JP2003289094A - 基板搬送方法、基板搬送装置および基板搬送アーム - Google Patents

基板搬送方法、基板搬送装置および基板搬送アーム

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JP2003289094A
JP2003289094A JP2002090568A JP2002090568A JP2003289094A JP 2003289094 A JP2003289094 A JP 2003289094A JP 2002090568 A JP2002090568 A JP 2002090568A JP 2002090568 A JP2002090568 A JP 2002090568A JP 2003289094 A JP2003289094 A JP 2003289094A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成でありながら、基板を高速に搬
入、搬出することが可能な基板搬送方法、基板搬送装置
および基板搬送アームを提供することを目的とする。 【解決手段】 最初に、基板搬送アーム20を前進させ
ることにより、テーパー部25に支持した基板Wを支持
ピンの上方の位置に配置する。次に、基板搬送アーム2
0を下降させることにより、テーパー部25に支持した
基板Wを支持ピン上に載置するとともに、テーパー部2
6によりにより別の支持ピン上に載置された基板Wを保
持する。次に、基板搬送アーム20を上昇させることに
より、テーパー部26に保持した基板Wを別の支持ピン
から離隔させる。しかる後、基板搬送アーム20を後退
させることにより、一対のテーパー部26に保持した基
板Wを搬出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板を搬送する基板搬送方法、基板搬送
装置および基板搬送アームに関し、特に、前段の処理工
程より搬送した基板を基板の搬入部に載置するととも
に、基板の搬入部の下方に配置される基板の搬出部に載
置された基板を保持して搬出する基板搬送方法、基板搬
送装置および基板搬送アームに関する。
【0002】
【従来の技術】前段の処理工程より搬送した基板を載置
する搬入部と、基板の搬入部の下方に配置される基板の
搬出部とを有する基板処理装置においては、従来、その
上部に基板を支持するための支持部を備える基板搬送ア
ームを使用して、図10のフローチャートに示す工程に
より基板の搬入、搬出動作を実行している。
【0003】すなわち、その支持部に基板を支持した状
態で基板搬送アームを前進させることにより、支持部に
支持した基板を搬入部の上方の位置に配置する(ステッ
プS21)。次に、基板搬送アームを下降させることに
より、その支持部に支持した基板を搬入部に載置する
(ステップS22)。そして、基板搬送アームを、搬入
部に載置された基板の下方から後退させる(ステップS
23)。
【0004】次に、基板搬送アームを、その支持部が搬
出部より下方に配置される状態まで下降させる(ステッ
プS24)。次に、基板搬送アームを前進させることに
より、支持部を搬出部に載置された基板の下方の位置に
配置する(ステップS25)。次に、基板搬送アームを
上昇させることにより、搬出部に載置された基板をその
支持部に支持する(ステップS26)。そして、基板搬
送アームを、その支持部に基板を載置した状態で後退さ
せる(ステップS27)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の基板搬
送装置においては、基板の搬入および搬出を行うため
に、基板搬送アームの前進および後退動作を複数回繰り
返す必要があることから、その搬送動作に時間を要し、
処理のスループットが低下するというという問題が生ず
る。
【0006】このような問題に対応するため、基板の搬
入用の搬送アームと基板の搬出用の搬送アームを備える
ことも可能ではあるが、装置構成が複雑化し、また、製
造コストが高額となる。
【0007】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、簡易な構成でありながら、基板を高速
に搬入、搬出することが可能な基板搬送方法、基板搬送
装置および基板搬送アームを提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、前段の処理工程より搬送した基板を基板の搬入部に
載置するとともに、前記基板の搬入部の下方に配置され
る基板の搬出部に載置された基板を保持して搬出する基
板搬送方法であって、その上部に基板を支持するための
支持部と、前記支持部の下方において基板を保持するた
めの保持部とを備えた基板搬送アームを使用し、前記基
板搬送アームを前進させることにより、前記支持部に支
持した基板を前記搬入部の上方の位置に配置する前進工
程と、前記基板搬送アームを下降させることにより、前
記支持部に支持した基板を前記搬入部に載置するととも
に、前記保持部により前記搬出部に載置された基板を保
持する下降・保持工程と、前記基板搬送アームを上昇さ
せることにより、前記保持部に保持した基板を前記搬出
部の上方に配置する上昇工程と、前記基板搬送アームを
後退させることにより、前記保持部に保持した基板を前
記搬出部の上方から搬出する後退工程とを備えたことを
特徴とする。
【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記支持部に支持される基板の高さ位
置と前記保持部に保持される基板の高さ位置の差をD1
とし、前記支持部に支持した基板を前記搬入部に載置し
た後の前記基板搬送アームの下降距離をD2とし、前記
搬入部に載置される基板の高さ位置と前記搬出部に載置
される基板の高さ位置の差をD3としたとき、前記D1
と前記D2との和は、前記D3と実質的に等しくなって
いる。
【0010】請求項3に記載の発明は、前段の処理工程
より搬送した基板を基板の搬入部に載置するとともに、
前記基板の搬入部の下方に配置される基板の搬出部に載
置された基板を保持して搬出する基板搬送装置であっ
て、その上部に基板を支持するための支持部と、前記支
持部の下方において基板を保持するための保持部とを備
えた基板搬送アームと、前記支持部に支持した基板が前
記搬入部の上方に配置される位置まで前記基板搬送アー
ムを前進させた後、前記支持部に支持した基板を前記搬
入部に載置するとともに前記保持部により前記搬出部に
載置された基板を保持するために前記基板搬送アームを
下降させ、前記保持部に保持した基板が前記搬出部の上
方に配置される位置まで前記基板搬送アームを上昇さ
せ、前記保持部に保持した基板を前記搬出部の上方から
退避する位置まで基板搬送アームを後退させるアーム移
動機構とを備えたことを特徴とする。
【0011】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の発明において、前記支持部は、その上面に形成された
テーパー部により基板の端縁を支持している。
【0012】請求項5に記載の発明は、請求項3に記載
の発明において、前記保持部は、その上面に形成された
一対のテーパー部の少なくとも一方を互いに近接する方
向に移動させることにより基板の端縁を保持している。
【0013】請求項6に記載の発明は、前段の処理工程
より搬送した基板を基板の搬入部に載置するとともに、
前記基板の搬入部の下方に配置される基板の搬出部に載
置された基板を保持して搬出するための基板搬送装置に
使用される基板搬送アームであって、その上部に支持し
た基板を前記搬入部に載置するための支持部と、前記搬
出部に載置された基板を前記支持部の下方において保持
して搬出するための保持部とを備えたことを特徴とす
る。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る基板搬送
装置を使用した基板処理装置の側面概要図であり、図2
はその平面概要図である。
【0015】この基板処理装置は、半導体ウエハからな
る基板Wを加熱処理する加熱処理装置である。この基板
処理装置は、基板Wを加熱するためのその内部にヒータ
を備えたホットプレート11と、その下端部を支持体1
2に支持された4本の支持ピン13と、支持体12を昇
降駆動するエアシリンダ14と、その下端部を支持体1
5に支持された4本の支持ピン16と、支持体15を昇
降駆動するためのエアシリンダ17とを備える。支持ピ
ン13はエアシリンダ14の駆動により上昇位置と下降
位置との間を昇降し、支持ピン16はエアシリンダ17
の駆動により上昇位置と下降位置との間を昇降する。
【0016】また、図2のように、支持体15は平面視
で略U字状の馬蹄形であり、基板部に図示せぬ支持体開
閉機構を有する。これにより、支持体15は実線で示す
閉止姿勢と二点鎖線で示す開放姿勢とをとることができ
る。なお、支持体15が開放姿勢をとった時は、平面視
でホットプレート11と重畳しないような状態になって
いる。また、支持体15は、エアシリンダ17とともに
図示せぬ昇降機構に搭載されており、該昇降機構により
ホットプレート11よりも下方に移動可能である。
【0017】この基板処理装置においては、後述する基
板搬送アーム20により搬入された基板Wは、図1に示
すように、上昇位置にある支持ピン16上に載置され
る。次に、エアシリンダ17の駆動により支持ピン16
が支持体15とともに下降することにより、基板Wは支
持ピン16から上昇位置に配置された支持ピン13上に
移載される。そして、支持体15が下降位置に到着すれ
ば、支持体開閉機構により支持体15が図2において二
点鎖線で示す開放姿勢をとるとともに、昇降機構により
支持体15はホットプレート11よりも下方に移動す
る。また、図示しない支持体開閉機構により支持体15
が図2において二点鎖線で示す開放姿勢をとるととも
に、エアシリンダ14の駆動により支持ピン13が下降
することにより、支持ピン13に支持された基板Wがホ
ットプレート11上に載置され、この位置において基板
Wに対する熱処理が実行される。
【0018】基板Wに対する熱処理が完了すれば、昇降
機構によりエアシリンダ17および支持体15を上昇さ
せるとともに、エアシリンダ17にて支持体15を上昇
位置に配置し、支持体開閉機構により支持体15を閉止
姿勢にする。一方、エアシリンダ14の駆動により支持
ピン13が上昇位置に配置される。そして、上昇位置に
ある支持ピン13により支持された基板Wは、基板搬送
アーム20により搬出され、上昇位置にある支持ピン1
6に基板Wが載置される。上記の基板Wの搬入動作と搬
出動作とは、後述するように、互いに並行して実行され
る。
【0019】なお、この基板処理装置において、上昇位
置にある支持ピン16はこの発明に係る搬入部に相当
し、上昇位置にある支持ピン13はこの発明に係る搬出
部に相当する。
【0020】次に、この発明に係る基板搬送装置の構成
について説明する。図3は上述した基板搬送アーム20
の側面概要図であり、図4はその平面概要図である。な
お、この発明に係る基板搬送装置は、上述した基板搬送
アーム20と、この基板搬送アーム20を移動させるた
めの後述するアーム移動機構40とにより構成される。
【0021】図3および図4に示すように、基板搬送ア
ーム20は、ベース21の先端に固定された固定部材2
2と、ベース21に固定されたアクチュエータ24の駆
動によりベース21上を往復移動する移動部材23とを
備える。固定部材22および移動部材23の上部には、
各々、この発明に係る支持部として機能するテーパー部
25が形成されている。また、固定部材22および移動
部材23の下部には、各々、この発明に係る保持部とし
て機能するテーパー部26が形成されている。
【0022】図5は、この発明に係る基板搬送装置の主
要な電気的構成を示すブロック図である。
【0023】上述した基板搬送装置は、装置の制御に必
要な動作プログラムが格納されたROM31と、制御時
にデータ等が一時的にストアされるRAM32と、論理
演算を実行するCPU33とを有する制御部30を備え
る。この制御部30は、インターフェース34を介し
て、基板搬送アーム20を移動させるためのアーム移動
機構40と接続されている。
【0024】次に、上述した基板搬送装置を使用して基
板Wを図1および図2に示す基板処理装置に搬入、搬出
する基板Wの搬送動作について説明する。図6は、基板
Wの搬入、搬出動作を示すフローチャートである。
【0025】最初に、そのテーパー部25に基板Wを支
持した状態で基板搬送アーム20を前進させることによ
り、テーパー部25に支持した基板Wを上昇位置に配置
された支持ピン16の上方の位置に配置する(ステップ
S11)。
【0026】次に、基板搬送アーム20を下降させるこ
とにより、テーパー部25に支持した基板Wを上昇位置
に配置された支持ピン16上に載置するとともに、テー
パー部26によりにより上昇位置に配置された支持ピン
13上に載置された基板Wを保持する(ステップS1
2)。
【0027】テーパー部23によりにより支持ピン13
上に載置された基板Wを保持する際には、基板搬送アー
ム20の下降動作中にアクチュエータ24の駆動により
移動部材23が往復移動し、基板Wをその両側から挟み
込むことにより保持を実行する。なお、一対のテーパー
部25、26を備えた移動部材23を往復移動させる代
わりに、基板Wを保持するためのテーパー部26に相当
する部分のみを往復移動させるようにしてもよい。
【0028】上述した下降・保持工程においては、図3
に示すようにテーパー部25に支持される基板Wの高さ
位置とテーパー部26に保持される基板Wの高さ位置の
差をD1とし、テーパー部25に支持した基板Wを上昇
位置にある支持ピン16に載置した後の基板搬送アーム
20の下降距離をD2とし、図1に示すように上昇位置
にある支持ピン16に載置される基板Wの高さ位置と上
昇位置にある支持ピン13に載置される基板Wの高さ位
置の差をD3としたとき、D1とD2との和はD3と実
質的に等しくなるように、基板搬送アーム20の下降動
作がアーム移動機構40により制御される。
【0029】再度、図6を参照して、次に、基板搬送ア
ーム20を上昇させることにより、テーパー部26に保
持した基板Wを上昇位置に配置された支持ピン13から
離隔させる(ステップS13)。
【0030】しかる後、基板搬送アーム20を後退させ
ることにより、一対のテーパー部26に保持した基板W
を支持ピン13の上方から搬出する(ステップS1
4)。
【0031】このように、この発明に係る基板搬送装置
においては、基板Wの搬入、搬出動作を、図6に示す4
ステップにより実行することが可能となる。このため、
図10に示す従来技術に比べ、基板Wを高速に搬入、搬
出することが可能となる。
【0032】上述した実施形態においては、この発明に
係る基板搬送装置を使用して、基板Wを加熱処理する加
熱処理装置に基板Wを搬入、搬出しているが、この発明
は、前段の処理工程より搬送した基板Wを載置するため
の搬入部と、この搬入部の下方に配置される排出すべき
基板Wを載置するための搬出部とを備えた各種の装置に
対して、基板Wを搬入、搬出することが可能である。以
下、このような実施形態について説明する。
【0033】図7は、この発明に係る基板搬送アーム2
0を使用してバッファ部53、56に基板Wを搬入、搬
出する動作を示す説明図である。
【0034】図7において、バッファ部53は、支持体
51上に立設された支持ピン52を備える。このバッフ
ァ部53は、露光装置による露光処理が終了し現像装置
に搬送されるのを待つ基板Wが一時的に載置されるもの
である。一方、バッファ部56は、支持体54上に立設
された支持ピン55を備える。このバッファ部56は、
レジスト塗布装置によるレジスト塗布処理が終了し、露
光装置に搬送されるのを待つ基板Wが一時的に載置され
るものである。
【0035】これらのバッファ部53、56は、レジス
ト塗布装置や現像装置と、露光装置との間に配設され
る。ここで、図7においては、一対のバッファ部53、
56のみを図示しているが、これらのバッファ部53、
56は、多段に積層されていてもよい。なお、バッファ
部56はこの発明に係る搬入部に相当し、バッファ部5
3はこの発明に係る搬出部に相当する。
【0036】このようなバッファ部53、56に対して
も、上述した基板処理装置の場合と同様の動作により、
基板Wを搬入、搬出することが可能となる。
【0037】このとき、上述した実施形態の場合と同
様、基板搬送アーム20のテーパー部25に支持される
基板Wの高さ位置とテーパー部26に保持される基板W
の高さ位置の差をD1とし、テーパー部25に支持した
基板Wをバッファ部56の支持ピン55に載置した後の
基板搬送アーム20の下降距離をD2とし、バッファ部
56における支持ピン55に載置される基板Wの高さ位
置とバッファ部53における支持ピン52に載置される
基板Wの高さ位置の差をD3としたとき、D1とD2と
の和はD3と実質的に等しくなるように、基板搬送アー
ム20の下降動作がアーム移動機構40により制御され
る。
【0038】図8は、この発明に係る基板搬送アーム2
0を使用してカセット60に基板Wを搬入、搬出する動
作を示す説明図である。
【0039】このカセット60内には、一定のピッチD
3で基板Wの支持溝が形成されている。そして、このカ
セット60内の基板Wを枚葉処理する際には、上段の支
持溝に処理の終了した基板Wを搬入するとともに、その
次の支持溝に支持された基板Wを処理を行うために搬出
するという動作が繰り返される。
【0040】このようなカセット60に対しても、上述
した基板処理装置の場合と同様の動作により、基板Wを
搬入、搬出することが可能となる。この場合において
は、カセット60における上段の支持溝がこの発明に係
る搬入部に相当し、その次の支持溝がこの発明に係る搬
出部に相当する。
【0041】このとき、上述した実施形態の場合と同
様、基板搬送アーム20のテーパー部25に支持される
基板Wの高さ位置とテーパー部26に保持される基板W
の高さ位置の差をD1とし、テーパー部25に支持した
基板Wをカセット60の支持溝に載置した後の基板搬送
アーム20の下降距離をD2とし、カセット60におけ
る支持溝のピッチをD3としたとき、D1とD2との和
はD3と実質的に等しくなるように、基板搬送アーム2
0の下降動作がアーム移動機構40により制御される。
【0042】なお、図8に示す実施形態においては、基
板Wをある支持溝に搬入した後、この支持溝の直下に位
置する支持溝に支持された基板Wを搬出する構成となっ
ている。しかしながら、基板Wをある支持溝に搬入した
後、この支持溝の数段下方に位置する支持溝に支持され
た基板Wを搬出する構成としてもよい。
【0043】例えば、図9に示すように、基板Wをある
支持溝に搬入した後、この支持溝から3段下方に位置す
る支持溝に支持された基板Wを搬出する構成を採用する
ことも可能である。この場合においては、最初の3枚の
基板Wに対しては、単に、搬出動作のみが実行され、3
枚目の基板Wの搬入動作が4枚目の基板Wの搬出動作と
同時に実行される。
【0044】この場合においては、基板搬送アーム20
のテーパー部25に支持される基板Wの高さ位置とテー
パー部26に保持される基板Wの高さ位置の差をD1と
し、テーパー部25に支持した基板Wをカセット60の
支持溝に載置した後の基板搬送アーム20の下降距離を
D2とし、基板Wが搬入された支持溝と基板Wが搬出さ
れる支持溝との高さ位置の差をD3としたとき、D1と
D2との和はD3と実質的に等しくなるように、基板搬
送アーム20の下降動作がアーム移動機構40により制
御される。
【0045】
【発明の効果】請求項1乃至請求項6に記載の発明によ
れば、簡易な構成でありながら基板を高速に搬入、搬出
することが可能となる。
【0046】特に、請求項4および請求項5に記載の発
明によれば、基板の端縁部以外の部分が汚染されること
を有効に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る基板搬送装置を使用した基板処
理装置の側面概要図でる。
【図2】この発明に係る基板搬送装置を使用した基板処
理装置の平面概要図である。
【図3】基板搬送アーム20の側面概要図である。
【図4】基板搬送アーム20の平面概要図である。
【図5】この発明に係る基板搬送装置の主要な電気的構
成を示すブロック図である。
【図6】基板Wの搬入、搬出動作を示すフローチャート
である。
【図7】この発明に係る基板搬送アーム20を使用して
バッファ部53、56に基板Wを搬入、搬出する動作を
示す説明図である。
【図8】この発明に係る基板搬送アーム20を使用して
カセット60に基板Wを搬入、搬出する動作を示す説明
図である。
【図9】この発明に係る基板搬送アーム20を使用して
カセット60に基板Wを搬入、搬出する動作を示す説明
図である。
【図10】従来の基板の搬入、搬出動作を示すフローチ
ャートである。
【符号の説明】
11 ホットプレート 12 支持体 13 支持ピン 14 エアシリンダ 15 支持体 16 支持ピン 17 エアシリンダ 20 基板搬送アーム 21 ベース 22 固定部材 23 移動部材 24 アクチュエータ 25 テーパー部 26 テーパー部 30 制御部 40 アーム移動機構 51 支持体 52 支持ピン 53 バッファ部 54 支持体 55 支持ピン 56 バッファ部 60 カセット W 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C007 AS03 AS24 DS06 ES17 ET08 EV01 MT02 NS09 NS13 5F031 CA02 CA05 DA01 FA01 FA02 FA07 FA11 FA12 FA15 GA10 GA15 GA49 HA58 LA15 MA24 MA26 MA27 MA30 5F046 CD01 CD06 DA29 KA04 KA07

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 前段の処理工程より搬送した基板を基板
    の搬入部に載置するとともに、前記基板の搬入部の下方
    に配置される基板の搬出部に載置された基板を保持して
    搬出する基板搬送方法であって、 その上部に基板を支持するための支持部と、前記支持部
    の下方において基板を保持するための保持部とを備えた
    基板搬送アームを使用し、 前記基板搬送アームを前進させることにより、前記支持
    部に支持した基板を前記搬入部の上方の位置に配置する
    前進工程と、 前記基板搬送アームを下降させることにより、前記支持
    部に支持した基板を前記搬入部に載置するとともに、前
    記保持部により前記搬出部に載置された基板を保持する
    下降・保持工程と、 前記基板搬送アームを上昇させることにより、前記保持
    部に保持した基板を前記搬出部の上方に配置する上昇工
    程と、 前記基板搬送アームを後退させることにより、前記保持
    部に保持した基板を前記搬出部の上方から搬出する後退
    工程と、 を備えたことを特徴とする基板搬送方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の基板搬送方法におい
    て、 前記支持部に支持される基板の高さ位置と前記保持部に
    保持される基板の高さ位置の差をD1とし、 前記支持部に支持した基板を前記搬入部に載置した後の
    前記基板搬送アームの下降距離をD2とし、 前記搬入部に載置される基板の高さ位置と前記搬出部に
    載置される基板の高さ位置の差をD3としたとき、 前記D1と前記D2との和は、前記D3と実質的に等し
    い基板搬送方法。
  3. 【請求項3】 前段の処理工程より搬送した基板を基板
    の搬入部に載置するとともに、前記基板の搬入部の下方
    に配置される基板の搬出部に載置された基板を保持して
    搬出する基板搬送装置であって、 その上部に基板を支持するための支持部と、前記支持部
    の下方において基板を保持するための保持部とを備えた
    基板搬送アームと、 前記支持部に支持した基板が前記搬入部の上方に配置さ
    れる位置まで前記基板搬送アームを前進させた後、前記
    支持部に支持した基板を前記搬入部に載置するとともに
    前記保持部により前記搬出部に載置された基板を保持す
    るために前記基板搬送アームを下降させ、前記保持部に
    保持した基板が前記搬出部の上方に配置される位置まで
    前記基板搬送アームを上昇させ、前記保持部に保持した
    基板を前記搬出部の上方から退避する位置まで基板搬送
    アームを後退させるアーム移動機構と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の基板搬送装置におい
    て、 前記支持部は、その上面に形成されたテーパー部により
    基板の端縁を支持する基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 請求項3に記載の基板搬送装置におい
    て、 前記保持部は、その上面に形成された一対のテーパー部
    の少なくとも一方を互いに近接する方向に移動させるこ
    とにより基板の端縁を保持する基板搬送装置。
  6. 【請求項6】 前段の処理工程より搬送した基板を基板
    の搬入部に載置するとともに、前記基板の搬入部の下方
    に配置される基板の搬出部に載置された基板を保持して
    搬出するための基板搬送装置に使用される基板搬送アー
    ムであって、 その上部に支持した基板を前記搬入部に載置するための
    支持部と、前記搬出部に載置された基板を前記支持部の
    下方において保持して搬出するための保持部とを備えた
    ことを特徴とする基板搬送アーム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009160711A (ja) * 2008-01-10 2009-07-23 Yaskawa Electric Corp エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置
JP2012135874A (ja) * 2012-04-16 2012-07-19 Yaskawa Electric Corp エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置
JP2017183665A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 芝浦メカトロニクス株式会社 基板搬送装置、基板処理装置及び基板処理方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009160711A (ja) * 2008-01-10 2009-07-23 Yaskawa Electric Corp エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置
JP2012135874A (ja) * 2012-04-16 2012-07-19 Yaskawa Electric Corp エンドエフェクタ及びそれを備えた搬送装置
JP2017183665A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 芝浦メカトロニクス株式会社 基板搬送装置、基板処理装置及び基板処理方法
KR20190031462A (ko) * 2016-03-31 2019-03-26 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 기판 반송 장치, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102227108B1 (ko) * 2016-03-31 2021-03-15 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 기판 반송 장치, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
TWI796544B (zh) * 2016-03-31 2023-03-21 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 基板搬送裝置、基板處理方法及基板處理裝置

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