JP2003206295A - 光学活性ジホスフィン配位子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 転化率、選択性などの面で従来の軸不斉以外
の光学活性ジホスフィン化合物を有する触媒の触媒性能
を遙かに上回る、新しいホスフィン化合物およびその製
造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ） （R¹およびR²は互いに同一または異なっていてもよい置
換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数1から20の
炭化水素基であり、R³およびR⁴は互いに同一または異な
っていてもよい水素または炭素数1から3の炭化水素基で
あり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸は互いに同一または異なって
いてもよい、置換基を有してもよい炭素数1から30の炭
化水素基を示す。ただし、R¹およびR²がメチル基であ
り、R³およびR⁴が水素である場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸
はフェニル基、４−トリル基、および3，5−キシリル基
からなる群から選択される基のいずれでもなく、ならび
にR¹およびR²がフェニル基であり、R³およびR⁴が水素で
ある場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸の少なくとも１つはフェ
ニル基ではない。）で表される光学活性ジホスフィン化
合物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規光学活性ジホ
スフィンに関する。更に詳細には、ルテニウム、ロジウ
ム、パラジウムなどの金属と錯体を形成することによっ
て、種々の不斉合成反応における有用な触媒となり得る
新規なホスフィン化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】これまで、ロジウム、ルテニウム、パラ
ジウムなどの金属元素にキラルな第３級ホスフィン化合
物を配位させた錯体の中には、不斉合成用触媒として優
れた性能を有するものが多く知られている。第４版 実
験化学講座２６ 有機合成ＶＩＩＩ 第２５頁ないし第
２６頁に列挙されているように、この触媒性能を高める
ために様々な構造のホスフィン化合物がこれまで多数開
発されている。その中の代表例として、軸不斉ジホスフ
ィン化合物とそれ以外のホスフィン化合物を下記に示
す。

【０００３】軸不斉ジホスフィン化合物

【化３】

【０００４】軸不斉以外のジホスフィン化合物

【化４】

【０００５】ここで使用する略号は下記のとおりであ
る。 BINAP 2，2´−ビス（ジフェニルホスフィノ）−1，1´−ビナフチル CHIRAPHOS 2，3−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン DABINAP 2，2´−ビス（ジ−3，5−ジアルキルフェニルホスフィノ）− 1，1´−ビナフチル DIOP 4，5−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−2，2−ジメチル −1，3−ジオキソラン DIPAMP 1，2−ビス（2−メトキシフェニル−フェニルホスフィノ）エタ ン SKEWPHOS 2，4−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン TolBINAP 2，2´−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−1，1´−ビナフ チル TolSKEWPHOS 2，4−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）ペンタン XylSKEWPHOS 2，4−ビス（ジ−3，5−キシリルホスフィノ）ペンタン

【０００６】これまで多数開発されたジホスフィン化合
物の中で、軸不斉の光学活性ジホスフィン化合物をもつ
金属触媒が、優れた性能を有するものであることが報告
されている。BINAPは、その中でも優れたものの一つで
ある（特開昭５５−６１９３７号公報参照）。また、
２，２´−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィ
ノ）−１，１´−ビナフチル（特開昭６４−６８３８６
号公報参照）が、不斉合成反応に応用されていることが
報告されている。

【０００７】また、TolBINAPのロジウム錯体（特開昭６
０−１９９８９８号公報参照）、BINAPとTolBINAPのル
テニウム錯体（特開昭６１−６３６９０号公報参照）と
DABINAPおよびこれを配位子とする遷移金属錯体（特開
平３−２５５０９０号公報参照）については、不斉水素
化反応、不斉異性化反応および不斉脱水素反応が良好な
結果を持って行われたことが報告されている。

【０００８】最近、特開平11-189600号公報に記載され
ているジホスフィン−ルテニウム−ジアミン錯体触媒
が、ケトン類の不斉水素化反応に高い性能を示すことが
報告されおり、特に、軸不斉のジホスフィン化合物であ
る光学活性BINAPからなる錯体触媒が、高い光学純度で
光学活性アルコール化合物を与えている。

【０００９】以上、軸不斉のジホスフィン化合物をもつ
金属触媒は、不斉合成反応に利用され高い性能を有して
いるが、原料である軸不斉の光学活性ジホスフィン化合
物は、合成が多段階である、光学分割工程を要する
等の理由により、非常に高価な場合が多い。そのため、
軸不斉のジホスフィン化合物をもつ金属触媒は、工業的
に用いるには必ずしも好適ではない。これに対して、軸
不斉以外のジホスフィン化合物は、合成が容易であ
り、光学分割工程が不要であり安価に製造できること
から、不斉合成反応への利用が期待される。

【００１０】軸不斉以外のジホスフィン化合物をもつ金
属触媒のうち、ジホスフィン−ルテニウム−ジアミン錯
体触媒以外の金属錯体が多くの不斉合成反応に利用され
ている。例えば、DIOP、CHIRAPHOS、およびDIPAMP配位
子をもつ光学活性ロジウム錯体が、エナミドの不斉還元
反応に有効であると報告されている（第４版 実験化学
講座２６ 有機合成ＶＩＩＩ 第27頁）。

【００１１】また、SKEWPHOS、TolSKEWPHOS、およびXyl
SKEWPHOS配位子をもつ金属触媒も不斉合成反応に利用さ
れている。例えば、Macromolecules，32，4183-4193（1
999）に（meso−skewphos）Pd(OCOR)（ R=CH₃，CF₃）と
（rac−skewphos）Pd(OCOR)（R=CH₃，CF₃）錯体を触媒
に用い、エテンと一酸化炭素の重合反応が報告されてい
る。また、特開2000−26407号公報には、ジホスフィン
化合物（SKEWPHOSあるいは、TolSKEWPHOS）とロジウム
錯体の存在下に不斉ヒドロホルミル化を行い、カルバペ
ネム系抗生物質の中間体化合物が製造されることが記載
されている。

【００１２】さらに、Tetrahedron Letters，Vol．3
8，No．37，6603-6606（1997）にRuBr ₂（skewphos）錯
体を触媒に用い、β−ケトエステル類、β−ケトホスフ
ィネート類、およびフェニルチオスルフィド類の水素化
反応が良好な結果を持って行われたことが報告されてい
るが、性能はBINAP錯体触媒より劣る。

【００１３】また、Tetrahedron：Asymmetry，9，3241-
3246（1998）に [Rh（Tolskewphos）(シクロオクタ−
1，5−ジエン)]BF₄と[Rh（Xylskewphos）(シクロオクタ
−1，5−ジエン)]BF₄錯体を触媒に用い、2-(6’-メトキ
シ-2’-ナフチル)プロペン酸の水素化反応がそれぞれ13
%ee、26％eeの光学純度で行われたことも報告されてい
る。

【００１４】先に軸不斉のジホスフィン化合物である光
学活性BINAPをもつジホスフィン−ルテニウム−ジアミ
ン錯体触媒が、ケトン類の不斉水素化反応に高い性能を
示し、高い光学純度で光学活性アルコール化合物を与え
ることを述べたが、BINAP以外の光学活性ジホスフィン
化合物をもつルテニウム錯体触媒も報告されている。例
えば、CHIRALITY 12，514−522（2000）に光学活性SKEW
PHOSと光学活性ジフェニルエタンジアミンをもつルテニ
ウム錯体を触媒とするアセトフェノンの不斉水素化反応
が報告されているが、得られる光学活性アルコールの光
学純度は84％eeであり、光学活性BINAPをもつジホスフ
ィン−ルテニウム−ジアミン錯体触媒と比較して低く、
真に実用的な錯体触媒とは言えない。

【００１５】以上のように、軸不斉以外の光学活性ジホ
スフィン化合物をもつ金属触媒も多くの不斉合成反応に
利用され、高い性能を示す錯体の開発がなされている。
しかし、軸不斉以外の光学活性ジホスフィン化合物と光
学活性ジアミン化合物をもつ金属触媒によるケトン類の
不斉水素化反応は、反応性とエナンチオ選択性の面で満
足いくものではない。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、従来の軸不斉のジホスフィン化合物に比べて合成が
容易かつ安価であり、およびこれを配位子とする遷移金
属錯体が、様々な不斉合性反応において、転化率、選択
性などの面で従来の軸不斉以外の光学活性ジホスフィン
化合物を有する触媒の触媒性能を遙かに上回る、新しい
ホスフィン化合物およびその製造方法を提供することを
目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の発明者らは、前
記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、軸不斉以外
の光学活性ジホスフィン化合物に種々の置換基を導入す
ることにより、前記課題が解決されることを見出し、本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、 一般
式（Ｉ）

【化５】 （R¹およびR²は互いに同一または異なっていてもよい置
換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数1から20の
炭化水素基であり、R³およびR⁴は互いに同一または異な
っていてもよい水素または炭素数1から3の炭化水素基で
あり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸は互いに同一または異なって
いてもよい、置換基を有してもよい炭素数1から30の炭
化水素基を示す。ただし、R¹およびR²がメチル基であ
り、R³およびR ⁴が水素である場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸
はフェニル基、４−トリル基、および3，5−キシリル基
からなる群から選択される基のいずれでもなく、ならび
にR¹およびR²がフェニル基であり、R³およびR⁴が水素で
ある場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸の少なくとも１つはフェ
ニル基ではない。）で表される光学活性ジホスフィン化
合物に関する。

【００１８】また、本発明は、R¹およびR²がメチル基で
あり、R³が水素であり、R⁴がメチル基であり、R⁵、R⁶、
R⁷およびR⁸が互いに同一で、かつ、フェニル基、４−ト
リル基、および3，5−キシリル基からなる群から選択さ
れる、請求項１に記載の光学活性ジホスフィン化合物に
関する。

【００１９】さらに、本発明は、R¹およびR²がフェニル
基であり、R³およびR⁴が水素であり、R⁵、R⁶、R⁷および
R⁸が同一で、かつ、４−トリル基、および3，5−キシリ
ル基からなる群から選択される、前記光学活性ジホスフ
ィン化合物に関する。

【００２０】そして、本発明は、R¹およびR²がフェニル
基であり、R³が水素であり、R⁴がメチル基であり、R⁵、
R⁶、R⁷およびR⁸が互いに同一であり、かつ、フェニル
基、４−トリル基、または3，5−キシリル基からなる群
から選択される基である、前記光学活性ジホスフィン化
合物に関する。

【００２１】そしてまた、本発明は、前記一般式（Ｉ）
で表される光学活性ジホスフィン化合物を製造するため
の方法であって、ジアリールホスファイトとジメチルス
ルフィドボランを反応させ、ジアリールホスフィンボラ
ンを得る工程を含むことを特徴とする、前記方法に関す
る。前記ジアリールホスフィンボランをアルキルリチウ
ムと反応させてリチウム塩を得て、さらにこれを光学活
性ジオール体をメシル化あるいはトシル化した化合物と
反応させ、ジホスフィンジボラン配位子を得る。その
後、テトラフルオロボロン酸ジメチルエーテル錯体を用
いてホスフィンボラン配位子の脱ボロン化を行うことに
より、一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。

【００２２】本発明の光学活性ジホスフィン化合物は、
既知の合成系を用いることによって容易に合成すること
ができる。また、本発明の光学活性ジホスフィン化合物
を配位子とする遷移金属錯体を触媒として用いることに
よって、各種ケトン類の不斉水素化反応を、従来より高
い反応性および選択性で行うことができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明は、以上のとおりの特徴を
もつものであるが、以下に詳しくその実施の形態につい
て説明する。まず、この発明の新規光学活性ジホスフィ
ン化合物を表す一般式（Ｉ）において、R¹、R²は同じで
あってもお互いに異なってもよい、置換基を有してもよ
い鎖状または環状の炭素数1から20の炭化水素基であ
り、R³、R ⁴は同じであってもお互いに異なってもよい水
素または炭素数1から3の炭化水素基であり、R⁵、R⁶、
R⁷、R⁸は同じであってもお互いに異なってもよい、置換
基を有してもよい炭素数1から30の炭化水素基を示す。

【００２４】ここで、置換基を有してもよい鎖状または
環状の炭素数1から20の炭化水素基であるR¹およびR
²は、脂肪族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素
基、単環または多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化
水素基、あるいは置換基をもつこれら炭化水素基の各種
のものであってよい。例えば、アルキル、アルケニル、
シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチ
ル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水
素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、ア
リール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置
換基を有するものが挙げられる。これらのうち好適なも
のはメチル基、エチル基、プロピル基、または置換若し
くは無置換のフェニル基であり、特に好適なものはメチ
ル基、フェニル基である。また、炭素数1から3の炭化水
素基であるR³およびR⁴は脂肪族の飽和炭化水素基であ
る。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基等が好適である。そして、置換基を
有してもよい炭素数1から30の炭化水素基であるR⁵、
R⁶、R⁷およびR⁸は、前記のR¹、R²と同様のもののうちか
ら適宜に選択されたものであってよい。例としてはフェ
ニル基および置換フェニル基が挙げられ、フェニル基お
よびメチル基、エチル基またはプロピル基の１種又は２
種以上が1から5個置換した置換フェニル基が好適であ
る。特に、フェニル基、４−トリル基、および3，5−キ
シリル基が好適である。

【００２５】一般式（Ｉ）で表される光学活性ジホスフ
ィン化合物の例として、以下の化合物が挙げられる。 ［１］２位、４位にジフェニルホスフィノ基を有するペ
ンタン誘導体としては、３位に炭素数１から３の１個ま
たは２個のアルキル基置換基を有する、２，４−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，
４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジメチ
ルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）
−３−エチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホ
スフィノ）−３，３−ジエチルペンタン、２，４−ビス
−（ジフェニルホスフィノ）−３−プロピルペンタン、
２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジ
プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフ
ィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジイソプロピルペ
ンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３
−エチル−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジフ
ェニルホスフィノ）−３−メチル−３−プロピルペンタ
ン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メ
チル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ
フェニルホスフィノ）−３−３−エチル−プロピルペン
タン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−
エチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）−３−プロピル−３−イソプ
ロピルペンタンなどが例示される。

【００２６】［２］２位、４位にジ−４−トリルホスフ
ィノ基を有するペンタン誘導体としては、３位に炭素数
１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有す
る、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３
−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホ
スフィノ）−３，３−ジメチルペンタン、２，４−ビス
−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エチルペンタ
ン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−
３，３−ジエチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−
トリルホスフィノ）−３−プロピルペンタン、２，４−
ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジプロ
ピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフ
ィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−
（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジイソプロピ
ルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィ
ノ）−３−エチル−３−メチルペンタン、２，４−ビス
−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチル−３−プ
ロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホス
フィノ）−３−メチル−３−イソプロピルペンタン、
２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エ
チル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４
−トリルホスフィノ）−３−エチル−３−イソプロピル
ペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィ
ノ）−３−プロピル−３−イソプロピルペンタンなどが
例示される。

【００２７】［３］２位、４位にジ−３，５−キシリル
ホスフィノ基を有するペンタン誘導体としては、３位に
炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を
有する、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフ
ィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジメチルペン
タン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィ
ノ）−３−エチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，
５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジエチルペンタ
ン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィ
ノ）−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジプロピルペ
ンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフ
ィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−
（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジイソ
プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシ
リルホスフィノ）−３−エチル−３−メチルペンタン、
２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−
３−メチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−
（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチル−３
−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５
−キシリルホスフィノ）−３−エチル−３−プロピルペ
ンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフ
ィノ）−３−エチル−３−イソプロピルペンタン、２，
４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−
プロピル−３−イソプロピルペンタンなどが例示され
る。

【００２８】［４］２位、４位にジフェニルホスフィノ
基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導体として
は、２位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル
基置換基を有する、１，３−ビス−（ジフェニルホスフ
ィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、
１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジ
フェニル−２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−
エチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィ
ノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジエチルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３
−ジフェニル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，
２−ジプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニル
ホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−イソプロピル
プロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−
１，３−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３
−ジフェニル−２−エチル−２−メチルプロパン、１，
３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェ
ニル−２−メチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビ
ス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−
２−メチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス
−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２
−エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ
フェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチ
ル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフ
ェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピ
ル−２−イソプロピルプロパンなどが例示される。

【００２９】［５］２位、４位にジ−４−トリルホスフ
ィノ基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導体とし
ては、２位に炭素数１から３の１個または２個のアルキ
ル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しな
い、1，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−
１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４
−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチ
ルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィ
ノ）−１，３−ジフェニル−２、２−ジメチルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−
１，３−ジフェニル−２−エチルプロパン、１，３−ビ
ス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニ
ル−２，２−ジエチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−
４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プ
ロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホス
フィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジプロピルプ
ロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）
−１，３−ジフェニル−２−イソプロピルプロパン、
１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３
−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプロパン、１，
３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジ
フェニル−２−エチル−２−メチルプロパン、１，３−
ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェ
ニル−２−メチル−２−プロピルプロパン１，３−ビス
−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル
−２−メチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビ
ス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニ
ル−２−エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス
−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル
−２−エチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビ
ス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニ
ル−２−プロピル−２−イソプロピルプロパンなどが例
示される。

【００３０】［６］２位、４位にジ−３，５−キシリル
ホスフィノ基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導
体としては、２位に炭素数１から３の１個または２個の
アルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を
有しない、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホス
フィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス
−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフ
ェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−
２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，
５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−
エチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリ
ルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジエチ
ルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホ
スフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィ
ノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジプロピルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィ
ノ）−１，３−ジフェニル−２−イソプロピルプロパ
ン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィ
ノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプ
ロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフ
ィノリル）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−メ
チルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリル
ホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−
プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシ
リルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−
２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，
５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−
エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−
３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−
２−エチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス
−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフ
ェニル−２−プロピル−２−イソプロピルプロパンなど
が例示される。

【００３１】しかし、この発明に用いることのできる化
合物は、これらに何ら限定されるものではない。

【００３２】本発明のホスフィン化合物の合成は、例え
ば次式のように行われる。

【化６】

【００３３】市販の臭化アリール（１）をマグネシウム
と処理してグリニャール試薬（２）をつくり、これにジ
エチルホスファイトを加え反応させて、ジアリールホス
ファイト（３）を得る。これとジメチルスルフィドボラ
ンを反応させて、ジアリールホスフィンボラン（４）を
得る。

【００３４】ジアリールホスフィンボラン（４）を得る
際、一般にはジアリールホスファイト（３）を三塩化シ
ランにより還元後ボロン化する二段階反応が用いられ
る。還元して得られるジアリールホスフィンは、酸化さ
れやすく後処理工程で一部ジアリールホスファイト
（３）に変換される。この混合物を酸化に安定なボロン
化物に誘導し、精製を行い高純度のジアリールホスフィ
ンボラン（４）を得るため、収率が低下する傾向があっ
た。一方、本発明の発明者らは、ジアリールホスファイ
ト（３）とジメチルスルフィドボランを反応することに
よって、還元を伴い一段階で高収率、高純度のジアリー
ルホスフィンボラン（４）を得ることを見出した。そこ
で、本発明においては、ジアリールホスフィンボラン
（４）を得るルートとして、前記のようにジアリールホ
スファイト（３）とジメチルスルフィドボランを反応さ
せるルートを用いる。

【００３５】光学活性3−メチル−2, 4−ペンタンジオ
ールは、J. Am. Chem. Soc., Vol．110，No.2, p629-63
1(1988)に記載されている方法によって、ルテニウム−B
INAP錯体を触媒に用い、3−メチル−2，４−ペンタンジ
オンを水素加圧下、水素化反応を行い合成される。ま
た、光学活性1，3−ジフェニルプロパンジオール（７）
と光学活性2−メチル−1，3−ジフェニルプロパンジオ
ール（８）は、特開昭63−316742号に記載されている方
法によって、ルテニウム−BINAP錯体を触媒に用いて、
それぞれ1，3−ジフェニルプロパンジオンと2−メチル
−1，3−ジフェニルプロパンジオンを水素加圧下、水素
化反応を行い合成される。

【００３６】この光学活性3−メチル−2，4−ペンタン
ジオール（６）と塩化ｐ−トルエンスルホニルを反応さ
せて、トシル化体（９）を得る。これに、（４）をアル
キルリチウムで処理して得られたリチウム塩（５）を反
応させ、ジホスフィンジボラン配位子（12）を得る。そ
の後、既知の方法[Tetrahedron Vol.51, No.28, pp.765
5-7666(1995)]により、テトラフルオロボロン酸ジメチ
ルエーテル錯体を用いて脱ボロン化を行い、本発明の光
学活性ホスフィン化合物である2，4−ビス（ジアリール
ホスフィノ）−3−メチルペンタン（15）を得る。ま
た、光学活性1，3−ジフェニルプロパンジオール
（７）、および、光学活性2−メチル−1，3−ジフェニ
ルプロパンジオール（８）を用い、同様の操作により、
本発明の光学活性ホスフィン化合物である1，3−ビス
（ジアリールホスフィノ）−1，3−ジフェニルプロパン
（16）、および1，3−ビス（ジアリールホスフィノ）−
1，3−ジフェニル−2−メチルプロパン（17）を得るこ
とができる。この方法で合成される光学活性ジホスフィ
ン化合物は、上記の化合物に限定されるものではない。

【００３７】本発明の新規ジホスフィン化合物は、ルテ
ニウム、ロジウム及びパラジウムなどの金属元素と錯体
を形成する。これらのうち光学活性ルテニウム錯体触媒
は、ケトン類の不斉水素化反応に用いられ光学活性アル
コール化合物を与える。

【００３８】ここで、光学活性ルテニウム錯体は、下記
に示した一般式（ＩＩ） ＲｕＸＹ（Ｐ−Ｐ） （ＩＩ） の光学活性ルテニウム−ジホスフィン錯体および一般式
（ＩＩＩ） ＲｕＸＹ（Ｐ−Ｐ）（Ｎ−Ｎ） （ＩＩＩ） の光学活性ジホスフィン−ルテニウム−ジアミン錯体で
ある。

【００３９】ここで、X、Yは同じでも異なってもよく、
水素、ハロゲンやカルボキシル基または他のアニオン基
を示すが、この場合の、その他のアニオン基としては各
種のものであってよく、例えばアルコキシ基、ヒドロキ
シ基などが例示される。P-Pは、前記の新規光学活性ジ
ホスフィン化合物を示す。また、N-Nは一般式（ＩＶ）

【化７】 で表される光学活性ジアミン化合物を示す。

【００４０】上記一般式（ＩＶ）において、R⁹、R¹⁰、R
¹¹およびR¹²は、互いに同一または異なっていてもよ
い、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環
状である炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これら
の基のうちの少なくとも一つは水素原子であり、R¹³、R
¹⁴、R¹⁵およびR¹⁶は、互いに同一または異なっていても
よい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または
環状である炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Zは
置換基を有していてもよい鎖状もしくは環状である炭素
数1から10の炭化水素基または単結合を示す。ここで、
前記の少なくとも一つの水素原子、置換基を有していて
もよい鎖状または環状である炭素数１から３０の炭化水
素基であるR⁹、R¹⁰、R¹¹およびR¹²は、水素原子、脂肪
族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素基、単環また
は多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、ある
いは置換基をもつこれら炭化水素基の各種のものであっ
てよい。例えば、水素原子、アルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチ
ル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水
素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、ア
リール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置
換基を有するものが挙げられる。これらのうち好適なも
のはR⁹とR¹¹が水素原子、R¹⁰とR¹²が水素原子、アルキ
ル基、フェニル基またはフェニルアルキル基であるもの
であり、特に好適なものは全てが水素原子であるもので
ある。

【００４１】また、水素原子、置換基を有してもよい鎖
状または環状の炭素数１から30の炭化水素基である
R¹³、R¹⁴、R¹⁵およびR¹⁶は、水素原子、脂肪族、脂環族
の飽和または不飽和の炭化水素基、単環または多環の芳
香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、あるいは置換基
をもつこれら炭化水素基の各種のものであってよい。前
記炭化水素基としては、例えば、アルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナ
フチル、フェニルアルキルなどの炭化水素基と、これら
炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各
種の置換基を有するものが挙げられる。これらのうち好
適なものは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基および置換フェニル基であり、特に
好適なものは水素原子、イソプロピル基、フェニル基、
4-メトキシフェニル基である。

【００４２】一般式（ＩＶ）で表される光学活性ジアミ
ン化合物の例として、１，２−ジフェニルエチレンジア
ミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シク
ロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルブタンジアミ
ン、１−メチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミ
ン、１−イソブチル−２，２−ジフェニルエチレンジア
ミン、１−イソプロピル−２，２−ジフェニルエチレン
ジアミン、１−メチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェ
ニル）エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、 １−イ
ソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチ
レンジアミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキ
シフェニル）エチレンジアミン、１−メチル−２，２−
ジナフチルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２
−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソプロピル−
２，２−ジナフチルエチレンジアミンなどが例示され
る。さらに用いることのできる光学活性ジアミン化合物
は、例示した光学活性エチレンジアミン誘導体に限るも
のではなく、光学活性なプロパンジアミン、ブタンジア
ミン、フェニレンジアミン、シクロヘキサンジアミン誘
導体等も用いることができる。

【００４３】一般式（ＩＩ）で表される光学活性ルテニ
ウム錯体の合成は、光学活性ジホスフィン化合物と、原
料であるルテニウム錯体と反応することにより合成でき
る。また、一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ルテニ
ウム錯体の合成は、一般式（ＩＩ）で表されるルテニウ
ム錯体と、光学活性ジアミン化合物と反応することによ
り合成できる。

【００４４】一例として、一般式（ＩＩ）で表される光
学活性ルテニウム錯体の合成は、Tetrahedron：Asymmet
ry,5,665−674（1994）に記載されているGenetらの方法
によって実施される。すなわち、出発原料のビス(メチ
ルアリル)ルテニウム（シクロオクタ−1，5−ジエン）
錯体と光学活性ジホスフィン化合物を反応し得られるビ
ス(メチルアリル)ルテニウム（P-P）錯体とハロゲン化
水素と反応させ合成する。得られる光学活性ルテニウム
錯体は、反応試剤である有機化合物を１ないし複数個含
む場合がある。ここで、有機化合物は配位性の有機溶媒
を示し、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶
媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エ
ーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノー
ル、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロへキシルケトンなど
のケトン系溶媒、アセトニトリル、DMF、N-メチルピロ
リドン、DMSO、トリエチルアミンなどヘテロ原子を含む
有機溶剤などが例示される。

【００４５】一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ルテ
ニウム錯体は、DMF中で一般式（ＩＩ）で表される光学
活性ルテニウム錯体と光学活性ジアミン化合物を反応さ
せ合成できる。その他の合成法として、ビス(メチルア
リル)ルテニウム（シクロオクタ−1，5−ジエン）錯体
を原料に用いる代わりに、[2塩化ルテニウム（シクロオ
クタ−1，5−ジエン）]多核体等のジエンが配位したル
テニウム錯体、あるいは、[2塩化ルテニウム（ベンゼ
ン）]多核体、[2塩化ルテニウム（p−シメン）]多核体
等の芳香族化合物が配位したルテニウム錯体を用いて、
光学活性ジホスフィン化合物と光学活性ジアミン化合物
を順次、もしくは、逆の順で、または同時に、反応する
方法も用いられる。例えば、DMF中で[2塩化ルテニウム
（ベンゼン）]多核体と光学活性ジホスフィン化合物と
を反応することにより、RuXY (P-P)（dmf）n（dmfはジ
メチルホルムアミドを示す。ｎは１または２以上の整数
を示す。）が合成できる。その後、RuXY (P-P)（dmf）n
に光学活性ジアミン化合物を加えると、RuXY (P-P)（N-
N）錯体を与える。一般式（ＩＩ）および一般式（ＩＩ
Ｉ）の光学活性ルテニウム錯体を用いた水素化反応は、
それぞれ次の手法で行われる。

【００４６】つまり、一般式（ＩＩ）で表される光学活
性ルテニウム錯体は、 X、Yが水素の場合は、塩基を添
加することなしに、光学活性ジアミン化合物存在下、ケ
トン類と混合後、水素圧をかけるか、または、水素供与
体の存在下に攪拌する。これにより、ケトン類の水素化
を行うことができる。触媒に対してケトン類を大過剰に
用いた場合には、塩基を添加した方が望ましい場合もあ
る。一方、X、Yが、水素以外の基である場合には、塩基
と光学活性ジアミン化合物存在下、ケトン類と混合後、
水素圧をかけるか、または、水素供与体の存在下に攪拌
することにより、ケトン類の水素化を行うことが有効で
もある。ここで、光学活性ジアミン化合物は前記の一般
式（ＩＶ）と同様なものから適宜に選択されたものであ
ってよい。また、添加する光学活性ジアミン化合物の使
用量は、一般式（ＩＩ）で表されるルテニウム錯体に対
し、0.5〜2.5等量で好ましくは1〜2等量である。

【００４７】ここで、塩基は、KOH、KOCH₃、KOCH(C
H₃)₂、KOC (CH₃)_3、KC₁₀H₈、LiOH、LiOCH₃、LiOCH(CH₃)
₂、LiOC(CH₃)₃等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の
塩あるいは４級アンモニウム塩等が用いられる。また、
添加する塩基の使用量は、一般式（ＩＩ）で表されるル
テニウム錯体に対し、０．５−１００等量、好ましく
は、２−４０当量である。ここで、水素供与体とは、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなどの低級アルコール、およびギ酸を示
す。以上のとおり、触媒として使用する一般式（ＩＩ）
で表される光学活性ルテニウム錯体と光学活性アミンと
塩基の３成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し高い不
斉収率を達成するためには必要不可欠の成分であり、１
成分たりとも不足すると十分な反応活性で高い光学純度
の光学活性アルコールは得られない。

【００４８】一般式（ＩＩＩ）で表される光学活性ルテ
ニウム錯体は、X、Yが水素の場合は、塩基を添加するこ
となしにケトン類と混合後、水素圧をかけるか、また
は、水素供与体の存在下に攪拌する。これにより、ケト
ン類の水素化を行うことができる。触媒に対してケトン
類を大過剰に用いた場合には、塩基を添加した方が望ま
しい場合もある。一方、X、Yが、水素以外の基である場
合には、塩基存在下ケトン類と混合後、水素圧をかける
か、または、水素供与体の存在下に攪拌することによ
り、ケトン類の水素化を行うことが有効でもある。ここ
で、塩基および水素供与体とは前述と同様なものから適
宜に選択されたものであってよい。

【００４９】以上のとおり、触媒として使用する一般式
（ＩＩＩ）で表される光学活性ルテニウム錯体と塩基の
２成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し高い不斉収率
を達成するためには必要不可欠の成分であり、１成分た
りとも不足すると十分な反応活性で高い光学純度の光学
活性アルコールは得られない。

【００５０】なお、一般式（ＩＩ）および一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される光学活性ルテニウム錯体中の光学活性ジ
ホスフィン化合物は、いずれも（+）体または（−）体
のいずれかとして得られるが、その表示は省略した。ま
た、これらの（+）体または（−）体のいずれかを選択
することにより、所望する絶対位置の光学活性アルコー
ル体を得ることができる。また、一般式（ＩＩ）で表さ
れる光学活性ルテニウム錯体中のジホスフィン化合物の
絶対構造と添加する光学活性ジアミン化合物の絶対構造
の組み合わせ、および一般式（ＩＩＩ）で表される光学
活性ルテニウム錯体中のジホスフィン化合物の絶対構造
とジアミン化合物の絶対構造の組み合わせが、高い光学
収率を得るためには重要であり、例えば後述の比較例で
示すように(Ｓ，Ｓ)-SKEWPHOS誘導体と（Ｓ）−ジアミ
ン化合物の組み合わせが最適であり（Ｒ）−体のアルコ
ールを与える。(Ｓ，Ｓ)−ジホスフィン化合物と（Ｒ）
−ジアミン化合物の組み合わせは反応は進行するもの
の、不斉収率が低下する。

【００５１】

【実施例】以下に、実施例、使用例、応用例および比較
例をあげて、本発明を更に詳しく説明する。 なお、以
下の測定には次の機器を用いた。 NMR：LA400型装置（４００MHｚ） （日本電子社製） 内部標準物質：^１H−NMR…テトラメチルシラン 外部標準物質：³¹P−NMR…85％リン酸 光学純度：ガスクロマトグラフィー Chirasil−DEX CB（0.25mm×25m、DF＝0.25μm） （CHROMPACK社製）

【００５２】〔実施例1〕 (S,S)−3−メチル−XylSKEW
PHOS（15）の合成 （１）ジ−（3，5−キシリル）ホスファイト（3）の合
成 300mlの４口フラスコにマグネシウム（3.42ｇ，140.7mm
ol）を仕込み、アルゴン置換した。そこに、テトラヒド
ロフランを浸る程度加え、５−ブロモ−m−キシレン（2
5.47ｇ，137.6mmol）のテトラヒドロフラン70ml溶液を
室温で55分かけて滴下した。滴下終了後、４５分間60℃
で攪拌した。次に、ジエチルホスファイト（6.0ml，45.
6mmol）のテトラヒドロフラン50ml溶液を室温で40分か
けて滴下した。滴下終了後、3時間還流した。反応溶媒
を留去し、酢酸エチルを加え氷冷後、10％塩酸水150ml
を加え反応停止した。飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和
食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥して、粗ジ
−（3，5−キシリル）ホスファイトを得た。アルミナカ
ラムにより精製し、ジ−（3，5−キシリル）ホスファイ
ト10.56ｇを得た。その収率は、90％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ7.95(d，1H)，7.26−
7.32（m，6H），2.35(s，12H)³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ22.9(s)

【００５３】（２）ジ−（3，5−キシリル）ホスフィン
ボラン（4）の合成 アルゴン置換した100mlシュレンク管に、ジ−（3，5−
キシリル）ホスファイト（2.0ｇ，7.74mmol）を仕込
み、ジエチルエーテル20mlに溶解した。これに、ジメチ
ルスルフィドボラン（0.92ml，9.69mmol）を氷冷下に滴
下した。同温で15分攪拌後、室温で一晩攪拌した。アル
ゴン雰囲気で反応液をガラスフィルターで濾過し、溶媒
留去して、粗ジ−（3，5−キシリル）ホスフィンボラン
1.82ｇを得た。その収率は、92％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ7.26（d，4H），7.24
（s，2H），6.16(dq，1H)，2.33(s，12H)³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ1.98（d）

【００５４】（３）(S,S)−3−メチル−2，4−ペンタン
ジトシレート（9）の合成 50mlのナス型フラスコに、p−TsCl（3.55ｇ，18.62mmo
l）、ピリジン（1.72ml，21.27mmol）および塩化メチレ
ン2mlを仕込んだ。そこに、(R,R)−3−メチル−2，4−
ペンタンジオールの塩化メチレン5ml溶液を氷冷下ゆっ
くり滴下した。室温に戻し、一晩攪拌した。反応液に酢
酸エチル60ｍｌを加え、10％塩酸水（25ml×2）、飽和
炭酸水素ナトリウム水25mlおよび飽和食塩水25mlで洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥して、粗(S,S)−3−メチル−
2，4−ペンタンジトシレートを得た。シリカゲルカラム
により精製し、(S,S)−3−メチル−2，4−ペンタンジト
シレート1.92ｇを得た。その収率は、52％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ7.78（dd，4H），7.33
（dd，4H），4.66（m，2H），2.45（d，6H），1.90
（m，1H），1.21（t，6H），0.96（d，3H）

【００５５】（４）(S,S)−3−メチル−XylSKEWPHOSボ
ラン（12）の合成 アルゴン置換した150mlシュレンク管に、ジ−（3，5−
キシリル）ホスフィンボラン（1.82ｇ，7.11mmol）を仕
込み、テトラヒドロフラン12mlに溶解した。これに、n
−ブチルリチウム（4.55ml，7.14mmol）を−78℃で滴下
し、同温で15分攪拌後、室温で20分攪拌した。次いで、
(S,S)−3−メチル−2，4−ペンタンジトシレート（1.08
ｇ，2.49mmol）のジメチルホルムアミド12ml溶液を−40
℃で滴下し、室温で一晩攪拌した。反応液にジエチルエ
ーテル60ｍｌを加え、10％塩酸水40mlを氷冷下で加え反
応を停止後、水（65ml×3）および飽和食塩水65mlで洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥して、粗(S,S)−3−メチル
−XylSKEWPHOSボランを得た。シリカゲルカラムにより
精製し、(S,S)−3−メチル−XylSKEWPHOSボラン638mｇ
を得た。その収率は、43％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ6.92−7.45（m，12
H），3.18（m，1H），2.54（m，1H），2.29（24H），1.
09（dq，6H），0.95（d，3H）³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ20.37（s）

【００５６】（５）(S,S)−3−メチル−XylSKEWPHOS（1
5）の合成 アルゴン置換した100mlシュレンク管に、(S,S)−3−メ
チル−XylSKEWPHOSボラン（638mg，1.07mmol）を仕込
み、塩化メチレン11mlに溶解し、凍結脱気した。これ
に、テトラフルオロボロン酸ジメチルエーテル錯体（1.
31ml，10.8mmol）を−5℃で滴下し、同温で15分攪拌
後、室温で一晩攪拌した。反応液にジエチルエーテル30
mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水35mlを氷冷下で加
え反応を停止後、水（30 ml×2）および飽和食塩水30ml
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥して、粗(S,S)−3−メ
チル−XylSKEWPHOS 581mgを得た。その収率は、96％で
あった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ6.83−7.36（m，12
H），2.72（m， H），2.20（dd，24H），1.62（m，
H），1.26（d，3H），0.9（m，6H）³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ−3.17（s）

【００５７】〔使用例１〕 RuBr₂[(S,S)−3−メチル−
Xylskewphos][(S)−daipen]の調製 （１）Ru [(S,S)−3−メチル−Xylskewphos](メチルア
リル)_２の調製 アルゴン置換した100mlシュレンク管に (S,S)−2−メチ
ル−Xylskewphos (581mg，1.03mmol)、アクロス社製Ru
(シクロオクタ−1，5−ジエン)(メチルアリル)_２(328m
g，1.03mmol)を仕込んだ。その後、ヘキサン25ｍｌを加
え70℃で5時間攪拌した。不溶物をガラスフィルターで
濾過し、溶媒留去後、精製せずに次の反応に用いた。 （２）RuBr_２ [(S,S) −3−メチル−Xylskewphos]の調
製 Ru [(S,S)−3−メチル−Xylskewphos](メチルアリル)_２
（723mg、0.929mmol）をアセトン65mlに溶解し、0.2M-H
Bｒメタノール溶液（9．3ml、1.86mmol）を加え、脱気
を行い室温で１時間攪拌した。溶媒留去後、精製せずに
次の反応に用いた。 （３）RuBr₂[(S,S)−3−メチル−Xylskewphos][(S)−da
ipen]の調製 RuBr_２ [(S,S) −3−メチル−Xylskewphos]（379mg、0.
458mmol）に(S)−DAIPEN（144mg，0.458mmol）を仕込
み、アルゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド
（19ml）を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応
液をシリカゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過
後、溶媒留去した。塩化メチレン／イソプロピルエーテ
ルから再結晶し330mg（63％）を得た。³¹ P−NMRスペクトル（C₆D₆）：major:δ67.45（d，J=49
Hz），53.92（d，J=49Hz） minor: 66.85（d，J=49Hz），51.96（d，J=49Hz）

【００５８】〔応用例1〕RuBr₂[(S,S)−3−メチル−Xyl
skewphos][(S)−daipen]（2.3mg，0.002mmol）を100ｍ
ｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換
後、アセトフェノン（2.3ml，20mmol）、0.01M KOC(CH
₃)₃／イソプロピルアルコール溶液（8ml，0.08mmol）を
添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込
み反応を開始した。反応液を19時間攪拌後、反応圧力を
常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生
成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求
めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は99％
以上であった。また、得られたフェネチルアルコール
は、（R）−体が94.4％eeで生成していた。

【００５９】〔比較例1〕応用例1と同様にRuBr₂[(S,S)
−3−メチル−Xylskewphos][(S)−daipen]の代わりにRu
Cl₂[(R)−binap][(R)−daipen]を触媒に用いて、アセト
フェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアル
コールを得た。生成物の収率は99％以上で、（R）−体
が85.0％eeで生成していた。

【００６０】〔比較例2〕応用例1と同様にRuBr₂[(S,S)
−3−メチル−Xylskewphos][(S)−daipen]の代わりにRu
Br₂[(S,S)−3−メチル−Xylskewphos][(R)−daipen]を
触媒に用いて、アセトフェノンの水素化を行い、生成物
であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は99
％以上で、（R）−体が92.1％eeで生成していた。

【００６１】〔応用例2〕RuBr₂[(S,S)−3−メチル−Xyl
skewphos][(S)−daipen]（2.3mg，0.002mmol）を100ｍ
ｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換
後、プロピオフェノン（2.7ml，20mmol）、0.01M KOC
(CH₃)₃／イソプロピルアルコール溶液（8ml，0.08mmo
l）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧ま
で仕込み反応を開始した。反応液を19時間攪拌後、反応
圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーに
より生成物である１−フェニル−１−プロパノールの定
量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生
成物の収率は99％以上であった。また、得られたフェネ
チルアルコールは、（R）−体が95.7％eeで生成してい
た。

【００６２】〔比較例3〕応用例2と同様にRuBr₂[(S,S)
−3−メチル−Xylskewphos][(S)−daipen]の代わりにRu
Cl₂[(R)−binap][(R)−daipen]を触媒に用いて、プロピ
オフェノンの水素化を行い、生成物である１−フェニル
−１−プロパノールを得た。生成物の収率は99％以上
で、（R）−体が91.5％eeで生成していた。

【００６３】〔比較例4〕応用例2と同様にRuBr₂[(S,S)
−3−メチル−Xylskewphos][(S)−daipen]の代わりにRu
Br₂[(S,S)−3−メチル−Xylskewphos][(R)−daipen]を
触媒に用いて、プロピオフェノンの水素化を行い、生成
物である１−フェニル−１−プロパノールを得た。生成
物の収率は99％以上で、（R）−体が92.6％eeで生成し
ていた。

【００６４】〔実施例２〕 (R,R)−1，3−ジフェニル
−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパン
（16）の合成 （１）(S,S)−1，3−ジフェニル−1，3−プロパンジメ
シレート（10）の合成 100mlのシュレンク管に、(R,R)−1，3−ジフェニル−
1，3−プロパンジオール（1.0ｇ，4.38mmol）を仕込
み、アルゴン置換した。そこに、ピリジン（1.53ml，1
0.95mmol）およびテトラヒドロフラン33mlを仕込んだ。
そこに、メシルクロライド（1.53ml，8.76mmol）を0℃
でゆっくり滴下し、同温で一晩攪拌した。ピリジンの塩
酸塩をガラスフィルターで濾過し、溶媒留去し、(S,S)
−1，3−ジフェニル−1，3−プロパンジメシレート1.68
ｇを得た。その収率は、100％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ7.40（m，10H），5.69
（dd，2H），2.76（s，6H），2.53（t，2H）

【００６５】（２）（R,R）−1，3−ジフェニル−1，3
−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパンボラン
（13）の合成 アルゴン置換した100mlシュレンク管に、ジ-3,5-キシリ
ルホスフィンボラン（1.11ｇ，4.34mmol）を仕込み、テ
トラヒドロフラン5mlに溶解した。これに、n−ブチルリ
チウム（2.7ml，4.34mmol）を−78℃で滴下し、同温で1
5分攪拌後、室温で20分攪拌した。次いで、(S,S)−1，3
−ジフェニル−1，3−プロパンジメシレート（697mｇ，
1.81mmol）のジメチルホルムアルデヒド7ml溶液を−40
℃で滴下し、室温で一晩攪拌した。反応液にジエチルエ
ーテル40ｍｌを加え、10％塩酸水25mlを氷冷下で加え反
応を停止後、水（40ml×3）および飽和食塩水40mlで洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥して、粗(R,R)−1，3−ジ
フェニル−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プ
ロパンボランを得た。シリカゲルカラムにより、(R,R)
−1，3−ジフェニル−1，3−ビス（3，5−キシリルホス
フィノ）プロパンボラン674mｇを得た。その収率は、53
％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ6.58−7.24（m，22
H），3.24（m，2H），2.41（m，2H），2.34（m，12
H），2.06（m，12H），0.3-1.3（br，6H）³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ24.13（s）

【００６６】（３）(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−
ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパン（16）の合
成 アルゴン置換した100mlシュレンク管に、(R,R)−1，3−
ジフェニル−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）
プロパンボラン（668mg，0.948mmol）を仕込み、塩化メ
チレン10mlに溶解し、凍結脱気した。これに、テトラフ
ルオロボロン酸ジメチルエーテル錯体（1.2ml，9.48mmo
l）を−5℃で滴下し、同温で15分攪拌後、室温で一晩攪
拌した。反応液にジエチルエーテル18mlを加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水36mlを氷冷下で加え反応を停止後、
水（28 ml×2）および飽和食塩水28mlで洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥して、粗(R,R)−1，3−ジフェニル−1，
3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパン531mgを
得た。その収率は、96％であった。¹ H−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ6.19−7.36（m，22
H），3.48（q，2H），2.33（s，12H），2.13（m，2
H），1.97（s，12H）³¹ P−NMRスペクトル（CDCl₃）：δ1.85（s）

【００６７】〔使用例2〕 RuBr₂[(R,R)−1，3−ジフェ
ニル−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパ
ン][(S)−daipen]の調製 （１）Ru [(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−ビス（3，
5−キシリルホスフィノ）プロパン](メチルアリル)_２の
調製 アルゴン置換した100mlシュレンク管に (R,R)−1，3−
ジフェニル−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）
プロパン(531mg，0.784mmol)、アクロス社製Ru(シクロ
オクタ−1，5−ジエン)(メチルアリル)_２(251mg，0.784
mmol)を仕込んだ。その後、ヘキサン6ｍｌを加え70℃で
5時間攪拌した。不溶物をガラスフィルターで濾過し、
溶媒留去後、精製せずに次の反応に用いた。 （２）RuBr_２ [(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−ビス
（3，5−キシリルホスフィノ）プロパン]の調製 Ru [(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−ビス（3，5−キ
シリルホスフィノ）プロパン](メチルアリル)_２（696m
g、0.784mmol）をアセトン54mlに溶解し、0.2M-HBｒメ
タノール溶液（7.84ml、1.568mmol）を加え、脱気を行
い室温で１時間攪拌した。溶媒留去後、精製せずに次の
反応に用いた。 （３）RuBr₂[(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−ビス
（3，5−キシリルホスフィノ）プロパン][(S)−daipen]
の調製 RuBr_２ [(R,R)−1，3−ジフェニル−1，3−ビス（3，5
−キシリルホスフィノ）プロパン]（735mg、0.784mmo
l）に(S)−DAIPEN（254mg，0.784mmol）を仕込み、アル
ゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド（30ml）
を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応液をシリ
カゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過後、溶媒
留去した。塩化メチレン／イソプロピルエーテルから再
結晶し777mg（79％）を得た。³¹ P−NMRスペクトル（C₆D₆）：major:δ69.46（d，J=49
Hz），66.22（d，J=49Hz） minor: δ69.05（d，J=49Hz），67.54（d，J=49Hz）

【００６８】〔応用例3〕RuBr₂[(R,R)−1，3−ジフェニ
ル−1，3−ビス（3，5−キシリルホスフィノ）プロパ
ン][(S)−daipen]（2.5mg，0.002mmol）を100ｍｌのガ
ラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロ
ピオフェノン（2.7ml，20mmol）、0.01MKOC(CH₃)₃／イ
ソプロピルアルコール溶液（8ml，0.08mmol）を添加
し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反
応を開始した。反応液を24時間攪拌後、反応圧力を常圧
に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物
である１−フェニル−１−プロパノールの定量と光学純
度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率
は99％以上であった。また、得られたフェネチルアルコ
ールは、（R）−体が81.6％eeで生成していた。

【００６９】

【発明の効果】本発明の新規ジホスフィン化合物は、不
斉合成用触媒の配位子として優れたものであり、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウムなどの遷移金属との錯体
は、種々の不斉合成用触媒として優れた触媒活性を有
し、これを用いることによって光学純度の高い光学活性
体を製造することができる。また、本発明の新規ジホス
フィン化合物の製法を用いることによって、本発明の新
規ジホスフィン化合物を効率的かつ安価に製造すること
ができる。したがって、本発明は、関連する産業分野、
すなわち医薬品等の製造業の発展に寄与するところ大で
あると考えられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 岳 埼玉県草加市稲荷１−７−１ 関東化学株 式会社中央研究所内 (72)発明者 碇屋 隆雄 東京都北区田端４−５−５−602 Ｆターム(参考） 4H050 AA01 AA02 AB40 AB84 AC90 WA13 WA26 WA29

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （R¹およびR²は互いに同一または異なっていてもよい置
   換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数1から20の
   炭化水素基であり、R³およびR⁴は互いに同一または異な
   っていてもよい水素または炭素数1から3の炭化水素基で
   あり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸は互いに同一または異なって
   いてもよい、置換基を有してもよい炭素数1から30の炭
   化水素基を示す。ただし、R¹およびR²がメチル基であ
   り、R³およびR ⁴が水素である場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸
   はフェニル基、４−トリル基、および3，5−キシリル基
   からなる群から選択される基のいずれでもなく、ならび
   にR¹およびR²がフェニル基であり、R³およびR⁴が水素で
   ある場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸の少なくとも１つはフェ
   ニル基ではない。）で表される光学活性ジホスフィン化
   合物。
2. 【請求項２】 R¹およびR²がメチル基であり、R³が水素
   であり、R⁴がメチル基であり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸が互
   いに同一で、かつ、フェニル基、４−トリル基、および
   3，5−キシリル基からなる群から選択される、請求項１
   に記載の光学活性ジホスフィン化合物。
3. 【請求項３】 R¹およびR²がフェニル基であり、R³およ
   びR⁴が水素であり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸が同一で、か
   つ、４−トリル基、および3，5−キシリル基からなる群
   から選択される、請求項１に記載の光学活性ジホスフィ
   ン化合物。
4. 【請求項４】 R¹およびR²がフェニル基であり、R³が水
   素であり、R⁴がメチル基であり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸が
   互いに同一であり、かつ、フェニル基、４−トリル基、
   または3，5−キシリル基からなる群から選択される基で
   ある、請求項１に記載の光学活性ジホスフィン化合物。
5. 【請求項５】 一般式（Ｉ） 【化２】 （R¹およびR²は互いに同一または異なっていてもよい置
   換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数1から20の
   炭化水素基であり、R³およびR⁴は互いに同一または異な
   っていてもよい水素または炭素数1から3の炭化水素基で
   あり、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸は互いに同一または異なって
   いてもよい、置換基を有してもよい炭素数1から30の炭
   化水素基を示す。ただし、R¹およびR²がメチル基であ
   り、R³およびR ⁴が水素である場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸
   はフェニル基、４−トリル基、および3，5−キシリル基
   からなる群から選択される基のいずれでもなく、ならび
   にR¹およびR²がフェニル基であり、R³およびR⁴が水素で
   ある場合、R⁵、R⁶、R⁷およびR⁸の全てがフェニル基では
   ない。）で表される光学活性ジホスフィン化合物を製造
   するための方法であって、ジアリールホスファイトとジ
   メチルスルフィドボランとを反応させて、ジアリールホ
   スフィンボランを得る工程を含むことを特徴とする、前
   記方法。