JP2003296031A - タッチパネル用透明導電性フィルム - Google Patents
タッチパネル用透明導電性フィルムInfo
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Abstract
度が高いハードコートを積層することでITOを高結晶
に加工できるタッチパネル用透明導電フィルムを提供す
る 【解決手段】 フィルムの少なくとも片面に、ガラス転
位温度が150℃以上の、(メタ)アクリレートを主成
分とする樹脂組成物を架橋して成るハードコート層を積
層し、該ハードコート層の上にインジウム・スズ酸化物
からなる透明導電膜を成膜したタッチパネル用透明導電
性フィルム。
Description
薬品性、耐候性に優れた透明タッチパネル等に用いられ
る透明導電性フィルムに関するものである。
に配置されて表示を見ながら指やペン等で押さえること
によりデータや指示・命令を入力できる透明タッチパネ
ルが普及している。従来はタッチパネル等の基板として
は、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上
にアクリル樹脂などからなるアンダーコート(UC)を
積層し、その上に透明導電膜としてインジウムと錫の複
合酸化物(ITO)を成膜した透明導電性フィルムが用
いられてきた。しかし、ITOとハードコートの密着が
悪いと、ITOの耐ペン摺動性や耐屈曲性が悪くなり実
使用上の問題があった。さらに、耐ペン摺動性等の耐久
性が高いITO膜を得るには、結晶質のITO膜をフィ
ルム上に積層させる必要がある。結晶質のITO膜を得
るには、特開昭61−79647号、特開2000−1
27282号等に記載されているように低温で製膜した
後加熱処理しなければならない。しかし、ガラス転移温
度の低いUCでは成膜工程での熱でUC表面がひずみ、
室温に戻したときにITOとの密着が悪くなり、安定し
た導電膜が得られないことや、タッチパネル組立工程で
の銀電極の焼成でITO抵抗値が安定しにくいという不
具合があった。
Oとの密着力があり、かつガラス転移温度が高いハード
コートを積層することでITOを高結晶に加工できるタ
ッチパネル用透明導電フィルムを提供するものである。
が150℃以上の、(メタ)アクリレートを主成分とす
る樹脂組成物を架橋して成るハードコート層を積層し、
該ハードコート層の上にインジウム・スズ酸化物からな
る透明導電膜を成膜したタッチパネル用透明導電性フィ
ルム。 (2) 前記(メタ)アクリレートが少なくともイソシ
アヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレートを含むもの
である(1)のタッチパネル用透明導電性フィルム。 (3) 前記樹脂組成物におけるイソシアヌル酸EO変
性トリ(メタ)アクリレートの含有量が40wt%以上
である(2)のタッチパネル用透明導電性フィルム。 である。
は特に限定されるものではなく熱可塑性ポリエステル、
芳香族ポリエーテルスルホン、熱可塑性芳香族ポリエー
テルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスル
フィド、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポリカ
ーボネイト、及びそのコポリマー等があげられる。ま
た、これらのフィルムは滑剤、耐熱安定剤、耐候安定
剤、顔料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドして
も良い。また、高度の耐ペン摺動性が要求される用途で
は、インジウム・スズ酸化物が結晶化しやすい150℃
以上のガラス転移温度を有していることが好ましく、タ
ッチパネル製造上、耐熱性、透明性、加工性、耐衝撃性
のバランスの良いポリエーテルスルホンが特に好まし
い。ハードコートは、ガラス転位温度が150℃以上
の、(メタ)アクリレートを主成分とする樹脂組成物で
あれば特に限定はしないが、特にイソシアヌル酸EO変
性トリ(メタ)アクリレートを含むことが望ましい。樹
脂ワニス中に含まれるイソシアヌル酸EO変性トリ(メ
タ)アクリレートは樹脂成分の40wt%以上であるこ
とが望ましい。イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)ア
クリレートが40wt%以上であればITOとハードコ
ートの密着がさらに良好と成り、ITOの耐ペン摺動性
や耐屈曲性が向上する。さらにハードコートのガラス転
移温度も上がるので、ITOの高温成膜により高結晶化
が期待できる。該樹脂ワニスに含まれるイソシアヌル酸
EO変性トリ(メタ)アクリレート以外の樹脂として
は、紫外線硬化性樹脂ならば特に制限するものでなく、
エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アク
リレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等を挙げ
ることができ、これらの樹脂は2種類以上を混合して用
いても良い。本発明のハードコートは、樹脂ワニスを塗
布し、加熱乾燥後、光により硬化させることで積層でき
る。
からなる透明導電膜を積層させる方法としては、スパッ
タリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、C
DV法等が挙げられるが特に限定はしない。
ム(厚み200μm)の片面上に、イソシアヌル酸EO
変性トリアクリレート50重量部、光重合開始剤とし
て、イルガキュアー907(チバスぺシャリティケミカ
ルズ製)2重量部、酢酸ブチル48重量部の混合液をグ
ラビアコート法により塗布し、120℃で5分間加熱して
溶媒を除去後、高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ
/cm2照射し、厚さ4μmのハードコート層を形成し
た。ハードコート層のガラス転移温度は240℃であっ
た。180℃に加熱した状態でハードコートを施したフ
ィルム面上にDCマグネトロン法により初期真空度3×
10-4Paに引き、酸素/アルゴンガス4%の混合ガス
を導入し、1×10-1Paの条件下において成膜し、I
n/In+Snの原子比が0.98であるIn2O3、S
nO2からなる酸化物の導電性層を得た。測定の結果、
表面抵抗は230Ω/□であり、膜厚は30Åであっ
た。このようにして得られた透明導電フィルムを用い
て、アナログ式タッチパネルを作成した。耐ペン摺動性
試験で10万回(荷重:2.2N)摺動したところ、抵
抗変化率R/R0は1.1であった。
(厚み200μm)の片面上に、ハードコートとしてイ
ソシアヌル酸EO変性トリアクリレート40重量部、エ
ポキシアクリレート6重量部、ウレタンアクリレート4
重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー907
(チバスぺシャリティケミカルズ製)2重量部、酢酸ブチ
ル48重量部の混合液をグラビアコート法により塗布
し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去後、高圧水銀灯
を用いて紫外線を350mJ/cm2照射し、厚さ4μ
mの保護層を形成した。ハードコートのガラス転移温度
は230℃であった。150℃に加熱した状態でハード
コートを施したフィルム面上にDCマグネトロン法によ
り初期真空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガ
ス4%の混合ガスを導入し、1×10-1Paの条件下に
おいて成膜し、In/In+Snの原子比が0.98で
あるIn2O3、SnO2からなる酸化物の導電性層を得
た。測定の結果、表面抵抗は230Ω/□であり、膜厚
は30Åであった。このようにして得られた透明導電フ
ィルムを用いて、アナログ式タッチパネルを作成した。
耐ペン摺動性試験で10万回(荷重:2.2N)摺動し
たところ、抵抗変化率R/R0は1.2であった。
188μm)の片面上に、ハードコートとして、エポキ
シアクリレート30重量部、ウレタンアクリレート20
重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー907
(チバスぺシャリティケミカルズ製)2重量部、酢酸ブチ
ル48重量部の混合液をグラビアコート法により塗布
し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去後、高圧水銀灯
を用いて紫外線を350mJ/cm2照射し、厚さ4μ
mの保護層を形成した。ハードコートのガラス転移温度
は140℃であった。150℃に加熱した状態でハード
コートを施したフィルム面上にDCマグネトロン法によ
り初期真空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガ
ス4%の混合ガスを導入し、1×10-1Paの条件下に
おいて成膜し、In/In+Snの原子比が0.98で
あるIn2O3、SnO2からなる酸化物の導電性層を得
た。測定の結果、表面抵抗は230Ω/□であり、膜厚
は30Åであった。このようにして得られた透明導電フ
ィルムを用いて、アナログ式タッチパネルを作成した。
耐ペン摺動性試験で10万回(荷重:2.2N)摺動し
たところ、抵抗変化率R/R0は5.7であった。
り、かつガラス転移温度が高いハードコートをもつこと
でITOを高結晶に加工できるタッチパネル用透明導電
フィルムを提供することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 フィルムの少なくとも片面に、ガラス転
位温度が150℃以上の、(メタ)アクリレートを主成
分とする樹脂組成物を架橋して成るハードコート層を積
層し、該ハードコート層の上にインジウム・スズ酸化物
からなる透明導電膜を成膜したタッチパネル用透明導電
性フィルム。 - 【請求項2】 前記(メタ)アクリレートが少なくとも
イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレートを含
むものである請求項1記載のタッチパネル用透明導電性
フィルム。 - 【請求項3】 前記樹脂組成物におけるイソシアヌル酸
EO変性トリ(メタ)アクリレートの含有量が40wt
%以上である請求項2記載のタッチパネル用透明導電性
フィルム。
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JP2002096830A JP3983580B2 (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | タッチパネル用透明導電性フィルム |
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