CN101416116B - 表面凹凸的制作方法 - Google Patents

表面凹凸的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101416116B
CN101416116B CN2007800124445A CN200780012444A CN101416116B CN 101416116 B CN101416116 B CN 101416116B CN 2007800124445 A CN2007800124445 A CN 2007800124445A CN 200780012444 A CN200780012444 A CN 200780012444A CN 101416116 B CN101416116 B CN 101416116B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
convex
sensitive surface
concave
making
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2007800124445A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101416116A (zh
Inventor
饵取英树
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kimoto Co Ltd
Original Assignee
Kimoto Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kimoto Co Ltd filed Critical Kimoto Co Ltd
Publication of CN101416116A publication Critical patent/CN101416116A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101416116B publication Critical patent/CN101416116B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00317—Production of lenses with markings or patterns
    • B29D11/00346—Production of lenses with markings or patterns having nanosize structures or features, e.g. fillers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70125—Use of illumination settings tailored to particular mask patterns
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明的课题在于提供，使用光掩模，能够容易且高精度地形成期望的凹凸形状的表面凹凸的制作方法。在由感光性树脂组合物所构成的感光膜(10)的一侧，将具有光透过部与光不透过部的掩模部件(20)对感光膜(10)保持间隔进行配置，在掩模部件(20)与感光膜(10)之间配置光扩散层(30)，由配置于该掩模部件(20)侧的光源照射光，经过掩模部件(20)的光透过部将感光膜(10)曝光，通过显像来除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部，在感光膜(10)制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸。在进行曝光时，控制光扩散层(30)的浊度(haze)等曝光条件，控制曝光部或未曝光部的形状。

Description

表面凹凸的制作方法
技术领域
本发明涉及制作细微的凹凸的方法，特别涉及适用于进行在光扩散板、光控制膜、微透镜等透明材料的表面具有凹凸的光学部件的制作的表面凹凸的制作方法。
背景技术
在各种光学机器、屏幕或液晶显示器等的显示装置中，为了控制透过光或反射光的射出方向，而使用在表面设有细微的凹凸的光扩散膜或微透镜等光学部件。作为这种的光学部件，提出了非仅具有随机的凹凸，而是为了控制光路，高精度地限定凹部或凸部的形状、间隔等的技术方案(专利文献1)。
一般，作为将材料的表面做成具有凹凸的方法，采用在形成表面的层内混合消光材的化学消光法、压花、模压制等。但，在化学消光法中，由于消光材本身存在有粒径分布且所分散的状态也不完全均等，故无法形成具有规则性的表面形态或被高精度地限定的表面形态。另外，在压花或模压制的情况，根据凹凸形状，也有模具的制作困难的情况，但具有下述优点，即一旦制作了模具，之后就可容易地形成表面凹凸。但，根据材料的材质或按压时的压力等条件，即使利用相同的模具，所形成的表面凹凸也并不一定相同，以所有的材料再现性良好地形成凹凸是极为困难的。
另一方面，在半导体装置的制造等中，也提出了利用作为一般方法的光刻(photolithography)法，来制造扩散板或微透镜的方法(专利文献2、专利文献3)。在专利文献3所记载的技术中公开了以下方法，即，通过使用灰度掩模(grayscale mask)图案，控制经曝光可溶化的感光膜的厚度，从而制造具有期望的形状的凸部的微透镜的方法。灰度掩模是指利用浓淡图案来形成光的透过率分布的掩模，在专利文献3中公开了，通过设置于掩模膜的开口的大小或开口的数量来控制透过率的技术方案。
专利文献1国际公开2004/021052号公报
专利文献2日本特开2004—294745号公报
专利文献3日本特开2004—310077号公报
发明内容
在以开口的大小或数量来控制光的透过率的灰度掩模中，为了形成一个凸或凹部，必须于小的区域内，设置控制了间距或大小的多个开口，即使使用缩小投影型曝光装置时，作为掩模也需要进行非常精密的加工。另外，为了将凹凸的形状做成无阶差的连续曲面，而必须使用多种的掩模进行多重曝光，造成凹凸形成工序变得繁杂。
因此，本发明的目的在于提供一种方法，该方法不需使用灰度掩模，而使用通常的掩模，就能够容易且高精度地形成期望的凹凸形状。
本发明的表面凹凸的制作方法是在材料的表面制作细微的凹凸的方法，其特征为：包含：在由感光性树脂组合物所构成的感光膜的一侧，将具有光透过部和光不透过部的掩模部件对所述感光膜保持间隔进行配置的步骤；在前述掩模部件与前述感光膜之间，配置光扩散层的步骤；由配置于前述掩模部件侧的光源照射光，经过前述掩模部件的光透过部，将前述感光膜曝光的步骤；以及通过显影除去前述感光膜的曝光部或未曝光部，在前述感光膜制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸的步骤，在前述曝光步骤，控制曝光条件，控制前述曝光部或未曝光部的形状。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，前述曝光条件包括前述光扩散层的浊度(JIS K7136：2000)。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，前述曝光条件包括从前述光扩散层的感光膜侧的面至前述感光膜的距离及/或从前述掩模部件的遮光面至前述感光膜的距离。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，前述光扩散层由球状微粒与粘结剂树脂构成，前述球状微粒的平均粒径为前述掩模部件的掩模径的1/10以下。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，前述感光膜为经曝光而不溶化的负型的感光性树脂组合物构成。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，前述感光膜形成于实质上透明的基材或密接设置于实质上透明的基材，从基材侧被曝光。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，在曝光步骤后，在将前述感光膜的掩模部件侧的面粘贴于其他基材后，进行显影，以在该基材制作凹凸表面。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有细微凹凸的模具，来制作表面具有与形成于前述模的表面凹凸相反的凹凸的部件方法，其中，作为前述模具，使用通过上述本发明的表面凹凸的制作方法所制作的模具。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有细微凹凸的模具，来制作表面具有与形成于前述模具的表面凹凸相反的凹凸的部件方法，其中，作为前述模具，使用利用由上述本发明的表面凹凸的制作方法制得的第1模具来所制作的第2模具，来制作在表面具有与前述第1模相同凹凸的部件。
另外，本发明的表面凹凸的制作方法中，形成有表面凹凸的部件为光学部件。
且，本发明的表面凹凸的制作方法，其是在材料的表面制作细微凹凸的方法，其中，包含：在由感光性树脂组合物所构成的感光膜的一侧，将具有光透过部和光不透过部的掩模部件对前述感光膜保持间隔进行配置，并且在前述掩模部件与前述感光膜之间，配置光扩散层的步骤；由配置于前述掩模部件侧的光源照射光，经过前述掩模部件的光透过部，将前述感光膜曝光的步骤；以及，通过显影除去前述感光膜的曝光部或未曝光部，在前述感光膜制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸的步骤。
作为本发明的表面凹凸的制作方法的一个方式，其中，使从前述掩模部件的遮光面至前述感光膜的距离在感光膜的一维方向或二维方向上变化。或，使从前述光扩散层的感光膜侧的面至前述感光膜的距离在感光膜的一维方向或二维方向上变化。或，使前述光扩散层的厚度在前述光扩散层的一维方向或二维方向上变化。
再者，在本发明，光不仅包括可见光，亦包括紫外线或远紫外线等波长短的光。
以下，说明本发明的概念。
在以形成制版等的一定的膜厚的凹凸为目的的光刻中，其条件为，为了正确地再呈现掩模图案而使用于曝光的光是平行光线。在以往的使用灰度掩模的表面凹凸形成方法中，也以平行光线为前提，通过控制掩模侧的光透过率，来对曝光部的曝光量赋予分布。
另外，还提出了，在凸部的高度(膜厚)高的特殊的凹凸形状的形成中，为了防止曝光不足或显影不足，而在透明的基板上形成抗蚀剂(resist)(感光膜)，由基板侧(背面)进行曝光的方法(专利文献4)，但一般，为了防止因光的衍射造成抗蚀剂曝光部的边缘形状破环，而将掩模与抗蚀剂密接配置。
专利文献4日本特开2000—103062号公报
相对于此，在本发明的表面凹凸的制作方法中，虽使用平行光线，但并非将掩模部件与感光膜(抗蚀剂)密接，而是保持间隔配置掩模部件，进一步在掩模部件与感光膜之间配置光扩散层，藉此，利用受到光扩散层所扩散的光的扩大，来对曝光量赋予分布。
即，如图1所示，在隔着掩模部件20，使光照射于感光膜10的情况时，通过掩模部件20的开口部分并到达光扩散层30的光被扩散，较开口径扩散了若干。然后，根据光扩散层30的浊度(Haze)H的值，光的扩大将进一步增大，在光束的周边部，光量减少等，来对曝光量赋予分布。
在本发明的表面凹凸的制作方法中，利用根据由掩模部件的遮光面至感光膜的光入射面的距离所产生的光的衍射、及被光扩散层所扩散的光根据从光扩散层的感光膜侧的面至感光膜为止的距离的扩宽，来对曝光量赋予分布。
即，如图2所示，隔着掩模部件20将光照射至感光膜10时，通过了掩模部件20的开口部分的光引起衍射，较开口径若干扩宽。在从涂布有感光膜10的基材的背面照射光时，根据掩模部件20的遮光面至感光膜为止的距离T，因衍射所产生的光的扩宽将扩大，在光束的周边部，光量减少。在途中，到达了光扩散层30的光根据浊度H的值而被扩散，进一步，根据光扩散层30的感光膜10侧的面至感光膜10为止的距离t，光的扩宽将扩大，在光束的周边部，光量减少等，使得对曝光量赋予分布。
如此，射入感光膜的光是藉由光的扩散，产生曝光量分布。此曝光量分布取决于光扩散层的浊度H、由光扩散层的感光膜侧的面至感光膜为止的距离t、及由掩模部件的遮光面至感光膜为止的距离T。
一方面，将光固化性树脂(抗蚀剂)光固化并不溶化所必要的曝光量称为临界曝光量Ec，已知的是，对该光固化性树脂赋予预定的曝光量EO时的固化深度Cd与临界曝光量Ec具有下式的关系。
Cd＝Dp×1n(E1/Ec)………(1)
在此，Dp为照射至树脂表面的紫外线光的强度成为l/e的深度(称为透过深度)，为感光性树脂所固有的值。
因此，在照射具有曝光量分布的光时，对应该分布，固化深度中产生分布，其结果，可形成高度或深度进行变化的凸部或凹部。在本发明，在曝光量分布，通过控制光扩散层的浊度H(以下，亦有仅称“浊度H”的情况)，可形成期望的表面凹凸。理想的是在曝光量分布，控制浊度H、由光扩散层的感光膜侧的面至感光膜为止的距离t(以下，亦有仅称“距离t”的情况)及/或由掩模部件的遮光面至感光膜为止的距离T(以下，亦有仅称为“距离T”的情况)，可形成期望的表面凹凸者。
根据本发明，通过调整曝光的条件，不需进行多重曝光或使用灰度掩模等的曝光，就可高精度地制作期望的凹凸图案。
附图说明
图1是说明本发明的凹凸形成的原理的图。
图2是说明本发明的凹凸形成的原理的图。
图3是显示本发明的表面凹凸的制作方法的一实施方式的图。
图4是显示将距离T与距离t固定时由浊度H造成的凸形状的差异的图。
图5是显示将浊度H与距离T固定时由距离t造成的凸形状的差异的图。
图6是显示将浊度H与距离t固定时由距离T造成的凸形状的差异的图。
图7是显示距离T的透过光的强度分布的变化的图。
图8是显示形状及宽高比不同的凸部的具体例的显微镜照片。
图9是显示本发明的表面凹凸的制作方法的其他实施形态的图。
图10是显示本发明的表面凹凸的制作方法的一工序的图。
图11是显示本发明的表面凹凸的制作方法的一工序的图。
图12是显示本发明的表面凹凸的制作方法的一工序的图。
符号说明
10...感光膜
11、31...基材
20...掩模部件
30...光扩散层
40...光源
具体实施方式
以下，说明本发明的实施方式。
图3显示本发明的表面凹凸的制作方法的概要。本发明的表面凹凸的制作方法主要是由：准备由经曝光进行固化或可溶化的感光性树脂组合物所构成的感光膜10的步骤(a)；对感光膜10隔着掩模部件20及光扩散层30进行曝光的曝光步骤(b)；及将曝光后的感光膜10予以显影，除去曝光部或非曝光部的显影步骤(c)所构成。
在曝光步骤，如图3(b)所示，对感光膜10隔着预定之间隔配置掩模部件20，并且在掩模部件20的遮光面20a与感光膜10之间隔部分配置光扩散层30，再将来自于光源40的光通过掩模20的开口部照射至感光膜10并进行曝光。再者，在图中，感光膜10是形成于基材11上，但基材11并非必须的。在显影步骤中，将感光膜10进行显影，除去曝光部或未曝光部，在感光膜制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸15。然后，根据需要，使未被除去而残留的感光膜的部分固化(不溶化)。在本发明的表面凹凸的制作方法中，通过浊度H，控制此凹凸的形状，理想的为通过浊度H、距离t及/或距离T，来控制此凹凸的形状。
光扩散层的浊度H根据作为目的的凹凸形状而有所不同，优选控制成为60％以下，更优选成为5～50％。浊度小者，曝光部的宽高比(高度相对于底面的宽度的比)变得越高，在曝光部不溶化而成为凸形状的负型，可可获得高度高的凸形状，而在曝光部可溶化而成为凹形状的正型，可获得深度深的凹形状。
另外，关于由掩模部件的遮光面至感光膜为止的距离T，根据作为目的的凹凸形状也有所不同，但在凹凸形状(高度、底面的宽度)为亚微米至数百微米的等级时，当将隔在掩模部件的遮光面至感光膜之间的媒体的折射率设为N时，优选T/N是2mm以下，更优选5μm以上、1mm以下。以折射率N除距离T的理由为折射率越高，波数量变得越大，为了获得相同的光的扩散效果，需要使波数相同。在相同的凹凸形状的设计中，例如，在介装折射率低的媒体时，与介装高折射率媒体的情况相比，可将间隔(材料的厚度)做薄。另外，存在2种以上的媒体时(例如，如图3(b)，存在光扩散层30与基材11的2种媒体的情况)，当将各媒体的厚度设为T1、T2...、折射率设为N1、N2...时，T1/N1+T2/N2+...符合上述范围即可。再者，光扩散层的折射率是光扩散层的粘结剂树脂的折射率。
另外，距离T非需要为一定，亦可根据作为目的的凹凸的分布，在一维方向或二维方向赋予倾斜，或根据位置对距离T本身赋予变化。
另外，关于由光扩散层的感光膜侧的面至感光膜为止的距离t，根据作为目的的凹凸形状也有所不同，凹凸形状(高度、底面的宽度)由亚微米至数百微米的等级时，介于光扩散层的感光膜侧的面至感光膜之间的媒体的折射率设为n时，t/n优选2mm以下，更优选5μm以上、1mm以下。以折射率n除距离t的理由是由于折射率高者波数量变得越大的缘故，并为了获得相同的光的扩散效果，需要使波数相同的缘故。在相同的凹凸形状的设计中，例如介装有折射率低的媒体时，与介装高折射率媒体的情况相比较，可将间隔(材料的厚度)做薄。另外，存在2种以上的媒体时，各媒体的厚度设为t1、t2...、折射率设为n1、n2...，t1/n1+t2/n2+...符合上述范围即可。
另外，距离t非需要为一定，亦可根据作为目的的凹凸的分布，在一维方向或二维方向赋予倾斜，或根据位置对距离t本身赋予变化。
再者，关于掩模的开口，不限于圆形，可作成任意的形状。例如，在掩模的开口为细缝状的情况，则成为细长形状的凹部或凸部。另外，凹凸的排列或间距则根据形成于掩模的开口的排列、间距来决定。
使用图4～图6所示的具体例，说明上述的曝光条件(浊度H、距离t、距离T)与凹凸形状的关系。图4～6是对负型的感光性树脂使用掩模径为30μm的情况与40μm的情况的2种类的圆形开口掩模所获得的，获得凹凸形状时的曝光量均为100mJ/cm2。在此，图4～6的纵轴及横轴的单位均为“μm”。
图4是显示，将距离t固定成50μm(t/n＝30μm)、距离T固定成105μm(T/N＝64μm)时，使浊度H变化时的凹凸形状的图。图5是显示，将距离T固定成205μm(T/N＝125μm)、浊度H固定成26％时，使距离t(t/n)的变化时的凹凸形状的图。图6是显示，将距离t固定成50μm(t/n＝30μm)、浊度H固定成16％时，使距离T(T/N)变化时的凹凸形状的图。
如图4所示，在将距离t(t/n)及距离T(T/N)固定、使浊度H的值变化时，随着浊度H的值变大，光的扩宽将变大，随着浊度H的值的增加，所获得的凹凸形状的凹凸的高度变低，并且基底(日文：裾野)变广。
另外，如图5所示，在将浊度H及距离T(T/N)固定，使距离t(t/n)变化时，随着距离t(t/n)变长，光的扩宽将变大，所获得的凹凸形状的高度变低若干。再者，当距离t(t/n)变长时，凹凸的基底变广，但在图5中，当距离t为200μm(t/n＝122μm)时，由于因扩散等而造成的光束的周边部的光量减少，基底附近未到达临界曝光量，故未形成基底部分，没有距离t为50μm或100μm(t/n＝30μm、61μm)情况时的基底广。
另外，由图6可得知，将浊度H及距离t(t/n)固定、使距离T(T/N)的值变化时，所获得的凹凸形状的改变的倾向会因掩模径而不同。在掩模径为30μm时，伴随距离T(T/N)的增加，凹凸的前端变尖的倾向显著。另外，凹凸的高度，在至距离T＝605μm(T/N＝564μm)为止，均增加，但超过该值时，则减少。另一方面，在掩模径为40μm时，与掩模径30μm的情况同样地，可见凹凸的前端变尖的倾向，但关于凹凸的高度，在距离T＝355μm(T/N＝314μm)暂时减少后，便转为增加。这些现象可根据通过掩模的圆形开口的光的衍射来加以说明。图7是垂直地射入至掩模面的波长365nm的平行光通过掩模径30μm及掩模径40μm的圆形开口时，在各自的距离T(T/N)的位置的透过光的强度分布的计算值。在此，横轴是显示，将圆形开口的中心设为0时由中心算起的距离(μm)。另外，纵轴是将通过掩模开口部的平行光的强度设为1时的透过光的强度。由图7可得知，光的强度分布是根据距离T(T/N)的值而大幅度不同。另外，光的强度分布变化的倾向是因掩模径而有所不同。在此，比较图6与图7可知，图6的凹凸形状是受到配置于掩模与抗蚀剂之间的光扩散层的影响，光的扩宽变得更大，比起图7的计算值，基底变广，但，因距离T(T/N)的值所产生的凹凸的前端形状变尖的倾向或凹凸高度变化的倾向与强度分布的计算值的倾向一致，这显示了这些凹凸形状的改变的倾向受到光的衍射的影响。
图8是针对掩模的开口为圆形的情况，显示形状及宽高比(凸部的高度相对于底面的宽度的比)不同的凸部的具体例(立体形状)。在图示例，仅显示单一的凸部，但通过使用设有多个细微开口(光透过部)者作为掩模，形成多个细微的凸部。
如此，在本发明的表面凹凸的制作方法中，在曝光步骤中，通过调整浊度H、距离t及距离T、以及光源的光能(曝光量)，能够控制凸部或凹部的剖面形状及其宽高比(凸部的高度相对于底面的宽度的比)。
在显影步骤中，使用溶解有构成感光膜的感光性树脂组合物的溶媒作为显影液，除去感光膜的除经曝光不溶化的部分以外的部分(负型)。或除去经曝光可溶化的部分(正型)。在任一个情况均可，将形成于基材上的感光膜的表面(与基材相反侧的面)显影，于该表面形成细微的凹部或凸部。然后，根据需要，进一步使未被除去而残留的感光膜的部分固化。再者，在不存在基材的情况，亦可于曝光步骤后、显影步骤前，将感光膜的其中一方的面例如掩模部件侧的面粘贴于其他基材。另外，即使在基材存在的情况，亦可将基材设置成为与掩模部件为相反侧，从感光膜侧进行曝光，在曝光步骤后、显影步骤前，将感光膜的掩模部件侧的面粘贴于其他基材，再剥离最初的基材。
其次，说明关于用于实施本发明的表面凹凸的制作方法的材料。
感光膜10，亦可作为单一膜加以制作的，但，优选通过于基材11或光扩散层30上进行涂布、干燥来加以形成的，或使用密接设置于基材11或光扩散层30上的。在形成于基材11或光扩散层30上的情况，感光膜10亦可为固体或亦可为液体。
作为形成感光膜10的感光性树脂组合物，一般能够使用，在光刻的领域所使用的抗蚀剂或光固化性树脂。作为经光而不溶化或可溶化的树脂，可举出有对于聚乙烯醇、酚醛树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂等，导入肉桂酸残基、查耳酮残基、丙烯酸残基、重氮鎓盐残基、叠氮基苯(phenyl azide)残基、o—叠氮基醌(quinone azide)残基、香豆素残基、2，5—二甲氧茋(dimethoxystilbene)残基、苯乙烯基吡啶(styrylpyridine)残基、α—苯基马来酰亚胺(phenylmaleimide)、蒽(anthracene)残基、吡喃酮(pyrone)残基等感光基的感光性聚合体。
另外，作为光固化性树脂，能够使用通过光的照射进行交联固化的光聚合性预聚物。作为光聚合性预聚物，可举出具有环氧系丙烯酸、聚酯系丙烯酸酯、聚氨酯系丙烯酸酯、多元醇系丙烯酸酯等具有丙烯酰基的树脂、多硫醇—多烯树脂等。光聚合性预聚物亦可单独使用，但为了提升交联固化性、交联固化膜的硬度，亦可加入光聚合性单体。作为光聚合性单体，使用2—乙基已酯丙烯酸酯、2—羟乙基丙烯酸酯、2—羟丙基丙烯酸酯、丁氧基乙基丙烯酸酯等单官能丙烯酸单体，1，6—己二醇丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇丙烯酸酯等的双官能丙烯酸单体，二异戊四醇六丙烯酸酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等多官能丙烯酸单体等的1种或2种以上。
感光性树脂组合物中，除了上述的感光性聚合体或光聚合性预聚物及光聚合性单体以外，还可根据需要，添加光聚合引发剂或紫外线增敏剂等。作为光聚合引发剂，能够使用苯偶姻醚(benzoin ether)系、缩酮系、乙酰苯系、噻吨酮系等的自由基型光聚合引发剂，重氮鎓盐、二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐、三芳基铍盐(triaryl beryllium salt)、苄基吡啶硫氰酸盐(benzyl pyridinium thiocyanate)、二烷基苯甲酰甲基锍盐(dialkylphenacyl sulfonium salt)、二烷基羟基苯基锍盐(dialkyl hydroxyphenyl sulfonium salt)、二烷基羟基苯鏻盐(dialkyl hydroxy phenylphosphonium salt)等或复合系的阳离子型光聚合引发剂等。另外，作为紫外线增敏剂，能够使用正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。
当形成表面凹凸后直接用于光扩散膜、光控制膜等光学部件的情况时，感光膜优选使用具有高光透过性的材料。作为这样的材料，在上述的光固化性树脂中，特别优选丙烯酸系树脂。在将形成于感光膜的凹凸作为模具来利用时，或依据形成有表面凹凸的部件的用途时，感光膜亦可被着色。
感光膜10的厚度未被特别限定，为较预形成的凸部的高度(凹部的深度)更厚者即可。
作为基材11，只要为对用于曝光的光具有透过性的材料，就没有特别的限定，能够使用由玻璃或塑料所构成的板或膜等。具体而言，能够使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚丙烯酸酯、丙烯酸、醋酸纤维素、聚氯乙烯等塑料膜或片，在尺寸稳定性的这一点上，特别是进行过延伸加工，特别是进行过双向延伸加工者为佳。
基材11的厚度是掩模部件20的遮光面20a与感光膜10之间、及由光扩散层30的感光膜侧的面至感光膜10为止之间，赋予间隔者，依据欲形成于感光膜10的凹凸形状予以适宜选择。
光扩散层，亦能以单独的光扩散层进行处理，但在以单独的光扩散层进行处理为困难的情况时，亦可形成于基材上。基材可使用与作为掩模部件的基材例示的例子相同的基材，亦可如图3(b)所示，与掩模部件的基材兼用者。光扩散层是由球状微粒与粘结剂树脂所构成的。
作为球状微粒，能够使用氧化硅、氧化铝、滑石、氧化锆、氧化锌、二氧化钛等的无机系的微粒，聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、苯并胍胺、有机硅树脂等有机系的微粒。特别是在容易获得球形的形状的这一点上，优选使用有机系的微粒。
球状微粒的平均粒径，会因作为目的的凹凸形状而有所不同。在不想破坏凹凸形状的表面的情况时，球状微粒的平均粒径优选为作成掩模部件的掩模径(开口径)的1/10以下，更优选将平均粒径作成1μm以下并符合前述条件。相反地，在欲破坏凹凸形状的表面的情况，球状微粒的平均粒径，优选作成超过掩模部件的掩模径(开口径)的1/10，更优选将平均粒径作成1μm以上并符合前述条件。通过破坏凹凸形状的表面，可在作为光控制膜加以使用之际不易产生眩目，可提升作为光扩散板加以使用时的扩散性。
作为粘结剂树脂，只要为透明且均等地分散保持球状微粒的即可，不限于固体，亦可为液体或液晶等的流体。其中，为了以光扩散层单体维持形状，优选玻璃或高分子树脂。
作为玻璃，如果不会失去光扩散层的光透过性，即没有特别限定，但，一般可举出硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃、硼酸盐玻璃等的氧化玻璃等。作为高分子树脂，只要不会失去光扩散层的光透过性，就没有特别限定，能够使用聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酸聚氨酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、聚氨酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、缩醛系树脂、乙烯系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、蜜胺系树脂、酚醛树脂、有机硅树脂、氟系树脂等热塑性树脂、热固化性树脂、电离放射线固化性树脂等。
光扩散层的浊度H如上述，优选60％以下，更优选5～50％。浊度是可通过球状微粒与粘结剂树脂的折射率差、球状微粒的平均粒径、球状微粒的含有量、光扩散层的厚度来加以调整。另外，在浊度中存在有内部浊度与外部浊度，将光扩散层的两表面实质作成平滑(在JIS B0601：2001的算术平均粗糙度Ra为0.30μm以下，优选0.15μm以下)，且实质上不产生外部浊度较为理想。通过将光扩散层的两表面实质上作成平滑，能够将距离t或距离T作成均等。再者，当光扩散层的两表面作成非平滑时，则会产生外部浊度，同时距离t或距离T会局部地改变。利用这种距离t或距离T的局部改变，即使面内为相同的掩模图案，也能够制作局部不同的凹凸形状。
变化光扩散层的厚度等，亦可使浊度在光扩散层的一维方向或二维方向具有倾斜。藉此，能够做成凹凸形状在一维方向或二维方向变化的光学部件等。
作为掩模部件20，能够使用一般在光刻的领域所使用的掩模。在感光膜为负型的情况，使用形成有与作为目的的图案对应的多个细微的开口(孔)的掩模部件20，而在为正型的情况，使用形成有与作为目的的图案对应的遮光图案的掩模部件20。开口或遮光部例如为圆形或椭圆形，但不限于此。亦可为细的细缝状的开口或遮光部。开口或遮光部的排列是依据作为目的的图案而不同，亦有随机的情况亦有规则的排列的情况。凸部或凹部的底面的形状成为与掩模部件20的开口或遮光部的形状相同。
掩模部件20的掩模径(开口径)的大小是根据用途而不同，故不可总括论说。再者，在本说明书，掩模径，在圆形开口的情况表示直径，在椭圆的情况表示短径，在不规则形状的情况，表示外接于不规则形状所做成的四边形的最短的边。另外，在开口为细缝状的情况时，掩模径表示细缝的宽的短的侧的长度。
光源40只要产生上述的感光性树脂组合物具有感光性的波长的光，即可。具体而言，若为可与紫外线反应的感光性树脂的话，则可使用高压水银灯、金属卤素灯、氙气灯等的UV灯。
在通过本发明的表面凹凸的制作方法，制得的表面有细微的凹凸的感光膜(称为表面凹凸部件)透明时，可直接作为光学部件或与其他的光学部件组合加以使用。或亦可如图9所示，以通过本发明的表面凹凸的制作方法所制作的表面凹凸部件50作为模具，进一步制作电铸模60，使用此电铸模60，以任意的材料大量生产与表面凹凸部件相同表面形状的部件70。具体而言，在表面凹凸部件50的表面通过溅镀等形成导电膜51，在通过一般的电铸法，在导电膜51的表面形成电铸层后，除去表面凹凸部件50，作成电铸模60。将例如光固化性树脂71充满于此电铸模60后，以透明的膜72覆盖，通过膜72使光固化性树脂71固化，藉此制作具有与原来的表面凹凸相同的凹凸的部件70。
在使用这种电铸模60时，因材料的选择范围变广，所以，能够选择被作为目的的用途(例如光学部件)所要求特性优良的材料，容易且大量地制造具有高精度地形成的凹凸的目的部件。例如，通过使用透明材料作为流入至模具的材料，能够制作光扩散板、光控制膜、微透镜等光学部件。
实施例
以下，通过实施例进一步说明本发明。
在由厚度50μm的聚酯膜(CosmoshineA4300(商品名称)：东洋纺织公司、折射率1.64)所构成的基材11上涂布负型的抗蚀剂(EKIRESIN PER—800RB—2203：互应化学工业公司)并予以干燥，形成厚度100μm的感光膜10。
其次，在由厚度50μm的聚酯膜(CosmoshineA4300：东洋纺绩公司、折射率1.64)所构成的基材31上涂布下记处方的光扩散层涂布液a并予以干燥，形成厚度5μm、浊度8％的光扩散层30。光扩散层30的粘结剂树脂的折射率为1.54。
<光扩散层涂布液a>
·丙烯酸树脂100份
(ACRYDICA—807(商品名称)：大日本油墨化学工业公司)
(固形分50％)
·球状微粒(氧化硅)4.3份
(Tospearl105(商品名称)：GE东芝硅胶公司)
(折射率1.43、平均粒径0.5μm)
·固化剂19.5份
(TakenateD110N(商品名称)：三井化学聚胺酯公司)
(固形分60％)
·醋酸乙酯100份
·甲苯100份
接着，将感光膜10的基材11与光扩散层30对向重叠。再接着，使光扩散层30的基材31侧的面与形成有多个圆形开口的铬掩模20(以下，称为Cr掩模)的遮光面20a对向重叠(图10)，从Cr掩模侧，在以下的条件下进行曝光。再者，Cr掩模是准备掩模径30μm与40μm的2种Cr掩模，使用各自的掩模进行曝光。
<曝光、显影处理>
曝光是使用以高压水银灯作为光源的曝光器(喷射灯JL—2300：ORCMfg.Co.，Ltd)，将光予以平行化后进行。Cr掩模是设置成，光垂直地射入至掩模面。曝光量是通过积算光量计(UIT—102(受光部：UVD—365PD)：牛尾电机公司)，测定以365nm为中心的光，为100mJ/cm2。
在曝光后，以显影液(碳酸钠1％水溶液)进行显影，然后，以流水进行水洗并予以干燥，获得在基材表面形成了凹凸(相当于曝光部的凸形状)的试料。
<实施例2～5>
除了将感光膜10的形成基材11的聚酯膜的厚度、光扩散层30的形成基材31的聚酯膜的厚度、及光扩散层30的浊度如表1般变更以外，其余与实施例1相同地实施，获得在基材表面形成了凹凸的试料。再者，在实施例2～5中，在将浊度作成16％、26％、33％时，于将光扩散层的厚度作成5μm的状态下，将光扩散层涂布液中的球状微粒的添加量变更成9.9份、18.5份、27.2份。
<实施例6>
将感光膜10的形成基材11的聚酯膜的厚度、光扩散层30的形成基材31的聚酯膜的厚度、及光扩散层30的浊度与实施例5相同，但，变更配置使感光膜10的基材11与光扩散层30的基材31相对向重迭(图11)。光扩散层30侧的面与铬掩模20(以下，称为Cr掩模)的遮光面20a相对向重迭，除此以外，其余与实施例1相同地操作，获得在基材表面形成有凹凸(相当于曝光部的凸形状)的试料。
<实施例7～9>
将感光膜10的形成基材11的聚酯膜的厚度、光扩散层30的形成基材31的聚酯膜的厚度、及光扩散层30的浊度作成与实施例2相同，但，使光扩散层30的基材31侧的面与铬掩模20(以下，Cr掩模)的遮光面20a之间具有间隔(图12)。除此以外，其余与实施例1相同地操作，获得在基材表面形成有凹凸(相当于曝光部的凸形状)的试料。再者，将间隔作为空气层，间隔设为表1的值。
另外，实施例1～9的距离t及距离T一并显示于表1。另外，将介于从光扩散层的感光膜侧的面至感光膜为止之间的媒体的折射率设为n时的t/n、及介于由掩模部件的遮光面至感光膜为止之间的媒体的折射率设为N时的T/N一并显示于表1。
〔表1〕
 
基材11的厚度 基材31的厚度 间隔 浊度(H) 距离(t) t/n 距离(T) T/N
实施例1 50μm 50μm - 8％ 50μm 30μm 105μm 64μm
实施例2 50μm 50μm - 16％ 50μm 30μm 105μm 64μm
实施例3 50μm 50μm - 33％ 50μm 30μm 105μm 64μm
实施例4 50μm 150μm - 26％ 50μm 30μm 205μm 125μm
实施例5 100μm 100μm - 26％ 100μm 61μm 205μm 125μm
实施例6 100μm 100μm - 26％ 200μm 122μm 205μm 125μm
实施例7 50μm 50μm 250μm 16％ 50μm 30μm 355μm 314μm
实施例8 50μm 50μm 500μm 16％ 50μm 30μm 605μm 564μm
实施例9 50μm 50μm 750μm 16％ 50μm 30μm 855μm 814μm
通过激光显微镜(VK—9500：基恩斯(Keyence)公司)，测定在实施例1～9所获得的试料的表面形状。图4显示在实施例1～3所获得的凹凸形状(实施例1为图4上段、实施例2为图4中段、实施例3为图4下段)，图5显示在实施例4～6所获得的凹凸形状(实施例4为图5上段、实施例5为图5中段、实施例6为图5下段)，图6显示在实施例7～9所获得的凹凸形状(实施例7为图6的第2段、实施例8为图6的第3段、实施例9为图6的第4段)。另外，作为参考，图6的第1段显示在实施例2所获得的凹凸形状。
实施例1～3是将距离t(t/n)及距离T(T/N)固定并使浊度H变化的示例。如图4所示，实施例1～3所获得的试料的表面凹凸是随着浊度H的值增加，光的扩宽变大，凸的高度变低，并且基底变广。
实施例4～6是将浊度H及距离T(T/N)固定并使距离t(t/n)变化的示例。如图5所示，实施例4～6所获得的试料的表面凹凸随着距离t(t/n)变长而光的扩宽变大，凹凸的高度变低若干。再者，当距离t(t/n)变长时，凹凸的基底会变广，但在图5，在距离t为200μm(t/n为122μm)时，基底附近未到达临界曝光量，基底没有距离t为50μm或100μm(t/n为30μm或61μm)的情况广。
实施例7～9是将浊度H及距离t(t/n)固定并使距离T(T/N)变化的示例。如图6所示，可得知在实施例7～9所获得的凹凸形状的变化的倾向是因掩模径而不同。在掩模径30μm的情况，伴随着距离T(T/N)的增加，凹凸的前端变尖的倾向尤为显著。另外，凹凸的高度是至距离T＝605μm(T/N＝564μm)为止会增加，但当超过此值时则会减少。一方面，在掩模径40μm的情况，可看见伴随着距离T(T/N)的增加，凹凸的前端变尖的倾向，凹凸的高度亦增加。这些现象是因通过掩模的圆形开口的光的衍射所产生的。
<实施例10>
除了将感光膜10的基材11变更成厚度100μm的聚酯膜(商品名称：Lumirror T60、东丽公司、折射率1.64)以外，其余与实施例1～9相同地进行曝光。在曝光结束后，将聚酯膜剥离，通过接着剂，将经剥离所露出的感光膜10的面粘贴于铝板。然后，与实施例1～9同样地进行显影、水洗、干燥，获得在铝板表面形成了凹凸的9种类的试料。
在本实施例所获得的试料的表面形状是与根据实施例1～9的相同条件所获得的形状大致相同。此结果显示，在曝光后，将感光膜10的掩模部件侧的面粘贴于其他基材后进行显影，也可在其他基材形成凹凸。藉此，即使为不透光的基材，藉由使用本方法，亦可形成凹凸。
<实施例11>
对在实施例1～9所制作的凹凸表面，流入2液固化型有机硅树脂(KE—108、固化剂CAT—108、信越化学工业公司)，在固化后，将凹凸表面剥离，获得形成了表面凹凸的有机硅树脂。
在本实施例所获得的硅树脂的表面凹凸，为具有与原来的表面凹凸相反的凹凸的形状。
<实施例12>
对在实施例1～9所制作的凹凸表面，如图9所示，通过溅镀形成镍膜51，将表面导电化。通过一般的镍电铸法，在此表面形成镍层60。此镍层60的表面为具有与原来的表面凹凸相反的凹凸的形状。进一步，以此镍层60为模具，对此模具充满光固化性树脂71后，以透明的聚酯膜72加以覆盖，通过聚酯膜72使光固化性树脂71固化，藉此，能够在聚酯膜72上，形成具有与原来的表面凹凸相同凹凸的形状。

Claims (14)

1.一种表面凹凸的制作方法，其是在材料的表面制作细微凹凸的方法，其特征在于，
包括：在由感光性树脂组合物所构成的感光膜的一侧，将具有光透过部和光不透过部的掩模部件对所述感光膜保持间隔进行配置的步骤；在所述掩模部件与所述感光膜之间，配置光扩散层的步骤；由配置于所述掩模部件侧的光源照射光，经过所述掩模部件的光透过部，将所述感光膜曝光的步骤；以及，通过显影除去所述感光膜的曝光部或未曝光部，在所述感光膜制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸的步骤，
在所述曝光步骤中，作为曝光条件控制所述光扩散层的浊度、从所述光扩散层的感光膜侧的面至所述感光膜的距离、从所述掩模部件的遮光面至所述感光膜的距离，控制所述曝光部或未曝光部的形状。
2.根据权利要求1所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述光扩散层由球状微粒与粘结剂树脂构成，所述球状微粒的平均粒径为所述掩模部件的掩模径的1/10以下。
3.根据权利要求1所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述感光膜由经曝光而不溶化的负型的感光性树脂组合物构成。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面凹凸的制作方法，其中，所述感光膜形成于实质上透明的基材或密接设置于实质上透明的基材，从基材侧被曝光。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的表面凹凸的制作方法，其中，曝光步骤之后，在将所述感光膜的掩模部件侧的面粘贴于其他基材后，进行显影，从而在该基材制作凹凸表面。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的表面凹凸的制作方法，其中，形成有表面凹凸的部件为光学部件。
7.一种表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有细微凹凸的模具，来制作表面具有与形成于所述模具的表面凹凸相反的凹凸的部件的方法，其特征在于，
作为所述模具，使用通过权利要求1～5中任一项所述的表面凹凸的制作方法所制作的模具。
8.根据权利要求7所述的表面凹凸的制作方法，其中，形成有表面凹凸的部件为光学部件。
9.一种表面凹凸的制作方法，其是使用在表面形成有细微凹凸的模具，来制作表面具有与形成于所述模具的表面凹凸相反的凹凸的部件的方法，其特征在于，
作为所述模具，使用利用由权利要求1～5中任一项所述的表面凹凸的制作方法制得的第1模具所制作的第2模具，来制作在表面具有与所述第1模具相同凹凸的部件。
10.根据权利要求9所述的表面凹凸的制作方法，其中，形成有表面凹凸的部件为光学部件。
11.一种表面凹凸的制作方法，其是在材料的表面制作细微凹凸的方法，其特征在于，
包括：在由感光性树脂组合物所构成的感光膜的一侧，将具有光透过部和光不透过部的掩模部件对所述感光膜保持间隔进行配置，并且在所述掩模部件与所述感光膜之间，配置光扩散层的步骤；由配置于所述掩模部件侧的光源照射光，经过所述掩模部件的光透过部，将所述感光膜曝光的步骤；以及，通过显影除去所述感光膜的曝光部或未曝光部，在所述感光膜制作以曝光部或未曝光部的形状所决定的凹凸的步骤，
所述曝光步骤中包括，作为曝光条件控制所述光扩散层的浊度、从所述光扩散层的感光膜侧的面至所述感光膜的距离、从所述掩模部件的遮光面至所述感光膜的距离的工序。
12.根据权利要求11所述的表面凹凸的制作方法，其中，使从所述掩模部件的遮光面至所述感光膜的距离在感光膜的一维方向或二维方向上变化。
13.根据权利要求11或12所述的表面凹凸的制作方法，其中，使从所述光扩散层的感光膜侧的面至所述感光膜的距离在感光膜的一维方向或二维方向上变化。
14.根据权利要求11或12所述的表面凹凸的制作方法，其中，使所述光扩散层的厚度在所述光扩散层的一维方向或二维方向上变化。
CN2007800124445A 2006-03-30 2007-03-26 表面凹凸的制作方法 Expired - Fee Related CN101416116B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006093394 2006-03-30
JP093394/2006 2006-03-30
PCT/JP2007/056162 WO2007116671A1 (ja) 2006-03-30 2007-03-26 表面凹凸の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101416116A CN101416116A (zh) 2009-04-22
CN101416116B true CN101416116B (zh) 2012-01-25

Family

ID=38580970

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800124445A Expired - Fee Related CN101416116B (zh) 2006-03-30 2007-03-26 表面凹凸的制作方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8603371B2 (zh)
JP (1) JP5065252B2 (zh)
KR (1) KR101328818B1 (zh)
CN (1) CN101416116B (zh)
TW (1) TWI416170B (zh)
WO (1) WO2007116671A1 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101441721B1 (ko) * 2007-03-26 2014-09-17 키모토 컴파니 리미티드 표면 요철의 제작방법
JP5495135B2 (ja) * 2008-12-16 2014-05-21 株式会社ブイ・テクノロジー 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク
JP4811520B2 (ja) * 2009-02-20 2011-11-09 住友金属鉱山株式会社 半導体装置用基板の製造方法、半導体装置の製造方法、半導体装置用基板及び半導体装置
KR101711646B1 (ko) * 2009-12-11 2017-03-03 엘지디스플레이 주식회사 임프린트용 몰드의 제조방법 및 임프린트용 몰드를 이용한 패턴 형성방법
JP2012058479A (ja) * 2010-09-08 2012-03-22 Asahi Kasei Corp 光拡散シート及び光源ユニット
US8866177B2 (en) 2010-12-21 2014-10-21 Kimoto Co., Ltd. Microstructure for light-emitting element, and light-emitting element and illumination device including microstructure
CN104583818B (zh) * 2012-10-12 2017-09-12 松下知识产权经营株式会社 光学部件以及照明罩
WO2018151097A1 (ja) * 2017-02-15 2018-08-23 ナルックス株式会社 拡散素子
JP2021056503A (ja) * 2019-09-26 2021-04-08 ナルックス株式会社 拡散素子
CN111148357B (zh) * 2019-12-31 2021-06-01 上海冠众光学科技有限公司 一种层压模具的制作方法
CN113608407B (zh) * 2021-08-18 2023-12-05 业成科技（成都）有限公司 掩膜、其制备方法及曝光方法
CN115016054A (zh) * 2022-05-31 2022-09-06 Tcl华星光电技术有限公司 广视角偏光片及其制作方法、和显示装置
CN114994814A (zh) * 2022-06-01 2022-09-02 Tcl华星光电技术有限公司 偏光散射膜及其制作方法、显示面板

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1477409A (zh) * 2002-05-13 2004-02-25 ���ṫ˾ 微透镜阵列制造方法、液晶显示器件及制造方法和投影仪

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01205135A (ja) * 1988-02-12 1989-08-17 Asahi Optical Co Ltd フォーカシングスクリーン用母型の作製方法
JP2972271B2 (ja) * 1989-04-26 1999-11-08 株式会社日立製作所 透過型スクリーン及びそれに用いられるシート状部材の製造方法、並びにそのスクリーンを用いた背面投写型画像ディスプレイ装置
JPH06130205A (ja) 1992-10-16 1994-05-13 Fujitsu Ltd マイクロレンズの形成方法
JPH07323428A (ja) * 1994-06-01 1995-12-12 Nippon Zeon Co Ltd 光学シート製造用スタンパーおよびそれを用いた光学シートの製造方法
JPH0854627A (ja) * 1994-08-11 1996-02-27 Nippon Zeon Co Ltd 液晶用照明装置
JP3387871B2 (ja) 1996-06-04 2003-03-17 シチズン時計株式会社 微細形状部品及びその製造方法
JP4336521B2 (ja) 2002-05-24 2009-09-30 住友化学株式会社 拡散反射板の製造方法
US7160649B2 (en) * 2002-07-11 2007-01-09 Hitachi Via Mechanics, Ltd. Gray level imaging masks, optical imaging apparatus for gray level imaging masks and methods for encoding mask and use of the masks
CN100373176C (zh) 2002-08-30 2008-03-05 木本股份有限公司 光控制薄膜
JP2004310077A (ja) 2003-03-25 2004-11-04 Nikon Corp マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ及び露光装置
JP2004294745A (ja) 2003-03-27 2004-10-21 Nikon Corp 拡散板の製造方法
CN100468191C (zh) * 2003-05-14 2009-03-11 木本股份有限公司 影像显示设备和装饰显示体
JP2005062625A (ja) 2003-08-18 2005-03-10 Seiko Epson Corp 光反射性基板の製造方法、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1477409A (zh) * 2002-05-13 2004-02-25 ���ṫ˾ 微透镜阵列制造方法、液晶显示器件及制造方法和投影仪

Also Published As

Publication number Publication date
CN101416116A (zh) 2009-04-22
US20100230839A1 (en) 2010-09-16
US8603371B2 (en) 2013-12-10
KR101328818B1 (ko) 2013-11-13
TW200739137A (en) 2007-10-16
JP5065252B2 (ja) 2012-10-31
KR20090019776A (ko) 2009-02-25
WO2007116671A1 (ja) 2007-10-18
JPWO2007116671A1 (ja) 2009-08-20
TWI416170B (zh) 2013-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101416116B (zh) 表面凹凸的制作方法
CN101283313B (zh) 表面凹凸的制作方法
CN101636671B (zh) 表面凹凸的制作方法
TW512240B (en) Optically functional sheet and surface light source using the same as well as image display device
WO2013163933A1 (zh) 一种具有凹陷微结构的导光片及其制作方法
CN101281365A (zh) 物质图形、模具、金属薄膜图形、金属图形及其形成方法
CN104335080A (zh) 光学元件及其制造方法、显示元件及投射型图像显示装置
CN103460077A (zh) 印刷材料及照相材料
JPH0560908A (ja) 面状光源装置およびその製法ならびにこれに用いられるドライフイルムレジスト
CN102036908A (zh) 微观尺度模具的制造
US20080110358A1 (en) Non-Attenuating Light Collimating Articles for Graphic Arts
US7258966B2 (en) Method for manufacturing a diffuser for a backlight module
JP2004045586A (ja) 遮光層を有するマイクロレンズアレイシート
JP2007078958A (ja) 光学シートの製造方法及び光学シート
JP2009244503A (ja) 凹凸部材の製造方法
JPH0545652A (ja) 面状光源装置およびその製法
JP2005037802A (ja) 光散乱フィルムおよびそれを用いた表示装置
KR101906906B1 (ko) 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법
JP2006114380A (ja) 導光板およびバックライトユニット
JPH05173130A (ja) 面状光源装置用透光板およびその製法
CN101819294A (zh) 一种光学元件与其制造方法及一背光模块
JPH07281182A (ja) 面状光学素子の製造方法
JP2005077444A (ja) マイクロレンズアレイ用母型の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20120125

Termination date: 20160326