JP2003211824A - 空隙型インクジェット受像層、インクジェット記録材料及びその製造方法 - Google Patents
空隙型インクジェット受像層、インクジェット記録材料及びその製造方法Info
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Abstract
することが可能で、インク吸収量が大きい高空隙型イン
クジェット受像層を提供することであり、それにより優
れたインクジェット記録材料を提供する。 【解決手段】 一次粒子径が5〜20nmである気相法
シリカからなる粒子と湿式沈降法シリカからなる粒子を
含有し、光散乱法により測定された粒子径が50〜10
00nmである粒子を含有する塗布液を用いて形成され
たことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。
Description
材料に関し、特に空隙型インクジェット受像層を有する
インクジェット記録材料及びその製造方法に関するもの
である。
ンクジェット記録材料は高速のインクジェットプリント
に適し、ドットの形状が真円に近く、高画質が得られる
ことが知られている。
は、通常気相法により形成された非常に微粒子のシリカ
を用いて形成される。気相法によるシリカは、コロイダ
ルシリカや液相法によるシリカに比べて非常にコストが
高いという問題があり、いかに少ない量で高いインク吸
収性を得ることができるかという技術課題があった。ま
た、気相法シリカは非常に微粒子であること及び表面が
活性なことから、凝集性が強く、塗布液の濃度を上げる
と凝集してしまい、送液ができなかったり、塗布ムラが
生じてしまうと言う問題が発生し、塗布液の濃度を高く
することができなかった。同じインク吸収量を得るた
め、大量の水を含有する塗布液を、wet膜厚を厚く塗
布しなければならず、同じ乾燥能力の工程では、塗布速
度を上げることができず、又蒸発速度を上げようとする
と細かなひび割れが発生すると言う問題があった。
開2001−105720には、気相法シリカとコロイ
ダルシリカを用い、混合して水に分散させた後、5日以
上経過させた後、水溶性ポリマーを加えて得られた塗布
液を支持体上に塗布する方法が記載されている。確かに
上記方法により、初期の粘度の上昇も収まり、安定し
た、塗布可能な粘度となり、それにより形成された空隙
型インクジェット受像層は十分な空隙を有するものであ
った。
ればならないと言う点では、分散物を5日間停滞させる
ための製造スペースが必要となり、連続生産しようとす
る場合は特に大きな問題であり、また、塗布液の濃度を
高濃度に調製することは難しく、製造工程としては負荷
が大きく、コストアップの要因となるものであった。
は、短時間に、低コストで高濃度の塗布液を調製するこ
とが可能で、インク吸収量が大きい高空隙型インクジェ
ット受像層を提供することであり、それにより優れたイ
ンクジェット記録材料を提供することである。
により解決することができた。
相法シリカからなる粒子と湿式沈降法シリカからなる粒
子を含有し、光散乱法により測定された粒子径が50〜
1000nmである粒子を含有する塗布液を用いて形成
されたことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。
0〜1000nmであることを特徴とする(1)記載の
空隙型インクジェット受像層。
粒径が20〜100nmであることを特徴とする(1)
又は(2)記載の空隙型インクジェット受像層。
カ質量の比が0.1〜1.0の範囲であることを特徴と
する(1)〜(3)の何れか1項記載の空隙型インクジ
ェット受像層。
析)測定において、200〜400℃にピークを有する
ことを特徴とする(1)〜(4)の何れか1項記載の空
隙型インクジェット受像層。
トルにおける、3200cm-1と1600cm-1との吸
収比率(A3200/A1600)が2.0〜6.0であること
を特徴とする(1)〜(5)の何れか1項記載の空隙型
インクジェット受像層。
載の空隙型インクジェット受像層を支持体上に有するこ
とを特徴とするインクジェット記録材料。
録材料を製造する方法において、気相法シリカ及び湿式
沈降法シリカを含有し、固形分濃度が12〜40質量%
の塗布液を塗布乾燥することを特徴とするインクジェッ
ト記録材料の製造方法。
・s(5000〜10000/sの剪断速度において)
であることを特徴とする(8)記載のインクジェット記
録材料の製造方法。
明に用いられる気相法シリカ、湿式沈降法シリカについ
て説明する。気相法シリカとは、二酸化ケイ素を主体と
する合成ケイ素化合物である合成シリカの中で、四塩化
ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作るいわゆる乾式
法または気相法により合成される超微粒子シリカであ
る。気相法シリカの1次粒子径は5〜20nmである。
このような気相法シリカとしては、日本アエロジル社の
AEROSILシリーズやトクヤマ社のレオロシールシ
リーズなどがある。
(示差熱分析)測定において、200〜400℃にピー
クを有することが好ましい。この範囲にピークを有する
と言うことは、活性なシラノール基を有することを表
し、水に分散する際、粒子表面の活性なOH基が互いに
水素結合を形成して、大きな2次粒子を形成することが
できる。このようにして形成された2次粒子中には空隙
が形成され、空隙型インクジェット受像層として機能す
るものである。しかしながら、この2次粒子を形成する
過程で分散液が高粘度化したりゲル化したりするが、あ
る時間経過すると粘度の変化も少なくなり安定状態(安
定な結合状態)となるという特性を示す。
て、空隙を効率的につくると共に、如何に安定化するま
での時間を短縮し、且つ高濃度化し得るかを検討したも
のである。
トルにおける、3200cm-1と1600cm-1との吸
収比率(A3200/A1600)が2.0〜6.0であること
が好ましい。このような吸収比率を有するものとは、安
定なSiOSi結合に対し活性なSiOH(シラノー
ル)の存在比率が高いことを表すもので、表面に活性な
シラノール基を有するものは水素結合を形成しやすく、
凝集を起こし易いものである。
形成するためには、非常に扱い難いものであったが、本
発明においては、この活性なOH基を利用して、凝集し
易い気相法シリカを少量使い、次に示す湿式沈殿法シリ
カを比較的多く用いることにより、適度な凝集性を有
し、分散液の安定化迄の時間が短く、且つ高濃度に調製
し、塗布乾燥負荷の少ない、インクジェット記録材料の
製造方法を提供するものである。
湿式沈降法シリカとは、可溶性ケイ酸塩の水溶液を酸で
処理して形成したものである。
本シリカ工業社製 Nipsil、トクヤマ社製 Fi
nesil、富士シリシア化学社製 Sylycia、
水沢化学工業社製 Mizukasil、シオノギ製薬
社製 Carplex等が挙げられ、市販品として入手
することができる。
リカとを水媒体中で、活性剤、バインダ等と分散して塗
布液を形成する。形成された塗布液中のシリカの2次粒
子径としては、光散乱法による粒子径は50〜1000
nmであることが好ましい。光散乱法による粒子径の測
定方法としては、堀場製作所製動的光散乱方式の粒度分
布計LB−500等で測定することが可能である。
インクジェット受像層には、記録後の耐水性、滲み耐性
を向上させるためにカチオン性ポリマーを含有すること
をが好ましい。カチオン性ポリマーとしては公知のカチ
オン性ポリマーの中から任意に選択して使用することが
出来る。
ましくは第4級アンモニウム塩基を有するポリマーであ
り、さらに好ましくは第4級アンモニウム塩基を有する
モノマーの単独重合体または他の共重合し得る1または
2以上のモノマーとの共重合体である。特に好ましいく
は、重量平均分子量が2000〜10万のものである。
第4級アンモニウム塩基を有するモノマーの例として
は、例えば、以下の例を挙げることができる。
ノマーと共重合し得るモノマーとしてはエチレン性不飽
和基を有する化合物が挙げられ、例えば、以下の具体例
を挙げることができる。
チオン性ポリマーが共重合体である場合、用いるカチオ
ン性モノマーの比率は10モル%以上あることが好まし
く、より好ましくは20モル%以上、特に好ましくは3
0モル%以上である。第4級アンモニウム塩基を有する
モノマーは単一で用いても2種類以上を併用してもよ
い。以下に本発明のカチオン性ポリマーの具体例を挙げ
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
オン性ポリマーは第4級アンモニウム塩基を有するため
に水溶性が一般に高いが、共重合する第4級アンモニウ
ム塩基を含まないモノマーの組成や比率によっては水に
充分に溶解しないものもある。しかし、これらのポリマ
ーであっても、水混和性有機溶媒と水との混合溶媒に溶
解し得るものであれば本発明に使用することができる。
また、カチオン性ポリマーとして、第4級アンモニウム
塩構造を有するシランカップリング剤を加水分解して、
重縮合させたものも使用することもできる。
タノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパ
ノールなどのアルコール類、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリンなどのグリコール類、酢
酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルホル
ムアミド等のアミド類などで、水に対して通常10%以
上溶解し得る有機溶媒をいう。水混和性有機溶媒の使用
量は水の使用量以下であることが好ましい。
均分子量(Mn)が10万以下であることが好ましい。
ここで数平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC)から求められたポリエチレング
リコール値に換算した値である。
カチオン性ポリマーの溶液を表面がアニオン性である無
機微粒子を含有する分散液に添加した際に、凝集物の発
生が激しく、また、その後分散処理を施しても均一な分
散液になりにくく、粗大粒子が多数存在して均一な分散
液になりにくい。特に好ましい数平均分子量は5万以下
である。カチオン性ポリマーの数平均分子量は、染料を
カチオン性ポリマーに吸着させてにじみや水による染料
の流出を防ぐという点からすると通常2000以上とす
ることが好ましい。
シリカを徐々に添加することで、液全体が常にカチオン
性を維持されるため安定した分散液が得られ好ましい。
この際、湿式沈降法シリカを添加する過程では十分な攪
拌を行うことが好ましく、場合によっては、添加中また
は添加後に分散機を併用するなどするのが生産効率上好
ましい。
分散機、媒体攪拌型分散機(ボールミル、サンドミルな
ど)、超音波分散機、コロイドミル分散機、ロールミル
分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用す
ることができるが、本発明では形成されるダマ状微粒子
の分散を効率的に行うという点から超音波分散機または
高圧分散機が好ましく用いられる。
超音波を照射し、固液界面にエネルギーを集中させるこ
とで分散するものであり非常に効率的に分散されるが、
大量の分散液を調製する必要がある場合にはあまり適当
ではない。一方、高圧分散機は3個または5個のピスト
ンを持った高圧ポンプの出口に、ねじまたは油圧によっ
てその間隙を調整できるようになっている均質バルブを
1個または2個備えられたものであり、高圧ポンプによ
り送液された液媒体が均質バルブによりその流れが絞ら
れて圧力がかかり、この均質バルブを通過される瞬間に
微小なダマ物質が粉砕される。
散できるために、多量の液を製造する場合特に好ましい
方法である。均質バルブに加えられる圧力は通常5〜1
00MPaであり、分散は1回のパスで済ますことも多
数回繰り返して行うことも出来る。
法シリカ質量/湿式沈降法シリカ質量の比が0.1〜
1.0の範囲であることが好ましい。このような範囲と
することにより、コストの高い気相法シリカを少量使
い、効率的に空隙を形成し、且つ短時間に安定な塗布液
を形成することが可能となる。
濃度は、12〜40質量%であることが好ましい。比較
的高濃度に形成することができ、製造工程の負荷を軽減
し、生産性の向上を図ることが可能である。
a・s(5000〜10000/sの剪断速度におい
て)であることが好ましく、本発明の方法により比較的
高濃度であっても低粘度で塗布し易い塗布液とすること
が可能である。
加剤を添加して調製することが出来る。例えば、ノニオ
ン性またはカチオン性の各種の界面活性剤(アニオン性
界面活性剤は凝集物を形成するために好ましくない)、
消泡剤、ノニオン性の親水性ポリマー(例えば、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレン
オキサイド、ポリアクリルアミド、各種の糖類、ゼラチ
ン、プルラン等)、ノニオン性またはカチオン性のラテ
ックス分散液、水混和性有機溶媒(酢酸エチル、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、アセトンなど)、無機塩類、pH調整剤など、必要
に応じて適宜使用することができる。
おいては、インク吸収層の架橋による造膜性を上げるた
めにインク吸収層中にホウ酸および/またはホウ酸塩を
含有するのが好ましい。ホウ酸もしくはその塩として
は、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のこ
とを示し、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタ
ホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸及びそれらの塩
が含まれる。これらのホウ酸またはその塩は、記録材料
1m2当たり0.05〜2g、好ましくは0.1〜1g
の範囲で用いられる。
れる支持体としては非吸水性支持体が好ましく、透明支
持体であっても不透明支持体であってもよい。透明支持
体としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ジアセテー
ト系樹脂、トリアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、セロハン、セルロイド等の材料からなるフ
ィルム等が挙げられる。
た時には、輻射熱に耐える性質を有する支持体が好まし
く、ポリエステル系樹脂、特に、コストの点からポリエ
チレンテレフタレートが好ましい。このような透明な支
持体においては、厚さとしては、約10〜200μmが
好ましい。
紙の少なくとも一方に白色顔料等を添加したポリオレフ
ィン樹脂被覆層を有する樹脂被覆紙(所謂RCペーパ
ー)、ポリエチレンテレフタレート(PET)に硫酸バ
リウム、酸化チタン等の白色顔料を添加してなる所謂ホ
ワイトPETが好ましい。支持体に色材受像層を設ける
場合、支持体と色材受像層との接着強度を大きくする等
の目的で、色材受容層の塗布に先立って、支持体にコロ
ナ放電処理や下引処理等を行うことが好ましい。更に、
本発明のインクジェット記録材料は、必ずしも無色であ
る必要はなく、着色されていてもよい。
て、支持体として原紙の両面をポリエチレンでラミネー
トした紙支持体を用いことは、記録画像が写真画質に近
く、しかも、低コストで高品質の画像が得られるために
特に好ましい。
た紙支持体について説明する。紙支持体に用いられる原
紙は、木材パルプを主原料とし、必要に応じてポリプロ
ピレン等の合成パルプあるいはナイロンやポリエステル
等の合成繊維を加えて抄紙することによって得られる。
木材パルプとしては、LBKP、LBSP、NBKP、
NBSP、LDP、NDP、LUKP、NUKPの何れ
も用いることができるが、短繊維分の多いLBKP、N
BSP、LBSP、NDP、LDPをより多く用いるこ
とが好ましい。ただし、LBSP及び/またはLDPの
比率は10〜70質量%が好ましい。パルプとしては、
不純物の少ない化学パルプ(硫酸塩パルプや亜硫酸塩パ
ルプ)が好ましく用いられ、また、漂白処理を行って白
色度を向上させたパルプも有用である。
ダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化
チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白
剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散
剤、4級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加する
ことができる。
の規定で200〜500mlが好ましく、また、叩解後
の繊維長は、JIS P 8207に規定される24メ
ッシュ残分質量%と42メッシュ残分質量%との和で示
した場合、30〜70%であることが好ましい。なお、
24メッシュ残分の質量%は20質量%以下であること
が好ましい。原紙の坪量は30〜250gが好ましく、
特に50〜200gが好ましい。原紙の厚さは40〜2
50μmが好ましい。
ー処理して高平滑性を与えることもできる。原紙密度は
0.7〜1.2g/m2(JIS P 8118)が一
般的である。更に、原紙剛度はJIS P 8143に
規定される条件で0.2〜2Nが好ましい。原紙表面に
は表面サイズ剤を塗布してもよく、表面サイズ剤として
は、前記原紙中添加できるサイズ剤と同様のサイズ剤を
使用できる。原紙のpHは、JIS P 8113で規
定された熱水抽出法により測定された場合、5〜9であ
ることが好ましい。
エチレンは、主として低密度ポリエチレン(LDPE)
及び/または高密度ポリエチレン(HDPE)である
が、他のLLDPEやポリプロピレン等も一部使用する
ことができる。特に、インク受容層側のポリエチレン層
は、写真用印画紙で広く行われているようにルチルまた
はアナターゼ型の酸化チタンをポリエチレン中に添加
し、不透明度及び白色度を改良したものが好ましい。酸
化チタン含有量は、ポリエチレンに対して概ね3〜20
質量%、好ましくは4〜13質量%である。
ることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融、押
し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理を
行って、通常の写真印画紙で得られるようなマット面や
絹目面を形成しても用いることができる。原紙の表裏に
設けるポリエチレンの使用量は、インク受容層やバック
層を設けた後で低湿及び高湿化でのカールを最適化する
ように選択されるが、概ねインク受容層側のポリエチレ
ン層が20〜40μm、バック層側が10〜30μmの
範囲である。
の特性を有していることが好ましい。 1)引っ張り強さ:JIS P 8113で規定される
強度で縦方向が20〜300N、横方向が10〜200
N 2)引き裂き強度:JIS P 8116による規定方
法で縦方向が0.1〜2N,横方向が0.2〜2N 3)弾性:圧縮弾性率≧10MPa 4)面ベック平滑度:JIS P 8119に規定され
る条件で20秒以上(光沢面)、型付け品ではこれ以下
も可 5)不透明度:直線光入射/拡散光透過条件の測定条件
で、可視域の光線での透過率が20%以下(特に15%
以下)。
て、受像層に褪色防止剤として水溶性還元剤、含硫黄化
合物または疎水性酸化防止剤の乳化分散物を添加するこ
ともできる。上記水溶性還元剤は、特開平8−3008
07号公報、同8−150773号公報、同8−108
617号公報、同9−267544号公報等に記載され
ており、例えば、亜硫酸塩、亜硝酸塩、亜燐酸塩、チオ
硫酸塩、アスコルビン酸またはその塩、ヒドロキシルア
ミン誘導体(例えば、N,N−ジエチルヒドロキシルア
ミン、N,N−ジスルホエチルヒドロキシルアミン・ナ
トリウム塩、N−ヒドロキシフタルイミド、N,N−ジ
カルボキシエチルヒドロキシルアミン・ナトリウム塩
等)、グルコース等が挙げられる。
279号公報、同61−163886号公報、同64−
36479号公報、特開平7−314883号公報、同
7−314882号公報、同1−115677号公報等
に記載されており、例えば、チオシアン酸塩、チオ尿
素、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプ
トベンズチアゾール、2−メルカプトベンズオキサゾー
ル、5−メルカプト−1−メチルテトラゾール、2,5
−ジメルカプト−1,3,4−トリアゾール、2,4,
6−トリメルカプトシアヌル酸、チオサリチル酸、チオ
ウラシル、1,2−ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)
エタン等が挙げられる。疎水性酸化防止剤としては、例
えば、特開昭57−74192号公報、同57−879
89号公報、特開平1−115667号公報、同3−1
3376号公報等に記載されているような公知の酸化防
止剤が使用できる。特に好ましい酸化防止剤は、水酸基
のオルト位の少なくとも一方が3級アルキル基で置換さ
れている所謂ヒンダードフェノール系酸化防止剤、窒素
原子に連結する二つの炭素原子がアルキル基で共に置換
されているピペリジン系酸化防止剤(所謂ヒンダードア
ミン類)、フェノール類またはポリヒドロキシベンゼン
類の少なくとも一つの水酸基がアルキル基によりエーテ
ル化されている酸化防止剤である。
沸点有機溶媒(ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジ
−i−デシルフェタレート、トリクレジルホスフェー
ト、トリ−2−エチルヘキシルホスフェート等)と共に
親水性バインダー中に乳化分散された状態で添加され
る。この疎水性酸化防止剤をアセトンやメタノール等の
有機溶媒に溶解して添加したり、あるいは湿式粉砕法で
添加した場合には、褪色防止の持続効果が小さい。
は、質量比で概ね1:5〜10:1である。また、印字
後のにじみを防止する目的で水溶性多価金属イオンを含
有してもよい。
としては、2〜4価の多価金属イオンが挙げられ、具体
的には、Ca2+、Mg2+、Zn2+、Cu2+、Fe3+、N
i2+、Co2+、Al3+等が挙げられるが、特に、C
a2+、Mg2+、Zn2+、Al3+が好ましい。多価金属イ
オンの添加量は、記録材料1m2当たり概ね0.1〜1
0ミリモルである。0.1ミリモル未満の場合は効果が
少なく、また、10ミリモルを超えると染料の凝集が促
進され、表面でのブロンジング現象を起こし易くなる。
特に好ましいのは0.2〜2ミリモルである。本発明の
インクジェット記録材料に設けられる受像層及び必要に
応じて設けられるその他の層には、前記した以外に各種
の添加剤を添加することができる。
レン、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタクリル酸エ
ステル類、ポリアクリルアミド類、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ま
たはこれらの共重合体、尿素樹脂、またはメラミン樹脂
等の有機ラテックス微粒子;カチオンまたはノニオンの
各種界面活性剤;特開昭57−74193号公報、同5
7−87988号公報及び同62−261476号公報
に記載の紫外線吸収剤;特開昭57−74192号公
報、同57−87989号公報、同60−72785号
公報、同61−146591号公報、特開平1−950
91号公報及び同3−13376号公報等に記載されて
いる褪色防止剤;特開昭59−42993号公報、同5
9−52689号公報、同62−280069号公報、
同61−242871号公報及び特開平4−21926
6号公報等に記載されている蛍光増白剤;硫酸、燐酸、
枸櫞酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム等のpH調整剤;消泡剤、防腐剤、増粘剤、帯電防
止剤、マット剤等の公知の各種添加剤が挙げられる。多
孔質の受像層は2層以上から構成されてもよく、この場
合、これら2層以上の層の構成はお互いに同じであって
も異なっていてもよい。
及び下引層、その他、必要に応じて適宜設けられる各種
の親水性層の支持体上への塗布には、公知の塗布方法を
適宜選択して用いることができる。好ましい方法は、各
層を構成する塗布液を支持体上に塗設、乾燥する方法で
ある。この場合、2層以上を同時に塗布することもで
き、特に、全ての親水性バインダー層を1回の塗布で済
ます同時塗布が好ましい。
ィング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコー
ティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方
法または米国特許2,681,294号明細書に記載の
ホッパーを使用するエクストルージョンコート法が好ま
しく用いられる。
録材料の受像層表面の気相法シリカ及び湿式沈降法シリ
カからなるシリカ粒子の電子顕微鏡で観察したときの粒
径が20〜100nmであることが好ましい。
は、電子顕微鏡写真を用い、少なくとも100個のサン
プリングを行い、その粒径の平均値から求めることがで
きる。
するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
平均粒径9μmのNipsil LP(日本シリカ工業
社製、1次粒子径:16nm)(湿式沈降法シリカ)を
用い、水を加えてサンドグラインダーにより分散した
後、超音波をかけ、平均粒子径が500nmになるまで
サンドグラインダーと超音波の分散操作を繰り返し、3
5質量%の水分散液Aを調製した。
製)上記で得られた水分散液A571g中に、AERO
SIL300(1次粒子径7nm)(日本アエロジル社
製)(気相法シリカ)50gを高速回転式コロイドミル
(エム・テクニック(株)製、クレアミックス)にて1
0000rpmで20分間分散した後、35質量%の固
形分濃度に純水で仕上げ、混合シリカ分散液B1を調製
した。
カ分散液B2、B3、B5の調製)実施例1の混合シリ
カ分散液B1の調製に用いた水分散液Aの量及びAER
OSIL300(気相法シリカ)の量を表1記載となる
ようにした以外は実施例1と同様にして実施例2、3及
び比較例1の各混合シリカ分散液B2、B3、B5を調
製した。
製)実施例1の混合シリカ分散液B1の調製に用いたA
EROSIL300(気相法シリカ)に代えてAERO
SIL200(気相法シリカ、日本アエロジル社製、一
次粒子径12nm)を用いた以外は混合シリカ分散液B
1と同様にして混合シリカ分散液B4を調製した。
60mlの純水にAEROSIL300(気相法シリ
カ)200gを高速回転式コロイドミル(エム・テクニ
ック(株)製、クレアミックス)にて10000rpm
で20分間分散した後、35質量%の固形分濃度に純水
で仕上げ、気相法シリカからなる分散液B6を調製し
た。
L300及び200は、DSC(セイコーインスツルメ
ンツ社製DSC6200、25〜500℃、10℃/m
in)を測定した結果、何れも200〜400℃にピー
クを有するものであった。
リカと湿式沈降法シリカの固形分量を表1に示した。
記各シリカ分散液B1〜B6の400mlを、カチオン
性ポリマーP−1を12%、n−プロパノールを10%
およびエタノールを2%含有する水溶液C1(pH=
2.5、サンノブコ社製の消泡剤SN381を2g含
有)の110mlに、室温で3000rpmで攪拌しな
がら添加した。次いで、ホウ酸とほう砂の1:1質量比
の混合水溶液E1(各々3%の濃度)の54mlを攪拌
しながら徐々に添加した。
ナイザーで、3000N/cm2の圧力で分散し、全量
を純水で630mlに仕上げ、ほぼ透明なシリカ分散液
D1〜D6を得た。
mの濾過精度を有するアドバンテック東洋社製のTCP
−30タイプのフィルターを用いて濾過を行った。
場合は、高粘度で塗布が不能であった。
mの濾過精度を持つアドバンテック東洋社製のTCPD
−30フィルターで濾過した後、TCPD−10フィル
ターで濾過した。得られた各塗布液の光散乱法による平
均粒子径及び塗布液の粘度を表2に示す。
製作所製動的光散乱方式の粒度分布計LB−500で測
定した。
被覆した紙支持体(厚み220μm:受像層面のポリエ
チレン中にはポリエチレンに対して13質量%のアナタ
ーゼ型酸化チタンを含有)に、上記塗布液を湿潤膜厚で
110μmになるように塗布し、インクジェット記録材
料を得た。塗布は塗布液を40℃に加温し、カーテンコ
ータにより、230m/分の塗布スピードで塗布を行
い、塗布直後に0℃に保たれた冷却ゾーンで20秒間冷
却した後、20〜30℃の風で60秒間、45℃の風で
60秒間、50℃の風で60秒間順次乾燥して行なった
後、ロール状に巻き取って各インクジェット記録材料を
得た。
長さが約4000mのロール状に巻かれた下記の支持体
を用いた。
量が170gの写真用原紙表面を、アナターゼ型酸化チ
タンを6%含有するポリエチレンを厚さ35μmで押し
出し溶融塗布し、裏面には厚さ40μmのポリエチレン
を押し出し溶融塗布した。表面側は、コロナ放電した
後、ポリビニルアルコール(クラレ社製 PVA23
5)を記録媒体1m2当たり0.05gになるように下
引き層を塗布し、裏面側にはコロナ放電加工した後、T
gが約80℃のスチレン・アクリル酸エステル系ラテッ
クスバインダー約0.4g、帯電防止剤(カチオン性ポ
リマー)0.1gおよび約2μmのシリカ0.1gをマ
ット剤として含有するバック層を塗布した。
により、ひび割れ、塗布性、表面光沢性の評価を行っ
た。評価結果を表3に示す。
りのひび割れ発生個数を計測し、その数値から3段階評
価した。
インクジェットプリンターPM770Cを用い、反射濃
度が約1.0のニュートラルグレー色を全面ベタ印字し
て、下記に示す基準に則り、ムラの有無を目視で5段階
評価した。
問題ないレベル △:ムラがベタ印字ではっきりわかる程度であるが、実
際のプリントでは殆ど問題ないレベル ×:グレーの色ムラが認められ、実技上許容され得ない
レベル ××:全く許容され得ないレベル 上記の評価ランクにおいて、実用上、×及び××は、商
品価値が無い。
ャート部の画像を写像性測定器ICM−1DP(スガ試
験機械社製)で反射60度、光学くし2mmでの写像性
(光沢値C値%)を測定した。評価は、以下の基準によ
って行った。
クと判断した。
性も良好で、光沢性も高く、優れたインクジェット記録
材料が得られることが分かる。
塗布液を用いて形成されたインクジェット受像層であっ
ても、ひび割れは少なく、塗布性は良好であり、光沢性
も高く、優れたインクジェット記録材料を得ることがで
きた。
Claims (9)
- 【請求項1】 一次粒子径が5〜20nmである気相法
シリカからなる粒子と湿式沈降法シリカからなる粒子を
含有し、光散乱法により測定された粒子径が50〜10
00nmである粒子を含有する塗布液を用いて形成され
たことを特徴とする空隙型インクジェット受像層。 - 【請求項2】 湿式沈降法シリカの平均粒子径が50〜
1000nmであることを特徴とする請求項1記載の空
隙型インクジェット受像層。 - 【請求項3】 表面を電子顕微鏡で観察したときの粒径
が20〜100nmであることを特徴とする請求項1又
は2記載の空隙型インクジェット受像層。 - 【請求項4】 気相法シリカ質量/湿式沈降法シリカ質
量の比が0.1〜1.0の範囲であることを特徴とする
請求項1〜3の何れか1項記載の空隙型インクジェット
受像層。 - 【請求項5】 気相法シリカがDSC(示差熱分析)測
定において、200〜400℃にピークを有することを
特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の空隙型イン
クジェット受像層。 - 【請求項6】 気相法シリカの赤外分光吸収スペクトル
における、3200cm-1と1600cm-1との吸収比
率(A3200/A1600)が2.0〜6.0であることを特
徴とする請求項1〜5の何れか1項記載の空隙型インク
ジェット受像層。 - 【請求項7】 請求項1〜6の何れか1項記載の空隙型
インクジェット受像層を支持体上に有することを特徴と
するインクジェット記録材料。 - 【請求項8】 請求項7記載のインクジェット記録材料
を製造する方法において、気相法シリカ及び湿式沈降法
シリカを含有し、固形分濃度が12〜40質量%の塗布
液を塗布乾燥することを特徴とするインクジェット記録
材料の製造方法。 - 【請求項9】 塗布液の粘度が30〜300mPa・s
(5000〜10000/sの剪断速度において)であ
ることを特徴とする請求項8記載のインクジェット記録
材料の製造方法。
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