JP2003173867A - 電子レンジ - Google Patents

電子レンジ

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JP2003173867A
JP2003173867A JP2002033138A JP2002033138A JP2003173867A JP 2003173867 A JP2003173867 A JP 2003173867A JP 2002033138 A JP2002033138 A JP 2002033138A JP 2002033138 A JP2002033138 A JP 2002033138A JP 2003173867 A JP2003173867 A JP 2003173867A
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opening
waveguide
cooking chamber
microwave oven
high frequency
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JP2002033138A
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Jun-Hong Kang
銓鴻 姜
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Samsung Electronics Co Ltd
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Samsung Electronics Co Ltd
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Publication date
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    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C7/00—Stoves or ranges heated by electric energy
    • F24C7/02—Stoves or ranges heated by electric energy using microwaves
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64—Heating using microwaves
    • H05B6/6402—Aspects relating to the microwave cavity
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64—Heating using microwaves
    • H05B6/70—Feed lines
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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    • H05B6/64—Heating using microwaves
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  • General Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Electric Ovens (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一対の開口部と各開口部に設けられる高周波
分散装置を調理室の底部にマグネトロンについて一列を
なして配させて導波管のサイズを縮められるようにする
と共に、高周波を調理室の全方向に均一に乱反射させう
るようにした電子レンジを提供する。 【解決手段】 第１開口部の中心は高周波管内波長の１
/２の奇数倍になる位置で導波管の後方に形成され、第
２開口部の中心は高周波管内波長の１/２の奇数倍から
ややはずれる位置で導波管の前方に形成される。第１開
口部の中心と第２開口部の中心は全て高周波管内波長の
１/２の奇数倍になる位置に形成され、第２開口部のサ
イズは第１開口部のサイズよりやや小さくなるよう形成
され、第１開口部の中心と第２開口部の中心は全て高周
波管内波長の１/２の奇数倍になる位置に形成され、第
２開口部は横方向に配された複数のスリットよりなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子レンジに係り、
さらに詳しくは調理室の下部に複数の高周波分散装置を
一列に設けて高周波が調理室の内部に均一に噴射される
ようにした電子レンジに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、電子レンジは、電装品室に設け
られたマグネトロンから作られる高周波を用いて調理室
に置かれた調理物を調理する器具であって、高周波を調
理室の内部に照射して調理物に含有された水の分子の分
極の向きを変えることにより発生する分子間の摩擦熱に
より食べ物を調理する。
【０００３】調理室は前方が開放され両側壁には吸気口
と排気口が形成され、その底部の上には調理物が載置さ
れるトレイが設けられている。電装品室は、調理室の側
壁により区画設置され、マグネトロンを初めとして調理
物を調理する加熱源である高周波を発生させるための高
圧トランス及び高圧コンデンサと、このような電装品を
冷却させるための冷却ファンが設けられている。
【０００４】調理物に高周波を均一に照射させるための
方式としては、調理物が置かれたトレイを低速で回転さ
せて高周波を調理物の全部位に均一に照射させるターン
テーブル方式と、調理室の上部壁や下部壁、または一側
壁に電装品室と連通される導波管を設け、電装品室に延
びた導波管部位にはマグネトロンを、そして調理室に位
置した導波管には高周波を分散させるための高周波分散
装置を設けて、導波管に沿って案内された高周波を高周
波分散装置により調理室に分散させ調理物に均一に照射
させるスターラー方式がある。
【０００５】本発明はスターラー方式に係り、以下では
図１及び図２に基づき従来の技術による導波管を備えた
電子レンジについて説明する。図１は導波管と高周波分
散装置が調理室の下方に置かれた従来の技術に係る電子
レンジの概略的な側断面図であり、図２は図１に示した
線II-IIに沿って取られた断面図である。
【０００６】同図によれば、従来の電子レンジは外観を
形成するキャビネット(図示せず)の内部に調理室１と電
装品室２が区画設置される。調理室１は前方が開放され
たボックス型に形成され調理物を調理するための空間を
提供し、その底部には調理物を載置するためのトレイ３
が設けられている。トレイ３を低速で回転させうるよう
にトレイ３の下部にはモータ４が結合され、後述する高
周波分散装置と共に働くことにより調理物をさらに均一
に調理できる。勿論、高周波分散装置によってのみ調理
物に高周波を均一に分散させるようにするため、モータ
４を備えずトレイ３を調理室１の底部に固定させて構成
することもできる。
【０００７】電装品室２には、高周波を発振させるため
のマグネトロン５と、図示していないが該マグネトロン
５に高圧電流を印加するための高圧トランスと高圧コン
デンサ、それから前記電装品を冷却させるための冷却フ
ァンなどの部品が設けられる。
【０００８】調理室１と電装品室２の下方には、マグネ
トロン５により発生される高周波を調理室１に案内する
ための導波管１０が配されている。該導波管１０は概略
広い表面積を有するよう四角函体形状よりなって調理室
１の底部の下部に結合され、その一部が電装品室２に延
びる。該電装品室２に延びた導波管１０にマグネトロン
５が設けられる。
【０００９】導波管１０の略中心部には、マグネトロン
５から同一距離に位置するようマグネトロン５について
並列に配された一対の開口部１１が形成され、マグネト
ロン５から発振される高周波が導波管１０に沿って案内
された後、該開口部１１を通して調理室１に照射される
ようにする。
【００１０】また、導波管１０の各開口部１１には、導
波管１０を通して案内され開口部１１を通過する高周波
を調理室１に向けて分散させるための高周波分散装置１
５が設けられる。
【００１１】高周波分散装置１５は、導波管１０の下部
に設けられるモータ１６と、導波管１０の開口部１１の
上方に配される分散ファン１７と、モータ１６と分散フ
ァン１７に回転自在に連結されモータ１６の回転力を分
散ファン１７に伝達させるための駆動軸１８とから構成
される。
【００１２】このようなスターラー方式の電子レンジを
作動させれば高周波がマグネトロン５から照射され導波
管１０に沿って案内され、調理室１の略中央部で互いに
並列に一定間隔に離隔配置した一対の開口部１１を通過
し、高周波分散装置１５の分散ファン１７の回転により
調理室１の多方向に乱反射しつつ分散される。かつ、食
べ物の載置されているトレイ３が低速で回転しつつ高周
波が食べ物を均一に照射されることにより調理がなされ
る。
【００１３】しかし、前述したような二つのスターラー
方式による従来の電子レンジは、マグネトロンから発振
される高周波がそれぞれの開口部を通して同一量に分配
され通過するため、一対の開口部が調理室の中央でマグ
ネトロンについて互いに並列に一定間隔に離隔配置され
る構造になるため、やむを得ず導波管がほぼ調理室の底
部の全面にかけて配される大きさを有するべきである。
従って、従来の電子レンジは導波管の設置によって材料
費がアップする。特に、従来の電子レンジは一対の開口
部が縦方向に設けられる構造になることから、調理室
が、横長さより縦長さより大きくなる長方形よりなる場
合は横方向への高周波の分散が円滑になされないため、
調理物を均一に調理できなくなる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述した従来
の技術の問題点を解決するために案出されたもので、そ
の目的は一対の開口部と、各開口部に設けられる高周波
分散装置を調理室の底部にマグネトロンについて一列を
なして配させ導波管のサイズを縮小できると共に、高周
波を調理室の全方向に均一に乱反射させうるようにした
電子レンジを提供するところにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ための本発明に係る電子レンジは、本体の内部に区画設
置された調理室及び電装品室と、該調理室及び電装品室
の底部に配された導波管と、前記電装品室で前記導波管
に結合されたマグネトロンと、前記調理室に向けて開放
されるよう前記導波管に設けられた一対の開口部と、該
一対の開口部に設けられた高周波分散装置を備え、前記
一対の開口部は前記導波管に配された第１開口部と、該
第１開口部と前記マグネトロンとの間に配された第２開
口部とからなることを特徴とする。
【００１６】本発明の第１実施形態として、前記導波管
は前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前記
第１開口部の中心は高周波管内波長の１/２の奇数倍に
なる位置に形成され、前記第２開口部の中心は高周波管
内波長の１/２の奇数倍からややはずれる位置に形成さ
れるようにする。
【００１７】本発明の第２実施形態として、前記導波管
は、前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前
記第１開口部の中心と第２開口部の中心は、全て高周波
管内波長の１/２の奇数倍になる位置に形成され、前記
第２開口部のサイズは前記第１開口部のサイズよりやや
小さくなるよう形成する。
【００１８】本発明の第３実施形態として、前記導波管
は前記調理室の下部から狭幅に横方向に延設され、前記
第１開口部の中心と第２開口部の中心は、全て高周波管
内波長の１/２の奇数倍になる位置に形成され、前記第
２開口部は横方向に配された複数のスリットよりなる。
【００１９】また、前記調理室の上部に一つの高周波分
散装置をさらに設けて、前記調理室の底部に設けられた
前記一対の高周波分散装置から上向きに反射される高周
波を前記調理室の下部に乱反射させる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明の望ましい実施形態を詳述する。図３及び図４は本発
明の第１実施形態による導波管を備えた電子レンジを示
した図である。これら図に示した通り、調理室１には調
理物の載置されるトレイ３が設けられており、電装品室
２には調理物を調理するための加熱源を提供するよう高
周波を照射するためのマグネトロン５が設けられてい
る。前述した通り、スターラー方式の電子レンジではト
レイ３を固定したまま調理することもでき、図３に示し
た通り、トレイ３の下部に結合されたモータ４を設けて
トレイ３を低速で回転しつつ調理することもできる。
【００２１】本発明の第１実施形態による導波管２は調
理室１の下部で調理室１の底部と結合配置され、その一
部は電装品室２に延びている。電装品室２に延びた導波
管２０にはマグネトロン５が設けられ、該マグネトロン
５により作られる高周波が導波管２０に沿って案内され
伝達されるようにする。
【００２２】図４に示した通り、本発明に係る導波管２
０は、調理室１の縦長さに比べて相対的に極めて狭幅を
有し横方向に延設され調理室１の中心部を通過して配さ
れる。
【００２３】導波管２０の上部には、調理室１に向けて
開放された第１開口部２１と第２開口部２２が形成され
ている。第１開口部２１は図３及び図４を基準にして調
理室１の中央から左側、すなわち導波管２０の後方に位
置し、第２開口部２２は、調理室１の中央から右側、す
なわち、第１開口部２１とマグネトロン５との間に位置
する。このように、第１開口部２１と第２開口部２２が
マグネトロン５について一列に配置されマグネトロン５
から発振される高周波は先に前方に配された第２開口部
２２を通して調理室１に照射され、該第２開口部２２を
通過しない残り高周波は、後方に配された第１開口部２
１を通して調理室１に照射される。
【００２４】第１開口部２１と第２開口部２２は、高周
波が容易に通過できるように円形をなして形成されるこ
とが望ましいが、これにかかわらず他の形状よりなされ
ることもできる。
【００２５】ここで、導波管に形成される開口部は、特
定な周波数よりなる高周波を容易に通過させるための位
置に置かれるように設計されるが、マグネトロンから発
振され導波管に沿って案内される高周波は、高周波管内
波長(λｇ)の１/２の奇数倍に該当する位置で容易に通
過されるということが知られている。
【００２６】従って、本発明の第１実施形態は、マグネ
トロン５から照射される高周波が第１開口部２１の前方
に置かれた第２開口部２２を通して全て抜け出ないよう
に第２開口部２２を高周波管内波長の１/２の奇数倍に
該当する位置からややはずれて位置させ、第１開口部２
１は、第２開口部２２を通過しない高周波を全て通過さ
せうるように高周波管内波長の１/２の奇数倍に該当す
る位置に配させたことである。一列に配された一対の開
口部２１、２２を前述したように置かせることにより、
マグネトロン５から発振される高周波は、その量の概略
半分ほどが先に第２開口部２２を通して調理室１に排出
され、残りの高周波は第２開口部２２の後方に配された
第１開口部２１を通して調理室１に排出される。従っ
て、高周波が両開口部２１、２２を通して均一に調理室
１に照射できて調理物の均一な調理が可能になる。
【００２７】ここで、開口部２１、２２の上方にはトレ
イ３が置かれるが、該トレイ３は高周波を通過させうる
材質で作られるため、調理物を調理するのに障害になら
ない。
【００２８】また、開口部２１、２２を通過する高周波
を調理室１に乱反射させ調理物の全部位に均一に高周波
が伝えられるよう各開口部２１、２２には高周波分散装
置１５が設けられる。該高周波分散装置１５は前述した
従来の技術と同じく、導波管２０の下部に設けられるモ
ータ１６と、導波管２０の開口部２１、２２の上方に配
される分散ファン１７と、モータ１６と分散ファン１７
に回転自在に連結されモータ１６の回転力を分散ファン
１７に伝えるための駆動軸１８とから構成される。
【００２９】一方、前記分散ファン１７は導波管２０の
内部に配設することもできる。この場合は分散ファン１
７のサイズがさらに小さくできて一層コンパクトな電子
レンジになれる。
【００３０】前述したように構成された本発明の第１実
施形態による電子レンジを作動させれば、高周波がマグ
ネトロン５から照射され導波管２０に沿って案内され、
先に導波管の管内波長の１/２倍の奇数倍からやや外れ
て位置した第２開口部２２を通して概略半分ほどの高周
波が調理室１を通過して高周波分散装置１５により調理
室１の全体空間に分散され、残りの高周波は導波管２０
に沿ってさらに進んだ後導波管の管内波長の１/２倍の
奇数倍に位置した第１開口部２１を介して通過してやは
り高周波分散装置１５により調理室１に分散される。
【００３１】かつ、食べ物が載置されているトレイ３が
低速で回転し、また高周波分散装置１５により分散され
た高周波が調理室１の壁により乱反射されながら高周波
が食べ物に均一に照射されることにより、調理が迅速で
均一になされる。
【００３２】図５及び図６は本発明の第２実施形態によ
る電子レンジを示した図である。同図によれば、第２実
施形態による電子レンジは導波管２０ａの上部に形成さ
れた一対の開口部２１、２２ａがマグネトロン５につい
て一列に配され、各開口部に高周波分散装置１５が設け
られ構成される点において第１実施形態による電子レン
ジと同様であると言える。
【００３３】しかし、第２実施形態は第２開口部２２ａ
を第１開口部２１の前方で第１開口部２１と同一に高周
波管内波長の１/２倍の奇数倍に置かせ、該第２開口部
２２ａのサイズを第１開口部２１のサイズよりやや小さ
く形成させて構成される点において第１実施形態と相違
である。
【００３４】このような構成により第２実施形態による
電子レンジでは、第１実施形態と同様に、マグネトロン
５から照射される高周波が第１開口部２１の前方に置か
れた第２開口部２２ａを通して全て抜け出られなくな
る。すなわち、一対の開口部２１、２２ａを高周波管内
波長の１/２倍の奇数倍に該当する位置で一列に配置
し、前方に置かれた第２開口部２２ａのサイズを後方に
位置した第１開口部２１のサイズよりやや小さくなるよ
う形成させることにより、マグネトロン５から発振され
る高周波はその量の概略半分ほどが先に小さく形成され
た第２開口部２２ａを通して調理室１に排出され、残り
の高周波はサイズが大きく形成され第２開口部２２ａの
後方に配された第１開口部２１を通して調理室１に排出
される。従って、高周波が両開口部２１、２２ａを介し
て均一に調理室１に照射できて調理物の均一な調理が可
能になる。
【００３５】また、本発明の第２実施形態では各開口部
２１、２２ａに設けられた高周波分散装置１５と共に調
理室１の上部にもう一つの高周波分散装置１５ａを設け
て、調理室１の下部に配された高周波分散装置１５によ
り分散された高周波を調理室１の上部に配された高周波
分散装置１５ａにより再度分散させることにより高周波
をさらに均一に調理物に照射できるようになる。
【００３６】調理室１の上部に配されたこのような高周
波分散装置１５ａは第１実施形態による電子レンジにも
適用して設けられ、また後述する第３実施形態でも適用
され得ることは勿論である。
【００３７】前述したように構成された第２実施形態に
よる電子レンジの動作は調理室１の上部に配された高周
波分散装置１５ａの作用を除けば第１実施形態と同様な
ので、これ以上の説明は省略する。
【００３８】図７は本発明の第３実施形態による電子レ
ンジを示した図である。この第３実施形態による電子レ
ンジは、図６に示した第２実施形態による電子レンジと
極めて類似に構成され、但し第２開口部２２ｂの形状を
第２実施形態の第２開口部２２ａと違って形成させた点
だけが相異なる。
【００３９】すなわち、第３実施形態による導波管２０
ｂの上部には、導波管２０ｂの後方から導波管管内波長
の１/２倍の奇数倍に該当する位置に配され、円形より
なる第１開口部２１と、導波管２０ｂの前方、すなわち
第１開口部２１とマグネトロン５との間で導波管管内波
長の１/２倍の奇数倍に当る位置に配され、少なくとも
一つ以上のスリットよりなる第２開口部２２ｂが形成さ
れている。
【００４０】示した通り、第３実施形態による電子レン
ジは、第２開口部２２ｂを導波管２０ｂの長手方向と同
様に横方向に延設させて構成することにより、第２開口
部２２ｂが高周波を通過させ易い導波管管内波長の１/
２倍の奇数倍に位置されながらもその形状により高周波
の通過にやや障害を与えて、略半分ほどの高周波をその
後方に位置した第１開口部２１に誘導できるようにな
る。このような構造による作用効果は反復された実験結
果により立証できる。
【００４１】前述したように構成された第３実施形態に
よる電子レンジの動作も第１及び第２実施形態と同様な
ので、これ以上の説明は省く。
【００４２】
【発明の効果】以上述べた通り、本発明に係る電子レン
ジは導波管が調理室の縦長さに比べて極めて狭幅を有し
て横方向に延設され、導波管の上部にはマグネトロンに
ついて一列に配された一対の開口部が形成され、両開口
部を通して同一量の高周波が通過されるようにする構造
よりなることにより導波管のサイズを小さく形成するこ
とができる。このような導波管の構造から、従来に比べ
て材料費が節減され、電子レンジをコンパクトに構成さ
せうる効果を奏する。特に、調理室が、横方向の長さが
縦長さより大きくなる長方形よりなる場合は一列に配さ
れた一対の開口部を適切に位置させることにより調理室
の全体空間に均一に高周波を分散させうるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来の技術による導波管を備えた電子レンジ
の概略側断面図である。
【図２】 図１に示した線II-IIに沿って取られた断面
図である。
【図３】 本発明の第１実施形態による導波管を備えた
電子レンジの概略的な側断面図である。
【図４】 図３に示した線IV-IVに沿って取られた断面
図である。
【図５】 本発明の第２実施形態による導波管を備えた
電子レンジの概略的な側断面図である。
【図６】 図５に示した線VI-VIに沿って取られた断面
図である。
【図７】 図６に応ずるもので、本発明の第３実施形態
による導波管を備えた電子レンジの概略断面図である。
【符号の説明】
１ 調理室 ２ 電装品室 ５ マグネトロン １５ 高周波分散装置 ２０、２０ａ、２０ｂ 導波管 ２１ 第１開口部 ２２、２２ａ、２２ｂ 第２開口部

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 本体の内部に区画設置された調理室及び
    電装品室と、 該調理室及び電装品室の底部に配された導波管と、 前記電装品室で前記導波管に結合されたマグネトロン
    と、 前記調理室に向かって開放されるよう前記導波管に設け
    られた一対の開口部と、 該一対の開口部に設けられた高周波分散装置を備え、 前記一対の開口部は前記導波管に配された第１開口部
    と、 該第１開口部と前記マグネトロンとの間に配された第２
    開口部と、を備えることを特徴とする電子レンジ。
  2. 【請求項２】 前記導波管は、前記調理室の下部から狭
    幅に横方向に延設され、前記第１開口部の中心は高周波
    管内波長の１/２の奇数倍になる位置に形成され、前記
    第２開口部の中心は高周波管内波長の１/２の奇数倍か
    らややはずれる位置に形成されることを特徴とする請求
    項１に記載の電子レンジ。
  3. 【請求項３】 前記導波管は前記調理室の下部から狭幅
    に横方向に延設され、前記第１開口部の中心と第２開口
    部の中心は全て高周波管内波長の１/２の奇数倍になる
    位置に形成され、 前記第２開口部のサイズは前記第１開口部のサイズより
    やや小さくなるよう形成されることを特徴とする請求項
    １に記載の電子レンジ。
  4. 【請求項４】 前記導波管は前記調理室の下部から狭幅
    に横方向に延設され、前記第１開口部の中心と第２開口
    部の中心は全て高周波管内波長の１/２の奇数倍になる
    位置に形成され、前記第２開口部は横方向に配された複
    数のスリットよりなることを特徴とする請求項１に記載
    の電子レンジ。
  5. 【請求項５】 前記調理室の上部に一つの高周波分散装
    置をさらに設けて、前記調理室の底部に設けられた前記
    一対の高周波分散装置から上向きに反射される高周波を
    前記調理室の下部に乱反射させるようにすることを特徴
    とする請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の電
    子レンジ。
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