を通過する。次いで、第３ライン１６７の選択液は濾過された選択液貯
蔵器１７９内に受容されるが、この貯蔵器は、Ｎ2、ＣＯ、または、これら以外
の好適な不活性ガスを保有し得る不活性ガス源１８３により給送される不活性ガ
スライン１８１からの不活性ガスにより加圧されている。次いで、３重に濾過さ
れた選択液が振動ヘッドおよびノズル１８５を通過して、物体を洗浄し、かつ／
または、物体を乾燥させる。任意で、選択液貯蔵器１５１は圧力センサーと、圧
力フィードバックを利用してこの貯蔵器内に概ね一定の圧力を維持する調節装置
１８７とを有している。
に選択液（IPAなど）を維持することを図った改良型の流れ濾過装置を例示して
いる。選択液（例えば、IPAなど）は選択液貯蔵器１５１に保持され、室温で１
分あたり１リットルから10リットル（単位LPM）の範囲であるのが好ましい体積
流量を有している容積移送式ポンプ１５７により、第１流体輸送ライン１５３に
沿って第１チェック弁１５５を通して汲出される。第１ライン１５３の選択液は
、口径が0.1μmから0.2μmの範囲にある複数の開口を有しているのが好ましい第
１フィルタ１５９を通過してから、口径が0.02μmから0.1μmの範囲の（概ね0.0
5μmに等しいのがより好ましい）複数の開口を有しているのが好ましい第２フィ
ルタ１６１を更に通過する。第１フィルタ１５９は、第１フィルタ開口の口径よ
りも大きい径を有している選択液中の汚染物粒子の大半または全部を除去する。
第２フィルタ１６１は、第２フィルタ開口の口径よりも大きい径を有している選
択液中の汚染物粒子の大半または全部を除去し、特に、第１フィルタ開口の口径
よりも大きい径のどのような残留汚染物粒子も除去する。任意で、第１フィルタ
１５９および第２フィルタ１６１は削除してもよい。 次に、選択液は第１ライン１５３に沿って渡り、第１ラインが第２流体輸送ラ
イン１６５および第３流体輸送ライン１６７と交差している接合部１６３に至る
。第２ライン１６５内の選択液は第２チェック弁１６９を通過してから選択液貯
蔵器１５１に帰還する。第３ライン１６７の選択液は第３チェック弁１７１（ニ
ードル弁であるのが好ましい）を通過してから、0.02μmから0.1μmの範囲の（
約0.05μmに等しいのがより好ましい）径の複数の開口を有している大３フィル
タ１７５を通過する。次いで、第３ライン１６７の選択液は濾過された選択液貯
蔵器１７９内に受容されるが、この貯蔵器は、Ｎ2、ＣＯ、または、これら以外
の好適な不活性ガスを保有し得る不活性ガス源１８３により給送される不活性ガ
スライン１８１からの不活性ガスにより加圧されている。次いで、３重に濾過さ
れた選択液が振動ヘッドおよびノズル１８５を通過して、物体を洗浄し、かつ／
または、物体を乾燥させる。任意で、選択液貯蔵器１５１は圧力センサーと、圧
力フィードバックを利用してこの貯蔵器内に概ね一定の圧力を維持する調節装置
１８７とを有している。
【００２１】
３つのフィルター１５９、１６１、１７５の各々はトラックがエッチング形成
されたポリカーボネートフィルタであるのが好ましい。第１の流体輸送ライン１
５３および第２の流体輸送ライン１６５は、内径が0.125mmから0.25mmの範囲で
あるテフロン(登録商標)管であるのが好ましい。第３の流体輸送ライン１６７は
、内径が0.1mmから0.2mmの範囲であるテフロン(登録商標)管であるのが好ましい
。 第２チェック弁１６９が開位置にあって、第３チェック弁１７１が閉位置にあ
る場合は、選択液は第１フィルタ１５９および第２フィルタ１６１を通過し、第
１流体輸送ライン１５３および第２流体輸送ライン１６５内を流動し、選択液貯
蔵器１５１に帰還する。第２のチェック弁１６９が閉位置にあって、第３チェッ
ク弁１７１が開位置にある場合は、選択液は第１フィルタ１５９、第２フィルタ
１６１、第３フィルタ１７５を通過し、第１流体輸送ライン１５３および第３流
体輸送ライン１６７内を流動し、ノズル１８５を通過する。第２のチェック弁１
６９および第３のチェック弁１７１のうち少なくとも一方がいつでも開状態にあ
るため、濾過作用は停止することはなく、選択液は実質的に継続的にフィルタの
うちの２つまたは３つを渡って循環する。選択液中の汚染物粒子の大半は第１ラ
インから第２ラインへの流体順路内で除去される。これら以外の汚染物粒子が存
在している場合は、分流器として作用して既に濾過された選択液の選択された部
分を除去して次の濾過処理に備える第１ラインから第３ラインへの流体順路によ
り除去される。
されたポリカーボネートフィルタであるのが好ましい。第１の流体輸送ライン１
５３および第２の流体輸送ライン１６５は、内径が0.125mmから0.25mmの範囲で
あるテフロン(登録商標)管であるのが好ましい。第３の流体輸送ライン１６７は
、内径が0.1mmから0.2mmの範囲であるテフロン(登録商標)管であるのが好ましい
。 第２チェック弁１６９が開位置にあって、第３チェック弁１７１が閉位置にあ
る場合は、選択液は第１フィルタ１５９および第２フィルタ１６１を通過し、第
１流体輸送ライン１５３および第２流体輸送ライン１６５内を流動し、選択液貯
蔵器１５１に帰還する。第２のチェック弁１６９が閉位置にあって、第３チェッ
ク弁１７１が開位置にある場合は、選択液は第１フィルタ１５９、第２フィルタ
１６１、第３フィルタ１７５を通過し、第１流体輸送ライン１５３および第３流
体輸送ライン１６７内を流動し、ノズル１８５を通過する。第２のチェック弁１
６９および第３のチェック弁１７１のうち少なくとも一方がいつでも開状態にあ
るため、濾過作用は停止することはなく、選択液は実質的に継続的にフィルタの
うちの２つまたは３つを渡って循環する。選択液中の汚染物粒子の大半は第１ラ
インから第２ラインへの流体順路内で除去される。これら以外の汚染物粒子が存
在している場合は、分流器として作用して既に濾過された選択液の選択された部
分を除去して次の濾過処理に備える第１ラインから第３ラインへの流体順路によ
り除去される。
【００２２】
図６は、相当な期間の活動停止状態の後に選択液（SL）搬送装置が始動された
場合に発現する汚染物粒子の「スパイク」を抑制または除去する装置を例示して
いる。選択液貯蔵器１９１は選択液流体ライン１９３により選択液源１９５から
供給を受ける。選択液貯蔵器１９１は、不活性ガスライン１９７に受容された、
不活性ガス源１９９からの不活性ガスにより加圧されている。選択液貯蔵器はノ
ズルまたはそれ以外の液体出口端末２０１を有しており、選択液が制御可能な割
合で搬送され、物体を洗浄し、かつ／または、物体を乾燥させることができるよ
うにしている。開放部２０５と不透明部２０７を有している液体流マスク２０３
がノズル２０１に隣接して配置され、モータまたは他の手動式または自動式のマ
スク移動機構２０９により、選択液の流れの通常の方向を横断する方向に可動で
ある。方向付けをし直された選択液は、選択液源１９５に帰還する前に、１枚以
上の選択液フィルタ２０８を通過させられる。マスク２０３はカメラの焦点平面
シャッターの動作に類似する態様で作用し、ゴアテックスのような比較的不活性
な材料から作成されているのが好ましい。これ以外の液体リダイレクション（re
direction）手段を用いて、（特殊な）選択液フィルタを通る初期量の選択液を
方向付け、システムが最初に始動された時に発現する汚染物粒子の「スパイク」
の大半または全部を除去することができる。 選択液貯蔵器１９１を一部品として備えている選択液搬送装置が、相当な期間
、未使用の状態が続いた後で始動された時に、初期の選択液の流れに干渉して方
向付けし直すために、マスク２０３の不透明部分がノズル２０１を横断して位置
決めされる。最初に流れる（システムが始動された直後の）選択液はその中に常
態よりも多数の汚染物粒子を有している可能性があり、汚染物粒子は、先行する
非活動時の間に選択液搬送装置（選択液貯蔵器、選択液搬送ラインなど）に蓄積
されている可能性がある。この初期の選択液流中の選択液は別個の液体濾過シス
テム（図６には示されていない）を通して方向付けし直され、常態よりも多数の
汚染物粒子を液体から除去するのが好ましい。２秒ないし３秒程度の短さであっ
てもよいし、また、60秒から120秒程度の長さであってもよいが、選択された期
間の後、マスク２０３は運動機構２０９により横断方向に移動させられて、マス
ク２０３の開放部２０５をノズル２０１からの選択液流の正常経路に位置決めす
る。この時点で、選択液は選択液貯蔵器１９１からノズル２０１を通って流れ、
更に選択液搬送用の通常のチャネルを通って、物体を洗浄し、かつ／または、物
体を乾燥させる。
場合に発現する汚染物粒子の「スパイク」を抑制または除去する装置を例示して
いる。選択液貯蔵器１９１は選択液流体ライン１９３により選択液源１９５から
供給を受ける。選択液貯蔵器１９１は、不活性ガスライン１９７に受容された、
不活性ガス源１９９からの不活性ガスにより加圧されている。選択液貯蔵器はノ
ズルまたはそれ以外の液体出口端末２０１を有しており、選択液が制御可能な割
合で搬送され、物体を洗浄し、かつ／または、物体を乾燥させることができるよ
うにしている。開放部２０５と不透明部２０７を有している液体流マスク２０３
がノズル２０１に隣接して配置され、モータまたは他の手動式または自動式のマ
スク移動機構２０９により、選択液の流れの通常の方向を横断する方向に可動で
ある。方向付けをし直された選択液は、選択液源１９５に帰還する前に、１枚以
上の選択液フィルタ２０８を通過させられる。マスク２０３はカメラの焦点平面
シャッターの動作に類似する態様で作用し、ゴアテックスのような比較的不活性
な材料から作成されているのが好ましい。これ以外の液体リダイレクション（re
direction）手段を用いて、（特殊な）選択液フィルタを通る初期量の選択液を
方向付け、システムが最初に始動された時に発現する汚染物粒子の「スパイク」
の大半または全部を除去することができる。 選択液貯蔵器１９１を一部品として備えている選択液搬送装置が、相当な期間
、未使用の状態が続いた後で始動された時に、初期の選択液の流れに干渉して方
向付けし直すために、マスク２０３の不透明部分がノズル２０１を横断して位置
決めされる。最初に流れる（システムが始動された直後の）選択液はその中に常
態よりも多数の汚染物粒子を有している可能性があり、汚染物粒子は、先行する
非活動時の間に選択液搬送装置（選択液貯蔵器、選択液搬送ラインなど）に蓄積
されている可能性がある。この初期の選択液流中の選択液は別個の液体濾過シス
テム（図６には示されていない）を通して方向付けし直され、常態よりも多数の
汚染物粒子を液体から除去するのが好ましい。２秒ないし３秒程度の短さであっ
てもよいし、また、60秒から120秒程度の長さであってもよいが、選択された期
間の後、マスク２０３は運動機構２０９により横断方向に移動させられて、マス
ク２０３の開放部２０５をノズル２０１からの選択液流の正常経路に位置決めす
る。この時点で、選択液は選択液貯蔵器１９１からノズル２０１を通って流れ、
更に選択液搬送用の通常のチャネルを通って、物体を洗浄し、かつ／または、物
体を乾燥させる。
【００２３】
図７は改良型の噴霧生成装置を例示している。選択液貯蔵器２１３からの選択
液（SL）の比較的大きな滴２１１が１本以上の流体輸送ライン２１５により搬送
され、好適な固体受容体２１７の露出面上に堆積される。流体輸送ライン２１５
は0.1ml/分から10ml/分の選択液流速を可能にするのが好ましい。選択液滴の寸
法は、選択液の表面張力により許容される程度に小さいか、或いは、所望に応じ
て、それよりも大きくてもよい。固体受容体２１７は、窒化シリコン（Si3N4)、
窒化シリコン水酸化物（SixNyHz）、または、これら以外の好適な材料の化学的
に不活性の材料であるのが好ましい。固体受容体２１７は、一面または底面が圧
電（PZT）クリスタル２１９と連続している。圧電クリスタル２１９は、２個以
上の電極２２１Ａおよび２２１Ｂにより電気駆動され、これら電極は交流電圧素
子２２３により駆動される。交流電圧素子２２３は20kHzから5,000kHzの範囲の
、また、20kHzから750kHzの範囲であるのがより好ましい１種以上の周波数の交
流電圧を供与するのが好ましい。 圧電クリスタル２１９が印加された交流電圧に応じて膨張および収縮すると、
固体受容体２１７が振動し、選択液２１１の堆積滴が、直径が好ましくは１μm
から50μmの範囲にある多数のより小型の（噴霧）粒子２２５へと分離される。
これら小型の噴霧粒子２２５は固体受容体２１７から逃れ、或いは、別途そこか
ら離れ、実質的には物体を洗浄し、かつ／または、物体を乾燥させるために使用
される。圧電クリスタル２１９の駆動周波数ｆが増大すると、この装置により生
成される噴霧粒子の平均直径は減少するべきである。
液（SL）の比較的大きな滴２１１が１本以上の流体輸送ライン２１５により搬送
され、好適な固体受容体２１７の露出面上に堆積される。流体輸送ライン２１５
は0.1ml/分から10ml/分の選択液流速を可能にするのが好ましい。選択液滴の寸
法は、選択液の表面張力により許容される程度に小さいか、或いは、所望に応じ
て、それよりも大きくてもよい。固体受容体２１７は、窒化シリコン（Si3N4)、
窒化シリコン水酸化物（SixNyHz）、または、これら以外の好適な材料の化学的
に不活性の材料であるのが好ましい。固体受容体２１７は、一面または底面が圧
電（PZT）クリスタル２１９と連続している。圧電クリスタル２１９は、２個以
上の電極２２１Ａおよび２２１Ｂにより電気駆動され、これら電極は交流電圧素
子２２３により駆動される。交流電圧素子２２３は20kHzから5,000kHzの範囲の
、また、20kHzから750kHzの範囲であるのがより好ましい１種以上の周波数の交
流電圧を供与するのが好ましい。 圧電クリスタル２１９が印加された交流電圧に応じて膨張および収縮すると、
固体受容体２１７が振動し、選択液２１１の堆積滴が、直径が好ましくは１μm
から50μmの範囲にある多数のより小型の（噴霧）粒子２２５へと分離される。
これら小型の噴霧粒子２２５は固体受容体２１７から逃れ、或いは、別途そこか
ら離れ、実質的には物体を洗浄し、かつ／または、物体を乾燥させるために使用
される。圧電クリスタル２１９の駆動周波数ｆが増大すると、この装置により生
成される噴霧粒子の平均直径は減少するべきである。
【図１】
本発明を実施するための好適な装置の一実施形態を例示し、物体がチャンバー
内の洗浄液中に沈められた状態を示す図である。
内の洗浄液中に沈められた状態を示す図である。
【図２】
図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄは本発明と併用するのに好適な噴霧生成振動
ノズルの概略図であり、図２Ｅは図２Ｄの装置と併用するのに好適である、不活
性ガスのプレナム圧力の経時変化を例示するグラフである。
ノズルの概略図であり、図２Ｅは図２Ｄの装置と併用するのに好適である、不活
性ガスのプレナム圧力の経時変化を例示するグラフである。
【図３】
図１の装置を例示し、洗浄液の一部がチャンバーから排液された状態を示す図
である。
である。
【図４】
本発明の方法の一実施形態のフローチャートである。
【図５】
本発明による、選択された液の断続濾過装置の概略図である。
【図６】
本発明による、噴霧生成搬送システムと併用することができる開閉調節装置の
概略図である。
概略図である。
【図７】
本発明による、噴霧生成装置の概略図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０５Ｃ 15/00 Ｂ０５Ｃ 15/00 ４Ｆ０４０
Ｂ０５Ｄ 1/18 Ｂ０５Ｄ 1/18 ４Ｆ０４２
3/10 3/10 Ｆ
3/12 3/12 Ｆ
Ｂ０８Ｂ 3/12 Ｂ０８Ｂ 3/12 Ｄ
Ｆ２６Ｂ 21/14 Ｆ２６Ｂ 21/14
Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３Ｄ
６４８ ６４８Ｊ
６５１ ６５１
６５１Ｈ
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ
，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，
ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ
Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ
)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，
ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，
ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，Ｃ
Ｚ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ
，ＧＭ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，
ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，Ｌ
Ｕ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ
，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，
ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，Ｕ
Ｇ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ
Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BB03 BB22 BB32
BB85 BB92 BB95 CC11
3L113 AA03 AC26 AC67 BA34
4D074 AA09 BB02 DD04 DD21 DD31
4D075 AA01 AA74 AA76 AB03 AB41
BB12X BB13X BB24Z BB65Z
DC21 EA05
4F033 PA01 PA08
4F040 AA12 AB13 AB16 BA42 DB10
4F042 AA06 CC04 CC07 DA01 DA08
DE01
【要約の続き】
に始動された際に（再起動された際に）発現する汚染物
粒子の「スパイク」の大半を除去する。噴霧粒子生成の
ための改良された表面が設けられる。
Claims (45)
- 【請求項１】 物体を乾燥させる処理と物体を洗浄する処理のうち少なくと
も一方を実施する装置であって、装置は、 乾燥されるべき選択された物体を受容し包含する閉鎖チャンバーを備えており
、閉鎖チャンバーは、選択された物体を閉鎖チャンバー内に設置し、また、閉鎖
チャンバーから除去することができるようにする開放可能な入口通路を有し、閉
鎖チャンバーは、選択された表面張力を有している洗浄液を閉鎖チャンバー内に
搬送する洗浄液源と流体連絡状態にある第１開口を有して、選択された物体が洗
浄液中に部分的または十分に沈めるようにし、閉鎖チャンバーは、第１の選択さ
れた体積流量の範囲で存在している体積流速ｒ１で洗浄液を閉鎖チャンバーから
出すことができるようにする第２の開口を有しており、 ヘッド軸線を有し、かつ、閉鎖チャンバーと流体連絡状態にある第３の開口を
有しており、洗浄液の表面張力よりも実質的に低い表面張力を有している選択さ
れた液体を受容する振動ヘッドを更に備えており、振動ヘッドは、第２の選択さ
れた体積流量の範囲で存在している体積流速ｒ２で選択された液体を受け取り、
選択された液体に閉鎖チャンバー内で噴霧粒子を形成させるようにしたことを特
徴としている、装置。 - 【請求項２】 前記振動ヘッドに隣接して１つ以上の選択された方向に不活
性ガスを導入するように位置決めされている不活性ガス源を更に備えており、不
活性ガス源が存在していない場合の前記噴霧粒子の移動に対して、振動ヘッドの
軸線に対する増大した角度で振動ヘッドから離れる方向に噴霧粒子を移動させる
ようにした、請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記チャンバー内部に位置決めされて、前記振動ヘッドに残
って実質的に振動ヘッドの前記軸線に平行に移動している粒子を受け取るように
したマスクを更に特徴とする、請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】 前記振動ヘッドに隣接して制御可能な経時変化するガス圧で
不活性ガスを導入することができるようにする圧力調節装置を前記不活性ガス源
が有していることを更に特徴とする、請求項２に記載の装置。 - 【請求項５】 ガス圧が或る時間のうちで概ね周期的である経時変化するこ
とを更に特徴とする、請求項４に記載の装置。 - 【請求項６】 前記振動ヘッドが10kHz≦ｆ≦10,000kHzの範囲にある少なく
とも１つの周波数で振動することを特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項７】 少なくとも１つの噴霧粒子の直径ｄが10μm≦ｄ≦50μmの範
囲で存在するように前記周波数ｆが選択されていることを特徴とする、請求項６
に記載の装置。 - 【請求項８】 前記振動ヘッドが20kHz≦ｆ≦80kHzの範囲にある少なくとも
１つの周波数で振動することを更に特徴とする、請求項６に記載の装置。 - 【請求項９】 前記選択された液体が前記選択された物体には化学的に実質
的に無反応であることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項１０】 前記選択された液体が、イソプロピルアルコール、エチル
アルコール、メチルアルコール、テトラヒドロフラン、過フルオロヘキサン、ヘ
キサン、エーテルから構成される実質的に無反応性液の範疇から採択されること
を特徴とする、請求項９に記載の装置。 - 【請求項１１】 前記閉鎖チャンバー内の前記洗浄液の深さが３mm/秒と１
０mm/秒の間の割合で減少するように前記第１の選択された範囲の流速ｒ１が選
択されていることを特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項１２】 前記第２の選択された範囲の前記流速ｒ２が１ml/分≦ｒ
２≦５ml/分の範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項１３】 前記選択された液体が５psi≦ｐ≦５０psiの範囲にある圧
力ｐで前記閉鎖チャンバー内に受容されることを特徴とする、請求項１に記載の
装置。 - 【請求項１４】 前記選択された液体の液源が前記振動ヘッドに接続され、
かつ、前記閉鎖チャンバーの外部に設置されていることを更に特徴とする、請求
項１に記載の装置。 - 【請求項１５】 前記選択された液体の前記液源が前記閉鎖チャンバーから
少なくとも１メートル離して配置されていることを更に特徴とする、請求項１４
に記載の装置。 - 【請求項１６】 前記選択された液体の前記液源が、わずか２５ml程度の体
積Ｖの選択された液体を保有していることを特徴とする、請求項１４に記載の装
置。 - 【請求項１７】 粒子拡散手段が前記閉鎖チャンバー内部の前記振動ヘッド
附近に配置されて、前記噴霧粒子が振動ヘッドから離れる方向に移動するにつれ
て、閉鎖チャンバー内で噴霧粒子を拡散させることを更に特徴とする、請求項１
に記載の装置。 - 【請求項１８】 前記粒子拡散手段が２０℃≦Ｔ≦１００℃の範囲にある温
度Ｔに維持された加圧ガス源を有しており、また、粒子拡散手段は、前記噴霧粒
子が、前記振動ノズルから離れる方向に移動するにつれて、方向を変えるように
、加圧ガスを方向付けるガス方向付け手段を更に有していることを更に特徴とす
る、請求項１７に記載の装置。 - 【請求項１９】 前記選択された液体の相を変化させなくても、前記噴霧粒
子の実質的に全部が前記閉鎖チャンバー内で形成されることを更に特徴とする、
請求項１に記載の装置。 - 【請求項２０】 １秒あたり２ジュールより低いエネルギー消費で、前記噴
霧粒子が前記閉鎖チャンバー内に形成されることを更に特徴とする、請求項１に
記載の装置。 - 【請求項２１】 実質的に不活性なガスのガス源と、 前記閉鎖チャンバーに設けられ、加熱された不活性ガス源に接続されており、
加熱された不活性ガス源から閉鎖チャンバー内に不活性ガスを入れる第４の開口
と、 前記閉鎖チャンバーに設けられ、前記第４の開口と同一であってもよく、閉鎖
チャンバー内の不活性ガスを閉鎖チャンバーから出すことができるようにした第
５の開口とを備えていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項２２】 実質的に不活性なガスの第２ガス源と、 前記閉鎖チャンバーに設けられ、第２の不活性ガス源に接続されており、第２
の不活性ガス源から閉鎖チャンバー内に第２の不活性ガスを入れる第４の開口と
、 前記閉鎖チャンバーに設けられ、前記第４の開口と同一であってもよく、閉鎖
チャンバー内の第２の不活性ガスを閉鎖チャンバーから出すことができるように
した第５の開口と、 第２の不活性ガス源に接続されており、第２の不活性ガスが閉鎖チャンバーに入
るのを許容および制御し、また、前記洗浄液が閉鎖チャンバーから出て行ってい
る間に、閉鎖チャンバー内の総ガス圧を外部環境の圧力附近に維持し、或いは、
それ以上に維持するガス入口手段を更に備えていることを更に特徴とする、請求
項１に記載の装置。 - 【請求項２３】 前記選択された液体の貯蔵器と、 選択された液体の貯蔵器に接続され、実質的に継続的に作動されて選択された
液体から汚染物粒子を濾過除去し、濾過処理後の選択された液体の大半または全
部を選択された液体の貯蔵器に帰還させる液体濾過手段とを更に備えていること
を更に特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項２４】 前記第１の液体濾過手段に接続されており、前記濾過処理
された選択された液体の選択された部分を受け取り、受け取った液体を更に濾過
処理する第２の液体濾過手段と、 第２の液体濾過手段からの液体を受容する第２の貯蔵器を更に備えており、第
１の選択された液体の貯蔵器と第２の選択された液体の貯蔵器のうちの少なくと
も一方が前記振動ヘッド用に選択された液体を供与することを更に特徴とする、
請求項２３に記載の装置。 - 【請求項２５】 活動停止期間の後に前記装置が始動されると、選択された
期間、前記選択された液体の全ての流れの方向を調節し直し、選択された期間の
後に、選択された液体が干渉を受けずに流動することができるようにする液体流
れ偏向装置と、 流れ偏向装置から選択された液体を受け取って濾過する濾過手段とを更に備え
ていることを更に特徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項２６】 前記振動ヘッドは、 前記選択された液体の少なくとも１滴を受けて振動する面を含み、選択された
液体の噴霧粒子を生成する選択された固体材料の塊を有しており、選択された固
体材料は窒化シリコンおよび窒化シリコン水酸化物から構成された固体材料の範
疇から採択されており、 選択された固体材料の塊に接触して位置決めされ、交流電圧源に接続され、選
択された固体材料の塊に振動を生じる圧電クリスタルを更に有していることを特
徴とする、請求項１に記載の装置。 - 【請求項２７】 物体を乾燥させる処理と物体を洗浄する処理のうち少なく
とも一方を実施する方法であって、この方法は 乾燥されるべき選択された物体を閉鎖チャンバーに設置する工程と、 十分な量の、選択された表面張力を有している洗浄液を閉鎖チャンバーに入れ
て、選択された物体が洗浄液中に部分的または十分に沈められるようにする工程
と、 洗浄液の表面張力よりも実質的に低い表面張力を有している選択された液体を
、選択された体積流量の範囲にある体積流速ｒ２で閉鎖チャンバーに入れる工程
と、 閉鎖チャンバー内で選択された液体の噴霧粒子を形成する工程と、 噴霧粒子の一部により洗浄液の露出面上に選択された液体の膜を形成すること
ができるようにする工程と、 選択された体積流量の範囲にある体積流速ｒ１で閉鎖チャンバーから洗浄液を
排出させ、選択された液体の膜が選択された物体の露出面上に形成されるように
する工程と、 選択された液体の膜により選択された物体の露出面上の洗浄液を追い出すよう
にする工程とを特徴とする、方法。 - 【請求項２８】 前記噴霧粒子に向けて１つ以上の方向に不活性ガスを方向
付けて、不活性ガス源が存在していないときの前記噴霧粒子の移動に対して、選
択された方向に対する増大した角度で、選択された方向から離れる方向へ噴霧粒
子にチャンバー内を移動させる工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法
。 - 【請求項２９】 前記選択された方向に前記チャンバー内を移動する、少な
くとも１個の前記噴霧粒子を除去する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載
の方法。 - 【請求項３０】 制御可能な経時変化するガス圧で不活性ガスを導入する工
程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。 - 【請求項３１】 前記経時変化するガス圧を変化させて、或る時間のうちで
は概ね周期的であるガス圧を生成する工程を更に特徴とする、請求項３０に記載
の方法。 - 【請求項３２】 噴霧粒子を形成する前記工程は、10kHz≦ｆ≦10,000kHzの
範囲にある選択された周波数ｆで振動する振動ノズルを前記選択された液体に通
過させることを更に特徴とする、請求項２７に記載の方法。 - 【請求項３３】 前記周波数ｆを20kHz≦ｆ≦80kHzの範囲に入るように選択
する工程を更に特徴とする、請求項３２に記載の方法。 - 【請求項３４】 少なくとも１個の前記噴霧粒子の直径ｄ(sel）が１０μm
≦ｄ(sel）≦５０μmの範囲に入るように前記周波数ｆを選択する工程を更に特
徴とする、請求項３２に記載の方法。 - 【請求項３５】 前記選択された物体と化学的に実質的に無反応であるよう
に前記選択された液体を選択する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の方
法。 - 【請求項３６】 イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアル
コール、テトラヒドロフラン、アセトン、過フルオロヘキサン、ヘキサン、エー
テルから構成される実質的に無反応性の液体の範疇から前記選択された液体を選
択する工程を更に特徴とする、請求項３５に記載の方法。 - 【請求項３７】 前記閉鎖チャンバー内の前記洗浄液の深さが３mm/秒と１
０mm/秒の間の割合で減少するように前記流速ｒ１を選択する工程を更に特徴と
する、請求項２７に記載の方法。 - 【請求項３８】 前記第２の選択された範囲１ml/分≦ｒ２≦５ml/分に存在
するように前記流速ｒ２を選択する工程を更に特徴とする、請求項２７に記載の
方法。 - 【請求項３９】 前記選択された液体の相を変化させずに、前記噴霧粒子の
実質的に全てを前記閉鎖チャンバー内で形成する工程を更に特徴とする、請求項
２７に記載の方法。 - 【請求項４０】 １秒あたり２ジュールよりも少ないエネルギー消費で、前
記噴霧粒子を前記閉鎖チャンバー内で形成する工程を更に特徴とする、請求項２
７に記載の方法。 - 【請求項４１】 前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出された後で、実
質的に全てのガスを閉鎖チャンバーから除去する工程を更に特徴とする、請求項
２７に記載の方法。 - 【請求項４２】 前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出された後で、加
熱された、選択されたパージガスに閉鎖チャンバーを通過させる工程を更に特徴
とする、請求項４１に記載の方法。 - 【請求項４３】 前記洗浄液が前記閉鎖チャンバーから排出されている時に
、選択された置換ガスを閉鎖チャンバーに入れる工程と、 選択された置換ガスを閉鎖チャンバーに入れる流速を制御して、洗浄液が閉鎖チ
ャンバーから排出されている間、閉鎖チャンバー内の総ガス圧が外部環境の圧力
に近くなる、或いは、それより高くなるようにする工程を更に特徴とする、請求
項２７に記載の方法。 - 【請求項４４】 前記選択された液体を実質的に継続して濾過し、選択され
た液体から汚染物粒子を除去し、濾過処理後の選択された液体の大半または全部
を選択された液体用の貯蔵器に帰還させる工程を更に特徴とする、請求項２７に
記載の方法。 - 【請求項４５】 前記濾過された、選択された液体の選択された部分を受け
取り、受け取った液体を更に濾過処理する工程と、 更に濾過された、選択された液体を用いて、前記噴霧粒子を形成する工程とを更
に特徴とする、請求項４４に記載の方法。
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