JP2003294900A - X線顕微鏡 - Google Patents
X線顕微鏡Info
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- JP2003294900A JP2003294900A JP2002097220A JP2002097220A JP2003294900A JP 2003294900 A JP2003294900 A JP 2003294900A JP 2002097220 A JP2002097220 A JP 2002097220A JP 2002097220 A JP2002097220 A JP 2002097220A JP 2003294900 A JP2003294900 A JP 2003294900A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 現行の装置において、試料を載せたPMMA
膜をX線透過窓に密着させるときにX線透過窓に垂直な
方向にしか試料を移動させることができず、たまたまX
線透過窓の内部にきた試料をX線露光することしかでき
ない。すなわち通常の光学顕微鏡で可能であるように、
X線観察する視野を任意に設定することができない。 【解決手段】 レーザプラズマ生成用の真空チェンバー
の側にあらかじめX線透過窓を装着することにより、真
空チェンバーと試料を載せたPMMA膜とを構造的に切
り離し、相対的な位置移動の自由度を確保することによ
り、視野の選択性を実現することができる。
膜をX線透過窓に密着させるときにX線透過窓に垂直な
方向にしか試料を移動させることができず、たまたまX
線透過窓の内部にきた試料をX線露光することしかでき
ない。すなわち通常の光学顕微鏡で可能であるように、
X線観察する視野を任意に設定することができない。 【解決手段】 レーザプラズマ生成用の真空チェンバー
の側にあらかじめX線透過窓を装着することにより、真
空チェンバーと試料を載せたPMMA膜とを構造的に切
り離し、相対的な位置移動の自由度を確保することによ
り、視野の選択性を実現することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】X線顕微鏡、特に、レーザ生
成プラズマを用いてX線の照射を行う分野であり、圧力
隔壁あるいは物理的な隔壁を隔ててX線照射を行う技術
分野に関する。
成プラズマを用いてX線の照射を行う分野であり、圧力
隔壁あるいは物理的な隔壁を隔ててX線照射を行う技術
分野に関する。
【0002】
【従来の技術】X線発生用ターゲットにパルスレーザを
照射することでプラズマを生成し、これにより生ずるX
線で試料を露光するX線露光装置は、例えば半導体集積
回路作製時において回路基板上のフォトレジストに微細
回路パタンを転写するとき、あるいは電子顕微鏡によっ
ては不可能な、生きた微小生物試料の瞬時の状態をX線
フラッシュ撮像するとき等、多方面での応用が図られて
いる。
照射することでプラズマを生成し、これにより生ずるX
線で試料を露光するX線露光装置は、例えば半導体集積
回路作製時において回路基板上のフォトレジストに微細
回路パタンを転写するとき、あるいは電子顕微鏡によっ
ては不可能な、生きた微小生物試料の瞬時の状態をX線
フラッシュ撮像するとき等、多方面での応用が図られて
いる。
【0003】図2に、従来のX線フラッシュ撮像を行う
装置、いわゆるX線顕微鏡に応用された場合におけるX
線露光装置の代表的な例を示す。この露光装置は、本願
発明者等が特開平8-338900号公報において開示している
X線露光装置である。
装置、いわゆるX線顕微鏡に応用された場合におけるX
線露光装置の代表的な例を示す。この露光装置は、本願
発明者等が特開平8-338900号公報において開示している
X線露光装置である。
【0004】該装置は、内部に所定容積の中空室、すな
わち内部チェンバー12を画成する真空容器11を有する。
真空容器11の内部チェンバー12は、排気管13を介し、図
示しない排気装置により所望の真空度になるよう、真空
引きをすることができる。真空容器11の壁構造の一部に
は、内部チェンバー12の真空を破ることのないようにレ
ーザ光入射用ガラス窓15が設けられ、外部に備えられた
レーザ光源(図示せず)からのパルスレーザ光14は、収
束レンズを介する等して適宜収束されながら、このレー
ザ光入射用ガラス窓15を介して内部チェンバー12内に入
射し、内部チェンバー12内に所定の姿勢で固定設置され
ているX線発生用ターゲット(標的)17を照射してプラ
ズマを発生させる。
わち内部チェンバー12を画成する真空容器11を有する。
真空容器11の内部チェンバー12は、排気管13を介し、図
示しない排気装置により所望の真空度になるよう、真空
引きをすることができる。真空容器11の壁構造の一部に
は、内部チェンバー12の真空を破ることのないようにレ
ーザ光入射用ガラス窓15が設けられ、外部に備えられた
レーザ光源(図示せず)からのパルスレーザ光14は、収
束レンズを介する等して適宜収束されながら、このレー
ザ光入射用ガラス窓15を介して内部チェンバー12内に入
射し、内部チェンバー12内に所定の姿勢で固定設置され
ているX線発生用ターゲット(標的)17を照射してプラ
ズマを発生させる。
【0005】このようなレーザ励起プラズマからはX線
が発生し、パルスレーザ光14のパルス時間幅に応じた時
間を単位照射時間として試料20を照射するが、例えば、
当該試料20が微小生物試料20であるような場合、それを
生きたまま観測するには、そのまま真空容器11の内部チ
ェンバー12内に収めることはできない。微少生物試料20
の周囲環境は一般に真空であってはならず、多くの場
合、大気圧環境でなければならない。このため、真空容
器11の一部を構成する内蓋30に、X線は、透過するが、
真空を保持するX線透過窓16を形成する。この窓16は、
シリコン基板にシリコン窒化膜を形成し、該膜とは反対
面から所定の寸法でシリコン基板をエッチングにより削
除することにより作成することができる。
が発生し、パルスレーザ光14のパルス時間幅に応じた時
間を単位照射時間として試料20を照射するが、例えば、
当該試料20が微小生物試料20であるような場合、それを
生きたまま観測するには、そのまま真空容器11の内部チ
ェンバー12内に収めることはできない。微少生物試料20
の周囲環境は一般に真空であってはならず、多くの場
合、大気圧環境でなければならない。このため、真空容
器11の一部を構成する内蓋30に、X線は、透過するが、
真空を保持するX線透過窓16を形成する。この窓16は、
シリコン基板にシリコン窒化膜を形成し、該膜とは反対
面から所定の寸法でシリコン基板をエッチングにより削
除することにより作成することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】密着型フラッシュX線
顕微鏡を用いて水中の生物試料を撮影する場合には、レ
ーザパルス光をしかるべき金属標的上に集光しレーザ生
成プラズマを発生させる。このプラズマをX線源とす
る。X線源より放射されたX線は、シリコン基板に支持
された窒化シリコン製の薄膜(X線透過窓)を透過し
て、シリコン基板などにスピンコートされたX線感光材
料であるPMMA膜とX線透過窓とにはさまれた試料を
照射する。現行の装置では、試料を乗せたPMMA膜を
X線透過窓に密着させるときにX線透過窓に垂直な方向
にしか試料を移動させることができず、このためたまた
まX線透過窓の内部にきた試料をX線露光することしか
できない。すなわち通常の光学顕微鏡で可能であるよう
に、X線観察する視野を任意に設定することができな
い。
顕微鏡を用いて水中の生物試料を撮影する場合には、レ
ーザパルス光をしかるべき金属標的上に集光しレーザ生
成プラズマを発生させる。このプラズマをX線源とす
る。X線源より放射されたX線は、シリコン基板に支持
された窒化シリコン製の薄膜(X線透過窓)を透過し
て、シリコン基板などにスピンコートされたX線感光材
料であるPMMA膜とX線透過窓とにはさまれた試料を
照射する。現行の装置では、試料を乗せたPMMA膜を
X線透過窓に密着させるときにX線透過窓に垂直な方向
にしか試料を移動させることができず、このためたまた
まX線透過窓の内部にきた試料をX線露光することしか
できない。すなわち通常の光学顕微鏡で可能であるよう
に、X線観察する視野を任意に設定することができな
い。
【0007】
【課題を解決するための手段】現行の密着型X線顕微鏡
において視野が選択できないのは、真空を必要とするプ
ラズマ生成チェンバーとPMMAにのせた生物試料を収
納している大気圧に保持された試料ホルダー、およびこ
れら二つの間にありX線を透過しかつ圧力隔壁として機
能しているX線透過窓との相対的な位置関係が、X線透
過窓が形成する平面に対して平行な方向に移動できない
ためである。
において視野が選択できないのは、真空を必要とするプ
ラズマ生成チェンバーとPMMAにのせた生物試料を収
納している大気圧に保持された試料ホルダー、およびこ
れら二つの間にありX線を透過しかつ圧力隔壁として機
能しているX線透過窓との相対的な位置関係が、X線透
過窓が形成する平面に対して平行な方向に移動できない
ためである。
【0008】このためレーザプラズマ生成用の真空チェ
ンバーの側にあらかじめX線透過窓を装着することによ
り、真空チェンバーと試料を載せたPMMA膜とを構造
的に切り離し、相対的な位置移動の自由度を確保するこ
とにより、視野の選択性を実現することができる。
ンバーの側にあらかじめX線透過窓を装着することによ
り、真空チェンバーと試料を載せたPMMA膜とを構造
的に切り離し、相対的な位置移動の自由度を確保するこ
とにより、視野の選択性を実現することができる。
【0009】試料をX線透過窓の下部に移動させる方式
としては、 (1)レーザプラズマ生成用の真空チェンバーの外部に
設置した正立光学顕微鏡を用いて当該真空チェンバーに
設けた光学顕微鏡用試料観察窓およびX線透過窓を通し
てPMMA膜上の試料を観察し露光対象を決めて、PM
MA膜上に載せた試料をX線源となるプラズマ発生位置
とX線透過窓を結ぶ光軸方向に移動しX線透過窓と試料
およびPMMAの密着性を確保しX線照射する方式、
としては、 (1)レーザプラズマ生成用の真空チェンバーの外部に
設置した正立光学顕微鏡を用いて当該真空チェンバーに
設けた光学顕微鏡用試料観察窓およびX線透過窓を通し
てPMMA膜上の試料を観察し露光対象を決めて、PM
MA膜上に載せた試料をX線源となるプラズマ発生位置
とX線透過窓を結ぶ光軸方向に移動しX線透過窓と試料
およびPMMAの密着性を確保しX線照射する方式、
【0010】(2)正立光学顕微鏡を用いて当該真空チ
ェンバーに設けた光学顕微鏡用試料観察窓およびX線透
過窓を通さずに、別に設置した正立光学顕微鏡をもちい
てPMMA膜上の試料を観察し露光する試料を観察し露
光対象を決め、次いでX軸およびY軸方向に試料を載せ
たPMMA膜を平行移動させX線透過窓の下部に配置さ
せた後、試料を載せたPMMA膜をX線源となるプラズ
マ発生位置およびX線透過窓を結ぶ光軸方向に移動しX
線透過窓とPMMA膜上の試料との密着性を確保し目的
とする試料または試料部位にX線照射する方法、
ェンバーに設けた光学顕微鏡用試料観察窓およびX線透
過窓を通さずに、別に設置した正立光学顕微鏡をもちい
てPMMA膜上の試料を観察し露光する試料を観察し露
光対象を決め、次いでX軸およびY軸方向に試料を載せ
たPMMA膜を平行移動させX線透過窓の下部に配置さ
せた後、試料を載せたPMMA膜をX線源となるプラズ
マ発生位置およびX線透過窓を結ぶ光軸方向に移動しX
線透過窓とPMMA膜上の試料との密着性を確保し目的
とする試料または試料部位にX線照射する方法、
【0011】(3)倒立顕微鏡を用いてガラス基板など
可視光に対して透過性を有する基板上に形成されたPM
MA膜上に載せられた試料をガラス基板の側から観察し
X線露光する試料または部位を決めた後、X線透過窓と
試料を密着させX線照射する方式などがある。
可視光に対して透過性を有する基板上に形成されたPM
MA膜上に載せられた試料をガラス基板の側から観察し
X線露光する試料または部位を決めた後、X線透過窓と
試料を密着させX線照射する方式などがある。
【0012】
【実施例】(実施例1)まず、試料観察にプラズマ生成
チェンバーの観察窓を用い、PMMA膜を支える基板が
シリコン基板など可視光不透過の場合及びガラスなど可
視光透過の場合について、図1を用いて説明する。図1
に示すように、プラズマ生成用チェンバーの一部にあら
かじめX線透過窓を組み込むことによりチェンバーを構
成する。PMMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各
種の光学顕微鏡で観察し露光対象を決める方式として
は、シリコン基板など可視光に対して透過性を有さない
基板上またはガラス基板など可視光に対して透過性を有
する基板上に形成されたPMMA膜を使用した場合にお
いては、プラズマ生成用チェンバーに設けられた試料観
察用窓及び対向するX線透過窓を通して試料を観察す
る。これによりX線露光を行う特定の試料または特定の
部位が決定した後、試料をレーザ生成プラズマとX線透
過窓とを結ぶ光軸方向に移動させX線透過窓と密着させ
た後、X線露光を行い、任意の視野のX線像を得ること
ができる。
チェンバーの観察窓を用い、PMMA膜を支える基板が
シリコン基板など可視光不透過の場合及びガラスなど可
視光透過の場合について、図1を用いて説明する。図1
に示すように、プラズマ生成用チェンバーの一部にあら
かじめX線透過窓を組み込むことによりチェンバーを構
成する。PMMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各
種の光学顕微鏡で観察し露光対象を決める方式として
は、シリコン基板など可視光に対して透過性を有さない
基板上またはガラス基板など可視光に対して透過性を有
する基板上に形成されたPMMA膜を使用した場合にお
いては、プラズマ生成用チェンバーに設けられた試料観
察用窓及び対向するX線透過窓を通して試料を観察す
る。これによりX線露光を行う特定の試料または特定の
部位が決定した後、試料をレーザ生成プラズマとX線透
過窓とを結ぶ光軸方向に移動させX線透過窓と密着させ
た後、X線露光を行い、任意の視野のX線像を得ること
ができる。
【0013】(実施例2)プラズマ生成チェンバーの観
察窓を用いず、PMMA膜を支える基板がシリコン基板
など可視光不透過の場合、およびガラスなど可視光透過
の場合について図2を用いて説明する。図2に示すよう
に、プラズマ生成用チェンバーの一部にあらかじめX線
透過窓を組み込むことによりチェンバーを構成する。P
MMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各種の光学顕
微鏡で観察し露光対象を決めするために、シリコン基板
など可視光に対して透過性を有さない基板上またはガラ
ス基板など可視光に対して透過性を有する基板上に形成
されたPMMA膜を使用した場合においては、プラズマ
生成用チェンバーとは離れた位置に設置された正立光学
顕微鏡を用いて試料の観察を行いX線露光を行う試料ま
たは部位を決定する。この後平行移動を行いX線透過窓
の下部に試料を載せたPMMA膜を移動した後当該試料
をX線透過窓に密着させX線露光を行う。
察窓を用いず、PMMA膜を支える基板がシリコン基板
など可視光不透過の場合、およびガラスなど可視光透過
の場合について図2を用いて説明する。図2に示すよう
に、プラズマ生成用チェンバーの一部にあらかじめX線
透過窓を組み込むことによりチェンバーを構成する。P
MMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各種の光学顕
微鏡で観察し露光対象を決めするために、シリコン基板
など可視光に対して透過性を有さない基板上またはガラ
ス基板など可視光に対して透過性を有する基板上に形成
されたPMMA膜を使用した場合においては、プラズマ
生成用チェンバーとは離れた位置に設置された正立光学
顕微鏡を用いて試料の観察を行いX線露光を行う試料ま
たは部位を決定する。この後平行移動を行いX線透過窓
の下部に試料を載せたPMMA膜を移動した後当該試料
をX線透過窓に密着させX線露光を行う。
【0014】(実施例3)プラズマ生成チェンバーの観
察窓を用いず、PMMA膜を支える基板がガラスなど可
視光透過の場合について、図3を用いて説明する。図3
に示すように、プラズマ生成用チェンバーの一部にあら
かじめX線透過窓を組み込むことによりチェンバーを構
成する。PMMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各
種の光学顕微鏡で観察し露光対象を決めするために、ガ
ラス基板など可視光に対して透過性を有する基板上に形
成されたPMMA膜を使用した場合においては、プラズ
マ生成用チェンバーとは離れた位置に設置された倒立光
学顕微鏡を用いて試料の観察を行いX線露光を行う試料
または部位を決定する。この後、X線透過窓の下部に試
料を載せたPMMA膜を移動した後当該試料をX線透過
窓に密着させX線露光を行う。
察窓を用いず、PMMA膜を支える基板がガラスなど可
視光透過の場合について、図3を用いて説明する。図3
に示すように、プラズマ生成用チェンバーの一部にあら
かじめX線透過窓を組み込むことによりチェンバーを構
成する。PMMA膜に載せた試料をX線露光に先立ち各
種の光学顕微鏡で観察し露光対象を決めするために、ガ
ラス基板など可視光に対して透過性を有する基板上に形
成されたPMMA膜を使用した場合においては、プラズ
マ生成用チェンバーとは離れた位置に設置された倒立光
学顕微鏡を用いて試料の観察を行いX線露光を行う試料
または部位を決定する。この後、X線透過窓の下部に試
料を載せたPMMA膜を移動した後当該試料をX線透過
窓に密着させX線露光を行う。
【0015】
【発明の効果】この発明により、任意の視野を観察する
ことが可能なX線顕微鏡を構成することができる。ま
た、常用されている光学顕微鏡などと同様に、X線感光
材料であるPMMA上に置かれた試料が露出しているた
め、試料に薬品を加えるなどの操作を簡単に行うことが
できるので、外部から与えた刺激に応答した速い構造変
化の観察など、従来の装置では困難であった観測手法が
可能になる。
ことが可能なX線顕微鏡を構成することができる。ま
た、常用されている光学顕微鏡などと同様に、X線感光
材料であるPMMA上に置かれた試料が露出しているた
め、試料に薬品を加えるなどの操作を簡単に行うことが
できるので、外部から与えた刺激に応答した速い構造変
化の観察など、従来の装置では困難であった観測手法が
可能になる。
【図1】 本願発明の実施例1の装置概念図
【図2】 本願発明の実施例2の装置概念図
【図3】 本願発明の実施例3の装置概念図
【図4】 密着型X線顕微鏡の概念図
11……真空容器
12……内部チャンバ
13……排気管
14……レーザ光
15……レーザ光入射用ガラス窓
16……X線透過窓
17……プラズマ発生用標的
18……光学顕微鏡用試料観察ガラス窓
20……試料
21……X線感光膜(PMMA膜)
22……対物レンズ
30……内蓋
31……外蓋
Claims (7)
- 【請求項1】 密閉容器内にX線源を有し、該容器の一
部に形成されたX線照射用の薄膜で形成された窓を通し
て、該容器外のX線被照射試料にX線を照射するX線顕
微鏡において、該窓に対する試料の位置を相対的に変化
させることができることを特徴とするX線顕微鏡。 - 【請求項2】 上記窓と上記試料とは、上記窓の面に垂
直方向及び水平方向に相対的に移動可能であることを特
徴とする請求項1記載のX線顕微鏡。 - 【請求項3】 上記薄膜は、窒化シリコンであることを
特徴とする請求項1記載のX線顕微鏡。 - 【請求項4】 上記X線は、レーザ生成プラズマにより
発生するX線であることを特徴とする請求項1記載のX
線顕微鏡。 - 【請求項5】 上記容器には、該容器の一部にレーザ入
射用の窓を設けると共に、レーザ照射によりプラズマを
発生するターゲットを備えていることを特徴とする請求
項3記載のX線顕微鏡。 - 【請求項6】 大気圧に保持された生物試料をX線感光
材料上に保持し、上記窓に対抗して配置してあることを
特徴とする請求項1記載のX線顕微鏡。 - 【請求項7】 上記容器内にX線吸収の低いガスを充填
することにより、該容器の内外の圧力差を少なくし、上
記窓を構成する薄膜が平坦に形成されていることを特徴
とする請求項1記載のX線顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002097220A JP2003294900A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | X線顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002097220A JP2003294900A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | X線顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003294900A true JP2003294900A (ja) | 2003-10-15 |
Family
ID=29239889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002097220A Pending JP2003294900A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | X線顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003294900A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107073644A (zh) * | 2014-08-19 | 2017-08-18 | 皇家飞利浦有限公司 | 用于减少在管芯级激光剥离期间所受机械损伤的蓝宝石收集器 |
US11342478B2 (en) | 2015-05-13 | 2022-05-24 | Lumileds Llc | Sapphire collector for reducing mechanical damage during die level laser lift-off |
-
2002
- 2002-03-29 JP JP2002097220A patent/JP2003294900A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107073644A (zh) * | 2014-08-19 | 2017-08-18 | 皇家飞利浦有限公司 | 用于减少在管芯级激光剥离期间所受机械损伤的蓝宝石收集器 |
US11311967B2 (en) | 2014-08-19 | 2022-04-26 | Lumileds Llc | Sapphire collector for reducing mechanical damage during die level laser lift-off |
US11342478B2 (en) | 2015-05-13 | 2022-05-24 | Lumileds Llc | Sapphire collector for reducing mechanical damage during die level laser lift-off |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040430 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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