JP2003302544A - 光路変換機能付高分子光導波路素子およびその製造方法 - Google Patents
光路変換機能付高分子光導波路素子およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、上記の問題を回避すべく集光
機能を用いず、受発光素子に微小光導波路あるいは微小
光ファイバを突き当てることにより、光路変換を行える
光導波路素子を提供することにある。 【構成】ポリイミド光導波路を長さ１ｍｍ、幅５ｍｍに
切りだし、片側端面を４５°カットした。４５°カット
光導波路を縦型にし、シリコンウェハから剥離し、長さ
５ｃｍの光導波路の端面に熱硬化型エポキシを用い、両
者を接着固定した。このようにして得られた光路変換付
光導波路素子を、面発光レーザ上に突き当てた。
機能を用いず、受発光素子に微小光導波路あるいは微小
光ファイバを突き当てることにより、光路変換を行える
光導波路素子を提供することにある。 【構成】ポリイミド光導波路を長さ１ｍｍ、幅５ｍｍに
切りだし、片側端面を４５°カットした。４５°カット
光導波路を縦型にし、シリコンウェハから剥離し、長さ
５ｃｍの光導波路の端面に熱硬化型エポキシを用い、両
者を接着固定した。このようにして得られた光路変換付
光導波路素子を、面発光レーザ上に突き当てた。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高分子光導波路に関
し、特に光集積回路、光インターコネクション用光学部
品等を製造する方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】光部品、あるいは光ファイバの基材とし
ては、光伝搬損失が小さく、伝送帯域が広いという特徴
を有する石英ガラスや多成分ガラス等の無機系の材料が
広く使用されているが、最近では高分子系の材料も開発
され、無機系材料に比べて加工性や価格の点で優れてい
ることから、光導波路用材料として注目されている。例
えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、あるい
は、ポリスチレンのような透明性に優れた高分子をコア
とし、そのコア材料よりも屈折率の低い高分子をクラッ
ド材料としたコア−クラッド構造からなる平板型光導波
路が作製されている（特開平３−１８８４０２号）。こ
れに対して耐熱性の高い透明性高分子であるポリイミド
を用い低損失の平板型光導波路が実現されている（特開
平２−１１０５００号）。コストなどの要求から光イン
ターコネクション分野において、面発光型レーザ（ＶＣ
ＳＥＬ）が搭載されようとしているが、基板に対して垂
直に出射するレーザ光を基板に対して水平な光導波路に
入射するとき、約９０°の光路変換が必要となる。高分
子光導波路では、ダイシングソーによって、約４５°に
切削し、９０°光路変換を可能にしている（特開平１０
−３００９６１）。しかしながら、この場合、必要な場
所以外も４５°に切削してしまうこと、切削時に汚染の
恐れがあること、更には、受発光素子との間隔を５０μ
ｍ以下にすることは難しく、切削だけでは集光機能が無
いため光が発散してしまい損失の原因になるなどの問題
がある。マイクロレンズを用いることも考えられるが、
そのような場合、樹脂の粘度、濡れ性の管理などコスト
高になってしまう。また、空気中を伝搬するため、反射
が起こり入出力強度も小さくかつ不安定になるなどの問
題があった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を回避すべく集光機能を用いず、受発光素子に微
小光導波路あるいは微小光ファイバを突き当てることに
より、光路変換を行える光導波路素子を提供することに
ある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、光導波路端面に縦型の微小光導波路あるいは微
小光ファイバを形成することにより、前記課題を解決す
ることを見出し本発明を完成させた。 【０００５】すなわち本発明は、光路変換を行うために
第１の光導波路の光入出射端面が４５°カット面となっ
ており、他の光導波路が第１の光導波路と直交して接合
されていることを特徴とする光導波路素子である。ここ
で４５°カット面を備えた第１の光導波路および他の導
波路はいずれも光ファイバでもよいし、平板上に設けら
れた導波路でもよい。 【０００６】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
ここでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液
を用いたポリイミド光導波路を例に挙げて説明するが、
光導波路の材料としてポリアミド酸溶液以外の光学用材
料の樹脂溶液などを用いて作製することももちろん可能
である。また、光路変換のための樹脂は、ＵＶ硬化エポ
キシアクリレートを例に挙げて説明するが、ＵＶ硬化エ
ポキシアクリレート以外の樹脂溶液、熱硬化タイプの樹
脂溶液などを用いて作製することももちろん可能であ
る。図１に本発明の光路変換付光導波路素子作製方法の
一例、図２に本発明の光路変換付光導波路素子の構造図
を示す。 【０００７】まず、シリコンウェハ１上に下部クラッド
層２を形成する。その上にコア層３を形成する。次に、
所望のコアパターンの描いてあるマスクパターンを用い
て、レジストパターン形成を行う。このレジストをマス
クとして酸素プラズマでドライエッチングする。次に、
残ったレジストを剥離液で除去する。次に上から上部ク
ラッド層４を形成する（図１(a)）。次に、シリコンウ
ェハから、光導波路を剥離する。このようにして得られ
た光導波路フィルム１１を、所望の形状にダイシングソ
ー等で切り出す（図１(b））。同様に作製した光導波路
フィルムあるいは光ファイバを１ｍｍ程度の長さに切削
し、片側を４５°に切削する（図１（c））。必要であ
れば、４５°切削端面を金属などでコートし、反射効率
を上げるため鏡面とする。その後、この４５°カット光
導波路あるいは光ファイバを縦型にし、光路変換が必要
な場所に必要なだけ光導波路端面に接着材６を用いて固
定を行う(図１(d)）。あるいは、微小光導波路を４５°
切削せずに接着し、接着後、４５°面を出すために切削
あるいは研磨を行う。 【０００８】このようにして、光路変換機能付光導波路
素子１４が作製出来る。この構造を有することにより、
面発光レーザや面受光素子などの受発光素子１３に対し
て隙間を与えることなく接合でき、受発光素子と光導波
路との結合効率の大幅向上が達成可能となる。微小光導
波路長が長い場合、必要であれば、樹脂や金属などの補
強板を用いて接合部を補強し、突き当てたときに精度良
く固定出来るようにする。本発明における微小光導波路
あるいは微小光ファイバ長を例えば１００μｍ以下に
し、上下反対に設置することにより、図２で示したよう
な上向きの面発光レーザおよび面受光素子だけでなく、
下向きの面発光レーザおよび面受光素子にも適用出来る
ことが分かる。 【０００９】引き続いて、いくつかの実施例を用いて本
発明を更に詳しく説明する。なお、分子構造の異なる種
々の高分子の溶液を用いることにより数限りない本発明
の高分子光導波路が得られることは明らかである。した
がって、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。 【００１０】（実施例１）４インチシリコンウェハ上に
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と２，２−ビス
（トリフルオロメチル）−４, ４' −ジアミノビフェニ
ル（ＴＦＤＢ）のポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶
液を加熱後膜厚が１５μｍになるようスピンコートし
た。これを３８０℃で１時間加熱イミド化して下部クラ
ッド層とした。この上にコア層となる６ＦＤＡと４,
４' −オキシジアニリン（ＯＤＡ）のポリアミド酸約１
５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液を加熱イミド化後膜厚が５０μm
になるようにスピンコートし、加熱イミド化した。その
上からＳｉ含有のレジストを膜厚３μｍになるようにス
ピンコートし９０℃で仮乾燥した。５０μｍ幅、長さ６
ｃｍのパターンが４０本描かれているガラスマスクパタ
ーンを用いて、露光、現像を行い、レジストパターンニ
ングを行った。次に反応性イオンエッチングによりコア
層を５０μｍ分エッチングした。その後、残ったレジス
トを剥離液で剥離した。最後に上部クラッド層となる６
ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ
溶液をスピンコート等の方法により塗布し、これを加熱
イミド化して上部クラッド層4を得た。このようにして
埋め込み型光導波路が形成される。その後、このシリコ
ンウェハ上の光導波路を５ｗｔ％のフッ酸水溶液中に浸
漬させ、シリコンウェハから光導波路を剥し、フィルム
光導波路を作製した。長さ５ｃｍ、幅５ｍｍになるよう
に光導波路をダイシングソーにより切り出した。同じよ
うに作製したポリイミド光導波路を長さ１ｍｍ、幅５ｍ
ｍに切りだし、片側端面を４５°カットした。４５°カ
ット光導波路を縦型にし、シリコンウェハから剥離し、
長さ５ｃｍの光導波路の端面に接着材として熱硬化型エ
ポキシを用い、両者を接着固定した。図２に示すよう
に、このようにして得られた光導波路１１と光導波路１
２を接合した光路変換付光導波路素子１４を、受発光素
子１３である面発光レーザ上に突き当て、突き当て部と
接着部２箇所の結合損失を測定したところ、合計１ｄＢ
以下であった。 【００１１】この構成では接合部でクラッド層を通過す
ることになるが、その距離が短いので損失が小さいと考
えられる。 【００１２】（比較例１）４インチシリコンウェハ上に
６ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡ
ｃ溶液を加熱後膜厚が１５μｍｍになるようスピンコー
トした。これを３８０℃で１時間加熱イミド化して下部
クラッド層とした。この上にコア層となる６ＦＤＡとＯ
ＤＡのポリアミド酸約１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液を加熱イ
ミド化後膜厚が５０μmになるようにスピンコートし、
加熱イミド化した。その上からＳｉ含有のレジストを膜
厚３μｍになるようにスピンコートし９０℃で仮乾燥し
た。５０μｍ幅、長さ６ｃｍのパターンが４０本描かれ
ているガラスマスクパターンを用いて、露光、現像を行
い、レジストパターンニングを行った。次に反応性イオ
ンエッチングによりコア層を５０μｍ分エッチングし
た。その後、残ったレジストを剥離液で剥離した。最後
に上部クラッド層となる６ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミ
ド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液をスピンコート等の方法
により塗布し、これを加熱イミド化して上部クラッド層
を得た。このようにして埋め込み型光導波路が形成され
る。その後、このシリコンウェハ上の光導波路を５ｗｔ
％のフッ酸水溶液中に浸漬させ、シリコンウェハから光
導波路を剥し、フィルム光導波路を作製した。次に幅５
ｍｍ、長さ５ｃｍにダイシングソー等でフィルム光導波
路を切り出した。次に、光導波路の端面をダイシングソ
ーによって４５°カットを行った。４５°カット面が反
射面となるように光導波路と面発光レーザの基板面を平
行に配置し、結合損失を測定したところ３ｄＢ以上であ
った。このとき光導波路と面発光レーザの光結合部はお
よそ１００μｍの空隙があった。 【００１３】 【本発明の効果】本発明による光路変換付高分子光導波
路素子により、受発光素子との結合効率が良好でかつ量
産性の優れた光導波路、光部品が製造できる。
し、特に光集積回路、光インターコネクション用光学部
品等を製造する方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】光部品、あるいは光ファイバの基材とし
ては、光伝搬損失が小さく、伝送帯域が広いという特徴
を有する石英ガラスや多成分ガラス等の無機系の材料が
広く使用されているが、最近では高分子系の材料も開発
され、無機系材料に比べて加工性や価格の点で優れてい
ることから、光導波路用材料として注目されている。例
えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、あるい
は、ポリスチレンのような透明性に優れた高分子をコア
とし、そのコア材料よりも屈折率の低い高分子をクラッ
ド材料としたコア−クラッド構造からなる平板型光導波
路が作製されている（特開平３−１８８４０２号）。こ
れに対して耐熱性の高い透明性高分子であるポリイミド
を用い低損失の平板型光導波路が実現されている（特開
平２−１１０５００号）。コストなどの要求から光イン
ターコネクション分野において、面発光型レーザ（ＶＣ
ＳＥＬ）が搭載されようとしているが、基板に対して垂
直に出射するレーザ光を基板に対して水平な光導波路に
入射するとき、約９０°の光路変換が必要となる。高分
子光導波路では、ダイシングソーによって、約４５°に
切削し、９０°光路変換を可能にしている（特開平１０
−３００９６１）。しかしながら、この場合、必要な場
所以外も４５°に切削してしまうこと、切削時に汚染の
恐れがあること、更には、受発光素子との間隔を５０μ
ｍ以下にすることは難しく、切削だけでは集光機能が無
いため光が発散してしまい損失の原因になるなどの問題
がある。マイクロレンズを用いることも考えられるが、
そのような場合、樹脂の粘度、濡れ性の管理などコスト
高になってしまう。また、空気中を伝搬するため、反射
が起こり入出力強度も小さくかつ不安定になるなどの問
題があった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を回避すべく集光機能を用いず、受発光素子に微
小光導波路あるいは微小光ファイバを突き当てることに
より、光路変換を行える光導波路素子を提供することに
ある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、光導波路端面に縦型の微小光導波路あるいは微
小光ファイバを形成することにより、前記課題を解決す
ることを見出し本発明を完成させた。 【０００５】すなわち本発明は、光路変換を行うために
第１の光導波路の光入出射端面が４５°カット面となっ
ており、他の光導波路が第１の光導波路と直交して接合
されていることを特徴とする光導波路素子である。ここ
で４５°カット面を備えた第１の光導波路および他の導
波路はいずれも光ファイバでもよいし、平板上に設けら
れた導波路でもよい。 【０００６】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
ここでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液
を用いたポリイミド光導波路を例に挙げて説明するが、
光導波路の材料としてポリアミド酸溶液以外の光学用材
料の樹脂溶液などを用いて作製することももちろん可能
である。また、光路変換のための樹脂は、ＵＶ硬化エポ
キシアクリレートを例に挙げて説明するが、ＵＶ硬化エ
ポキシアクリレート以外の樹脂溶液、熱硬化タイプの樹
脂溶液などを用いて作製することももちろん可能であ
る。図１に本発明の光路変換付光導波路素子作製方法の
一例、図２に本発明の光路変換付光導波路素子の構造図
を示す。 【０００７】まず、シリコンウェハ１上に下部クラッド
層２を形成する。その上にコア層３を形成する。次に、
所望のコアパターンの描いてあるマスクパターンを用い
て、レジストパターン形成を行う。このレジストをマス
クとして酸素プラズマでドライエッチングする。次に、
残ったレジストを剥離液で除去する。次に上から上部ク
ラッド層４を形成する（図１(a)）。次に、シリコンウ
ェハから、光導波路を剥離する。このようにして得られ
た光導波路フィルム１１を、所望の形状にダイシングソ
ー等で切り出す（図１(b））。同様に作製した光導波路
フィルムあるいは光ファイバを１ｍｍ程度の長さに切削
し、片側を４５°に切削する（図１（c））。必要であ
れば、４５°切削端面を金属などでコートし、反射効率
を上げるため鏡面とする。その後、この４５°カット光
導波路あるいは光ファイバを縦型にし、光路変換が必要
な場所に必要なだけ光導波路端面に接着材６を用いて固
定を行う(図１(d)）。あるいは、微小光導波路を４５°
切削せずに接着し、接着後、４５°面を出すために切削
あるいは研磨を行う。 【０００８】このようにして、光路変換機能付光導波路
素子１４が作製出来る。この構造を有することにより、
面発光レーザや面受光素子などの受発光素子１３に対し
て隙間を与えることなく接合でき、受発光素子と光導波
路との結合効率の大幅向上が達成可能となる。微小光導
波路長が長い場合、必要であれば、樹脂や金属などの補
強板を用いて接合部を補強し、突き当てたときに精度良
く固定出来るようにする。本発明における微小光導波路
あるいは微小光ファイバ長を例えば１００μｍ以下に
し、上下反対に設置することにより、図２で示したよう
な上向きの面発光レーザおよび面受光素子だけでなく、
下向きの面発光レーザおよび面受光素子にも適用出来る
ことが分かる。 【０００９】引き続いて、いくつかの実施例を用いて本
発明を更に詳しく説明する。なお、分子構造の異なる種
々の高分子の溶液を用いることにより数限りない本発明
の高分子光導波路が得られることは明らかである。した
がって、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。 【００１０】（実施例１）４インチシリコンウェハ上に
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と２，２−ビス
（トリフルオロメチル）−４, ４' −ジアミノビフェニ
ル（ＴＦＤＢ）のポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶
液を加熱後膜厚が１５μｍになるようスピンコートし
た。これを３８０℃で１時間加熱イミド化して下部クラ
ッド層とした。この上にコア層となる６ＦＤＡと４,
４' −オキシジアニリン（ＯＤＡ）のポリアミド酸約１
５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液を加熱イミド化後膜厚が５０μm
になるようにスピンコートし、加熱イミド化した。その
上からＳｉ含有のレジストを膜厚３μｍになるようにス
ピンコートし９０℃で仮乾燥した。５０μｍ幅、長さ６
ｃｍのパターンが４０本描かれているガラスマスクパタ
ーンを用いて、露光、現像を行い、レジストパターンニ
ングを行った。次に反応性イオンエッチングによりコア
層を５０μｍ分エッチングした。その後、残ったレジス
トを剥離液で剥離した。最後に上部クラッド層となる６
ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ
溶液をスピンコート等の方法により塗布し、これを加熱
イミド化して上部クラッド層4を得た。このようにして
埋め込み型光導波路が形成される。その後、このシリコ
ンウェハ上の光導波路を５ｗｔ％のフッ酸水溶液中に浸
漬させ、シリコンウェハから光導波路を剥し、フィルム
光導波路を作製した。長さ５ｃｍ、幅５ｍｍになるよう
に光導波路をダイシングソーにより切り出した。同じよ
うに作製したポリイミド光導波路を長さ１ｍｍ、幅５ｍ
ｍに切りだし、片側端面を４５°カットした。４５°カ
ット光導波路を縦型にし、シリコンウェハから剥離し、
長さ５ｃｍの光導波路の端面に接着材として熱硬化型エ
ポキシを用い、両者を接着固定した。図２に示すよう
に、このようにして得られた光導波路１１と光導波路１
２を接合した光路変換付光導波路素子１４を、受発光素
子１３である面発光レーザ上に突き当て、突き当て部と
接着部２箇所の結合損失を測定したところ、合計１ｄＢ
以下であった。 【００１１】この構成では接合部でクラッド層を通過す
ることになるが、その距離が短いので損失が小さいと考
えられる。 【００１２】（比較例１）４インチシリコンウェハ上に
６ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡ
ｃ溶液を加熱後膜厚が１５μｍｍになるようスピンコー
トした。これを３８０℃で１時間加熱イミド化して下部
クラッド層とした。この上にコア層となる６ＦＤＡとＯ
ＤＡのポリアミド酸約１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液を加熱イ
ミド化後膜厚が５０μmになるようにスピンコートし、
加熱イミド化した。その上からＳｉ含有のレジストを膜
厚３μｍになるようにスピンコートし９０℃で仮乾燥し
た。５０μｍ幅、長さ６ｃｍのパターンが４０本描かれ
ているガラスマスクパターンを用いて、露光、現像を行
い、レジストパターンニングを行った。次に反応性イオ
ンエッチングによりコア層を５０μｍ分エッチングし
た。その後、残ったレジストを剥離液で剥離した。最後
に上部クラッド層となる６ＦＤＡとＴＦＤＢのポリアミ
ド酸の１５ｗｔ％ＤＭＡｃ溶液をスピンコート等の方法
により塗布し、これを加熱イミド化して上部クラッド層
を得た。このようにして埋め込み型光導波路が形成され
る。その後、このシリコンウェハ上の光導波路を５ｗｔ
％のフッ酸水溶液中に浸漬させ、シリコンウェハから光
導波路を剥し、フィルム光導波路を作製した。次に幅５
ｍｍ、長さ５ｃｍにダイシングソー等でフィルム光導波
路を切り出した。次に、光導波路の端面をダイシングソ
ーによって４５°カットを行った。４５°カット面が反
射面となるように光導波路と面発光レーザの基板面を平
行に配置し、結合損失を測定したところ３ｄＢ以上であ
った。このとき光導波路と面発光レーザの光結合部はお
よそ１００μｍの空隙があった。 【００１３】 【本発明の効果】本発明による光路変換付高分子光導波
路素子により、受発光素子との結合効率が良好でかつ量
産性の優れた光導波路、光部品が製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光路変換機能付高分子光導波路の作製方法の一
例を示す図 【図２】光路変換機能付高分子光導波路の構成の一例を
示す図 【符号の説明】 １：基板、２：下部クラッド、３：コア、４：上部クラ
ッド、５：光導波路 ６：接着材、１１：光導波路フィルム、１２：光導波
路、１３：受発光素子
例を示す図 【図２】光路変換機能付高分子光導波路の構成の一例を
示す図 【符号の説明】 １：基板、２：下部クラッド、３：コア、４：上部クラ
ッド、５：光導波路 ６：接着材、１１：光導波路フィルム、１２：光導波
路、１３：受発光素子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 光路変換を行うために第１の光導波路の
光入出射端面が４５°カット面となっており、他の光導
波路が第１の光導波路と直交して接合されていることを
特徴とする光導波路素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002108553A JP2003302544A (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 光路変換機能付高分子光導波路素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002108553A JP2003302544A (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 光路変換機能付高分子光導波路素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003302544A true JP2003302544A (ja) | 2003-10-24 |
Family
ID=29392303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002108553A Pending JP2003302544A (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 光路変換機能付高分子光導波路素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003302544A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006184773A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Mitsui Chemicals Inc | 光導波路およびこれを備えた光電気混載基板 |
| WO2007074911A1 (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-05 | Omron Corporation | 光モジュール |
| US7907802B2 (en) | 2006-04-27 | 2011-03-15 | Omron Corporation | Optical transmission module |
| WO2014199831A1 (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-18 | 日本碍子株式会社 | 光路変更素子、光路変更素子の接続構造、光源デバイスおよび光実装デバイス |
-
2002
- 2002-04-10 JP JP2002108553A patent/JP2003302544A/ja active Pending
Cited By (8)
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