JP2003251290A - 洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置 - Google Patents

洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置

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JP2003251290A
JP2003251290A JP2002058844A JP2002058844A JP2003251290A JP 2003251290 A JP2003251290 A JP 2003251290A JP 2002058844 A JP2002058844 A JP 2002058844A JP 2002058844 A JP2002058844 A JP 2002058844A JP 2003251290 A JP2003251290 A JP 2003251290A
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pipe
cleaning
liquid
cleaning liquid
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JP2002058844A
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English (en)
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Tomoaki Aihara
友明 相原
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理部内の処理液排出を行うことなく独立し
た洗浄装置で処理液配管の配管部品を洗浄できるように
することにより、洗浄時における処理液の無駄を抑制す
るとともに洗浄の短時間化を図る。 【解決手段】 洗浄液循環タンク7及びポンプ11と、
洗浄液を回収する洗浄液回収タンク19と、洗浄液循環
タンク7を配管部品を挟んで処理液配管に連通接続する
ための屈曲配管21,23とを筐体3に備え、屈曲配管
21,23を処理液配管に連通接続し、処理液配管から
処理部への流通を遮断した状態で配管部品を洗浄する。
これにより処理部内の処理液を排出することなく配管部
品を洗浄液で洗浄でき、処理液の飛散が防止できる。し
たがって、安全に作業を行えるとともに、処理液の損失
が抑制できて洗浄を短時間化できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称す
る)に所定の処理を施す基板処理装置における配管部品
の洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置に係り、特
に、処理液配管から処理部に処理液を供給する基板処理
装置における処理液配管の配管部品を洗浄する技術に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の基板処理装置として、ポ
ンプ、温度調節器、フィルタなどの配管部品を備えた処
理液配管の端部が処理槽の底部に接続され、基板を収納
した処理槽に処理液配管から処理液を供給することで基
板に対して処理を施すものが挙げられる。
【0003】このような基板処理装置において配管部品
を洗浄するには、配管部品を取り外してから配管部品だ
けを洗浄する第1の手法と、処理液配管に洗浄液を供給
して処理液配管ごと配管部品を洗浄する第2の手法とが
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来例の場合には、次のような問題がある。すなわ
ち、従来の第1の手法では、配管部品を取り外す前に処
理液配管内の処理液を排出する必要があり、コスト面で
不利であり、処理液の飛散が生じる恐れがあって作業時
の危険性が大きい。また、配管部品を取り外した後に洗
浄を行う必要があるので、配管部品の洗浄を行うまでに
長時間を要する。さらに、洗浄後に次なる基板に対する
処理を行うには、処理液配管に再び洗浄液を供給して温
度調節を行う必要があるので、コスト面で不利であり、
長時間を要するという問題点がある。
【0005】また、従来の第2の手法では、洗浄液を供
給する前に処理液を排出する必要があり、コスト面にお
いて不利である。さらに、洗浄後に次なる基板に対する
処理を行うには、処理液配管から洗浄液を排出した後に
再び洗浄液を供給して温度調節を行う必要があるので、
コスト面で不利であって長時間を要するという多くの問
題を抱えている。
【0006】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、処理部内の処理液排出を行うことな
く独立した洗浄装置で処理液配管の配管部品を洗浄でき
るようにすることにより、洗浄時における処理液の無駄
を抑制するとともに洗浄の短時間化を図ることができる
洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板処理装置の処理部に
処理液を供給する処理液配管に備えられた配管部品を洗
浄する洗浄装置において、前記配管部品を挟んで上流側
及び下流側の前記処理液配管に連通接続された2つの連
結配管と、前記処理液配管から前記処理部への処理液の
流通を遮断した状態で、前記2つの連結配管のうち一方
の連結配管を介して前記処理液配管に洗浄液を供給する
ための洗浄液供給手段と、前記処理液配管から前記処理
部への処理液の流通を遮断した状態で、前記2つの連結
配管のうち他方の連結配管を介して前記処理液配管から
洗浄液を回収するための洗浄液回収手段と、前記洗浄液
供給手段及び前記洗浄液回収手段を収納する筐体と、を
備えていることを特徴とするものである。
【0008】(作用・効果)連結配管を処理液配管に連
通接続し、処理液配管から処理槽への流通を遮断した状
態で、筐体に収納された洗浄液供給手段から洗浄液を供
給し、洗浄液回収手段で洗浄液を回収する。これにより
処理部内の処理液を排出することなく配管部品を洗浄液
で洗浄することができるので、処理液の飛散が防止でき
る。したがって、安全に作業を行えるとともに、処理液
の損失が抑制でき、洗浄を短時間化することができる。
また、筐体を搬送可能なものにすれば、洗浄装置を複数
台の基板処理装置で共用することができ、洗浄液供給用
と排液用のユーティリティを設けるという負担を軽減す
ることができる。
【0009】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の洗浄装置において、前記洗浄液供給手段は、洗
浄液を貯留する洗浄液循環タンクと、前記洗浄液循環タ
ンク内の洗浄液を前記一方の連結配管に圧送する圧送手
段と、前記配管部品を通った洗浄液を前記他方の連結配
管を介して前記洗浄液循環タンクに回収する戻り配管と
を備え、前記洗浄液回収手段は、前記戻り配管から分岐
した分岐配管と、前記分岐配管からの洗浄液を回収する
洗浄液回収タンクと、前記戻り配管内の洗浄液を、前記
洗浄液循環タンク側と前記洗浄液回収タンク側のいずれ
か一方に切換える切り換え弁とを備えていることを特徴
とするものである。
【0010】(作用・効果)洗浄時には、洗浄液循環タ
ンク内の洗浄液を圧送手段により一方の連結配管を介し
て処理液配管に供給して配管部品を洗浄し、戻り配管を
通って戻ってきた洗浄液を他方の連結配管を介して洗浄
液循環タンクに循環させて洗浄を行う。洗浄を一定時間
行った後、切り換え弁を洗浄液回収タンク側に切換え、
戻り配管を通って戻ってきた洗浄液を洗浄液回収タンク
に回収することで、洗浄に使用して汚れを含む洗浄液を
回収する。
【0011】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または2に記載の洗浄装置において、前記洗浄液循環タ
ンクは、複数個であり、処理部に用いられる処理液に応
じた洗浄液を貯留することを特徴とするものである。
【0012】(作用・効果)洗浄液は処理液に応じて適
したものがあるので、例えば、有機溶剤(IPAなど)
や純水などを洗浄液として処理液に応じて用いることが
好ましい。複数個の洗浄液循環タンクを備えておけば、
それぞれに各種の洗浄液を貯留しておくことができ、処
理液に応じて洗浄液を切換えて供給することができる。
【0013】また、請求項4に記載の発明は、配管部品
を有し、処理部に処理液を供給する処理液配管と、前記
処理液配管から前記処理部への処理液の流通を遮断する
流通遮断手段と、前記処理液配管に連通接続された2つ
の連結配管、前記流通遮断手段により前記処理液配管か
ら前記処理部への処理液の流通を遮断した状態で、前記
2つの連結配管のうち一方の連結配管を介して前記処理
液配管に洗浄液を供給するための洗浄液供給手段、前記
流通遮断手段により前記処理液配管から前記処理部への
処理液の流通を遮断した状態で、前記2つの連結配管の
うち他方の連結配管を介して前記処理液配管から洗浄液
を回収するための洗浄液回収手段、及び前記洗浄液供給
手段及び前記洗浄液回収手段を収納する筐体を有する洗
浄装置と、を備えていることを特徴とするものである。
【0014】(作用・効果)請求項1に記載の洗浄装置
を基板処理装置に備えることにより、処理槽内の処理液
を排出することなく配管部品を洗浄液で洗浄することが
できるので処理液の飛散が防止できる。したがって、安
全に作業を行え、処理液の損失が抑制でき、洗浄を短時
間化できる。また、洗浄液供給用と排液用のユーティリ
ティを設けるという負担を軽減することができる。
【0015】また、好ましくは、流通遮断手段を、配管
部品ごとに挟んで上流側及び下流側の処理液配管に設け
ることにより(請求項5に記載の発明)、洗浄対象とな
る配管部品を絞って洗浄でき、複数個の配管部品を挟ん
で設けることにより(請求項6に記載の発明)、一度に
複数個の配管部品を洗浄できる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施例を説明する。 <洗浄装置>図1及び図2はこの発明の一実施例に係
り、図1は実施例に係る洗浄装置の概略構成を示す縦断
面図であり、図2はその外観斜視図である。
【0017】洗浄装置1は、処理部となる処理槽を備え
た基板処理装置における処理液配管の配管部品の洗浄を
行う機能を備えた装置である。配管部品とは、例えば、
フィルタ、加熱器、ポンプ、温度計、温度計、流量計、
配管自体等の処理液配管に取り付けられる部品のことで
ある。
【0018】洗浄装置1は、基板処理装置等のオペレー
タが容易に搬送することができる大きさと重さであり、
その筐体3の大きさは例えば「一斗缶」程度である。筐
体3の上部には、持ち運びを容易にするためのハンドル
5が取り付けられている。
【0019】内部には、洗浄液循環タンク7と、供給配
管9と、ポンプ11と、戻り配管13と、三方弁15
と、分岐配管17と、洗浄液回収タンク19とを収納し
ている。また、筐体3の図1における右側面下部には、
供給配管9に連通した屈曲配管21が取り付けられ、右
側面上部には、戻り配管13に連通した屈曲配管23が
取り付けられている。これらの先端部には、基板処理装
置の処理液配管に設けられた弁部に連結可能な連結部2
5,27が取り付けられている。
【0020】洗浄液循環タンク7には洗浄液が貯留され
ており、洗浄液は圧送手段となるポンプ11の作動によ
って供給配管9を通して屈曲配管21に供給される。三
方弁15が「通常位置」にある場合には、屈曲配管21
から供給されて配管部品を通った洗浄液は、屈曲配管2
3を通って戻り配管13を介して洗浄液循環タンク7に
戻る。ポンプ11の動作電源は、図示しない内蔵バッテ
リを使用したり、図示しないACケーブルを介してコン
セントに接続したりすることで得られる。なお、電動式
のポンプ11に代えて手回し式を採用することにより、
より軽量化を図ることもできる。
【0021】三方弁15が「回収位置」にある場合に
は、屈曲配管21から供給されて配管部品を通った洗浄
液は、屈曲配管23及び戻り配管13を通り、分岐配管
17を通って洗浄液回収タンク19に回収される。回収
された洗浄液は、洗浄液回収タンク19の図示しないド
レインから排出したり、洗浄液回収タンク19ごと筐体
3から取り出されて排出されたりする。
【0022】なお、洗浄液循環タンク7と、供給配管9
と、ポンプ11とが本発明における洗浄液供給手段に相
当し、三方弁15と、分岐配管17と、洗浄液回収タン
ク19とが本発明における洗浄液回収手段に相当する。
また、屈曲配管21,23と、連結部25,27とが本
発明における連結配管に相当する。
【0023】次に、上述した構成の洗浄装置1による洗
浄処理について説明する。なお、洗浄液回収タンク19
は空であり、洗浄液循環タンク7には所要量の洗浄液が
貯留されているものとする。
【0024】まず、洗浄の対象である基板処理装置の近
辺まで洗浄装置1を運ぶ。次に、洗浄対象である配管部
品を挟むように、屈曲配管21,23の先端部にある連
結部25,27を接続する。そして、三方弁15を「通
常位置」にした状態で、ポンプ11を作動させる。これ
により、洗浄液循環タンク7内の洗浄液が圧送され、配
管部品を洗浄した後に再び洗浄液循環タンク7に戻る。
これを所定時間だけ行って配管部品を洗浄する。その
後、三方弁15を「回収位置」に切換えて、洗浄に使用
した洗浄液を分岐配管17を通して洗浄液回収タンク1
9に回収する。
【0025】このように可搬型の筐体3に備わった洗浄
液循環タンク7と、供給配管9と、ポンプ11とにより
洗浄液を供給し、三方弁15と、分岐配管17と、洗浄
液回収タンク19とで洗浄液を回収することにより、配
管部品を洗浄液で洗浄することができ、処理液の飛散が
防止できる。そのため、安全に作業を行えるとともに、
処理液の損失が抑制できて洗浄を短時間化することがで
きる。また、洗浄装置1を可搬型に構成しているので洗
浄装置1を複数台の基板処理装置で共用することがで
き、洗浄液供給用と排液用のユーティリティ等を設ける
という負担を軽減することができる。
【0026】<変形例>図3は、上述した洗浄装置1の
変形例の概略構成を示す縦断面図である。なお、上述し
た実施例装置と同様の構成については、同符号を付すこ
とで詳細な説明については省略する。
【0027】この洗浄装置1Aは、2個の洗浄液循環タ
ンク7A,7Bを備えている点において上記洗浄装置1
と相違する。そのため、供給配管9には、二つの洗浄液
供給タンク7A,7Bを切換えるための三方弁29と、
供給配管9A,9Bとを備える。また、戻り配管13に
は、洗浄液循環タンク7A,7Bを切換えるための三方
弁31と、戻り配管13,13A,13Bとを備える。
【0028】上述した三方弁29、31は切換え動作が
連動しており、必ず一方側の洗浄液循環タンク7A,7
Bだけが利用されるように構成されている。三方弁31
は、「通常位置1」と「通常位置2」とに切換え可能で
あり、前者で洗浄液循環タンク7Aに接続され、後者で
洗浄液循環タンク7Bに接続される。したがって、この
三方弁31の動作に連動して、三方弁29が同一のタン
クを選択するように連動して切換えられる。
【0029】このように複数個の洗浄液循環タンク7
A,7Bを備えることにより、それぞれに各種の洗浄液
を貯留しておくことができ、基板処理装置が使用してい
る処理液に応じて洗浄液を切換えて供給することができ
る。したがって、効率的に洗浄処理を行うことができ
る。
【0030】なお、本発明は上記の実施例に限定される
ものではなく、以下のように変形実施が可能である。
【0031】(1)可搬型の筐体3は、可搬型であれば
形状や大きさは種々の実施態様を採用できる。例えば、
人が直接的に運ぶことができない大きさや重さであって
も、台車等に載置して移動することができる形態も含
む。
【0032】(2)複数個の洗浄液循環タンクを備えて
いる洗浄装置1Aでは、各々のタンクに専用の屈曲配管
を配備してもよい。
【0033】(3)ハンドル5に代えて、可搬型筐体1
の下面に車輪を設けて可搬型を構成するようにしてもよ
い。
【0034】(4)連結配管は、上述した屈曲配管2
1,23のように屈曲する構造に限定されるものではな
く、固定式の配管を採用してもよい。また、固定式の配
管を管継手で接続した多関節式の配管を用いてもよい。
【0035】<基板処理装置>次に、上述した洗浄装置
を備えた基板処理装置について図4を参照して説明す
る。なお、図4は、洗浄装置を備えた基板処理装置の概
略構成を示すブロック図である。
【0036】この基板処理装置51は、上述した洗浄装
置1(または洗浄装置1A)と、保持アーム53と、処
理部である処理槽55と、処理液配管57とを備えてい
る。保持アーム53は、処理を施すための複数枚の基板
Wを保持し、処理槽55の上方と、図1に示す浸漬位置
との間を昇降可能である。処理槽55は、その底部に、
処理液を注入する注入管59を備えている。また、その
上部周囲には、溢れた処理液を回収して排出する回収槽
60を備えている。注入管59には、処理液配管57が
連通接続されている。
【0037】処理液配管57は、本発明における配管部
品に相当するフィルタ61と、温度調節機能を備える加
熱器63と、ポンプ65とを備えている。フィルタ61
は処理液中のパーティクル等を除去するものであり、加
熱器63は処理液を所定の温度に昇温調節するものであ
る。また、ポンプ65は、図示しない処理液供給源から
処理槽55に供給された処理液を、回収槽60と処理槽
55とにわたって循環流通させる。
【0038】さらに処理液配管57は、上述したフィル
タ61と、加熱器63と、ポンプ65の各々を挟み込む
ように4個の三方弁67〜70を備えている。なお、こ
れらの三方弁67〜70が本発明における流通遮断手段
に相当する。各三方弁67〜70は、処理液配管57に
直接接続されていない残りの部分が連結部71〜74と
なっている。
【0039】例えば、連結部72は洗浄液供給用であ
り、連結部71は排液用である。連結部71,72に
は、洗浄装置1(または洗浄装置1A)の屈曲配管2
3,21がそれぞれ接続されている。
【0040】次に、上記のように構成された基板処理装
置の洗浄時における動作について説明する。なお、ポン
プ65は予め停止され、保持アーム53も処理槽55の
上方に上昇されて待避しているものとする。
【0041】●フィルタ洗浄 屈曲配管21を三方弁68の連結部72に接続し、屈曲
配管23を三方弁67の連結部71に接続する。そし
て、両三方弁67,68を操作して、それぞれ連結部7
1,73側に切換える。これによりフィルタ61内の残
液及び循環圧力が三方弁67を通して排出されるととも
に、洗浄装置1から三方弁68を通して供給された洗浄
液によってフィルタ61が洗浄される。なお、必要であ
れば、所定時間の洗浄処理の後、フィルタ61を新たな
ものに取り替える。そして、両三方弁67,68を元の
状態に切換えた後、処理液を流通させて基板Wの処理を
行う。
【0042】●加熱器洗浄 屈曲配管21を三方弁69の連結部73に接続し、接続
配管23を三方弁68の連結部72に接続する。それ以
降は、上記フィルタ61の洗浄処理と同様の手順である
ので説明については省略する。
【0043】●ポンプ洗浄 屈曲配管21を三方弁70の連結部74に接続し、もう
一つの屈曲配管23を三方弁69の連結部73に接続す
る。それ以降は、上述したフィルタ61の洗浄処理と同
様であるので説明は省略する。
【0044】本実施例によれば、処理槽55と処理液配
管57とが三方弁67〜70のいずれかによって遮断さ
れるので、処理槽55内に貯留している大量の処理液を
排出することなくフィルタ61、加熱器63、ポンプ6
5を洗浄できる。したがって、処理液の損失が抑制で
き、すぐに洗浄に取りかかることができる。また、フィ
ルタ61と、加熱器63と、ポンプ65を挟む近い位置
に一対の三方弁(67と68、68と69、69と7
0)を設けることにより、処理液配管57内の処理液の
無駄も抑制でき、無駄になる処理液の量をさらに抑制で
きる。
【0045】<変形例>図5は、上記基板処理装置の変
形例に関する概略構成を示す図である。なお、上述した
実施例と共通の構成については同符号を付すことで詳細
な説明については省略してある。
【0046】上記の実施例では、フィルタ61と、加熱
器63と、ポンプ65の各々に三方弁を設けたが、本実
施例に係る基板処理装置51Aではこれらの配管部品を
一括して挟み込むように三方弁67,70を設けてい
る。したがって、洗浄する際には、フィルタ61と、加
熱器63と、ポンプ65の全てを同時に洗浄することに
なる。
【0047】このようにフィルタ61と、加熱器63
と、ポンプ65を挟んで三方弁67,70を設け、洗浄
装置1(1A)の屈曲配管21を三方弁70の連結部7
4に接続し、屈曲配管23を三方弁67の連結部73に
接続することにより、一度の処理で全ての配管部品を洗
浄することができる。
【0048】なお、上記の基板処理装置は、処理槽55
と回収槽60とに処理液配管57が連通接続されて処理
液が循環するタイプであるが、処理液配管57から供給
されて処理槽55から回収槽60に溢れた処理液が循環
することなく排出されるタイプであってもよい。
【0049】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る洗浄装置によれば、筐体に収納された洗浄液供給
手段から洗浄液を供給し、洗浄液回収手段で洗浄液を回
収することにより、処理部内の処理液を排出することな
く配管部品を洗浄液で洗浄することができ、処理液の飛
散が防止できる。したがって、安全に作業を行えるとと
もに、処理液の損失が抑制できて洗浄を短時間化でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る洗浄装置の概略構成を示す縦断面
図である。
【図2】図1の洗浄装置の外観斜視図である。
【図3】変形例の概略構成を示す縦断面図である。
【図4】洗浄装置を備えた基板処理装置の概略構成を示
すブロック図である。
【図5】変形例の概略構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1,1A … 洗浄装置 3 … 筐体 5 … ハンドル 7,7A,7B … 洗浄液循環タンク(洗浄液供給手
段) 9 … 供給配管(洗浄液供給手段) 11 … ポンプ(洗浄液供給手段) 13 … 戻り配管 15 … 三方弁(洗浄液回収手段) 17 … 分岐配管(洗浄液回収手段) 19 … 洗浄液回収タンク(洗浄液回収手段) 21,23 … 屈曲配管(連結配管) 25,27 … 連結部(連結配管) W … 基板 51 … 基板処理装置 53 … 保持アーム 55 … 処理槽(処理部) 57 … 処理液配管 59 … 注入管 60 … 回収槽 61 … フィルタ 63 … 加熱器 65 … ポンプ 67〜70 … 三方弁(流通遮断手段) 71〜74 … 連結部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/304 B08B 9/02 Z Fターム(参考) 2H088 FA21 FA30 HA01 MA20 2H090 HC18 JB02 JC19 3B116 AA13 AB53 BB62 BB90 CD22 3B201 AA13 AB53 BB62 BB90 BB92 CD22

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板処理装置の処理部に処理液を供給す
    る処理液配管に備えられた配管部品を洗浄する洗浄装置
    において、 前記配管部品を挟んで上流側及び下流側の前記処理液配
    管に連通接続された2つの連結配管と、 前記処理液配管から前記処理部への処理液の流通を遮断
    した状態で、前記2つの連結配管のうち一方の連結配管
    を介して前記処理液配管に洗浄液を供給するための洗浄
    液供給手段と、 前記処理液配管から前記処理部への処理液の流通を遮断
    した状態で、前記2つの連結配管のうち他方の連結配管
    を介して前記処理液配管から洗浄液を回収するための洗
    浄液回収手段と、 前記洗浄液供給手段及び前記洗浄液回収手段を収納する
    筐体と、 を備えていることを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の洗浄装置において、 前記洗浄液供給手段は、 洗浄液を貯留する洗浄液循環タンクと、 前記洗浄液循環タンク内の洗浄液を前記一方の連結配管
    に圧送する圧送手段と、 前記配管部品を通った洗浄液を前記他方の連結配管を介
    して前記洗浄液循環タンクに回収する戻り配管とを備
    え、 前記洗浄液回収手段は、 前記戻り配管から分岐した分岐配管と、 前記分岐配管からの洗浄液を回収する洗浄液回収タンク
    と、 前記戻り配管内の洗浄液を、前記洗浄液循環タンク側と
    前記洗浄液回収タンク側のいずれか一方に切換える切り
    換え弁とを備えていることを特徴とする洗浄装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の洗浄装置にお
    いて、 前記洗浄液循環タンクは、複数個であり、前記処理部に
    用いられる処理液に応じた洗浄液を貯留することを特徴
    とする洗浄装置。
  4. 【請求項4】 配管部品を有し、処理部に処理液を供給
    する処理液配管と、 前記処理液配管から前記処理部への処理液の流通を遮断
    する流通遮断手段と、 前記処理液配管に連通接続された2つの連結配管、前記
    流通遮断手段により前記処理液配管から前記処理部への
    処理液の流通を遮断した状態で、前記2つの連結配管の
    うち一方の連結配管を介して前記処理液配管に洗浄液を
    供給するための洗浄液供給手段、前記流通遮断手段によ
    り前記処理液配管から前記処理部への処理液の流通を遮
    断した状態で、前記2つの連結配管のうち他方の連結配
    管を介して前記処理液配管から洗浄液を回収するための
    洗浄液回収手段、及び前記洗浄液供給手段及び前記洗浄
    液回収手段を収納する筐体を有する洗浄装置と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の基板処理装置におい
    て、 前記流通遮断手段は、各配管部品を挟んで上流側及び下
    流側の前記処理液配管に設けられていることを特徴とす
    る基板処理装置。
  6. 【請求項6】 請求項4に記載の基板処理装置におい
    て、 前記流通遮断手段は、複数個の配管部品を挟んで前記処
    理液配管に設けられていることを特徴とする基板処理装
    置。
  7. 【請求項7】 請求項4ないし6のいずれかに記載の基
    板処理装置において、 前記洗浄液循環タンクは、複数個であり、前記処理部で
    用いられる処理液に応じた洗浄液を貯留することを特徴
    とする基板処理装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007301462A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Asahi Breweries Ltd タンク構造部の洗浄方法
JP2009028696A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Asahi Breweries Ltd 溶存ガス圧測定装置の洗浄装置、及び、洗浄方法
JP2012528000A (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ウンジンコーウエイ カンパニイ リミテッド 水処理機器用洗浄装置及びその洗浄方法
KR20150060547A (ko) * 2013-11-25 2015-06-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 필터 세정 방법, 액처리 장치 및 기억 매체
JP2016119414A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 東京エレクトロン株式会社 金属汚染除去方法および金属汚染除去装置
JP2016213450A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 環球晶圓股▲ふん▼有限公司 ウェーハ回転装置
JP2017131861A (ja) * 2016-01-29 2017-08-03 有限会社加藤創研 ポリ塩化ビフェニル汚染変圧器の可搬型洗浄システム

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007301462A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Asahi Breweries Ltd タンク構造部の洗浄方法
JP2009028696A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Asahi Breweries Ltd 溶存ガス圧測定装置の洗浄装置、及び、洗浄方法
JP2012528000A (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ウンジンコーウエイ カンパニイ リミテッド 水処理機器用洗浄装置及びその洗浄方法
US9139451B2 (en) 2009-05-28 2015-09-22 Woongjin Coway Co., Ltd Washing device for water treatment apparatus and washing method thereof
US9604264B2 (en) 2009-05-28 2017-03-28 Woongjin Coway Co., Ltd Washing device for water treatment apparatus and washing method thereof
US9908159B2 (en) 2009-05-28 2018-03-06 Woongjin Coway Co., Ltd Washing device for water treatment apparatus and washing method thereof
KR20150060547A (ko) * 2013-11-25 2015-06-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 필터 세정 방법, 액처리 장치 및 기억 매체
JP2015103662A (ja) * 2013-11-25 2015-06-04 東京エレクトロン株式会社 フィルタ洗浄方法、液処理装置及び記憶媒体
KR102314052B1 (ko) * 2013-11-25 2021-10-15 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 필터 세정 방법, 액처리 장치 및 기억 매체
JP2016119414A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 東京エレクトロン株式会社 金属汚染除去方法および金属汚染除去装置
JP2016213450A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 環球晶圓股▲ふん▼有限公司 ウェーハ回転装置
JP2017131861A (ja) * 2016-01-29 2017-08-03 有限会社加藤創研 ポリ塩化ビフェニル汚染変圧器の可搬型洗浄システム

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