JP2003286034A - ガラス母材の製造方法 - Google Patents
ガラス母材の製造方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明ガラス化後の熱処理における加熱時間と
ガラス外径、及び加熱温度の関係を規定することによっ
て、その熱処理における高い生産性と品質安定性とを満
足できるようにする。 【解決手段】 ガラス母材の品質安定化を図るために、
該ガラス母材に対して加熱処理を行うときの条件を最適
化する。すなわち、加熱処理における加熱時間をＴ（Ｈ
ｒ）、該加熱処理を行うガラス母材の外径をｄ（ｍｍ）
とするとき、加熱処理は、０.２ｄ≦Ｔ≦ｄに合致する
条件で、かつ加熱温度を８００〜１４００℃の範囲で実
施することによって（実施例１ないし６）、ガラス径変
動及び断線頻度が良好なレベルのファイバを製造できる
ガラス母材を得ることができる。この加熱処理は、ガラ
ス微粒子を堆積させた多孔質部材を焼成して透明ガラス
化する工程と、透明ガラス化したガラス母材を線引き炉
で加熱して線引きする工程との間に実施する。
ガラス外径、及び加熱温度の関係を規定することによっ
て、その熱処理における高い生産性と品質安定性とを満
足できるようにする。 【解決手段】 ガラス母材の品質安定化を図るために、
該ガラス母材に対して加熱処理を行うときの条件を最適
化する。すなわち、加熱処理における加熱時間をＴ（Ｈ
ｒ）、該加熱処理を行うガラス母材の外径をｄ（ｍｍ）
とするとき、加熱処理は、０.２ｄ≦Ｔ≦ｄに合致する
条件で、かつ加熱温度を８００〜１４００℃の範囲で実
施することによって（実施例１ないし６）、ガラス径変
動及び断線頻度が良好なレベルのファイバを製造できる
ガラス母材を得ることができる。この加熱処理は、ガラ
ス微粒子を堆積させた多孔質部材を焼成して透明ガラス
化する工程と、透明ガラス化したガラス母材を線引き炉
で加熱して線引きする工程との間に実施する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス微粒子を堆
積させたガラス微粒子堆積体を脱水・焼結して透明ガラ
ス化させた後にさらに加熱処理を行うガラス母材の製造
方法に関する。
積させたガラス微粒子堆積体を脱水・焼結して透明ガラ
ス化させた後にさらに加熱処理を行うガラス母材の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバの製造においては、光ファイ
バのプリフォームとなるガラス母材を形成し、その後の
線引き工程において、該ガラス母材を加熱溶融して線引
きすることにより、目的の光ファイバを得るようにして
いる。このようなガラス母材の製造方法の一例として
は、先ずガラスロッドを出発母材として、そのガラスロ
ッドを回転させながら該ガラスロッドの外周にガラス微
粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を形成する。この
ガラス微粒子堆積体に対して塩素系の脱水用ガスをＨｅ
ガスなどとともに作用させることによって脱水処理を行
い、さらにその後Ｈｅ雰囲気下で焼結処理を行うことに
よって透明ガラス化したガラス母材を得ている。上記の
ごとくのガラス微粒子堆積体の形成方法は、ＯＶＤ法
（外付け気層蒸着法）として知られている。また、ガラ
ス微粒子を軸方向に堆積させて、ガラス微粒子堆積体を
形成し、この後、同様に脱水・焼結処理を行なって透明
ガラス化処理を行うことができるようにしたＶＡＤ法
（気相軸付け法）も知られている。
バのプリフォームとなるガラス母材を形成し、その後の
線引き工程において、該ガラス母材を加熱溶融して線引
きすることにより、目的の光ファイバを得るようにして
いる。このようなガラス母材の製造方法の一例として
は、先ずガラスロッドを出発母材として、そのガラスロ
ッドを回転させながら該ガラスロッドの外周にガラス微
粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を形成する。この
ガラス微粒子堆積体に対して塩素系の脱水用ガスをＨｅ
ガスなどとともに作用させることによって脱水処理を行
い、さらにその後Ｈｅ雰囲気下で焼結処理を行うことに
よって透明ガラス化したガラス母材を得ている。上記の
ごとくのガラス微粒子堆積体の形成方法は、ＯＶＤ法
（外付け気層蒸着法）として知られている。また、ガラ
ス微粒子を軸方向に堆積させて、ガラス微粒子堆積体を
形成し、この後、同様に脱水・焼結処理を行なって透明
ガラス化処理を行うことができるようにしたＶＡＤ法
（気相軸付け法）も知られている。
【０００３】上記のごとくの工程によって、焼結して透
明ガラス化されたガラス母材に対し、さらに加熱処理を
行うことにより、安定した品質のガラス母材を得るよう
にする技術が知られている。例えば、特開平７−１５７
３２７号公報においては、焼結によって透明ガラス化し
たガラス母材を、窒素ガスやＡｒガス等の雰囲気中で加
熱することによって、ガラス母材中に溶解しているＨｅ
量を低減させ、線引きされた光ファイバ中に気泡が残留
するのを防止する技術が開示されている。また、特開平
５−２２１６７４号公報には、焼結によって透明ガラス
化したガラス母材に対し、加熱によるアニール処理と、
さらに加圧下における加熱処理とを順次施すことによっ
て、ガラス母材中の残留歪みを取り除き欠陥を低減せし
める技術が開示されている。
明ガラス化されたガラス母材に対し、さらに加熱処理を
行うことにより、安定した品質のガラス母材を得るよう
にする技術が知られている。例えば、特開平７−１５７
３２７号公報においては、焼結によって透明ガラス化し
たガラス母材を、窒素ガスやＡｒガス等の雰囲気中で加
熱することによって、ガラス母材中に溶解しているＨｅ
量を低減させ、線引きされた光ファイバ中に気泡が残留
するのを防止する技術が開示されている。また、特開平
５−２２１６７４号公報には、焼結によって透明ガラス
化したガラス母材に対し、加熱によるアニール処理と、
さらに加圧下における加熱処理とを順次施すことによっ
て、ガラス母材中の残留歪みを取り除き欠陥を低減せし
める技術が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述のごとくの焼結後
のガラス母材に対する加熱処理において、加熱温度及び
加熱時間の条件は、ガラス母材の外径との関係において
最適化する必要がある。しかしながら、これらの最適化
条件は、上記いずれの従来技術においても明確ではなか
った。
のガラス母材に対する加熱処理において、加熱温度及び
加熱時間の条件は、ガラス母材の外径との関係において
最適化する必要がある。しかしながら、これらの最適化
条件は、上記いずれの従来技術においても明確ではなか
った。
【０００５】本発明は、ガラス微粒子を堆積させたガラ
ス微粒子堆積体を焼結して透明ガラス化させたガラス母
材に、さらに加熱処理を施すことによってガラス母材中
のＨｅ溶解量を減少させ、次工程でガラス母材を加熱し
た際に該ガラス母材における気泡の発生を抑制すること
ができるようにする工程、もしくは上記透明ガラス化後
の加熱処理によって残留歪みの除去を行う工程に適用で
きるもので、上記透明ガラス化後の熱処理における加熱
時間とガラス外径、及び加熱温度の関係を規定すること
によりその熱処理における高い生産性と品質安定性とを
満足できるようにしたガラス母材の製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
ス微粒子堆積体を焼結して透明ガラス化させたガラス母
材に、さらに加熱処理を施すことによってガラス母材中
のＨｅ溶解量を減少させ、次工程でガラス母材を加熱し
た際に該ガラス母材における気泡の発生を抑制すること
ができるようにする工程、もしくは上記透明ガラス化後
の加熱処理によって残留歪みの除去を行う工程に適用で
きるもので、上記透明ガラス化後の熱処理における加熱
時間とガラス外径、及び加熱温度の関係を規定すること
によりその熱処理における高い生産性と品質安定性とを
満足できるようにしたガラス母材の製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のガラス母材の製
造方法は、ガラス微粒子堆積体を透明ガラス化したガラ
ス母材に対して加熱処理を行うガラス母材の製造方法に
おいて、加熱処理における加熱時間をＴ（ｈ）、加熱処
理を行うガラス母材の外径をｄ（ｍｍ）とするとき、加
熱処理は、０.２ｄ≦Ｔ≦ｄに合致する条件で、かつ加
熱温度を１０００〜１３５０℃とすることを特徴とす
る。
造方法は、ガラス微粒子堆積体を透明ガラス化したガラ
ス母材に対して加熱処理を行うガラス母材の製造方法に
おいて、加熱処理における加熱時間をＴ（ｈ）、加熱処
理を行うガラス母材の外径をｄ（ｍｍ）とするとき、加
熱処理は、０.２ｄ≦Ｔ≦ｄに合致する条件で、かつ加
熱温度を１０００〜１３５０℃とすることを特徴とす
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は、本発明を実施するための
ガラス母材の加熱装置を示す概略構成図で、図中、１は
ガラス母材、１０は加熱炉、１１は炉心管、１２はヒー
タ、１３は熱電対、１４は断熱材、２０は昇降装置、２
１は吊り棒、２２は上蓋である。図１に示す加熱装置
は、透明ガラス化させたガラス母材１を吊り棒２１に取
り付けた状態で、昇降装置２０を動作させることによっ
て加熱炉１０の炉芯管１１の内部に該ガラス母材１を挿
入し、上蓋２２によって炉芯管１１の上部を遮蔽する。
そして窒素ガスを炉芯管１１の内部に供給しながらガラ
ス母材１に対する加熱処理を行う。ここでは、加熱炉１
０の上部、中央部及び下部に分割配置されたヒータ１２
によって加熱を行う。各ヒータ１２に対応して熱電対１
３が設けられ、これによってヒータ外周雰囲気の温度を
測定し、図示しない温度制御手段によりヒータの加熱温
度を個別に制御する。
ガラス母材の加熱装置を示す概略構成図で、図中、１は
ガラス母材、１０は加熱炉、１１は炉心管、１２はヒー
タ、１３は熱電対、１４は断熱材、２０は昇降装置、２
１は吊り棒、２２は上蓋である。図１に示す加熱装置
は、透明ガラス化させたガラス母材１を吊り棒２１に取
り付けた状態で、昇降装置２０を動作させることによっ
て加熱炉１０の炉芯管１１の内部に該ガラス母材１を挿
入し、上蓋２２によって炉芯管１１の上部を遮蔽する。
そして窒素ガスを炉芯管１１の内部に供給しながらガラ
ス母材１に対する加熱処理を行う。ここでは、加熱炉１
０の上部、中央部及び下部に分割配置されたヒータ１２
によって加熱を行う。各ヒータ１２に対応して熱電対１
３が設けられ、これによってヒータ外周雰囲気の温度を
測定し、図示しない温度制御手段によりヒータの加熱温
度を個別に制御する。
【０００８】上記の加熱装置を用いて、加熱温度、ガラ
ス母材の外径、及び加熱時間の条件をパラメータとして
加熱処理を行い、処理後のガラス母材の品質評価を行っ
た。その条件と評価結果を図２に示す。加熱処理の評価
を行うためのガラス母材は次の製法で作製した。先ず、
コア／クラッド部を有する直径２０ｍｍのコアガラスロ
ッドの両端にガラスダミーロッドを溶着して出発ガラス
ロッドを作製した。この出発ガラスロッドの外周に、Ｏ
ＶＤ法またはＶＡＤ法によりガラス微粒子を堆積させて
ガラス微粒子堆積体を作製する。このガラス微粒子堆積
体を焼結炉に収納し、Ｈｅ若しくはＨｅと塩素との混合
ガス雰囲気中で１６００℃に加熱することにより焼結も
しくは脱水・焼結処理を行ってガラス母材を得た。
ス母材の外径、及び加熱時間の条件をパラメータとして
加熱処理を行い、処理後のガラス母材の品質評価を行っ
た。その条件と評価結果を図２に示す。加熱処理の評価
を行うためのガラス母材は次の製法で作製した。先ず、
コア／クラッド部を有する直径２０ｍｍのコアガラスロ
ッドの両端にガラスダミーロッドを溶着して出発ガラス
ロッドを作製した。この出発ガラスロッドの外周に、Ｏ
ＶＤ法またはＶＡＤ法によりガラス微粒子を堆積させて
ガラス微粒子堆積体を作製する。このガラス微粒子堆積
体を焼結炉に収納し、Ｈｅ若しくはＨｅと塩素との混合
ガス雰囲気中で１６００℃に加熱することにより焼結も
しくは脱水・焼結処理を行ってガラス母材を得た。
【０００９】上記の処理によって得られたガラス母材
を、図１に示す加熱炉１０の炉芯管１１に収納し、該炉
心管１１内に窒素５ＳＬＭ（Standard Liter／Min.）を
流して加熱処理を行い、その後ガラス母材を取り出して
線引き用の加熱炉（線引き炉）で溶融して、線引き工程
によって１２５μｍφの光ファイバを作製した。このと
きの加熱時間、ガラス母材の外径、及び加熱温度は、図
２に示す実施例及び比較例の条件とした。
を、図１に示す加熱炉１０の炉芯管１１に収納し、該炉
心管１１内に窒素５ＳＬＭ（Standard Liter／Min.）を
流して加熱処理を行い、その後ガラス母材を取り出して
線引き用の加熱炉（線引き炉）で溶融して、線引き工程
によって１２５μｍφの光ファイバを作製した。このと
きの加熱時間、ガラス母材の外径、及び加熱温度は、図
２に示す実施例及び比較例の条件とした。
【００１０】作製された光ファイバについて、ガラス径
変動（回／Ｍｍ）、断線頻度（回／Ｍｍ）、及び生産性
と線引きの工程安定性を評価した。ガラス径変動は、１
２５μｍφの光ファイバにおいて、プラスまたはマイナ
スに１μｍ以上変動した部分の数を光ファイバ１Ｍｍ
（１０００ｋｍ）当りの数に換算し、２０回／Ｍｍ以下
を実用レベルにあるものとして評価した。また、断線頻
度は、光ファイバに対して１１.８Ｎの過重を１ｓ付与
したときに、該光ファイバの断線が生じた回数を１Ｍｍ
（１０００ｋｍ）当りの数に換算し、２０回／Ｍｍ以下
を実用レベルにあるものとして評価した。
変動（回／Ｍｍ）、断線頻度（回／Ｍｍ）、及び生産性
と線引きの工程安定性を評価した。ガラス径変動は、１
２５μｍφの光ファイバにおいて、プラスまたはマイナ
スに１μｍ以上変動した部分の数を光ファイバ１Ｍｍ
（１０００ｋｍ）当りの数に換算し、２０回／Ｍｍ以下
を実用レベルにあるものとして評価した。また、断線頻
度は、光ファイバに対して１１.８Ｎの過重を１ｓ付与
したときに、該光ファイバの断線が生じた回数を１Ｍｍ
（１０００ｋｍ）当りの数に換算し、２０回／Ｍｍ以下
を実用レベルにあるものとして評価した。
【００１１】図２において、実施例１ないし３は、加熱
温度を１３００℃、ガラス母材の外径を１００ｍｍと
し、処理時間をそれぞれ３５、２０、５５時間として加
熱処理を行ったもので、実施例４は、加熱温度を１０５
０℃、処理時間を３５時間、ガラス母材の外径を１００
ｍｍとしたものである。また実施例５は、加熱温度を１
３００℃、処理時間を２８時間、ガラス母材の外径を８
０ｍｍとしたもので、更に実施例６は、加熱温度を１３
００℃、処理時間を４２時間、ガラス母材の外径を１２
０ｍｍとしたものである。上記各実施例では、ガラス径
変動及び断線頻度が共に２０回／Ｍｍ以下であって、ま
た線引き工程における問題もなく、良好な評価結果を得
ることができた。
温度を１３００℃、ガラス母材の外径を１００ｍｍと
し、処理時間をそれぞれ３５、２０、５５時間として加
熱処理を行ったもので、実施例４は、加熱温度を１０５
０℃、処理時間を３５時間、ガラス母材の外径を１００
ｍｍとしたものである。また実施例５は、加熱温度を１
３００℃、処理時間を２８時間、ガラス母材の外径を８
０ｍｍとしたもので、更に実施例６は、加熱温度を１３
００℃、処理時間を４２時間、ガラス母材の外径を１２
０ｍｍとしたものである。上記各実施例では、ガラス径
変動及び断線頻度が共に２０回／Ｍｍ以下であって、ま
た線引き工程における問題もなく、良好な評価結果を得
ることができた。
【００１２】比較例１では、加熱温度を１３００℃、処
理時間を１５時間、ガラス外径を１００ｍｍとしたとこ
ろ、ガラス径変動と断線頻度が共に３０回／Ｍｍとなっ
て、評価結果としては不良であった。また比較例２で
は、加熱温度を１３００℃、処理時間を１５０時間、ガ
ラス外径を１００ｍｍとしたところ、ガラス径変動と断
線頻度が共に１０回／Ｍｍであり、これら評価項目につ
いては良好であったが、加熱処理時間が１５０時間であ
って、実用上では加熱処理工程における生産性が著しく
劣るために評価結果は不良とした。
理時間を１５時間、ガラス外径を１００ｍｍとしたとこ
ろ、ガラス径変動と断線頻度が共に３０回／Ｍｍとなっ
て、評価結果としては不良であった。また比較例２で
は、加熱温度を１３００℃、処理時間を１５０時間、ガ
ラス外径を１００ｍｍとしたところ、ガラス径変動と断
線頻度が共に１０回／Ｍｍであり、これら評価項目につ
いては良好であったが、加熱処理時間が１５０時間であ
って、実用上では加熱処理工程における生産性が著しく
劣るために評価結果は不良とした。
【００１３】比較例３は、加熱温度を７００℃、処理時
間を３５時間、ガラス外径を１００ｍｍとしたところ、
ガラス径変動と断線頻度が共に２５回／Ｍｍとなり、許
容範囲を超えてしまった。また比較例４は、加熱温度を
１４５０℃、処理時間を３５時間、ガラス外径を１００
ｍｍとしたが、加熱温度が高すぎてガラス母材が軟化し
て引き伸びが生じてしまい、実用レベルのファイバ化は
不可能であった。
間を３５時間、ガラス外径を１００ｍｍとしたところ、
ガラス径変動と断線頻度が共に２５回／Ｍｍとなり、許
容範囲を超えてしまった。また比較例４は、加熱温度を
１４５０℃、処理時間を３５時間、ガラス外径を１００
ｍｍとしたが、加熱温度が高すぎてガラス母材が軟化し
て引き伸びが生じてしまい、実用レベルのファイバ化は
不可能であった。
【００１４】上記の評価結果に鑑み、またＨｅ溶解量の
低減効率の観点から、上記の加熱処理における加熱温度
は、８００℃から１４００℃の範囲とすることが望まし
い。加熱温度が１４００℃を越えるとガラス母材が軟化
して引き伸びが生じる。また加熱温度を８００℃より低
い温度とすると、ガラス母材中におけるＨｅの拡散係数
が下がり、ガラス母材中のＨｅ溶解量の低減に時間がか
かるため、必要な加熱処理時間が長くなって非合理的と
なる。
低減効率の観点から、上記の加熱処理における加熱温度
は、８００℃から１４００℃の範囲とすることが望まし
い。加熱温度が１４００℃を越えるとガラス母材が軟化
して引き伸びが生じる。また加熱温度を８００℃より低
い温度とすると、ガラス母材中におけるＨｅの拡散係数
が下がり、ガラス母材中のＨｅ溶解量の低減に時間がか
かるため、必要な加熱処理時間が長くなって非合理的と
なる。
【００１５】また、実施例の評価結果から、加熱処理の
処理時間（Ｔ）とガラス母材の外径（ｄ）は、その比Ｔ
／ｄを０.２以上１.０以下の範囲とする。この範囲の条
件で加熱処理を実行することによって、ガラス径変動及
び断線頻度が良好な光ファイバを製造できるガラス母材
を得ることができる。
処理時間（Ｔ）とガラス母材の外径（ｄ）は、その比Ｔ
／ｄを０.２以上１.０以下の範囲とする。この範囲の条
件で加熱処理を実行することによって、ガラス径変動及
び断線頻度が良好な光ファイバを製造できるガラス母材
を得ることができる。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ガラス微粒子を堆積させたガラス微粒子堆積
体を焼結して透明ガラス化させたガラス母材に、さらに
加熱処理を施す工程において、その加熱処理における加
熱時間とガラス母材外径、及び加熱温度の関係を規定す
ることによって、高い生産性とガラス母材の品質安定性
とを共に満足できるようにしたガラス母材の製造方法を
提供することができる。
によれば、ガラス微粒子を堆積させたガラス微粒子堆積
体を焼結して透明ガラス化させたガラス母材に、さらに
加熱処理を施す工程において、その加熱処理における加
熱時間とガラス母材外径、及び加熱温度の関係を規定す
ることによって、高い生産性とガラス母材の品質安定性
とを共に満足できるようにしたガラス母材の製造方法を
提供することができる。
【図１】本発明を実施するためのガラス母材の加熱処理
装置を示す概略構成図である。
装置を示す概略構成図である。
【図２】加熱温度、ガラス母材、及び加熱時間をパラメ
ータとする加熱処理の評価結果を示す表である。
ータとする加熱処理の評価結果を示す表である。
１…ガラス母材、１０…加熱炉、１１…炉心管、１２…
ヒータ、１３…熱電対、１４…断熱材、２０…昇降装
置、２１…吊り棒、２２…上蓋。
ヒータ、１３…熱電対、１４…断熱材、２０…昇降装
置、２１…吊り棒、２２…上蓋。
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス微粒子堆積体を透明ガラス化した
ガラス母材に対して加熱処理を行うガラス母材の製造方
法であって、前記加熱処理の加熱時間をＴ（ｈ）、前記
加熱処理を行うガラス母材の外径をｄ（ｍｍ）とすると
き、該加熱処理は、０.２ｄ≦Ｔ≦ｄに合致する条件
で、かつ、加熱温度を８００〜１４００℃とすることを
特徴とするガラス母材の製造方法。 - 【請求項２】 前記加熱処理は、前記ガラス微粒子堆積
体を焼結して透明ガラス化した後、前記透明ガラス化し
たガラス母材を線引き炉で加熱して線引きする工程との
間に実施することを特徴とする請求項１に記載のガラス
母材の製造方法。 - 【請求項３】 前記加熱処理により前記ガラス母材中の
Ｈｅを低減させることを特徴とする請求項１または２に
記載のガラス母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002088251A JP2003286034A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | ガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002088251A JP2003286034A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | ガラス母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003286034A true JP2003286034A (ja) | 2003-10-07 |
Family
ID=29234166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002088251A Pending JP2003286034A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | ガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003286034A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014073924A (ja) * | 2012-10-03 | 2014-04-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 透明ガラス母材の製造方法 |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002088251A patent/JP2003286034A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014073924A (ja) * | 2012-10-03 | 2014-04-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 透明ガラス母材の製造方法 |
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