JP2003173867A - 電子レンジ - Google Patents
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Abstract
分散装置を調理室の底部にマグネトロンについて一列を
なして配させて導波管のサイズを縮められるようにする
と共に、高周波を調理室の全方向に均一に乱反射させう
るようにした電子レンジを提供する。 【解決手段】 第1開口部の中心は高周波管内波長の1
/2の奇数倍になる位置で導波管の後方に形成され、第
2開口部の中心は高周波管内波長の1/2の奇数倍から
ややはずれる位置で導波管の前方に形成される。第1開
口部の中心と第2開口部の中心は全て高周波管内波長の
1/2の奇数倍になる位置に形成され、第2開口部のサ
イズは第1開口部のサイズよりやや小さくなるよう形成
され、第1開口部の中心と第2開口部の中心は全て高周
波管内波長の1/2の奇数倍になる位置に形成され、第
2開口部は横方向に配された複数のスリットよりなる。
Description
さらに詳しくは調理室の下部に複数の高周波分散装置を
一列に設けて高周波が調理室の内部に均一に噴射される
ようにした電子レンジに関する。
られたマグネトロンから作られる高周波を用いて調理室
に置かれた調理物を調理する器具であって、高周波を調
理室の内部に照射して調理物に含有された水の分子の分
極の向きを変えることにより発生する分子間の摩擦熱に
より食べ物を調理する。
と排気口が形成され、その底部の上には調理物が載置さ
れるトレイが設けられている。電装品室は、調理室の側
壁により区画設置され、マグネトロンを初めとして調理
物を調理する加熱源である高周波を発生させるための高
圧トランス及び高圧コンデンサと、このような電装品を
冷却させるための冷却ファンが設けられている。
方式としては、調理物が置かれたトレイを低速で回転さ
せて高周波を調理物の全部位に均一に照射させるターン
テーブル方式と、調理室の上部壁や下部壁、または一側
壁に電装品室と連通される導波管を設け、電装品室に延
びた導波管部位にはマグネトロンを、そして調理室に位
置した導波管には高周波を分散させるための高周波分散
装置を設けて、導波管に沿って案内された高周波を高周
波分散装置により調理室に分散させ調理物に均一に照射
させるスターラー方式がある。
図1及び図2に基づき従来の技術による導波管を備えた
電子レンジについて説明する。図1は導波管と高周波分
散装置が調理室の下方に置かれた従来の技術に係る電子
レンジの概略的な側断面図であり、図2は図1に示した
線II-IIに沿って取られた断面図である。
形成するキャビネット(図示せず)の内部に調理室1と電
装品室2が区画設置される。調理室1は前方が開放され
たボックス型に形成され調理物を調理するための空間を
提供し、その底部には調理物を載置するためのトレイ3
が設けられている。トレイ3を低速で回転させうるよう
にトレイ3の下部にはモータ4が結合され、後述する高
周波分散装置と共に働くことにより調理物をさらに均一
に調理できる。勿論、高周波分散装置によってのみ調理
物に高周波を均一に分散させるようにするため、モータ
4を備えずトレイ3を調理室1の底部に固定させて構成
することもできる。
のマグネトロン5と、図示していないが該マグネトロン
5に高圧電流を印加するための高圧トランスと高圧コン
デンサ、それから前記電装品を冷却させるための冷却フ
ァンなどの部品が設けられる。
トロン5により発生される高周波を調理室1に案内する
ための導波管10が配されている。該導波管10は概略
広い表面積を有するよう四角函体形状よりなって調理室
1の底部の下部に結合され、その一部が電装品室2に延
びる。該電装品室2に延びた導波管10にマグネトロン
5が設けられる。
5から同一距離に位置するようマグネトロン5について
並列に配された一対の開口部11が形成され、マグネト
ロン5から発振される高周波が導波管10に沿って案内
された後、該開口部11を通して調理室1に照射される
ようにする。
波管10を通して案内され開口部11を通過する高周波
を調理室1に向けて分散させるための高周波分散装置1
5が設けられる。
に設けられるモータ16と、導波管10の開口部11の
上方に配される分散ファン17と、モータ16と分散フ
ァン17に回転自在に連結されモータ16の回転力を分
散ファン17に伝達させるための駆動軸18とから構成
される。
作動させれば高周波がマグネトロン5から照射され導波
管10に沿って案内され、調理室1の略中央部で互いに
並列に一定間隔に離隔配置した一対の開口部11を通過
し、高周波分散装置15の分散ファン17の回転により
調理室1の多方向に乱反射しつつ分散される。かつ、食
べ物の載置されているトレイ3が低速で回転しつつ高周
波が食べ物を均一に照射されることにより調理がなされ
る。
方式による従来の電子レンジは、マグネトロンから発振
される高周波がそれぞれの開口部を通して同一量に分配
され通過するため、一対の開口部が調理室の中央でマグ
ネトロンについて互いに並列に一定間隔に離隔配置され
る構造になるため、やむを得ず導波管がほぼ調理室の底
部の全面にかけて配される大きさを有するべきである。
従って、従来の電子レンジは導波管の設置によって材料
費がアップする。特に、従来の電子レンジは一対の開口
部が縦方向に設けられる構造になることから、調理室
が、横長さより縦長さより大きくなる長方形よりなる場
合は横方向への高周波の分散が円滑になされないため、
調理物を均一に調理できなくなる。
の技術の問題点を解決するために案出されたもので、そ
の目的は一対の開口部と、各開口部に設けられる高周波
分散装置を調理室の底部にマグネトロンについて一列を
なして配させ導波管のサイズを縮小できると共に、高周
波を調理室の全方向に均一に乱反射させうるようにした
電子レンジを提供するところにある。
ための本発明に係る電子レンジは、本体の内部に区画設
置された調理室及び電装品室と、該調理室及び電装品室
の底部に配された導波管と、前記電装品室で前記導波管
に結合されたマグネトロンと、前記調理室に向けて開放
されるよう前記導波管に設けられた一対の開口部と、該
一対の開口部に設けられた高周波分散装置を備え、前記
一対の開口部は前記導波管に配された第1開口部と、該
第1開口部と前記マグネトロンとの間に配された第2開
口部とからなることを特徴とする。
は前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前記
第1開口部の中心は高周波管内波長の1/2の奇数倍に
なる位置に形成され、前記第2開口部の中心は高周波管
内波長の1/2の奇数倍からややはずれる位置に形成さ
れるようにする。
は、前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前
記第1開口部の中心と第2開口部の中心は、全て高周波
管内波長の1/2の奇数倍になる位置に形成され、前記
第2開口部のサイズは前記第1開口部のサイズよりやや
小さくなるよう形成する。
は前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前記
第1開口部の中心と第2開口部の中心は、全て高周波管
内波長の1/2の奇数倍になる位置に形成され、前記第
2開口部は横方向に配された複数のスリットよりなる。
散装置をさらに設けて、前記調理室の底部に設けられた
前記一対の高周波分散装置から上向きに反射される高周
波を前記調理室の下部に乱反射させる。
明の望ましい実施形態を詳述する。図3及び図4は本発
明の第1実施形態による導波管を備えた電子レンジを示
した図である。これら図に示した通り、調理室1には調
理物の載置されるトレイ3が設けられており、電装品室
2には調理物を調理するための加熱源を提供するよう高
周波を照射するためのマグネトロン5が設けられてい
る。前述した通り、スターラー方式の電子レンジではト
レイ3を固定したまま調理することもでき、図3に示し
た通り、トレイ3の下部に結合されたモータ4を設けて
トレイ3を低速で回転しつつ調理することもできる。
理室1の下部で調理室1の底部と結合配置され、その一
部は電装品室2に延びている。電装品室2に延びた導波
管20にはマグネトロン5が設けられ、該マグネトロン
5により作られる高周波が導波管20に沿って案内され
伝達されるようにする。
0は、調理室1の縦長さに比べて相対的に極めて狭幅を
有し横方向に延設され調理室1の中心部を通過して配さ
れる。
開放された第1開口部21と第2開口部22が形成され
ている。第1開口部21は図3及び図4を基準にして調
理室1の中央から左側、すなわち導波管20の後方に位
置し、第2開口部22は、調理室1の中央から右側、す
なわち、第1開口部21とマグネトロン5との間に位置
する。このように、第1開口部21と第2開口部22が
マグネトロン5について一列に配置されマグネトロン5
から発振される高周波は先に前方に配された第2開口部
22を通して調理室1に照射され、該第2開口部22を
通過しない残り高周波は、後方に配された第1開口部2
1を通して調理室1に照射される。
波が容易に通過できるように円形をなして形成されるこ
とが望ましいが、これにかかわらず他の形状よりなされ
ることもできる。
定な周波数よりなる高周波を容易に通過させるための位
置に置かれるように設計されるが、マグネトロンから発
振され導波管に沿って案内される高周波は、高周波管内
波長(λg)の1/2の奇数倍に該当する位置で容易に通
過されるということが知られている。
トロン5から照射される高周波が第1開口部21の前方
に置かれた第2開口部22を通して全て抜け出ないよう
に第2開口部22を高周波管内波長の1/2の奇数倍に
該当する位置からややはずれて位置させ、第1開口部2
1は、第2開口部22を通過しない高周波を全て通過さ
せうるように高周波管内波長の1/2の奇数倍に該当す
る位置に配させたことである。一列に配された一対の開
口部21、22を前述したように置かせることにより、
マグネトロン5から発振される高周波は、その量の概略
半分ほどが先に第2開口部22を通して調理室1に排出
され、残りの高周波は第2開口部22の後方に配された
第1開口部21を通して調理室1に排出される。従っ
て、高周波が両開口部21、22を通して均一に調理室
1に照射できて調理物の均一な調理が可能になる。
イ3が置かれるが、該トレイ3は高周波を通過させうる
材質で作られるため、調理物を調理するのに障害になら
ない。
を調理室1に乱反射させ調理物の全部位に均一に高周波
が伝えられるよう各開口部21、22には高周波分散装
置15が設けられる。該高周波分散装置15は前述した
従来の技術と同じく、導波管20の下部に設けられるモ
ータ16と、導波管20の開口部21、22の上方に配
される分散ファン17と、モータ16と分散ファン17
に回転自在に連結されモータ16の回転力を分散ファン
17に伝えるための駆動軸18とから構成される。
内部に配設することもできる。この場合は分散ファン1
7のサイズがさらに小さくできて一層コンパクトな電子
レンジになれる。
施形態による電子レンジを作動させれば、高周波がマグ
ネトロン5から照射され導波管20に沿って案内され、
先に導波管の管内波長の1/2倍の奇数倍からやや外れ
て位置した第2開口部22を通して概略半分ほどの高周
波が調理室1を通過して高周波分散装置15により調理
室1の全体空間に分散され、残りの高周波は導波管20
に沿ってさらに進んだ後導波管の管内波長の1/2倍の
奇数倍に位置した第1開口部21を介して通過してやは
り高周波分散装置15により調理室1に分散される。
低速で回転し、また高周波分散装置15により分散され
た高周波が調理室1の壁により乱反射されながら高周波
が食べ物に均一に照射されることにより、調理が迅速で
均一になされる。
る電子レンジを示した図である。同図によれば、第2実
施形態による電子レンジは導波管20aの上部に形成さ
れた一対の開口部21、22aがマグネトロン5につい
て一列に配され、各開口部に高周波分散装置15が設け
られ構成される点において第1実施形態による電子レン
ジと同様であると言える。
を第1開口部21の前方で第1開口部21と同一に高周
波管内波長の1/2倍の奇数倍に置かせ、該第2開口部
22aのサイズを第1開口部21のサイズよりやや小さ
く形成させて構成される点において第1実施形態と相違
である。
電子レンジでは、第1実施形態と同様に、マグネトロン
5から照射される高周波が第1開口部21の前方に置か
れた第2開口部22aを通して全て抜け出られなくな
る。すなわち、一対の開口部21、22aを高周波管内
波長の1/2倍の奇数倍に該当する位置で一列に配置
し、前方に置かれた第2開口部22aのサイズを後方に
位置した第1開口部21のサイズよりやや小さくなるよ
う形成させることにより、マグネトロン5から発振され
る高周波はその量の概略半分ほどが先に小さく形成され
た第2開口部22aを通して調理室1に排出され、残り
の高周波はサイズが大きく形成され第2開口部22aの
後方に配された第1開口部21を通して調理室1に排出
される。従って、高周波が両開口部21、22aを介し
て均一に調理室1に照射できて調理物の均一な調理が可
能になる。
21、22aに設けられた高周波分散装置15と共に調
理室1の上部にもう一つの高周波分散装置15aを設け
て、調理室1の下部に配された高周波分散装置15によ
り分散された高周波を調理室1の上部に配された高周波
分散装置15aにより再度分散させることにより高周波
をさらに均一に調理物に照射できるようになる。
波分散装置15aは第1実施形態による電子レンジにも
適用して設けられ、また後述する第3実施形態でも適用
され得ることは勿論である。
よる電子レンジの動作は調理室1の上部に配された高周
波分散装置15aの作用を除けば第1実施形態と同様な
ので、これ以上の説明は省略する。
ンジを示した図である。この第3実施形態による電子レ
ンジは、図6に示した第2実施形態による電子レンジと
極めて類似に構成され、但し第2開口部22bの形状を
第2実施形態の第2開口部22aと違って形成させた点
だけが相異なる。
bの上部には、導波管20bの後方から導波管管内波長
の1/2倍の奇数倍に該当する位置に配され、円形より
なる第1開口部21と、導波管20bの前方、すなわち
第1開口部21とマグネトロン5との間で導波管管内波
長の1/2倍の奇数倍に当る位置に配され、少なくとも
一つ以上のスリットよりなる第2開口部22bが形成さ
れている。
ジは、第2開口部22bを導波管20bの長手方向と同
様に横方向に延設させて構成することにより、第2開口
部22bが高周波を通過させ易い導波管管内波長の1/
2倍の奇数倍に位置されながらもその形状により高周波
の通過にやや障害を与えて、略半分ほどの高周波をその
後方に位置した第1開口部21に誘導できるようにな
る。このような構造による作用効果は反復された実験結
果により立証できる。
よる電子レンジの動作も第1及び第2実施形態と同様な
ので、これ以上の説明は省く。
ジは導波管が調理室の縦長さに比べて極めて狭幅を有し
て横方向に延設され、導波管の上部にはマグネトロンに
ついて一列に配された一対の開口部が形成され、両開口
部を通して同一量の高周波が通過されるようにする構造
よりなることにより導波管のサイズを小さく形成するこ
とができる。このような導波管の構造から、従来に比べ
て材料費が節減され、電子レンジをコンパクトに構成さ
せうる効果を奏する。特に、調理室が、横方向の長さが
縦長さより大きくなる長方形よりなる場合は一列に配さ
れた一対の開口部を適切に位置させることにより調理室
の全体空間に均一に高周波を分散させうるようになる。
の概略側断面図である。
図である。
電子レンジの概略的な側断面図である。
図である。
電子レンジの概略的な側断面図である。
図である。
による導波管を備えた電子レンジの概略断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 本体の内部に区画設置された調理室及び
電装品室と、 該調理室及び電装品室の底部に配された導波管と、 前記電装品室で前記導波管に結合されたマグネトロン
と、 前記調理室に向かって開放されるよう前記導波管に設け
られた一対の開口部と、 該一対の開口部に設けられた高周波分散装置を備え、 前記一対の開口部は前記導波管に配された第1開口部
と、 該第1開口部と前記マグネトロンとの間に配された第2
開口部と、を備えることを特徴とする電子レンジ。 - 【請求項2】 前記導波管は、前記調理室の下部から狭
幅に横方向に延設され、前記第1開口部の中心は高周波
管内波長の1/2の奇数倍になる位置に形成され、前記
第2開口部の中心は高周波管内波長の1/2の奇数倍か
らややはずれる位置に形成されることを特徴とする請求
項1に記載の電子レンジ。 - 【請求項3】 前記導波管は前記調理室の下部から狭幅
に横方向に延設され、前記第1開口部の中心と第2開口
部の中心は全て高周波管内波長の1/2の奇数倍になる
位置に形成され、 前記第2開口部のサイズは前記第1開口部のサイズより
やや小さくなるよう形成されることを特徴とする請求項
1に記載の電子レンジ。 - 【請求項4】 前記導波管は前記調理室の下部から狭幅
に横方向に延設され、前記第1開口部の中心と第2開口
部の中心は全て高周波管内波長の1/2の奇数倍になる
位置に形成され、前記第2開口部は横方向に配された複
数のスリットよりなることを特徴とする請求項1に記載
の電子レンジ。 - 【請求項5】 前記調理室の上部に一つの高周波分散装
置をさらに設けて、前記調理室の底部に設けられた前記
一対の高周波分散装置から上向きに反射される高周波を
前記調理室の下部に乱反射させるようにすることを特徴
とする請求項1ないし4のうちいずれか1項に記載の電
子レンジ。
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KR2001-076071 | 2001-12-04 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008166123A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波加熱装置 |
WO2013018358A1 (ja) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
WO2013171990A1 (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100565656B1 (ko) * | 2004-02-19 | 2006-03-29 | 엘지전자 주식회사 | 전자레인지 |
US8653482B2 (en) | 2006-02-21 | 2014-02-18 | Goji Limited | RF controlled freezing |
US8839527B2 (en) | 2006-02-21 | 2014-09-23 | Goji Limited | Drying apparatus and methods and accessories for use therewith |
EP2528414B1 (en) * | 2006-02-21 | 2016-05-11 | Goji Limited | Electromagnetic heating |
US10674570B2 (en) | 2006-02-21 | 2020-06-02 | Goji Limited | System and method for applying electromagnetic energy |
CN101513118A (zh) * | 2006-07-10 | 2009-08-19 | 射频动力学有限公司 | 食物制备 |
EP2127481A1 (en) | 2007-02-21 | 2009-12-02 | RF Dynamics Ltd. | Rf controlled freezing |
IL184672A (en) | 2007-07-17 | 2012-10-31 | Eran Ben-Shmuel | Apparatus and method for concentrating electromagnetic energy on a remotely-located object |
US9131543B2 (en) | 2007-08-30 | 2015-09-08 | Goji Limited | Dynamic impedance matching in RF resonator cavity |
KR101004863B1 (ko) * | 2008-04-01 | 2010-12-28 | 엘지전자 주식회사 | 전자레인지 |
JP5362836B2 (ja) | 2008-11-10 | 2013-12-11 | ゴジ リミテッド | Rfエネルギを使用して加熱する装置および方法 |
CN102598851B (zh) | 2009-11-10 | 2015-02-11 | 高知有限公司 | 使用rf能量进行加热的装置和方法 |
WO2011138680A2 (en) | 2010-05-03 | 2011-11-10 | Goji Ltd. | Spatially controlled energy delivery |
CN102353258A (zh) * | 2011-08-23 | 2012-02-15 | 湖南航天工业总公司 | 工业级微波高温辊道连接烧结窑炉的微波源排布方法 |
EP2807902B1 (en) | 2012-01-23 | 2020-08-19 | CONNORS, Robert W. | Compact microwave oven |
JP2014116175A (ja) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Panasonic Corp | マイクロ波加熱装置 |
US10359318B2 (en) * | 2012-12-20 | 2019-07-23 | Raytheon Company | Radio frequency stimulated blackbody with vacuum and cryogenic capability |
KR102137467B1 (ko) * | 2018-07-16 | 2020-07-24 | 유한회사 에스피앤파트너스 | 방사 모듈 및 이를 포함하는 전자 레인지 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50110137A (ja) * | 1974-02-08 | 1975-08-29 | ||
JPS5223744A (en) * | 1975-08-18 | 1977-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heating device |
US4249058A (en) * | 1979-06-21 | 1981-02-03 | Litton Systems, Inc. | Feed system for a microwave oven |
KR850000580B1 (ko) | 1983-12-31 | 1985-04-29 | 주식회사 금성사 | 마이크로파 오븐의 균일가열 장치 |
JP2558877B2 (ja) * | 1989-06-09 | 1996-11-27 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
JPH07220866A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-18 | Toshiba Corp | 電子レンジ |
KR100206366B1 (ko) * | 1996-12-27 | 1999-07-01 | 전주범 | 전자레인지의 고주파 분산구조 |
KR19990026281A (ko) | 1997-09-23 | 1999-04-15 | 윤종용 | 전자렌지의 마이크로파 분산장치 |
-
2001
- 2001-12-04 KR KR10-2001-0076071A patent/KR100448541B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-02-08 JP JP2002033138A patent/JP2003173867A/ja active Pending
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- 2002-06-20 CN CNB021248281A patent/CN1198082C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008166123A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波加熱装置 |
WO2013018358A1 (ja) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
US9585203B2 (en) | 2011-08-04 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Microwave heating device |
WO2013171990A1 (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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