JP2003311911A - Method for manufacturing double-layer film, anti- reflection film, optical element, and image displaying apparatus - Google Patents
Method for manufacturing double-layer film, anti- reflection film, optical element, and image displaying apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は複層フィルムの製造
方法に関する。本発明の製造方法により得られた複層フ
ィルムは、反射防止フィルムに好適に利用できる。さら
には本発明は当該反射防止フィルムを用いた光学素子及
び画像表示装置に関する。反射防止フィルムを用いた反
射防止偏光板等の光学素子は、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ、ＣＲＴ等の各種画像
表示装置において好適に利用できる。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a multilayer film. The multilayer film obtained by the production method of the present invention can be suitably used as an antireflection film. Furthermore, the present invention relates to an optical element and an image display device using the antireflection film. Optical elements such as anti-reflection polarizing plates using anti-reflection films are used in liquid crystal displays (LC
D), various image display devices such as organic EL display devices, PDPs, CRTs, etc.
【０００２】[0002]
【従来の技術】基材フィルム上に、複数の塗膜を形成す
る方法としては、紫外線硬化性樹脂等の各種の硬化性樹
脂等を順次に基材フィルム上に塗工、硬化することが行
われている。また複数の塗膜間の密着性を向上させるた
めに、下層を形成する硬化性樹脂を塗工後、ハーフキュ
アの状態で、上層を形成する硬化性樹脂を塗工し、その
後に上層と下層を硬化させる方法があげられる。2. Description of the Related Art As a method for forming a plurality of coating films on a base film, various curable resins such as UV curable resins are sequentially applied and cured on the base film. It is being appreciated. In addition, in order to improve the adhesion between a plurality of coating films, after applying a curable resin that forms the lower layer, in the state of half cure, apply the curable resin that forms the upper layer, and then the upper layer and the lower layer. There is a method of curing the.
【０００３】しかし、下層をハーフキュアの状態で形成
する前記方法を採用した場合にも、上層と下層の層間の
密着性を充分には向上させることはできない。特に、上
層を形成する硬化性樹脂と下層を形成する硬化性樹脂
が、異なる官能基に基づく硬化反応を利用して各層を形
成する場合には層間の密着性が不十分となる。However, even when the above method of forming the lower layer in a half-cure state is adopted, the adhesion between the upper layer and the lower layer cannot be sufficiently improved. In particular, when the curable resin forming the upper layer and the curable resin forming the lower layer form each layer by utilizing the curing reaction based on different functional groups, the adhesion between the layers becomes insufficient.
【０００４】ところで、液晶パネルは近年の研究開発に
よりディスプレイとしての確固たる地位を確保しつつあ
る。しかし、液晶ディスプレイを、明るい照明下におい
て、使用頻度の高いカーナビゲーション用モニターやビ
デオカメラ用モニターに用いた場合には、表面反射によ
る視認性の低下が顕著である。このため、これらの機器
に装着される偏光板には、反射防止処理を施すことが必
要不可欠になっている。屋外使用頻度の高い液晶ディイ
スプレイには、ほとんどが反射防止処理を施した偏光板
が使用されている。By the way, the liquid crystal panel is gaining a firm position as a display by recent research and development. However, when the liquid crystal display is used for a car navigation monitor or a video camera monitor which is frequently used under bright illumination, the visibility is remarkably reduced due to surface reflection. For this reason, it is indispensable to apply antireflection treatment to the polarizing plates mounted on these devices. Most LCD panels, which are frequently used outdoors, use anti-reflection polarizing plates.
【０００５】反射防止処理は、一般的に真空蒸着法、ス
パッタリング法、ＣＶＤ法等の手法により、屈折率の異
なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体を作製し、可
視光領域の反射をできるだけ低減させるような設計が行
われている。しかし、上記のドライ処理での薄膜の形成
には真空設備が必要であり、処理費用が非常に高価とな
る。そのため、最近ではウェットコーティングでの反射
防止層の形成を行っている。通常、反射防止フィルム
は、透明基材フィルム上に、耐擦傷性を付与するための
ハードコート層を形成し、次いで低屈折率の反射防止層
を形成する。The antireflection treatment is generally carried out by a method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method or the like to produce a multi-layered laminate of a plurality of thin films made of materials having different refractive indexes so that reflection in the visible light region is minimized. It is designed to reduce it. However, vacuum equipment is required to form a thin film by the above-mentioned dry processing, and the processing cost becomes very expensive. Therefore, recently, an antireflection layer is formed by wet coating. Usually, in an antireflection film, a hard coat layer for imparting scratch resistance is formed on a transparent substrate film, and then an antireflection layer having a low refractive index is formed.
【０００６】かかる反射防止フィルムは、ハードコート
層と反射防止層のそれぞれの形成材料が異なるため、層
間の密着性が十分ではなかった。そのため、反射防止フ
ィルム表面の耐擦傷性が不十分であった。層間の密着性
を向上させるために、ハードコート層に表面処理等を施
した後に、反射防止層を形成する方法もある。しかし、
この方法では、製造工程は増えるため操業性が悪くな
る。In such an antireflection film, the materials for forming the hard coat layer and the antireflection layer are different, so that the adhesion between the layers was not sufficient. Therefore, the scratch resistance of the surface of the antireflection film was insufficient. In order to improve the adhesion between layers, there is also a method of forming an antireflection layer after subjecting the hard coat layer to a surface treatment or the like. But,
In this method, since the number of manufacturing processes is increased, operability is deteriorated.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、基材フィル
ム上に、層間の密着性がよい複数の樹脂層を形成した複
層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。特
に、ハードコート層、次いで反射防止層を積層した反射
防止フィルムに適用しうる、複層フィルムの製造方法、
を提供することを目的とする。また本発明は、当該製造
方法により得られた反射防止フィルム、当該反射防止フ
ィルムが設けられている光学素子、さらには当該光学素
子を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a multilayer film in which a plurality of resin layers having good adhesion between layers are formed on a base film. In particular, a hard coat layer, which can be applied to an antireflection film having an antireflection layer laminated thereon, a method for producing a multilayer film
The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide an antireflection film obtained by the manufacturing method, an optical element provided with the antireflection film, and an image display device using the optical element.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す複層フィ
ルムの製造方法により前記目的を達成できることを見出
し、本発明を完成するに到った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by the method for producing a multilayer film shown below, and complete the present invention. Came to.
【０００９】すなわち本発明は、基材フィルム上に、直
接または他の層を介して、形成材（Ａ）により形成され
た下層の樹脂層（Ａ）および形成材（Ｂ）により形成さ
れた上層の樹脂層（Ｂ）が積層されている複層フィルム
の製造方法であって、反応性官能基（ａ1 ）を有する硬
化性樹脂（ａ）を含む形成材（Ａ）を塗工し、反応性官
能基（ａ1 ）を残したハーフキュア状態にする工程、次
いで、反応性官能基（ｂ1 ）を有する硬化性樹脂
（ｂ）、および反応性官能基（ａ1 ）に反応性を有する
官能基（ａ2 ）と反応性官能基（ｂ1 ）に反応性を有す
る官能基（ｂ2 ）を有する化合物（ｃ）を含む形成材
（Ｂ）を塗工する工程、次いで、形成材（Ａ）および形
成材（Ｂ）を硬化して、樹脂層（Ａ）および樹脂層
（Ｂ）を形成する工程、を含むことを特徴とする複層フ
ィルムの製造方法、に関する。That is, according to the present invention, the lower resin layer (A) formed by the forming material (A) and the upper layer formed by the forming material (B) are formed on the base film directly or through another layer. A method for producing a multilayer film in which the resin layer (B) is laminated, wherein a forming material (A) containing a curable resin (a) having a reactive functional group (a 1 ) is applied, and a reaction is performed. Process to a half-cure state in which the reactive functional group (a 1 ) remains, and then the curable resin (b) having the reactive functional group (b 1 ) and the reactive functional group (a 1 ) are reactive A step of applying a forming material (B) containing a compound (c) having a functional group (b 2 ) reactive with a functional group (a 2 ) and a reactive material group (b 1 ), and then a forming material ( A) and the forming material (B) are cured to form a resin layer (A) and a resin layer (B). Process for producing a multilayer film characterized the door relates.
【００１０】上記本発明の複層フィルムの製造方法によ
れば、上層の形成材（Ｂ）中に上記化合物（ｃ）を含有
させているため、ハーフキュア状態の下層と上層を硬化
させる際に、化合物（ｃ）が上層、下層のそれぞれの硬
化性樹脂（ａ）、（ｂ）と反応して上層と下層の層間の
密着性を向上させることができる。そのため、下層の樹
脂層（Ａ）と上層の樹脂層（Ｂ）のそれぞれの形成材
（Ａ）、（Ｂ）として用いる硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）
が、異なる反応性官能基（ａ1 ）、（ｂ1 ）を有してあ
る場合であっても、上層と下層の層間の密着性がよい。According to the method for producing a multilayer film of the present invention, since the compound (c) is contained in the forming material (B) for the upper layer, when the lower layer and the upper layer in a half-cured state are cured. The compound (c) can react with the curable resins (a) and (b) of the upper layer and the lower layer, respectively, to improve the adhesion between the upper layer and the lower layer. Therefore, curable resins (a) and (b) used as the forming materials (A) and (B) of the lower resin layer (A) and the upper resin layer (B), respectively.
However, even if they have different reactive functional groups (a 1 ) and (b 1 ), the adhesion between the upper layer and the lower layer is good.
【００１１】前記複層フィルムの製造方法は、下層の樹
脂層（Ａ）がハードコート層であり、上層の樹脂層
（Ｂ）がハードコート層よりも屈折率の低い反射防止層
である、反射防止フィルムの製造方法に好適に利用でき
る。In the method for producing a multilayer film, the lower resin layer (A) is a hard coat layer, and the upper resin layer (B) is an antireflection layer having a lower refractive index than the hard coat layer. It can be suitably used for a method for producing an anti-film.
【００１２】前記複層フィルムの製造方法は、反応性官
能基（ａ1 ）が炭素−炭素二重結合を有する官能基であ
り、反応性官能基（ｂ1 ）がアルコキシシリル基であ
り、化合物（ｃ）が炭素−炭素二重結合を有するシラン
カップリング剤である場合に、好適である。かかる反応
性官能基（ａ1 ）、（ｂ1 ）の組み合わせは、反射防止
フィルムの製造方法に好適に利用できる。In the method for producing a multilayer film, the reactive functional group (a 1 ) is a functional group having a carbon-carbon double bond, the reactive functional group (b 1 ) is an alkoxysilyl group, and the compound is It is suitable when (c) is a silane coupling agent having a carbon-carbon double bond. The combination of such reactive functional groups (a 1 ) and (b 1 ) can be suitably used in the method for producing an antireflection film.
【００１３】前記複層フィルムの製造方法は、下層の樹
脂層（Ａ）が、導電性微粒子を含有している場合も好適
に利用できる。本発明の複層フィルムの製造方法は、層
間の密着性が良好であり、下層に導電性微粒子を含有し
ているような場合も良好な層間の密着性が得られる。The above method for producing a multilayer film can be suitably used even when the lower resin layer (A) contains conductive fine particles. According to the method for producing a multilayer film of the present invention, the adhesion between the layers is good, and even when the lower layer contains conductive fine particles, good adhesion between the layers can be obtained.
【００１４】また本発明は、前記製造方法により得られ
た複層フィルムを用いた反射防止フィルム、に関する。
また本発明は、光学素子の片面又は両面に、前記反射防
止フィルムが設けられていることを特徴とする光学素
子、さらには前記反射防止フィルムまたは光学素子を搭
載した画像表示装置、に関する。The present invention also relates to an antireflection film using the multilayer film obtained by the above manufacturing method.
The present invention also relates to an optical element, wherein the antireflection film is provided on one side or both sides of the optical element, and further to an image display device equipped with the antireflection film or the optical element.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施形態
を、図面を参照しながら説明する。図１に示すように、
まず基材フィルム１上に、形成材（Ａ）を塗工する。形
成材（Ａ）は、硬化性樹脂（ａ）を含む。かかる硬化性
樹脂（ａ）の硬化は、この段階では、反応性官能基（ａ
1 ）を残したハーフキュア状態に留める。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in Figure 1,
First, the forming material (A) is applied onto the base film 1. The forming material (A) contains a curable resin (a). At this stage, the curing of the curable resin (a) is performed by reacting the reactive functional group (a
1 ) Keep the half-cure condition.
【００１６】次いで、ハーフキュア状態の形成材（Ａ）
上に、形成材（Ｂ）を塗工する。形成材（Ｂ）は、硬化
性樹脂（ｂ）および化合物（ｃ）を含む。化合物（ｃ）
は、反応性官能基（ａ1 ）に反応性を有する官能基（ａ
2 ）と反応性官能基（ｂ1 ）に反応性を有する官能基
（ｂ2 ）を有する化合物である。Next, the forming material (A) in a half-cure state
The forming material (B) is applied on top. The forming material (B) contains a curable resin (b) and a compound (c). Compound (c)
Is a functional group (a) having reactivity with the reactive functional group (a 1 ).
2 ) is a compound having a functional group (b 2 ) reactive with a functional group (b 1 ).
【００１７】次いで、形成材（Ａ）および形成材（Ｂ）
を硬化する。ハーフキュア状態の硬化性樹脂（ａ）およ
び硬化性樹脂（ｂ）が硬化して、下層の樹脂層（Ａ）お
よび上層の樹脂層（Ｂ）を形成する。かかる硬化の際に
は、化合物（ｃ）の官能基（ａ2 ）は下層の樹脂層
（Ａ）を形成する硬化性樹脂（ａ）と反応するととに、
化合物（ｃ）の官能基（ｂ2 ）は上層の樹脂層（Ｂ）を
形成する硬化性樹脂（ｂ）と反応する。硬化にあたって
は、硬化性樹脂（ａ）および硬化性樹脂（ｂ）の種類に
応じて、両者を硬化できる手段を適宜に採用する。硬化
性樹脂（ａ）および硬化性樹脂（ｂ）の硬化は同時に行
ってもよく、順次に行うこともできる。Next, the forming material (A) and the forming material (B)
To cure. The curable resin (a) and the curable resin (b) in the half cure state are cured to form a lower resin layer (A) and an upper resin layer (B). Upon such curing, the functional group (a 2 ) of the compound (c) reacts with the curable resin (a) forming the lower resin layer (A),
The functional group (b 2 ) of the compound (c) reacts with the curable resin (b) forming the upper resin layer (B). Upon curing, a means capable of curing both the curable resin (a) and the curable resin (b) is appropriately adopted depending on the types. Curing of the curable resin (a) and the curable resin (b) may be performed simultaneously or sequentially.
【００１８】前記樹脂層（Ａ）、（Ｂ）の形成に使用さ
れる硬化性樹脂（ａ）、硬化性樹脂（ｂ）は特に制限さ
れず、従来より使用されている各種の硬化性樹脂を特に
制限なく使用することができる。The curable resin (a) and the curable resin (b) used for forming the resin layers (A) and (B) are not particularly limited, and various curable resins conventionally used can be used. It can be used without particular limitation.
【００１９】たとえば、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、ビニル基、アリル基等の炭素−炭素二重結合を官
能基として有する放射線硬化性樹脂があげられる。これ
ら放射線硬化性樹脂は、紫外線、電子線等の放射線によ
り炭素−炭素二重結合が付加重合して硬化する。For example, a radiation curable resin having a carbon-carbon double bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group or an allyl group as a functional group can be mentioned. These radiation-curable resins are cured by addition polymerization of carbon-carbon double bonds by radiation such as ultraviolet rays and electron beams.
【００２０】また硬化性樹脂としては、テトラエトキシ
シラン、チタンテトラエトキシド等の金属アルコキシド
を用いたゾル−ゲル系材料があげられる。ゾル−ゲル系
材料は、アルコキシシリル基等のエステル交換反応によ
り硬化する。Examples of the curable resin include sol-gel materials using metal alkoxides such as tetraethoxysilane and titanium tetraethoxide. The sol-gel material is cured by a transesterification reaction of an alkoxysilyl group or the like.
【００２１】また硬化性樹脂としては、特に制限され
ず、カルボキシル基、酸無水物基、ヒドロキシル基、ア
ミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、アジリジン基
などの各種の官能基を有するものを使用できる。かかる
官能基を有する硬化性樹脂としては、たとえば、エポキ
シ系樹脂、イソシアネート系樹脂、メラミン系樹脂、フ
ェノール系樹脂等があげられる。The curable resin is not particularly limited, and those having various functional groups such as carboxyl group, acid anhydride group, hydroxyl group, amino group, epoxy group, isocyanate group and aziridine group can be used. Examples of the curable resin having such a functional group include an epoxy resin, an isocyanate resin, a melamine resin, and a phenol resin.
【００２２】硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）は、複層フィル
ムが用いられる用途に応じた樹脂層（Ａ）、（Ｂ）が得
られるように適宜に決定される。硬化性樹脂（ａ）、
（ｂ）は同種または異種のいずれでもよいが、本発明は
特に硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）が異種の場合に有効であ
る。The curable resins (a) and (b) are appropriately determined so that the resin layers (A) and (B) can be obtained according to the application for which the multilayer film is used. Curable resin (a),
Although (b) may be the same or different, the present invention is particularly effective when the curable resins (a) and (b) are different.
【００２３】化合物（ｃ）が有する官能基（ａ2 ）、
（ｂ2 ）は、硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）の有する官能基
（ａ1 ）、（ｂ1 ）と反応性を有するものであれば特に
制限はない。たとえば、硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）が放
射線硬化性樹脂の場合には、官能基（ａ2 ）、（ｂ2 ）
についても炭素−炭素二重結合であるのが好ましい。ま
た硬化性樹脂（ａ）、（ｂ）がゾル−ゲル材料である場
合には、官能基（ａ2 ）、（ｂ2 ）についてもアルコキ
シシリル基等であるのが好ましい。これらは同種の官能
基間で反応し、硬化が進行する場合である。その他に、
同種の官能基間で反応し、硬化する官能基の例として、
エポキシ基等があげられる。A functional group (a 2 ) contained in the compound (c),
(B 2 ) is not particularly limited as long as it has reactivity with the functional groups (a 1 ) and (b 1 ) of the curable resins (a) and (b). For example, when the curable resins (a) and (b) are radiation curable resins, functional groups (a 2 ) and (b 2 )
Is preferably a carbon-carbon double bond. When the curable resins (a) and (b) are sol-gel materials, the functional groups (a 2 ) and (b 2 ) are also preferably alkoxysilyl groups. These are the cases where the functional groups of the same kind react with each other and curing proceeds. Other,
As an example of a functional group that reacts between functional groups of the same type and cures,
Examples thereof include epoxy groups.
【００２４】一方、異種の官能基間で硬化が進行する場
合の組み合わせとしては、カルボキシル基とエポキシ
基、カルボキシル基とアジリジン基、ヒドロキシル基と
イソシアネート基、カルボキシル基とヒドロキシル基、
アミノ基とエポキシ基、アミノ基とカルボキシル基、ア
ミノ基とイソシアネート基などがあげられる。On the other hand, when the curing proceeds between different kinds of functional groups, as a combination, a carboxyl group and an epoxy group, a carboxyl group and an aziridine group, a hydroxyl group and an isocyanate group, a carboxyl group and a hydroxyl group,
Examples thereof include an amino group and an epoxy group, an amino group and a carboxyl group, and an amino group and an isocyanate group.
【００２５】化合物（ｃ）の使用量は、特に制限されな
いが、硬化性樹脂（ｂ）１００重量部に対して、０．１
〜２０重量部、さらには１〜１０重量部であるのが好適
である。The amount of the compound (c) used is not particularly limited, but it is 0.1 per 100 parts by weight of the curable resin (b).
It is preferably -20 parts by weight, more preferably 1-10 parts by weight.
【００２６】本発明の複層フィルムの製造方法は、各種
複層フィルムの製造に適用できる。たとえば、透明基材
フィルム１に、下層の樹脂層（Ａ）としてハードコート
層を形成し、上層の樹脂層（Ｂ）としてハードコート層
Ａよりも屈折率の低い反射防止層Ｂを形成する反射防止
フィルムの製造に好適に利用できる。以下、本発明の複
層フィルムの製造方法の代表例として反射防止フィルム
について説明する。The method for producing a multilayer film of the present invention can be applied to the production of various multilayer films. For example, in the transparent substrate film 1, a hard coat layer is formed as the lower resin layer (A), and an antireflection layer B having a lower refractive index than the hard coat layer A is formed as the upper resin layer (B). It can be suitably used for the production of a protective film. An antireflection film will be described below as a representative example of the method for producing a multilayer film of the present invention.
【００２７】透明基材フィルム１としては、例えばポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等
のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、ト
リアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリ
カーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィル
ムがあげられる。またポリスチレン、アクリロニトリル
・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を
有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体
等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナ
イロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透
明ポリマーからなるフィルムもあげられる。さらにイミ
ド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスル
ホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマ
ー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアル
コール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニル
ブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオ
キシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポ
リマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルム
などもあげられる。特に光学的に複屈折の少ないものが
好適に用いられる。Examples of the transparent substrate film 1 include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, polycarbonate polymers, acrylic polymers such as polymethylmethacrylate. An example is a film made of a transparent polymer. In addition, polystyrene, styrene-based polymers such as acrylonitrile-styrene copolymers, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin-based polymers such as ethylene-propylene copolymers, vinyl chloride-based polymers, nylon, aromatic polyamides, etc. There is also a film made of a transparent polymer such as the amide polymer. Furthermore, imide polymers, sulfone polymers, polyether sulfone polymers, polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers A film made of a transparent polymer such as a polymer, an epoxy-based polymer or a blend of the above-mentioned polymers can also be used. In particular, those having optical little birefringence are preferably used.
【００２８】透明基材フィルム１の厚さは、適宜に決定
しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性な
どの点より１０〜５００μｍ程度である。特に２０〜３
００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好まし
い。透明基材フィルム１の屈折率は１．４３〜１．６程
度、好ましくは１．４５〜１．５程度である。The thickness of the transparent substrate film 1 can be appropriately determined, but is generally about 10 to 500 μm in view of workability such as strength and handleability, and thin layer property. Especially 20 ~ 3
00 μm is preferable, and 30 to 200 μm is more preferable. The refractive index of the transparent substrate film 1 is about 1.43 to 1.6, preferably about 1.45 to 1.5.
【００２９】前記ハードコート層Ａの形成材（Ａ）は、
反応性官能基（ａ1 ）を有する硬化性樹脂（ａ）を含
む。硬化性樹脂（ａ）は、ハードコート性に優れ（ＪＩ
Ｓ Ｋ５４００の鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すも
の）、十分な強度を持ち、光線透過率の優れたものであ
れば特に制限はない。硬化性樹脂（ａ）としては、反応
性官能基（ａ1 ）として炭素−炭素二重結合を有する紫
外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が好適である。こ
れらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な
加工操作にて効率よくハードコート層を形成することが
できる紫外線硬化型樹脂が好適である。紫外線硬化型樹
脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン
系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のも
のがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、
ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化
型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、
なかでも当該官能基を２個以上、特に３〜６個有するア
クリル系のモノマーやオリゴマーを成分を含むものがあ
げられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開
始剤が配合されている。The material (A) for forming the hard coat layer A is
It contains a curable resin (a) having a reactive functional group (a 1 ). The curable resin (a) has excellent hard coat properties (JI
There is no particular limitation as long as it has a hardness of H or higher in a pencil hardness test of SK5400), has sufficient strength, and has excellent light transmittance. As the curable resin (a), an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin or the like having a carbon-carbon double bond as a reactive functional group (a 1 ) is suitable. Among these, an ultraviolet curable resin that is capable of efficiently forming a hard coat layer by a simple processing operation by a curing treatment by irradiation with ultraviolet rays is preferable. Examples of the ultraviolet curable resin include various resins such as polyester resins, acrylic resins, urethane resins, amide resins, silicone resins, and epoxy resins.
Polymers and the like are included. UV-curable resin preferably used, for example, those having a UV-polymerizable functional group,
Among them, those containing a component of an acrylic monomer or oligomer having two or more, particularly 3 to 6 of the functional groups are mentioned. Further, an ultraviolet polymerization initiator is blended with the ultraviolet curable resin.
【００３０】前記ハードコート層Ａは、屈折率を調節す
るために平均粒子径０．１μｍ以下の超微粒子を含有さ
せることができる。かかる超微粒子としては、例えばＰ
ＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ポリウレタン、
ポリスチレン、メラミン樹脂等の各種ポリマーからなる
架橋又は未架橋の有機系微粒子、ガラス、シリカ、アル
ミナ、酸化カルシウム、チタニア、酸化ジルコニウム、
酸化亜鉛等の無機系粒子や、酸化錫、酸化インジウム、
酸化カドミウム、酸化アンチモンまたはこれらの複合物
等の導電性無機系粒子などがあげられる。前記超微粒子
のなかでも導電性無機系粒子を用いると効果的に挨付着
性を改善できる。超微粒子としては、特に、ＩＴＯ（酸
化インジウム／酸化錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸
化錫）、酸化錫等を用いるのが好ましい。The hard coat layer A may contain ultrafine particles having an average particle diameter of 0.1 μm or less in order to adjust the refractive index. Examples of such ultrafine particles include P
MMA (polymethylmethacrylate), polyurethane,
Polystyrene, crosslinked or uncrosslinked organic fine particles made of various polymers such as melamine resin, glass, silica, alumina, calcium oxide, titania, zirconium oxide,
Inorganic particles such as zinc oxide, tin oxide, indium oxide,
Examples thereof include conductive inorganic particles such as cadmium oxide, antimony oxide or a composite thereof. If the conductive inorganic particles are used among the ultrafine particles, the dust adhesion can be effectively improved. As the ultrafine particles, it is particularly preferable to use ITO (indium oxide / tin oxide), ATO (antimony oxide / tin oxide), tin oxide or the like.
【００３１】ハードコート層Ａの屈折率は、透明基材フ
ィルム１の屈折率より高くなるように調整するのが好ま
しく、通常、屈折率が、１．４９〜１．８程度になるよ
うに調整するのが好ましい。The refractive index of the hard coat layer A is preferably adjusted so as to be higher than that of the transparent substrate film 1, and normally, the refractive index is adjusted to be about 1.49 to 1.8. Preferably.
【００３２】ハードコート層Ａは、表面を凹凸構造にし
て防眩性を付与することができる。ハードコート層Ａに
防眩性を付与する手段は特に制限されない。たとえば、
サンドブラスト、エンボスロール、化学エッチング等の
適宜な方式で粗面化処理して表面に微細凹凸構造を付与
する方法、金型による転写方式等にて表面に微細凹凸構
造を付与する方法、微粒子を分散含有させた樹脂層によ
り微細凹凸構造を形成する方法などがあげられる。前記
微細凹凸構造を形成する微粒子としては、前記例示の微
粒子と同様の材料のものを使用でき、防眩性達成の点よ
り微粒子の平均粒子径が０．５〜１０μｍ、さらには１
〜５μｍのものが好ましい。微粒子により微細凹凸構造
を形成する場合、微粒子の使用量は樹脂１００重量部に
対して、１〜３０重量部程度とするのが好ましい。The hard coat layer A can have an uneven structure on the surface to impart antiglare properties. The means for imparting the antiglare property to the hard coat layer A is not particularly limited. For example,
A method of roughening the surface by an appropriate method such as sandblasting, embossing roll, or chemical etching to give a fine uneven structure to the surface, a method of giving a fine uneven structure to the surface by a transfer method such as a mold, and dispersing fine particles. Examples thereof include a method of forming a fine concavo-convex structure with the contained resin layer. As the fine particles forming the fine concavo-convex structure, the same material as the fine particles exemplified above can be used, and the average particle diameter of the fine particles is 0.5 to 10 μm, and further 1 from the viewpoint of achieving antiglare property.
It is preferably about 5 μm. When forming a fine concavo-convex structure with fine particles, the amount of the fine particles used is preferably about 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin.
【００３３】なお、ハードコート層（防眩層）Ａの形成
には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等
の添加剤を含有させることができる。ハードコート層
（防眩層）Ａの形成に当たり、チクソトロピー剤（０．
１μｍ以下のシリカ、マイカ等）を含有させることによ
り、防眩層表面において、突出粒子により微細凹凸構造
を容易に形成することができる。The hard coat layer (antiglare layer) A may contain additives such as a leveling agent, a thixotropic agent and an antistatic agent. When forming the hard coat layer (anti-glare layer) A, a thixotropic agent (0.
By containing 1 μm or less of silica, mica or the like), a fine concavo-convex structure can be easily formed by the protruding particles on the surface of the antiglare layer.
【００３４】ハードコート層Ａの形成方法は特に制限さ
れず、適宜な方式を採用することができる。たとえば、
前記透明基材フィルム１上に、前記硬化性樹脂（ａ）を
塗工し、乾燥後、硬化処理する。硬化処理は、反応性官
能基（ａ1 ）を残したハーフキュア状態にする。ハーフ
キュア状態にする方法は特に制限されない。硬化性樹脂
（ａ）が紫外線硬化型樹脂の場合には、硬化性樹脂
（ａ）が完全に硬化しないように紫外線照射量を適宜に
調節することによりハーフキュア状態にすることができ
る。前記樹脂が微粒子を含有する場合には表面に凹凸形
状を呈するようなハードコート層（防眩層）１が形成さ
れる。The method for forming the hard coat layer A is not particularly limited, and an appropriate method can be adopted. For example,
The curable resin (a) is applied onto the transparent substrate film 1, dried and then cured. The curing treatment is a half-cure state in which the reactive functional group (a 1 ) remains. There is no particular limitation on the method for making the half-cure state. When the curable resin (a) is an ultraviolet curable resin, it can be brought into a half-cure state by appropriately adjusting the ultraviolet irradiation amount so that the curable resin (a) is not completely cured. When the resin contains fine particles, a hard coat layer (antiglare layer) 1 having an uneven surface is formed.
【００３５】前記硬化性樹脂（ａ）の塗工は、ファンテ
ン、ダイコーター、キャスティング、スピンコート、フ
ァンテンメタリング、グラビア等の適宜な方式で塗工さ
れる。なお、塗工にあたり、前記樹脂は、トルエン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソプロピルアルコール、エチルアル
コール等の一般的な溶剤で希釈してもよく、希釈するこ
となくそのまま塗工することもできる。また、ハードコ
ート層Ａの厚さは特に制限されないが、０．５〜２０μ
ｍ程度、特に１〜１０μｍとするのが好ましい。The curable resin (a) is applied by an appropriate method such as fan ten, die coater, casting, spin coat, fan ten metalling, gravure and the like. In the coating, the resin may be diluted with a general solvent such as toluene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol, and ethyl alcohol, or may be directly coated without dilution. You can also Further, the thickness of the hard coat layer A is not particularly limited, but is 0.5 to 20 μm.
It is preferably about m, particularly 1 to 10 μm.
【００３６】反射防止層Ｂの形成材（Ｂ）は、反応性官
能基（ｂ1 ）を有する硬化性樹脂（ｂ）を含む。当該硬
化性樹脂（ｂ）はハードコート層Ａの屈折率よりも低い
屈折率の低屈折率材料が用いられる。The material (B) for forming the antireflection layer B contains a curable resin (b) having a reactive functional group (b 1 ). As the curable resin (b), a low refractive index material having a refractive index lower than that of the hard coat layer A is used.
【００３７】反射防止層Ｂを形成する材料としては、例
えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂系材料、当該
樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させた
ハイブリッド系材料、テトラエトキシシラン、チタンテ
トラエトキシド等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲ
ル系材料等があげられる。これらのなかでも耐擦傷性の
面からは、無機成分含有量が多い低屈折率層材料が優れ
る傾向にあり、特にゾル−ゲル系材料が好ましい。ゾル
−ゲル系材料は、表面の防汚染性付与するためフッ素基
含有化合物を用いるのが好ましい。As the material for forming the antireflection layer B, for example, a resin material such as an ultraviolet curable acrylic resin, a hybrid material in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, tetraethoxysilane, titanium. Examples thereof include a sol-gel material using a metal alkoxide such as tetraethoxide. Among these, from the viewpoint of scratch resistance, a low refractive index layer material having a large content of inorganic components tends to be excellent, and a sol-gel material is particularly preferable. For the sol-gel material, it is preferable to use a fluorine group-containing compound in order to impart antifouling property to the surface.
【００３８】前記ゾル−ゲル系材料としてはアルコキシ
シランが好ましい。これらによりポリシロキサン構造が
形成される。アルコキシシランの具体的は、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプ
ロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルト
リメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プ
ロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシ
シラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエト
キシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキ
シシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリ
メトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチ
ルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等があ
げられる。これらアルコキシシランはその部分縮合物等
として用いることができる。これらのなかでもテトラア
ルコキシシラン類またはこれらの部分縮合物等が好まし
い。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ンまたはこれらの部分縮合物が好ましい。As the sol-gel material, alkoxysilane is preferable. These form a polysiloxane structure. Specific examples of the alkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetraalkoxysilanes such as tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyl. Tributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylto Trialkoxysilanes such as ethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, and 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Examples thereof include diethyldimethoxysilane and diethyldiethoxysilane. These alkoxysilanes can be used as their partial condensates. Among these, tetraalkoxysilanes and their partial condensates are preferred. In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane or their partial condensates are preferred.
【００３９】前記フッ素基を含有するゾル−ゲル系材料
としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例
示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランとし
ては、たとえば、一般式（１）：ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 Ｓｉ（ＯＲ）3 （式中、Ｒは、炭素数１〜５
個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で
表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオ
ロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオク
チルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルト
リエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメト
キシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシ
ランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜
６の化合物が好ましい。Examples of the sol-gel material containing a fluorine group include perfluoroalkylalkoxysilane. Examples of the perfluoroalkylalkoxysilane include general formula (1): CF 3 (CF 2 ) n C
H 2 CH 2 Si (OR) 3 (wherein R is a carbon number of 1 to 5)
Represents an individual alkyl group, and n represents an integer of 0 to 12). Specifically, for example,
Examples thereof include trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and heptadecafluorodecyltriethoxysilane. Among these, n is 2 to
Compounds of 6 are preferred.
【００４０】形成材（Ｂ）は、前記化合物（ｃ）を含
む。ハードコート層Ａの硬化性樹脂（ａ）として、放射
線硬化性樹脂を用い、反射防止層Ｂの硬化性樹脂（ｂ）
として、アルコキシシラン等のゾル−ゲル材料を用いた
場合には、化合物（ｃ）として、炭素−炭素二重結合お
よびアルコキシシリル基を有する化合物、すなわち、炭
素−炭素二重結合を有するシランカップリング剤が好適
に用いられる。かかるシランカップリング剤としては、
信越化学工業（株）社製のＫＢＥ５０２、ＫＢＥ５０３
等があげられる。前記シランカップリング剤の使用量
は、特に制限されないが、硬化性樹脂（ｂ）１００重量
部に対して０．１〜２０重量部、さらには１〜１０重量
部であるのが好適である。The forming material (B) contains the compound (c). A radiation curable resin is used as the curable resin (a) for the hard coat layer A, and a curable resin (b) for the antireflection layer B is used.
When a sol-gel material such as alkoxysilane is used as the compound, as the compound (c), a compound having a carbon-carbon double bond and an alkoxysilyl group, that is, a silane coupling having a carbon-carbon double bond. Agents are preferably used. As such a silane coupling agent,
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE502, KBE503
Etc. The amount of the silane coupling agent used is not particularly limited, but it is preferably 0.1 to 20 parts by weight, and more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin (b).
【００４１】反射防止層形成剤（Ｂ）にはシリカ、アル
ミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セ
リア等をアルコール溶媒に分散したゾルなどを添加して
も良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適
宜配合することができる。To the antireflection layer-forming agent (B), a sol in which silica, alumina, titania, zirconia, magnesium fluoride, ceria or the like is dispersed in an alcohol solvent may be added. In addition, additives such as metal salts and metal compounds can be appropriately added.
【００４２】反射防止層Ｂの屈折率は、ハードコート層
Ａの屈折率よりも低い。また透明基材フィルム１の屈折
率よりも低くなるように調整するのが好ましい。反射防
止層Ｂの屈折率は、１. ３８〜１. ４９であるのが好ま
しい。The refractive index of the antireflection layer B is lower than that of the hard coat layer A. Further, it is preferable to adjust the refractive index so that it is lower than the refractive index of the transparent substrate film 1. The refractive index of the antireflection layer B is preferably 1.38 to 1.49.
【００４３】反射防止層Ｂの形成法は、特に制限され
ず、適宜な方式にてハードコート層Ａ上に施される。例
えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター
法、デイッピング法等の適宜な方式にて形成することが
できる。反射防止層Ｂの厚さは特に制限されず、通常、
平均８０〜１５０ｎｍ程度である。The method for forming the antireflection layer B is not particularly limited, and it is applied onto the hard coat layer A by an appropriate method. For example, it can be formed by an appropriate method such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, or a dipping method. The thickness of the antireflection layer B is not particularly limited, and is usually
The average is about 80 to 150 nm.
【００４４】形成材（Ｂ）を塗工後には、ハーフキュア
状態の硬化性樹脂（ａ）と硬化性樹脂（ｂ）を硬化す
る。硬化手段は特に制限されないが、硬化性樹脂（ａ）
が紫外線硬化性樹脂の場合には、残余の炭素−炭素二重
結合がなくなるように紫外線を照射する。また、硬化性
樹脂（ｂ）がゾル−ゲル材料の場合には、熱硬化を行
う。これら硬化手段は同時または順次に行うことができ
る。After applying the forming material (B), the curable resin (a) and the curable resin (b) in a half-cure state are cured. The curing means is not particularly limited, but the curable resin (a)
Is a UV curable resin, it is irradiated with UV rays so that the remaining carbon-carbon double bond is eliminated. When the curable resin (b) is a sol-gel material, heat curing is performed. These curing means can be performed simultaneously or sequentially.
【００４５】本発明の複層フィルムの製造方法では、透
明基材フィルム上に、直接または他の層を介して、樹脂
層（Ａ）および樹脂層（Ｂ）を積層することができる。
反射防止フィルムの場合には、透明基材フィルム１とハ
ードコート層Ａとの間に、透明基材フィルム１の屈折率
よりも屈折率が高く、ハードコート層Ａの屈折率よりも
屈折率が低い中屈折率層を有することができる。かかる
中屈折率層を設けることにより、ハードコート層Ａとし
て高屈折率のものを用いた場合にも反射光の干渉縞を有
効に防止することができる。In the method for producing a multilayer film of the present invention, the resin layer (A) and the resin layer (B) can be laminated on the transparent substrate film directly or via another layer.
In the case of the antireflection film, the refractive index between the transparent base film 1 and the hard coat layer A is higher than that of the transparent base film 1, and the refractive index is higher than that of the hard coat layer A. It may have a low medium refractive index layer. By providing such a medium refractive index layer, interference fringes of reflected light can be effectively prevented even when a hard coat layer A having a high refractive index is used.
【００４６】中屈折率層の材料としては、ハードコート
層Ａと透明基材フィルム１の中間の屈折率を有するもの
であれば特に制限されず、その形成方法も特に制限はな
い。中屈折率層を形成する材料としては、ハードコート
層Ａの形成材料と同様の材料、さらにはアルコキシシラ
ン溶液等の無機系材料が用いられる。これらのなかでも
熱硬化型樹脂系材料、紫外線硬化型樹脂系材料が好まし
い。中屈折率層は、これらを熱または紫外線硬化処理す
ることにより形成できる。中屈折率層にも、例えば、平
均粒子径０．１μｍ以下の、ＩＴＯ（酸化インジウム／
酸化錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化錫）、酸化錫
等の導電性超微粒子を分散含有させることができる。中
屈折率層の厚さは特に制限されないが、１μｍ程度以
下、特に５０〜５００ｎｍとするのが好ましい。The material for the medium refractive index layer is not particularly limited as long as it has an intermediate refractive index between the hard coat layer A and the transparent substrate film 1, and its forming method is also not particularly limited. As a material for forming the medium refractive index layer, the same material as the material for forming the hard coat layer A, and further, an inorganic material such as an alkoxysilane solution is used. Of these, thermosetting resin-based materials and UV-curable resin-based materials are preferable. The medium refractive index layer can be formed by subjecting these to heat or ultraviolet curing treatment. Also in the medium refractive index layer, for example, ITO (indium oxide / indium oxide /
Conductive ultrafine particles such as tin oxide), ATO (antimony oxide / tin oxide), and tin oxide can be dispersed and contained. The thickness of the medium refractive index layer is not particularly limited, but it is preferably about 1 μm or less, particularly 50 to 500 nm.
【００４７】前記反射防止フィルムの透明基材フィルム
１には、光学素子を接着することができる。光学素子と
しては、偏光子があげられる。偏光子は、特に制限され
ず、各種のものを使用できる。偏光子としては、たとえ
ば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール
化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フ
ィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着さ
せて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処
理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向
フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニル
アルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からな
る偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限
されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。An optical element can be bonded to the transparent base film 1 of the antireflection film. Examples of the optical element include a polarizer. The polarizer is not particularly limited, and various kinds can be used. Examples of the polarizer include a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol film, a partially formalized polyvinyl alcohol film, and an ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified film, and a dichroic dye such as iodine or a dichroic dye. Examples include polyene oriented films, such as those obtained by adsorbing a volatile substance and uniaxially stretched, polyvinyl alcohol dehydration products, polyvinyl chloride dehydrochlorination products, and the like. Among these, a polarizer made of a polyvinyl alcohol film and a dichroic substance such as iodine is preferable. The thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 μm.
【００４８】ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素
で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニル
アルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染
色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することが
できる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水
溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色
の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して
水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水
洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚
れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほか
に、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させること
で染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸
はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら
延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色しても
よい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中
でも延伸することができる。A polarizer obtained by dyeing a polyvinyl alcohol film with iodine and uniaxially stretching is produced by, for example, immersing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine, dyeing it, and stretching it to 3 to 7 times its original length. You can If necessary, it may be immersed in an aqueous solution of boric acid, potassium iodide, or the like. If necessary, the polyvinyl alcohol film may be immersed in water and washed with water before dyeing. By washing the polyvinyl alcohol-based film with water, it is possible to wash the stains and anti-blocking agents on the surface of the polyvinyl alcohol-based film, and by swelling the polyvinyl alcohol-based film, the effect of preventing unevenness such as uneven dyeing is also obtained. is there. Stretching may be performed after dyeing with iodine, stretching while dyeing, or stretching and then dyeing with iodine. It can be stretched in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide, or in a water bath.
【００４９】前記偏光子は、通常、片側または両側に透
明保護フィルムが設けられ偏光板として用いられる。透
明保護フィルムは透明性、機械的強度、熱安定性、水分
遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。透明保護
フィルムとしては前記例示の透明基材フィルムと同様の
材料のものが用いられる。前記透明保護フィルムは、表
裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルムを用い
てもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィ
ルムを用いてもよい。透明性や機械的強度、熱安定性や
水分遮断性などに優れるものが好ましく用いられる。ま
た透明保護フィルムは、位相差等の光学的異方性が少な
いほど好ましい場合が多い。前記の透明保護フィルムを
形成するポリマーとしてはトリアセチルセルロースが最
適である。前記反射防止フィルムを、偏光子 (偏光板）
の片側または両側に設ける場合、反射防止フィルムの透
明基材フィルムは、偏光子の透明保護フィルムを兼ねる
ことができる。透明保護フィルムの厚さは、特に制限さ
れないが１０〜３００μｍ程度が一般的である。The above-mentioned polarizer is usually used as a polarizing plate with a transparent protective film provided on one side or both sides. The transparent protective film is preferably one having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropy and the like. As the transparent protective film, the same material as the transparent substrate film exemplified above is used. As the transparent protective film, a transparent protective film made of the same polymer material on the front and back may be used, or a transparent protective film made of a different polymer material may be used. Those having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property and the like are preferably used. Further, it is often preferable that the transparent protective film has less optical anisotropy such as retardation. Triacetyl cellulose is most suitable as the polymer forming the transparent protective film. The anti-reflection film is a polarizer (polarizing plate)
When provided on one side or both sides of the above, the transparent substrate film of the antireflection film can also serve as the transparent protective film of the polarizer. The thickness of the transparent protective film is not particularly limited, but is generally about 10 to 300 μm.
【００５０】反射防止フィルムに偏光板を積層した反射
防止偏光板は、反射防止フィルムを透明保護フィルム、
偏光子、透明保護フィルムを順次に積層したものでもよ
いし、反射防止フィルムに偏光子、透明保護フィルムを
順次に積層したものでもよい。An antireflection polarizing plate in which a polarizing plate is laminated on an antireflection film is a transparent protective film,
A polarizer and a transparent protective film may be sequentially laminated, or an antireflection film and a polarizer and a transparent protective film may be sequentially laminated.
【００５１】その他、透明保護フィルムの偏光子を接着
させない面は、ハードコート層やスティッキング防止や
目的とした処理を施したものであってもよい。ハードコ
ート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施され
るものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの
適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れ
る硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式な
どにて形成することができる。また、スティッキング防
止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。なお、
前記ハードコート層、スティッキング防止層等は、透明
保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途
光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設
けることもできる。In addition, the surface of the transparent protective film to which the polarizer is not adhered may be a hard coat layer or may have been treated for the purpose of preventing sticking. The hard coat treatment is carried out for the purpose of preventing scratches on the surface of the polarizing plate. For example, a transparent protective film is a cured film made of an appropriate ultraviolet-curable resin such as acrylic or silicone that has excellent hardness and sliding characteristics. It can be formed by a method of adding to the surface of the. Further, the sticking prevention treatment is performed for the purpose of preventing adhesion with an adjacent layer. In addition,
The hard coat layer, the sticking prevention layer and the like can be provided on the transparent protective film itself, or can be provided as an optical layer separately from the transparent protective film.
【００５２】また偏光板の層間へ、例えばハードコート
層、プライマー層、接着剤層、粘着剤層、帯電防止層、
導電層、ガスバリヤー層、水蒸気遮断層、水分遮断層等
を挿入、または偏光板表面へ積層しても良い。また。偏
光板の各層を作成する段階では、例えば、導電性粒子あ
るいは帯電防止剤、各種微粒子、可塑剤等を各層の形成
材料に添加、混合等することにより改良を必要に応じて
おこなっても良い。Between the layers of the polarizing plate, for example, a hard coat layer, a primer layer, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer, an antistatic layer,
A conductive layer, a gas barrier layer, a water vapor barrier layer, a moisture barrier layer, etc. may be inserted or laminated on the polarizing plate surface. Also. At the stage of forming each layer of the polarizing plate, the improvement may be carried out, if necessary, by adding or mixing conductive particles or antistatic agents, various fine particles, a plasticizer and the like to the material for forming each layer.
【００５３】光学素子としては、実用に際して、前記偏
光板に、他の光学素子（光学層）を積層した光学フィル
ムを用いることができる。その光学層については特に限
定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／
2 や１／4 等の波長板を含む）、視角補償フィルムなど
の液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層
を１層または２層以上用いることができる。特に、偏光
板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反
射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差
板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板
に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光
板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層され
てなる偏光板が好ましい。楕円偏光板、光学補償付き偏
光板等では偏光板側に反射防止フィルムが付与される。As the optical element, in practical use, an optical film in which another optical element (optical layer) is laminated on the polarizing plate can be used. Although the optical layer is not particularly limited, for example, a reflection plate, a semi-transmission plate, a retardation plate (1 /
One or two or more optical layers that may be used for forming a liquid crystal display device such as a viewing angle compensation film, etc. can be used. In particular, a reflective polarizing plate or a semi-transmissive polarizing plate in which a reflecting plate or a semi-transmissive reflecting plate is further laminated on a polarizing plate, an elliptically polarizing plate or a circular polarizing plate in which a retardation plate is further laminated on a polarizing plate, a polarizing plate A wide viewing angle polarizing plate in which a viewing angle compensation film is further laminated on the plate, or a polarizing plate in which a brightness improving film is further laminated on the polarizing plate is preferable. In the case of an elliptically polarizing plate, a polarizing plate with optical compensation, etc., an antireflection film is provided on the polarizing plate side.
【００５４】さらに必要に応じて、耐擦傷性、耐久性、
耐候性、耐湿熱性、耐熱性、耐湿性、透湿性、帯電防止
性、導電性、層間の密着性向上、機械的強度向上等の各
種特性、機能等を付与するための処理、または機能層の
挿入、積層等を行うこともできる。If necessary, scratch resistance, durability,
Weather resistance, resistance to heat and humidity, heat resistance, moisture resistance, moisture permeability, antistatic properties, conductivity, improved adhesion between layers, improved mechanical strength, etc. Insertion, lamination, etc. can also be performed.
【００５５】反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けた
もので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表
示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのもの
であり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶
表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反
射型偏光板の形成は、必要に応じ、前記透明保護フィル
ム等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付
設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。The reflective polarizing plate is a polarizing plate provided with a reflective layer, and is used to form a liquid crystal display device of the type that reflects incident light from the viewing side (display side) to display. Further, there is an advantage that it is possible to omit the incorporation of a light source such as a backlight and to easily reduce the thickness of the liquid crystal display device. The reflective polarizing plate can be formed by an appropriate method such as a method in which a reflective layer made of metal or the like is attached to one surface of the polarizing plate through the transparent protective film or the like, if necessary.
【００５６】反射型偏光板の具体例としては、必要に応
じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニ
ウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射
層を形成したものなどがあげられる。Specific examples of the reflection type polarizing plate include a transparent protective film which is mat-treated if necessary, and a foil or vapor deposition film made of a reflective metal such as aluminum is attached to one surface to form a reflection layer. can give.
【００５７】反射板は前記偏光板の透明保護フィルムに
直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた
適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどと
して用いることもできる。なお反射層は、通常、金属か
らなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等
で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低
下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層
の別途付設の回避の点などより好ましい。The reflection plate may be used as a reflection sheet in which a reflection layer is provided on an appropriate film according to the transparent film instead of the method of directly applying to the transparent protective film of the polarizing plate. Since the reflective layer is usually made of a metal, the use form in which the reflective surface is covered with a transparent protective film, a polarizing plate, or the like prevents the reduction of the reflectance due to oxidation, and thus the long-lasting initial reflectance. It is more preferable from the viewpoint of avoiding the additional provision of the protective layer.
【００５８】なお、半透過型偏光板は、上記において反
射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透
過型の反射層とすることにより得ることができる。半透
過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表
示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、
視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示
し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバ
ックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源
を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを
形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲
気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節
約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用い
て使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用で
ある。A semi-transmissive polarizing plate can be obtained by using a semi-transmissive reflective layer such as a half mirror that reflects and transmits light in the reflective layer. The semi-transmissive polarizing plate is usually provided on the back side of the liquid crystal cell, and when the liquid crystal display device is used in a relatively bright atmosphere,
An image is displayed by reflecting incident light from the viewing side (display side), and in a relatively dark atmosphere, an image is displayed using a built-in light source such as a backlight built into the back side of the semi-transmissive polarizing plate. It is possible to form a liquid crystal display device of the type that displays That is, the semi-transmissive polarizing plate is useful for forming a liquid crystal display device of a type that can save energy for using a light source such as a backlight in a bright atmosphere and can be used with a built-in light source in a relatively dark atmosphere. Is.
【００５９】偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕
円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を
楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏
光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向
を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直
線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える
位相差板としては、いわゆる1 ／4 波長板（λ／4 板と
も言う）が用いられる。1 ／2 波長板（λ／2 板とも言
う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用い
られる。An elliptical polarizing plate or a circular polarizing plate in which a retardation plate is further laminated on the polarizing plate will be described. A phase difference plate or the like is used when changing linearly polarized light to elliptically polarized light or circularly polarized light, changing elliptically polarized light or circularly polarized light to linearly polarized light, or changing the polarization direction of linearly polarized light. In particular, a so-called ¼ wavelength plate (also called a λ / 4 plate) is used as a retardation plate that changes linearly polarized light into circularly polarized light or changes circularly polarized light into linearly polarized light. A half-wave plate (also called a λ / 2 plate) is usually used to change the polarization direction of linearly polarized light.
【００６０】楕円偏光板はスーパーツイストネマチック
（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じ
た着色（青又は黄）を補償（防止）して、前記着色のな
い白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三
次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を
斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）するこ
とができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー
表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場
合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有す
る。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレ
フィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリ
マーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィ
ルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配
向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位
相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着
色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応
じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上
の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したも
のなどであってもよい。The elliptically polarizing plate compensates (prevents) coloring (blue or yellow) caused by the birefringence of the liquid crystal layer of a super twisted nematic (STN) type liquid crystal display device, and is used for black and white display without the coloring. Used effectively. Further, the one in which the three-dimensional refractive index is controlled is preferable because it can also compensate (prevent) coloring that occurs when the screen of the liquid crystal display device is viewed obliquely. The circularly polarizing plate is effectively used, for example, when adjusting the color tone of an image of a reflective liquid crystal display device in which an image is displayed in color, and also has a function of preventing reflection. Specific examples of the retardation plate described above include polycarbonate, polyvinyl alcohol, polystyrene, polymethylmethacrylate, polypropylene and other polyolefins, polyarylate, and a birefringent film obtained by subjecting a film made of a suitable polymer such as polyamide to a stretching treatment. And a liquid crystal polymer oriented film, a liquid crystal polymer oriented layer supported by a film, and the like. The retardation plate may be one having an appropriate retardation according to the purpose of use, such as various wavelength plates or one for the purpose of compensating for the viewing angle and the like due to birefringence of the liquid crystal layer, and may be two or more kinds. It may be one in which retardation plates are laminated to control optical properties such as retardation.
【００６１】また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板
は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組合せ
で積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射
型）偏光板と位相差板の組合せとなるようにそれらを液
晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっ
ても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学
フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に
優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点
がある。The elliptically polarizing plate or the reflection type elliptically polarizing plate is a laminate of a polarizing plate or a reflection type polarizing plate and a retardation plate in an appropriate combination. Such an elliptically polarizing plate or the like can be formed by sequentially stacking them separately in the manufacturing process of a liquid crystal display device so as to form a combination of a (reflection type) polarizing plate and a retardation plate. An optical film such as a polarizing plate is excellent in stability of quality, workability of lamination, and the like, and has an advantage that manufacturing efficiency of a liquid crystal display device can be improved.
【００６２】視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面
を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合で
も、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるた
めのフィルムである。このような視角補償位相差板とし
ては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フ
ィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持し
たものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に
一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用
いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる
位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有す
るポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ
方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折
を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延
伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとして
は、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着し
て加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを
延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマー
を斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素
材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと
同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく
視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡
大などを目的とした適宜なものを用いうる。The viewing angle compensating film is a film for widening the viewing angle so that the image can be seen relatively clearly even when the screen of the liquid crystal display device is viewed from a slightly oblique direction, not perpendicular to the screen. Such a viewing angle compensating retardation plate includes, for example, a retardation film, an orientation film of a liquid crystal polymer or the like, or a transparent substrate on which an orientation layer of a liquid crystal polymer or the like is supported. The ordinary retardation film is a birefringent polymer film uniaxially stretched in the plane direction, whereas the retardation plate used as the viewing angle compensation film is biaxially stretched in the plane direction. A polymer film having birefringence, or a bidirectionally stretched film such as a polymer or a tilt-oriented film having a birefringence in which the refractive index in the thickness direction stretched uniaxially in the plane direction and also stretched in the thickness direction is controlled. Used. Examples of the tilted oriented film include those obtained by adhering a heat-shrinkable film to a polymer film and subjecting the polymer film to stretching treatment and / or shrinking treatment under the action of the shrinkage force caused by heating, and those obtained by obliquely orienting a liquid crystal polymer. Can be mentioned. The raw material polymer of the retardation plate is the same as the polymer explained in the previous retardation plate, which prevents coloration due to the change of the viewing angle due to the phase difference due to the liquid crystal cell and enlarges the viewing angle for good viewing. An appropriate one can be used for the purpose such as.
【００６３】また良視認の広い視野角を達成する点など
より、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液
晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリ
アセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相
差板が好ましく用いうる。Further, from the viewpoint of achieving a wide viewing angle for good visibility, an optically anisotropic layer comprising an alignment layer of a liquid crystal polymer, particularly an inclined alignment layer of a discotic liquid crystal polymer, is supported by a triacetyl cellulose film. A compensation retardation plate can be preferably used.
【００６４】偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた
偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用
される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバッ
クライトや裏側からの反射などにより自然光が入射する
と所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射
し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィ
ルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光
源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると
共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射され
る。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後
ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フ
ィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態
の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の
増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給
して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図る
ことにより輝度を向上させうるものである。すなわち、
輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液
晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合に
は、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する
光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透
過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によって
も異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてし
まい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少
し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸
収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させ
ずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側
に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィ
ルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反
射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るよ
うな偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは
透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの
光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画
面を明るくすることができる。The polarizing plate in which the polarizing plate and the brightness enhancement film are bonded together is usually used by being provided on the back side of the liquid crystal cell. The brightness enhancement film has a property of reflecting linearly polarized light of a predetermined polarization axis or circularly polarized light of a predetermined direction when natural light is incident due to reflection from a backlight of a liquid crystal display device or the back side, and transmits other light. A polarizing plate in which a brightness enhancement film is laminated with a polarizing plate allows light from a light source such as a backlight to enter and obtain transmitted light in a predetermined polarization state, and light other than the predetermined polarization state is reflected without being transmitted. It The light reflected by the surface of the brightness enhancement film is inverted through a reflection layer or the like provided on the rear side of the brightness enhancement film to be re-incident on the brightness enhancement film, and part or all of the light is transmitted as light in a predetermined polarization state to achieve brightness. The brightness can be improved by increasing the amount of light transmitted through the improvement film and by supplying polarized light that is difficult to be absorbed by the polarizer to increase the amount of light that can be used for liquid crystal display image display and the like. That is,
When light is input from the back side of the liquid crystal cell through a polarizer without using a brightness enhancement film, almost all light with a polarization direction that does not match the polarization axis of the polarizer is reflected by the polarizer. It is absorbed and does not pass through the polarizer. That is, although depending on the characteristics of the polarizer used, about 50% of light is absorbed by the polarizer, and the amount of light that can be used for liquid crystal image display and the like is reduced accordingly, and the image becomes dark. The brightness enhancement film allows light having a polarization direction that is absorbed by the polarizer to be reflected once by the brightness enhancement film without being incident on the polarizer, and then inverted through a reflection layer or the like provided behind it. The light-increasing film transmits only the polarized light whose polarization direction is such that the light reflected and inverted between the two can pass through the polarizer. Since the light is supplied to the polarizer, light from a backlight or the like can be efficiently used for displaying an image on the liquid crystal display device, and the screen can be brightened.
【００６５】輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡
散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって
反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置
された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏
光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板
は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、す
なわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を
介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルム
に再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィ
ルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にも
どす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持
しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均
一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板
を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回
数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の
明るい表示画面を提供することができたものと考えられ
る。A diffuser plate may be provided between the brightness enhancement film and the reflective layer or the like. The light in the polarization state reflected by the brightness enhancement film goes to the reflection layer and the like, but the installed diffusion plate uniformly diffuses the light passing therethrough, and at the same time, cancels the polarization state and becomes a non-polarization state. That is, the diffuser plate returns the polarized light to the original natural light state. The light in the non-polarized state, that is, the light in the natural light state, is repeatedly directed to the reflection layer and the like, reflected through the reflection layer and the like, again passes through the diffuser plate, and is incident again on the brightness enhancement film. Thus, between the brightness enhancement film and the reflective layer, while maintaining the brightness of the display screen by providing a diffuser that returns the polarized light to the original natural light state, at the same time, reduce the unevenness of the brightness of the display screen, It is possible to provide a uniform and bright screen. It is considered that by providing such a diffusion plate, the number of repetitions of reflection of the first incident light is moderately increased, and it is possible to provide a uniform bright display screen in combination with the diffusion function of the diffusion plate.
【００６６】前記の輝度向上フィルムとしては、例えば
誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィル
ムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過し
て他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液
晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム
基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいず
れか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示
すものなどの適宜なものを用いうる。The above-mentioned brightness enhancement film is, for example, a multilayer thin film of a dielectric or a multilayer laminate of thin films having different refractive index anisotropies, transmits linearly polarized light of a predetermined polarization axis and reflects other light. Those that exhibit the characteristics of, such as an oriented film of a cholesteric liquid crystal polymer or an oriented liquid crystal layer supported on a film substrate, reflect either left-handed or right-handed circularly polarized light and transmit other light. Appropriate materials such as those exhibiting characteristics can be used.
【００６７】従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を
透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光
をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることによ
り、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過さ
せることができる。一方、コレステリック液晶層の如く
円偏光を投下するタイプの輝度向上フィルムでは、その
まま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑
制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化し
て偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相
差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を
直線偏光に変換することができる。Therefore, in the brightness enhancement film of the type which transmits the linearly polarized light of the predetermined polarization axis, the transmitted light is directly incident on the polarizing plate with the polarization axis aligned to suppress the absorption loss by the polarizing plate. It can be efficiently transmitted. On the other hand, in the case of a type of brightness enhancement film that drops circularly polarized light such as a cholesteric liquid crystal layer, it can be directly incident on the polarizer, but from the viewpoint of suppressing absorption loss, the circularly polarized light is linearly polarized through a retardation plate. It is preferable that the light is incident on the polarizing plate. By using a ¼ wavelength plate as the retardation plate, circularly polarized light can be converted into linearly polarized light.
【００６８】可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板
として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡
色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他
の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板とし
て機能する位相差層とを重畳する方式などにより得るこ
とができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に
配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層から
なるものであってよい。The retardation plate functioning as a quarter-wave plate in a wide wavelength range such as a visible light region is, for example, a retardation layer functioning as a quarter-wave plate and another phase difference for light-color light having a wavelength of 550 nm. It can be obtained by a method of superposing a retardation layer exhibiting characteristics, for example, a retardation layer functioning as a half-wave plate. Therefore, the retardation plate disposed between the polarizing plate and the brightness enhancement film may be composed of one layer or two or more retardation layers.
【００６９】なお、コレステリック液晶層についても、
反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３
層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域
等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることが
でき、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得る
ことができる。As for the cholesteric liquid crystal layer,
Two layers or three layers with different reflection wavelengths
By arranging the layers so as to overlap each other, it is possible to obtain an element that reflects circularly polarized light in a wide wavelength range such as a visible light region, and based on that, it is possible to obtain transmitted circularly polarized light in a wide wavelength range.
【００７０】また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板
の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層し
たものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏
光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型
楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。Further, the polarizing plate may be formed by laminating a polarizing plate and two or three or more optical layers, like the above-mentioned polarization separation type polarizing plate. Therefore, it may be a reflective elliptical polarizing plate or a semi-transmissive elliptical polarizing plate in which the above reflective polarizing plate or semi-transmissive polarizing plate is combined with a retardation plate.
【００７１】前記光学素子への光拡散性シートの積層、
さらには偏光板への各種光学層の積層は、液晶表示装置
等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行うこと
ができるが、これらを予め積層したのものは、品質の安
定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造
工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適
宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の光学
フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とする位
相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができ
る。Laminating a light diffusing sheet on the optical element,
Further, various optical layers can be laminated on the polarizing plate by a method of sequentially laminating them separately in the manufacturing process of a liquid crystal display device or the like. There is an advantage that it is excellent in assembling work and can improve the manufacturing process of liquid crystal display devices and the like. Appropriate adhesion means such as an adhesive layer may be used for lamination. In adhering the above-mentioned polarizing plate and other optical films, the optical axes thereof can be set at an appropriate arrangement angle according to the intended retardation characteristics and the like.
【００７２】前述した偏光板や、偏光板を少なくとも１
層積層されている光学フィルム等の光学素子の少なくと
も片面には、前記光拡散性シートが設けられているが、
光拡散性シートが設けられていない面には、液晶セル等
の他部材と接着するための粘着層を設けることもでき
る。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例
えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フ
ッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとする
ものを適宜に選択して用いることができる。特に、アク
リル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性
と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性
などに優れるものが好ましく用いうる。At least one polarizing plate or at least one polarizing plate is used.
At least one surface of an optical element such as an optical film that is laminated in layers is provided with the light diffusing sheet,
An adhesive layer for adhering to another member such as a liquid crystal cell may be provided on the surface on which the light diffusing sheet is not provided. The pressure-sensitive adhesive that forms the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but for example, an acrylic polymer, a silicone-based polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, or a fluorine-based or rubber-based polymer as a base polymer is appropriately selected. Can be used. In particular, an acrylic pressure-sensitive adhesive, which has excellent optical transparency, exhibits appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and has excellent weather resistance and heat resistance, can be preferably used.
【００７３】また上記に加えて、吸湿による発泡現象や
剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や
液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる
液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐
熱性に優れる粘着層が好ましい。In addition to the above, prevention of foaming phenomenon and peeling phenomenon due to moisture absorption, deterioration of optical characteristics due to difference in thermal expansion and prevention of warpage of liquid crystal cells, and further formation of a liquid crystal display device of high quality and excellent durability, etc. From this point of view, an adhesive layer having a low moisture absorption rate and excellent heat resistance is preferable.
【００７４】粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂
類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビー
ズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔
料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されること
の添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して
光拡散性を示す粘着層などであってもよい。The adhesive layer is made of, for example, natural or synthetic resins, in particular, tackifying resins, fillers, pigments, colorants, and oxidizers made of glass fibers, glass beads, metal powder, other inorganic powders, and the like. It may contain an additive such as an inhibitor that is added to the adhesive layer. Further, it may be an adhesive layer containing fine particles and exhibiting light diffusion property.
【００７５】偏光板、光学フィルム等の光学素子への粘
着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例として
は、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独
物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその
組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量％程度の粘
着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜
な展開方式で光学素子上に直接付設する方式、あるいは
前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを光学
素子上に移着する方式などがあげられる。粘着層は、各
層で異なる組成又は種類等のものの重畳層として設ける
こともできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力など
に応じて適宜に決定でき、一般には１〜５００μｍであ
り、５〜２００μｍが好ましく、特に１０〜１００μｍ
が好ましい。The adhesive layer may be attached to an optical element such as a polarizing plate or an optical film by an appropriate method. As an example thereof, a pressure-sensitive adhesive solution of about 10 to 40% by weight in which a base polymer or a composition thereof is dissolved or dispersed in a solvent composed of a single solvent or a mixture of appropriate solvents such as toluene and ethyl acetate is prepared, A method in which it is directly attached on the optical element by an appropriate development method such as a casting method or a coating method, or a method in which an adhesive layer is formed on the separator and transferred to the optical element in accordance with the above, etc. can give. The adhesive layer may be provided as a layer in which layers having different compositions or types are stacked. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately determined depending on the purpose of use, adhesive strength, etc., and is generally 1 to 500 μm, preferably 5 to 200 μm, and particularly 10 to 100 μm.
Is preferred.
【００７６】粘着層の露出面に対しては、実用に供する
までの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着さ
れてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着
層に接触することを防止できる。セパレータとしては、
上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴ
ムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属
箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に
応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モ
リブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなど
の、従来に準じた適宜なものを用いうる。The exposed surface of the adhesive layer is temporarily covered with a separator for the purpose of preventing its contamination or the like until it is put into practical use. As a result, it is possible to prevent contact with the adhesive layer in the usual handling state. As a separator,
Except for the above thickness conditions, for example, a plastic film, a rubber sheet, a paper, a cloth, a non-woven fabric, a net, a foamed sheet or a metal foil, an appropriate thin sheet such as a laminate thereof, and a silicone-based or long-chain alkyl-based as necessary. It is possible to use an appropriate one according to the prior art, such as one coated with an appropriate release agent such as fluorine-based or molybdenum sulfide.
【００７７】なお本発明において、上記した光学素子を
形成する偏光子や透明保護フィルムや光学層等、また粘
着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合
物やべンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系
化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系
化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式によ
り紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。In the present invention, each layer such as a polarizer, a transparent protective film, an optical layer, etc. forming the above-mentioned optical element, and each layer such as an adhesive layer may be, for example, a salicylic acid ester compound, a benzophenol compound, a benzotriazole compound. Alternatively, it may be one having an ultraviolet absorbing ability by a method such as a method of treating with an ultraviolet absorber such as a cyanoacrylate compound or a nickel complex salt compound.
【００７８】本発明の光拡散シートを設けた光学素子は
液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いる
ことができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行
いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光
学素子、及び必要に応じての照明システム等の構成部品
を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成
されるが、本発明においては本発明による光学素子を用
いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶
セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型などの
任意なタイプのものを用いうる。The optical element provided with the light diffusion sheet of the present invention can be preferably used for forming various devices such as a liquid crystal display device. The liquid crystal display device can be formed in a conventional manner. That is, a liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling a liquid crystal cell, an optical element, and a component such as an illumination system, if necessary, and incorporating a drive circuit. There is no particular limitation except that an element is used, and the method can be applied conventionally. The liquid crystal cell may be of any type such as TN type, STN type, and π type.
【００７９】液晶セルの片側又は両側に前記光学素子を
配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライト
あるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置
を形成することができる。その場合、本発明による光学
素子は液晶セルの片側又は両側に設置することができ
る。両側に光学素子を設ける場合、それらは同じもので
あってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、
液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチ
グレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レン
ズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な
部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することがで
きる。It is possible to form an appropriate liquid crystal display device such as a liquid crystal display device in which the above-mentioned optical element is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell, or a device using a backlight or a reflector in an illumination system. In that case, the optical element according to the present invention can be installed on one side or both sides of the liquid crystal cell. When optical elements are provided on both sides, they may be the same or different. further,
When forming a liquid crystal display device, appropriate components such as a diffusion plate, an anti-glare layer, an antireflection film, a protective plate, a prism array, a lens array sheet, a light diffusion plate, and a backlight are formed in one layer or two layers at appropriate positions. The above can be arranged.
【００８０】次いで有機エレクトロルミネセンス装置
（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機
ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と
金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミ
ネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層
は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニ
ルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン
等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あ
るいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電
子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入
層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み
合わせをもった構成が知られている。Next, an organic electroluminescence device (organic EL display device) will be described. Generally, in an organic EL display device, a transparent electrode, an organic light emitting layer, and a metal electrode are sequentially laminated on a transparent substrate to form a light emitting body (organic electroluminescent light emitting body). Here, the organic light emitting layer is a laminate of various organic thin films, for example, a laminate of a hole injection layer made of a triphenylamine derivative or the like and a light emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, Alternatively, a structure having various combinations such as a laminated body of such a light emitting layer and an electron injection layer formed of a perylene derivative, or a laminated body of these hole injection layer, light emitting layer, and electron injection layer is known. Has been.
【００８１】有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極
とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と
電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によっ
て生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍
光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原
理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般
のダイオードと同様であり、このことからも予想できる
ように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴
う強い非線形性を示す。In the organic EL display device, holes and electrons are injected into the organic light emitting layer by applying a voltage to the transparent electrode and the metal electrode, and the energy generated by the recombination of these holes and electrons is fluorescent. It emits light based on the principle that a substance is excited and the excited fluorescent substance emits light when returning to the ground state. The mechanism of recombination in the middle is similar to that of a general diode, and as can be expected from this, the current and the emission intensity show a strong nonlinearity with rectification with respect to the applied voltage.
【００８２】有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層
での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透
明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴ
Ｏ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として
用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上
げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが
重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を
用いている。In the organic EL display device, at least one electrode must be transparent in order to extract light emitted from the organic light emitting layer.
A transparent electrode formed of a transparent conductor such as O) is used as an anode. On the other hand, it is important to use a substance having a small work function for the cathode in order to facilitate electron injection and increase the luminous efficiency, and a metal electrode such as Mg-Ag or Al-Li is usually used.
【００８３】このような構成の有機ＥＬ表示装置におい
て、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜
で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と
同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に
透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを
透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面
側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示
装置の表示面が鏡面のように見える。In the organic EL display device having such a structure, the organic light emitting layer is formed of an extremely thin film having a thickness of about 10 nm. For this reason, the organic light emitting layer transmits light almost completely like the transparent electrode. As a result, when entering from the surface of the transparent substrate during non-light emission, the light transmitted through the transparent electrode and the organic light emitting layer and reflected by the metal electrode goes out to the surface side of the transparent substrate again, when viewed from the outside, The display surface of the organic EL display device looks like a mirror surface.
【００８４】電圧の印加によって発光する有機発光層の
表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面
側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス
発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表
面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光
板との間に位相差板を設けることができる。In an organic EL display device including an organic electroluminescent light-emitting body having a transparent electrode on the front surface side of an organic light-emitting layer that emits light when a voltage is applied and a metal electrode on the back surface side of the organic light-emitting layer, A polarizing plate can be provided on the surface side of the electrode, and a retardation plate can be provided between the transparent electrode and the polarizing plate.
【００８５】位相差板および偏光板は、外部から入射し
て金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するた
め、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視
認させないという効果がある。特に、位相差板を1 ／4
波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向の
なす角をπ／4 に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に
遮蔽することができる。Since the retardation plate and the polarizing plate have a function of polarizing the light which is incident from the outside and reflected by the metal electrode, there is an effect that the mirror surface of the metal electrode is not visually recognized from the outside by the polarization action. Especially, the phase difference plate is 1/4.
The mirror surface of the metal electrode can be completely shielded by using a wave plate and adjusting the angle between the polarization directions of the polarizing plate and the retardation plate to π / 4.
【００８６】すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射す
る外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過す
る。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光とな
るが、とくに位相差板が1 ／4 波長板でしかも偏光板と
位相差板との偏光方向のなす角がπ／4 のときには円偏
光となる。That is, of the external light incident on the organic EL display device, only the linearly polarized light component is transmitted by the polarizing plate. This linearly polarized light is generally elliptically polarized by the retardation plate, but it is circularly polarized when the retardation plate is a 1/4 wavelength plate and the polarization direction between the polarizing plate and the retardation plate is π / 4. .
【００８７】この円偏光は、透明基板、透明電極、有機
薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透
明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光
となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と
直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、
金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。This circularly polarized light passes through the transparent substrate, the transparent electrode and the organic thin film, is reflected by the metal electrode, again passes through the organic thin film, the transparent electrode and the transparent substrate, and becomes linearly polarized light again on the retardation plate. . Since this linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of the polarizing plate, it cannot pass through the polarizing plate. as a result,
The mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.
【００８８】[0088]
【実施例】以下に、実施例によって本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定され
るものではない。各例中、部および％は重量基準であ
る。
実施例１
紫外線硬化型アクリル系樹脂１００部に、紫外線重合開
始剤２０部を溶媒（トルエン）を介して混合し、さらに
金属酸化物微粒子２００部を混合し、固形分４０％の塗
工液（下層形成材Ａ）を調製した。厚さ８０μｍのトリ
アセチルセルロースフィルムの片面に、バーコーター＃
１０にて前記塗工液を塗工し、９０℃のオーブンに３分
間入れて溶剤乾燥後、紫外線照射（積算光量８０ｍＪ／
ｃｍ2 ）してハーフキュアした。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In each example, parts and% are based on weight. Example 1 20 parts of an ultraviolet polymerization initiator was mixed with 100 parts of an ultraviolet curable acrylic resin via a solvent (toluene), and 200 parts of metal oxide fine particles were further mixed to obtain a coating liquid having a solid content of 40% ( A lower layer forming material A) was prepared. Apply a bar coater # on one side of a 80 μm thick triacetyl cellulose film.
The coating solution was applied at 10 and put in an oven at 90 ° C. for 3 minutes to dry the solvent, followed by irradiation with ultraviolet rays (total light amount 80 mJ /
cm 2 ) and half cured.
【００８９】フッ素変性アルコキシシランの固形分１％
のアルコール溶液に、当該溶液の固形分に対して５％の
信越化学工業（株）社製のＫＢＥ５０２を添加して、塗
工液（上層形成材Ｂ）を調製した。この塗工液を、上記
ハーフキュア面にバーコーター＃７にて塗工した。次い
で、９０℃のオーブンに３分間入れて溶剤を乾燥すると
ともに形成材Ｂを硬化し、さらに紫外線照射（積算光量
３００ｍＪ／ｃｍ2 ）して形成材Ａを硬化し、下層Ａお
よび上層Ｂを形成したフィルムを作製した。硬化後の下
層Ａの厚みは３μｍ、上層Ｂの厚みは１００ｎｍであっ
た。Solid content of fluorine-modified alkoxysilane 1%
The coating solution (upper layer forming material B) was prepared by adding 5% of KBE502 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. to the alcohol solution of 5% based on the solid content of the solution. This coating liquid was applied to the half cure surface with a bar coater # 7. Then, the mixture is placed in an oven at 90 ° C. for 3 minutes to dry the solvent and cure the forming material B, and further is irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount of 300 mJ / cm 2 ) to cure the forming material A to form a lower layer A and an upper layer B. A film was prepared. The thickness of the lower layer A after curing was 3 μm, and the thickness of the upper layer B was 100 nm.
【００９０】実施例２
実施例１において、信越化学工業（株）社製のＫＢＥ５
０２に代えて、信越化学工業（株）社製のＫＢＥ５０３
を用いたこと以外は実施例１と同様にして、下層Ａおよ
び上層Ｂを形成したフィルムを作製した。Example 2 In Example 1, KBE5 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
KBE503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. in place of 02
A film having a lower layer A and an upper layer B was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above was used.
【００９１】比較例１
実施例１において、下層形成材をハーフキュアする代わ
りに、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2 ）した
こと以外は実施例１と同様にして、下層Ａおよび上層Ｂ
を形成したフィルムを作製した。ただし、塗工液（上層
形成材Ｂ）の塗工後の紫外線照射は行わなかった。Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1 except that the lower layer forming material was irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ) instead of half-curing the lower layer forming material, the lower layer A and the upper layer B were prepared.
The film which formed was produced. However, UV irradiation after coating the coating liquid (upper layer forming material B) was not performed.
【００９２】比較例２
実施例２において、下層形成材をハーフキュアする代わ
りに、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2 ）した
こと以外は実施例２と同様にして、下層Ａおよび上層Ｂ
を形成したフィルムを作製した。ただし、塗工液（上層
形成材Ｂ）の塗工後の紫外線照射は行わなかった。Comparative Example 2 In the same manner as in Example 2 except that the lower layer forming material was irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ) instead of being half-cured, the lower layer A and the upper layer B were prepared.
The film which formed was produced. However, UV irradiation after coating the coating liquid (upper layer forming material B) was not performed.
【００９３】比較例３
実施例１において、下層形成材をハーフキュアする代わ
りに、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2 ）した
こと、また塗工液（上層形成材Ｂ）にＫＢＥ５０２を配
合しなかった以外は実施例１と同様にして、下層Ａおよ
び上層Ｂを形成したフィルムを作製した。ただし、塗工
液（上層形成材Ｂ）の塗工後の紫外線照射は行わなかっ
た。Comparative Example 3 In Example 1, the lower layer forming material was irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ) instead of being half-cured, and KBE502 was not added to the coating liquid (upper layer forming material B). A film having a lower layer A and an upper layer B was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above was used. However, UV irradiation after coating the coating liquid (upper layer forming material B) was not performed.
【００９４】比較例４
実施例１において、塗工液（上層形成材Ｂ）にＫＢＥ５
０２を配合しなかった以外は実施例１と同様にして、下
層Ａおよび上層Ｂを形成したフィルムを作製した。Comparative Example 4 In Example 1, KBE5 was added to the coating liquid (upper layer forming material B).
A film having a lower layer A and an upper layer B was prepared in the same manner as in Example 1 except that 02 was not added.
【００９５】実施例および比較例で得られた複層フィル
ムについて下記耐擦傷性試験を行った。耐擦傷性試験
は、直径２５ｍｍの円柱の平滑な断面にスチールウール
♯００００（平均太さ１２ｍｍ, 日本スチールウール社
製）片を均一に貼り付け、複層フィルムの上層Ｂ表面を
５００ｇの荷重をかけて、１０往復擦った。上層Ｂ表面
の傷付きの状態を目視により下記基準で評価した。結果
を表１に示す。
○----- 若干の傷が入る程度である。
×----- 上層Ｂが削り取られ下層Ａが見える。The following scratch resistance test was conducted on the multilayer films obtained in Examples and Comparative Examples. The scratch resistance test was carried out by uniformly sticking a piece of steel wool # 0000 (average thickness 12 mm, made by Nippon Steel Wool Co.) on a smooth cross section of a cylinder with a diameter of 25 mm, and applying a load of 500 g on the upper layer B surface of the multilayer film. I rubbed it back and forth 10 times. The state of scratches on the surface of the upper layer B was visually evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1. ○ ----- Slightly scratched. × ----- Upper layer B is scraped off and lower layer A is visible.
【００９６】[0096]
【表１】
表１から、実施例で得られた複層フィルムは耐擦傷性が
良好であり、下層Ａと上層Ｂの密着性が良好であると認
められる。また、複層フィルムを反射防止フィルムとし
て用いた偏光板は表示品位が良好であった。[Table 1] From Table 1, it is recognized that the multilayer films obtained in Examples have good scratch resistance and good adhesion between the lower layer A and the upper layer B. The polarizing plate using the multilayer film as the antireflection film had good display quality.
【図１】本発明の複層フィルムの製造方法の概念図であ
る。FIG. 1 is a conceptual diagram of a method for producing a multilayer film of the present invention.
１ 透明基材フィルム Ａ 下層Ａ Ｂ 上層Ｂ 1 Transparent substrate film A lower layer A B Upper layer B
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 5/30 Ｚ (72)発明者 井上 徹雄 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 高村 竜一 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 岡田 圭策 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA25 BA27 BA42 BB03 BB33 BB43 BB51 BB63 BB65 BB67 BC03 BC09 BC14 BC22 2K009 AA04 AA05 AA15 BB13 BB14 BB24 CC02 CC09 CC23 CC24 CC26 CC33 CC34 CC35 CC42 DD02 DD06 EE03 4D075 AE13 BB25Y BB26Z BB42Z BB43Y BB46Y BB46Z CA02 CA13 CA22 CB01 CB02 CB06 DA04 DB33 DB36 DB37 DB38 DB40 DB43 DB45 DB47 DB48 DB53 DB55 DC24 EA07 EA12 EA19 EA21 EB16 EB20 EB22 EB24 EB32 EB33 EB35 EB38 EB39 EB43 EB47 EC45 EC60 4F100 AJ06 AK01B AK01C AK25 AK52 AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C CA30 DE01B EH46B EH46C EH462 EJ08B EJ08C EJ082 EJ54 JB12B JB12C JB14 JG01B JN06─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 1/11 G02B 1/10 A 5/30 Z (72) Inventor Tetsuo Inoue 1 Hozumi Shimozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nicto 1-2 Nitto Denko Co., Ltd. (72) Inventor Ryuichi Takamura 1-2-2 Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture Nicto Denko Co., Ltd. (72) Inventor Keisaku Okada 1-1, Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture No. 2 F-term in Nitto Denko Corporation (Reference) 2H049 BA02 BA06 BA25 BA27 BA42 BB03 BB33 BB43 BB51 BB63 BB65 BB67 BC03 BC09 BC14 BC22 2K009 AA04 AA05 AA15 BB13 BB14 BB24 CC02 CC09 CC23 CC24 CC75 CC03 DD02 CC34 CC02 DD02 CC34 CC02 CC02 CC34 CC02 CC02 CC03 CC34 CC02 CC03 CC03 CC34 CC02 CC03 CC34 CC06 AE13 BB25Y BB26Z BB42Z BB43Y BB46Y BB46Z CA02 CA13 CA22 CB01 CB02 CB06 DA04 DB33 DB36 DB37 DB38 DB40 DB43 DB45 DB47 DB48 DB53 DB55 DC24 EA07 EA12 EA19 EA21 EB16 EB20 EB2 2 EB24 EB32 EB33 EB35 EB38 EB39 EB43 EB47 EC45 EC60 4F100 AJ06 AK01B AK01C AK25 AK52 AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C CA30 DE01B EH46B EH46C EH462 EJ08B EJ08C EJ082 JEJB JJBBJC12B12J54BJC
Claims (7)
介して、形成材（Ａ）により形成された下層の樹脂層
（Ａ）および形成材（Ｂ）により形成された上層の樹脂
層（Ｂ）を積層する複層フィルムの製造方法であって、 反応性官能基（ａ1 ）を有する硬化性樹脂（ａ）を含む
形成材（Ａ）を塗工し、反応性官能基（ａ1 ）を残した
ハーフキュア状態にする工程、 次いで、反応性官能基（ｂ1 ）を有する硬化性樹脂
（ｂ）、および反応性官能基（ａ1 ）に反応性を有する
官能基（ａ2 ）と反応性官能基（ｂ1 ）に反応性を有す
る官能基（ｂ2 ）を有する化合物（ｃ）を含む形成材
（Ｂ）を塗工する工程、 次いで、形成材（Ａ）および形成材（Ｂ）を硬化して、
樹脂層（Ａ）および樹脂層（Ｂ）を形成する工程、 を含むことを特徴とする複層フィルムの製造方法。1. A lower resin layer (A) formed of a forming material (A) and an upper resin layer formed of a forming material (B) on a base film, either directly or through another layer. A method for producing a multilayer film in which (B) is laminated, wherein a forming material (A) containing a curable resin (a) having a reactive functional group (a 1 ) is applied to form a reactive functional group (a). 1 ) is left in a half-cure state, followed by a curable resin (b) having a reactive functional group (b 1 ), and a functional group (a 2 ) having reactivity with the reactive functional group (a 1 ). ) And a forming material (B) containing a compound (c) having a functional group (b 2 ) reactive with a reactive functional group (b 1 ), and then forming material (A) and forming material (B) is cured,
And a step of forming a resin layer (A) and a resin layer (B).
あり、上層の樹脂層（Ｂ）がハードコート層よりも屈折
率の低い反射防止層であることを特徴とする請求項１記
載の複層フィルムの製造方法。2. The lower resin layer (A) is a hard coat layer, and the upper resin layer (B) is an antireflection layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer. A method for producing a multilayer film.
結合を有する官能基であり、反応性官能基（ｂ1 ）がア
ルコキシシリル基であり、化合物（ｃ）が炭素−炭素二
重結合を有するシランカップリング剤であることを特徴
とする請求項１または２記載の複層フィルムの製造方
法。3. The reactive functional group (a 1 ) is a functional group having a carbon-carbon double bond, the reactive functional group (b 1 ) is an alkoxysilyl group, and the compound (c) is carbon-carbon. The method for producing a multilayer film according to claim 1, which is a silane coupling agent having a double bond.
含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか
に記載の複層フィルムの製造方法。4. The method for producing a multilayer film according to claim 1, wherein the lower resin layer (A) contains conductive fine particles.
法により得られた複層フィルムを用いた反射防止フィル
ム。5. An antireflection film using the multilayer film obtained by the production method according to claim 1.
載の反射防止フィルムが設けられていることを特徴とす
る光学素子。6. An optical element, wherein the antireflection film according to claim 5 is provided on one side or both sides of the optical element.
請求項６記載の光学素子を搭載した画像表示装置。7. An image display device equipped with the antireflection film according to claim 5 or the optical element according to claim 6.
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|---|---|---|---|
| JP2002123647A JP2003311911A (en) | 2002-04-25 | 2002-04-25 | Method for manufacturing double-layer film, anti- reflection film, optical element, and image displaying apparatus |
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