JP2003173730A - ヒューズ抵抗 - Google Patents

ヒューズ抵抗

Info

Publication number
JP2003173730A
JP2003173730A JP2001372394A JP2001372394A JP2003173730A JP 2003173730 A JP2003173730 A JP 2003173730A JP 2001372394 A JP2001372394 A JP 2001372394A JP 2001372394 A JP2001372394 A JP 2001372394A JP 2003173730 A JP2003173730 A JP 2003173730A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fuse resistor
substrate
resistance film
insulating substrate
pattern width
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001372394A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Yokogawa
哲也 横川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tama Electric Co Ltd
Original Assignee
Tama Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tama Electric Co Ltd filed Critical Tama Electric Co Ltd
Priority to JP2001372394A priority Critical patent/JP2003173730A/ja
Publication of JP2003173730A publication Critical patent/JP2003173730A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】過負荷に対して応答性の優れた溶断特性を有す
るヒューズ抵抗を提供する。 【解決手段】絶縁基板1上に、パターン幅の一部が他の
部分より狭くなるよう抵抗膜2を形成してなるヒューズ
抵抗において、抵抗膜パターン幅が狭い部分近傍の絶縁
基板に穿孔穴4を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、電子回路において
過負荷による部品の性能劣化や損傷を防止するためのヒ
ューズ抵抗に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のヒューズ抵抗は、図2に示すよう
に、絶縁基板上に、パターン幅の一部が他の部分より狭
くなるよう抵抗膜を形成してなる。前記絶縁基板の両端
に、前記抵抗膜両端と各々電気的に接続されるように端
子電極を形成し、チップ型部品として用いられる場合も
ある。
【0003】このヒューズ抵抗に過負荷がかけられた場
合、抵抗膜のパターン幅が狭い部分では電力が集中し、
他の部分より大きな温度上昇が起こることにより、抵抗
膜が溶融、断線する。これによって過負荷による部品の
性能劣化や損傷を防止することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来構造のヒ
ューズ抵抗では、過負荷によって発生した熱が抵抗膜か
ら絶縁基板に放熱されるため、抵抗膜が溶断に至る温度
まで上昇するのに時間が掛かり、過負荷がかけられてか
ら断線するまでの応答速度が遅くなるという課題を有し
ていた。
【0005】本発明は、上記課題を解決するもので、応
答性に優れた溶断特性を有するヒューズ抵抗を提供する
ことを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のヒューズ抵抗器
は、絶縁基板上に、パターン幅の一部が他の部分より狭
くなるよう抵抗膜を形成してなるヒューズ抵抗器におい
て、抵抗膜パターン幅が狭い部分近傍の絶縁基板に穿孔
穴を形成したことを特徴とする。
【0007】また、前記絶縁基板の、抵抗膜のパターン
幅が他の部分より狭い部分近傍の基板側面に凹部を形成
したことを特徴とする。
【0008】また、前記絶縁基板の、抵抗膜のパターン
幅が他の部分より狭い部分と対向する基板裏面に凹部を
形成したことを特徴とする。
【0009】また、前記絶縁基板において、抵抗膜パタ
ーン幅の狭い部分近傍の穿孔穴と、抵抗膜のパターン幅
が他の部分より狭い部分と対向する基板裏面凹部の両方
を有することを特徴とする。
【0010】前記絶縁基板において、抵抗膜パターン幅
の狭い部分近傍の基板側面凹部と、抵抗膜のパターン幅
が他の部分より狭い部分と対向する基板裏面凹部との両
方を有することを特徴とする。
【0011】ヒューズ抵抗の構造を上記のようにするこ
とにより、吸熱する絶縁基板の体積を減らすことができ
る。これにより抵抗膜から基板への放熱が抑えられ、抵
抗膜が溶断に至る温度まで上昇する時間が短くなり、過
負荷に対する応答性が向上する。
【0012】
【発明の実施の形態】実施の形態1図1は本発明の実施
の形態1によるヒューズ抵抗の構成図を示す。
【0013】アルミナ等の絶縁基板1上に、スパッタリ
ング法によって金属膜を基板全面に形成した後、フォト
リソグラフィ工法によって、パターン幅の一部が他の部
分より狭くなるよう抵抗膜2を形成する。ここで使用さ
れる金属膜は、例えば膜厚0.8μmのNiなどであ
る。
【0014】次に、抵抗膜2のパターン幅の狭い部分近
傍に、穿孔穴4を形成する。
【0015】穴加工の方法として、サンドブラスト工法
が例として挙げられる。サンドブラスト工法の概要を以
下に述べる。
【0016】基板上面にフィルム状レジストを貼り、穿
孔穴を設けたい部分に開口部ができるよう、フォトリソ
グラフィ工法によりレジストパターンを形成する。ここ
で使用するフィルム状レジストはサンドブラスト加工用
で、エッチング用レジストに比べ機械的衝撃に強い材料
が使われている。レジストパターン形成後、基板にSi
Cなどの研磨材を吹き付けることで、レジスト開口部の
みを切削加工する。
【0017】この方法により、任意の形状の穴または溝
の加工ができるだけでなく、レーザー加工と異なり、抵
抗膜に熱的な影響を及ぼすことなく加工ができる利点が
ある。
【0018】上記のように抵抗膜3および穿孔穴4を形
成した絶縁基板1を個片に分割し、端子電極3を形成し
て、チップ型ヒューズ抵抗器となる。
【0019】本実施の形態で説明したチップ型ヒューズ
抵抗器に定格電力の10〜20倍といった過負荷がかけ
られた場合、抵抗膜のパターン幅が狭い部分では電力が
集中し、他の部分より大きな温度上昇が起こる。抵抗膜
のパターン幅が狭い部分近傍では絶縁基板の体積が小さ
いため、抵抗膜から絶縁基板に対する放熱は従来のヒュ
ーズ抵抗に比べ小さい。
【0020】このため、過負荷による温度上昇が従来の
ヒューズ抵抗より早く、溶断に至るまでの時間も図3に
示すように20%程度早くなる。
【0021】実施の形態2.図4は実施の形態2による
ヒューズ抵抗の構成図を示す。この実施の形態では、抵
抗膜のパターン幅が他の部分より狭い部分近傍の基板側
面に凹部5aを形成している。基板体積が実施の形態1
に比べ少なくなることで、応答性が更に向上する。
【0022】実施の形態3.図5は実施の形態3による
ヒューズ抵抗の構成図を示す。この実施の形態では、抵
抗膜のパターン幅が他の部分より狭い部分と対向する基
板裏面に凹部5bを形成している。部品上面全面が平ら
であるため、実施の形態1と比較し、部品実装時の実装
機による吸着性が向上される。
【0023】実施の形態4.図6は実施の形態4による
ヒューズ抵抗の構成図を示す。実施の形態1の基板裏面
部分に凹部5bを形成したものであり、更に応答性が向
上する。
【0024】実施の形態5.図7は実施の形態5による
ヒューズ抵抗の構成図を示す。実施の形態2の基板裏面
部分に凹部5bを形成したものであり、更に応答性が向
上する。
【0025】本発明は、上述した実施例に限定せず、本
発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であ
る。例えば、抵抗膜は抵抗値や溶断特性に応じて上記N
iの他、Cr、Ti、Ta、Cu等の金属材料を使用し
ても良い。また抵抗膜の形成方法としては、スパッタリ
ング法の他、蒸着法、CVD法、めっき法などを使用し
ても良い。さらに上記実施例ではチップ型部品について
述べたが、電源用ハイブリッドICなどの複合部品にお
いて、その基板の一部に本発明のヒューズ抵抗を形成す
ることも可能である。
【0026】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、抵抗膜の
パターン幅が他の部分より狭い部分近傍の基板体積を減
らすことで、抵抗膜から基板への放熱を抑え、抵抗膜が
溶断する温度に至るまでの時間を短くすることにより、
応答性の優れた溶断特性を有するヒューズ抵抗を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるヒューズ抵抗の上
面図および断面図
【図2】ヒューズ抵抗の従来例の上面図および断面図
【図3】本発明の実施の形態1によるヒューズ抵抗と従
来例の溶断特性比較
【図4】本発明の実施の形態2によるヒューズ抵抗の上
面図および断面図
【図5】本発明の実施の形態3によるヒューズ抵抗の上
面図および断面図
【図6】本発明の実施の形態4によるヒューズ抵抗の上
面図および断面図
【図7】本発明の実施の形態5によるヒューズ抵抗の上
面図および断面図
【符号の説明】
1 絶縁基板 2 抵抗膜 3 端子電極 4 穿孔穴 5a、5b 凹部

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板上に、パターン幅の一部が他の
    部分より狭くなるよう抵抗膜を形成してなるヒューズ抵
    抗器において、抵抗膜パターン幅が狭い部分近傍の絶縁
    基板に穿孔穴を形成したことを特徴とするヒューズ抵
    抗。
  2. 【請求項2】 前記絶縁基板の、抵抗膜のパターン幅が
    他の部分より狭い部分近傍の基板側面に凹部を形成した
    ことを特徴とするヒューズ抵抗。
  3. 【請求項3】 前記絶縁基板の、抵抗膜のパターン幅が
    他の部分より狭い部分と対向する基板裏面に凹部を形成
    したことを特徴とするヒューズ抵抗。
  4. 【請求項4】 前記絶縁基板において、請求項1記載の
    穿孔穴と、請求項3記載の基板裏面凹部の両方を有する
    ことを特徴とするヒューズ抵抗。
  5. 【請求項5】 前記絶縁基板において、請求項2記載の
    基板側面凹部と、請求項3記載の基板裏面凹部の両方を
    有することを特徴とするヒューズ抵抗。
JP2001372394A 2001-12-06 2001-12-06 ヒューズ抵抗 Pending JP2003173730A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001372394A JP2003173730A (ja) 2001-12-06 2001-12-06 ヒューズ抵抗

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001372394A JP2003173730A (ja) 2001-12-06 2001-12-06 ヒューズ抵抗

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003173730A true JP2003173730A (ja) 2003-06-20

Family

ID=19181298

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001372394A Pending JP2003173730A (ja) 2001-12-06 2001-12-06 ヒューズ抵抗

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003173730A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011175958A (ja) * 2010-01-28 2011-09-08 Kyocera Corp ヒューズ装置、ヒューズ装置用部品および電子装置
JP2011233316A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Kyocera Corp 電流ヒューズ装置および回路基板
US8773833B2 (en) 2011-02-04 2014-07-08 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
US8971006B2 (en) 2011-02-04 2015-03-03 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
JP2020004983A (ja) * 2015-06-24 2020-01-09 住友電工プリントサーキット株式会社 フレキシブルプリント配線板
JP2020191414A (ja) * 2019-05-23 2020-11-26 オムロン株式会社 基板

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011175958A (ja) * 2010-01-28 2011-09-08 Kyocera Corp ヒューズ装置、ヒューズ装置用部品および電子装置
JP2011233316A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Kyocera Corp 電流ヒューズ装置および回路基板
US8773833B2 (en) 2011-02-04 2014-07-08 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
US8971006B2 (en) 2011-02-04 2015-03-03 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
US9166397B2 (en) 2011-02-04 2015-10-20 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
US9425009B2 (en) 2011-02-04 2016-08-23 Denso Corporation Electronic control device including interrupt wire
JP2020004983A (ja) * 2015-06-24 2020-01-09 住友電工プリントサーキット株式会社 フレキシブルプリント配線板
US10653007B2 (en) 2015-06-24 2020-05-12 Sumitomo Electric Printed Circuits, Inc. Flexible printed circuit board
JP2020191414A (ja) * 2019-05-23 2020-11-26 オムロン株式会社 基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6214318B2 (ja) 電流ヒューズ
EP0270954A1 (en) Chip-type fuse
JP5237299B2 (ja) 抵抗器(特にsmd抵抗器)及びその製造方法
JP2008235523A (ja) 抵抗素子を有する電子部品およびその製造法
JP2003173730A (ja) ヒューズ抵抗
KR20180049987A (ko) 칩 저항기
JP4203499B2 (ja) チップ抵抗器及びチップ抵抗器の製造方法
JP2006310277A (ja) チップ型ヒューズ
JPH1116759A (ja) 電子部品の製造方法
JP2006024825A (ja) 電気部品
JP2006318896A (ja) チップ型ヒューズ
JPH1196886A (ja) チップ形ヒューズ及びその製造方法
KR101759870B1 (ko) 표면 실장형 퓨즈
CN111696738A (zh) 过电流保护元件
JP2010098024A (ja) 回路保護部品
JP3105483B2 (ja) チップ型ヒューズ及びその製造方法
JP2005175506A (ja) 半導体装置
JP2006164639A (ja) チップ型ヒューズ及びその製造方法
JPH10308156A (ja) ヒューズ
JP2000149760A (ja) 過電流遮断方法及び電流ヒュ−ズエレメント
KR20180017842A (ko) 칩 저항 소자 및 칩 저항 소자 어셈블리
JP2008103462A (ja) チップ型ネットワーク抵抗器と面実装部品およびその製造方法
JP2002150916A (ja) ヒューズ素子
JP5471153B2 (ja) 抵抗器およびその製造方法、並びにその実装方法
JP4383912B2 (ja) チップ型ヒューズ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20040618

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20070118

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20070213

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070717