JP2003321795A

JP2003321795A - 積層金属めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法

Info

Publication number: JP2003321795A
Application number: JP2002127040A
Authority: JP
Inventors: Yukimitsu Miyao; 幸光宮尾; Toshinobu Aranae; 稔展新苗; Fumiaki Kikui; 文秋菊井
Original assignee: Sumitomo Special Metals Co Ltd
Current assignee: Hitachi Metals Ltd
Priority date: 2002-04-26
Filing date: 2002-04-26
Publication date: 2003-11-14

Abstract

(57)【要約】【課題】希土類系永久磁石の表面に形成された第ｎ層
金属めっき被膜の表面に、優れた密着性でもって第ｎ＋
１層金属めっき被膜が形成された積層金属めっき被膜を
表面に有する希土類系永久磁石の製造方法を提供するこ
と。【解決手段】磁石の表面に形成された第ｎ層金属めっ
き被膜の表面を有機カルボン酸含有水溶液で処理した
後、その表面に第ｎ＋１層金属めっき被膜を形成するこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、積層金属めっき被
膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石やＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系永久磁石に
代表されるＲ−Ｆｅ−Ｎ系永久磁石などの希土類系永久
磁石は、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、
高い磁気特性を有していることから、特にＲ−Ｆｅ−Ｂ
系永久磁石は今日様々な分野で使用されている。しかし
ながら、希土類系永久磁石は反応性の高い希土類元素：
Ｒを含むため、大気中で酸化腐食されやすく、何の表面
処理をも行わずに使用した場合には、わずかな酸やアル
カリや水分などの存在によって表面から腐食が進行して
錆が発生し、それに伴って、磁石特性の劣化やばらつき
を招く。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路などの装
置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染する
恐れがある。上記の点に鑑み、希土類系永久磁石の表面
に耐食性被膜である金属めっき被膜を積層形成する方法
が広く採用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、希土類系永
久磁石の表面に金属めっき被膜を積層形成した場合、第
ｎ層金属めっき被膜と第ｎ＋１層金属めっき被膜（ｎは
１以上の整数。以下同じ）、例えば、第１層金属めっき
被膜と第２層金属めっき被膜の界面において、両金属め
っき被膜の密着性不良が原因で第２層金属めっき被膜が
第１層金属めっき被膜から剥離してしまうことがある。
この現象は、第１層金属めっき被膜と第２層金属めっき
被膜が異種金属で構成されている場合に顕著である。ま
た、第１層金属めっき被膜と第２層金属めっき被膜が同
種金属で構成されている場合であっても、各金属めっき
被膜の形成条件が異なる場合には第２層金属めっき被膜
の剥離が起ることがある。特に、第１層金属めっき被膜
がｐＨ６．０〜ｐＨ８．０のような中性のめっき浴（例
えば特開平６−１３２１８号公報を参照）を使用して形
成された電解Ｎｉめっき被膜である場合、第２層金属め
っき被膜がＮｉで構成されていてもその他の金属で構成
されていても、第２層金属めっき被膜の剥離が起りやす
い傾向にある。希土類系永久磁石の表面に金属めっき被
膜を形成するに際し、磁石と金属めっき被膜の密着性を
向上させる方法については、例えば、塩酸や硫酸や硝酸
などの無機酸（強酸）を含有する水溶液などを使用して
磁石の表面を処理する方法（特許第２５２０４５０号公
報および特開平３−１７３１０４号公報を参照）が提案
されているが、積層金属めっき被膜における金属めっき
被膜と金属めっき被膜の密着性を向上させる方法につい
ては未だ提案されていない。そこで、本発明は、希土類
系永久磁石の表面に形成された第ｎ層金属めっき被膜の
表面に、優れた密着性でもって第ｎ＋１層金属めっき被
膜が形成された積層金属めっき被膜を表面に有する希土
類系永久磁石の製造方法を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の点に
鑑みて種々の検討を行った結果、第ｎ層金属めっき被膜
の表面を有機カルボン酸含有水溶液で処理した後、その
表面に第ｎ＋１層金属めっき被膜を形成した場合、第ｎ
層金属めっき被膜と第ｎ＋１層金属めっき被膜の密着性
が向上することを見出した。

【０００５】本発明は以上の知見に基づいてなされたも
のであり、本発明の積層金属めっき被膜を表面に有する
希土類系永久磁石の製造方法は、請求項１記載の通り、
磁石の表面に形成された第ｎ層金属めっき被膜の表面を
有機カルボン酸含有水溶液で処理した後、その表面に第
ｎ＋１層金属めっき被膜を形成することを特徴とする。
また、請求項２記載の製造方法は、請求項１記載の製造
方法において、有機カルボン酸がシュウ酸、酒石酸、ク
エン酸から選ばれる少なくとも１種であることを特徴と
する。また、請求項３記載の製造方法は、請求項１また
は２記載の製造方法において、有機カルボン酸がシュウ
酸であることを特徴とする。また、請求項４記載の製造
方法は、請求項１乃至３のいずれかに記載の製造方法に
おいて、有機カルボン酸含有水溶液の有機カルボン酸濃
度が０．００２ｍｏｌ／Ｌ〜以上であることを特徴とす
る。また、請求項５記載の製造方法は、請求項１乃至４
のいずれかに記載の製造方法において、第ｎ層金属めっ
き被膜が電解Ｎｉめっき被膜であることを特徴とする。
また、請求項６記載の製造方法は、請求項５記載の製造
方法において、電解Ｎｉめっき被膜がｐＨ６．０〜ｐＨ
８．０のめっき浴を使用して形成されたものであること
を特徴とする。また、請求項７記載の製造方法は、請求
項１乃至６のいずれかに記載の製造方法において、ｎが
１であることを特徴とする。また、本発明の積層金属め
っき被膜を表面に有する希土類系永久磁石は、請求項８
記載の通り、請求項１乃至７のいずれかに記載の製造方
法によって製造されたことを特徴とする。また、本発明
の積層金属めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石
における第ｎ層金属めっき被膜と第ｎ＋１層金属めっき
被膜の密着性向上方法は、請求項９記載の通り、希土類
系永久磁石の表面に形成された第ｎ層金属めっき被膜の
表面を有機カルボン酸含有水溶液で処理した後、その表
面に第ｎ＋１層金属めっき被膜を形成することを特徴と
する。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の積層金属めっき被膜を表
面に有する希土類系永久磁石の製造方法は、磁石の表面
に形成された第ｎ層金属めっき被膜の表面を有機カルボ
ン酸含有水溶液で処理した後、その表面に第ｎ＋１層金
属めっき被膜を形成することを特徴とするものである。
本発明によれば、希土類系永久磁石の表面に形成された
第ｎ層金属めっき被膜の表面に、優れた密着性でもって
第ｎ＋１層金属めっき被膜を形成することができる。

【０００７】有機カルボン酸含有水溶液で表面処理され
る金属めっき被膜としては、Ｎｉめっき被膜やＣｕめっ
き被膜やＡｌめっき被膜などが挙げられる。本発明は、
電解法や無電解法などの湿式めっき法で形成された金属
めっき被膜に対しても気相めっき法で形成された金属め
っき被膜に対しても好適に適用されるが、とりわけ、電
解Ｎｉめっき被膜に対して好適に適用される。また、有
機カルボン酸含有水溶液で表面処理される金属めっき被
膜は、その表面に金属めっき被膜が形成されるものであ
れば、積層金属めっき被膜の何層目に位置するものであ
ってもよい。

【０００８】有機カルボン酸含有水溶液は金属めっき被
膜に対するエッチング処理液として機能し、その表面に
変質層が形成されている場合にこれを除去して当該表面
を活性化し、その表面に形成される金属めっき被膜との
密着性の向上に寄与する。前述の通り、第ｎ層金属めっ
き被膜が電解Ｎｉめっき被膜であって、この電解Ｎｉめ
っき被膜がｐＨ６．０〜ｐＨ８．０のような中性のめっ
き浴を使用して形成されたものである場合、その表面に
形成される第ｎ＋１層金属めっき被膜がＮｉで構成され
ていてもその他の金属で構成されていても、第ｎ＋１層
金属めっき被膜の剥離が起りやすい傾向にある。本発明
者らは、上記のような形成条件で形成された電解Ｎｉめ
っき被膜は、その表面にＮｉ水酸化物やＮｉ酸化物など
からなる変質層を形成しやすく、密着性不良はこのよう
な変質層の存在に因るものであることを見出している。
従って、上記のような形成条件で形成された電解Ｎｉめ
っき被膜の表面を有機カルボン酸含有水溶液で処理する
ことによって密着性向上を図ることができるのは、この
ようなＮｉ水酸化物やＮｉ酸化物などからなる変質層が
電解Ｎｉめっき被膜の表面から除去されることで、当該
表面が活性化されたためであると考えられる。第ｎ層金
属めっき被膜の表面をエッチングするという目的のもと
では、塩酸や硫酸や硝酸などの無機酸を含有する水溶液
を使用することもできなくはない。しかしながら、無機
酸含有水溶液を使用した場合、塩素イオン（Ｃｌ^-）や
硫酸イオン（ＳＯ₄ ^2-）や硝酸イオン（ＮＯ₃ ^-）などの
腐食性の強い無機物イオンが第ｎ層金属めっき被膜の表
面に残存すると、第ｎ層金属めっき被膜や第ｎ＋１層金
属めっき被膜の腐食の原因になることがある。また、第
ｎ＋１層金属めっき被膜を湿式めっき法で形成する際に
は、無機物イオンは第ｎ層金属めっき被膜の表面付近に
おけるめっき液特性に影響を及ぼして、密着性に優れた
第ｎ＋１層金属めっき被膜の形成を阻害することがあ
る。有機カルボン酸は無機酸に比較してマイルドな酸で
あるので、有機カルボン酸含有水溶液を使用すれば、無
機酸含有水溶液を使用した場合のように過度なエッチン
グが起ることなく、適度なエッチングが得られ、変質層
のみをエッチングすることができるとともに、上記のよ
うな問題も軽減化できる。

【０００９】前述の通り、有機カルボン酸含有水溶液で
表面処理される金属めっき被膜は、積層金属めっき被膜
の何層目に位置するものであってもよいが、有機カルボ
ン酸含有水溶液での表面処理による効果は、当該表面処
理が積層金属めっき被膜の１層目に位置するもの、即
ち、磁石の表面に形成された金属めっき被膜に対して行
われた場合、非常に価値あるものとなる。即ち、第１層
金属めっき被膜にピンホールが存在した場合、無機酸含
有水溶液を使用して表面処理を行うと、無機物イオンが
ピンホールを通じて磁石の表面に到達し、希土類系永久
磁石自体の腐食を招く危険性が非常に高くなる。しかし
ながら、有機カルボン酸含有水溶液を使用した場合、有
機カルボン酸が磁石の表面に到達すると、有機カルボン
酸は磁石を構成するＲなどと反応して複合化合物を形成
し、磁石の表面は当該複合化合物によって被覆されるの
で磁石自体の腐食の進行が抑止される。また、このよう
な複合化合物や有機カルボン酸がピンホール中に堆積す
ることで、結果として、ピンホールの存在による磁石自
体の腐食が抑制されるとともに、密着性への悪影響も抑
制されるという効果が発揮される。

【００１０】以上のような効果を十分に発揮せしめる有
機カルボン酸としては、シュウ酸、酒石酸、クエン酸が
挙げられる。特に、シュウ酸は金属めっき被膜に対して
適度なエッチングレートを有していることに加え、希土
類系永久磁石を構成するＲなどと反応して複合化合物を
形成しやすいので、好適な有機カルボン酸であるといえ
る。

【００１１】有機カルボン酸含有水溶液の有機カルボン
酸濃度は、０．００２ｍｏｌ／Ｌ以上であることが望ま
しい。当該濃度が０．００２ｍｏｌ／Ｌを下回ると十分
な効果が得られない恐れがあるからである。なお、シュ
ウ酸は水溶性の固体物質であるので、水溶液中における
その濃度の上限は飽和水溶液における濃度ということに
なる。

【００１２】有機カルボン酸含有水溶液のｐＨは、過度
のエッチングを防止する観点からは１以上であることが
望ましい。また、十分な効果を得るためには５以下であ
ることが望ましく、３以下であることがより望ましい
（表面処理される金属めっき被膜がＮｉで構成される場
合、Ｎｉの溶解下限ｐＨは３．５であるので、当該ｐＨ
よりも酸性側にあることが好適であるため）。

【００１３】有機カルボン酸含有水溶液を使用した金属
めっき被膜の表面処理は、通常の洗浄処理を行った金属
めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石を、例え
ば、２０℃〜４０℃に調整された有機カルボン酸含有水
溶液中に６０秒〜２４０秒浸漬することにより行えばよ
い。有機カルボン酸含有水溶液の温度を２０℃〜４０℃
とするのは、２０℃を下回ると十分な効果が得られない
恐れがある一方、４０℃を超えると過度のエッチングが
起ることで、有機カルボン酸含有水溶液中に多量のエッ
チング成分が混入して有機カルボン酸含有水溶液の劣化
を早めたり、混入成分が金属めっき被膜の表面に付着す
ることで、その表面に密着性に優れた金属めっき被膜が
形成されることを阻害したりする恐れがあるからであ
る。なお、上記のような表面処理を行った後は、金属め
っき被膜の表面に残存する有機カルボン酸を除去するた
めに超音波洗浄を行うことが望ましい。

【００１４】有機カルボン酸含有水溶液を使用して表面
処理された第ｎ層金属めっき被膜の表面に形成される第
ｎ＋１層金属めっき被膜は、Ｎｉめっき被膜やＣｕめっ
き被膜やＡｌめっき被膜など公知のものであってよく、
その形成方法は電解法や無電解法などの湿式めっき法で
あっても気相めっき法であってもよい。しかしながら、
第ｎ層金属めっき被膜と第ｎ＋１層金属めっき被膜を湿
式めっき法で形成する場合において、製造ラインの第ｎ
層金属めっき被膜の形成工程と第ｎ＋１層金属めっき被
膜の形成工程の間に有機カルボン酸含有水溶液を使用し
た第ｎ層金属めっき被膜の表面処理工程を設置すること
により、第ｎ層金属めっき被膜の表面に、優れた密着性
でもって第ｎ＋１層金属めっき被膜が形成された積層金
属めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の円滑な
製造が可能となる。

【００１５】希土類系永久磁石としては、例えば、Ｒ−
Ｃｏ系永久磁石、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石、Ｒ−Ｆｅ−
Ｎ系永久磁石などで、最大磁気エネルギー積が８０ｋＪ
／ｍ ³以上の磁気特性を有する公知の希土類系永久磁石
が挙げられる。中でも、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、前
述のように、特に磁気特性が高く、量産性や経済性に優
れている上に、被膜との優れた密着性を有する点におい
て望ましいものである。これらの希土類系永久磁石にお
ける希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔ
ｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙの
うち少なくとも１種を含むものが望ましい。また、通常
はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は２種以上の
混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入手上の便宜
などの理由によって使用することもできる。さらに、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈ
ｆ、Ｇａのうち少なくとも１種を添加することで、保磁
力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改善、低価格化
を図ることが可能となる。また、Ｆｅの一部をＣｏで置
換することによって、得られる磁石の磁気特性を損なう
ことなしに温度特性を改善することができる。

【００１６】

【実施例】本発明を以下の実施例と比較例によってさら
に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるもので
はない。なお、以下の実施例と比較例は、例えば、米国
特許４７７０７２３号公報や米国特許４７９２３６８号
公報に記載されているようにして、公知の鋳造インゴッ
トを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工
を行うことによって得られた１４Ｎｄ−７９Ｆｅ−６Ｂ
−１Ｃｏ組成（ａｔ％）の縦１５ｍｍ×横２５×高さ７
ｍｍ寸法の焼結磁石（以下、磁石体試験片と称する）を
用いて行った。

【００１７】予備試験：前処理工程として、硝酸Ｎａ
０．２ｍｏｌ／Ｌと硫酸１５容量％を含む３０℃の水溶
液を使用して表面を弱酸洗した磁石体試験片に対し、硫
酸Ｎｉ・６水和物１５０ｇ／Ｌ、クエン酸アンモニウム
５０ｇ／Ｌ、ホウ酸１５ｇ／Ｌ、塩化アンモニウム８ｇ
／Ｌ、サッカリン３ｇ／Ｌを含み、アンモニア水でｐＨ
を６．５に調整した液温５０℃のめっき浴を使用し、電
流密度０．２Ａ／ｄｍ²で４０分間処理を行い、第１層
電解Ｎｉめっき被膜を磁石体試験片の表面に形成した。
このようにして形成された第１層電解Ｎｉめっき被膜の
膜厚は３．０μｍであった（５サンプルの平均値）。ま
た、この第１層電解Ｎｉめっき被膜には極微小なピンホ
ールが散見された。この第１層電解Ｎｉめっき被膜を表
面に有する磁石体試験片をシュウ酸３ｇ／Ｌ（０．０３
３ｍｏｌ／Ｌ）を含む液温３０℃の水溶液（ｐＨ１．
５）に２分間浸漬して第１層電解Ｎｉめっき被膜の表面
処理を行った。その後、イオン交換水にて２分間超音波
洗浄した。こうして得られた磁石体試験片を温度６０℃
×相対湿度９０％の高温高湿下に放置したところ、１５
時間経過後も点錆は発生しなかった。なお、上記のシュ
ウ酸含有水溶液を使用した表面処理を行わない磁石体試
験片は温度６０℃×相対湿度９０％の高温高湿下に放置
すると２時間経過後にピンホールを中心に点錆が発生し
た。また、点錆が発生した電解Ｎｉめっき被膜を表面に
有する磁石体試験片に対し、上記のシュウ酸含有水溶液
を使用した表面処理を行ったところ、そのエッチング効
果により点錆が除去された。その後、温度６０℃×相対
湿度９０％の高温高湿下に放置したところ、１５時間経
過後も点錆は発生しなかった。以上のことから、上記の
シュウ酸含有水溶液を使用した表面処理を行うことで、
ピンホールが存在しても磁石自体の腐食の進行が抑止さ
れることがわかった。

【００１８】実施例１：予備試験と同じ方法で、磁石体
試験片の表面に第１層電解Ｎｉめっき被膜を形成した
後、第１層電解Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試
験片をシュウ酸含有水溶液に浸漬して第１層電解Ｎｉめ
っき被膜の表面処理を行った。その後、イオン交換水に
て２分間超音波洗浄した。続いて、硫酸Ｎｉ・６水和物
２４０ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉ・６水和物４５ｇ／Ｌ、ホウ酸
３０ｇ／Ｌ、２−ブチン−１，４−ジオール０．２ｇ／
Ｌ、サッカリン１ｇ／Ｌを含み、炭酸ＮｉでｐＨを４．
２に調整した液温５０℃のめっき浴を使用し、電流密度
０．２Ａ／ｄｍ²で１４０分間を行い、磁石体試験片の
表面に形成された第１層電解Ｎｉめっき被膜の表面に第
２層電解Ｎｉめっき被膜を形成した。形成された第２層
電解Ｎｉめっき被膜の膜厚は８．０μｍであった（５サ
ンプルの平均値）。

【００１９】以上のようにして得られた５０個の積層Ｎ
ｉ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片に対
し、ＪＩＳＫ５４００準拠の碁盤目試験（クロスカッ
ト１００目後のテープによる引き剥がし試験）を行った
ところ、いずれの磁石体試験片も、第２層電解Ｎｉめっ
き被膜の第１層電解Ｎｉめっき被膜からの剥離は見られ
なかった。また、以上のようにして得られた積層Ｎｉ−
Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片は、温度８
０℃×相対湿度９０％の高温高湿下に１０００時間放置
しても発錆しなかった。

【００２０】比較例１：実施例１におけるシュウ酸含有
水溶液を使用した第１層電解Ｎｉめっき被膜の表面処理
を行わなかったこと以外は実施例１と同じ工程により、
積層Ｎｉ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片
を得た。このようにして得られた５０個の積層Ｎｉ−Ｎ
ｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片に対し、実施
例１と同じ碁盤目試験を行ったところ、３６個の磁石体
試験片において、第２層電解Ｎｉめっき被膜の第１層電
解Ｎｉめっき被膜からの剥離が見られた。

【００２１】考察：比較例１から明らかなように、中性
のめっき浴を使用して形成された電解Ｎｉめっき被膜
は、その表面に電解Ｎｉめっき被膜が形成された場合で
も、両電解Ｎｉめっき被膜の密着性不良が問題となる
が、実施例１において第１層電解Ｎｉめっき被膜の表面
に優れた密着性でもって第２層電解Ｎｉめっき被膜が形
成されたのは、第１層電解Ｎｉめっき被膜に対してシュ
ウ酸含有水溶液を使用した表面処理を行ったことで、第
１層電解Ｎｉめっき被膜の表面が活性化されるととも
に、シュウ酸と磁石を構成するＲなどとからなる複合化
合物やシュウ酸がピンホール中に堆積したことによる効
果であると考えられた。

【００２２】実施例２：予備試験と同じ方法で、磁石体
試験片の表面に第１層電解Ｎｉめっき被膜を形成した
後、第１層電解Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試
験片をシュウ酸含有水溶液に浸漬して第１層電解Ｎｉめ
っき被膜の表面処理を行った。その後、イオン交換水に
て２分間超音波洗浄した。続いて、ピロリン酸Ｃｕ８０
ｇ／Ｌ、Ｃｕ３０ｇ／Ｌ、ピロリン酸Ｋ２９０ｇ／Ｌを
含み、アンモニアでｐＨを８．５に調整した液温５０℃
のめっき浴を使用し、電流密度０．２Ａ／ｄｍ²で４０
分間を行い、磁石体試験片の表面に形成された第１層電
解Ｎｉめっき被膜の表面に第２層電解Ｃｕめっき被膜を
形成した。形成された第２層電解Ｃｕめっき被膜の膜厚
は３．０μｍであった（５サンプルの平均値）。最後
に、硫酸Ｎｉ・６水和物２４０ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉ・６水
和物４５ｇ／Ｌ、ホウ酸３０ｇ／Ｌ、２−ブチン−１，
４−ジオール０．２ｇ／Ｌ、サッカリン１ｇ／Ｌを含
み、炭酸ＮｉでｐＨを４．２に調整した液温５０℃のめ
っき浴を使用し、電流密度０．２Ａ／ｄｍ²で１４０分
間を行い、第２層電解Ｃｕめっき被膜の表面に第３層電
解Ｎｉめっき被膜を形成した。形成された第３層電解Ｎ
ｉめっき被膜の膜厚は８．０μｍであった（５サンプル
の平均値）。

【００２３】以上のようにして得られた５０個の積層Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片
に対し、実施例１と同じ碁盤目試験を行ったところ、い
ずれの磁石体試験片も、第２層電解Ｃｕめっき被膜の第
１層電解Ｎｉめっき被膜からの剥離および第３層電解Ｎ
ｉめっき被膜の第２層電解Ｃｕめっき被膜からの剥離は
見られなかった。また、以上のようにして得られた積層
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験
片は、温度８０℃×相対湿度９０％の高温高湿下に１０
００時間放置しても発錆しなかった。

【００２４】比較例２：実施例２におけるシュウ酸含有
水溶液を使用した第１層電解Ｎｉめっき被膜の表面処理
を行わなかったこと以外は実施例２と同じ工程により、
積層Ｎｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体
試験片を得た。このようにして得られた５０個の積層Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき被膜を表面に有する磁石体試験片
に対し、実施例１と同じ碁盤目試験を行ったところ、４
５個の磁石体試験片において、第２層電解Ｃｕめっき被
膜の第１層電解Ｎｉめっき被膜からの剥離が見られた。

【００２５】考察：実施例２と比較例２の実験系におい
ては、第３層電解Ｎｉめっき被膜の第２層電解Ｃｕめっ
き被膜からの剥離は見られなかったが、比較例２におい
ては第２層電解Ｃｕめっき被膜の第１層電解Ｎｉめっき
被膜からの剥離が顕著に起った。即ち、中性のめっき浴
を使用して形成された電解Ｎｉめっき被膜は、その表面
に電解Ｃｕめっき被膜が形成された場合、両金属めっき
被膜の密着性不良が非常に大きな問題となった。しかし
ながら、第１層電解Ｎｉめっき被膜に対してシュウ酸含
有水溶液を使用した表面処理を行ったことで、第１層電
解Ｎｉめっき被膜の表面に優れた密着性でもって第２層
電解Ｃｕめっき被膜を形成することができた。

【００２６】

【発明の効果】本発明によれば、希土類系永久磁石の表
面に形成された第ｎ層金属めっき被膜の表面に、優れた
密着性でもって第ｎ＋１層金属めっき被膜が形成された
積層金属めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の
製造方法が提供される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者菊井文秋大阪府吹田市南吹田２丁目19番１号住友特殊金属株式会社吹田製作所内Ｆターム(参考） 4K024 AA03 AA09 AB01 AB02 AB03 BB14 CA02 CA03 CA04 DA06 GA01 5E040 AA04 BC01 BC08 CA01 HB14 NN05 5E062 CD04 CG07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】積層金属めっき被膜を表面に有する希土
類系永久磁石の製造方法であって、磁石の表面に形成さ
れた第ｎ層金属めっき被膜の表面を有機カルボン酸含有
水溶液で処理した後、その表面に第ｎ＋１層金属めっき
被膜を形成することを特徴とする製造方法（ｎは１以上
の整数）。
【請求項２】有機カルボン酸がシュウ酸、酒石酸、ク
エン酸から選ばれる少なくとも１種であることを特徴と
する請求項１記載の製造方法。
【請求項３】有機カルボン酸がシュウ酸であることを
特徴とする請求項１または２記載の製造方法。
【請求項４】有機カルボン酸含有水溶液の有機カルボ
ン酸濃度が０．００２ｍｏｌ／Ｌ以上であることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】第ｎ層金属めっき被膜が電解Ｎｉめっき
被膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか
に記載の製造方法。
【請求項６】電解Ｎｉめっき被膜がｐＨ６．０〜ｐＨ
８．０のめっき浴を使用して形成されたものであること
を特徴とする請求項５記載の製造方法。
【請求項７】ｎが１であることを特徴とする請求項１
乃至６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】請求項１乃至７のいずれかに記載の製造
方法によって製造されたことを特徴とする積層金属めっ
き被膜を表面に有する希土類系永久磁石。
【請求項９】希土類系永久磁石の表面に形成された第
ｎ層金属めっき被膜の表面を有機カルボン酸含有水溶液
で処理した後、その表面に第ｎ＋１層金属めっき被膜を
形成することを特徴とする積層金属めっき被膜を表面に
有する希土類系永久磁石における第ｎ層金属めっき被膜
と第ｎ＋１層金属めっき被膜の密着性向上方法（ｎは１
以上の整数）。