JP2003240922A - 低反射フィルム、前記フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 視認性が高く、接着性が良好であり、塗布ム
ラもなく、且つ、耐擦り傷性、高温耐久性も良好な低反
射フィルム、その製造方法、それを用いた偏光板及び表
示装置を提供する。 【解決手段】 支持体の一方の面に、表面に微細な凹凸
を有する凹凸層を有し、該凹凸層が平均粒径０．０１μ
ｍ〜４μｍの粒子を１種以上含有し、且つ、前記凹凸層
上に屈折率１．５５〜２．５の高屈折率層と屈折率１．
３〜１．５の低屈折率層を各々１層以上含む反射防止層
を有し、該反射防止層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．
０１μｍ〜０．５μｍであることを特徴とする低反射フ
ィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は低反射フィルム、そ
の製造方法及びそれを用いた偏光板と表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が
進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置
で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、
高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性
向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを
防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面
を凹凸にして反射光を散乱させる凹凸層を付与した、コ
ンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディ
スプレイともいう）が多く使用されるようになってき
た。

【０００３】反射防止層や凹凸層は用途に応じてさまざ
まな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する
種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わ
せることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防
止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられてい
る。これら、前面板として用いる光学用フィルムには、
塗布または、スパッタリング等で形成した反射防止層ま
たは凹凸層が設けられている。

【０００４】凹凸層は、表面に反射した像の輪郭をぼか
すことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディ
スプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレ
イといった画像表示装置などの使用時に反射像の映り込
みが気にならないようにするものである。

【０００５】表面に適切な凹凸を設けることによって、
このような性質を持たせることができる。従来、このよ
うな凹凸を形成する方法としては、例えば、特開昭５９
−５８０３６号等で開示されているような微粒子を塗布
液に添加する方法が用いられている。このほか、特開平
６−２３４１７５号で開示されているエンボス加工する
方法、特開昭６３−２９８２０１号で開示されているあ
らかじめ型を転写させる方法等が知られている。しかし
ながら、上述のエンボス加工では、微細な凹凸を形成す
ることが困難で、そのため、ぎらつきを防止するのには
不十分であった。

【０００６】また、上述の技術においては、しばしば塗
布むらを発生することがあり、生産性に劣るという欠点
を有しており、早急な改良手段の開発が要望されてい
る。

【０００７】また、近年、防眩性と反射防止性を同時に
兼ね備えるフィルムについても検討されているが、従来
は、防眩性を有する支持体に蒸着等による物理的な手法
を用いて反射防止層を付与して、防眩性と反射防止性能
を両立したものは知られているが、生産性が極めて低く
大量生産に向かない、凹凸層と反射防止層との接着性が
不十分である等の問題点があった。

【０００８】また、視認性を改善するため、従来でも、
表示装置の表面には凹凸層あるいは反射防止層が設けら
れているが、表示装置のカラー化、高精細化に伴って、
より視認性の優れた表示装置が求められている。

【０００９】又、防眩性と反射防止性を同時に兼ね備え
るフィルムについて、長尺ロール状フィルムの保管中に
平面性が劣化するといった問題が生じ、更に、高温、高
湿下での保管でクラックが発生するという問題があり、
その改善が求められている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は視認性が高
く、反射防止層と凹凸層との接着性が良好であり、反射
光の色ムラもなく、且つ、耐擦り傷性、高温耐久性も良
好な低反射フィルム、その製造方法およびそれを用いた
偏光板と高精細で視認性に優れた表示装置を提供するこ
とである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
の構成１〜２０により達成された。

【００１２】１．支持体の一方の面に、表面に微細な凹
凸を有する凹凸層を有し、該凹凸層が平均粒径０．０１
μｍ〜４μｍの粒子を１種以上含有し、且つ、前記凹凸
層上に屈折率１．５５〜２．５の高屈折率層と屈折率
１．３〜１．５の低屈折率層を各々１層以上含む反射防
止層を有し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される、該反
射防止層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍ〜
０．５μｍであることを特徴とする低反射フィルム。

【００１３】２．反射防止層が、屈折率１．５５〜１．
８５未満の中屈折率層、屈折率が１．８５〜２．５の高
屈折率層を有することを特徴とする前記１項に記載の低
反射フィルム。

【００１４】３．反射防止層表面の微細な凹凸が、隣接
する凹部底を基準とした高さが０．５μｍ〜２μｍであ
る凸部を１００μｍ²あたり５〜２０個有する微細構造
として形成されていることを特徴とする前記１または２
項に記載の低反射フィルム。

【００１５】４．反射防止層表面が、表面の平均水準を
基準とした高さが０．２μｍ以上の凸部を１００μｍ²
あたり８０個以上有する微細構造を有することを特徴と
する前記３項に記載の低反射フィルム。

【００１６】５．凹凸層の内部がヘイズ５％〜４０％の
光拡散性を有し、反射防止層表面の微細な凹凸の平均山
谷間隔が１μｍ〜８０μｍであることを特徴とする前記
１〜４項のいずれか１項に記載の低反射フィルム。

【００１７】６．反射防止層表面に平均山谷間隔４０μ
ｍ以下、且つ、平均傾斜角５度以上の微細な凹凸を有す
ることを特徴とする前記５項に記載の低反射フィルム。

【００１８】７．支持体が少なくとも幅手方向に延伸さ
れたセルロースエステルフィルムであることを特徴とす
る前記１〜６のいずれか１項に記載の低反射フィルム。

【００１９】８．支持体が溶液流延製膜工程で２軸延伸
されたセルロースエステルフィルムであることを特徴と
する前記７項に記載の低反射フィルム。

【００２０】９．反射防止層が設けられている支持体の
面の反対側の面が高さ０．１μｍ以上の突起を１００μ
ｍ²あたり１０個〜５００個有することを特徴とする前
記７または８項に記載の低反射フィルム。

【００２１】１０．支持体の膜厚が１０μｍ〜１００μ
ｍで透湿性２００ｇ／ｍ²・２４時間以下であることを
特徴とする前記７〜９項のいずれか１項に記載の低反射
フィルム。

【００２２】１１．支持体が長尺フィルムであり、且
つ、該長尺フィルムの幅手両端部に膜厚の２５％以下の
ナーリング加工が施されていることを特徴とする前記７
〜１０項のいずれか１項に記載の低反射フィルム。

【００２３】１２．前記１〜１１項のいずれか１項に記
載の低反射フィルムを有することを特徴とする偏光板。

【００２４】１３．前記１〜１１項のいずれか１項に記
載の低反射フィルムを有することを特徴とする表示装
置。

【００２５】１４．前記１〜１１項のいずれか１項に記
載の低反射フィルムの製造方法であって、露点５〜１６
℃の雰囲気下で支持体上に直接又は他の層を介して反射
防止層を塗布することを特徴とする低反射フィルムの製
造方法。

【００２６】１５．前記１〜１１項のいずれか１項に記
載の低反射フィルムの製造方法であって、支持体の構成
成分及び溶媒を含むドープを溶液流延製膜法を用いてウ
ェブ（ドープ膜）を形成させ、該ウェブ中の残留溶媒量
を３質量％〜４０質量％に調整しながら前記ウェブを幅
手方向に１．０１倍〜１．５倍に延伸した後、幅手両端
部に膜厚の２５％以下のナーリング加工を施す工程を経
て作製した支持体上に凹凸層を設け、更にその上に露点
５〜１６℃の雰囲気下で反射防止層を設けることを特徴
とする低反射フィルムの製造方法。

【００２７】１６．残留溶媒量が３質量％〜４０質量％
のときに幅手方向に１．０１倍〜１．５倍、長手方向に
１．０１倍〜１．５倍に２軸延伸することを特徴とする
前記１５項に記載の低反射フィルムの製造方法。

【００２８】１７．支持体の一方の面に、表面に微細な
凹凸を有する凹凸層を有し、該凹凸層を有する面の反対
側の面に高さ０．１μｍ以上の突起が１００μｍ²あた
り１０個〜５００個設けられているフィルムの該凹凸層
上に反射防止層を設ける工程を有することを特徴とする
前記１４〜１６項のいずれか１項に記載の低反射フィル
ムの製造方法。

【００２９】１８．前記１４〜１７項のいずれか１項に
記載の製造方法により製造されたことを特徴とする低反
射フィルム。

【００３０】１９．前記１８項に記載の低反射フィルム
を有することを特徴とする偏光板。 ２０．前記１８項に記載の低反射フィルムを有すること
を特徴とする表示装置。

【００３１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明者
等は、上記の問題点を種々検討した結果、支持体の一方
の面に、表面に微細な凹凸を有する凹凸層を有し、該凹
凸層が平均粒径０．０１μｍ〜４μｍの粒子を１種以上
含有し、且つ、前記凹凸層上に屈折率１．５５〜２．５
の高屈折率層と屈折率１．３〜１．５の低屈折率層を各
々１層以上含み、且つ、ＪＩＳＢ ０６０１で規定され
る中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ〜０．５μｍ
が好ましく、特に好ましくは０．０８μｍ〜０．５μｍ
である反射防止層を有する低反射フィルムにより、本発
明に記載の効果が得られることを見出した。

【００３２】また、本発明者等は、支持体上に、表面に
凹凸を有する層を塗設する方法、表面に凹凸をつくるた
めに微粒子を添加する方法等を詳細に検討し、支持体上
に、平均粒径０．０１μｍ〜４μｍの粒子を含有させた
凹凸層を塗設し、且つ、前記凹凸層の凹凸として、中心
線平均粗さ（Ｒａ）を０．０８μｍ〜０．５μｍの範囲
に調整することにより、塗布液の流動が部分的に発生し
ても、塗布ムラもなく、反射防止膜性能と防眩性の効果
が両立することも併せて見出した。

【００３３】《凹凸層》本発明に係る凹凸層について説
明する。

【００３４】本発明に係る凹凸層は、少なくとも支持体
の一方の面に設けられる。本発明においては、前記凹凸
層上に、反射防止層（高屈折率層、低屈折率層等）が設
けられ本発明の低反射フィルムを構成する。

【００３５】本発明に係る凹凸層は表面に微細な凹凸を
有するが、前記凹凸は、下記に記載のような平均粒径
０．０１μｍ〜４μｍの粒子を凹凸層中に含有させるこ
とが必須の要件である。また、後述するように、表面粗
さとして、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平
均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ〜０．５μｍであること
が好ましく、特に好ましくは０．０８μｍ〜０．５μｍ
の範囲に調整されることである。

【００３６】（凹凸層に含有される粒子）本発明に係る
凹凸層中に含有される粒子としては、例えば、無機また
は有機の微粒子が用いられる。

【００３７】無機微粒子としては酸化けい素、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネ
シウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、フッ化カ
ルシウム、フッ化マグメシウム、硫酸バリウム、タル
ク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができ
る。

【００３８】また、有機微粒子としては、ポリメタアク
リル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレ
ン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒
子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒
子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系
樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系
樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系
樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化
エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。

【００３９】上記記載の無機または有機の微粒子は、凹
凸層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加え
て用いることが好ましい。また、これらの微粒子の平均
粒径としては、０．０１μｍ〜４μｍであることが必要
であるが、好ましくは、０．０１μｍ〜３μｍである。

【００４０】本発明に係る凹凸層に微細な凹凸を付与す
るためには、無機または有機微粒子の含有量は、凹凸層
作製用の樹脂１００質量部に対して、０．１質量部〜３
０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１質量部〜
２０質量部となるように配合することである。より好ま
しい防眩効果を付与するには、平均粒径０．１μｍ〜１
μｍの微粒子を凹凸層作製用の樹脂１００質量部に対し
て、１質量部〜１５質量部を用いるのが好ましい。又、
異なる平均粒径の微粒子を２種以上用いることも好まし
い。

【００４１】（凹凸層の中心線平均粗さ（Ｒａ））本発
明に係る凹凸層はその表面が微細な凹凸を有することが
好ましいが、前記の凹凸を得るためには、上記記載のよ
うな微粒子を添加し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定され
る中心線平均表面粗さＲａを０．０８μｍ〜０．５μｍ
の範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは、
０．１μｍ〜０．３μｍの範囲である。

【００４２】（凹凸層の屈折率）本発明に係る凹凸層の
屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上か
ら屈折率が１．４５〜１．６５の範囲にあることが好ま
しい。

【００４３】（凹凸層の膜厚）充分な耐久性、耐衝撃性
を付与する観点から、凹凸層の膜厚は０．５μｍ〜１５
μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１．０μｍ〜
７μｍである。

【００４４】（凹凸層の微細な凹凸）本発明に係る凹凸
層表面の微細な凹凸は、上記記載の微粒子の添加量、粒
径、膜厚等を調整することにより、より好ましい凹凸を
有する凹凸層を得ることができる。また、本発明に係る
凹凸層表面の微細な凹凸は、隣接する凹部底を基準とし
た高さが０．５μｍ〜２μｍである凸部を１００μｍ²
あたり５〜２０個有する微細構造として形成されている
ことが好ましい。

【００４５】凹凸層表面の微細な凹凸は市販の触針式表
面粗さ測定機あるいは市販の光学干渉式表面粗さ測定機
等によって測定することができる。例えば、光学干渉式
表面粗さ測定機によって、約４０００μｍ²の範囲（５
５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次元的に測定し、
凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。

【００４６】ここで隣接する底部を基準とした高さが
０．５μｍ〜２μｍである凸部の数をカウントし、１０
０μｍ²の面積あたりの数で示した。測定は低反射フィ
ルム１ｍ²あたり任意の１０点を測定してその平均値と
して求めた。

【００４７】また、本発明に係る凹凸層の表面は、表面
の平均水準を基準とした高さが０．２μｍ以上の凸部を
１００μｍ²あたり８０個以上有する微細構造を有する
ことが好ましいが、この微細構造についても、上記と同
様に光学干渉式表面粗さ測定機によって、約４０００μ
ｍ²の範囲（５５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次
元的に測定し、平均水準未満の部分、平均水準以上〜高
さが０．２μｍ未満の部分、高さが０．２μｍ以上の部
分の少なくとも３つ以上の領域に色分けして表示し、高
さが０．２μｍ以上の部分で凸となっている部分の数を
カウントし、１００μｍ²の面積あたりの数で示すこと
が出来る。

【００４８】（凹凸層表面の微細な凹凸の平均山谷間
隔）本発明に係る凹凸層は、表面の微細な凹凸の平均山
谷間隔が１μｍ〜８０μｍであることが好ましく、更に
好ましくは、１０μｍ〜４０μｍである。

【００４９】ここで、微細凹凸構造の形状は、触針式表
面粗さ測定機などにより測定でき、例えばダイヤモンド
からなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍ
の測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に３ｍｍ
の長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変
化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を
得ることが出きる。あるいは前述のごとく光学干渉式表
面粗さ測定機によっても測定することができる。

【００５０】ここで、平均山谷間隔とは、前記の表面粗
さ曲線における凹凸変化が微小な部分（平坦に近い部
分）に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評
価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の
高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線
を下から上（又は上から下）に通過する際の交点に基づ
きその交点間の距離の平均として定義することができ
る。

【００５１】（凹凸層のヘイズ）本発明に記載の効果
（視認性向上）を得る為に、凹凸層のヘイズは、５％〜
４０％であることが好ましく、更に好ましくは、６％〜
３０％である。

【００５２】ここで、ヘイズの測定は、ＡＳＴＭ−Ｄ１
００３−５２に準じて測定できる。本発明に係る凹凸層
のヘイズ値を好ましい範囲に調整する為の手段として
は、上記記載の有機微粒子及び／または、無機微粒子を
凹凸層中に含有させることが好ましいが、中でも、二酸
化ケイ素が均一に分散しやすい為好ましく用いられる。
また、二酸化ケイ素のような微粒子を有機物により表面
処理したものも好ましく用いられる。

【００５３】（活性エネルギー線硬化樹脂）本発明に係
る凹凸層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化
する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好まし
い。

【００５４】活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電
子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を
経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂と
しては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的
なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性
エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。

【００５５】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ
とができる。

【００５６】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に
更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタク
リレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示
する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸
基を有するアクリレート系のモノマーを反応させること
によって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９
−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６
（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日
本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく
用いられる。

【００５７】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることができる（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号）。

【００５８】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【００５９】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げる
ことができる。

【００６０】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹
脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用い
られるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示
す。

【００６１】（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエー
テル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノー
ルＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得ら
れる） （ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有
する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイ
ド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端に
グリシジルエーテル基を有する化合物 （ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジル
エーテル （ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノール
フォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物 （ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレー
ト、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘ
キシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シク
ロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチ
ルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ
−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エ
ポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキ
シレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘ
キサン−メタ−ジオキサン （ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグ
リシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグ
リシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサ
ヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート （ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレン
グリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル （ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリ
アクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグ
リシジルエステル （ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル （ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグ
リシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素
含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例
と同様のもの （ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテ
ルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ
素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。

【００６２】上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子
量として２０００以下で、好ましくは１０００以下であ
る。

【００６３】上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線
により硬化する場合、より硬度を上げるためには、
（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合
物を混合して用いると効果的である。

【００６４】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、
活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放
出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照
射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出する
オニウム塩の一群の複塩である。

【００６５】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合に
より重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカ
ル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好
ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。

【００６６】本発明に有用な活性エネルギー線反応性エ
ポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重
合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増
感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射に
よりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニ
ウム塩の複塩の一群が特に好ましい。

【００６７】かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で
表される化合物である。 一般式（ａ） 〔（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b（Ｒ³）_c（Ｒ⁴）_dＺ〕^w+〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^w- 式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、
Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は同一であっても異なっていてもよい有
機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数
であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅは
ハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属
（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、
Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ
り、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖ
はハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。

【００６８】上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸ_v〕
^w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（Ｂ
Ｆ₄ ^-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ₄ ^-）、テト
ラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、テトラフルオ
ロアルセネート（ＡｓＦ₄ ^-）、テトラクロロアンチモネ
ート（ＳｂＣｌ₄ ^-）等を挙げることができる。

【００６９】また、その他の陰イオンとしては過塩素酸
イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン
（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ₃
^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン
酸陰イオン等を挙げることができる。

【００７０】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有
効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０
−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開
昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５
９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載の
VIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同
５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記
載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４
０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，
１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ま
しい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物
系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重
合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピル
エーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用すること
ができる。

【００７１】また、エポキシアクリレート基を有する活
性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー
線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫
外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜
１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好まし
くは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外
線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好まし
い。

【００７２】本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂
組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネ
ルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質
量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好まし
く、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添
加が好ましい。

【００７３】また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリ
レート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併
用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカ
ル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を
併用することが好ましい。

【００７４】また、本発明に係る凹凸層には、オキセタ
ン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン
化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環
を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環
を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン
原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキ
シル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されてい
てもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）
オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタ
ン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，
３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル
−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキ
シメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチ
ル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセ
タン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。
尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいず
れであってもよい。

【００７５】本発明に係る凹凸層には、公知の熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等の
バインダを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合
して使用することができる。これらの樹脂は、その分子
中に極性基を持っていることが好ましい。極性基として
は、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ
₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（ここ
で、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基
を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アル
キル基を表す）等を挙げることができる。

【００７６】（活性エネルギー線の種類、照射方法につ
いて）本発明に係る凹凸層が活性エネルギー線硬化型樹
脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、
支持体上に、凹凸層、反射防止層（中〜高屈折率層及び
低屈折率層）等の塗設後に活性エネルギー線を照射して
もよいが、凹凸層塗設時に活性エネルギー線を照射する
ことが好ましい。

【００７７】本発明に使用する活性エネルギー線は、紫
外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネル
ギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線
が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易
に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性
化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を
発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧
水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カー
ボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレー
ザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシン
クロトロン放射光等も用いることができる。照射条件は
それぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍ
Ｊ／ｃｍ²以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ
／ｃｍ²〜１００００ｍＪ／ｃｍ²であり、特に好ましく
は、５０ｍＪ／ｃｍ²〜２０００ｍＪ／ｃｍ²である。

【００７８】紫外線照射は、反射防止層を構成する複数
の層（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層）それぞれ
に対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射
してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射しても
よい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射す
ることが好ましい。

【００７９】また、電子線も同様に使用できる。電子線
としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、
共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロ
ン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５
０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶ
のエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

【００８０】本発明に使用する上記活性エネルギー線反
応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるに
は、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始す
るが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かった
りするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好まし
く、それにより重合を早めることができる。

【００８１】（光反応開始剤、光増感剤）本発明に係る
凹凸層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活
性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光
増感剤を用いることができる。

【００８２】具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α
−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれら
の誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリ
レート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブ
チルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホス
フィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に
揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含
まれる光反応開始剤及び／または光増感剤の使用量は、
組成物の１質量％〜１０質量％が好ましく、特に好まし
くは２．５質量％〜６質量％である。

【００８３】また、活性エネルギー線硬化樹脂として、
紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂
の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫
外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。

【００８４】（酸化防止剤）凹凸層の耐熱性を高めるた
めに、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選ん
で用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール
誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体
等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，
４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノー
ル）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メ
シチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げ
ることができる。

【００８５】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデ
カオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ
−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６
７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コ
ーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、
Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０
１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０
１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１
０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）
製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ
−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−
２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２０
０、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６０
０、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、Ｋ
ＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲ
Ｍ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹ
Ｌ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー
（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５
０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１
０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５
２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１
（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレック
スＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッ
ド Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５
０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、
ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロ
ニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０
（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のも
のから適宜選択して利用することができる。

【００８６】活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成
物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であること
が好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。

【００８７】（凹凸層の作製方法）本発明に係る凹凸層
を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコー
ル類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、
その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用
できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１
〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコール
モノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量
％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％以上含
有する溶媒が用いられる。

【００８８】凹凸層組成物塗布液の塗布方法としては、
グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコ
ーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コー
ター、エアードクターコーター等公知の方法を用いるこ
とができる。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍ
が適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布
速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。

【００８９】凹凸層組成物は塗布乾燥された後、紫外線
や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理され
ることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間
は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化
効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分であ
る。

【００９０】《反射防止層》本発明に係る反射防止層に
ついて説明する。

【００９１】（反射防止層の構成）本発明に係る反射防
止層は、凹凸層の上に、凹凸層側から高屈折率層、低屈
折率層を順に積層したもの（後述のように他の層を追加
することもある）であり、波長λの光に対して高屈折率
層及び低屈折率層の光学膜厚をλ／４に設定して低反射
フィルムを作製する。光学膜厚とは、層の屈折率ｎと膜
厚ｄとの積により定義される量である。屈折率の高低は
そこに含まれる金属または化合物によってほぼ決まり、
例えばＴｉは高く、Ｓｉは低く、Ｆを含有する化合物は
更に低く、このような組み合わせによって屈折率が設定
される。屈折率と膜厚は、分光反射率の測定により計算
して算出し得る。

【００９２】本発明の低反射フィルムは、多層の屈折率
層からなる。透明な支持体上に、凹凸層を有し、その上
に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜
厚、層の数、層順等を考慮して積層されている。反射防
止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持
体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成さ
れている。得に好ましくは、３層以上の屈折率層から構
成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異な
る３層を、中屈折率層（支持体または凹凸層よりも屈折
率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折
率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく
用いられる。

【００９３】各層は表１の特性を有していることが好ま
しい。

【００９４】

【表１】

【００９５】または、２層以上の高屈折率層と２層以上
の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反
射防止層も好ましく用いられる。

【００９６】本発明の低反射フィルムの好ましい層構成
の例を下記に示す。ここで／は積層配置されていること
を示している。

【００９７】バックコート層／支持体／凹凸層／高屈折
率層／低屈折率層 バックコート層／支持体／凹凸層／中屈折率層／高屈折
率層／低屈折率層 バックコート層／支持体／帯電防止層／凹凸層／中屈折
率層／高屈折率層／低屈折率層 帯電防止層／支持体／凹凸層／中屈折率層／高屈折率層
／低屈折率層 バックコート層／支持体／凹凸層／高屈折率層／低屈折
率層／高屈折率層／低屈折率層 汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低
屈折率層の上に、さらに防汚層を設けることも好まし
い。前記防汚層としては、含フッ素有機化合物が好まし
く用いられる。

【００９８】光学干渉により反射率を低減できるもので
あれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものでは
ない。また、帯電防止層は導電性ポリマー微粒子（例え
ば、架橋カチオン微粒子）または金属酸化物微粒子（例
えば、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ等）を含む層であることが好ま
しく、塗布によって設けることができる。または大気圧
プラズマ処理、プラズマＣＶＤ等によって金属酸化物層
（ＺｎＯ₂、ＳｎＯ₂、ＩＴＯなど）を設けることができ
る。

【００９９】（中〜高屈折率層）本発明に係る高屈折率
層は、好ましくはチタン酸化物を含有することが望まし
い。これらは微粒子として添加することもできるが、よ
り好ましくは、下記一般式（１）で表される有機チタン
化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解
物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折
率１．５５〜２．５の層である。

【０１００】一般式（１） Ｔｉ（ＯＲ¹）₄ 式中、Ｒ¹としては炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基が
よいが、好ましくは炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基で
ある。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー
またはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分
解を受けて−Ｔｉ−Ｏ−Ｔｉ−のように反応して架橋構
造を作り、硬化した層を形成する。

【０１０１】本発明に用いられる有機チタン化合物のモ
ノマー、オリゴマーとしては、Ｔｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｔｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ
₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２
〜１０量体等が好ましい例として挙げられる。これらは
単独で、または２種以上組み合わせて用いることができ
る。中でもＴｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−
Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−
Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の
２〜１０量体が特に好ましい。

【０１０２】本発明に用いられる有機チタン化合物のモ
ノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布
液に含まれる固形分中の５０．０質量％〜９８．０質量
％を占めていることが望ましい。固形分比率は５０質量
％〜９０質量％がより好ましく、５５質量％〜９０質量
％が更に好ましい。このほか、塗布組成物には有機チタ
ン化合物のポリマー（あらかじめ有機チタン化合物の加
水分解を行って架橋したもの）あるいは酸化チタン微粒
子を添加することも好ましい。

【０１０３】また、本発明においては、塗布液中に上記
有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーの部分または
完全加水分解物を含むが、有機チタン化合物のモノマ
ー、オリゴマーは、自己縮合して架橋し網状結合するも
のである。その反応を促進するために触媒や硬化剤を使
用することができ、それらには、金属キレート化合物、
有機カルボン酸塩等の有機金属化合物や、アミノ基を有
する有機けい素化合物、光による酸発生剤（光酸発生
剤）等がある。これらの触媒または硬化剤の中で特に好
ましいのは、アルミキレート化合物と光酸発生剤であ
る。アルミキレート化合物の例としては、エチルアセト
アセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニ
ウムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトア
セテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウ
ムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等であ
り、光酸発生剤の例としては、ベンジルトリフェニルホ
スホニウムヘキサフルオロホスフェート、その他のホス
ホニウム塩やトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロ
ホスフェートの塩等を挙げることができる。

【０１０４】（バインダ）反射防止層の塗布液中の固形
分比率として０．５質量％〜２０質量％のバインダが含
まれることが好ましい。

【０１０５】バインダとしては、重合可能なビニル基、
アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプ
ロペニル基、エポキシ基、オキセタン環等の重合性基を
２つ以上有し、活性エネルギー線照射により架橋構造ま
たは網目構造を形成するアクリルまたはメタクリル系活
性エネルギー線反応性化合物、エポキシ系活性エネルギ
ー線反応性化合物またはオキセタン系活性エネルギー線
反応性化合物が好ましい。これらの化合物はモノマー、
オリゴマー、ポリマーを含む。重合速度、反応性の点か
ら、これらの活性基のうちアクリロイル基、メタクリロ
イル基またはエポキシ基が好ましく、多官能モノマーま
たはオリゴマーがより好ましい。また、アルコール溶解
性アクリル樹脂も好ましく用いられる。

【０１０６】アクリルまたはメタクリル系活性エネルギ
ー線反応性化合物としては、紫外線硬化型アクリルウレ
タン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外
線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等を挙げること
ができる。

【０１０７】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に
更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタク
リレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示
する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸
基を有するアクリレート系のモノマーを反応させること
によって容易に得ることができる（例えば特開昭５９−
１５１１１０号）。

【０１０８】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることができる（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号）。

【０１０９】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【０１１０】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げる
ことができる。

【０１１１】（中〜高屈折率層用バインダ）チタン化合
物を含む中〜高屈折率層には、バインダとしてアルコー
ル溶解性アクリル樹脂も好ましく用いられ、これによっ
て、膜厚むらが少ない中、高屈折率層を得ることができ
る。具体的には、アルキル（メタ）アクリレート重合体
またはアルキル（メタ）アクリレート共重合体、例えば
ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート等の共重合体が好ましく用いられ
るが、共重合成分としてはこれらに限定されるものでは
ない。市販品としては、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ
−５１、ＢＲ−５２、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−
６５、ＢＲ−７０、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７
６、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８
２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８
８、ＢＲ−８９、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９
５、ＢＲ−９６、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−
１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、
ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１
１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（以上、三菱レーヨ
ン（株）製）等が使用できる。これらのモノマー成分も
中〜高屈折率層用バインダとして添加することができ
る。バインダの添加比率を変更することによって屈折率
を調整することができる。

【０１１２】（すべり剤）低屈折率層にはすべり剤を添
加することが好ましく、滑り性を付与することによって
耐傷性を改善することができる。すべり剤としては、シ
リコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられ
る。例えば、下記一般式（ｂ）で表される化合物が好ま
しい。

【０１１３】一般式（ｂ） Ｒ₁ＣＯＲ₂ 式中、Ｒ₁は炭素原子数が１２以上の飽和または不飽和
の脂肪族炭化水素基を表す。アルキル基またはアルケニ
ル基が好ましく、さらに炭素原子数が１６以上のアルキ
ル基またはアルケニル基が好ましい。Ｒ₂は−ＯＭ₁基
（Ｍ₁はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属を表す）、−ＯＨ
基、−ＮＨ₂基、または−ＯＲ₃基（Ｒ₃は炭素原子数が
１２以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、好ま
しくはアルキル基またはアルケニル基を表す）を表し、
Ｒ₂としては−ＯＨ基、−ＮＨ₂基または−ＯＲ₃基が好
ましい。具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、
ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物と
してこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、
蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用できる。特公昭
５３−２９２号に開示されているようなポリオルガノシ
ロキサン、米国特許第４，２７５，１４６号に開示され
ているような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４
１号、英国特許第９２７，４４６号または特開昭５５−
１２６２３８号及び同５８−９０６３３号に開示されて
いるような高級脂肪酸エステル（炭素数が１０〜２４の
脂肪酸と炭素数が１０〜２４のアルコールのエステ
ル）、そして米国特許第３，９３３，５１６号に開示さ
れているような高級脂肪酸金属塩、特開昭５１−３７２
１７号に開示されているような炭素数１０までのジカル
ボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリ
エステル化合物、特開平７−１３２９２号に開示されて
いるジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル
等を挙げることができる。

【０１１４】低屈折率層に使用する滑り剤の添加量は
０．０１ｍｇ／ｍ²〜１０ｍｇ／ｍ²が好ましい。必要に
応じて、中屈折率層や高屈折率層に添加することもでき
る。

【０１１５】（耐擦り傷性）本発明の低屈折率層には、
界面活性剤、柔軟剤、柔軟平滑剤等を添加することが好
ましく、これによって耐擦り傷性が改善される。中でも
アニオン系または非イオン系の界面活性剤が好ましく、
例えば、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム塩、多価
アルコール脂肪酸エステルの非イオン界面活性剤乳化物
等が好ましい。例えば、リポオイルＮＴ−６、ＮＴ１
２、ＮＴ−３３、ＴＣ−１、ＴＣ−６８、ＴＣ−７８、
ＣＷ−６、ＴＣＦ−２０８、ＴＣＦ−６０８、ＮＫオイ
ルＣＳ−１１、ＡＷ−９、ＡＷ−１０、ＡＷ−２０、ポ
リソフターＮ−６０６、塗料用添加剤ＰＣ−７００（日
華化学株式会社製）等が用いられる。

【０１１６】好ましい添加量は低屈折率層の塗布液に含
まれる固形分当たり０．０１〜３％であり、より好まし
くは０．０３〜１％である。

【０１１７】（低屈折率層）本発明の低屈折率層は、酸
化珪素等の珪素化合物微粒子あるいはフッ素含有化合物
微粒子等を塗設して設けることができるが、特に好まし
くは、下記一般式（２）〜（５）のいずれかで表される
有機けい素化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれら
の混合物を含有する塗布液を塗布し乾燥して形成した屈
折率が１．３５〜１．５５以下の低屈折率層であること
が好ましい。

【０１１８】一般式（２） Ｓｉ（ＯＲ²）₄ 一般式（３） Ｓｉ−Ｘ₄ 一般式（４） Ｒ³−Ｓｉ（ＯＲ²）₃ 一般式（５） Ｒ³−Ｓｉ−Ｘ₃ 式中、Ｒ²は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基、Ｒ³はメ
チル基またはエチル基、Ｘはハロゲン原子を表す。

【０１１９】好ましい有機けい素化合物としては、テト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリ
メトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルト
リメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等を挙げ
ることができ、これらを加水分解することによりシリケ
ートオリゴマーが得られる。加水分解反応は、公知の方
法により行うことができ、例えば、上記テトラアルコキ
シシランに所定量の水を加えて、酸触媒の存在下に、副
生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜１００
℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加
水分解し、続いて縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を
２個以上有する液状のシリケートオリゴマー（通常、平
均重合度は２〜８、好ましくは３〜６）を加水分解物と
して得ることができる。加水分解の程度は、使用する水
の量により適宜調節することができるが、本発明におい
ては４０〜９０％、好ましくは６０〜８０％である。こ
こで、加水分解の程度は、加水分解可能な基、即ちテト
ラアルコキシシランにおいては、アルコキシル基を全て
加水分解するために必要な理論水量、即ちアルコキシル
基の数の１／２の水を添加したときを加水分解率１００
％とし、加水分解率（％）＝（実際の添加水量／加水分
解理論水量）×１００として求められる。

【０１２０】こうして得られたシリケートオリゴマーに
はモノマーが通常２〜１０％程度含有されている。本発
明においてはモノマー状態で用いてもオリゴマー状態で
用いても、またはモノマーとオリゴマーを混合して用い
ても差し支えないが、モノマーが含有されていると貯蔵
安定性に欠け、保存中に増粘し、膜形成が困難となるこ
とがあるので、モノマー含有量が１質量％以下、好まし
くは０．３質量％以下になるように、このモノマーをフ
ラッシュ蒸溜や真空蒸溜等で除去するのが好ましい。

【０１２１】本発明には、上記の如くテトラアルコキシ
シランに触媒、水を添加して得られる部分加水分解物が
用いられるが、完全加水分解物を用いるのが好ましい。
加水分解物に溶媒を配合し、次いで下記硬化触媒と水を
添加する等の方法により硬化した加水分解物が得られ
る。かかる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、オ
クタノール等を１種または２種以上併用して使用するの
が好ましい。

【０１２２】溶媒量は部分加水分解物１００質量部に対
して５０〜４００質量部、好ましくは１００〜２５０質
量部である。

【０１２３】（硬化触媒）硬化触媒としては、酸、アル
カリ、有機金属、金属アルコキシド等を挙げることがで
きるが、本発明においては酸、特にスルホニル基または
カルボキシル基を有する有機酸が好ましく用いられる。
例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、
パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いら
れる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有
する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン
酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられ
る。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好まし
く、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、
ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハ
ク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキ
ソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−
グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソク
エン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香
酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いるこ
とができる。

【０１２４】上記有機酸を用いることで、硫酸、塩酸、
硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸等の無機酸の使用による生産
時の配管腐蝕や安全性への懸念が解消できるばかりでな
く、加水分解時のゲル化を起こすことなく、安定した加
水分解物を得ることができる。添加量は、部分加水分解
物１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましく
は０．２〜５質量部がよい。また、水の添加量について
は部分加水分解物が理論上１００％加水分解し得る量以
上であればよく、１００〜３００％相当量、好ましくは
１００〜２００％相当量を添加するのがよい。

【０１２５】このようにして得られた低屈折率層用の塗
布組成物は極めて安定である。 （熟成工程）更に、本発明では熟成工程により、有機け
い素化合物の加水分解、縮合による架橋が充分に進み、
得られた被膜の特性が優れたものとなる。熟成は、オリ
ゴマー液を放置すればよく、放置する時間は、上述の架
橋が所望の膜特性を得るのに充分な程度進行する時間で
ある。具体的には用いる触媒の種類にもよるが、塩酸で
は室温で１時間以上、マレイン酸では数時間以上、８時
間〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟
成温度は熟成時間に影響を与え、極寒地では２０℃付近
まで加熱する手段をとった方がよいこともある。一般に
高温では熟成が早く進むが、１００℃以上に加熱すると
ゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０℃までの加熱
が適切である。また、本発明で用いるシリケートオリゴ
マーについては、上記の他に、例えばエポキシ基、アミ
ノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の官能基を
有する有機化合物（モノマー、オリゴマー、ポリマー）
等により変性した変性物であってもよく、単独または上
記シリケートオリゴマーと併用することも可能である。

【０１２６】このようにして、前記一般式（２）、
（３）、（４）及び（５）で表される有機けい素化合物
のシリケートオリゴマーが得られるが、シリケートオリ
ゴマー中のＳｉＯ２含有量は１〜１００％、好ましくは
１０〜９９％である。

【０１２７】また、本発明においては上記低屈折率層に
酸化けい素微粒子を含有させることができる。粒径０．
１μｍ以下の酸化けい素微粒子を含むことが好ましい。
例えば、アエロジル２００Ｖ（日本アエロジル（株）
製）等を添加することができる。特に表面がアルキル基
で修飾された酸化けい素微粒子が好ましく用いられ、例
えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル
（株）製）として市販されている表面がメチル基で修飾
された酸化けい素微粒子を好ましく添加することができ
る。このほか特開２００１−００２７９９に記載されて
いる表面がアルキル基で置換された酸化けい素微粒子を
用いることもでき、前述のシリケートオリゴマーの加水
分解後にアルキルシランカップリング剤により処理する
ことでも容易に得ることができる。添加量としては低屈
折率層中の固形分比率で０．１質量％〜４０質量％の範
囲となるように添加することが好ましい。

【０１２８】本発明の各屈折率層には、屈折率の調整あ
るいは膜質の改善のために更にシラン化合物を添加する
ことができる。具体的には、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメ
トキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−
プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシ
ルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルエチルトリエトキシシラン、ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、Ｃ₂Ｆ₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃、Ｃ₂Ｆ₅ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、
Ｃ₃Ｆ₇ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、（Ｃ
Ｆ₃）₂ＣＨＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ Ｃ₄Ｆ
₉ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、Ｈ（Ｃ
Ｆ₂）₄ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、３−
（パーフルオロシクロヘキシルオキシ）プロピルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジ
エチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、
ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル
ジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラ
ン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、（ＣＦ₃
ＣＨ₂ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂、（Ｃ₃Ｆ₇ＯＣＨ₂ＣＨ
₂ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂、〔Ｈ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＯＣ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂〕₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂、（Ｃ₂Ｆ₅ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂、メチルトリフェノキシシラ
ン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェ
ネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシ
シラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、αー
グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチ
ルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフ
ェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
ブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルト
リメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル
トリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシ
ラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピ
ルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラ
ン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキ
シシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラ
ン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、
α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−
グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシド
キシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプ
ロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエ
チルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチ
ルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、
３、３、３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルト
リエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、
クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエ
チル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシ
シラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ
−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロ
プロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキ
シシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−メルカプトメチルジエトキシシラン、メ
チルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシ
シラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリ
シドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシ
エチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、
α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシ
ブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、グリ
シドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシ
メチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメ
チルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチル
ジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン
等が挙げられ、これらを単独で又は２種以上組み合わせ
て使用することが出来る。これら以外のシランカップリ
ンク剤を添加することもできる。

【０１２９】（溶媒）本発明に係る高〜低屈折率層（光
学干渉層ともいう）を塗設する際の塗布液に使用する溶
媒は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２
−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキ
シレングリコール等のグリコール類；エチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカ
ルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリ
コールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフ
ォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、水等が挙げら
れ、それらを単独または２種以上混合して使用すること
ができる。特に、１気圧における沸点が１２０〜１８０
℃で、かつ２０℃における蒸気圧が２．３ｋＰａ以下の
溶媒を塗布液中に少なくとも１種用いることで、硬化速
度を適度に遅らせ、塗布後の白濁を防ぐことができ、塗
布ムラの解消や、塗布液のポットライフ向上等もでき
る。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ま
しく、グリコールエーテル類が更に好ましい。

【０１３０】グリコールエーテル類としては、具体的に
は下記の溶剤が挙げられるが、特にこれらに限定されな
い。なお、溶剤名の後に１気圧における沸点及び２０℃
における蒸気圧を示す。

【０１３１】 溶媒名 沸点℃ 蒸気圧ｋＰａ （１気圧） （２０℃） プロピレングリコールモノメチルエーテル １２１ １０６ プロピレングリコールモノエチルエーテル １３２．８ ０．５３以上 プロピレングリコールモノブチルエーテル １７１．１ ０．１３ ジエチレングリコールジメチルエーテル １６２ ０．４０ エチレングリコールモノメチルエーテル １２４．４ ０．７８ エチレングリコールモノメチルエーテルＡｃ １４５ ０．２７ エチレングリコールモノブチルエーテル １７１．２ ０．０９ エチレングリコールモノエチルエーテル １３５．６ ０．５１ エチレングリコールモノエチルエーテルＡｃ １５６．３ ０．１６ エチレングリコールジエチルエーテル １２１ １．２５ 注：Ａｃ＝アセテートを表す。

【０１３２】特に好ましくは、グリコールエーテル類と
してはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキ
ルエーテル、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）
アルキルエーテルエステルであり、具体的にはプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコール
モノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。また、プロピレングリ
コールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルと
しては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテル
アセテートが挙げられ、具体的にはプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。これ
らの溶媒は、塗布液中に全有機溶媒の１質量％〜９０質
量％添加されていることが好ましい。

【０１３３】また、中心線表面粗さＲａが０．０８μｍ
〜０．５μｍ程度の凹凸層に対して中〜高屈折率層及び
低屈折率層を塗設して反射防止加工する場合、凹凸層の
微細な凹凸上にできるだけ均一な層を形成するため、塗
設後速やかに乾燥することが好ましく、沸点１３０℃以
下、好ましくは１００℃以下の溶媒を全溶媒の３０質量
％、より好ましくは５０質量％以上含有する溶媒を用い
ることが好ましい。これらの溶媒は特に限定されない
が、アルコール類、ケトン類、炭化水素類、エーテル
類、エステル類等から適宜選択される。好ましくは、前
述の溶媒から選択することができる。

【０１３４】また、本発明に係る高〜低屈折率層の各層
の塗布液には各種のレベリング剤、界面活性剤、シリコ
ンオイル等の低表面張力物質を添加することが好まし
い。具体的なシリコンオイルとしては表２の化合物が挙
げられる。

【０１３５】

【表２】

【０１３６】これらの成分は凹凸層や下層への塗布性を
高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥
水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦
り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は添加量が多
過ぎると塗布時にハジキの原因となるため、塗布液中の
固形分成分に対し、０．０１質量％〜３質量％の範囲で
添加することが好ましい。

【０１３７】本発明の中〜高屈折率層及び低屈折率層の
塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解また
は硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射するこ
とが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに
活性エネルギー線を照射することである。

【０１３８】本発明に使用する活性エネルギー線は、紫
外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギ
ー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が
好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に
得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化
合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発
生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水
銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボ
ンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等
を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、
ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロ
トロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれ
ぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／
ｃｍ²〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、更に好ま
しくは、１００ｍＪ／ｃｍ²〜２，０００ｍＪ／ｃｍ²で
あり、特に好ましくは、４００ｍＪ／ｃｍ²〜２，００
０ｍＪ／ｃｍ²である。

【０１３９】紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を
１層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生
産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが
好ましい。

【０１４０】また、電子線も同様に使用できる。電子線
としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、
共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロ
ン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５
０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶ
のエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

【０１４１】（反射防止層の屈折率）本発明に記載の効
果を得る観点から、上記記載の凹凸層上に屈折率１．５
５〜２．５の高屈折率層と屈折率１．３〜１．５の低屈
折率層を、各々１層以上含む反射防止層が設けられる
が、高屈折率層の好ましい屈折率は、１．８５〜２．５
であり、低屈折率層の好ましい屈折率は、１．３０〜
１．４６である。

【０１４２】また、中屈折率層を設ける場合、中屈折率
層の屈折率は、１．５５〜１．８５未満が好ましく、更
に好ましくは、１．６０〜１．８０である。

【０１４３】（反射防止層の膜厚）反射防止層を構成す
る各屈折率層の膜厚としては、各々１ｎｍ〜２００ｎｍ
の範囲が好ましく、更に好ましくは、５ｎｍ〜１５０ｎ
ｍであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を
選択することが好ましい。

【０１４４】（反射防止層の反射率）本発明に係る反射
防止層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率
が１％以下であることが好ましく、特に好ましくは０．
５％以下である。また、この範囲における最低反射率は
０．００〜０．３％にあることが特に好ましい。反射防
止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して
算出することができる。また、作製した低反射フィルム
の反射光学特性は、分光光度計を用い、５度正反射の条
件にて反射率を測定することが出来る。この測定法にお
いて、反射防止層が塗布されていない側の基板面を粗面
化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、
フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率が測定さ
れる。

【０１４５】測定に際しては、透過率５５０ｎｍにおけ
る透過率を分光光度計を用いて空気を参照として測定を
行う。

【０１４６】（反射防止層の中心線平均粗さ（Ｒａ））
本発明に記載の効果である、視認性を向上させる観点か
ら、本発明に係る反射防止層の表面は微細な凹凸を有す
ることが必要である。前記の凹凸としては上記記載の微
粒子を添加し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心
線平均表面粗さＲａを０．０１μｍ〜０．５μｍの範囲
に調整することが必須であるが、好ましくは０．０８μ
ｍ〜０．５μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ〜
０．３μｍの範囲に調整することである。

【０１４７】また、二酸化珪素のような凝集性の微粒子
を用いる場合は、分散条件等によっても凹凸の微調整が
可能である。

【０１４８】（反射防止層の微細な凹凸の測定）また、
本発明に係る反射防止層の微細な凹凸は、隣接する凹部
底を基準とした高さが０．５μｍ〜２μｍである凸部を
１００μｍ²あたり５〜２０個有する微細構造として形
成されることが好ましい。

【０１４９】反射防止層の微細な凹凸については、上記
記載の凹凸層の微細な凹凸と同様な方法を用いて測定す
ることが出来る。

【０１５０】また、本発明に係る反射防止層の表面は、
表面の平均水準を基準とした高さが０．２μｍ以上の凸
部を１００μｍ²あたり８０個以上有する微細構造を有
することが好ましいが、この微細構造についても、上記
の凹凸層の微細構造の測定と同様に光学干渉式表面粗さ
測定機等を用いた方法により測定できる。

【０１５１】（反射防止層表面の微細な凹凸の平均山谷
間隔）本発明に係る反射防止層表面の微細な凹凸の平均
山谷間隔も、上記記載の凹凸層表面の微細な凹凸の平均
山谷間隔の場合と同様に定義され、且つ、市販の触針式
表面粗さ測定機または光学干渉式表面粗さ測定機等によ
り測定することが出来る。

【０１５２】反射防止層が形成されている面の微細凹凸
構造が、前記のような範囲に調整されることにより、画
素サイズの小型化、画面の大型化によるギラツキ現象の
発生を防止し、かつ外光の表面反射による視認妨害の発
生を防止する効果がある。

【０１５３】《支持体》本発明に係る支持体について説
明する。

【０１５４】本発明に係る支持体としては、製造が容易
であること、凹凸層、または反射防止層等との接着性が
良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であ
ること等が好ましい要件として挙げられる。

【０１５５】上記の性質を有していれば特に限定はない
が、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエス
テル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリア
リレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスル
ホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロ
ースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデ
ンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン
ビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリ
スチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノル
ボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトン
イミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィ
ルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフ
ィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができ
る。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリ
カーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルス
ルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセ
ルローストリアセテートフィルム（例えばコニカタック
製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ （コニ
カ（株）製）が好ましく用いられる。）またはセルロー
スアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コス
ト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用
いられる。

【０１５６】支持体の光学特性としては膜厚方向のリタ
ーデーションＲ_tが０ｎｍ〜３００ｎｍ、面内方向のリ
ターデーションＲ₀が０ｎｍ〜１０００ｎｍのものが好
ましく用いられる。

【０１５７】（セルロースエステルフィルム）低い反射
率の積層体が得られるため、基材としてはセルロースエ
ステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエ
ステルとしては、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネ
ートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用
いられる。

【０１５８】特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニ
ル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、ＸとＹ
が下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを
有する支持体上に凹凸層と高屈折率層及び低屈折率層を
設けた低反射フィルムが好ましく用いられる。

【０１５９】２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ ０．１≦Ｙ≦１．２ 特に、２．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５ ０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。

【０１６０】本発明に係る支持体として、セルロースエ
ステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセル
ロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木
材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げ
ることができる。またそれらから得られたセルロースエ
ステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができ
る。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無
水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である
場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等
の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用い
てセルロース原料と反応させて得ることができる。

【０１６１】アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ₃ＣＯＣ
ｌ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＣｌ、Ｃ₃Ｈ₇ＣＯＣｌ）の場合には、触
媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行
われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載
の方法等を参考にして合成することができる。また、本
発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わ
せて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであ
り、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロー
ス分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコー
スユニットが多数連結したものからなっており、グルコ
ースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基
にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。
例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニッ
トの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実
際には２．６〜３．０）。

【０１６２】本発明に用いられるセルロースエステルと
しては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートブチレート、またはセルロースアセテー
トプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他に
プロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロ
ースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。
なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖
状でも分岐していてもよい。

【０１６３】プロピオネート基を置換基として含むセル
ロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶
画像表示装置用のフィルムとして有用である。

【０１６４】アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−
Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。

【０１６５】セルロースエステルの数平均分子量は、７
０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的
強度が強く、且つ、適度なドープ粘度となり好ましく、
更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００であ
る。

【０１６６】（流延製膜法による支持体の作製）これら
セルロースエステルは後述するように一般的に溶液流延
製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）
を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回
転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドー
プを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造され
ることが好ましい。

【０１６７】これらドープの調製に用いられる有機溶媒
としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度
な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライ
ド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、
テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−
ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，
２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラ
フルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２
−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，
２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、
ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノ
ン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の
有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即
ち、良溶媒）として挙げられる。

【０１６８】また、下記の製膜工程に示すように、溶媒
蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ
（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の
発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点と
しては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の
良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４
℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸
点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等で
ある。

【０１６９】上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れる
メチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、
特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量
％以上含まれていることが好ましい。

【０１７０】上記有機溶媒の他に、０．１質量％〜３０
質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させるこ
とが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記ア
ルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載
のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めア
ルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル
化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離すること
を容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの
割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステ
ルの溶解を促進する役割もある。

【０１７１】炭素原子数１〜４のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。

【０１７２】これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよ
く、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がない
こと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレ
ンクロライド７０質量％〜９５質量％に対してエタノー
ル５質量％〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ま
しい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用い
ることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを
調製してもよい。

【０１７３】本発明で用いられるセルロースエステルフ
ィルムは少なくとも幅手方向に延伸されたものが好まし
く、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３質量％〜４０質
量％であるときに幅手方向に１．０１倍〜１．５倍に延
伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅
手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶
量が３質量％〜４０質量％であるときに幅手方向及び長
手方向に、各々１．０１倍〜１．５倍に延伸されること
が望ましい。こうすることによって、視認性に優れた低
反射フィルムを得ることが出来る。更に、２軸延伸し、
後述のナーリング加工をすることによって、長尺状低反
射フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著
しく改善することができる。

【０１７４】このときの延伸倍率としては１．０１倍〜
１．５倍が好ましく、特に好ましくは、１．０３倍〜
１．４５倍である。

【０１７５】更に好ましくは後述する裏面側の突起の数
が所定範囲内に調整することにより、ロール状の低反射
フィルムの保管安定性の向上効果が得られる。

【０１７６】（支持体の透過率）本発明に係る二軸延伸
されたセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０
％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体である
ことが好ましい。

【０１７７】（支持体の膜厚と透湿性）本発明に係るセ
ルロースエステルフィルム支持体は、その厚さが１０μ
ｍ〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、２５℃、
９０±２％ＲＨにおいて、２００ｇ／ｍ²・２４時間以
下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８
０ｇ／ｍ²・２４時間以下であり、特に好ましくは、１
６０ｇ／ｍ²・２４時間以下である。

【０１７８】特には、膜厚１０μｍ〜６０μｍで透湿性
が上記範囲内であることが好ましい。

【０１７９】ここで、支持体の透湿性は、ＪＩＳ Ｚ
０２０８に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定し
た。

【０１８０】（長尺フィルム）本発明に係る長尺フィル
ムとは、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のもの
を示し、通常、ロール状で提供される形態のものであ
る。更に、上記の長尺フィルムは下記に記載のナーリン
グ加工を施すことがこのましい。ここで、ナーリング加
工について説明する。

【０１８１】《ナーリング加工》本発明では、上記の長
尺フィルムの幅方向の両端に凹凸を付与して端部を嵩高
くするいわゆるナーリング加工が施されていることが好
ましい。ここで、ナーリング高さとは、下記のように定
義される。

【０１８２】ナーリング高さａ（μｍ）のフィルム膜厚
ｄ（μｍ）に対する比率Ｘ（％）＝（ａ／ｄ）×１００ 本発明においては、Ｘ＝１％〜２５％の範囲であること
が好ましく、５％〜２０％が更に好ましく、１０％〜１
５％が特に好ましい。

【０１８３】また、本発明においては、上記のナーリン
グ加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻
き取りの前に設けることが好ましい。

【０１８４】（可塑剤）本発明の低反射フィルムの支持
体にセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記の
ような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤として
は、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステ
ル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメ
リット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エ
ステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用
いることができる。

【０１８５】リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニ
ルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジル
ジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェ
ート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチ
ルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸
エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキ
シエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチル
フタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキ
シルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニ
ルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメ
リット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、ト
リフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート
等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチ
ルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テ
トラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤で
は、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、
ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステ
ル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブ
チルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセ
チルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−
（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いる
ことができる。その他のカルボン酸エステルの例には、
オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバ
シン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含ま
れる。

【０１８６】ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基
酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグ
リコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪
族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、
セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロ
ヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコ
ールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピ
レングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３
−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等
を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコー
ルはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して
用いてもよい。

【０１８７】特に、特願２０００−３３８８８３記載の
エポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添
加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられ
る。

【０１８８】具体的には、ロジン及びロジン誘導体とし
ては、以下の構造式のものが挙げられる。

【０１８９】

【化１】

【０１９０】上記化合物のうち、ＫＥ−６０４とＫＥ−
６１０は荒川化学工業（株）からそれぞれ酸価２３７と
１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業（株）
からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラスト
リン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１０
０及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販
されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン
酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）
からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハート
ールＲ−Ｘで市販されている。

【０１９１】本発明に用いるエポキシ樹脂としては、以
下の構造を有するものが挙げられる。

【０１９２】

【化２】

【０１９３】アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダ
イドＡＥＲ２６０は旭チバ（株）から市販されている。

【０１９４】ケトン樹脂としては、以下の構造のものが
挙げられる。

【０１９５】

【化３】

【０１９６】ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈ
は日立化成（株）から市販されている。

【０１９７】パラトルエンスルホンアミド樹脂として
は、以下の構造のものが挙げられ、トップラーとして、
フジアミドケミカル（株）から市販されている。

【０１９８】

【化４】

【０１９９】これらの可塑剤は単独または併用するのが
好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、
加工性等の点で、セルロースエステルに対して１質量％
〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３質量％〜
１３質量％である。

【０２００】（紫外線吸収剤）本発明に係る支持体に用
いられる紫外線吸収剤について説明する。低反射フィル
ム用の支持体には、紫外線吸収剤が好ましく用いられ
る。

【０２０１】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。

【０２０２】本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤
の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化
合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステ
ル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレ
ート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられる
が、これらに限定されない。

【０２０３】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、下記一般式（７）で示される化合物が好ましく用い
られる。

【０２０４】

【化５】

【０２０５】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しく
はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員
の複素環基を表し、Ｒ₄とＲ₅は閉環して５〜６員の炭素
環を形成してもよい。

【０２０６】また、上記記載のこれらの基は、任意の置
換基を有していてよい。以下に、本発明に係る紫外線吸
収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されな
い。

【０２０７】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール） ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製） ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製） また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般
式（８）で表される化合物が好ましく用いられる。

【０２０８】

【化６】

【０２０９】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェ
ニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及び
フェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原
子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロア
ルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル
基または−ＣＯ（ＮＨ）_n−₁−Ｄ基を表し、Ｄはアルキ
ル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフ
ェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【０２１０】上記において、アルキル基としては、例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までの
アルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、
炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニ
ル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェ
ニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素
原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェ
ニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン
原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。

【０２１１】以下に一般式（８）で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。

【０２１２】ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン） 本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透
明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫
外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾ
トリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられ
る。

【０２１３】また、特開２００１−１８７８２５に記載
されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支
持体の面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に
分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが
好ましい。

【０２１４】また、特開平６−１４８４３０号に記載の
一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５
６０３９の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子
紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好まし
く用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ
−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。

【０２１５】本発明に用いられる紫外線吸収剤添加液の
添加方法としては、下記に記載の方法が挙げられる。

【０２１６】《添加方法Ａ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオ
キソランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤を溶解してから
直接ドープ組成中に添加する。

【０２１７】《添加方法Ｂ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオ
キソランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤と少量のセルロ
ースエステルを溶解してからインラインミキサーでドー
プに添加する。

【０２１８】本発明においては、添加方法Ｂの方が、紫
外線吸収剤の添加量を容易に調整できるため、生産性に
優れていて好ましい。

【０２１９】紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使
用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースエ
ステルフィルム１ｍ２当り、０．２〜２．０ｇが好まし
く、０．４〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６〜１．
０ｇが特に好ましい。

【０２２０】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルムには滑り性を付与するために微粒子を添加するこ
とができる。微粒子としては、無機化合物の微粒子また
は有機化合物の微粒子が挙げられる。

【０２２１】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭
酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や
酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フ
ィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ま
しく用いられる。

【０２２２】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使
用できる。

【０２２３】酸化ジルコニウムの微粒子としては、例え
ば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロ
ジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【０２２４】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。

【０２２５】上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に
三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、ト
スパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１
４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン
（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

【０２２６】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルムに添加される微粒子の１次平均粒子径としては、
ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好
ましく、更に好ましくは、５ｎｍ〜１６ｎｍであり、特
に好ましくは、５ｎｍ〜１２ｎｍである。これらの微粒
子は０．１μｍ〜５μｍの粒径の２次粒子を形成してセ
ルロースエステルフィルムに含まれることが好ましく、
好ましい平均粒径は０．１μｍ〜２μｍであり、更に好
ましくは０．２μｍ〜０．６μｍである。これにより、
フィルム表面に高さ０．１μｍ〜１．０μｍ程度の凹凸
を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を
与えることが出来る。

【０２２７】本発明に用いられる微粒子の１次平均粒子
径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万
倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その
平均値をもって、１次平均粒子径とした。

【０２２８】微粒子の見掛比重としては、７０ｇ／リッ
トル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００ｇ
／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００ｇ
／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散
液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化する
ため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高い
ドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。

【０２２９】１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比
重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例え
ば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１
０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得る
ことができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品
名で市販されており、それらを使用することができる。

【０２３０】上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を
一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、
下記式で算出したものである。

【０２３１】見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質
量（ｇ）／二酸化珪素の容積（リットル） 本発明に用いられる微粒子の分散液を調製する方法とし
ては、例えば以下に示すような３種類が挙げられる。

【０２３２】《調製方法Ａ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。

【０２３３】《調製方法Ｂ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。別に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加
え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて撹
拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をイ
ンラインミキサーでドープ液と十分混合する。

【０２３４】《調製方法Ｃ》溶剤に少量のセルロースト
リアセテートを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加
えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。
微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混
合する。

【０２３５】調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に
優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸
化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集し
にくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。

【０２３６】《分散方法》二酸化珪素微粒子を溶剤など
と混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５質量％
〜３０質量％が好ましく、１０質量％〜２５質量％がさ
らに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散
濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向
があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

【０２３７】使用される溶剤は低級アルコール類として
は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒
としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

【０２３８】セルロースエステルに対する二酸化珪素微
粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対し
て、二酸化珪素微粒子は０．０１質量部〜０．３質量部
が好ましく、０．０５質量部〜０．２質量部がさらに好
ましく、０．０８質量部〜０．１２質量部が最も好まし
い。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少
ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れてい
る。

【０２３９】分散機は通常の分散機が使用できる。分散
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレ
ス分散機がヘイズが低く好ましい。メディア分散機とし
てはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどがあげら
れる。

【０２４０】メディアレス分散機としては超音波型、遠
心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散
装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合
した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断
や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧
分散装置で処理する場合、例えば、管径１μｍ〜２００
０μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７
ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１
９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速
度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０
ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。

【０２４１】上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏ
ｆｌｕｉｄｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧
ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げ
られる。

【０２４２】また、微粒子を含むドープを流延支持体に
直接接するように流延することが、滑り性が高く、ヘイ
ズが低いフィルムが得られるので好ましい。

【０２４３】又、ロール状に巻き取られた後、出荷され
るまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等から製品を
保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材
料については、上記目的が果たせれば特に限定されない
が、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好
ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポ
リプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織
布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったも
のは、より好ましく用いられる。

【０２４４】本発明に係るセルロースエステルフィルム
は、複数のドープを用いた共流延法等による多層構成を
有するものであってもよい。

【０２４５】共流延とは、異なったダイを通じて２層ま
たは３層構成にする逐次多層流延方法、２つまたは３つ
のスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構
成にする同時多層流延方法、逐次多層流延と同時多層流
延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良
い。

【０２４６】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の作製に用いられる好ましい製造装置の例を図１を用い
て説明する。

【０２４７】図１において、エンドレスステンレスベル
ト１は、乾燥ゾーン３と乾燥ゾーン４の間を循環してい
る。ドープ組成物は、ダイ２から流延部５でエンドレス
ステンレスベルト１の上に流延され、矢印方向に運ば
れ、乾燥ゾーン３と乾燥ゾーン４で、乾燥され、剥離部
６で剥離ロール７によりエンドレスステンレスベルト１
から剥離される。剥離されたフィルムは、更に第１乾燥
ゾーン８を通り、第２乾燥ゾーン１０から、第３乾燥ゾ
ーン１１へ運ばれ、製品として巻き取り部１２で巻き取
られる。尚、第１乾燥ゾーン８と第３乾燥ゾーン１１
は、パスを長くとるため、搬送ロール９により搬送され
る。

【０２４８】第２乾燥ゾーンにおいては、テンター等の
延伸手段により幅手または、幅手と長手の両方向に延伸
される。

【０２４９】又、本発明で用いられるセルロースエステ
ルは、フィルムにしたときの輝点異物が少ないものが、
支持体として好ましく用いられる。本発明において、輝
点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコ
ル）、この間にセルロースエステルフィルムを配置し
て、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面から
セルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の
光がもれて見える点のことである。

【０２５０】このとき評価に用いる偏光板は、輝点異物
がない保護フィルムで構成されたものであることが望ま
しく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好まし
く用いられる。輝点異物の発生は、セルロースエステル
に含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考え
られ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセ
ルロースエステルを用いることや、また、セルロースエ
ステルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減
が可能である。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面
積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれ
るセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異
物は少なくなる傾向がある。

【０２５１】輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上
のものが２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、
更に好ましくは、１００個／ｃｍ²以下、５０個／ｃｍ²
以下、３０個／ｃｍ²以下、１０個／ｃｍ²以下であるこ
とが好ましいが、特に好ましくは、０であることであ
る。

【０２５２】又、０．００５ｍｍ〜０．０１ｍｍの輝点
についても２００個／ｃｍ²以下であることが好まし
く、更に好ましくは、１００個／ｃｍ²以下、５０個／
ｃｍ²以下、３０個／ｃｍ²以下、１０個／ｃｍ²以下で
あることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の
場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少な
いものが好ましい。

【０２５３】輝点異物を濾過によって除去する場合、セ
ルロースエステルを単独で溶解させたものを濾過するよ
りも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点
異物の除去効率が高く好ましい。濾材としては、ガラス
繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂な
どのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられ
るが、セラミックス、金属等も好ましく用いられる。絶
対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更
に好ましくは、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、
特に好ましくは、５μｍ以下のものである。

【０２５４】これらは、適宜組み合わせて使用すること
もできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプ
でも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的
目詰まりしにくく好ましく用いられる。

【０２５５】《バックコート層》 （支持体のバックコート層の突起）本発明の低反射フィ
ルムは、支持体の一方の面には凹凸層、反射防止層等を
有するが、もう一方の面（裏面ともいう）には、表面か
らの高さが、０．１μｍ以上の突起を１０個〜５００個
／１００μｍ²有することが好ましく、更に好ましく
は、５０個〜５００個／１００μｍ²であり、特に好ま
しくは、１００個〜４５０個／１００μｍ²である。

【０２５６】ここで、表面の突起数の測定は、光学干渉
式表面粗さ計（例えば、ＷＹＫＯ社製 ＲＳＴ ＰＬＵ
Ｓ）を用い、フィルム表面から高さ０．１μｍ以上の突
起の数をカウントすることができる。

【０２５７】このような裏面側の突起は、あらかじめフ
ィルム中に微粒子を添加する方法、あるいは微粒子を含
有する塗布液を塗設してバックコート層を設ける方法に
よって形成することが出来る。突起の数や大きさは微粒
子の添加量や分散状態を制御することによって制御する
ことができる。

【０２５８】これによって、各光学干渉層塗設中に一旦
ロール状に巻き取りをしてもブロッキングの発生が防止
できるだけでなく、次の光学干渉層を塗設する際の塗布
むらを著しく低減することができる。塗布むらの原因は
完全に明らかにはなっていないが、原因の１つとしてロ
ール状に巻き取ったフィルムを塗布工程に送り出す際の
剥離帯電が関係していると推測される。基材フィルム中
に微粒子を添加することで、裏面に高さ０．１μｍ〜１
０μｍの突起を１０個〜５００個／１００μｍ ²有する
ようにすることができる。このとき、基材フィルムを多
層構成として、表層のみに微粒子を含ませることもでき
る。

【０２５９】裏面の突起を上記の範囲に調整することに
より、長尺ロール状の低反射フィルムの保管性の改善に
効果がある。

【０２６０】バックコート層には、樹脂と微粒子が含ま
れていることが好ましく、添加する微粒子の種類として
は、有機化合物でも無機化合物でもよく、例えば、二酸
化けい素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジル
コニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無
機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好まし
い。中でも二酸化けい素がフィルムのヘイズを小さくで
きるので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．
１μｍ〜１０μｍで、その含有量は基材のセルロースエ
ステルに対して０．０４質量％〜０．３質量％が好まし
い。二酸化けい素のような微粒子には有機物により表面
処理されている場合が多いが、これはフィルムのヘイズ
を低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物
としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメ
チル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロ
キサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径は大きい方が
マット効果が大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明
性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径
は５ｎｍ〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍで
ある。二酸化けい素の微粒子としてはアエロジル（株）
製のＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００、２００Ｖ、
３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、
Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることがで
き、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００
Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８
１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよ
い。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用
することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる
微粒子、例えば、ＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００
ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．
９：０．１の範囲で使用できる。

【０２６１】この塗布組成物には樹脂を含ませることが
でき、ここで用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニ
ル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分
加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル／アクリロ
ニトリル共重合体、エチレン／ビニルアルコール共重合
体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化ビニル共重
合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合
体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセ
テートプロピオネート、セルロースジアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート樹脂等のセル
ロースエステル系樹脂、マレイン酸及び／またはアクリ
ル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリ
ロニトリル／スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、
アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重
合体、メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレン共
重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹
脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネート
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエ
ン樹脂、ブタジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系
樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。アクリ
ル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ
（以上、三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４０
０３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ
−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（以上、根上
工業（株）製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５
２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７
３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８
０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８
７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９
５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ
−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０
８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ
−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（以上、三菱レ
ーヨン（株）製）等が用いられる。特に好ましくはジア
セチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネー
トのようなセルロースエステル樹脂が用いられる。

【０２６２】添加する微粒子の添加量、粒径を調整する
ことによって裏面の突起数を調整することが出来る。ま
た、反射防止層（光学干渉層ともいう）の裏面側に微粒
子を含む層を塗設することによって、裏面に高さ０．１
μｍ〜１０μｍの突起を１〜５００個／０．０１ｍｍ²
有する低反射フィルムを提供することができる。

【０２６３】上記のような樹脂、微粒子の混合組成物を
溶解、膨潤または分散させる溶媒としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセトン、
メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタ
ン、トリクロロエタン、クロロホルム等がある。溶解さ
せない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコー
ル、ｎ−ブタノール等が挙げられる。

【０２６４】本発明に用いられるバックコート層には、
アンチカール機能を付与することもできる。具体的には
支持体を溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組
成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒とし
ては、溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒の混合物の
他、さらに溶解させない溶媒を含む場合もある。これら
を樹脂フィルムのカール度や樹脂の種類によって適宜選
択した割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。

【０２６５】カール防止機能を強めたい場合は、溶解さ
せる溶媒または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、
溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的であ
る。この混合比率は好ましくは、（溶解させる溶媒また
は膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０
〜１：９で用いられる。

【０２６６】これらの塗布組成物をグラビアコーター、
ディップコーター、リバースロールコーター、押し出し
コーター等を用いて基材の表面にウェット膜厚１μｍ〜
１００μｍ塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍ
であるとよい。

【０２６７】本発明に用いられるバックコート層を塗設
する順番は、反射防止層を塗設する前であることが好ま
しく、更に好ましくは、凹凸層を設ける前に支持体上に
設けることである。

【０２６８】本発明の低反射フィルムに設けられる各層
の組成物の塗布方法としては、ディッピング、スピンコ
ート、ナイフコート、バーコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、スクイズコート、リバースロール
コート、グラビアロールコート、カーテンコート、スプ
レイコート、ダイコート等の公知の塗布方法を用いてこ
とができ、連続塗布または薄膜塗布が可能な塗布方法が
好ましく用いられる。

【０２６９】前記組成物を基材に塗布する際、塗布液中
の固形分濃度や塗布量を調整することにより、層の膜厚
及び塗布均一性等をコントロールすることができる。

【０２７０】本発明の低反射フィルムは、反射防止層の
中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の各塗布組成物を
塗布する時に、塗布部（コーター部分）や乾燥ゾーンの
空気中の水分量を制御することが好ましい。塗布時の空
気中の水分量制御としては、露点で調整することが容易
であり、露点が５℃以上１６℃以下が好ましく、９℃以
上１２℃以下が特に好ましい。露点が５℃以下になる
と、塗布した膜がもろく傷が入りやすくなり、好ましく
ない。また、露点が高すぎるとブラッシングが発生し、
塗布層が白濁してしまう。塗布時に空気中にある水分が
被膜の硬度を上げ、低反射フィルムの高温耐久性を向上
していることが判った。この塗布時の露点管理によっ
て、表面粗さＲａ０．０８μｍ〜０．５μｍの低反射フ
ィルムだけでなく、表面粗さ０．０１μｍ〜０．０８ｎ
ｍ未満の低反射フィルムでも同様の効果を得ることが出
来る。

【０２７１】本発明の低反射フィルムは、反射防止層の
中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の各塗布組成物
を、塗布後に高温または高温高湿の条件で処理すること
が好ましい。塗布後の高温処理の場合は、３０℃以上
で、かつ支持体が変形する温度以下、具体的には３０℃
以上、１２０℃以下、好ましくは４０℃以上、１１０℃
以下、さらに好ましくは５０℃〜１００℃である。高温
高湿の場合は、温度が４０℃以上、９０℃以下で、かつ
相対湿度４０％〜９０％以下が好ましい。処理する時間
は温度、相対湿度および巻形状により異なるが、温度が
高いほうが処理時間が短くなるので好ましい。また、湿
度が高いと処理温度を低温にしても同等の性能が得られ
る傾向にあることが判った。この処理を行なうと、低反
射フィルムの保存耐久性が向上し、微小なクラックが入
りにくくなり高品質の状態を長時間保つことが可能とな
る。機構は不明であるが、熱や水分により未反応の部分
の結合や層間での密着が促進されるために高温耐久性が
向上した推定している。本発明の好ましい処理条件は、
試料の形態（巻きの長さや包装）でこれらの条件は異な
るが、温度４０℃、相対湿度８０％の条件で３〜７日
間、５０℃、相対湿度８０％の条件で１〜３日間、９０
℃、相対湿度１０％の条件で数時間〜２日、９０℃、相
対湿度９０％の条件で数時間〜１日等である。さらに、
この効果は防眩性の低反射フィルムだけでなく、防眩性
を有さない低反射フィルムにも適用できる。

【０２７２】（偏光板及びそれを用いる表示装置）本発
明の偏光板、それを用いた本発明の表示装置について説
明する。本発明の偏光板に用いる偏光子としては、従来
公知のものを用いることができる。偏光子とは、一定方
向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られてい
る代表的な偏光偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光
フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムに
ヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたもの
がある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜
し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸
延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を
行ったものが用いられている。

【０２７３】本発明の偏光板は、こうして得られた偏光
子と本発明の低反射フィルムと貼合して得られる。

【０２７４】本発明の低反射フィルムは偏光板保護フィ
ルムとして好ましく用いられ、偏光子の少なくとも片側
に積層し、貼合されて偏光板とすることができる。

【０２７５】本発明の偏光板は、一般的な方法で作製す
ることができる。例えば、本発明の低反射フィルムをア
ルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光
膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液
を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリ
ケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良く
し、接着性を向上させるために、セルロースエステルフ
ィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。こ
のとき、反射防止層の表面には再剥離性の保護フィルム
（例えばＰＥＴ等のポリエステル樹脂製）を設けること
により、アルカリや汚れから保護することができる。

【０２７６】本発明の低反射フィルムを一方の偏光板保
護フィルムとして用いた場合、もう一方の偏光板保護フ
ィルムには、光学補償機能を持たせることが出来る。例
えば、直接または配向層を介して、液晶を塗布して配
向、固定化した光学異方層（例えばハイブリッド配向で
固定化した層）を設け、これを偏光板保護フィルムとし
て用いて視野角拡大効果を有する偏光板を作製すること
も出来る。又、必要に応じて、反射防止層の表面に防汚
性を持たせるかあるいは防汚層を設けることが出来る。
防汚層としてはＳｉ系あるいはＦ系の公知の化合物を用
いた層が好ましく用いられる。

【０２７７】反射防止層／凹凸層／セルロースエステル
フィルム／偏光子／セルロースエステルフィルム／配向
層／光学異方層 （液晶セル）この様にして得られた偏
光板は、液晶セルの一方の面もしくは、両面に設けても
よい。本発明の低反射フィルムは反射防止層が外側を向
くように液晶セルに貼りつけ、本発明の表示装置が得ら
れる。本発明の低反射フィルムを用いることにょって、
高精細でありながら視認性に優れた表示装置を提供する
ことができる。

【０２７８】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されない。

【０２７９】実施例１ 反射防止層を構成する各層の屈折率、膜厚、支持体のセ
ルロースエステルの置換度、反射防止層の表面粗さ、凸
部の数、裏面の突起数は下記方法で測定した。

【０２８０】（屈折率、膜厚）各屈折率層の屈折率と膜
厚は、各層を単独で塗設したサンプルについて、分光光
度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計は
Ｕ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの
測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光
吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正
反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）
の反射率の測定を行った。

【０２８１】（反射防止層の表面粗さ、凸部の数、平均
山谷間隔、平均傾斜角）光学干渉式表面粗さ計（ＷＹＫ
Ｏ社製 ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微少表面形状測定
システム）を用い、表面粗さを２次元的に測定した。こ
の測定結果より所定面積あたりの凸部の数を数えた。
又、表面粗さを２次元的に測定した結果より、直線で長
さ１５０μｍで間隔１０μｍで平行である２０本の表面
粗さ曲線（長さの合計：３０００μｍ）を得て、該表面
粗さ曲線より平均山谷間隔と平均傾斜角を求めた。

【０２８２】ここで、平均山谷間隔とは、前記の表面粗
さ曲線における凹凸変化が微小な部分（平坦に近い部
分）に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評
価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の
高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線
を下から上（又は上から下）に通過する際の交点に基づ
きその交点間の距離の平均として定義することができ
る。

【０２８３】（裏面側の突起の数）光学干渉式表面粗さ
計（ＷＹＫＯ社製 ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微少表
面形状測定システム）を用い、反射防止層を有する支持
体の面の裏面側の表面粗さを２次元的に測定した。この
測定結果より所定面積あたりの隣接する底部に対して高
さ０．１μｍ以上の突起の数を数えた。

【０２８４】（微粒子の平均粒子径）使用する微粒子の
粒子径は電子顕微鏡観察（ＳＥＭ）にて各々１００個の
微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径
としてその平均値を平均粒子径とした。

【０２８５】（セルロースエステルの置換度）ＡＳＴＭ
−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定した。

【０２８６】《セルロースエステルフィルムの作製》下
記のように各種添加液、各種ドープを調製して、セルロ
ースエステルフィルムを作製した。

【０２８７】 （セルロースエステルフィルム１の作製：長尺物） 〈酸化けい素分散液Ａの調製〉 アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製） １ｋｇ エタノール ９ｋｇ 以上をディゾルバで３０分間撹拌混合した後、マントン
ゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行い、酸化けい
素分散液Ａを調製した。

【０２８８】 〈添加液Ｂの調製〉 セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８） ６ｋｇ メチレンクロライド １４０ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液Ａを撹拌しながら加えて、さらに３０分間撹拌した
後、濾過し、添加液Ｂを調製した。

【０２８９】 〈ドープＣの調製〉 メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８） １００ｋｇ トリフェニルホスフェート ９ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ２ｋｇ チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．３ｋｇ チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５ｋｇ チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合し
た。ドープを流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡
操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎ
ｏ．２４４を使用して濾過した。更に上記溶液に添加液
Ｂを３ｋｇ添加し、インラインミキサー（東レ（株）製
静止型管内混合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で１０分
間混合し、濾過し、ドープＣを調製した。

【０２９０】ドープＣを濾過した後、ベルト流延装置を
用い、３５℃のドープを３５℃のステンレスバンド支持
体上に均一に流延した。その後、支持体上で乾燥させた
後、ステンレスバンド支持体上からフィルムを剥離し
た。このときのフィルムの残留溶媒量は８０％であっ
た。ステンレスバンド支持体から剥離した後、８０℃に
維持された乾燥ゾーンで１分間乾燥させた後、２軸延伸
テンターを用いて、残留溶媒量３〜１０質量％であると
きに１００℃の雰囲気下で長手方向に１．０３倍、幅方
向に１．１倍に延伸し、幅把持を解放して、多数のロー
ルで搬送させながら１２５℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了
させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナー
リング加工を施して、膜厚８０μｍのセルロースエステ
ルフィルム１を作製した。フィルム幅は１３００ｍｍ、
巻き取り長は１５００ｍとした。面内リターデーション
Ｒ₀は１ｎｍであった。

【０２９１】（セルロースエステルフィルム２の作製）
セルロースエステルフィルム１の作製において、ドープ
ＣをドープＥに替えた以外は同様にして、膜厚６０μ
ｍ、ナーリング高さ１０μｍのセルロースエステルフィ
ルム２を作製した。

【０２９２】 （添加液Ｄの調製） セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基の置換度１．９、プロピオ ニル基の置換度０．７） ６ｋｇ 酢酸メチル １００ｋｇ エタノール ４０ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液Ａを撹拌しながら加えて、さらに３０分間撹拌した
後、濾過し、添加液Ｄを調製した。

【０２９３】 （ドープＥの調製） セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基の置換度１．９、プロピオ ニル基の置換度０．７） １００ｋｇ 酢酸メチル ２９０ｋｇ エタノール ８５ｋｇ トリフェニルフォスフェート ８ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ２ｋｇ チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．３ｋｇ チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５ｋｇ チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合し
た。ドープを流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡
操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎ
ｏ．２４４を使用して濾過した。更に上記溶液に添加液
Ｄを３ｋｇ添加し、インラインミキサー（東レ（株）製
静止型管内混合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混
合し、濾過し、ドープＥを調製した。

【０２９４】（セルロースエステルフィルム３の作製）
セルロースエステルフィルム１の作製において、２軸延
伸テンターを行わずに乾燥させた以外は同様にして、膜
厚８０μｍのセルロースエステルフィルム３を作製し
た。

【０２９５】（セルロースエステルフィルム４の作製）
セルロースエステルフィルム２の作製において、２軸延
伸テンターを行わずに乾燥させた以外は同様にして、膜
厚６０μｍのセルロースエステルフィルム４を作製し
た。

【０２９６】（セルロースエステルフィルム５の作製）
セルロースエステルフィルム１の作製において、２軸延
伸テンターの際の延伸倍率を長手方向に１．０３倍、幅
方向に１．０８倍、ナーリング高さ５μｍにした以外は
同様にして膜厚４０μｍのセルロースエステルフィルム
５を作製した。

【０２９７】《バックコート層を有するセルロースエス
テルフィルム１〜５の作製》上記で作製したセルロース
エステルフィルム１〜５の各々のａ面（流延製膜の際に
ステンレスバンド支持体に接していた側（ｂ面）の反対
側の面）に、下記バックコート層組成物（１）をウェッ
ト膜厚１４μｍとなるように押し出しコーターで塗布
し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設け
た。

【０２９８】バックコート層の表面の高さ０．１μｍ以
上の突起数は４８０個／１００μｍ ²であった。

【０２９９】 〈バックコート層組成物（１）〉 アセトン ３０質量部 酢酸エチル ４５質量部 イソプロピルアルコール １０質量部 ジアセチルセルロース ０．６質量部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液 （日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ） ０．２質量部 上記で作製したバックコート層を有するセルロースエス
テルフィルム１〜５の作製に用いたドープ、製造条件等
を表３に示す。

【０３００】

【表３】

【０３０１】《低反射フィルムの作製》 （低反射フィルム１〜５の作製）上記で作製したバック
コート層を有するセルロースエステルフィルム１〜５を
用いて各々のｂ面上にワイヤーバーコータを用いて下記
の凹凸層組成物１を塗布し、酢酸メチルを蒸発させて厚
さ１０μｍの塗布層を形成し、次いで、前記塗布層に高
圧水銀ランプを用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²とになるよう
に紫外線を照射し、凹凸層１を有するセルロースエステ
ルフィルム１〜５を、各々作製した。

【０３０２】 （凹凸層組成物１） 合成シリカ粒子（平均粒径１．８μｍ） ８質量部 紫外線硬化型のアクリルウレタン系樹脂 １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５０質
量％の混合分散液を調製した。

【０３０３】上記で得られた凹凸層１を有するセルロー
スエステルフィルム１〜５の凹凸層上に、下記のように
中屈折率層、高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反
射防止層を塗設し、表４に記載の低反射フィルム１〜５
を作製した。

【０３０４】《反射防止層の作製：中屈折率層》凹凸層
を有するセルロースエステルフィルム１の凹凸層の上
に、下記中屈折率層組成物Ｍ−１を押し出しコーターで
塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀ランプ
（８０Ｗ）を用いて紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ²照射し
て硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように中屈折率層を
設けた。なお、この中屈折率層の屈折率は１．７０であ
った。

【０３０５】 （中屈折率層組成物Ｍ−１） イソプロピルアルコール ５１０質量部 水 ２質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ２２７質量部 メチルエチルケトン ８４質量部 テトラ（ｎ）ブトキシチタン ３９質量部 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （信越化学社製ＫＢＭ５０３） ６質量部 ５％アクリル樹脂溶液（三菱レーヨン（株）製、 ダイヤナールＢＲ−１０２、溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルに 溶解） ３１質量部 １０％シリコーンオイル（信越化学工業（株）社製ＫＦ−９６−１，０００Ｃ Ｓ、溶媒：メチルエチルケトン） １．５質量部 《反射防止層の作製：高屈折率層》前記の中屈折率層上
に、下記の高屈折率層組成物Ｈ−１を押し出しコーター
で塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀ラン
プ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ²照射
して硬化させ、厚さが６６ｎｍとなるように高屈折率層
を設けた。尚、この高屈折率層の屈折率は１．８５であ
った。

【０３０６】 〈高屈折率層組成物Ｈ−１〉 イソプロピルアルコール ４４５質量部 水 １．５質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ２２３質量部 メチルエチルケトン ７３質量部 テトラ（ｎ）ブトキシチタン ５４５質量部 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （信越化学社製ＫＢＭ５０３） ０．８質量部 １０％シリコーンオイル（信越化学工業（株）社製ＫＦ−９６−１，０００Ｃ Ｓ、溶媒：メチルエチルケトン） １．４質量部 《反射防止層の作製：低屈折率層》前記の高屈折率層上
に、下記の低屈折率層組成物Ｌ−１を押し出しコーター
で塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、更に１２０℃
で５分間熱硬化させ、さらに紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ
²照射して硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折
率層を設けた。尚、この低屈折率層の屈折率は１．４５
であった。

【０３０７】〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調
製〉テトラエトキシシラン５８０ｇとエタノール１１４
４ｇを混合し、これにクエン酸水溶液（クエン酸１水和
物５．４ｇを水２７２ｇに溶解したもの）を添加した後
に、室温（２５℃）にて１時間攪拌することでテトラエ
トキシシラン加水分解物Ａを調製した。

【０３０８】 （低屈折率層組成物Ｌ−１） プロピレングリコールモノメチルエーテル ３０３質量部 イソプロピルアルコール ３０５質量部 テトラエトキシシラン加水分解物Ａ １３９質量部 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （信越化学社製ＫＢＭ５０３） １．６質量部 １０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液 （日本ユニカー社製） １．３質量部 （低反射フィルム６〜１０の作製：比較）上記記載の低
反射フィルム１〜５の作製において、凹凸層１を下記の
凹凸層２の塗設に変更した以外は同様にして、表４に記
載の低反射フィルム６〜１０を各々作製した。

【０３０９】 （凹凸層組成物２：比較用） 合成シリカ粒子（平均粒径４．５μｍ） ５質量部 紫外線硬化型のアクリルウレタン系樹脂 １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記記載の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５
０質量％の混合分散液を調製した。

【０３１０】（低反射フィルム１１〜１５の作製：比
較）凹凸層組成物１を下記の凹凸層組成物３に変更した
以外は同様にして凹凸層３及び上記反射防止層を有する
表４記載の低反射フィルム１１〜１５を各々作製した。

【０３１１】 （凹凸層組成物３：比較用） 合成シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ） １質量部 紫外線硬化型のアクリルウレタン系樹脂 １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記記載の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５
０質量％の混合分散液を調製した。

【０３１２】得られた低反射フィルム１〜５の反射防止
層表面における微細凹凸構造を光学干渉式表面粗さ計で
観察したところ、隣接の凹部底を基準とした高さが０．
５μｍ〜２μｍの１００μｍ²あたり凸部数（凸部数
Ａ）を、平均で５．３個有していた。また、上記の低反
射フィルム１〜５は鉛筆硬度２Ｈのハードコート性を示
し、ヘイズ２０％の光拡散性を示した。

【０３１３】低反射フィルム６〜１０の反射防止層表面
における微細凹凸構造を光学干渉式表面粗さ計で観察し
たところ、隣接の凹部底を基準とした高さが０．５μｍ
〜２μｍの凸部を１００μｍ²あたり、平均で２．３個
有していた。ヘイズ１５％の光拡散性であった。

【０３１４】低反射フィルム１１〜１５の反射防止層表
面における微細凹凸構造を光学干渉式表面粗さ計で観察
したところ、隣接の凹部底を基準とした高さが０．５μ
ｍ〜２μｍの凸部を１００μｍ²あたり、０個であり、
ヘイズ４．８％の光拡散性であった。

【０３１５】次いで、得られた低反射フィルム１〜１５
の各々について下記のような評価を行った。

【０３１６】《反射率評価》分光光度計（日立製作所製
Ｕ−４０００型）を用い、反射防止層（中屈折率層、高
屈折率層、低屈折率層）が塗布されていない側の低反射
フィルムのもう一方の面（バックコート層が塗設されて
いる面）を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸
収処理を行い、裏面での光の反射を防止して５度の正反
射の条件にて反射率の測定した。４５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍにおける平均反射率を反射率とした。

【０３１７】《接着性評価》ＪＩＳ Ｋ ５４００に準
拠した碁盤目試験を行った。具体的には、得られた低反
射フィルムの反射防止層に１ｍｍ間隔で縦、横に１１本
の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作り、こ
の上にセロハン粘着テープを貼り付け、９０°で素早く
剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数をカウントし、下
記に示すようなランク評価を行った。本発明の低反射フ
ィルム１〜５はいずれもＡであった。これに対して比較
の低反射フィルム６〜１５はいずれもＢであった。

【０３１８】 Ａ：１００ Ｂ：９０〜９９ Ｃ：８０〜８９ Ｄ：５０〜７９ Ｅ：４９以下 Ｂランク以上が実用可である。

【０３１９】《耐擦り傷性評価》１ｃｍ²当たり１００
ｇの重りを載せた＃００００のスチールウールを用い、
試料表面を１０回擦って、発生する傷を目視でカウント
し、下記に示すようなランク評価を行った。その結果、
本発明の低反射フィルム１〜５はいずれもＡであった。
これに対して比較の低反射フィルム６〜１５はいずれも
Ｂであった。

【０３２０】 Ａ：５本未満 Ｂ：５〜１０本未満 Ｃ：１０〜２０本未満 Ｄ：２０本以上 Ｂランク以上が実用可である。

【０３２１】《反射色むら評価》作製した低反射フィル
ムの反射光の色むらを１ｍ²について目視により下記の
ようにランク評価した。

【０３２２】 Ａ：反射光の色調変化が認められない Ｂ：ごく一部に反射光の色調変化が認められる。（面積
の１０％未満） Ｃ：部分的に反射光の色調変化が認められる（面積の１
０％以上３０％未満） Ｄ：全体的に反射光の色調変化が認められる。

【０３２３】《視認性評価》低反射フィルムの視認性に
ついては、低反射フィルム１〜１５を各々用いて下記の
ようにして偏光板１〜１５を各々作製し、それらの偏光
板を液晶表示パネルに組み込み、視認性を評価した。

【０３２４】下記の方法に従って、低反射フィルムと該
フィルムに支持体として用いられているセルロースエス
テルフィルム各々１枚を偏光板保護フィルムとして用い
て本発明の偏光板を作製した。

【０３２５】（ａ）偏光膜の作製 厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルム
を、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。こ
れをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１０
０ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨ
ウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率
からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥
し長尺の偏光膜を得た。

【０３２６】（ｂ）偏光板の作製 次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と偏光板用保
護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。

【０３２７】工程１：長尺のセルロースエステルフィル
ム１と低反射フィルム１を２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリ
ウム溶液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥
させた。低反射フィルム１の反射防止層を設けた面には
あらかじめ剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付
けて保護した。

【０３２８】同様に長尺のセルロースエステルフィルム
１を２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９
０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。

【０３２９】工程２：前述の長尺の偏光膜を固形分２質
量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸
漬した。

【０３３０】工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の
接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理し
たセルロースエステルフィルム１と低反射フィルム１で
挟み込んで、積層配置した。

【０３３１】工程４：２つの回転するローラにて２０〜
３０Ｎ／ｃｍ²の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合
わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施し
た。

【０３３２】工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作
製した試料を２分間乾燥処理し、本発明の偏光板１を作
製した。

【０３３３】低反射フィルム１を低反射フィルム２〜１
５に代えて一方の偏光板保護フィルムとして用いた以外
は同様にしてそれぞれ偏光板２〜１５を作製した。この
ときもう一方の偏光板保護フィルムにはそれぞれの低反
射フィルムに支持体として用いられているセルロースエ
ステルフィルムを各々使用した。

【０３３４】市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製 カラー
液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１５２
５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を
注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた本発明の偏
光板１〜５又は比較例である偏光板６〜１５を張り付け
た。

【０３３５】上記のようにして得られた液晶パネルを床
から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さ
の天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−
Ｘ松下電器産業（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとし
て１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者
が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上よ
り後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置し
た。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて
蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を
下記のようにランク評価した。

【０３３６】Ａ：もっとも近い蛍光灯の移りこみから気
にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと
読める Ｂ：近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは
気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとか
と読める Ｃ：遠くの蛍光灯の写りこみも気になり、フォントの大
きさ８以下の文字を読むのは困難である Ｄ：蛍光灯の写りこみがかなり気になり、写り込みの部
分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできな
い得られた低反射フィルム１〜１５の各々の物理的特
性、評価結果を表４に示す。

【０３３７】

【表４】

【０３３８】表４から、比較と比べて本発明の試料は、
視認性が高く、反射率も低く、反射光の色むらもなく、
反射防止層と凹凸層との接着性も良好であり、且つ、耐
擦り傷耐性も良好であることが明らかである。

【０３３９】実施例２ 実施例１の低反射フィルム１〜５の作製において、凹凸
層組成物１を下記の凹凸層組成物４に変更した以外は同
様にして低反射フィルム１６〜２０を各々作製した。

【０３４０】同様に凹凸層組成物４を凹凸層組成物５に
変更した以外は同様にして低反射フィルム２１〜２５を
各々作製した。

【０３４１】 （凹凸層組成物４） 合成シリカ粒子（平均粒径０．０１６μｍ） ５質量部 合成シリカ粒子（平均粒径１．８μｍ） ３質量部 ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記記載の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５
０質量％の混合分散液を調製した。

【０３４２】 （凹凸層組成物５） 合成シリカ粒子（平均粒径０．０１２μｍ） １０質量部 ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート １００質量部 ベンゾフェノン（光開始剤） ３質量部 上記記載の材料を酢酸エチル中で高速撹拌して固形分５
０質量％の混合分散液を調製した。

【０３４３】得られた低反射フィルム１６〜２５の各々
を実施例１に記載と同様の方法で評価した。得られた結
果を表５に示す。

【０３４４】

【表５】

【０３４５】表５から、比較と比べて本発明の試料は、
反射率が低減し、色むらも少なく、且つ、視認性も良好
であることが明らかである。又、反射防止層と凹凸層と
の接着性も良好であり、耐擦り傷耐性も良好であった。

【０３４６】実施例３ 実施例１の低反射フィルム１〜５の作製において、凹凸
層組成物１にかえて凹凸層組成物６を用いて、膜厚６μ
ｍの表面微細凹凸構造の凹凸層６を設けた以外は同様に
して、凹凸層の内部のヘイズ及び、反射防止層の表面の
微細な凹凸の平均山谷間隔を表６に記載のように調整し
た低反射フィルム２６〜３０を作製した。

【０３４７】同様に、凹凸層組成物１にかえて凹凸層組
成物７を用いて膜厚６μｍの表面微細凹凸構造の凹凸層
７を設けた以外は同様にして低反射フィルム３１〜３５
を作製した。

【０３４８】（凹凸層組成物６）平均粒径０．５μｍの
合成シリカ微粒子１５部（質量部、以下同じ）、平均粒
径１．４μｍの合成シリカ微粒子１０部（質量部、以下
同じ）、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂１００部
（ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）
９９部、コロネートＬ（ポリイソシアネート化合物：日
本ポリウレタン（株）製）１部）、光重合開始剤（イル
ガキュア１８４ チバガイギー社製）３部を溶剤（酢酸
エチル）にてホモジナイザーにより混合して揮発分濃度
５０％の均質な分散液を調製した。

【０３４９】（凹凸層組成物７）平均粒径２．５μｍの
合成シリカ微粒子５部（質量部、以下同じ）、紫外線硬
化型アクリルウレタン系樹脂１００部（ユニディック１
７−８０６（大日本インキ（株）製）９９部、コロネー
トＬ（ポリイソシアネート化合物：日本ポリウレタン
（株）製）１部）、光重合開始剤（イルガキュア１８４
チバガイギー社製）５部を溶剤（酢酸エチル）にてホ
モジナイザーにより混合して揮発分濃度５０％の均質な
分散液を調製した。

【０３５０】得られた低反射フィルム２６〜３５の各々
を実施例１に記載と同様の方法で反射率、色むら、視認
性を評価した。得られた結果を表６に示す。

【０３５１】

【表６】

【０３５２】表６から、ヘイズが５％〜４０％の範囲で
あり、且つ、反射防止層表面の微細な凹凸の平均山谷間
隔が１μｍ〜８０μｍの範囲にある低反射フィルム試料
２６〜３０は、各々が範囲外である、低反射フィルム３
１〜３５に比べて、反射率がより小さく、色むらが改良
され、且つ、視認性もより優れていることが明らかであ
る。

【０３５３】また、低反射フィルム２６〜３０は、反射
防止層と凹凸層との接着性も良好であり、且つ、耐擦り
傷性についてもＡランクの評価であった。

【０３５４】実施例４ 実施例１の低反射フィルム１〜５の作製において、凹凸
層組成物１にかえて凹凸層組成物８または９を用いて、
膜厚１μｍの表面微細凹凸構造の凹凸層を作製した以外
は同様にして凹凸層の内部のヘイズ及び、該反射防止層
の表面の微細な凹凸の平均山谷間隔を表７に記載のよう
に調整した以外は同様にして、低反射フィルム３６〜４
５を作製した。

【０３５５】（凹凸層組成物８）平均粒径２．５μｍの
球状ポリスチレン微粒子２０質量部、紫外線硬化型アク
リルウレタン系樹脂１００質量部、ベンゾフェノン光重
合開始剤５質量部を溶剤（酢酸エチル）にてホモジナイ
ザーにより混合して揮発分濃度６０％の均質な分散液を
調製し、凹凸層組成物８とした。

【０３５６】（凹凸層組成物９）平均粒径２．５μｍの
球状ポリスチレン微粒子３質量部、紫外線硬化型アクリ
ルウレタン系樹脂１００質量部、ベンゾフェノン光重合
開始剤５質量部を溶剤（酢酸エチル）にてホモジナイザ
ーにより混合して揮発分濃度６０％の均質な分散液を調
製し、凹凸層組成物９とした。

【０３５７】得られた低反射フィルム３６〜４５の各々
を実施例１に記載と同様の方法で反射率、色むら、視認
性を評価した。得られた結果を表７に示す。

【０３５８】

【表７】

【０３５９】表７から、反射防止層表面に平均山谷間隔
が４０μｍ以下、且つ、平均傾斜角５度以上の微細な凹
凸を有する、低反射フィルム試料３６〜４０は、各々が
範囲外である、低反射フィルム４１〜４５に比べて、反
射率がより小さく、色むらが低減し、且つ、視認性がよ
り優れていることが明らかである。

【０３６０】実施例５ （巻きの長さが２０００ｍの低反射フィルム１〜５、２
６〜３０、３６〜４０の作製）実施例１で作製した低反
射フィルム１〜５、実施例３で作製した低反射フィルム
２６〜３０、実施例４で作製した低反射フィルム３６〜
４０について、巻きの長さ２０００ｍのロール状で作製
した。

【０３６１】（低反射フィルム４６〜５２の作製）実施
例１に記載の低反射フィルム１の作製において、支持体
として用いたセルロースエステルフィルム１〜５のナー
リング高さのみを、各々表９に記載のように変更したセ
ルロースエステルフィルム６〜１０を用い、又、セルロ
ースエステルフィルム５，２のナーリング高さのみを、
各々表９に記載のように変更したセルロースエステルフ
ィルム１１，１２を用い巻きの長さを２０００ｍのロー
ル状に調整した以外は同様にして低反射フィルム４６〜
５２を作製した。

【０３６２】（低反射フィルム５３〜５７の作製）次い
で、実施例１に記載の低反射フィルム１〜５の作製にお
いて、支持体としてバックコート層のみを設けないセル
ロースエステルフィルム１３〜１７を用い、巻きの長さ
を２０００ｍのロール状に調整した以外は同様にして低
反射フィルム５３〜５７を作製した。

【０３６３】（低反射フィルム５８、５９の作製）セル
ロースエステルフィルム１の作製において、ドープＣへ
の添加液Ｂ（酸化珪素微粒子分散液Ａを含有）を添加し
ない以外は同様に調製したドープＦを用い、二軸延伸を
行わず、ナーリング高さを表９に記載のように調整し、
バックコート層を設けず、且つ、巻きの長さを２０００
ｍのロール状に調整した以外は同様にしてセルロースエ
ステルフィルム１８、１９を各々作製した。

【０３６４】次いで、低反射フィルム１の作製におい
て、セルロースエステルフィルム１の代わりにセルロー
スエステルフィルム１８または１９を各々用いた以外は
同様にして低反射フィルム５８、５９を作製した。

【０３６５】（保管性評価）上記のようにして作製した
長尺ロール状の低反射フィルム１〜５、２６〜３０、３
６〜４０、４６〜５９について、各々の試料を埃付着防
止のためポリエチレンシートで包んだ後、３５℃、７０
％ＲＨの倉庫で１ヶ月間保管し、１ヶ月経過後の巻きの
状態を目視で観察し、下記のようにランク評価した。

【０３６６】 Ａ：ロールの表面に皺、変形等の変化は認められない Ｂ：ロールの表面に僅かに皺が認められるが、変形は認
められない Ｃ：ロールの表面に弱い皺が認められ、一部に変形も認
められる Ｄ：ロールの表面〜内部に強い皺、表面に強い変形が有
り、内部まで変形有り上記のランクについての実用性判
断は下記の通りである。

【０３６７】Ａは実用上まったく問題なく、Ｂもなんと
か使用できる。Ｃは表面から数巻き分（数ｍ〜数１０ｍ
程度）を切除することによって使用できる。Ｄは巻きの
変形が認められなくなるまで、内部（１００ｍ以上）ま
で切除しなければ使用できない。

【０３６８】得られた結果を表８、表９に示す。

【０３６９】

【表８】

【０３７０】

【表９】

【０３７１】表８、９から、２軸延伸処理したセルロー
スエステルフィルム支持体を用い、膜厚に対して２５％
未満のナーリング高さを設け、且つ、反射防止層が設け
られている支持体の面の反対側の面（裏面）に高さ０．
１μｍ以上の突起を１００μｍ²当たり、１０個〜５０
０個設けられている低反射フィルム１、２、５、２６、
２７、３０、３６、３７、４０、４６、４７、５０、５
１、５２、５３、５４、５７は、上記特性が各々範囲外
の試料に比べて、更に優れた保管性を示すことが明らか
である。また、高い面品質が要求される高精細表示装置
用に用いられる低反射フィルムとして好適であることが
判った。

【０３７２】実施例６ （低反射フィルム６０、６１の作製）実施例１の低反射
フィルム１の作製において、支持体として用いたセルロ
ースエステルフィルム１のナーリング高さのみを表１０
に記載のように変更したセルロースエステルフィルム２
０を使用し、凹凸層組成物１の代わりに凹凸層組成物１
０を用いてｂ面に塗布し、１１５℃で２分間乾燥させた
後、１３０ｍＪ／ｃｍ ²の紫外線を照射して硬化させ、
膜厚４μｍの凹凸層を形成し、且つ、巻きの長さを３０
００ｍのロール状に調整した以外は同様にして、低反射
フィルム６０を作製した。

【０３７３】また、低反射フィルム２の作製において、
セルロースエステルフィルム２のナーリング高さのみを
表１０に記載のように変更して作製したセルロースエス
テルフィルム２１に変更した以外は同様にして低反射フ
ィルム６１を作製した。

【０３７４】（凹凸層組成物１０の調製と凹凸層の塗
設）紫外線硬化型樹脂〔ウレタンアクリレートモノマ
ー〕１００質量部、平均粒子径３．５μｍの球状ポリス
チレン微粒子 １２質量部、ベンゾフェノン系光重合開
始剤５質量部、トルエン１７５質量部を混合・分散し、
凹凸層組成物１０とした。

【０３７５】（低反射フィルム６２、６３の作製）凹凸
層低反射フィルム６０、６１の作製において、凹凸層の
膜厚を、各々３μｍに調整した以外は同様にして、表１
０に記載の低反射フィルム６２、６３を作製した。

【０３７６】（低反射フィルム６４、６５の作製）低反
射フィルム６０の作製において、支持体として実施例１
のセルロースエステルフィルム５の製膜工程において２
軸延伸を行わずに製膜し、且つ、ナーリング高さを０μ
ｍになるように調整し、作製したセルロースエステルフ
ィルム２２を用いた以外は同様にして、低反射フィルム
６４を作製した。

【０３７７】また、低反射フィルム６１の作製におい
て、支持体として実施例１のセルロースエステルフィル
ム４の製膜工程において２軸延伸を行わずに製膜し、且
つ、ナーリング高さを０μｍになるように調整し、作製
したセルロースエステルフィルム２３を用いた以外は同
様にして低反射フィルム６５を作製した。

【０３７８】得られた低反射フィルム６０〜６５の各々
の表面凹凸構造の形状については、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１に規定された表面粗さ曲線から、平均山間隔（Ｓ
ｍ）、中心線平均粗さ（Ｒａ）、十点平均表面粗さ（Ｒ
ｚ）を算出し、表１０に示した。

【０３７９】また、ＪＩＳ Ｋ ７１０５−１９８１に
準じて、６０°光沢度をスガ試験機（株）製（デジタル
変角光沢計ＵＧＶ−５ＤＰ）を用いて測定し、目視によ
りギラツキを評価したところ、低反射フィルム６０〜６
５は、いずれもギラツキは殆どないことが判った。

【０３８０】更に、実施例５に記載と同様にして、保管
性評価を行った。得られた結果を表１０に示す。

【０３８１】

【表１０】

【０３８２】表１０から、２軸延伸処理したセルロース
エステルフィルム支持体を用い、膜厚に対して２５％未
満のナーリング高さを設け、且つ、反射防止層が設けら
れている支持体の面の反対側の面（裏面）に高さ０．１
μｍ以上の突起を１００μｍ ²当たり、１０個〜５００
個設けられている低反射フィルム６０〜６３は、上記特
性が各々範囲外の試料に比べて、更に優れた保管性を示
すことが明らかである。また、高い面品質が要求される
高精細表示装置用に用いられる低反射フィルムとして好
適であることが判った。

【０３８３】実施例７ （各低反射フィルムの作製）実施例２、３、６に記載の
低反射フィルム１６〜２２，２６〜３０、６１、６２の
作製において、塗布時の塗布部及び乾燥ゾーンの露点を
表１１の記載の条件Ａ〜Ｆに変更して、中屈折率層、高
屈折率層、低屈折率層を塗設した以外は同様にして、低
反射フィルム１６Ａ〜１６Ｆ、１７Ａ〜１７Ｆ、１８Ａ
〜１８Ｆ、１９Ａ〜１９Ｆ、２０Ａ〜２０Ｆ、２１Ａ〜
２１Ｆ、２２Ａ〜２２Ｆ、２６Ａ〜２６Ｆ、２７Ａ〜２
７Ｆ、２８Ａ〜２８Ｆ、２９Ａ〜２９Ｆ、３０Ａ〜３０
Ｆ、６１Ａ〜６１Ｆ、６２Ａ〜６２Ｆを作製した。な
お、塗布部の温度は２４℃とした。

【０３８４】（クラック耐性及びブラッシング耐性の評
価）上記作製した各試料を、１１０℃で２４時間保存し
た後、下記に記載の方法に従ってクラック耐性及びブラ
ッシング耐性の評価を行った。

【０３８５】１１０℃で２４時間保存した各試料３０ｃ
ｍ×３０ｃｍの表面を、光学顕微鏡（ミツトヨ社製 Ｍ
Ｆ−ＵＮ１０２０ＴＨＤ）を用いて、垂直反射照明を使
用し、対物レンズ×２０の条件で観察して表面に発生し
た微小クラックの評価を行い、あわせて目視観察による
ブラッシング（試料の白濁化）を評価し、下記に記載の
基準に則り判定した。

【０３８６】５：ブラッシング、クラック共に全く発生
が認められない ４：ブラッシングの発生はないが、部分的に極微小のク
ラックが認められる ３：ブラッシングの発生はないが、細い線状のクラック
が発生している ２：ブラッシングの発生はないが、強い線状のクラック
が発生している １：ブラッシングの発生はないが、全面に強いクラック
が発生している ×：全面にブラッシングが発生している 以上により得られた結果を表１１に示す。

【０３８７】

【表１１】

【０３８８】表１１より明らかなように、低反射フィル
ム塗布、乾燥時の露点温度として、５℃以上、１５℃以
下の条件とすることにより、反射防止層を形成したフィ
ルムのブラッシングの発生が無く、またクラックの発生
が低減し、高温保存下での安定性に優れていることが分
かる。

【０３８９】実施例８ 実施例１、２、３、６で作製したそれぞれの低反射フィ
ルム１〜５、１６〜２２、２６〜３０、６１、６２を用
いて、以下の条件Ｇ〜Ｊで処理した後、９０℃で５００
時間保存し、高温保存時のクラック耐性の評価を行っ
た。なお、処理Ｈ及びＩについては、押し出しコーター
室の湿度条件をコントロールした。

【０３９０】（処理条件） Ｇ：処理なし Ｈ：温度＝４０℃、相対湿度＝８０％、処理時間＝１６
８時間 Ｉ：温度＝５０℃、相対湿度＝８０％、処理時間＝２４
時間 Ｊ：温度＝９０℃、相対湿度：湿度調節なし、処理時
間：１時間 （クラック耐性の評価）各試料を、９０℃で５００時間
保存した後、その試料３０ｃｍ×３０ｃｍの表面を、光
学顕微鏡（ミツトヨ社製 ＭＦ−ＵＮ１０２０ＴＨＤ）
を用い、垂直反射照明、対物レンズ×２０の条件で観察
し、下記の基準に則り高温保存後のクラック耐性の評価
を行った。

【０３９１】 ５：クラックの発生が、全く認められない ４：僅かに微小クラックの発生が認められる ３：細い線状の微小クラックの発生が認められる ２：部分的に強い線状のクラックの発生が認められる １：強いクラックが全面に発生している 以上により得られた結果を表１２に示す。

【０３９２】

【表１２】

【０３９３】表１２よりあきらかなように、低反射フィ
ルムを高温又は高湿下で加熱することにより、高温耐久
性が向上し、微小クラックの発生を抑制することができ
た。

【０３９４】

【発明の効果】本発明により、視認性が高く、反射防止
層と凹凸層との接着性が良好であり、塗設時の塗布ムラ
もなく、且つ、耐擦り傷性、高温耐久性も良好な低反射
フィルム、その製造方法、それを用いた偏光板及び表示
装置を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセルロースエステルフィルムを製造す
る装置の模式図である。

【符号の説明】

１ エンドレスステンレスベルト ２ ダイ ３、４ 乾燥ゾーン ５ 流延部 ６ 剥離部 ７ 剥離ロール ８ 第１乾燥ゾーン ９ 搬送ロール １０ 第２乾燥ゾーン １１ 第３乾燥ゾーン １２ 巻き取り部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA12 BA20 2H049 BA02 BA27 BB33 BB43 BB63 BB65 BB67 BC09 BC22 2H091 FA08 FA16 FB02 FC09 FC11 FC29 FC30 LA03 LA11 LA12 LA13 LA16 2K009 AA06 AA07 BB28 CC02 CC03 CC26 CC42 DD02 DD08 DD09 EE03 4F100 AJ06A AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA10E DD07B DD07E DE01B EA02A EH46 EH462 EJ38 EJ382 EJ86 EJ862 GB41 JJ03 JK09 JN01B JN06 JN06C JN06D JN18C JN18D YY00B YY00C YY00D

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の一方の面に、表面に微細な凹凸
   を有する凹凸層を有し、該凹凸層が平均粒径０．０１μ
   ｍ〜４μｍの粒子を１種以上含有し、且つ、前記凹凸層
   上に屈折率１．５５〜２．５の高屈折率層と屈折率１．
   ３〜１．５の低屈折率層を各々１層以上含む反射防止層
   を有し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される該反射防止
   層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ〜０．５μ
   ｍであることを特徴とする低反射フィルム。
2. 【請求項２】 反射防止層が、屈折率１．５５〜１．８
   ５未満の中屈折率層、屈折率が１．８５〜２．５の高屈
   折率層を有することを特徴とする請求項１に記載の低反
   射フィルム。
3. 【請求項３】 反射防止層表面の微細な凹凸が、隣接す
   る凹部底を基準とした高さが０．５μｍ〜２μｍである
   凸部を１００μｍ²あたり５〜２０個有する微細構造と
   して形成されていることを特徴とする請求項１または２
   に記載の低反射フィルム。
4. 【請求項４】 反射防止層表面が、表面の平均水準を基
   準とした高さが０．２μｍ以上の凸部を１００μｍ²あ
   たり８０個以上有する微細構造を有することを特徴とす
   る請求項３に記載の低反射フィルム。
5. 【請求項５】 凹凸層の内部がヘイズ５％〜４０％の光
   拡散性を有し、反射防止層表面の微細な凹凸の平均山谷
   間隔が１μｍ〜８０μｍであることを特徴とする請求項
   １〜４のいずれか１項に記載の低反射フィルム。
6. 【請求項６】 反射防止層表面に平均山谷間隔４０μｍ
   以下、且つ、平均傾斜角５度以上の微細な凹凸を有する
   ことを特徴とする請求項５に記載の低反射フィルム。
7. 【請求項７】 支持体が少なくとも幅手方向に延伸され
   たセルロースエステルフィルムであることを特徴とする
   請求項１〜６のいずれか１項に記載の低反射フィルム。
8. 【請求項８】 支持体が溶液流延製膜工程で２軸延伸さ
   れたセルロースエステルフィルムであることを特徴とす
   る請求項７に記載の低反射フィルム。
9. 【請求項９】 反射防止層が設けられている支持体の面
   の反対側の面が高さ０．１μｍ以上の突起を１００μｍ
   ²あたり１０個〜５００個有することを特徴とする請求
   項７または８に記載の低反射フィルム。
10. 【請求項１０】 支持体の膜厚が１０μｍ〜１００μｍ
    で、２５℃、９０％ＲＨにおける透湿性が、２００ｇ／
    ｍ²・２４時間以下であることを特徴とする請求項７〜
    ９のいずれか１項に記載の低反射フィルム。
11. 【請求項１１】 支持体が長尺フィルムであり、且つ、
    該長尺フィルムの幅手両端部に膜厚の２５％以下のナー
    リング加工が施されていることを特徴とする請求項７〜
    １０のいずれか１項に記載の低反射フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の低反射フィルムを有することを特徴とする偏光板。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の低反射フィルムを有することを特徴とする表示装置。
14. 【請求項１４】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の低反射フィルムの製造方法であって、露点５〜１６℃
    の雰囲気下で支持体上に直接又は他の層を介して反射防
    止層を塗布することを特徴とする低反射フィルムの製造
    方法。
15. 【請求項１５】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の低反射フィルムの製造方法であって、支持体の構成成
    分及び溶媒を含むドープを溶液流延製膜法を用いてウェ
    ブ（ドープ膜）を形成させ、該ウェブ中の残留溶媒量を
    ３質量％〜４０質量％に調整しながら前記ウェブを幅手
    方向に１．０１倍〜１．５倍に延伸した後、幅手両端部
    に膜厚の２５％以下のナーリング加工を施す工程を経て
    作製した支持体上に凹凸層を設け、更にその上に露点５
    〜１６℃の雰囲気下で反射防止層を設けることを特徴と
    する低反射フィルムの製造方法。
16. 【請求項１６】 残留溶媒量が３質量％〜４０質量％の
    ときに幅手方向に１．０１倍〜１．５倍、長手方向に
    １．０１倍〜１．５倍に２軸延伸することを特徴とする
    請求項１５に記載の低反射フィルムの製造方法。
17. 【請求項１７】 支持体の一方の面に、表面に微細な凹
    凸を有する凹凸層を有し、該凹凸層を有する面の反対側
    の面に高さ０．１μｍ以上の突起が１００μｍ²あたり
    １０個〜５００個設けられているフィルムの該凹凸層上
    に反射防止層を設ける工程を有することを特徴とする請
    求項１４〜１６のいずれか１項に記載の低反射フィルム
    の製造方法。
18. 【請求項１８】 請求項１４〜１７のいずれか１項に記
    載の製造方法により製造されたことを特徴とする低反射
    フィルム。
19. 【請求項１９】 請求項１８に記載の低反射フィルムを
    有することを特徴とする偏光板。
20. 【請求項２０】 請求項１８に記載の低反射フィルムを
    有することを特徴とする表示装置。