JP2003329818A - Reflection mirror - Google Patents
Reflection mirrorInfo
- Publication number
- JP2003329818A JP2003329818A JP2002139634A JP2002139634A JP2003329818A JP 2003329818 A JP2003329818 A JP 2003329818A JP 2002139634 A JP2002139634 A JP 2002139634A JP 2002139634 A JP2002139634 A JP 2002139634A JP 2003329818 A JP2003329818 A JP 2003329818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- aluminum oxide
- oxide film
- thickness
- reflecting mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射鏡に係わり、
特に、樹脂製の基板上に銀の薄膜からなる反射膜を設け
た反射鏡に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a reflecting mirror,
In particular, the present invention relates to a reflecting mirror in which a reflecting film made of a silver thin film is provided on a resin substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ガラス製の平面基材上に、反射率
の高い金属からなる反射膜を真空成膜法により成膜して
反射鏡を製造することが行われている。そして、反射率
が高い銀またはアルミニウムにより反射膜を形成した反
射鏡は、光学機器用の反射鏡として広く使用されてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a reflecting mirror has been manufactured by forming a reflecting film made of a metal having a high reflectance by a vacuum film forming method on a flat glass substrate. A reflecting mirror having a reflecting film made of silver or aluminum having a high reflectance is widely used as a reflecting mirror for optical equipment.
【０００３】しかしながら、近年、光学機器にプラスチ
ック部材が広く使用されるようになり、従来のガラス部
材では問題にならなかった反射膜の耐久性が新たな課題
となっている。特に、銀からなる反射膜を樹脂製の基板
に成膜した反射鏡は、反射膜の耐食性に乏しく、長期間
の使用により、酸化や硫化による反射膜の変色あるいは
剥離が生じるという欠点があった。However, in recent years, plastic members have been widely used in optical equipment, and the durability of the reflection film, which has not been a problem with conventional glass members, has become a new issue. In particular, a reflecting mirror in which a reflective film made of silver is formed on a resin substrate has a drawback that the reflective film is poor in corrosion resistance, and discoloration or peeling of the reflective film occurs due to oxidation or sulfurization after long-term use. .
【０００４】従来、このような欠点を改善するために、
銀からなる反射膜と樹脂製の基板との間に中間層を形成
したものが開発されている。Conventionally, in order to improve such a defect,
One in which an intermediate layer is formed between a reflective film made of silver and a resin substrate has been developed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の反射鏡では、銀からなる反射膜のガス腐食を
効果的に低減することが困難であり、充分な耐食性を得
ることが困難であるという問題があった。However, in such a conventional reflecting mirror, it is difficult to effectively reduce the gas corrosion of the reflective film made of silver, and it is difficult to obtain sufficient corrosion resistance. There was a problem.
【０００６】また、銀からなる反射膜を、中間層を介し
て基板に強固に密着することが困難であり、銀からなる
反射膜の充分な耐久性を得ることが困難であるという問
題があった。本発明は、かかる従来の問題を解決するた
めになされたもので、銀からなる反射膜のガス腐食を効
果的に低減することができるとともに、銀からなる反射
膜を基板に強固に密着することができる反射鏡を提供す
ることを目的とする。Further, it is difficult to firmly adhere the reflection film made of silver to the substrate via the intermediate layer, and it is difficult to obtain sufficient durability of the reflection film made of silver. It was The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and it is possible to effectively reduce gas corrosion of a reflective film made of silver and firmly adhere the reflective film made of silver to a substrate. The object is to provide a reflecting mirror capable of
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項１の反射鏡は、樹
脂製の基板上に銀の薄膜からなる反射膜を設けてなる反
射鏡において、前記基板と前記反射膜との間に、一酸化
珪素膜と酸化アルミニウム膜とからなる中間層を、前記
酸化アルミニウム膜を前記反射膜側に位置させて形成す
るとともに、前記反射膜の上に、酸化アルミニウム膜か
らなる保護層を形成してなることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a reflecting mirror comprising a resin substrate and a reflecting film made of a silver thin film provided on the substrate. The reflecting mirror is provided between the substrate and the reflecting film. An intermediate layer formed of a silicon oxide film and an aluminum oxide film is formed by arranging the aluminum oxide film on the reflection film side, and a protective layer formed of the aluminum oxide film is formed on the reflection film. It is characterized by
【０００８】請求項２の反射鏡は、請求項１記載の反射
鏡において、前記保護層を形成する酸化アルミニウム膜
の厚さが、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とす
る。請求項３の反射鏡は、請求項２記載の反射鏡におい
て、前記中間層を形成する一酸化珪素膜の厚さが、５ｎ
ｍ〜３０ｎｍであり、酸化アルミニウム膜の厚さが、２
０ｎｍ〜５０ｎｍであることを特徴とする。A reflecting mirror according to a second aspect is the reflecting mirror according to the first aspect, wherein the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer is 50 nm to 200 nm. The reflecting mirror according to claim 3 is the reflecting mirror according to claim 2, wherein the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer is 5 n.
m to 30 nm, and the thickness of the aluminum oxide film is 2
It is characterized by being 0 nm to 50 nm.
【０００９】請求項４の反射鏡は、請求項１ないし請求
項３のいずれか１項記載の反射鏡において、前記保護層
の上に、酸化ジルコニウム膜、酸化珪素膜または酸化ハ
フニウム膜からなる第２保護層を形成してなることを特
徴とする。A reflecting mirror according to a fourth aspect is the reflecting mirror according to any one of the first to third aspects, in which a zirconium oxide film, a silicon oxide film or a hafnium oxide film is formed on the protective layer. 2 is formed by forming a protective layer.
【００１０】（作用）請求項１の反射鏡では、樹脂製の
基板と銀からなる反射膜との間に、一酸化珪素膜と酸化
アルミニウム膜とからなる中間層が、酸化アルミニウム
膜を反射膜側に位置させて形成され、また、反射膜の上
に、酸化アルミニウム膜からなる保護層が形成される。(Operation) In the reflecting mirror according to the first aspect, the intermediate layer formed of the silicon monoxide film and the aluminum oxide film is the reflection film formed between the resin substrate and the reflection film formed of silver. And a protective layer made of an aluminum oxide film is formed on the reflective film.
【００１１】従って、銀からなる反射膜の両側が、硫化
水素ガス，亜硫酸ガス等の硫化ガスに強い酸化アルミニ
ウム膜によりサンドイッチ状に挟まれ、これにより、銀
からなる反射膜のガス腐食が効果的に低減される。ま
た、中間層が、一酸化珪素膜と酸化アルミニウム膜によ
り形成され、樹脂に対して密着性が良好な一酸化珪素膜
が基板側に位置されるため、銀からなる反射膜が中間層
を介して基板に強固に密着される。Therefore, both sides of the reflection film made of silver are sandwiched between aluminum oxide films which are strong against sulfide gas such as hydrogen sulfide gas and sulfurous acid gas, whereby gas corrosion of the reflection film made of silver is effective. Is reduced to. Further, since the intermediate layer is formed of the silicon monoxide film and the aluminum oxide film, and the silicon monoxide film having good adhesiveness to the resin is located on the substrate side, the reflective film made of silver interposes the intermediate layer. Firmly adheres to the substrate.
【００１２】さらに、中間層が、圧縮の膜応力を有する
一酸化珪素膜と、引っ張りの膜応力を有する酸化アルミ
ニウム膜により形成されるため、中間層に生じる膜応力
が小さくなる。請求項２の反射鏡では、保護層を形成す
る酸化アルミニウム膜の厚さが、５０ｎｍ〜２００ｎｍ
とされる。Further, since the intermediate layer is formed of the silicon monoxide film having the compressive film stress and the aluminum oxide film having the tensile film stress, the film stress generated in the intermediate layer is reduced. In the reflecting mirror of claim 2, the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer is 50 nm to 200 nm.
It is said that
【００１３】すなわち、保護層を形成する酸化アルミニ
ウム膜の厚さが、５０ｎｍ未満の時には、銀からなる反
射膜のガス腐食を充分に防止することが困難になる。ま
た、２００ｎｍを越える時には、酸化アルミニウム膜か
らなる保護層にクラックが発生する。請求項３の反射鏡
では、中間層を形成する一酸化珪素膜の厚さが、５ｎｍ
〜３０ｎｍとされ、酸化アルミニウム膜の厚さが、２０
ｎｍ〜５０ｎｍとされる。That is, when the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer is less than 50 nm, it becomes difficult to sufficiently prevent gas corrosion of the reflective film made of silver. Further, when the thickness exceeds 200 nm, cracks occur in the protective layer made of the aluminum oxide film. In the reflecting mirror according to claim 3, the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer is 5 nm.
And the thickness of the aluminum oxide film is 20 nm.
nm to 50 nm.
【００１４】すなわち、中間層を形成する一酸化珪素膜
の厚さが、５ｎｍ未満の時には、所謂アンカーが少なく
なり、基板に一酸化珪素膜を充分に密着することが困難
になる。また、３０ｎｍを越える時には、所謂アンカー
効果がなくなり、基板に一酸化珪素膜を充分に密着する
ことが困難になる。That is, when the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer is less than 5 nm, so-called anchors are reduced and it becomes difficult to sufficiently adhere the silicon monoxide film to the substrate. Further, when the thickness exceeds 30 nm, the so-called anchor effect disappears, and it becomes difficult to sufficiently adhere the silicon monoxide film to the substrate.
【００１５】そして、中間層を形成する酸化アルミニウ
ム膜の厚さが、２０ｎｍ未満の時には、銀からなる反射
膜のガス腐食を充分に防止することが困難になる。ま
た、５０ｎｍを越える時には、中間層を形成する一酸化
珪素膜の膜厚に対して膜厚が大きくなり、中間層の内部
応力が増大する。請求項４の反射鏡では、保護層の上
に、酸化ジルコニウム膜、二酸化珪素膜または酸化ハフ
ニウム膜からなる第２保護層が形成され、反射鏡の耐久
性が高められる。When the thickness of the aluminum oxide film forming the intermediate layer is less than 20 nm, it is difficult to sufficiently prevent gas corrosion of the reflective film made of silver. Further, when the thickness exceeds 50 nm, the film thickness becomes larger than the film thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer, and the internal stress of the intermediate layer increases. In the reflecting mirror according to the fourth aspect, the second protecting layer made of a zirconium oxide film, a silicon dioxide film or a hafnium oxide film is formed on the protecting layer, and the durability of the reflecting mirror is improved.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて詳細に説明する。図１は、本発明の反射鏡の一実
施形態を示している。この実施形態の反射鏡は、樹脂製
の基板１１上に、銀（Ａｇ）の薄膜からなる反射膜１３
が設けられている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of the reflecting mirror of the present invention. The reflecting mirror of this embodiment has a reflective film 13 made of a thin film of silver (Ag) on a resin substrate 11.
Is provided.
【００１７】基板１１は、ポリカーボネート、アクリル
等の樹脂からなり、例えば、０．５ｍｍ程度の肉厚を有
している。基板１１と反射膜１３との間には、中間層１
５，１７が形成されている。中間層１５，１７は、一酸
化珪素（ＳｉＯ）膜と酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）膜
とからなり、酸化アルミニウム膜からなる中間層１７が
反射膜１３側に位置されている。The substrate 11 is made of resin such as polycarbonate or acrylic and has a wall thickness of, for example, about 0.5 mm. The intermediate layer 1 is provided between the substrate 11 and the reflective film 13.
5, 17 are formed. The intermediate layers 15 and 17 are made of a silicon monoxide (SiO) film and an aluminum oxide (Al 2 O 3 ) film, and the intermediate layer 17 made of an aluminum oxide film is located on the reflective film 13 side.
【００１８】反射膜１３の上には、酸化アルミニウム膜
からなる保護層１９が形成されている。この保護層１９
の上には、酸化ジルコニウム膜、酸化珪素膜または酸化
ハフニウム膜からなる第２保護層２１が形成されてい
る。そして、この実施形態では、保護層１９を形成する
酸化アルミニウム膜の厚さが、５０ｎｍ〜２００ｎｍと
されている。A protective layer 19 made of an aluminum oxide film is formed on the reflective film 13. This protective layer 19
A second protective layer 21 made of a zirconium oxide film, a silicon oxide film, or a hafnium oxide film is formed on the above. In this embodiment, the aluminum oxide film forming the protective layer 19 has a thickness of 50 nm to 200 nm.
【００１９】また、中間層１５を形成する一酸化珪素膜
の厚さが、５ｎｍ〜３０ｎｍとされ、中間層１７を形成
する酸化アルミニウム膜の厚さが、２０ｎｍ〜５０ｎｍ
とされている。この実施形態の反射鏡では、銀からなる
反射膜１３の両側を、硫化水素ガス，亜硫酸ガス等の硫
化ガスに強い酸化アルミニウム膜からなる保護層１９お
よび中間層１７によりサンドイッチ状に挟んだので、銀
からなる反射膜１３のガス腐食を効果的に低減すること
ができる。The thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer 15 is 5 nm to 30 nm, and the thickness of the aluminum oxide film forming the intermediate layer 17 is 20 nm to 50 nm.
It is said that. In the reflecting mirror of this embodiment, since both sides of the reflective film 13 made of silver are sandwiched by the protective layer 19 and the intermediate layer 17 made of an aluminum oxide film resistant to sulfide gas such as hydrogen sulfide gas and sulfurous acid gas, The gas corrosion of the reflective film 13 made of silver can be effectively reduced.
【００２０】また、中間層１５，１７を、一酸化珪素膜
と酸化アルミニウム膜により形成し、樹脂に対して密着
性が良好な一酸化珪素膜からなる中間層１５を基板１１
側に位置したので、銀からなる反射膜１３を中間層１
５，１７を介して基板１１に強固に密着することができ
る。そして、銀からなる反射膜１３は、比較的柔らかい
ため、反射膜１３の外側の酸化アルミニウム膜からなる
保護層１９によって生じる応力よりも、反射膜１３の内
側の酸化アルミニウム膜からなる中間層１７によって生
じる応力がより膜密着性に影響するが、この場合、一酸
化珪素膜からなる中間層１５は、単にバインダーになっ
ているだけでなく、応力を緩和することにより膜密着性
を向上している。Further, the intermediate layers 15 and 17 are formed of a silicon monoxide film and an aluminum oxide film, and the intermediate layer 15 made of a silicon monoxide film having good adhesion to resin is formed on the substrate 11.
Since it is located on the side, the reflection film 13 made of silver is formed on the intermediate layer 1
It is possible to firmly adhere to the substrate 11 via the electrodes 5 and 17. Since the reflective film 13 made of silver is relatively soft, the stress generated by the protective layer 19 made of an aluminum oxide film on the outer side of the reflective film 13 is more than that by the intermediate layer 17 made of the aluminum oxide film on the inner side of the reflective film 13. The generated stress further affects the film adhesion, but in this case, the intermediate layer 15 made of the silicon monoxide film not only serves as a binder, but also relaxes the stress to improve the film adhesion. .
【００２１】さらに、中間層１５，１７を、圧縮の膜応
力を有する一酸化珪素膜と、引っ張りの膜応力を有する
酸化アルミニウム膜により形成したので、中間層１５，
１７に生じる膜応力が小さくなり、内部応力による中間
層１５，１７の経時的な変形、および、これに伴う反射
膜１３の変形を有効に防止することができ、同時に膜密
着性も向上することができる。Further, since the intermediate layers 15 and 17 are formed of the silicon monoxide film having the compressive film stress and the aluminum oxide film having the tensile film stress, the intermediate layers 15 and 17 are formed.
The film stress generated in 17 is reduced, and it is possible to effectively prevent the intermediate layers 15 and 17 from being deformed over time due to internal stress and the resulting deformation of the reflective film 13, and at the same time improve the film adhesion. You can
【００２２】表１は、一酸化珪素膜、酸化アルミニウム
膜および反射膜１３の膜応力（１ｍｍ厚さ換算）を示す
もので、成膜後１日目の各膜応力および２週間後の各膜
応力が示されている。なお、表において−符号は圧縮応
力を示している。この表から、２週間後における反射膜
１３の膜応力が非常に小さくなっているのが分かる。Table 1 shows the film stress (converted to a thickness of 1 mm) of the silicon monoxide film, the aluminum oxide film, and the reflection film 13. Each film stress on the first day and two weeks after the film formation. The stress is shown. In the table, the-sign indicates compressive stress. From this table, it can be seen that the film stress of the reflective film 13 after 2 weeks is very small.
【表１】
また、上述した反射鏡では、保護層１９を形成する酸化
アルミニウム膜の厚さを、５０ｎｍ〜２００ｎｍとした
ので、銀からなる反射膜１３のガス腐食を充分に防止
し、また、酸化アルミニウム膜からなる保護層１９にク
ラックが発生することを防止することができる。すなわ
ち、保護層１９を形成する酸化アルミニウム膜の厚さ
が、５０ｎｍ未満の時には、銀からなる反射膜１３のガ
ス腐食を充分に防止することが困難になる。[Table 1] Further, in the above-described reflecting mirror, since the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer 19 is set to 50 nm to 200 nm, the gas corrosion of the reflecting film 13 made of silver is sufficiently prevented, and the thickness of the aluminum oxide film is reduced. It is possible to prevent cracks from occurring in the protective layer 19 that is formed. That is, when the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer 19 is less than 50 nm, it becomes difficult to sufficiently prevent gas corrosion of the reflective film 13 made of silver.
【００２３】また、２００ｎｍを越える時には、応力が
大きくなり酸化アルミニウム膜からなる保護層１９にク
ラックが発生する。表２は、保護層１９を形成する酸化
アルミニウム膜の厚さを変化させて、膜密着性、膜クラ
ックの発生、耐湿性、耐溶剤性、硫化水素ガスおよび亜
硫酸ガスに対するガス腐食性を実験により求めたもので
ある。On the other hand, when the thickness exceeds 200 nm, the stress increases and cracks occur in the protective layer 19 made of an aluminum oxide film. Table 2 shows that the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer 19 was changed and the film adhesion, film crack generation, moisture resistance, solvent resistance, and gas corrosion resistance to hydrogen sulfide gas and sulfurous acid gas were determined by experiments. It is what I asked for.
【００２４】この表から、酸化アルミニウム膜の厚さが
２０ｎｍでは、ガス腐食性が実用上やや劣っており、２
５０ｎｍでは、膜クラックが実用上やや劣って発生する
のが分かる。From this table, when the thickness of the aluminum oxide film is 20 nm, the gas corrosivity is slightly inferior in practical use.
It can be seen that at 50 nm, the film cracks are slightly inferior in practical use.
【表２】
さらに、上述した反射鏡では、中間層１５を形成する一
酸化珪素膜の厚さを、５ｎｍ〜３０ｎｍとしたので、基
板１１に一酸化珪素膜を充分に密着することができる。[Table 2] Further, in the above-described reflecting mirror, the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer 15 is set to 5 nm to 30 nm, so that the silicon monoxide film can be sufficiently adhered to the substrate 11.
【００２５】すなわち、中間層１５を形成する一酸化珪
素膜の厚さが、５ｎｍ未満の時には、斑点状に形成され
た膜が碇のように作用する所謂アンカーが少なくなり、
基板１１に一酸化珪素膜を充分に密着することが困難に
なる。また、３０ｎｍを越える時には、膜が斑点状では
なくなり１枚の膜となり所謂アンカー効果がなくなり、
基板１１に一酸化珪素膜を充分に密着することが困難に
なる。That is, when the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer 15 is less than 5 nm, the so-called anchors in which the film formed in spots acts like anchors are reduced,
It becomes difficult to sufficiently adhere the silicon monoxide film to the substrate 11. Further, when the thickness exceeds 30 nm, the film is not speckled and becomes a single film, and the so-called anchor effect disappears.
It becomes difficult to sufficiently adhere the silicon monoxide film to the substrate 11.
【００２６】また、中間層１７を形成する酸化アルミニ
ウム膜の厚さを、２０ｎｍ〜５０ｎｍとしたので、銀か
らなる反射膜１３のガス腐食を充分に防止することがで
き、さらに、中間層１５，１７の内部応力の増大を抑制
することができる。すなわち、中間層１７を形成する酸
化アルミニウム膜の厚さが、２０ｎｍ未満の時には、銀
からなる反射膜１３のガス腐食を充分に防止することが
困難になる。Further, since the thickness of the aluminum oxide film forming the intermediate layer 17 is set to 20 nm to 50 nm, gas corrosion of the reflective film 13 made of silver can be sufficiently prevented, and the intermediate layer 15, The increase in internal stress of 17 can be suppressed. That is, when the thickness of the aluminum oxide film forming the intermediate layer 17 is less than 20 nm, it becomes difficult to sufficiently prevent gas corrosion of the reflective film 13 made of silver.
【００２７】また、５０ｎｍを越える時には、中間層１
５を形成する一酸化珪素膜の膜厚に対して膜厚が大きく
なり、中間層１５，１７の内部応力が増大する。そし
て、上述した反射鏡では、保護層１９の上に、酸化ジル
コニウム膜、二酸化珪素膜または酸化ハフニウム膜から
なる第２保護層２１を形成したので、反射鏡の耐久性を
向上することができる。When the thickness exceeds 50 nm, the intermediate layer 1
The film thickness becomes larger than the film thickness of the silicon monoxide film forming 5 and the internal stress of the intermediate layers 15 and 17 increases. Further, in the above-described reflecting mirror, since the second protective layer 21 made of the zirconium oxide film, the silicon dioxide film or the hafnium oxide film is formed on the protective layer 19, the durability of the reflecting mirror can be improved.
【００２８】特に、酸化ジルコニウムは、酸化アルミニ
ウムとの密着性がよいため第２保護層２１に適してい
る。さらに、上述した反射鏡では、反射像に発生する不
自然な色付き現象を無くし、また、反射像に発生する歪
みを無くすことができる。Zirconium oxide is particularly suitable for the second protective layer 21 because it has good adhesion to aluminum oxide. Furthermore, with the above-described reflecting mirror, it is possible to eliminate the unnatural coloring phenomenon that occurs in the reflected image and the distortion that occurs in the reflected image.
【００２９】（実施例）以下、上述した実施形態をより
具体化した実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。
この実施例では、反射鏡が以下述べるようにして製造さ
れる。先ず、直径１０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍのポリカー
ボネート製の基板１１を真空蒸着装置の上部の回転ドー
ムに配置する。(Examples) The present invention will be described in detail below based on examples in which the above-described embodiments are more embodied.
In this embodiment, the reflector is manufactured as described below. First, a substrate 11 made of polycarbonate having a diameter of 10 mm and a thickness of 0.5 mm is placed on a rotary dome in the upper part of the vacuum vapor deposition apparatus.
【００３０】真空蒸着装置の蒸発源に、一酸化珪素粉末
および銀、酸化アルミニウムの顆粒をそれぞれ別個に乗
せる。また、真空蒸着装置の別の蒸発源には、二酸化珪
素粉末および酸化アルミニウムの顆粒をそれぞれ別個に
乗せる。次に、真空蒸着装置の内部を真空ポンプで排気
し約１×１０-3Ｐａまで引き続ける。The silicon monoxide powder and the silver and aluminum oxide granules are separately placed on the evaporation source of the vacuum vapor deposition apparatus. In addition, silicon dioxide powder and aluminum oxide granules are separately placed on different evaporation sources of the vacuum vapor deposition apparatus. Next, the inside of the vacuum vapor deposition apparatus is evacuated by a vacuum pump and the pressure is continuously pulled up to about 1 × 10 −3 Pa.
【００３１】そして、基板１１上に、光学式膜厚計で多
重反射干渉法により厚さ２０ｎｍの一酸化珪素膜、厚さ
２０〜５０ｎｍの酸化アルミニウム膜、厚さ１５０〜２
００ｎｍの銀の反射膜１３、厚さ１００ｎｍの酸化アル
ミニウム膜を順次形成した。このようにして製造された
反射鏡の光線反射率は９８％であった。また、このサン
プルを温度５０℃、湿度９０％の環境に２０時間放置し
た後、その外観を調べたところ、剥離、酸化等の変化は
認められなかった。Then, on the substrate 11, a silicon monoxide film having a thickness of 20 nm, an aluminum oxide film having a thickness of 20 to 50 nm, and a thickness of 150 to 2 are formed by a multiple reflection interference method with an optical film thickness meter.
A 00 nm silver reflective film 13 and a 100 nm thick aluminum oxide film were sequentially formed. The light reflectance of the reflecting mirror thus manufactured was 98%. Further, when this sample was left in an environment of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 90% for 20 hours and its appearance was examined, no change such as peeling or oxidation was observed.
【００３２】なお、上述した実施形態では、本発明の反
射鏡を真空蒸着法により製造した例について説明した
が、本発明はかかる実施形態に限定されるものではな
く、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、ＰＣＶＤ等により製造しても良い。また、上述した
実施例では、光学式膜厚計を用いたが水晶式膜厚計を用
いても良い。In the above-described embodiment, an example in which the reflecting mirror of the present invention is manufactured by the vacuum vapor deposition method has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment, and for example, a sputtering method, an ion plating method, or the like. It may be manufactured by a coating method, PCVD, or the like. Further, although the optical film thickness meter is used in the above-described embodiment, a crystal film thickness meter may be used.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上述べたように、請求項１の反射鏡で
は、銀からなる反射膜の両側を、硫化水素ガス，亜硫酸
ガス等の硫化ガスに強い酸化アルミニウム膜によりサン
ドイッチ状に挟んだので、銀からなる反射膜のガス腐食
を効果的に低減することができる。As described above, in the reflecting mirror of claim 1, since both sides of the reflecting film made of silver are sandwiched by aluminum oxide films resistant to sulfide gas such as hydrogen sulfide gas and sulfurous acid gas, It is possible to effectively reduce the gas corrosion of the reflective film made of silver.
【００３４】また、中間層を、一酸化珪素膜と酸化アル
ミニウム膜により形成し、樹脂に対して密着性が良好な
一酸化珪素膜を基板側に位置したので、銀からなる反射
膜を中間層を介して基板に強固に密着することができ
る。さらに、中間層を、圧縮の膜応力を有する一酸化珪
素膜と、引っ張りの膜応力を有する酸化アルミニウム膜
により形成したので、中間層に生じる膜応力が小さくな
り、内部応力による中間層の経時的な変形、および、こ
れに伴う反射膜の変形を有効に防止することができる。Further, since the intermediate layer is formed of the silicon monoxide film and the aluminum oxide film, and the silicon monoxide film having good adhesion to the resin is located on the substrate side, the reflection film made of silver is used as the intermediate layer. It is possible to firmly adhere to the substrate via the. Further, since the intermediate layer is formed of the silicon monoxide film having the compressive film stress and the aluminum oxide film having the tensile film stress, the film stress generated in the intermediate layer is reduced, and the intermediate stress causes the temporal change of the intermediate layer. It is possible to effectively prevent such deformation and the deformation of the reflecting film due to this.
【００３５】請求項２の反射鏡では、保護層を形成する
酸化アルミニウム膜の厚さを、５０ｎｍ〜２００ｎｍと
したので、銀からなる反射膜のガス腐食を充分に防止
し、また、酸化アルミニウム膜からなる保護層にクラッ
クが発生することを防止することができる。請求項３の
反射鏡では、中間層を形成する一酸化珪素膜の厚さを、
５ｎｍ〜３０ｎｍとしたので、基板に一酸化珪素膜を充
分に密着することができる。In the reflecting mirror of claim 2, since the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer is 50 nm to 200 nm, the gas corrosion of the reflecting film made of silver is sufficiently prevented, and the aluminum oxide film is also formed. It is possible to prevent cracks from occurring in the protective layer made of. In the reflecting mirror of claim 3, the thickness of the silicon monoxide film forming the intermediate layer is set to
Since the thickness is 5 nm to 30 nm, the silicon monoxide film can be sufficiently adhered to the substrate.
【００３６】また、中間層を形成する酸化アルミニウム
膜の厚さを、２０ｎｍ〜５０ｎｍとしたので、銀からな
る反射膜のガス腐食を充分に防止することができ、中間
層の内部応力の増大を抑制することができる。請求項４
の反射鏡では、保護層の上に、酸化ジルコニウム膜、酸
化珪素膜または酸化ハフニウム膜からなる第２保護層を
形成したので、反射鏡の耐久性を向上することができ
る。Further, since the thickness of the aluminum oxide film forming the intermediate layer is set to 20 nm to 50 nm, it is possible to sufficiently prevent gas corrosion of the reflective film made of silver and increase the internal stress of the intermediate layer. Can be suppressed. Claim 4
In the reflecting mirror, since the second protective layer made of a zirconium oxide film, a silicon oxide film or a hafnium oxide film is formed on the protective layer, the durability of the reflecting mirror can be improved.
【図１】本発明の反射鏡の一実施形態を示す説明図であ
る。FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a reflecting mirror of the present invention.
１１ 基板 １３ 反射膜 １５，１７ 中間層 １９ 保護層 ２１ 第２保護層 11 board 13 Reflective film 15,17 Middle layer 19 Protective layer 21 Second protective layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮川 孝文 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 千葉 英治 宮城県名取市田高字原277番地 仙台ニコ ン内 (72)発明者 安藤 秀夫 宮城県名取市田高字原277番地 仙台ニコ ン内 Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA11 DA14 DA18 DC02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Takafumi Miyagawa Marunouchi 3 2-3 No. 3 shares, Chiyoda-ku, Tokyo Ceremony Company Nikon (72) Inventor Eiji Chiba Sendai Nico, 277 Tatakajihara, Natori City, Miyagi Prefecture Within (72) Inventor Hideo Ando Sendai Nico, 277 Tatakajihara, Natori City, Miyagi Prefecture Within F-term (reference) 2H042 DA04 DA11 DA14 DA18 DC02
Claims (4)
膜を設けてなる反射鏡において、 前記基板と前記反射膜との間に、一酸化珪素膜と酸化ア
ルミニウム膜とからなる中間層を、前記酸化アルミニウ
ム膜を前記反射膜側に位置させて形成するとともに、前
記反射膜の上に、酸化アルミニウム膜からなる保護層を
形成してなることを特徴とする反射鏡。1. A reflecting mirror comprising a resin-made substrate on which a reflective film made of a silver thin film is provided, wherein an intermediate layer made of a silicon monoxide film and an aluminum oxide film is provided between the substrate and the reflective film. The reflective mirror is characterized in that the aluminum oxide film is formed on the reflective film side, and a protective layer made of an aluminum oxide film is formed on the reflective film.
０ｎｍ〜２００ｎｍであることを特徴とする反射鏡。2. The reflecting mirror according to claim 1, wherein the thickness of the aluminum oxide film forming the protective layer is 5 or less.
A reflecting mirror having a thickness of 0 nm to 200 nm.
３０ｎｍであり、酸化アルミニウム膜の厚さが、２０ｎ
ｍ〜５０ｎｍであることを特徴とする反射鏡。3. The reflecting mirror according to claim 2, wherein the silicon monoxide film forming the intermediate layer has a thickness of 5 nm or more.
30 nm, and the thickness of the aluminum oxide film is 20 n
A reflecting mirror having a thickness of m to 50 nm.
記載の反射鏡において、 前記保護層の上に、酸化ジルコニウム膜、酸化珪素膜ま
たは酸化ハフニウム膜からなる第２保護層を形成してな
ることを特徴とする反射鏡。4. The reflecting mirror according to claim 1, wherein a second protective layer made of a zirconium oxide film, a silicon oxide film or a hafnium oxide film is formed on the protective layer. A reflecting mirror characterized by being formed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002139634A JP2003329818A (en) | 2002-05-15 | 2002-05-15 | Reflection mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002139634A JP2003329818A (en) | 2002-05-15 | 2002-05-15 | Reflection mirror |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003329818A true JP2003329818A (en) | 2003-11-19 |
Family
ID=29700726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002139634A Pending JP2003329818A (en) | 2002-05-15 | 2002-05-15 | Reflection mirror |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003329818A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351964A (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Matsushita Electric Works Ltd | Board for mount thereon of light emitting element and manufacturing method thereof |
| JP2007165100A (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Stanley Electric Co Ltd | Member provided with film having appearance of smoked color |
| CN102338898A (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | Reflector plate and processing process thereof |
| JP2016508628A (en) * | 2013-02-28 | 2016-03-22 | コーニング インコーポレイテッド | Improved durable silver coating stack for high reflection mirrors |
| WO2017018393A1 (en) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | Silver mirror, and production method and examination method therefor |
-
2002
- 2002-05-15 JP JP2002139634A patent/JP2003329818A/en active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351964A (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Matsushita Electric Works Ltd | Board for mount thereon of light emitting element and manufacturing method thereof |
| JP2007165100A (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Stanley Electric Co Ltd | Member provided with film having appearance of smoked color |
| CN102338898A (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | Reflector plate and processing process thereof |
| JP2016508628A (en) * | 2013-02-28 | 2016-03-22 | コーニング インコーポレイテッド | Improved durable silver coating stack for high reflection mirrors |
| US9995860B2 (en) | 2013-02-28 | 2018-06-12 | Corning Incorporated | Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors |
| US10761247B2 (en) | 2013-02-28 | 2020-09-01 | Corning Incorporated | Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors |
| US10955594B2 (en) | 2013-02-28 | 2021-03-23 | Corning Incorporated | Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors |
| WO2017018393A1 (en) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | Silver mirror, and production method and examination method therefor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060068227A1 (en) | Ag-based reflection film and method for preparing the same | |
| JPWO2007013269A1 (en) | Reflective film laminate | |
| KR20050001425A (en) | High reflectance mirror | |
| JP2002055213A (en) | High reflectance mirror | |
| US20020140885A1 (en) | Heat-resistant reflecting layer, laminate formed of the reflecting layer, and liquid crystal display device having the reflecting layer or the laminate | |
| JP2012032551A (en) | Reflective lamination film | |
| JP2008260978A (en) | Method for forming reflection film | |
| JP2003329818A (en) | Reflection mirror | |
| JP2007310335A (en) | Front surface mirror | |
| JPH03187735A (en) | Selective permeable membrane | |
| JP4751675B2 (en) | Reflector | |
| JPWO2007007570A1 (en) | Reflector and manufacturing method thereof | |
| JP2006337770A (en) | Surface mirror | |
| JP2006010930A (en) | High reflectance mirror | |
| TWI238268B (en) | Reflection mirror and optical equipment using the same | |
| JP2000241612A (en) | Reflector | |
| JP2006010928A (en) | High reflectance mirror | |
| JP2000081505A (en) | Reflection mirror and production of reflection mirror | |
| JPS61284703A (en) | Silver mirror | |
| JP2001242312A (en) | Metal mirror, metal rotary polygon mirror and method of manufacturing the same | |
| CN114609702A (en) | Short-wave near-infrared broadband antireflection film and preparation method thereof | |
| JP2007140371A (en) | Surface mirror | |
| JP5045261B2 (en) | Surface mirror | |
| JPH05150105A (en) | Metal-surfaced mirror and production thereof | |
| WO2006112107A1 (en) | High reflection mirror and process for producing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050511 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071023 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080819 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081216 |