JP2003249591A - エリアio型半導体装置の配線基板の設計方法 - Google Patents

エリアio型半導体装置の配線基板の設計方法

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JP2003249591A
JP2003249591A JP2002049088A JP2002049088A JP2003249591A JP 2003249591 A JP2003249591 A JP 2003249591A JP 2002049088 A JP2002049088 A JP 2002049088A JP 2002049088 A JP2002049088 A JP 2002049088A JP 2003249591 A JP2003249591 A JP 2003249591A
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wiring board
chip
area
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Shuichi Kariyazaki
修一 仮屋崎
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NEC Electronics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度実装のフリップチップ型BGAの半導
体装置、特に、チップ上に複数のIOブロックが配置さ
れるエリアIO型半導体装置の配線基板の設計におい
て、チップ設計時に配線基板まで考慮に入れてチップ設
計と配線基板設計を同時に且つ自動的に行なう、エリア
IO型半導体装置の配線基板の設計方法を提供するこ
と。 【解決手段】 グループ化された信号端子をランダムに
配置して成るチップを最低2層以上の信号配線層を持つ
多層配線基板にフリップチップ実装するエリアIO型半
導体装置の配線基板の設計方法において、該エリアIO
型半導体装置の配線基板の設計方法は、前記信号端子を
グループ化して成るIOブロックの配置の妥当性を検査
する初期設計部と、フリップチップPADから配線通過
位置までの配線を作成する1次設計部と、前記配線通過
位置からBGA PADまでの配線を作成する2次設計
部とから構成したことにある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エリアIO型半導
体装置の配線基板の設計方法に関する。更に詳述すれば
本発明は、複数のIOブロックが配置されたチップを備
えたフリップチップ型BGA(Ball Grid Array)の
半導体装置において、それぞれのIOブロックに対応す
るチップパッドからBGAパッドへの最適化された配線
をパッケージ基板に施すために用いられる、エリアIO
型半導体装置の配線基板の設計方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】フリップチップ型BGAは、高密度実装
の主流となる半導体装置である。このような半導体装置
には、チップに形成された電気素子を配線することによ
って回路が形成されるゲートアレイ型半導体装置があ
る。係るゲートアレイ型半導体装置では、配線基板(パ
ッケージ基板やインターポーザとも称される)上にチッ
プが配置され、この配線基板にチップパッドからBGA
パッドまでの配線が形成される。従来から、このフリッ
プチップ型BGAの半導体装置にあっては、チップ設計
と配線基板設計は別個に行なわれていた。一般には、チ
ップ設計後に配線基板設計が行なわれ、配線基板の配線
ができない場合には再度チップ設計に戻るという進め方
が行なわれていた。
【0003】特開平9−69568号公報は、ASIC
設計に用いられている自動配置配線ツールの基本的なア
ルゴリズムを損なうことなく、入・出力バッファの配置
の自由度を上げたフリップチップ構成のASIC設計を
自動化する方法を開示している。ASICとは、Applic
ation Specific Integrated Circuitの略であり、ユ
ーザーの注文に合わせて設計された特定用途向けのIC
である。この公報記載の発明は、一列状に配置された入
・出力バッファ列を、チップのフロアプランに従い、チ
ップのX方向/Y方向に沿うように自由に配置すること
を特徴としている。特に、上記公報の図2及び図8に示
されるように、グループ化された複数のIOブロックが
チップ上に配置されており、それぞれのIOブロックに
対応するチップパッドからパッケージ基板周縁の入・出
力バッファへの配線を施す設計方法が開示されている。
【0004】特開2001−15637号公報は、配線
ルールの設計条件に基づいて配線案生成部で複数の配線
候補を作成、品質評価部で最適な配線候補を選択するこ
とにより設計を行なう設計手法を開示している。この方
法は、配線案生成部で複数の配線候補を作成し、品質評
価部でそれぞれの候補に対し配線長のバラツキ度を算出
し、このバラツキ度を評価基準として最適な配線設計を
自動で行なうものである。配線案生成部で複数の配線候
補を作成するため、中規模のBGAであれば最適解が求
められると考えられる。しかしながら、大規模なBGA
(1000pin超)を設計する際は、配線設計に要す
る時間が長くかかってしまう。更に、複雑なIO配置の
チップ(エリアIO)を搭載するための配線基板を設計
する際に、このアルゴリズムを用いて最適設計した解が
必ずしも最適にならないことや、設計が収束しないこと
も考えられる。
【0005】特開平6−45443号公報は、半導体集
積回路の自動配線処理において、配線混雑を均一化し、
更に最適化アルゴリズムを用いた経路決定処理におい
て、NET数及びNET通過位置を限定することで処理
時間を短縮する階層化設計手法を開示している。この方
法は、配線領域の分割を再帰的に繰り返すことにより、
解決すべき問題規模を縮小化することで、経路決定の処
理時間の短縮を図ったものであるが、配線領域を再帰的
に分割していくため、分割するたびに通過位置ができる
と言う問題がある。なお、NETとは、配線領域の再帰
的な分割を繰り返し、各々の分割階層において、分割線
上における同電位の回路端子の集合を指している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の、エリアIO型
半導体装置の配線基板の設計方法には、以下に説明する
問題点があった。フリップチップ型BGAの半導体装置
にあっては、チップ設計と配線基板設計は別個に行なわ
れており、チップ設計後に配線基板設計が行なわれ、配
線基板の配線ができない場合には再度チップ設計に戻る
という進め方であった。
【0007】従って本発明の目的は、前記した従来技術
の欠点を解消し、チップ設計時に配線基板まで考慮に入
れてチップ設計と配線基板設計を同時に且つ自動的に行
なう、エリアIO型半導体装置の配線基板の設計方法を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本出
願第1の発明のエリアIO型半導体装置の配線基板の設
計方法は、グループ化された信号端子をランダムに配置
して成るチップを最低2層以上の信号配線層を持つ多層
配線基板にフリップチップ実装するエリアIO型半導体
装置の配線基板の設計方法において、前記信号端子をグ
ループ化して成るIOブロックの配置の妥当性を検査す
る初期設計段階と、フリップチップPADから配線通過
位置までの配線を作成する1次設計段階と、前記配線通
過位置からBGA PADまでの配線を作成する2次設
計段階とから構成した。
【0009】初期設計段階では、前記IOブロック同士
の配置関係と前記IOブロックからの配線引き出し情報
とを前記IOブロック毎にデータ化し、且つ前記IOブ
ロックから引き出される配線が通過するエリアでは前記
IOブロック内の各信号端子から引き出される配線の配
置順位情報を前記IOブロック毎にデータ化した。
【0010】1次設計段階では、前記チップ側及び前記
多層配線基板側双方で、配置配線が可能となる信号/電
源/グランドを一纏めにしたグループをライブラリ化
し、且つ前記IOブロック毎の配置ルール及び前記多層
配線基板での各層の配線レイアウトデータをライブラリ
化し、前記IOブロック上に配線通過エリアを設定する
ようにした。配線通過エリアの設定は、前記チップエッ
ジに沿って四角形を作成し、該四角形と接する前記IO
ブロックを配線通過エリアとし、且つ前記四角形と接し
ない前記IOブロックは手動で設定し、未設定の前記I
Oブロックに対して同様の作業を行なうことにより設定
した。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以
下、図面を用いて詳述する。図1は、本発明のエリアI
O型半導体装置の配線基板の設計方法の一実施例を示す
設計フローチャートである。図2は、図1に示す設計方
法により作成できるエリアIO型半導体装置について示
したものであって、(a)は半導体装置概略説明図、
(b)は仮想断面説明図である。
【0012】1は初期設計段階、2は1次設計段階、3
は2次設計段階、4はIOブロック情報入力部、5は配
線通過エリア入力部、6はチップPAD配置情報入力
部、7はIOブロック配置規則チェック部、8はIOブ
ロック配置規則収納部、9は配線パターン生成部、10
はブロック別パターン記憶部、11は設計条件入力部、
12は配線規則チェック部、13は個別配線通過位置情
報収納部、14はパターン記憶部、15はBGA PA
D配置情報入力部、16は自動NET生成部、17は配
線パターン生成部、18は配線規則チェック部、19は
全配線生成部、20はディスプレイ表示部、21はチッ
プ、22はIOブロック、23はチップPAD、24は
多層配線基板、25ははんだボールである。
【0013】初期設計段階1は、IOブロックの配置の
妥当性をチェックする。1次設計段階2は、FC(フリ
ップチップ)PADから配線通過位置までの配線を作成
する。2次設計段階3は、配線通過位置からBGA P
ADまでの配線を作成する。
【0014】本発明の配線基板の設計方法は、チップ2
1上に2次元で配置されたチップPAD23に対応する
ように内部接続端子が形成された多層配線基板24の設
計手法で、その搭載するチップ21はブロック化された
IO、つまりIOブロック22を複数持ち、更にそのI
Oブロック22がチップ21上で自由に配置されている
エリアIO型フリップチップである。又、このようなエ
リアIO型フリップチップ21を搭載する多層配線基板
24は、2層以上の信号配線層を持つ多層配線基板であ
る。
【0015】以下、図1に基づいて設計方法を詳述す
る。先ず、設計の際に必要となるライブラリとして、
「IOブロックライブラリ」と「IOブロック配置規
則」を用意する。「IOブロックライブラリ」は、IO
ブロック22に関するライブラリである。IOブロック
22とは、チップ21側及び多層配線基板24側双方
で、配置配線が可能となる信号S/電源V/グランドG
を一まとめにしたグループのことであり、IOブロック
22内で信号/電源/グランドの数や、大きさ(例えば
4×4PAD)が同じでも配置が異なれば別の種類のI
Oブロック22とする。又、このIOブロック22は、
多層配線基板24において、単一信号層ですべての信号
が引き出せる方が望ましい。「IOブロックライブラ
リ」には、チップPAD23の配列と、これに対応する
IOバッファの配列及びそのレイアウト情報や、これを
搭載する多層配線基板24における引き出しレイアウト
情報や、IOブロック22内の各信号が多層配線基板2
4内で引き出される際に、どのような順番に並ぶかと言
う信号の再配置情報や、引き出す際に必要な幅に関する
情報が登録されている。特に引き出しレイアウト情報に
は、多層配線基板24の各層での配線レイアウトデータ
が記憶されている。このことにより、どのような設計者
でも同程度の設計が容易に行なうことが可能である。拠
って、各層の配線レイアウトデータは、経験を積んだ設
計者が登録することが望ましい。
【0016】「IOブロック配置規則」は、IOブロッ
ク配置基準に関するライブラリである。このライブラリ
は、「個別のIOブロックの配置ルール」と「一般的な
IOブロックの配置ルール」とにより構成されている。
「個別のIOブロックの配置ルール」には、どの面をチ
ップ21の外側に向けるかと言うIOブロック22の方
向性に関する情報、IOブロック22で設計可能な最小
チップPAD23のピッチ、他のIOブロック22をそ
のIOブロック22の近辺に配置する際に最低空けるべ
き間隔、他のIOブロック22をそのIOブロック22
と接した状態で配置できるかと言う情報、そのIOブロ
ック22が他のIOブロック22の後ろ側(よりチップ
21の内側)に入り込む際、空けるべきPADの数等が
登録されている。方向性に関する情報は、基本となるI
Oブロック22を、90度/180度/270度回転す
ることにより作成されるような、レイアウトを記述する
ために使用する情報であり、表1のようなフォーマット
を取る。例えば、ブロック名A‘とあれば、参照する基
本IOブロック22はAであり、このIOブロック22
を90度回転したものであることが分かる。このことに
より、1つのIOブロック22を回転しただけのレイア
ウトを1つのレイアウト情報と、回転角で管理すること
ができる。
【0017】
【表1】
【0018】更に、他のIOブロック22をそのIOブ
ロック22の近辺に配置する際に、最低空けるべき間
隔、又、他のIOブロック22をそのIOブロック22
と接した状態で配置できるかと言う情報、そのIOブロ
ック22が他のIOブロック22の後ろ側(よりチップ
21の内側)に入り込む際、空けるべきPADの数に関
する情報は、実際基板の設計者が設計を行ない、各IO
ブロック22毎の組み合せで設計検査を行ない決定す
る。例えば、表2のように対応表を作成し、それぞれの
組み合わせでの配置間隔をデータ化しておく。このと
き、必ずしもすべてのIOブロック22毎の組み合わせ
を試す必要はない。これは、実現できるPADピッチの
関係から、あるPADピッチで取ることができる最適な
IOブロック22の組み合せが決まるためである。又、
IOブロック22間の配置間隔は、必ず零以上の数を取
るため、未検討の組合せは負数(例えば−1)にしてお
けば良く、新規組み合わせが出てきた際は、その都度ラ
イブラリに追加して行けば良い。
【0019】
【表2】
【0020】「一般的なIOブロックの配置ルール」に
は、「個別のIOブロックの配置ルール」ではカバーで
きない配置ルールを規定するものである。例えば、回転
角の異なるIOブロック22間の間隔等が登録されてい
る。よって、「一般的なIOブロックの配置ルール」
と、「個別のIOブロック配置ルール」は多層配線基板
24側からの制約条件となる。上記の事柄を踏まえ、ま
ず初期設計段階1でチップ設計を行なう。前述の「IO
ブラックライブラリ」から、使用するIOブロック22
を選択する。このIOブロク22をチップ21のフロア
プランに従って適宜配置する。なお、使用するIOブロ
ック22は、複数の種類が混在していても良い。チップ
21上に、所望のIOブロック22を所定の位置に全て
配置し終えると、「IOブロック配置情報」が作成され
る。この「IOブロック配置情報」はIOブロック情報
入力部4に入力される。
【0021】次に、多層配線基板24側の「IOブロッ
ク配置情報」を作成する必要がある。フリップチップ
(FC)は、半導体のチップ21を反転して多層配線基
板24に実装するため(図2参照)、単純にX軸反転若
しくはY軸反転することにより作成される。次に、配線
通過エリア入力部5にて「配線通過エリア」の入力を行
なう。図3は、配線通過エリアの入力に関する説明図で
ある。26はノード、27は四角形、28は配線通過エ
リア、29は信号層の第一層目、30は信号層の第二層
目である。IOブロック情報入力部4から「IOブロッ
ク配置情報」を得て、全てのIOブロック22を囲む四
角形27を作成する。このとき、この四角形27と接触
しているIOブロック22は、接している個所が自動的
に「配線通過エリア28」となる。また、この四角形2
7とIOブロック22が接していない個所に関しては、
手動で「配線通過エリア28」を入力する。なお、手動
で「配線通過エリア28」を入力する際は、各IOブロ
ック22毎に「IOブロックライブラリ」から多層配線
基板24内で配線を引き出す際に必要な幅を読み込み、
それを先に作成した四角形27上に配置することによ
り、「配線通過エリア28」を入力する。これを「配線
通過エリア28」が入力できなくなるまで繰り返す。こ
の際に、「配線通過エリア28」の領域が重ならないよ
うに設置しなければならない。
【0022】ここで、全てのIOブロック22に対して
「配線通過エリア28」が設定されていなければ、新た
に未設定のIOブロック22を囲む四角形27を作成
し、同様の作業を繰り返すことにより、全てのIOブロ
ック22に対し「配線通過エリア28」を設定する。こ
の作業は通常、2回程度で済む。このようにして、いく
つかの四角形27と、その線上に配置された「配線通過
エリア28」群が形成されることになるが、この四角形
27の数が多層配線基板24で信号を引き出す際に必要
な信号層の数になる。又、外側に位置する四角形27ほ
ど、チップ21に近い方の信号層となる。
【0023】次に、設置された「配線通過エリア28」
内に「IOブロックライブラリ」から、各IOブロック
22の多層配線基板24内における信号の再配置情報に
基づいて、「配線通過エリア28」内に各IOブロック
22から引き出される配線が通過する位置情報とノード
26とを設定する。よってノード26は、実際に配線設
計する際の各配線の通過位置に置かれることになる。
又、外側に位置する四角形27ほどチップ21に近い信
号層で配線する為、ノード26の配置場所(外側から何
番目の四角形上に配置されるか)により、自ずとノード
26上を通る信号層が決定する。「IOブロックライブ
ラリ」より、各IOブロック22の多層配線基板24内
における信号の再配置情報を読み込み、この並びを対応
する「配線通過エリア28」内に均等に配置することに
よって、各IOブロック22から引き出される配線が通
過する位置情報を求めることができる。また、この座標
上にノード26を作成する。
【0024】次に、IOブロック配置規則チェック部7
にて、検査を行なう。前述のように、IOブロック22
を囲む四角形27の数が、多層配線基板24の信号層数
を決定する。先に作成した四角形27の数が、全てのI
Oブロック22からの配線を引き出す際に必要とする信
号層数になるので、これが多層配線基板24の信号層数
より多くならないように注意する必要がある。次に、チ
ップPAD配置情報入力部6より、実際のチップPAD
レイアウトを入力し、これとIOブロック情報入力部4
で入力されたブロック配置情報とを照合し、各IOブロ
ック22の所定位置に信号/電源/グランドが配置されて
いるかどうか、チェックを行なう。これは、予め電源/
グランドとして扱うNET名を登録しておき、チップP
AD配置情報入力部6より入力されたPAD配置と、
「IOブロック配置データ」と「IOブロックライブラ
リ」より、チップPAD23の配置DATAを作成す
る。このチップPAD配置データとチップPAD配置情
報入力部6より入力されたPAD配置を比較することに
より、各IOブロック22の所定の位置に信号/電源/グ
ランドが配置されているかチェックを行なう。
【0025】次に、各IOブロック22毎に、隣接する
IOブロック22との間隔が、「IOブロック配置規
則」に合うかどうかチェックする。これは、「IOブロ
ック配置データ」内に記録されている各IOブロック2
2において、そのIOブロック22の近くにある他のI
Oブロック22との間隔が、他のIOブロック22をそ
のIOブロック22の近辺に配置する際に、最低空ける
べき間隔を満たしているかチェックすることにより行な
う。このように、IOブロック22毎の配置ルールに基
づいて、各信号の配置が妥当かどうかをチェックするこ
とにより、所望のPADレイアウトで基板設計が可能か
どうか、チップ21の設計段階で容易にチェックでき、
更に従来技術の様に配線設計する必要がないため、非常
にTATを短くすることができる。
【0026】次に、1次設計段階2によりFC PAD
から配線通過位置までの配線を作成する。先ず、配線パ
ターン生成部9において、各IOブロック22から先に
設定したノード26までの間の配線を自動設計する。こ
れは、「IOブロックライブラリ」より、各信号層のレ
イアウト情報を読み込み、これと対応するノード26ま
での配線を行なう。なお、先に設定した四角形27によ
り各IOブロック22毎に配線を引き出す際に使用する
多層配線基板24内の信号層が決められているために、
IOブロック22−ノード26間の配線は従来から知ら
れている”平面上の配線ルート最適化問題”により配線
できる。このことは、複数の信号層を持つ多層配線基板
24を設計する際に問題となる”複数平面を通過する配
線ルートの最適化問題”を”平面上の配線ルート最適化
問題”に置き換えられることを意味しており、これによ
って従来からの技術が流用可能であり、3次元の問題を
2次元の問題で解くことができるため、大幅なTAT短
縮になる。なお、設計の際には、同じ四角形27と関連
付けられたIOブロック22の配置位置と、同四角形2
7より内側に配置された四角形27に関連付けられたI
Oブロック22との配置位置は、配線禁止領域として配
線が通過しないように構成する。
【0027】次に、「配置規則チェック部12」におい
て配線についてチェックを行なう。これは、例えば配線
幅と絶縁間隔のチェック等を行ない、この規則に反する
ものは削除し、再度配線を行なうものである。ここで、
問題がなければ配線パターン記憶部14にこの配線パタ
ーンを記憶する。この段階で、各IOブロック22か
ら、四角形27上に配置されたノード26までの配線が
各信号層毎に作成されていることになる。次に、2次設
計段階3により配線通過位置からBGA PADまでの
配線を作成する。先ず、「自動NETアサイン部16」
にて、ノード26と、BGA PAD間のNETを作成
する。そのために、BGA PAD配置情報入力部15
からBGA PAD情報を読み込む。このBGA PAD
情報には、PADが置かれるべき位置情報と、各PAD
にアサインされているNET名が入力されているものと
する。なお、NET名に関しては、配置位置が決定して
いるNETのみNET名が入力されており、NETが未
定の個所はダミーNETとして配置されており、例え
ば”D”と言うようなNET名にしておく。
【0028】自動NET生成部16は、このダミーNE
Tを手がかりにアサイン処理を行なって行く。初めに、
多層配線基板24中央部を原点とし、各BGA PAD
が配置されている個所の角度と、原点からの距離を求め
る。この時に、中央からの距離と角度を求めるのはダミ
ーNETのみで良い。次に、先に設定した四角形27上
に設定された各ノード26毎に、配置されている個所の
角度と原点から距離を求める。次に、ノード26、BG
A PADそれぞれの位置角と中心からの距離を基にし
て自動でNETをアサインする。例えば、先に求めた各
BGA PADとノード26との位置角をそれぞれ昇順
で並び替え、並んだ順番に、BGA PADとノード2
6とを対応させることによりNETをアサインする。仮
に、同じ位置角に複数のPADが存在する場合には、同
じ位置角に存在する全てのPADとの距離を算出し、そ
れぞれのノード26−BGA PAD間距離のばらつき
が小さくなるようにNETを決める。
【0029】仮に、BGA PADで同じ位置角に有る
PADが3つあり、それぞれB1、B2、B3とする。
この時にNETアサインの対象になるノードN1、N
2、N3があるとすると、B1−N1、B1−N2、B
1−N3、B2−N1、B2−N2、B2−N3、B3
−N1、B3−N2、B3−N3間それぞれの距離を算
出し、ばらつきが小さくなるようにノード26−BGA
PAD間のNETを決めれば良い。このようにして決
められたノード26−BGA PAD間の結線情報を元
にノード26−BGA PAD間の配線を行なう。この
際の配線設計も、先に述べた従来から知られている”平
面上の配線ルート最適化問題”を解くことにより配線す
ることができる。
【0030】次に、「配線規則チェック部18」におい
て配線についてチェックを行なう。これは、先ほどと同
様に、配線幅と絶縁間隔のチェック等を行い、この規則
に反するものは削除し、再度配線を行なう。ここで問題
なければ、先に作成したIOブロック22−ノード26
間の配線パターンと、今作成したノード26−BGA
PAD間の配線パターンを繋ぎ合わせて、チップ21−
BGA間の配線を完成させ、最後にこれをディスプレイ
表示部20でCRTに描画することにより設計は完了す
る。
【0031】
【発明の効果】本発明のエリアIO型半導体装置の配線
基板の設計方法によれば、グループ化された信号端子を
ランダムに配置して成るチップを最低2層以上の信号配
線層を持つ多層配線基板にフリップチップ実装するエリ
アIO型半導体装置の配線基板の設計方法において、前
記信号端子をグループ化して成るIOブロックの配置の
妥当性を検査する初期設計段階と、フリップチップPA
Dから配線通過位置までの配線を作成する1次設計段階
と、前記配線通過位置からBGA PADまでの配線を
作成する2次設計段階とから構成したので、高密度実装
のフリップチップ型BGAの半導体装置、特に、チップ
上に複数のIOブロックが配置されるエリアIO型半導
体装置の設計において、チップ設計時に配線基板まで考
慮に入れてチップ設計と配線基板設計を同時に且つ自動
的に行なうことが可能であるという顕著な効果を発揮す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエリアIO型半導体装置の配線基板の
設計方法の一実施例を示す設計フローチャートである。
【図2】 図1に示す設計方法により作成できるエリア
IO型半導体装置について示したものであって、(a)
は半導体装置概略説明図、(b)は仮想断面説明図であ
る。
【図3】 図1に示す設計方法に係わり、配線通過エリ
アの入力に関する説明図である。
【符号の説明】
1 初期設計段階 2 1次設計段階 3 2次設計段階 4 IOブロック情報入力部 5 配線通過エリア入力部 6 チップPAD配置情報入力部 7 IOブロック配置規則チェック部 8 IOブロック配置規則収納部 9 配線パターン生成部 10 ブロック別パターン記憶部 11 設計条件入力部 12 配線規則チェック部 13 個別配線通過位置情報収納部 14 パターン記憶部 15 BGA PAD配置情報入力部 16 自動NET生成部 17 配線パターン生成部 18 配線規則チェック部 19 全配線生成部 20 ディスプレイ表示部 21 チップ 22 IOブロック 23 チップPAD 24 多層配線基板 25 はんだボール 26 ノード 27 四角形 28 配線通過エリア 29 信号層の第一層目 30 信号層の第二層目

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】グループ化された信号端子をランダムに配
    置して成るチップを最低2層以上の信号配線層を持つ多
    層配線基板にフリップチップ実装するエリアIO型半導
    体装置の配線基板の設計方法において、前記信号端子を
    グループ化して成るIOブロックの配置の妥当性を検査
    する初期設計段階と、フリップチップPADから配線通
    過位置までの配線を作成する1次設計段階と、前記配線
    通過位置からBGAPADまでの配線を作成する2次設
    計段階とから構成して成ることを特徴とするエリアIO
    型半導体装置の配線基板の設計方法。
  2. 【請求項2】初期設計段階は、前記IOブロック同士の
    配置関係と前記IOブロックからの配線引き出し情報と
    を前記IOブロック毎にデータ化し、且つ前記IOブロ
    ックから引き出される配線が通過するエリアでは前記I
    Oブロック内の各信号端子から引き出される配線の配置
    順位情報を前記IOブロック毎にデータ化することを特
    徴とする請求項1記載のエリアIO型半導体装置の配線
    基板の設計方法。
  3. 【請求項3】1次設計段階は、前記チップ側及び前記多
    層配線基板側双方で、配置配線が可能となる信号/電源/
    グランドを一纏めにしたグループをライブラリ化し、且
    つ前記IOブロック毎の配置ルール及び前記多層配線基
    板での各層の配線レイアウトデータをライブラリ化し、
    前記IOブロック上に配線通過エリアを設定することを
    特徴とする請求項1記載のエリアIO型半導体装置の配
    線基板の設計方法。
  4. 【請求項4】配線通過エリアの設定は、前記チップエッ
    ジに沿って四角形を作成し、該四角形と接する前記IO
    ブロックを配線通過エリアとし、且つ前記四角形と接し
    ない前記IOブロックは手動で設定し、未設定の前記I
    Oブロックに対して同様の作業を行なうことにより設定
    することを特徴とする請求項3記載のエリアIO型半導
    体装置の配線基板の設計方法。
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