JP2003517463A - H2o2、酸および金属イオンに基づく消毒組成物 - Google Patents

H2o2、酸および金属イオンに基づく消毒組成物

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 特に消毒、衛生及び汚染除去の分野に有用である一方で、他方表面処理分野(特に洗浄、ストリッピング及び/または不動態化)でも有用な水性酸化組成物及びこの組成物の製造方法の提供。 【解決手段】 この組成物は、水中に過酸化水素、RCO2H/RCO3H混合物(式中のRは直線状または分岐状の、飽和または不飽和型の炭化水素をベースとした鎖を含むC1−C6脂肪族残基である)及び酸である安定化剤、及び適当な場合にはAg+イオンを含み、それがAgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoV I、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンである少なくとも1種類の金属Mのイオンを含み、AgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを提供する供給源Lが、100gの銀(即ち157gのAgNO3)及び1リットルの脱ミネラル水より出発し、得られたAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag3+イオンの濃度が1000mVより大きな酸化還元電位を与えることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 [技術分野] 本発明は新規工業製品としての、H22、酸及びAgII、AgIII、VV、Nb V 、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンに基づく水性
組成物、特にゲル形状の組成物に関する。発明はまた調整工程、特に前記イオン
がAg2+である調整工程、および一方では消毒、衛生および/または汚染除去分
野での、そしてもう一方では表面処理(特に洗浄、ストリッピングおよび/また
は不動態化)での本組成物の利用に関する。
【0002】 [背景技術] 最も関連性のある従来技術は特許書類第WO−A−96/18301号である
。本書公開前、いくつかが過酸化水素及びRCO2H/RCO3H型(式中のRは
必ずCH3またはCH3CH2型である)のカルボン酸/カルボキシルペル酸混合
物である(この目的に関しては具体的にはEP−A−0 370 850, E
P−A−0 193 416, EP−B−0 087 343, FR−A−
2 321 301及びFR−A−2 321 302を参照)であり、そして
その他が過酸化水素とAg+イオンを含むものである水性消毒組成物が既に過去
提案されており、そして前記水性消毒組成物はいずれも強酸(本質的にH3PO4 )により安定化される。
【0003】 これら従来水性消毒組成物、即ち(i)H22+RCO2H/RCO3H+H3
PO4型の組成物、および(ii)H22+Ag++H3PO4型の組成物は、細菌
およびカビの一部の株、特にPenioillium verrucosumの
一部の株に対し効果がない点で不十分であった。
【0004】 より新しいより効果的な技術(特に上記2種類の消毒組成物に対し耐性である
Penicillium verrucosumniの前記株に関する)は、参
照されここに組み込まれている上記第WO−A−96/18301号に記述され
ている。WO−A−96/18301号によれば、推奨の技術は水に次のものを
含む水性の消毒、衛生そして汚染除去組成物を利用する; (A)H22 (B)RCO2H/RCO3H混合物(式中のRは必ずCH3またはCH3CH 2型である) (C)Ag+イオン源となる銀成分、および (D)安定化剤(主にH3PO4)。 成分A+B+C+Dを含む水性組成物の相乗効果を示しているWO−A−96/
18301号の表IXは、成分A+B+DとA+C+Dを含む水性組成物とを比
較している。
【0005】 WO−A−96/18301号による水性溶液は細菌、カビ、ウイルス及び顕
微鏡的藻類の様な微生物を阻害すること、またはさらに望まれる破壊すること、
具体的にはそれらの壁をもろくさせて破壊すること、特にそのバイオフィルムを
分解すること、それら壁に孔をあけること、または体内細胞へのそれらの侵入を
阻止することで、又はそれらの毒素から前記細胞を保護することに関して十分迅
速とはいえないことが分かる。
【0006】 さらに一方でH3PO4存在下の濃縮水性銀溶液(即ち上記成分C)の調整に関
するものであり、その一方で結果として銀および過酸化水素の濃縮水溶液(即ち
A+C+Dを含む水溶液)を安定化させるものであるGB−A−2 189 3
94号記載の方法はAg2+イオンの産生、又はAg3+イオンの産生をもたらさな
い。
【0007】 具体的には: −強鉱酸(pH<1.6)を銀成分(銀塩または銀錯体)を50−60℃にて、 強鉱酸/銀成分モル比が1/1以上になる様に混合すること; −得られた混合液を温度25−30℃まで冷却し、安定化有機酸を随意のゼラチ ンと共に加えること;および −得られた混合液にH22を取り込ませること、 を含む工程を推奨しているGB−A−2 189 394号は、一方で強酸媒体
中にAg+イオンを与える銀(I)化合物を引用し(1ページ、46−50行参
照)、これら化合物は銀(I)塩および銀(I)錯体塩、即ちAgNaCl2
あるが、もう一方で塩基性媒体にのみ可溶性である銀(II)及び(III)化
合物を引用しており、これら化合物は強酸媒体中では主に微細金属銀を提供する
酸化銀(II)及び(III)化合物である。
【0008】 より具体的には、酸性媒体中では酸化銀(I)、(II)および(III)は
固体産物を表す次の反応を生起する: (1)Ag2O(S)+2H++2e→2Ag(s)+H2O (2)2AgO(S)+2H++2e→2Ag2O(s)+H2O (3)Ag23(S)+2H++2e→2AgO(s)+H2
【0009】 H22と銀成分を直接接触させる(強酸安定化剤なしに)と爆発を起こしやす
いため、本発明により有用であるAg2+イオンを得るためにはGB−A−2 1
89 394号に推奨されるものと異なる工程を使用すべきである。
【0010】 同じ理由より、WO−A−96/18301号に記載の方法は、反応: Ag+→Ag2++eによる酸性媒体中に於ける銀(I)から銀(II)への酸化
を許さない。
【0011】 US−A−5 017 295号及びUS−A−5 078 902号より、
Ag2+イオンはAg+イオンに比べ殺菌剤としてより活性であることが知られて
いる。現在これら2明細書に記載の方法が、上記反応(2)に関して酸化銀(I
I)が酸性媒体中では酸化銀(I)の沈殿を生ずることから、Ag2+又はAg2+ +Ag3+イオンの産生を促進しないことが知られている。即ち、US−A−5
017 295号の実施例1及びUS−A−5 078 902号の実施例1及
び2に概略述べられている反応、即ち: 3AgO+2H3PO4→Ag3(PO42+3H2O、 AgO+2HNO3→Ag3(NO32+H2O、及び AgO+2HCl→AgCl2+H2O、 は生じ得ない。更に、US−A−5 078 902号の実施例2に示されてい
る、アルカリ媒体中でのAgOの溶解、続く過酸化水素を提供できる酸化源[即
ちオキソン(Na22)]の添加[この添加はアルカリ媒体中(即ち、H22
還元剤として介入する条件下)に実施される]を含むAg2+イオンを得るための
別の方法を再現すると、得られたAg2+イオンの濃度は極めて低く、Ag+及び
Ag2+を含む水溶液の酸化還元電位は常に650mV(298Kにて)より小さ
くなる。即ち、US−A−5 017 295号及びUS−A−5 078 9
02号によれば、Ag2+イオンに関し記載される有益効果は明白ではない。
【0012】 最終的にUS−A−3 702 298号は殺菌手段としてのAg3+イオンの
利用を提言している。しかし効果的に得られたAg++Ag2++Ag3+の混合物
は0.15mVないし0.4mVの酸化還元電位を有しており、これは本発明に
よる所望電位1000mV以上に比べ遙かに低いものである。
【0013】 ヒト及び温血動物ではモリブデンは肝臓に局在するキサンチン酸化酵素、アル
デヒド酸化酵素や亜硫酸酸化酵素の様な解毒酵素の補酵素になることも知られて
いる。Moはプリン塩基の尿酸への変換に必須であり、それは鉄の小腸吸収と体
内のフッ素保持を促進する。
【0014】 US−A−4 995 987号からはモリブデン酸塩及びタングステン酸塩
イオンが、殺菌剤と組み合わせた、硫酸塩還元細菌の増殖を阻害する作用物質と
して提案されていることも知られている。US−A−4 995 987号の明
細書は本発明の課題を既述も、また示唆もしていない。
【0015】 金属表面処理の分野、特に金属表面のストリッピングおよび/または不動態化
では、クロム酸、クロム酸塩、硝酸といった通常の酸化手段は環境に危害を及ぼ
す製品であると考えられている。
【0016】 US−A−4 537 778号は更に、0.5−5重量%のH22、3−15
重量%のエタノール、0.5−2重量%のポリオキシエチレン化ポリオキシポリ
エチレングリコール型の非イオン性水溶性界面活性剤、ポリオキシエチレン化ソ
ルビトールを含む0.3−2重量%のC10−C18脂肪酸モノエステルの様な非イ
オン性水溶性界面活性剤、甘味剤及び芳香剤を含む水性の口腔洗浄剤または口腔
濯ぎ剤を開示する。この化合物はそれぞれ増粘剤又はゲル化剤を使いペースト又
はゲルの形に製造されるだろう。ゲル化剤としてはゴム(キサンタンガム又はガ
ーゴム)、US−A−2 798 053号に記載のカルボキシル基共重合体又
は70%ないし20%の疎水性基と30%ないし80%の親水性基を含むPLU
RONICR型ポリオールがあり、好ましいゲル化剤はPLURONICR127
である(コラム4,28−29行、コラム5、34行および49行、ならびにコ
ラム6、5−6行を参照)。現在この様な、有機ポリマー型のゲル化剤は高酸化
還元電位(特に酸化還元電位が800mV以上)の組成物を酸化することにより
、多少早く(数分から数日の範囲内で)分解されることが分かっている。
【0017】 最終的にDE−A−2 659 462号は特異的シリカゲル、即ち通常医薬
品分野に使用されるが高酸化条件では利用されたことのないケイ酸ハイドロゲル
を含む医薬品組成物を開示している。
【0018】 すなわち従来技術は、最大値に近く(特にAgIIの場合)またはまで(AgII I 、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIの場合
)酸化された金属を含むイオンの、消毒組成物又は表面処理用組成物への有効な
利用を記載または提言していない。
【0019】 従来技術の上記欠点を克服することが求められる一方で、従来技術の教示に比
較して有効かつ予想外である新規の技術的解決法を提供することが望まれている
【0020】 発明の第1の観点によれば、WO−A−96/18301号により推奨されて
いる技術的解決法に比べ作用の速度に関してより有効である、消毒及び/又は表
面処理の問題に関する新規の技術的解決法を提供することが提案される。
【0021】 第2の観点によれば、特に処理対象の面が傾斜しているか又は垂直であるとき
に、長時間活性を維持させるための長期持続作用を有する新規の技術的解決法を
提供することが提案される。
【0022】 [発明の開示] 発明による、上記目的を達成するための新規技術解決法は、特異的金属イオン
、即ちAgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIII またはTlIIIイオンの利用に基づいている。
【0023】 即ち、水性酸化組成物(I)は、一方では特に消毒、衛生及び汚染除去の分野
で、そしてもう一方では金属表面(特にそのそれを洗浄し、ストリッピングし、
そして/又は不動態化することに関して)又は非金属表面(具体的にはプラスチ
ックまたはセラミック表面の、特に洗浄及び/またはストリッピング)処理の分
野で有用であるものにあって、前記組成物は過酸化水素、RCO2H/RCO3
混合物(式中Rは直線状または分岐状の、飽和型又は不飽和型の炭化水素をベー
スとした鎖を含むC1−C6脂肪族残基であり)及び強酸である安定化剤、および
適当な場合にはAg+イオン水中に含むものであり、それがAgII、AgIII、V V 、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンを含み
、そしてAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与える供給源Lが銀100
g(即ち157gのAgNo3)と1リットルの脱イオン水から出発し、得られ
た溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag3+イオン濃度が1000mV
以上の酸化還元電位を提供する様なものであることを特徴とする組成物である。
【0024】 より具体的には、発明による組成物(I)は、それが水中に: (A)H22; (B)RCO2H/RCO3H混合物(式中Rは直線状または分岐状の、飽和型 又は不飽和型の炭化水素をベースとした鎖を含むC1−C6脂肪族残基で あり) (C)供給源Lに由来し、次のものより成るセットから選択された金属イオン: (1)AgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、 InIIIまたはTlIIIイオンである金属Mのイオン (2)Ag+イオンと前記金属Mのイオンの組合せ、及び (3)その混合物; 供給源LはAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与え、銀100g( 即ち157gのAgNo3)と1リットルの脱イオン水から出発し、得られ た溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag3+イオン濃度が100 0mV以上の酸化還元電位を提供するものである;及び (D) 酸である安定化剤。
【0025】 本組成物はそれ自体既知である方法により調整されるだろう。ここで推奨され
る工程は次の段階を含む: (a)以下のセットから選択された金属イオンを与える供給源Lの水溶液を 利用する段階; (1)AgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoII I、InIIIまたはTlIIIイオンである金属Mのイオン (2)Ag+イオンと前記金属Mのイオンの組合せ、及び (3)その混合物; 供給源LはAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与え、銀100g (即ち157gのAgNo3)と1リットルの脱イオン水から出発し、得 られた溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag3+イオン濃度が 1000mV以上の酸化還元電位を提供するものである; (b)前記容積に安定化剤を加える段階: (c)上記により得られた前記溶液を過酸化水素水内に加えるか、又は過酸 化水素水を前記得られた溶液に加える段階; (d)上記により得た溶液に、式中のRが上記の規定通りであるRCO3H 、RO2H又はRO2H+RCO3Hの混合物を加える段階; (e)上記により得た溶液を平衡H22+RCO2H←→H2O+RC O3Hが確立されるまで放置する段階;及び (f)水にて100重量%に整える段階。
【0026】 Ag2+イオン及び適当な場合にはAg3+を含む、発明による組成物を調整する
工程は、次より成る段階を含むことを特徴とする: (1°)Ag+イオン供給源として機能する銀成分の水溶液を調整する段階: (2°)1000mV以上の酸化還元電位を得るために、過硫酸塩、好ましくは 過硫酸ナトリウムNa228又は過硫酸アンモニウム(NH4)228
を用いて少なくとも一部のAg+イオンをAg2+に酸化し、脱イオン水
1リットル及び157gのAgNO3から出発し、そして濾過して存在
する不溶性物質を除く段階; (3°)上記により得た溶液に安定化剤を加える段階; (4°)上記により得られた前記溶液を過酸化水素水内に加えるか、又は過酸化 水素水を前記得られた溶液に加える段階; (5°)上記により得た溶液に、式中のRが上記の規定通りであるRCO3H、 RCO2H又はRCO2H+RCO2Hの混合物を加える段階; (6°)上記により得た溶液を平衡H22+RCO2H←→H2O+RCO3Hが
確立されるまで放置する段階;及び (7°)水にて100重量%に整える段階。
【0027】 本工程を実施する時、Ag3+イオンは少なくとも微量得られなければならない
【0028】 発明によれば、ゲル化組成物(II)も推奨され、それは以下を含むことを特
徴とする: ・上記水性組成物(I)、及び ・ゲル化剤
【0029】 実際にはゲル化組成物(II)は50ないし99.7重量%の前記水性組成物
(I)及び50ないし0.3重量%のゲル化剤を含むだろう。より具体的には、
好適ゲル化剤はポリアクリル系コロイド状シリカ、またはC10−C30アルキルア
クリレートのコポリマーであるGoodrich社製CARBOPOLRETD
2623またはポリアクリル性ホモポリマーであり同様にGoodrich社
製であるCARBOPOLR 672の様なポリアクリル型の化合物である。
【0030】 ゲル化組成物(II)の調整工程は、(i)前記組成物(I)をゲル化剤に接
触させること、(ii)得られた混合物を3ないし20分間攪拌すること、及び
(iii)得られた混合液を固形化するまで放置することから成る。
【0031】 [発明を実施するための最良の形態] 以下本文では特に記載しない限り発明による水性汚染除去組成物の各成分量は
重量%として表され、前記組成物の希釈率は希釈後の組成物の容積に対する初期
容積の比で表される。
【0032】−過酸化水素水 一般には発明による水性組成物(I)は、該組成物の重量に対し60重量%以
下の量のH22を含む。即ち、発明の組成物(I)は0.1重量%ないし60重
量%のH22を含み、使用時に希釈される(具体的にはH22濃度は4重量%以
上)。
【0033】 実際には、H22含有量が8重量%以上の過酸化水素水を使用する場合、特に
フランス及びECの規制に於いては過酸化水素の輸送は根案であることから、8
重量%より少ない、より好ましくは7.9重量%より少ないH22を含む水性組
成物(I)を提供することが望ましいだろう。
【0034】 即ち、発明の水性組成物(I)は約7.5−7.9重量%のH22を好都合に
含み、使用時に具体的には4重量%以下の最終H22濃度まで希釈されるだろう
【0035】−RCO2H/RCO3H混合物 平衡反応(4)に関して: (4) H22+RCO2H←→H2O+RCO3H 混合物RCO2H/RCO3H中のRCO2H及びRCO3Hの各量は重要ではない
。それはRCO2H/RCO3Hの組に対しH22が過剰である3要素混合物H2
2+RCO2H+RCO3Hを得るためには、水中にてH22とRCO2Hまたは
22とRCO3Hを接触せしめるだけで十分である。即ち換言すれば、平衡時
に組合せH22+RCO2H+RCO3Hを得るためには、H2O中に次を含むだ
けで十分である: (i) H22存在状態でのRCO2H、又は (ii) RCO3H(濃縮状態では一般に上記発明FR−A−2 321 3
01号及びFR−A−2 321 302号によるH22およびRCO2Hを含
む)。
【0036】 上記の如く、酸/過酸対の基Rは直線型又は分岐型、飽和または不飽和型炭化
水ベースの鎖を含むC1−C6脂肪族残基を表す。CH3:CH3CH2またはCH3 (CH24の様な飽和直線型炭化水素ベース鎖を含む基R又は具体的にはCH3
−CH=CH、CH3−CH=CH−CH2またはCH3−CH=CH−CH=C
Hの様な不飽和直線型炭化水素ベース鎖を含む基Rが好都合に利用される。
【0037】 好適基Rは(好適性を上げるため)CH3−CH=CH−CH=CH、CH3
2またはCH3である。一般には、組み合わせ CH3CO2H/CH3CO3H(即ちR=メチル)は組み合わせ CH3CH2CO2H/CH3CH2CO3H(即ちR=エチル)に比べ好ましいが、
それは第1の対が第2の対に比べ発明による水性組成物における消毒/汚染除去
手段としてより活性であるからである。
【0038】 好都合には、発明の水性組成物(I)では、過酸化水素に対する混合物RCO 2 H/RCO3Hの重量比B/Aは0.15/1ないし0.85/1であろう。好
ましくは、本重量比は0.5/1ないし0.7/1であろう。
【0039】−供給源L 供給源Lは、発明に有益なイオン、即ち金属M(即ちAgII、AgIII、VV、N
V、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオン)、Ag+
金属Mのイオンの組合せ、又はその混合物を提供するものである。
【0040】 VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンが
望まれる場合には、前記金属Mがその最大酸化状態にある塩である供給源Lが使
用されるだろう。その変形として、その酸化物が酸に可溶性である場合には、前
記金属Mの酸化物(この場合にはVV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII
InIIIまたはTlIIIの酸化物)を供給源Lに使用してもよいだろう。
【0041】 Ag2+イオンが望まれる場合には、Ag+(AgNO3またはコロイド状銀より
好都合に得られる)からAg2+への酸化が実施される。
【0042】 反応Ag+→Ag2++eに関し推奨される方法は後述される。本反応は一般に
は不完全であるため、主にAg+/Ag2+イオンの混合物を提供する[及び、適
当な場合にはAg3+イオンが少なくとも微量であるAg+/Ag2+/Ag3+イオ
ンの混合物]。
【0043】 Ag+イオンが VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたは
TlIIIイオンとの組合せで望まれる場合には、対応する2供給源より得られる
イオンが一つに混合される。
【0044】 最終的にはイオン混合物Ag+/Ag2+/VV、NbV、TaV、MoVI、WVI
CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンが望まれ、上記に如くに酸化によりそれ
ら供給源より得られたAg+/Ag2+イオンはVV、NbV、TaV、MoVI、WVI 、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンの上記供給源からのイオンと混合され
る。
【0045】 発明による好適イオンは一方でVV、MoVI、WVIおよびTlIIIイオンを含み
、他方でイオン混合物Ag+/Ag2+、Ag+/MoVI、Ag+/WVI、Ag+/T
III及びAg+/Ag2+/MoVIを含み、最も好都合なイオンはAg+/Ag2+
、Ag+/MoVI、Ag+/Ag2+/MoVI及び上記全てのMoVIイオンである。
【0046】 予想外にも、発明による水性組成物(I)を使用中に、モリブデンが銀(Ag + 又はAg+/Ag2+の形の)に比べると以下2つの好都合点を持つことが見い
だされた; −微生物に関しては銀より活性であること、及び −器具(特に歯科又は外科用器具)の冷滅菌中に、好ましくないグレー又は黒色
の銀の沈着を生じない。
【0047】 VVイオンの主要供給源はVO2 +(又は、適当な場合にはVO3-)塩であり、
NbVイオンのそれはNbO3+塩であり、MoVIイオンのそれはMoO3 2+又はM
oO4 2-塩であり、CoIIIイオンのそれはCo3+塩であり、WVIイオンのそれは
WO4 2+塩であり、TaVイオンのそれはTa5+塩であり、InIIIイオンのそれ
はIn3+塩であり、TlIIIイオンのそれはTl3+塩である。
【0048】 発明による成分Cのイオンは、一方で微生物の壁をもろくするか、またはそれ
を分解することで微生物に作用し、そして一方では酸化的手段、具体的には以下
の反応によっても作用する。 (5)VO2 ++2H++e→VO2 ++H2Oまたは、適当な場合には (5a)VO2 ++4H++e→VO2 ++2H2O (6)NbV+e→NbVIまたは (6)NbO3++2H++e→Nb3++H2O (7)MoO2 2++2H++e→MoO3++H2Oまたは (7a)MoO4 2++4H++e→MoO2 ++2H2O (8)Co3++e→Co2+(酸性媒体中) (9)In3++2e→In+ (10)Tl3++2e→Tl+
【0049】 実際には、提供可能な供給源Lに関する効率より、100gの金属Mに対応す
る量と1リットルの脱イオン水より出発して得られる、1Vより大きな酸化還元
電位を持つAgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、I
III及び/またはTlIIIイオンを含む溶液が推奨される。
【0050】 好都合には、過酸化水素に対するイオン供給源Lの重量比は0.0005/1な
いし0.015/1の範囲であり、この重量比はより好都合には0.0008/
1ないし0.005/1の範囲、更には約0.001/1である。
【0051】−安定化剤 具体的には(i)H22及び(ii)Ag+及び/又はAg2+の濃縮液を使用
した場合に、H22及び供給源Lからのイオンを保護し、そして爆発のリスクを
回避する安定化剤は、一方がH3PO4及びH2SO4(特にそれらの持つ金属表面
及び/または環境への有害作用から、硝酸および塩酸の使用には強く反対する)
の様な鉱酸であり、もう一方がピリジンカルボン酸の様な有機酸である組合せか
ら選択される。発明による好適安定化剤はH3PO4または(特に供給源LがMo VI イオンを提供する場合には)ピリジンカルボン酸である。
【0052】 ピリジンカルボン酸は次式の物質である:
【化1】 即ち、2−ピリジンカルボン酸(ピコリン酸)、3−ピリジンカルボン酸(ニコ
チン酸)及び4−ピリジンカルボン酸(イソニコチン酸)である。
【0053】 イオン供給源がAg+またはAg+/Ag2+イオンを提供する場合、適当であれ
ば少量の化合物Dの酸性安定化剤にゼラチンを加えることが好都合である。
【0054】 好都合には、過酸化水素に対する安定化剤の重量比は0.005/1ないし0
.025/1の範囲であろう。実際にはこの重量比はより好適には0.0008
/1ないし0.005/1の範囲であり、さらには約0.001/1であろう。
【0055】 −その他添加物 水性組成物(I)に、次の成分の少なくとも1つを加えてもよいだろ: (E) 湿潤剤 (F) 耐蝕剤;及び (G) 芳香剤
【0056】 ここに含まれる湿潤剤は(i)食品との接触に関し特に好適であり、適当な場
合には使用投与量に於いて飲料水との経口投与に好適であるポリオールの様な両
親媒性、両イオン性、陰イオン性、又は非イオン性界面活性化合物、又は(ii
)それら化合物の混合物である。Tagol(登録商標)2000の商品名で販
売されている製品は、両イオン性湿潤剤として本目的に好適である。
【0057】 発明の水性化合物(I)に於いては、過酸化水素に対する湿潤剤の重量比は好
都合には0.00005/1ないし0.01/1の範囲であろう。実際には本重
量比は約0.005/1がより好都合であろう。
【0058】 発明による組成物(I)に、使用用量に於いて食品との接触、及び/または飲
料水による経口投与に好適である耐蝕剤を加えることが推奨される。本目的への
使用できるであろう耐蝕剤としては特に上記FA−A−2 321 302号に
記載のアミノホスホン酸、そのナトリウム、カリウム、アンモニウム及びアルカ
ノールアミン塩が挙げられる。ヒドロキシエタンジホスホン酸、ジメチルアミノ
メタンジホスホン酸及びエチレンジアミンテトラキス(メチレンホスホン酸)、
及びそのNa、K、NH4+、またはアルカノールアミン塩、ならびにその混合物
は特に本発明による水性組成物(I)に好適である。1,2,3−ベンゾトリア
ゾールもまた耐蝕剤として好適である。
【0059】 実際には耐蝕剤は水性組成物(I)中に低濃度で存在するだろう。それを使用
する場合には、前記耐蝕剤は特に過酸化水素に対する前記耐蝕剤の重量比が0.
00005/1ないし0.03/1、好ましくは0.001/1ないし0.00
5/1の範囲になる量含まれるだろう。
【0060】 WO−A−96/18301号に提示されている如く、本発明の水性組成物(
I)との長期接触に於ける金属表面(主に鉄または銅製の)の腐食は200μm
/年以下に限定すべきである。
【0061】 金属表面の腐食は主に“ピッチング”として知られる現象に反映されるため、
根絶が望まれる微生物が生存し増殖する該ピッチングの形成を回避することが適
当である。
【0062】 水性汚染除去組成物には適当な芳香成分(G)が適当な耐蝕剤(F)以下の量
含まれるだろう。
【0063】 本発明による汚染除去組成物に含まれる水は好都合には精製水であり、即ち蒸
留水、脱ミネラル水、さらには脱イオン水である。好ましくはここで使用される
脱イオン水は105Ω/cmより大きな、さらには106Ω/cm以上の抵抗を持
つ水である。
【0064】 発明の前記汚染除去剤の希釈に使用される水は好都合には上記の精製水である
【0065】 発明の水性組成物のpHは(希釈し使用する前)一般には1.2ないし5の、
より好ましくは1.5ないし4の範囲である。それは好適成分D;H3PO4また
はピリジンカルボン酸を用い調整される。
【0066】−水性組成物(I) 好ましくは発明の水性組成物(I)は、前記に関し水中に以下のものを含む:
(A)8重量%を越えないH22: (B)混合物RCO2H/RCO3H(式中RはCH3またはCH3CH2)であり 、過酸化水素に対する前記混合物RCO2H/RCO3Hの重量比が0.1 5
/1ないし0.85/1であり、より好ましくは0.5/1ないし0.7/1で
あるもの; (C)以下より成る組み合わせより選択された金属イオン供給源Lにあって; (1)AgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、In III またはTlIIIイオンである金属Mのイオン (2)Ag+イオンと前記金属Mのイオンの組合せ、及び (3)その混合物; 供給源LはAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与え、銀100
g(即ち157gのAgNO3)及び1リットルの脱イオン水から出発 し、得
られた溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag3+イオン 濃度が100
0mVより大きい酸化還元電位を提供するものであり;過酸化水素に対する前記
供給源Lの重量比が0.0005/1ないし 0.015/1、より好ましくは
0.0008/1ないし0.005 /1であるもの; (D)過酸化水素に対する安定化剤の重量比が0.0005/1ないし0.01
5/1、より好ましくは0.0008/1ないし0.005/1である安定化剤
【0067】 より具体的には、使用時に希釈されることを目的とした標準的組成物(即ち保
存液)が推奨される。本標準的組成物は以下を含む: (A) 7.5−7.9重量%のH22; (B) 4.5−4.8重量%の混合物CH3CO3H+CH3CO2H; (C) 0.005重量%ないし0.01重量%の供給源L; (D) 0.0005重量%ないし0.01重量%のH3PO4またはピリジンカ
ルボン酸; (E) 0.0075重量%ないし0.04重量%の界面活性剤; (F) 適当な場合には、0.003重量%ないし0.04重量%の耐蝕剤; (G) 適当な媒には、芳香剤;及び 100重量%にするための水(蒸留水、脱ミネラル水、または脱イオン水)0.
003重量%ないし0.04重量%のH3PO4またはピリジンカルボン酸。
【0068】 特に金属表面の洗浄、ストリッピング及び/または不動態化の関連に於いて、
又は非金属表面の洗浄、ストリッピング及び/または不動態化の関連に於いては
、重量比C/Dは1/1未満であること好都合であろう。
【0069】 さらに成分CをAg+イオン及びMイオンの混合物でる場合、発明によればM
の金属イオンについては有益効果を表すためには微量で十分である。
【0070】 −組成物(II)の調整 供給源LがAg2+(またはAg2+/Ag3+)イオンを含まない場合には、上記
の段階(a)−(f)を含む、発明による水性組成物(I)の調整工程は直接実
施される。この場合、前記組成物は一方でGB−A−2 189 394(高濃
度のH2O2を得るための)の教示に従い作製され、続いてその一方で輸送を目
的として蒸留水、脱ミネラル水または脱イオン水により希釈(H22濃度を8重
量%、より好ましくは7.9重量%以下にするために)される。変形として、前
記組成物は標準型組成物に直接製造されてもよい。
【0071】 供給源LがAg2+(またはAg2+/Ag3+)イオンを供給する場合、それをA
2+イオンに酸化してAg+イオン供給源として利用するために段階(a)は段
階(1°)及び(2°)に置き換えられる。この酸化は(i)過硫酸塩、好まし
くは過硫酸ナトリウムまたは過硫酸アンモニウムを酸化剤として利用し、(ii
)銀イオンが生体内に沈殿する金属銀へUVにより還元されることを回避するた
めに白色光が非存在下に実施される。酸化Ag+→Ag2++eは、暗黒下(即ち
不透明反応器内)または赤色光下に好都合に実施されるだろう。
【0072】 最終段階(2°)の最後に含まれる濾過は反応媒体中に存在するであろう不溶
性物質を除去する目的を持つ。不溶性物質の存在は、使用した過硫酸塩が過硫酸
アンモニアである時に特に顕著である。好都合には、本濾過は直径約3μmの孔
径を持つフィルターメンブレンを使用し実施される。
【0073】 段階(3°)−即ち一般工程の段階(b)では−得られた銀イオン(一般には
Ag+、Ag2+及び適当な場合にはAg3+の混合物)はH3PO4(70−85重
量%の水溶液として)またはピリジンカルボン酸を使用し好適に安定化される。
【0074】 さらに好都合には、H3PO4またはピリジンカルボン酸添加前、最中または後
に少量のゼラチンが加えられるだろう。
【0075】 上記の如く、それがAg+またはAg2++Ag3+イオンを含む場合には、発明
による水性組成物は標準的溶液、または輸送目的に希釈される前の高H22含有
量の溶液に作製されるだろう。
【0076】 発明による組成物(I)を調整する工程の実施に関する好適様態(様態A)の
一つは、供給源LがVV、NbV、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまた
はTlIIIイオンを供給する場合には、次より成る以下の段階を含む(7.5−
7.9重量%のH22を含む標準組成物の製造に関し): (a)前記水性消毒組成物調整に必要な水の全量の一部にVV、NbV、TaV
、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIII塩(好都合には酸性溶媒 中
)の溶液を調整する段階; (b)上記により得られた溶液に70重量%ないし85重量%のH3PO4を含
むリン酸水溶液、またはピリジンカルボン酸水溶液を段階: (c)上記により得た溶液を、50重量%ないし60重量%のH22を含む過 酸化水素水に攪拌しながら、0℃ないし25℃の温度(好ましくは4℃ ないし25℃の範囲の温度)にて、段階(b)にて得られた溶液を3な いし6l/hの添加速度で加える段階; (d)上記により得た溶液に、酸性物質CH3CO2Hを攪拌しながら、0℃な いし 25℃の温度(好ましくは4℃ないし25℃の範囲の温度)にて、段階( b)にて得られた溶液を3ないし6l/hの添加速度で加える段階; (e)上記により得た溶液を0℃ないし25℃の温度(好ましくは4℃ないし2 5℃ の範囲の温度)にて48時間放置し、平衡 H22+CH3CO2H←→CH3CO3H+H2O を確立する段階;および (f)残りの水を加え100重量%に整える段階。
【0077】 本組成物の調整の段階(d)では、酸性CH3CO2Hは水溶液の形で加えられ
る。
【0078】 発明による組成物(I)の調整工程を実施する別の好適様態(様態B)は、 供給源LがAg2+イオンを提供する場合(適当な場合にはAg3+と共に)には
、以下より成る次の段階を含む(7.5−7.9重量%のH22を含む標準組成
物の製造に関し): (1°)105Ω/cmの抵抗を持つ脱衣イオン水にてAgNO3を溶解し(脱ミ
ネラル水1リットルに対し157gの硝酸銀−即ち100gの銀の割合)、得ら
れた溶液の酸化還元電位が約600mVになる段階: (2°)1000mV以上の酸化還元電位を得るために、過硫酸塩、好ましくは 過硫酸ナトリウムまたは過硫酸アンモニウムを加え上記溶液のAg+イオン の少なくとも一部をAg2+またはAg2++Ag3+に酸化し、濾過する(直径 3μmの孔を持つメンブランにより)段階; (3°)70重量%ないし85重量%のH3PO4(段階(1”)で使用した脱 ミネラル水1リットル当たり70重量%ないし85重量%のH3PO4水溶
液10ないし100mlの割合)を含むリン酸水溶液、またはピリジンカル
ボン酸水溶液[室温にて24時間攪拌した後、そして安定化した銀溶液は1
000mV以上の酸化還元電位を持つ]を利用し上記により得た溶液に安定
化する段階; (4°)上記により得られた前記溶液を、50重量%ないし60重量%のH22を含む過酸化水素水内に、攪拌しながら、4℃ないし25℃の範囲( 好ましくは4℃ないし15℃の範囲の温度)で、段階(3”)にて得ら れた液の添加速度が3ないし6l/hとなる様に加える段階; (5°)上記により得た溶液に、酸性生物CH3CO3Hを、攪拌しながら、0℃ ないし25℃の範囲(好ましくは4℃ないし15℃の範囲の温度)で、 酸性生物CH3CO3Hの添加速度が3ないし6l/hとなる様に加える 段階; (6°)上記により得た溶液を48時間、暗所(または赤色光下)、0℃ないし 25℃の範囲(好ましくは4℃ないし15℃の範囲の温度)に放置し、 平衡 H22+CH3CO2H←→CH3CO3H+ H2Oを確立する段 階;及び (7°)水を加え100重量%に整える段階。
【0079】 本標準組成物調整の段階(5°)では、酸性CH3CO2Hは水溶液の形で加え
られるだろう。
【0080】 −ゲル化組成物(II) 発明によるゲル化組成物(II)は水性組成物(I)及び、鉱物性物質または
有機物質である特異的ゲル化剤を利用し得られる。本ゲル化剤が鉱物性物質の場
合には、乾燥形状の、単位容積当たりの表面積が80ないし400m2/gであ
り、平均粒子サイズが7ないし20nmである粒子形状のポリアクリル系コロイ
ド状シリカが好都合である。本目的に好適なシリカの中では、特にCabot社
よりCAB−O−SIL(登録商標)の名称にて販売されているもの、具体的に
は親水性であるCAB−O−SIL(登録商標)LM−150、CAB−O−S
IL(登録商標)M−5、CAB−O−SIL(登録商標)EH−5及びCAB
−O−SIL(登録商標)M−7Dが挙げられる。
【0081】 ポリアクリル系シリカを含むゲル化組成物を作成するに、以下の工程が実施さ
れる: ・組成物(I)(50ないし99重量部)及びポリアクリル系コロイド状シリカ (50ないし1重量部)を接触させること、 ・1500rpmないし2000rpmのスラーター角速度にて3−10分間攪 拌すること、そして ・室温に放置すること。
【0082】 ゲル化剤が有機物質の場合には、上記のポリアクリル系材料が好都合である。
この場合前記ポリアクリル系物質を含むゲル化組成物(100重量部)は以下の
様にして調整される: ・組成物(I)(90ないし99.7重量部)及び有機ゲル化物質(10ないし 0.3重量部)を接触させること、 ・1000rpmないし2000rpmのスターラー角速度で10−20分間攪 拌すること、そして ・室温に放置すること。
【0083】 ポリアクリル系有機ゲル化物質を含むゲル化組成物(II)は、3.5以上の
pHでのみ利用できる;実際には、それは3.5ないし7、好ましくはpHにて
使用されるだろう。更に、それは皮膚科及び美容学分野で一般に有用である透明
ゲルの調整に関して好適である。
【0084】 一方、ポリアクリル系シリカを含むゲル化組成物(II)は1.5ないし4の
pHで好都合に使用されるだろう。
【0085】 得られたゲルはチキソトロピー特性を有する:これは攪拌、摩擦または剪断力
の様な応力が加わると液体化し、攪拌、摩擦または剪断が呈しするとすぐに(5
分以内)固形化する。
【0086】 さらにこのゲルは酸性または弱アルカリ媒体中で安定である;それはまたその
組成分の分解温度まで安定である。
【0087】 水分含有量に応じて、前記ゲルは広い範囲の粘度に調整されるだろう。
【0088】 そのチキソトロピー特性により、発明によるゲル化組成物(II)は特に工業
プラント及び装置内の老化オイルおよびグリース(これらは病原性である複数の
微生物の栄養媒体である)の汚染除去に好適である。
【0089】 −用途 発明による水性酸化組成物(I)の用途は、(i)特に飲料、産業施設の衛生及
び水泳用プール、外科及び歯科用具の冷滅菌、細菌、藻、ウイルスおよび寄生虫
からの食物及び穀物の防御、Euglenaの様な病原性藻類からの魚類、甲殻
類及び貝類の防御、および採鉱施設の汚染除去に合わせた水の消毒に関する上記
公開発明WO−A−96/18301号に記載の用途(20ページ、11行ない
し22ページ、15行を参照)、及び(ii)金属表面(特に鋼又はアルミニウ
ム製表面)または非金属表面(特にはプラスチックまたはセラミック表面であり
、ここでいうプラスチック表面は外に曝される床材または壁パネルの表面を含み
、それらは一般にはPVC、ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート製等で
ある)の洗浄、ストリッピング及び/又は不動態化に関する新規用途を含む。
【0090】 好都合には、消毒及び衛生を目的とした組成物(I)は、1重量%ないし2重
量%のH22濃度を持たせるために標準組成物を希釈し得られるだろう。
【0091】 さらに好都合には、採鉱施設の汚染除去を目的とした組成物(I)は、4重量
%ないし7.9重量%のH2O2を有し、また使用時に1/100以下の最終作
業濃度に希釈されるだろう(即ち、0.04重量%以下の最終H22含有量)。
【0092】 表面処理分野では、組成物(I)は1重量%ないし7.9重量%のH22含有
量を好都合に有し、1/1未満且つ1/2より大きい重量比C/Dを備えるだろ
う。
【0093】 発明によるゲル化組成物(II)は、処理対象物体または表面の範囲にH22 供給源を提供し、Lから発生したイオンが安定化され、それにより長期持続作用
が確保されるという利点を持つ。
【0094】 ゲル化組成物(II)は水平でない表面、即ち垂直面、曲面、又は傾斜面に関
し特に有用である。それは一方ではゴミやトリの糞に曝される建築物の外壁の空
所で増殖できる微生物に対し構造物を保護することに最も特に好適であり、他方
では金属反応器またはタンクのストリッピング及び不動態化に好適である。
【0095】 即ちゲル化組成物IIは、本発明によれば、一方では例えば口腔疾患、具体的
には細菌及び/または真菌類を原因とする歯周病に関する治療用途を目的とした
医療製品の調整に適した殺菌の様な用途に推奨され、他方では具体的には口腔衛
生を目的とした歯磨き粉の様な美容製品に推奨される。
【0096】 歯科領域では、ゲル化組成物(II)は止血剤として利用され、抗菌剤及び/
または抗真菌剤の投与に合わせ散布され、カタラーゼを阻害しブリッジの金属表
面を保護し(前記不動態化は細菌及び真菌の長時間の体積を防ぐ)、同時に前記
細菌及び真菌からプラスチックまたはセラミック表面を一時的に保護する(それ
によりそれらの沈積を防ぐ)。このゲル化組成物は1重量%ないし2重量%の過
酸化水素を含む歯磨き粉の調整に好適である。
【0097】 発明のその他利点及び特徴は、以下の実施態様及び比較試験を読むことでより
明確になるだろう。言うまでもなく、このデータのセットはいかなる意味に於い
ても限定するものでなく、例示を目的に示されている。便宜上成分(C)を対象
とし、イオン供給源L、その重量比及びそれが供与するイオンは以下実施例1―
実施例6に示す。
【0098】 実施例1 標準組成物は上記の様態Bに従い調整され、次を含む: H22 7.8重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% AgNO3(Ag+/Ag2+の供給源) 0.008重量% H3PO4またはピリジンカルボン酸 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0099】 実施例2 標準組成物は上記の様態Aに従い調整され、次を含む:
【0100】 イオン供給源LがMoVIイオンを供給する場合には、安定化剤としてH3PO4 を使用しないことが重要である。H3PO4がMoO4 2-に接触し、不溶性のホス
ホノモリブデン酸塩型の錯体を形成することを避けなければならない。
【0101】 実施例3 標準組成物は上記の様態Aに従い調整され、次を含む: H22 7.8重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% H3PO4(VO3 -、VO2 +またはV5 +の供給源) 0.008重量% H3PO4またはピリジンカルボン酸 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0102】 (実施例4) 標準組成物は上記の様態Aに従い調整され、次を含む: H22 7.8重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% Na2WO4(WO4 2-の供給源) 0.008重量% H3PO4またはピリジンカルボン酸 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0103】 実施例5 実施例5の標準組成物は実施例1及び2の組成物の1/1重量混合物より調整
された。本標準組成物は次を含む: H22 7.8重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% AgNO3(Ag+/Ag2+の供給源) 0.004重量%
NaMoO4(MoO4 +2-の供給源) 0.004重量% ピリジンカルボン酸 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0104】 比較実施例CP1 従来技術発明WO−A−96/18301号の実施例1の組成物を比較製品と
して使用する。その組成は次の通りである: H22 8重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% AgNO3(Ag+の供給源) 0.008重量% H3PO4 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0105】 実施例6 実施例2及びCP1の組成物の重量比1/1の混合物より出発し、次の組成を
有する標準組成物を得る(CP1中のリン酸をピリジンカルボン酸に置き換えた
後) H22 7.9重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 4.8重量% AgNO3(Ag+の供給源) 0.004重量% Na2MoO4(MoO4 +2-の供給源) 0.004重量% ピリジンカルボン酸 0.008重量% 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.04重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0106】 比較試験 実施例1ないし実施例6及びCP1の殺菌活性は、ヒトに対し病原性である(
1−2)または植物、特に開放空間で飼育されたトマトに対し病原性である(3
−4)3種類の細菌株(1−3)及び1株のカビ(4)、即ち以下の4株に関し
決定された: (1)Staphylococcus aureus (2)Pseudomonas aerugina (3)Pseudomonas syringea、 及び (4)Alternaria solani。
【0107】 [S]oが時間0に於ける株Sの濃度であり、[S]Tが時間Tに於ける同一株
の濃度であるとすると(細菌についてはT=1時間であり、カビについてはT=
2時間である)、殺菌化性は次式の差より測定される: △=log[S]0−log[S]T 細菌に関しては△≧4でありカビに関しては≧3である如く生菌数を減少させる
場合、生成物は活性である。
【0108】 下表Iに示す△に関し得られた結果は、CPIは細菌に関し1/5の希釈に
ては有効であるがAlternaria solaniの株に対す活性は実質失
われることを示している。これらの結果はさらに、同一希釈率1/5で実施例1
−6は(i)細菌及びカビに対し有効であること、及び(ii)CPIに比べよ
り活性であることも示している。
【0109】 実施例7 10gのCAB−O−SIL(登録商標)M−5 ポリアクリル系シリカを攪
拌しながら(2000rpm)、6分間かけて1リットルの実施例1の水性組成
物に加えた。混合物を放置し、106Pa.sの粘度を持つゲルを得た。
【0110】 比較試験II 水性組成物CP1の作用を実施例7のゲルと比較した。2種類の生成物を、偏
西風を考慮したアルマイト合金製であり、苔と地衣類に覆われ屋根に4時間適用
した。CP1による処理は溶液の蒸発により接触時間が不十分であったため、無
効であった。その一方で、実験4時間後、苔と地衣類は全て流水による濯で取り
除かれた。
【0111】 実施例8 100gのCAB−O−SIL(登録商標)M−5 ポリアクリル系シリカ及
び75重量%のH3PO4を含む水性リン酸溶液500mlを強く攪拌しながら(
2000rpm)、6分間かけて1リットルの実施例1の水性組成物に加えた。
混合物を放置し、107Pa.sの粘度を持つゲルを得た。
【0112】 えられたゲルは極めてチキソトロープであった。
【0113】 試験II 実施例8のゲルを、富塩素蒸気を放出する火炎により脱不動態化した316L
ステンレス鋼製の工業用キッチン換気装置フードに作用させ、3時間接触を維持
すると、316Lステンレス鋼は完全に汚染除去され、その不動態能を回復させ
た。
【0114】 実施例9 実施例1の水性組成物は、1重量%ないし2重量%のH22含有量を得るため
に、脱ミネラル水で希釈された。次に、得られた溶液を上記実施例7の工程によ
りゲル化した。
【0115】 試験IV 実施例9のゲルを1日1回、5日間にわたり歯及び歯の領域の歯周病粘膜に作
用し、歯プラーク及び/または口腔真菌症であり、口臭のある患者に適用した。
歯周病粘膜の生検は成体内にて歯プラークおよび真菌症の原因となる細菌および
真菌がそれぞれ全体として減少していることを示した。治療患者にはもはや口臭
はなかった。
【0116】 実施例10) 実施例1の水性組成物は、4重量%のH22含有量を得るために、脱ミネラル
水で希釈された。次に、得られた溶液を上記実施例8の工程に従いゲル化した。
【0117】 試験V 実施例10のゲルをシャンパン製造に使用されているステンレス鋼製タンクに
適用した。統計的には、5または6個のタンク当たり1個のタンクの中身が(i
)不適当な微生物の増殖、及び/または(ii)内壁の分解により失われている
。タンク内壁を水で濯いだ後、ブドウ収穫の前1回と発酵後タンクを空にした後
1回、実施例10のゲルで5時間処理することで全てのタンクが、上記通常見ら
れる損失を回避しながら使用することができた。
【0118】 試験VI 実施例1、実施例2、実施例5及びCP1の各組成物は、1/5の希釈を得る
ために即時調整的(即ち、使用時に)希釈される。こうして希釈された各溶液5
0mlを一群の透明なガラス容器に入れ、時間T=0にて(a)金属、プスチッ
ク及び/又はセラミック表面を含み、(b)細菌及び/又はカビに感染させられ
、そして(c)微量の組織(凝固血、粘膜、肉)及び不薬物に汚染された義歯を
これら溶液に浸漬する。開放容器は放置される。これら容器内の義歯を時間T=
1時間、T=2時間、T=15日及びT=20日に観察する。
【0119】 T=1時間では、実施例1、実施例2及び実施例5の希釈組成物液に浸された
義歯は清浄であり、実質細菌およびカビはない;T=2時間では、実施例1、実
施例2及び実施例5の希釈組成物液に浸された義歯は清浄で細菌、カビは実質的
に無く、CP1の希釈組成物液に浸された義歯は清浄、無菌であるがカビにはま
だ汚染されている(細胞数≧104微生物/ml;T=15日目には全ての義歯
が清浄であり細菌は認められなかったが、CP1希釈組成物液に浸された義歯で
は104微生物/ml以上のカビが認められたのに対し、実施例1、実施例2及
び実施例5の希釈液で処理された義歯にカビは認められなかった:T=90日目
では、実施例1、実施例2及び実施例5の希釈液で処理された義歯のみ清浄であ
り、細菌もカビも認められなかったが、CP1希釈液で処理された義歯は細菌及
びカビに再度汚染された。
【0120】 まとめると、実施例1、実施例2及び実施例5による1時間の処理により各義
歯は“完全に新しい、再使用可能な”状態になったと考えられた。更にCP1と
は異なり実施例1、実施例2及び実施例5は細菌及びカビの表面への不略を防止
することが見いだされた。
【0121】
【表1】
【0122】 実施例11 皮膚用または美容用組成物は以下の配合を利用し調整される: H22 1重量部 CH3CO2H+CH3CO3H混合物 0.5重量部 CH3−CH=CH−CH=CH−CO2H 0.1重量部 ピリジンカルボン酸 0.004重量部 NaMoO4(MoO4 +2-の供給源) 0.004重量部 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 0.02重量部 95.5重量部に調整するH2O(脱ミネラル)
【0123】 成分は必要とされる脱ミネラル水の一部に次の順番に加えられる:(i)H2
2、(ii) CH3CO2H/CH3CO3H+CH3−CH=CH−CH=CH
−CO2H+ピリジンカルボン酸、(iii)NaMoO4、及び次に(iv)総
重量95.5重量部までの脱ミネラル水。
【0124】 実施例12 ゲル化剤としてポリアクリル性有機物質を含むゲル化組成物は次の配合を利用
し調整される: H22 1重量% CH3CO2H+CH3CO3H混合物 0.5重量% CH3−CH=CH−CH=CH−CO2H 0.1重量% ピリジンカルボン酸 0.004重量% NaMoO4(MoO4 +2-の供給源) 0.004重量% NaOH(pH5になるまで) 界面活性剤(陰イオン性湿潤剤) 1重量% CARBOPOLR ETD 2623 0.5重量% 100重量%に調整するH2O(脱ミネラル)
【0125】 本組成体は必要脱ミネラル水の一部にCARBOPOL(登録商標) ETD
2623を攪拌(800−1000rpm)し、15分間攪拌を続け、完全に
溶解するまで45℃に加熱、次の順番に加え、(i)H22、(ii) CH3
2H/CH3CO3H、CH3−CH=CH−CH=CH−CO2H続いてピリジ
ンカルボン酸、(iv)NaMoO4、次に界面活性剤、15分間攪拌(100
0rpmにて)、pHをNaOHにて5に調節し、脱ミネラル水を100重量%
まで加えて調整される。本ゲル化組成物の30rpmに於けるブルックフィール
ド粘度は15 Pa.a(即ち15000oP)である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 7/16 A61K 7/16 31/327 31/327 33/24 33/24 33/38 33/38 33/40 33/40 A61P 1/02 A61P 1/02 31/02 31/02 // C11D 7/38 C11D 7/38 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT,AU, AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,C N,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ,EE ,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,HR, HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG,K P,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU ,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX, NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,S G,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ ,UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 ウィルモット,レミ フランス、エフ−51140 シャロン−シュ ル−ベスレ、シャマン デ ラ ギャレ ン、10 (72)発明者 レボー,ベルナール フランス、エフ−92700 コローンブ、リ ュ デピナイ、31−35 (72)発明者 イルールズン,ジャン−ピエール フランス、エフ−94420 ル プレッシ トレビセ、アブニュ デ ラ マレシャ ル、242 (72)発明者 マレシャル,フランソワ フランス、エフ−69001 リヨン、リュ ジャン−パプティスト−セイ、7 Fターム(参考) 4C083 AB012 AB032 AB171 AB172 AB211 AB212 AB411 AB412 AC231 AC232 AC252 AC461 AC842 AD091 AD092 CC41 DD41 EE33 4C086 AA01 AA02 HA01 HA05 HA07 HA08 HA10 HA15 HA22 MA03 MA05 MA09 MA28 MA57 NA05 ZA67 ZA89 ZB35 4C206 AA01 AA02 DA01 DA02 DA39 MA03 MA05 MA48 MA77 NA05 ZA67 ZA89 ZB35 4H003 BA15 DA09 DB01 EA04 EA20 EA25 EB07 EB20 EB30 EE04 FA34 4H011 AA02 AA03 BA02 BA04 BB18 BC18 BC19 DA13 DA17 DD01 DF04 DH08

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 特に消毒、衛生及び汚染除去の分野に有用である一方で、他
    方表面処理分野(特に洗浄、ストリッピング及び/または不動態化)でも有用な
    水性酸化組成物(I)であって、該組成物が水中に過酸化水素、RCO2H/R
    CO3H混合物(式中のRは直線状または分岐状の、飽和または不飽和型の炭化
    水素をベースとした鎖を含むC1−C6脂肪族残基である)及び酸である安定化剤
    、及び適当な場合にはAg+イオンを含み、それがAgII、AgIII、VV、NbV 、TaV、MoVI、WVI、CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンである少なくと
    も1種類の金属Mのイオンを含み、AgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを
    提供する供給源Lが、100gの銀(即ち157gのAgNO3)及び1リット
    ルの脱ミネラル水より出発し、得られたAg++Ag2+又はAg++Ag2++Ag 3+ イオンの濃度が1000mVより大きな酸化還元電位を与えるようなものであ
    ることを特徴とする組成物。
  2. 【請求項2】 それが水中に: (A)H22; (B)RCO2H/RCO3H混合物(式中Rは直線状または分岐状の、飽和
    型又は不飽和型の炭化水素をベースとした鎖を含むC1−C6脂肪族残基) (C)供給源Lに由来し、次のものより成るセットから選択された金属イオ
    ン: (1)AgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、 CoIII、InIIIまたはTlIIIイオンである金属Mのイオン (2)Ag+イオンと前記金属Mのイオンの組み合せ、及び (3)その混合物; 供給源LはAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与え、1 00gの銀(即ち157gのAgNo3)と1リットルの脱イオン 水から出発し、得られた溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag 2++Ag3+イオン濃度が1000mV以上の酸化還元電位を与える ものであり;及び (D)酸である安定化剤、 を含むことを特徴とする請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 前記金属イオンがMoVI、Ag+/Ag2+イオン混合物、M
    VI/Ag+イオン混合物またはMoVI/Ag+/Ag2+イオン混合物であること
    を特徴とする、請求項2記載の組成物。
  4. 【請求項4】 請求項1または2記載の水性組成物を調整する工程にあって
    、該工程が、 (a)以下のセットから選択された金属イオンを与える供給源Lの水溶液を
    使用するステップと; (1)AgII、AgIII、VV、NbV、TaV、MoVI、WVI、Co III、InIIIまたはTlIIIイオンである金属Mのイオン (2)Ag+イオンと前記金属Mのイオンの組合せ、及び (3)その混合物; 供給源LはAgIIイオン又はAgII+AgIIIイオンを与え、銀1 00g(即ち157gのAgNo3)と1リットルの脱イオン水か ら出発し、得られた溶液中のAg++Ag2+又はAg++Ag2++ Ag3+イオン濃度が1000mV以上の酸化還元電位を提供するも のであり; (b)前記容積に安定化剤を加えるステップと: (c)上記により得られた前記溶液を過酸化水素水内に加えるか、又は過酸
    化水素水を前記得られた溶液に加えるステップと; (d)上記により得た溶液に、式中のRが上記の規定通りであるRCO3
    、RCO2H又はRCO3H+RCO2Hの混合物を加えるステップ; (e)上記により得た溶液を平衡H22+RCO2H←→H2O+RCO3
    が確立されるまで放置するステップと; (f)水にて100重量%に整えるステップと、 より成る各ステップを含むことを特徴とする工程。
  5. 【請求項5】 Ag2+イオンを含む組成物を調整することに関する請求項4
    記載の工程であって、該工程が (1°)Ag+イオン供給源として機能する銀成分の水溶液を調整するステ
    ップと: (2°)1000mV以上の酸化還元電位を得るために、過硫酸塩、好まし
    くは過硫酸ナトリウムNa228又は過硫酸アンモニウム(NH4228
    用いて少なくとも一部のAg+イオンをAg2+に酸化し、脱イオン水1リットル
    及び157gのAgNO3から出発し、そして濾過して存在する不溶性物質を除
    くステップと; (3°)上記により得た溶液に安定化剤を加えるステップと; (4°)上記により得られた前記溶液を過酸化水素水内に加えるか、又は過
    酸化水素水を前記得られた溶液に加えるステップと; (5°)上記により得た溶液に、式中のRが上記の規定通りであるRCO3
    H、RCO2H又はRCO3H+RCO2Hの混合物を加えるステップと; (6°)上記により得た溶液を平衡H22+RCO2H←→H2O+RCO3
    Hが確立されるまで放置するステップと; (7°)水にて100重量%に整えるステップと、 より成る各ステップを含むことを特徴とする工程。
  6. 【請求項6】 請求項1または2に記載の水性組成物及びミネラルまたは有
    機ゲル化剤を含むゲル化組成物(II)の形状であることを特徴とする、請求項
    1または2記載の組成物。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の組成物であって、 (α)50重量%ないし99重量%の請求項1または2記載の水性組成物(
    I)、及び (β)ゲル化剤として80ないし400m2/gの単位容積当たりの面積及
    び7ないし20nmの平均粒子サイズを有する、50重量%ないし1重量%のポ
    リアクリル系コロイド状シリカを含むことを特徴とする組成物。
  8. 【請求項8】 請求項6記載の組成物であって、 (α)90重量%ないし99.7重量%の請求項1または2記載の水性組成
    物(I)、及び (β)ゲル化剤として10重量%ないし0.3重量%のポリアクリル系有機
    物質を含むことを特徴とする組成物。
  9. 【請求項9】 請求項6ないし8のいずれかに記載のゲル化組成物の使用で
    あって、前記ゲル化組成物が口腔疾患、特に細菌及び/または真菌による歯周病
    に関する使用を目的とした医療製品の調整に関する殺菌製品として使用されるこ
    とを特徴とする使用。
  10. 【請求項10】 請求項6ないし8のいずれかに記載のゲル化組成物の使用
    であって、前記ゲル化組成物が口腔衛生に関する美容製品の調整に使用されるこ
    とを特徴とする使用。
  11. 【請求項11】 請求項6ないし8のいずれかに記載のゲル化組成物の使用
    であって、前記ゲル化組成物が(i)金属表面の洗浄、ストリッピング及び/ま
    たは不動態化、または(ii)非金属表面の洗浄及び/またはストリッピングに
    使用されることを特徴とする使用。
  12. 【請求項12】 請求項6記載のゲル化組成物(II)を調整する工程であ
    って、該工程が(i)該組成物(I)をゲル化剤に接触せしめ、(ii)得られ
    た混合物を3ないし20分間攪拌し、そして(iii)得られた混合物を固形化
    させるために放置することより成ることを特徴とする工程。
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