JP2003211572A - 像が形成された再帰反射性物品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 平坦な第１面をもつ第１層と，鏡面反射層が露出してい
る第２面をもつ再帰反射素子層を含んでなる第２層から
なる再帰反射性物品を用いて，A.第２面の鏡面反射層上
に光反応性樹脂層を設置する工程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品および像を形成す
る方法。 【課題】再帰反射性物品に設置された像の視認性と耐久
性の問題点を改善するために，鏡面反射層の部分的除去
により像が形成された新規な再帰反射性物品およびその
製造方法の提供すること。 【解決手段】平坦な第１面をもつ第１層と，鏡面反射層
が露出している第２面をもつ再帰反射素子層を含んでな
る第２層からなる再帰反射性物品を用いて，鏡面反射層
の部分的除去により像を形成する工程により像を形成す
る方法。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

【0001】本発明は，像が形成された再帰反射性物品およ
びその製造方法に関し，鏡面反射層の部分的除去により
像が形成された再帰反射性物品およびその製造方法に関
する。

【0002】詳しくは，本発明は，道路標識，工事標識等の
標識類，自動車やオートバイ等の車両のナンバープレー
ト類，衣料，救命具等の安全資材類，看板等のマーキン
グ，可視光，レーザー光あるいは赤外光反射型センサー
類の反射板等において有用な再帰反射素子の鏡面反射層
の部分的除去により像が形成された再帰反射性物品およ
びその製造方法に関する。

【0003】さらに詳しくは，平坦な第１面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第１層と，鏡面反射層が露出して
いる第２面をもつ再帰反射素子層を含んでなる第２層と
からなる再帰反射性物品を用いて， A.第２面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の非反応領域を部分的に除去をする工
程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品およびその製造方
法に関する。

【従来の技術】

【0004】従来より，再帰反射性物品に像を形成する方法
としてはさまざまな方法が提案されている。

【0005】従来公知の像を形成する方法としては，表面保
護層の表面（第１面）や内面などに印刷インキを用いて
印刷法により像を形成する方法が一般的であった。印刷
法による方法としては米国特許第3，１54，872，第3，8
0１，１83，第4，082，426（特開昭53-68596号），第
4，097，838が開示されている。ここでは，この文献の
引用をもって，この具体的記述に代える。

【0006】さらに，像を再帰反射素子上に直接設置する方
法も知られている。

【0007】ライトルの特表平１0-500230号再帰反射製品お
よびその製造においては， （ａ）微小球の層をキャリヤー上で支持すること； （ｂ）微小球の層の第１部分がその後方に機能的にコー
ティングされた反射性金属層を有し，且つ，第２部分が
そのような反射性金属層を有しないように，支持された
微小球の層に反射性金属層を選択的に蒸着すること； （ｃ）微小球の層をバインダー層の第１主要表面に部分
的に埋め込むこと； （ｄ）微小球の層がバインダー層の第１主要表面に部分
的に埋め込まれたまま残って第１及び第２セグメントを
有する再帰反射製品が形成されるように微小球の層から
キャリヤーを除去すること，但し，前記第１セグメント
は微小球の埋め込まれた部分の後方に機能的に配置され
た蒸着された反射性金属層を有する； と言う方法が開示されている。

【0008】マーチンの特開平4-229244号においては，逆反
射マイクロプリズム面上に形成された金属付着層に部分
的に接着層を形成し，接着層により保護されていない金
属層を引き剥がすことにより，部分的に金属層の設置さ
れていない逆反射マイクロプリズムシートの形成方法が
開示されている。また，部分的に設置する接着剤層（保
護コーティング材）は後工程における溶剤処理段階にて
甚だしい悪影響を受けない感圧接着剤であるのが望まし
いと記載されている。さらに，設置する方法としては印
刷法が記載されている。

【0009】さらに，マーチンの特開平１-231004号におい
ては，逆反射マイクロプリズム面上に形成された金属付
着層に部分的に接着層を形成し，接着層により保護され
ていない金属層を引き剥がすことにより，部分的に金属
層の設置されていない逆反射マイクロプリズムシートの
形成方法と，逆反射マイクロプリズム面上に部分的に被
覆材料を設置した後に，金属蒸着をほどこし，しかる後
に，部分的に被覆した材料を除去することにより部分的
に金属層の設置されていない逆反射マイクロプリズムシ
ートの形成方法が開示されている。

【0010】また，レーザーにより蒸着層を除去する方法も
一般的に用いられている。

【0011】ガラノス(Galanos)による米国特許第4，200，8
75号には，露出レンズ型再帰反射シートに，あらかじめ
決められたパターンでレーザー法により像を形成する方
法が開示されている。

【発明が解決すべき課題】

【0012】本発明の目的は，像が形成された再帰反射性物
品およびその製造方法に関し，鏡面反射層の部分的除去
により像が形成された新規な再帰反射性物品およびその
製造方法に関する。

【0013】従来公知の像を形成する方法としては，表面保
護層の表面（第１面）や内面などに印刷インキを用いて
印刷法により像を形成する方法が一般的であった。しか
しながらこのような印刷インキを用いる方法においては
像を形成する樹脂層が外部からの光や水の侵入によって
劣化が促進されやすく，耐久性の優れた像を得ることが
困難であった。

【0014】さらに，マーチンの特開平4-229244号や特開平
1-2311004号に開示されているような，逆反射マイクロ
プリズム面上に形成された金属付着層に部分的に接着層
を形成し，接着層により保護されていない金属層を引き
剥がすことにより，部分的に金属層の設置されていない
逆反射マイクロプリズムシートの形成方法においては，
接着剤層を印刷法などで設置する必要があるためにプリ
ズム間の溝に沿って溶剤を含んだ接着剤が流れ出して鮮
明な像が形成しづらいという問題点があった。さらに，
溶剤によりプリズムが変形を起こし再帰反射性能が低下
するという問題点もあった。

【0015】また，レーザーにより蒸着層を除去する方法も
一般的に用いられている。しかしながら，レーザー法に
よる像の形成方法は反射素子である微小硝子球やプリズ
ムの部分的破壊を起こすために，再帰反射性能を低下さ
せるという問題点があった。さらに，用いることのでき
るレーザー光線の径が小さいために形成しうる像は微小
点の集合像として得られるために，鮮明な像が得られに
くく，広範囲の像を形成するのが困難であった。

【0016】本発明の目的は，上記の従来公知技術の問題点
を改善するために，鏡面反射層の部分的除去により像が
形成された新規な再帰反射性物品およびその製造方法の
提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0017】本発明は，平坦な第１面をもつ実質的に透明な
層を含んでなる第１層と，鏡面反射層が露出している第
２面をもつ再帰反射素子層を含んでなる第２層とからな
る再帰反射性物品を用いて， A.第２面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C. 光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工
程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品およびその製造方
法に関する。

【0018】本発明で用いることのできる再帰反射性物品の
種類は，平坦な第１面をもつ実質的に透明な層を含んで
なる第１層と，鏡面反射層が露出している第２面をもつ
再帰反射素子層を含んでなる第２層とからなる再帰反射
性物品であれば適宜選択することができるが，再帰反射
素子層が封入レンズ型，カプセルレンズ型および鏡面反
射式プリズム型再帰反射素子の群より選ばれた再帰反射
素子より構成されてなる再帰反射性物品が好ましい。

【0019】封入型の再帰反射素子の例としては，再帰反射
部分を構成する再帰反射素子の直径が30〜500μmの微小
硝子球型再帰反射素子が好ましく，表面が平滑で透明な
表面保護層により覆われている。30μm未満の直径の反
射素子においては，回折効果による光の発散が過大とな
り再帰反射性能が低下し好ましくなく，500μmを超える
直径の反射素子においてはシートの厚さが過大となり，
また，形成される像の鮮明度が低下するので好ましくな
い。

【0020】カプセルレンズ型再帰反射素子の例としては，
再帰反射部分を構成する再帰反射素子の直径が30〜500
μmの微小硝子球型再帰反射素子が好ましく，表面保護
層を構成するプラスチックフイルムは表面が平滑で透明
である。封入レンズ型再帰反射シートと同様に30μm未満
の直径の反射素子においては，回折効果による光の発散
が過大となり再帰反射性能が低下し好ましくなく，500
μmを超える直径の反射素子においてはシートの厚さが
過大となり，また，形成される像の鮮明度が低下するの
で好ましくない。

【0021】鏡面反射式プリズム型素子の例としては，再帰
反射部分を構成する再帰反射素子の高さが50〜500μmの
キューブコーナー型再帰反射素子であって，素子の反射
表面が金属薄膜により鏡面処理化されて鏡面反射層が形
成されている再帰反射素子があげられる。素子の高さが
50μm未満のキューブコーナー反射素子においては回折
効果による光の発散が過大となり再帰反射性能が低下し
好ましくなく，500μmを超える高さのキューブコーナー
反射素子においてはシートの厚さが過大となり，また，
形成される像の鮮明度が低下するので好ましくない。

【0022】鏡面反射式プリズム型素子の好適な実施態様と
しては，断面が実質的に対称型のＶ字状の溝が互いに交
叉することにより形成される底面が三角形であり，３つ
の略直角に交叉する側面によって区切られた一対の鏡面
反射式三角錐型プリズム型素子が好ましい。

【0023】また，鏡面反射式プリズム型素子のもつ光学軸
は，再帰反射時の入射角特性を改善するために傾斜する
ことができる。傾斜する角度は０．５〜１２度，好まし
くは０．６〜１０度，さらに好ましくは０．７〜１．５
度であり，傾斜する方向はお互いに対峙する一対の鏡面
反射式三角錐型プリズム型素子の光学軸が互いに近づく
方向でも，遠ざかる方向のいずれでもよい。

【0024】好ましい鏡面反射式三角錐型プリズム型素子の
例としては，共通する一底面（Ｘ−Ｘ′）上に突出した
三角錐型キューブコーナー再帰反射素子が，互いに該底
面（Ｘ−Ｘ′）上の一つの底辺を共有して，相対峙して
該底面上に最密充填状に配置されており，該底面（Ｘ−
Ｘ′）は該三角錐型反射素子が共有する多数の該底辺
（ｘ，ｘ，....）を包含する共通の一平面であり，相対
峙する二つの該三角錐型反射素子は該底面（Ｘ−Ｘ′）
上の共有する底辺（ｘ，ｘ，....）を含む該底面に垂直
な平面（Ｙ−Ｙ′，Ｙ−Ｙ′，....）に対してそれぞれ
対称となるように向き合った実質的に同一形状の素子対
をなしており，該三角錐型反射素子は該共有する底辺
（ｘ，ｘ，....）を一辺とする実質的に同一の五角形状
の傾斜面（ｃ１，ｃ２）と，該三角錐型反射素子の頂点
（Ｈ）を起点とする前記ｃ１面又はｃ２面の上部の二辺
をそれぞれ一辺とし，該三角錐型反射素子の一つの稜線
を共有して，これを一辺とする該ｃ１面又はｃ２面と直
角に交叉する実質的に同一の四角形状の傾斜面（ａ１
面，ｂ１面；ａ２面，ｂ２面）から成り，該三角錐型反
射素子の頂点（Ｈ）から，該三角錐型反射素子の五角形
状の傾斜面（ｃ１，ｃ２）の底辺（ｘ，ｘ，....）を含
む該底面（Ｘ−Ｘ′）までの高さ（ｈ）が，該三角錐型
反射素子の頂点（Ｈ）から，該三角錐型反射素子の他の
傾斜面（ａ１面，ｂ１面；ａ２面，ｂ２面）の底辺
（ｚ，ｗ）を包含する実質的に水平の面（仮想面Ｚ−
Ｚ′）までの高さ（ｈ′）よりも実質的に大であること
を特徴とする鏡面反射式プリズム型素子をあげることが
できる。このような素子を含む三角錐型キューブコーナ
ー再帰反射シートについては，国際公開特許第WO 0１/5
7560A１号に記載されており，ここでは，この文献の引
用をもって，この具体的記述に代える。

【0025】さらに好ましい鏡面反射式プリズム型素子の例
としては，該三角錐型キューブコーナー再帰反射素子
が，断面が実質的に対称形のＶ字状の溝が互いに交叉す
ることにより， 3つの互いに略直角に交叉する側面（a
１面， b１面， c１面；a2面， b2面， c2面；…），
によって区切られた一対の三角錐型キューブコーナー再
帰反射素子が共通する一底面（S-S’）上の一方の側に
突出するように最密充填状に配置されており， 該一対
の三角錐型再帰反射素子は， 互いに向かい合った側面
（c１面， c2面）が一つの底辺（x）を共有して対をな
しており， 該底面（S-S’）は， 該一対の三角錐型再
帰反射素子の一方の側面（a１面， a2面）の底辺（z，
z）および他方の側面（b１面， b2面）の底辺（y，
ｙ）とを共に包含する共通の一平面であって， 該底辺
（x）を共有する該一対の三角錐型再帰反射素子は， 互
いに向かい合った側面（c１面， c2面）が異なる形状を
有し， かつ， 該平面（S-S’）からの頂点までの高さ
が互いに異なることを特徴とする鏡面反射式プリズム型
素子をあげることができる。このような素子を含む三角
錐型キューブコーナー再帰反射シートについては，特開
２００１−２６４５２５号に記載されており，ここで
は，この文献の引用をもって，この具体的記述に代え
る。

【0026】再帰反射素子の鏡面反射層を構成する物質に
は，例えば，アルミニウム，銀，ニッケル，銅、金など
の金属薄膜をそれぞれ単独に，あるいは複合して設置す
ることができる。鏡面反射層を設置する方法としては，
蒸着法，スパッタリング法，電気メッキ法，化学メッキ
法または金属光沢調の外観をもつインキまたは塗料によ
る金属調樹脂層設置法などを適宜採用することができ
る。また，設置する鏡面反射層の厚さは，０．２〜２μ
ｍ，好ましくは０．５〜１．５μｍの厚さを例示するこ
とができる。

【0027】上記の鏡面反射層は特にアルミニウム鏡面反射
層が好ましい。アルミニウム鏡面反射層の連続蒸着処理
装置は、真空度が７〜９×１０−４ｍｍＨｇ程度に維持
できる真空容器、その中に設置された基体シート及びそ
の光入射側表面上に積層された表面保護層からなるプリ
ズム原反シートを繰り出す巻き出し装置、蒸着処理され
たプリズム原反シートを巻き取る巻き取り装置、並びに
それらの間にあって、黒鉛坩堝中で電熱ヒーターでアル
ミニウムを溶融させることが可能な加熱装置よりなって
いる。黒鉛坩堝中には純度が９９．９９重量％以上の純
アルミニウムペレットが投入され、例えば、交流電圧３
５０〜３６０Ｖ、電流が１１５〜１２０Ａ、処理速度が
３０〜７０ｍ／分の条件で、溶融され蒸気化されたアル
ミニウム原子によって再帰反射素子の表面に鏡面反射層
を例えば０．２〜２μｍの厚さで蒸着処理することがで
きる。

【0028】本発明における，平坦な第１面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第１層は，封入型の再帰反射素子
の場合は再帰反射部分を構成する再帰反射素子の直径が
30〜500μmの微小硝子球型再帰反射素子と直接接触して
おり，カプセルレンズ型再帰反射素子の場合には部分的
な密封封入構造を介して空気層で隔たれている。また，
鏡面反射式プリズム型素子の場合には反射素子層と密着
するように独立した層として構成されていてもよく，あ
るいは，プリズム型素子を構成する樹脂層と同一の層と
して構成されていてもよい。

【0029】本発明における第１層の厚さは，本発明の目的
である形成された像の視認性を妨げない範囲で適宜選択
することができるが，好ましい厚さとしてはいずれのタ
イプの素子においても，１０〜２０００μｍ，さらに好
ましくは，２０〜１００μｍが例示される。

【0030】さらに，第１層に用いることのできる樹脂は，
再帰反射性能や像の視認性を向上するために透明性の優
れたものを用いることが望ましい。本発明に用いる第１
層の透明性としては，着色されていない無色の樹脂の場
合には，光線透過率が５０〜９８％，好ましくは，６０
〜９７％のものを用いることができる。

【0031】本発明における，平坦な第１面をもつ実質的に
透明な層を含んでなる第１層に用いることのできる樹脂
といては，各種の透明プラスチック材質を用いることが
でき，例えば，ポリカーボネート樹脂，塩化ビニル樹
脂，（メタ）アクリル樹脂，エポキシ樹脂，ポリスチレ
ン樹脂，ポリエステル樹脂，フッ素樹脂，ポリエチレン
樹脂やポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン樹脂，
セルロース系樹脂及びポリウレタン樹脂などをそれぞれ
単独又は組み合わせて用いることができる。

【0032】さらに、耐候性を向上する目的で紫外線吸収
剤、光安定剤及び酸化防止剤などをそれぞれ単独あるい
は組み合わせて用いることができる。さらに着色剤とし
て各種の有機顔料、無機顔料、蛍光顔料、染料および蛍
光染料などを含有させることができる。

【0033】つぎに，本発明において，平坦な第１面をもつ
実質的に透明な層を含んでなる第１層と，鏡面反射層が
露出している第２面をもつ再帰反射素子層を含んでなる
第２層とからなる再帰反射性物品を用いて， A.第２面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成する工程を以下に説明する。

【0034】第１の工程である第２面の鏡面反射層上に光反
応性樹脂層を設置する工程としては，鏡面反射層が露出
している第２面に連続または枚様でのスクリーン印刷
法，グラビア印刷法，各種のコーティング法，スプレー
法などで直接塗工する方法が採用できる。

【0035】この際に，あらかじめ光反応性樹脂を設置する
領域を限定して，印刷法やコーティング法などによって
部分的に設置することもできる。

【0036】または，シート状の光反応性樹脂を鏡面反射層
に熱ロールで圧力をかけて積層する方法も採用すること
ができる。

【0037】本発明において，第２面の鏡面反射層上に設置
する光反応性樹脂層を形成する層の最小部分の厚みが１
０〜２００μｍであることが望ましい。さらに好ましく
は３０〜１００μｍが望ましい。

【0038】１０μｍ未満の場合には鏡面反射層を部分的に
除去する際に，鏡面反射層を除去する薬剤が光反応性樹
脂層を通じて浸透して鏡面反射層と反応するので好まし
くない。また，２００μｍを超える場合には，選択的に
光反応を行う際に光反応性樹脂層の内部において光の散
乱が起こりやすく，鮮明な像の形成が困難になるので好
ましくない。さらに，鏡面反射層を部分的に除去する際
に，鏡面反射層を除去する薬剤の進入が困難になり鏡面
反射層を除去が困難になり，やはり，鮮明な像の形成が
困難になるので好ましくない。また，光反応性樹脂層の
厚さが過大となり柔軟なシート製品を得にくいので好ま
しくない。

【0039】本発明において，第２面の鏡面反射層上に設置
する光反応性樹脂層は光重合性，光縮合成，光架橋性お
よび光分解性の樹脂を適宜用いることができる。これら
の樹脂は光の照射により溶解性の変化，液体から固体へ
の相変化および接着性の変化などの物理的性質変化を起
こし部分的な像の形成を可能とする。

【0040】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
１の例としては，いわゆる，ＵＶ硬化型インキとして用
いられるようなアクリルプレポリマーをビヒクルとし
て，これに反応性モノマー，光重合開始剤および助剤類
を加えたＵＶ硬化型樹脂を用いることができる。ビヒク
ルとしては重量分子量が１０００〜５０００程度のポリ
エステルアクリラート，エポキシアクリラート，ウレタ
ンアクリラートなどのアクリルポリマー類やアクリロイ
ル基が導入された変性アルキッド樹脂などを用いること
ができる。

【0041】ポリエステルアクリラートの例としてはアジピ
ン酸と１，６−ヘキサンジオールより得られるポリエス
テル樹脂の両末端にアクリロイル基を導入したプレポリ
マーなどが上げられる。エポキシアクリラートの例とし
てはエポキシ樹脂の両末端のグリシジル基とアクリル酸
とを反応させたプレポリマーなどを用いることができ
る。ポリウレタンアクリラートの例としてはアジピン酸
と１，６−ヘキサンジオールより得られるポリエステル
樹脂の両末端をトリレンジイソシアネート樹脂で反応さ
せた後に，引き続いて，２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートで反応させたプレポリマーなどを用いることができ
る。

【0042】用いることのできる反応性モノマーの例として
は，ジエチレングリコールジアクリレート，ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート，１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート，トリメチロールプロパントリアクリ
レート，ペンタエリスリトールトリアクリレートなどの
多官能性アクリラート類を用いることができる。

【0043】上記の光反応性樹脂に用いることのできる光重
合開始剤としては，ＵＶ光を吸収して重合反応に有効な
ラジカルを効率よく発生するものが好ましい。たとえ
ば，各種のベンゾイン誘導体，２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン，水素供与体の存在下でＵＶ
光照射により水素引き抜き反応を起こしてラジカルを発
生するベンゾフェノン，チオキサントンなどの芳香族カ
ルボニル化合物を用いることができる。さらに，アミン
類を添加することによりラジカルの発生を効率的にする
こともできる。

【0044】さらに，各種の顔料，チキソトロピー付与剤，
熱重合禁止剤，ワックス類などを添加することもでき
る。

【0045】これらの，ＵＶ硬化型の樹脂は各種の印刷法，
たとえば，スクリーン印刷法，グラビア印刷法，さら
に，各種のコーティング法により鏡面反射層上に設置す
ることができる。

【0046】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
２の例としては，ｐ−ジアゾフェニルアミンをパラホル
ムアルデヒドで縮合して芳香族スルホン酸塩とすること
で得られる，いわゆるネガ型のジアゾ樹脂感光材料を用
いることができる。

【0047】上記の芳香族スルホン酸塩は２−エチルヒドロ
キシメタクリラート−メチルメタクリラート共重合樹脂
などのバインダーポリマーと混合して用いることが好ま
しい。このような光反応性の樹脂は光照射によりジアゾ
基が分解して不溶化することができる。

【0048】本発明に用いることのできる光反応性樹脂の第
３の例としては，側鎖にアリール基が導入されたアクリ
ルポリマーバインダー，多官能性アクリラートモノマー
および光重合開始剤から構成されている光重合型フォト
ポリマーを用いることができる。

【0049】側鎖にアリール基が導入されたアクリルポリマ
ーバインダーに用いることのできるアクリルモノマーの
例としては各種のアクリル酸，メタクリル酸，アクリル
酸エステル類，メタクリル酸エステル類およびアリール
メタクリレートなどを用いることができる。

【0050】本発明に用いることのできる多官能性アクリラ
ートモノマーの例としては，ジエチレングリコールジア
クリレート，ネオペンチルグリコールジアクリレート，
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート，トリメチロ
ールプロパントリアクリレート，ペンタエリスリトール
トリアクリレートなどを用いることができる。

【0051】本発明に用いることのできる光重合開始剤の例
としては，各種の有機過酸化物，ジフェニルヨウドニウ
ム塩，Ｎ−フェニルグリシン，トリクロロメチルトリア
ジンおよび鉄アレーン錯体などを用いることができ，さ
らに，チオピリリウム塩，ケトクマリン色素，チオキサ
ンテン色素などの光増感剤と併用して用いることが好ま
しい。

【0052】本発明に用いることのできる第３の光反応性樹
脂の例としては，一般的にフォトレジスト材料として光
照射により耐エッチング性の薄膜を形成して金属の部分
的なエッチング処理を行うために用いられるレジスト用
光反応性樹脂をあげることができる。

【0053】レジスト用光反応性樹脂の具体的な例として
は，ｏ−ナフトキノンジアゾスルフォン酸をノボラック
樹脂，２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンある
いはテトラヒドロキシベンゾフェノンなどにエステル化
した感光剤と，クレゾール型ノボラック樹脂とを混合し
たポジ型のフォトレジスト樹脂をあげることができる。

【0054】ｏ−ナフトキノンジアジド化合物は光照射によ
り分解して，カルベン，ケテン構造を経由して，アルカ
リ可溶な３−インデンカルボン酸型化合物に変化する。
光照射前にはｏ−ナフトキノンジアジドスルフォニル基
は，ノボラック樹脂に対して溶解促進剤として作用する
が，光分解後には溶解促進剤として作用するので，アル
カリ水溶液に対する光照射部分の溶解性が増大して，露
光部分のみが溶解除去されてポジ型の像が形成される。

【0055】上記のようなタイプのポジ型のフォトレジスト
樹脂は，紫外線領域から可視光領域にわたって優れた解
像度と耐アルカリ性を持つのでエッチング適性に優れて
おり，本発明の像の形成された再帰反射性物品の形成に
好ましい。

【0056】水溶性のフォトレジスト材料例としては，カゼ
イン，グルー，ポリビニールアルコールなどの水溶性高
分子に２〜９％の重クロム酸塩を添加した材料をあげる
ことができる。

【0057】また，ケイ皮酸系レジスト材料も用いることが
できる。このレジスト材料はポリビニールアルコール
に，光二量化型の感光基をもつケイ皮酸クロリドを反応
させたものであり，２３０〜４５０ｎｍの紫外線を照射
することにより不溶の樹脂を生成する。さらに，光増感
剤として５−ニトロアセナフテンや１，２−ベンズアン
トラキノンなどを添加することが好ましい。

【0058】さらに，ゴム系のレジスト材料も用いることが
できる。このレジスト材料は，たとえば，天然ゴム，環
化ポリイソプレン，ポリブタジエンなどのゴムに感光剤
としてビスアジド化合物を添加したものである。光照射
によりアジド基が分解して反応性のニトレン中間体とな
り，これがゴムと反応して不溶化する。

【0059】これらゴム系のレジスト材料に用いるビスアジ
ド化合物としては，２，６−ジ−（４‘−アジドベンジ
リデン）シクロヘキサンや２，６−ジ−（４‘−アジド
ベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサンなどをあげ
ることができる。

【0060】これらのゴム系のレジスト材料は耐薬品性，耐
久性および解像度に優れているので，本発明の像の形成
された再帰反射性物品の形成に好ましい。

【0061】本発明で用いることのできる第４の光反応性樹
脂の例としては，一般にドライフイルムフォトレジスト
として電子機器のプリント配線の形成等の用途に製品と
して販売されているシート状の光反応性樹脂である。通
常は両面に保護フイルムをサンドイッチされた形状で販
売されており，保護フイルムを剥離しながら本発明に用
いる再帰反射性物品の鏡面反射層と加熱圧着してラミネ
ートする。

【0062】ドライフイルムフォトレジストに用いる材料は
バインダーポリマー，多官能性モノマー，重合開始剤，
熱重合禁止剤，密着付与剤および可塑剤などで構成され
ている。バインダーポリマーの例としてはメチルメタア
クリラートを主成分とする（メタ）アクリラート樹脂，
または，スチレン，アクリロニトリルと（メタ）アクリ
ル酸共重合物を用いることができる。重合開始剤として
はベンゾイン誘導体や２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノンなどを用いることができる。

【0063】このドライフイルムフォトレジストは紫外線の
照射によりアルカリ現像液に不溶となる。用いることの
できるシートの厚みとしては，１０〜１００μｍ，好ま
しくは１０〜５０μｍを例示することができる。このよ
うなシート状の光反応性樹脂は，均一な膜形成が可能で
あるために解像度に優れており，本発明の像の形成され
た再帰反射性物品の形成にとくに好ましい。また，溶剤
を用いないために再帰反射性物品の鏡面層を通じて再帰
反射素子の溶剤による変形が起こらないために，プリズ
ム型再帰反射性物品の場合にとくに好ましい。

【0064】ドライフイルムフォトレジストと再帰反射性物
品の鏡面反射層と加熱圧着してラミネートするさいに
は，熱による素子の変形が起こらないように注意する必
要がある。たとえば，プリズム層にポリカーボネート樹
脂を用いた鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品の場合
には，たとえば，加熱温度５０〜９０度で加圧力２ｋｇ
／ｃｍ２の条件を例示することができる。加熱温度が低
い場合には鏡面反射層との密着が不十分となり現像液の
浸入がおこり好ましくなく，高すぎる場合にはプリズム
素子の変形により再帰反射性能が低下して好ましくな
い。この圧着温度と圧力は再帰反射性物品に用いられて
いる樹脂とレジストフイルムの熱変形温度により適宜選
択されるべきである。

【0065】上記のようにして設置された光反応性樹脂は，
第２の工程として選択的に光を照射することにより，光
重合，光縮合，光架橋および光分解を行なわれ，所望の
像に一致したパターンで光反応性樹脂層を除去すること
ができる。

【0066】選択的な光の照射法としては，像パターンが印
刷又はくり抜かれた光遮蔽マスクを用いる方法，レーザ
ービームなどを用いて像を連続的に形成する方法などを
用いることができる。用いるレーザービームとしては可
視光レーザーである波長４３６ｎｍのｇ線，紫外線レー
ザーとしては波長３６５ｎｍのｉ線やＫｒＦによる発生
される波長２４８ｎｍのエキシマレーザー線などを用い
ることができる。

【0067】本発明において，光反応性樹脂の反応に用いる
光とは，光重合，光縮合，光架橋および光分解を行うこ
とができれば，特に可視光に限定されるものではなく，
紫外線光，赤外線光、遠赤外線あるいはＸ線などの電磁
波も含まれる。

【0068】生成する像の形状は特に限定されるものではな
く，文字やロゴなどの情報パターンを設置したり，部分
的に鏡面反射層を除去することにより夜間における再帰
反射性を低下あるいは消失せしめたり，昼間での色相や
反射光色相の変化によって視別可能な模様，情報の設置
などを行うことができる。

【0069】さらに，薄層アンテナ付の非接触型ＩＣ通信装
置が積層された再帰反射性物品においては，鏡面反射層
を部分的に除去し，その反射素子層の下面に設置した情
報通信用の薄層アンテナの受信感度を向上することもで
きる。

【0070】上記で記載した選択的に光反応を行った光反応
性樹脂は，第３の工程として各種の溶剤などを用いて，
光重合性，光縮合性，ネガ型の光架橋性樹脂の場合には
光を照射しなかった非反応部分を，また，ポジ型の光分
解性樹脂の場合には光を照射した分解反応部分を部分的
に除去する。

【0071】光反応をおこなった後に，可溶性部分として残
った部分は各種の溶剤で除去されるが，用いることので
きる除去するための溶剤としては用いる光反応性樹脂の
溶解性に合わせて適宜選択できるが，たとえば，水系の
エマルジョンタイプ樹脂の場合には水や酸水溶液，アル
カリ水溶液を用いることができ，また，各種の有機溶剤
を用いてもよい。

【0072】ついで，第４の工程として部分的に光反応性樹
脂を除去し鏡面反射層が露出している再帰反射性物品
を，各種の酸やアルカリ水溶液または有機酸を用いて露
出した鏡面反射層を部分的に除去する。

【0073】この鏡面反射層の除去工程は前記で説明した光
反応性樹脂の除去工程で用いる除去溶剤がアルカリ水溶
液などの場合には，一連の工程として引き続いて行われ
てもよい。

【0074】さらに，光反応性樹脂や鏡面反射層を除去する
のに用いたアルカリや酸は，中和剤や水を用いて洗浄を
行い，近接する鏡面反射層の残留部分が侵されないよう
にするのが好ましい。

【0075】残留した光反応性樹脂層はそのまま残しても残
さなくても構わない。光反応性樹脂層を除去するには，
さらに強力な溶剤などを用いて取り除いたり，粘着剤シ
ートを積層した後に光反応性樹脂層と共に引き剥がすな
どの方法を用いることができる。

【0076】本発明においては鏡面反射層を除去した領域に
着色剤を設置して像を着色することも可能である。着色
する方法としては各種の顔料や染料などを含有した着色
樹脂を塗布する方法が採用できる。また，着色樹脂中に
金属箔やパール顔料を含有せしめた金属調外観をもつ樹
脂を設置したり，光透過性の着色樹脂層を設置した後に
再び鏡面反射層を設置することにより，着色領域に再帰
反射性能を付与することも可能である。

【0077】上記のようにして作成した像の形成された再帰
反射性物品は，アルミニウム，鉄，プラスチック、ガラ
ス，紙や木板などに積層する目的で接着剤や粘着剤を積
層することができる。積層する方法としては接着剤と剥
離ライナーを積層した接着剤ライナーと再帰反射性物品
とを圧着ロールで必要に応じて熱をかけながら圧着する
方法が採用できる。

【0078】本発明の再帰反射シートに用いることのできる
接着剤としては、感圧型接着剤、感熱型接着剤、架橋型
接着剤などを適宜選択できる。感圧接着剤としてはブチ
ルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ノニルアクリレートなどアク
リル酸エステルをアクリル酸、酢酸ビニルなどと共重合
して得られるポリアクリル酸エステル粘着剤やシリコン
樹脂系粘着剤、ゴム系粘着剤などを用いることができ
る。感熱型接着剤としてはアクリル系、ポリエステル
系、エポキシ系樹脂などを用いることができる。

【0079】次に図によって本発明をより詳しく説明する。

【0080】図１は従来技術に基づく封入型再帰反射性物品
を説明する断面図である。印刷層３が印刷法により設置
されて像が形成されている。鏡面反射層７が焦点層６を
介して微小硝子球５に設置された再帰反射素子を形成
し，固着層を介して平坦で透明な表面層２に積層されて
いる。さらに，鏡面反射層には接着剤層８および剥離材
層９が設置されており，入射光１を光の入射した方向に
再帰反射するように作られている。

【0081】つぎに，図２〜図７によって本発明における像
が形成された封入型再帰反射性物品の形成方法を詳細に
説明する。

【0082】図２は従来技術により形成された像の形成され
ていない封入型再帰反射性物品の断面図である。第１面
は平坦で透明な表面層２をもち，第２面は鏡面反射層７
が焦点層６を介して微小硝子球５に設置された再帰反射
素子が露出している。

【0083】図３は露出した鏡面反射層７の上に光反応性樹
脂１０が積層されている。

【0084】図４は積層された光反応性樹脂１０の上に，光
遮蔽マスク１１を設置し，光を照射して選択的な光反応
を行う工程を説明する図である。選択的な光反応は図４
に示されるようなマスクを用いずにレーザービーム法に
より選択的に光を照射することにより達成することも出
来る。

【0085】図５は選択的光反応により形成された光反応部
分を各種の溶剤などを用いて，光重合性，光縮合性のネ
ガ型の光架橋性樹脂の場合には光を照射しなかった非反
応部分を，また，ポジ型の光分解性樹脂の場合には光を
照射した分解反応部分を部分的に除去する工程を説明す
る図である。光反応性樹脂層１０は像を形成する部分が
除去されており，鏡面反射層が露出している。

【0086】図６は図５の工程で露出した鏡面反射層７を除
去溶剤により除いて，その部分に像が形成された再帰反
射性物品である。

【0087】図７は図６における像が形成された再帰反射性
物品を，各種の基材に貼り付けるために接着剤層８を設
置した図である。

【0088】図８は従来技術に基づき，印刷法により像３が
形成された鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品を説明
する断面図である。第１面は透明で平坦な表面層２をも
ち，プリズム層１２におけるプリズム素子の反射表面に
は鏡面層７があり，さらに，接着剤層８および剥離材層
９が設置されている。

【0089】つぎに，図９〜図１２によって本発明における
像が形成された鏡面反射式プリズム型再帰反射性物品の
形成方法を詳細に説明する。

【0090】図９は光反応性樹脂１０が鏡面層７に設置され
たプリズム型再帰反射性物品に光遮蔽マスク１１を設置
し，光を照射して選択的な光反応を行う工程を説明する
図である。選択的な光反応は図９に示されるようなマス
クを用いずにレーザービーム法により選択的に光を照射
することにより達成することも出来る。

【0091】図１０は選択的光反応により形成された光反応
部分を各種の溶剤などを用いて，光重合性，光縮合性の
ネガ型の光架橋性樹脂の場合には光を照射しなかった非
反応部分を，また，ポジ型の光分解性樹脂の場合には光
を照射した分解反応部分を部分的に除去する工程を説明
する図である。光反応性樹脂層１０は像を形成する部分
が除去されており，鏡面反射層が露出している。

【0092】図１１は図１０の工程で露出した鏡面反射層７
を除去溶剤により除いて，その部分に像が形成された再
帰反射性物品である。

【0093】図１２は図１１における像が形成された再帰反
射性物品を，各種の基材に貼り付けるために接着剤層８
を設置した図である。

【発明の効果】

【0094】本発明による方法で形成された像は、反射素子
に直接構成されており、像そのものが印刷インキなどに
よる着色剤やバインダー樹脂などの本質的に光や水など
の浸入により分解しやすい構成物を必要としていないの
で、耐侯性や耐久性の優れた像を形成することができ
る。

【0095】従来公知の像を形成する方法である表面保護層
の表面（第１面）や内面などに印刷インキを用いて印刷
法により像を形成する方法においては，樹脂層が外部か
らの光や水の侵入によって劣化が促進されやすく，耐久
性の優れた像を得ることが困難であった。しかしなが
ら，本発明による鏡面反射層の部分的な除去により像の
形成方法においては，印刷インキの劣化という不具合が
発生しないので耐久性に優れた像が形成される。

【0096】さらに，マーチンの特開平4-229244号や特開平
１-231004号に開示されているような，逆反射マイクロ
プリズム面上に形成された金属付着層に部分的に接着層
を形成し，接着層により保護されていない金属層を引き
剥がすことにより，部分的に金属層の設置されていない
逆反射マイクロプリズムシートの形成方法においては，
接着剤層を印刷法などで設置する必要があるためにプリ
ズム間の溝に沿って溶剤を含んだ接着剤が流れ出して鮮
明な像が形成できないという問題点があった。さらに，
溶剤によりプリズムが変形を起こし再帰反射性能が低下
するという問題点がおこりがちであった。しかしなが
ら，本発明による鏡面反射層の部分的な除去により像の
形成方法においては，上記のような不具合がおこらず鮮
明な像の形成が可能である。

【0097】また，レーザー法による像の形成方法は反射素
子である微小硝子球やプリズムの部分的破壊を起こすた
めに，再帰反射性能を低下させるという問題点があっ
た。さらに，用いることのできるレーザー光線の径が小
さいために形成しうる像は微小点の集合像として得られ
るために，鮮明な像が得られにくく，広範囲の像を形成
するのが困難であったが，本発明による鏡面反射層の部
分的な除去により像の形成方法においては，上記のよう
な不具合が発生しにくく鮮明で広範な像の形成が可能で
ある。

【0098】以下，実施例によって本発明をさらに具体的に
説明する。

【実施例】

【0099】＜実施例１＞日本カーバイド工業株式会社製の
鏡面反射式プリズム型再帰反射シート、ニッカライトク
リスタルグレード＃９６００２タイプの粘着材層を設置
する前の、鏡面反射層が露出している第２面をもつ再帰
反射シートを出発原料（出発原料１）として、下記の工
程により像が形成された再帰反射シートを作成した。以
下に、この製造工程を詳細に説明する。

【0100】この実施例でもちいた出発原料１は、図８に示
される従来公知の鏡面反射式プリズム型再帰反射シート
の印刷層３、粘着剤層８および剥離材層９がない構造で
あり、第１面は平坦で透明な厚さ５０μmのアクリル樹
脂製の表面層２であり、ポリカーボネート製のプリズム
層１２におけるプリズム素子の反射表面には厚さ０．８
μｍのアルミニウム製の鏡面層７が真空蒸着法により設
置されて露出している。

【0101】光反応性樹脂として、ドライフイルムフォトレ
ジストタイプの日立化成工業株式会社製アルカリ現像型
感光性フイルム「フォテック」H2300を用いた。このドラ
イフイルムレジストは膜厚が４８μｍであり、光透過性
のキャリアフイルムと保護フイルムにより両面が保護さ
れていた。

【0102】一対の加熱圧着ロールを用いて、上記の出発原
料１にドライフイルムレジストの保護フイルムを剥離し
ながら鏡面反射層の露出した側の面に空気が残留しない
ようにして積層を行い、出発原料１、ドライフイルムレ
ジストおよびキャリアフイルムが積層された工程品１−
１を得た。

【0103】この工程品１−１のキャリアフイルム側の面
に、黒色インキにより文字像が印刷された厚さ７５μｍ
のポリエステル樹脂製のマスクフイルムを設置して、ラ
ンプ入力８０ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプタイプの紫外線
照射装置(ウシオ電機社製)を用いて２０秒間露光処理を
おこない、選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に
反応させる工程品１−２を得た。なお、用いたマスクフ
イルムには視認性の評価を目的として文字大きさ１１ポ
イントで文字体がＣｅｎｔｕｒｙのアルファベット文字
“ＡＢＣ”が印刷されていた。

【0104】ついで、上記の工程品１−２のキャリアフイル
ムを取り除いた後に、濃度３重量％の水酸化ナトリウム
水溶液を現像液として用いて、温度４０度の条件で未反
応部分の光反応性樹脂を取り除いたのちに、水洗浄を行
って工程品１−３の作成を行った。

【0105】上記の工程品１−３は引き続いて、濃度１０重
量％の硝酸水溶液を用いて鏡面反射層を部分的に取り除
いたのちに、水洗浄と乾燥を行って工程品１−４を得
た。硝酸処理の条件としては温度４０度、エッチング時
間１５秒であった。

【0106】上記の工程品１−４の、像が形成された側の第
２面に厚さ５０μｍのアクリル樹脂製の粘着剤（日本カ
ーバイド工業株式会社製ニッセツＫＰ１8１8）と厚さ８
０μｍの大倉工業株式会社製ポリプロピレン製の剥離材
を積層して、像が形成された再帰反射シート（試作品
１）を作成した。

【0107】＜実施例２＞実施例１で用いた出発原料１にか
わり、日本カーバイド工業株式会社製の封入レンズ型再
帰反射シートＥＬＧタイプの粘着材層を設置する前の、
鏡面反射層が露出している第２面をもつ再帰反射シート
を出発原料（出発原料２）をもちいた以外は、実施例１
と同じ方法で、像が形成された再帰反射シート（試作品
２）を作成した。

【0108】実施例２でもちいた出発原料２は、図１に示さ
れる従来公知の封入レンズ型再帰反射シートの印刷層
３、粘着剤層８および剥離材層９がない構造をもつ。第
２図に示されるように第１面は平坦で透明な厚さ３５μ
mのポリエステル樹脂製の表面層２であり、微小硝子球
５には厚さ１μｍのアルミニウム製の鏡面層７が真空蒸
着法により設置されて露出している。

【0109】＜実施例３＞実施例２で用いた出発原料２を用
いて、実施例２に記載の工程品２−１を作成するのに用
いたドライフイルムレジストフイルムに代わり、東京応
化工業株式会社社製のポジ型ｇ線レジスト樹脂ＯＦＰＲ
８００を用いて、スクリーン印刷法で鏡面反射層が露出
している第２面の全面に積層後乾燥処理を行って厚さ４
0ｇ／ｍ ^２の光反応性樹脂層を設置した以外は、実施例
２と同じ方法で像が形成された再帰反射シート（試作品
３）を得た。

【0110】実施例３で用いたレジスト樹脂はナフトキノン
ジアジド（ＮＱＤ）化合物を溶解禁止剤として用いたノ
ボラック樹脂をバインダーとする組成として成り立って
いると信じられる。露光に用いた紫外線は波長４３６ｎ
ｍの紫外線を用いた。また、露光液としては濃度３重量
％の水酸化ナトリウム水溶液を用いて、温度４０度の条
件で未反応部分のレジスト樹脂を取り除いたのちに、水
洗浄を行って工程品３−３の作成を行った。

【0111】＜実施例４＞実施例１により作成した、鏡面反
射層を部分的に取り除いたのちに、水洗浄と乾燥を行っ
た工程品１−４の鏡面反射層が露出している部分を含め
た第２面側の全面に赤色のスクリーンインキを用いて赤
色の樹脂層を設置して、第１面側から見たときの像の色
が赤色になるようにした。

【0112】しかる後に、像が形成された側の第２面に厚さ
５０μｍのアクリル樹脂製の粘着剤と厚さ８０μｍのポ
リプロピレン製の剥離材を積層して、像が形成された再
帰反射シート（試作品４）を作成した。

【0113】＜比較例＞比較品として、実施例１で用いた出
発原料１にかわり、日本カーバイド工業株式会社製の封
入レンズ型再帰反射シートＥＬＧタイプに印刷像が形成
された再帰反射シートを用いた。比較例でもちいた再帰
反射シートは、図１に示される従来公知の封入レンズ型
再帰反射シートに赤色の印刷層３がグラビア印刷方で設
置されている。第２図に示されるように第１面は平坦で
透明な厚さ３５μmのポリエステル樹脂製の表面層２で
あり、微小硝子球５には厚さ１μｍのアルミニウム製の
鏡面層７が真空蒸着法により設置されて露出している。

【0114】＜測定法１＞視認性試験 文字像“ＡＢＣ”が形成された試作品を水平に置き、高
さ１ｍの真上から蛍光灯の光を照射し、角度４５度の観
察角で距離４５ｃｍの条件で形成された像の視認性を目
視で判断して以下のようにランク付けを行った。 Ａ：像“ＡＢＣ”の存在が鮮明に確認できる。 Ｂ：像“ＡＢＣ”の存在が確認できる。 Ｃ：像“ＡＢＣ”の存在がかすかに確認できる。 Ｄ：像“ＡＢＣ”の存在が確認できない。

【0115】＜測定法２＞耐侯性試験後の視認性 耐候性試験機として、アトラスエレクトリックデバイス
社製ＣＸＷ−Ｂ−８１２５０１５００を用いて、暴露時
間を３０００時間とした以外は、ＪＩＳ Ｚ−９１１７
に準じて、耐候性試験を行った。促進耐侯性試験後の像
の視認性を測定法１に規定の視認性試験法に基づいて評
価を行った。

【0116】＜測定法３＞耐侯性前の再帰反射性能の測定 再帰反射性能測定器として、アドバンスト・レトロ・テ
クノロジー社製「モデル９２０」を用い、測定法２で規
定された促進耐侯性試験前の１００ｍｍ×１００ｍｍの
試作品の再帰反射性能をＪＩＳ Ｚ−９１１７に準じ
て、観測角０．２°、入射角５°により適宜の５点につ
いて測定し、その平均値をもって再帰反射シートの再帰
反射性能とした。

【0117】＜測定法４＞耐侯性後の再帰反射性能の測定 測定法３と同じく，再帰反射性能測定器としてアドバン
スト・レトロ・テクノロジー社製「モデル９２０」を用
い、促進耐侯性試験後の１００ｍｍ×１００ｍｍの試作
品の再帰反射性能をＪＩＳ Ｚ−９１１７に準じて、観
測角０．２°、入射角５°により適宜の５点について測
定し、その平均値をもって再帰反射シートの促進耐侯性
評価後の再帰反射性能とした。

【0118】上記実施例に記載の試作品を上記の測定法によ
り対比した表を以下に示す。

【0119】

【表１】

【0120】本発明の記載により像が形成された試作品１〜
４はいずれも優れた視認性と耐久性を示した。

【図面の簡単な説明】

【図１】 従来技術による封入型再帰反射物再帰反射性
物品

【図２】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図３】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図４】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図５】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図６】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図７】 本発明の封入型再帰反射物再帰反射性物品の
工程を説明する図

【図８】 従来技術による鏡面反射式プリズム型再帰反
射物再帰反射性物品

【図９】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性物
品の工程を説明する図

【図１０】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性
物品の工程を説明する図

【図１１】 本発明のプリズム型再帰反射物再帰反射性
物品の工程を説明する図

【図１２】 本発明のプリズム型再帰反射性物品の工程
を説明する図

【符号の説明】

１ 入射光 ２ 表面層 ３ 印刷層(像) ４ 固着層 ５ 微小硝子球 ６ 焦点層 ７ 鏡面反射層 ８ 接着剤層 ９ 剥離材層 １０ 光反応性樹脂層 １１ 光遮蔽マスク １２ プリズム層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 AA02 BA12 BA15 DA17 EA02 EA07 EA14 EA16 EA20 EA21 4F100 AB10 AK01C AK07 AK25 AK41 AK45 AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C EJ19 EJ192 EJ42 EJ422 EJ54 EJ542 GB32 GB72 GB90 JN01A JN06B

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】平坦な第１面をもつ実質的に透明な層を含
   んでなる第１層と，鏡面反射層が露出している第２面を
   もつ再帰反射素子層を含んでなる第２層とからなる再帰
   反射性物品を用いて， A.第２面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
   程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
   る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像が形成された再帰反射性物品。
2. 【請求項２】再帰反射素子層が封入レンズ型，カプセル
   レンズ型および鏡面反射式プリズム型再帰反射素子の群
   より選ばれた再帰反射素子より構成されてなる請求項１
   に記載の像が形成された再帰反射性物品。
3. 【請求項３】鏡面反射式プリズム型再帰反射素子を構成
   する再帰反射素子が，３方向から交差する断面が実質的
   に対称な平行Ｖ溝群により切取られて形成された三角錐
   型キューブコーナー型再帰反射素子対である請求項１ま
   たは２に記載の像が形成された再帰反射性物品。
4. 【請求項４】鏡面反射式プリズム型再帰反射素子を構成
   する再帰反射素子が，３方向から交差する断面が実質的
   に対称な平行Ｖ溝群により切取られて形成された三角錐
   型キューブコーナー型再帰反射素子対であって，３方向
   のＶ溝の少なくとも１方向のＶ溝の深さが異なっている
   請求項３に記載の像が形成された再帰反射性物品。
5. 【請求項５】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応性
   樹脂層が光重合性，光縮合性，光架橋性および光分解性
   であのいずれかである請求項１〜４のいずれかに記載の
   像が形成された再帰反射性物品。
6. 【請求項６】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応性
   樹脂層が光重合性，光縮合性，光架橋性および光分解性
   であのいずれかであり，光反応性樹脂層を形成する層の
   最小部分の厚みが１０〜２００μｍである請求項１〜５
   のいずれかに記載の像が形成された再帰反射性物品。
7. 【請求項７】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応性
   樹脂層が、シート状の形態である請求項１〜６のいずれ
   かに記載の像が形成された再帰反射性物品。
8. 【請求項８】選択的に光を照射する方法が光遮蔽マスク
   法および／または光走査法である請求項１〜７のいずれ
   かに記載の像が形成された再帰反射性物品。
9. 【請求項９】平坦な第１面をもつ第１層と，鏡面反射層
   が露出している第２面をもつ再帰反射素子層を含んでな
   る第２層からなる再帰反射性物品を用いて， A.第２面の鏡面反射層上に光反応性樹脂層を設置する工
   程 B.選択的光照射により光反応性樹脂を部分的に反応させ
   る工程 C.光反応性樹脂層の選択領域を部分的に除去をする工程 D.鏡面反射層の部分的除去により像を形成する工程 により像を形成する方法。
10. 【請求項１０】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応
    性樹脂層が光重合性，光縮合性，光架橋性および光分解
    性のいずれかである請求項９に記載の像を形成する方
    法。
11. 【請求項１１】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応
    性樹脂層が光重合性，光縮合性，光架橋性および光分解
    性のいずれかであり，光反応性樹脂層を形成する層の最
    小部分の厚みが１０〜２００μｍである請求項９または
    １０に記載の像を形成する方法。
12. 【請求項１２】第２面の鏡面反射層上に設置する光反応
    性樹脂層が、シート状の形態で供給され、第２面の鏡面
    反射層上に設置される請求項９〜１１のいずれかに記載
    の像を形成する方法。
13. 【請求項１３】選択的に光を照射する方法が光遮蔽マス
    ク法および／または光走査法である請求項９〜１２のい
    ずれかに記載の像を形成する方法。