JP2003149791A - Automatic mask cleaning device for automatic exposure device - Google Patents
Automatic mask cleaning device for automatic exposure deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線により基板
上に所定のパターンがマスクを通して露光処理される自
動露光装置のマスク自動クリーニング装置に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask automatic cleaning device of an automatic exposure device in which a predetermined pattern is exposed on a substrate by ultraviolet rays through a mask.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の自動露光装置では、所定波長の紫
外線をマスクを通して照射することにより、基板搬送機
構にて搬送された基板上に所定のパターンを自動的に露
光処理することが行われている。このような自動露光装
置としては、基板及びマスクを垂直状態で保持して、そ
の整合作業及び露光作業を行うようにしてなる、所謂、
縦型の露光装置、あるいは、基板及びマスクを水平状態
で整合作業及び露光作業を行う横型の露光装置が提案さ
れている。2. Description of the Related Art In a conventional automatic exposure apparatus, a predetermined pattern is automatically exposed on a substrate carried by a substrate carrying mechanism by irradiating ultraviolet rays of a predetermined wavelength through a mask. There is. Such an automatic exposure apparatus holds a substrate and a mask in a vertical state, and performs the aligning work and the exposing work, so-called,
A vertical exposure apparatus or a horizontal exposure apparatus that performs alignment work and exposure work in a horizontal state of a substrate and a mask has been proposed.
【0003】そして、このような自動露光装置は、多数
の基板を一枚のマスクにより露光処理するため、マスク
に塵や埃、また、レジストのカスなどが付着する場合が
あり、マスクのクリーニング作業を定期的に行う必要が
あった。Since such an automatic exposure apparatus performs exposure processing on a large number of substrates with a single mask, dust or dust, or resist debris may adhere to the mask. Had to be done on a regular basis.
【0004】そのため、従来では、マスクをマスクホル
ダ用フレーム枠などから取り外すか、あるいは、マスク
ホルダ用フレーム枠にセットしたマスクをクリーニング
可能な状態にしてから、マスクの表面をハンディタイプ
のクリーニングローラを用いて一々人手により手動的に
クリーニングしているのが現状である。Therefore, conventionally, the mask is removed from the frame frame for the mask holder, or the mask set on the frame frame for the mask holder is made in a cleanable state, and then the surface of the mask is cleaned with a handy type cleaning roller. The current situation is that the cleaning is done manually by hand using one by one.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
自動露光装置においては、クリーニング作業を行う場
合、マスクをマスクホルダ用フレーム枠などから取り外
して行っていたため、クリーニング後、再度、マスクと
基板との整合調整を行う必要が発生するなど、マスクホ
ルダ用フレーム枠からマスクを取り外すことに伴う余分
な調整作業が発生してしまった。However, in the conventional automatic exposure apparatus, when the cleaning operation is performed, the mask is removed from the frame frame for the mask holder and the like. Therefore, after cleaning, the mask and the substrate are not removed again. Excessive adjustment work has occurred when the mask is removed from the frame frame for the mask holder, such as the necessity of adjusting the alignment.
【0006】また、人手によりマスクに対するクリーニ
ングを行っているため、クリーニング作業を行う作業者
のクリーニングに対する基準がまちまちとなり、安定し
た基準でもってクリーニングを行うことができなかっ
た。Further, since the mask is manually cleaned, the worker who performs the cleaning work has various criteria for cleaning, and the cleaning cannot be performed on a stable basis.
【0007】さらに、マスクを取り出して表面のクリー
ニングを定期的に行う場合、作業者がクリーニング作業
を行うに十分な作業スペースがないため、そのクリーニ
ング作業が非常に面倒であるという問題があった。Further, when the mask is taken out and the surface is regularly cleaned, there is a problem that the cleaning work is very troublesome because there is not enough working space for the worker to carry out the cleaning work.
【0008】本発明は、前記の事情に鑑みてなされたも
のであり、マスクを取り出すことなく自動的なクリーニ
ングを可能にし、クリーニング作業の簡便化を図ること
ができる自動露光装置のマスク自動クリーニング装置を
提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and enables automatic cleaning without taking out the mask and simplifies the cleaning operation. The purpose is to provide.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ために、本発明は、露光処理部の基板搬送部側に保持さ
れた基板を、その基板撮像部側に保持されたマスクに対
向させ、このマスクを通して前記基板上に所定のパター
ンを露光処理してなる自動露光装置に用いられるマスク
自動クリーニング装置であって、マスクの表面に当接さ
せてクリーニングするクリーニングユニットと、このク
リーニングユニットを移動制御する駆動制御手段を備え
たことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention makes a substrate held on the substrate transfer section side of an exposure processing section face a mask held on the substrate imaging section side. A mask automatic cleaning device used in an automatic exposure device which exposes a predetermined pattern on the substrate through the mask, wherein the cleaning unit is brought into contact with the surface of the mask for cleaning, and the cleaning unit is moved. A drive control means for controlling is provided.
【0010】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングユニットがマスクの表面
に当接した状態で、そのマスク表面を駆動制御手段によ
って移動可能になる。このため、マスクの表面に付着す
るレジストのカスなどが自動的にクリーニングされる。That is, according to the present invention, by adopting the above-mentioned structure, the mask control surface can be moved by the drive control means while the cleaning unit is in contact with the mask surface. For this reason, the resist residue and the like that adhere to the surface of the mask are automatically cleaned.
【0011】また、本発明は、前記露光装置のマスク自
動クリーニング装置において、駆動制御手段は、クリー
ニングユニットをマスクの縦幅寸法範囲に応じて移動さ
せる第1の移動手段と、クリーニングユニットをマスク
の横幅寸法範囲に応じて移動させる第2の移動手段を備
えたことを特徴とする。Further, according to the present invention, in the mask automatic cleaning device of the exposure apparatus, the drive control means moves the cleaning unit in accordance with the vertical width dimension range of the mask and the cleaning unit moves the cleaning unit of the mask. It is characterized in that it is provided with a second moving means for moving according to the width dimension range.
【0012】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、マスクの面積が大きな部分に第1の移
動手段によりクリーニングユニットを、マスクの縦幅寸
法範囲に応じて縦方向に移動させ、次いで、第2の移動
手段によりクリーニングユニットを、マスクの横幅寸法
範囲に応じて横方向に移動させることが可能になる。That is, according to the present invention, by adopting the above-described structure, the cleaning unit is moved in the vertical direction according to the vertical width dimension range of the mask to the portion having a large mask area by the first moving means. Then, the second moving unit allows the cleaning unit to be moved in the lateral direction according to the lateral width dimension range of the mask.
【0013】さらに、本発明は、前記自動露光装置のマ
スク自動クリーニング装置において、クリーニングユニ
ットは、マスクが保持されるマスクホルダ用フレーム枠
と、このマスクホルダ用フレーム枠に保持されたマスク
が対面するように基板を保持する基板ホルダ用フレーム
枠との間に出没自在に設置されていることを特徴とす
る。Further, according to the present invention, in the mask automatic cleaning device of the automatic exposure device, the cleaning unit faces the mask holder frame and the mask held by the mask holder frame. Thus, it is characterized in that it is installed so as to be retractable from the frame for a substrate holder that holds the substrate.
【0014】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、マスクホルダ用フレーム枠と基板ホル
ダ用フレーム枠との間に対応位置させて設置されるクリ
ーニングユニットが、待機時に、マスクホルダ用フレー
ム枠内から離れた位置に配置され、マスクをクリーニン
グするときに、マスクに対面する位置に移動して、マス
クをクリーニングすることが可能になる。That is, according to the present invention, by adopting the above-mentioned structure, the cleaning unit installed at the corresponding position between the frame frame for the mask holder and the frame frame for the substrate holder can be used for the mask holder during standby. The mask is arranged at a position distant from the inside of the frame, and when cleaning the mask, the mask can be moved to a position facing the mask to clean the mask.
【0015】さらにまた、本発明は、前記自動露光装置
のマスク自動クリーニング装置において、クリーニング
ユニットは、クリーニングローラと、このクリーニング
ローラの両端軸部を独立して揺動可能に軸支して懸架す
る一対の揺動アームとを備えてなることを特徴とする。Further, in the invention, in the mask automatic cleaning device of the automatic exposure device, the cleaning unit suspends the cleaning roller and both end shaft portions of the cleaning roller so as to be independently swingably supported. It is characterized by comprising a pair of swing arms.
【0016】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングローラをマスクの表面状
態に応じて常に均一に当接させることが可能になる。That is, according to the present invention, by adopting the above-mentioned structure, the cleaning roller can be always brought into uniform contact with the surface state of the mask.
【0017】また、本発明は、前記露光装置のマスク自
動クリーニング装置において、マスクホルダ用フレーム
枠とクリーニングユニットのいずれか一方を、マスクと
クリーニングローラとの接離方向に移動させてなること
を特徴とする。Further, according to the present invention, in the mask automatic cleaning device of the exposure device, one of the mask holder frame and the cleaning unit is moved in the contacting / separating direction between the mask and the cleaning roller. And
【0018】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、特に、基板の縦幅方向のクリーニング
後に、クリーニングユニットを基板の横幅方向に移動さ
せる際、クリーニングローラをマスクの表面から離間さ
せることが可能になる。これにより、クリーニングユニ
ットの基板の横幅方向に対する移動が円滑にかつ容易に
行える。That is, according to the present invention, by adopting the above-described structure, the cleaning roller is separated from the surface of the mask particularly when the cleaning unit is moved in the horizontal direction of the substrate after cleaning in the vertical direction of the substrate. It will be possible. Accordingly, the cleaning unit can be smoothly and easily moved in the widthwise direction of the substrate.
【0019】さらに、本発明は、前記露光装置のマスク
自動クリーニング装置において、クリーニングローラ
は、揺動アームを介してマスク面を押圧する方向に付勢
する付勢手段を介してクリーニングユニットに軸支して
なることを特徴とする。Further, the present invention is the mask automatic cleaning device of the above-mentioned exposure apparatus, wherein the cleaning roller is axially supported by the cleaning unit via an urging means for urging the mask surface in a direction to press the mask surface via a swing arm. It is characterized by being done.
【0020】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニング時、クリーニングローラ
をマスクの表面に付勢手段を介して密着させることが可
能になる。これにより、マスクとクリーニングローラと
を当接させる際の衝撃が吸収緩和される。That is, according to the present invention, by adopting the above-mentioned constitution, it becomes possible to bring the cleaning roller into close contact with the surface of the mask through the biasing means at the time of cleaning. This absorbs and relaxes the impact when the mask and the cleaning roller are brought into contact with each other.
【0021】さらにまた、本発明は、前記自動露光装置
のマスク自動クリーニング装置において、クリーニング
ユニットの待機位置で、クリーニングローラの表面に接
離する汚れ除去手段を備えてなることを特徴とする。Furthermore, the present invention is characterized in that in the mask automatic cleaning device of the above-mentioned automatic exposure device, it is provided with a dirt removing means which comes into contact with and separates from the surface of the cleaning roller at the standby position of the cleaning unit.
【0022】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングローラによるマスクのク
リーニング後、クリーニングユニットを待機位置まで移
動させると、クリーニングローラが汚れ除去機構、例え
ば、粘着テープローラに接触する。この状態で、粘着テ
ープローラを回転させると、クリーニングローラの表面
に付着するレジストのカスなどのゴミを自動的に除去す
ることが可能になる。That is, according to the present invention, by adopting the above-mentioned structure, when the cleaning unit is moved to the standby position after cleaning the mask by the cleaning roller, the cleaning roller comes into contact with the dirt removing mechanism, for example, the adhesive tape roller. To do. In this state, when the adhesive tape roller is rotated, it becomes possible to automatically remove dust such as resist dust attached to the surface of the cleaning roller.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図1は、自動露光装置の一
実施形態としての縦型自動露光装置の全体構成を概略的
に示す平面図である。図2は、縦型自動露光装置の要部
拡大側面図である。図3は、マスク自動クリーニング装
置の概略的正面図である。図4は、クリーニングユニッ
トの全体構成を示す要部斜視図である。図5(a),
(b)は、クリーニングユニットのマスクへの接触状態
を示す概略的要部側面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view schematically showing the overall configuration of a vertical automatic exposure apparatus as one embodiment of the automatic exposure apparatus. FIG. 2 is an enlarged side view of essential parts of the vertical automatic exposure apparatus. FIG. 3 is a schematic front view of the mask automatic cleaning device. FIG. 4 is a main part perspective view showing the overall configuration of the cleaning unit. FIG. 5 (a),
FIG. 6B is a schematic side view of a main part showing a contact state of the cleaning unit with the mask.
【0024】図1に示すように、自動露光装置1は、基
板Wの表面側を露光処理する第1の露光処理部1Aと、
基板Wの裏面側を露光処理する第2の露光処理部1B
と、これら第1及び第2の露光処理部1A,1Bにそれ
ぞれ設置されてマスクMを自動的にクリーニングするマ
スク自動クリーニング装置10、10とを備えている。As shown in FIG. 1, the automatic exposure apparatus 1 includes a first exposure processing section 1A for performing exposure processing on the front surface side of a substrate W,
Second exposure processing unit 1B for performing exposure processing on the back surface side of the substrate W
And mask automatic cleaning devices 10 and 10 which are respectively installed in the first and second exposure processing units 1A and 1B to automatically clean the mask M.
【0025】すなわち、前記自動露光装置1は、基板搬
送機構2Aにて基板搬送方向X1から搬入された基板W
を水平状態から垂直状態として第1の基板ホルダ機構3
Aの基板ホルダ用フレーム枠4Aに保持して、この第1
の基板ホルダ機構3Aを水平回転させることで、第1の
露光機構5Aの露光位置、第2の基板ホルダ機構3Bに
対する受け渡し搬入位置に搬送するように構成されてい
る。一方、第2の基板ホルダ機構3Bもまた同様に、第
1の基板ホルダ機構3Aからの基板Wを基板ホルダ用フ
レーム枠4Bに垂直状態として保持する。この状態で、
第2の基板ホルダ機構3Bが水平回転することで、第2
の露光機構5Bに露光位置に搬送され、露光処理後の基
板Wを基板搬出機構2Bに受け渡して基板搬出方向X2
に向け搬出させるように構成されている。That is, in the automatic exposure apparatus 1, the substrate W loaded in the substrate transport direction X1 by the substrate transport mechanism 2A.
From the horizontal state to the vertical state, the first substrate holder mechanism 3
While holding it on the frame frame 4A for the substrate holder of A,
By horizontally rotating the substrate holder mechanism 3A, the substrate holder mechanism 3A is transported to the exposure position of the first exposure mechanism 5A and the transfer-in position for the second substrate holder mechanism 3B. On the other hand, similarly, the second substrate holder mechanism 3B also holds the substrate W from the first substrate holder mechanism 3A in a vertical state in the substrate holder frame 4B. In this state,
By horizontally rotating the second substrate holder mechanism 3B,
Of the substrate W after being exposed to the exposure mechanism 5B and transferred to the substrate unloading mechanism 2B.
It is configured to be carried out toward.
【0026】第1または第2の露光機構5A,5Bに
は、マスクMがマスクホルダ用フレーム枠6A,6Bを
介して垂直状態で保持され、このマスクMには、第1ま
たは第2の基板ホルダ機構3A,3Bから搬送された基
板Wが対面状態で対向するようになっている。また、露
光時及び整合時には、マスクMが基板Wに当接するよう
に第1または第2の駆動機構7A,7Bにて接離方向Y
に移動制御される。そして、このような基板Wへのマス
クMの密着状態において、光学系8にて基板Wへの露光
処理が行われる。A mask M is vertically held by the first or second exposure mechanism 5A, 5B via mask holder frame frames 6A, 6B. The mask M has a first or second substrate. The substrates W transferred from the holder mechanisms 3A and 3B face each other in a facing state. Further, at the time of exposure and alignment, the contacting / separating direction Y is set by the first or second drive mechanism 7A, 7B so that the mask M contacts the substrate W.
Is controlled to move. Then, in such a close contact state of the mask M on the substrate W, the optical system 8 performs the exposure process on the substrate W.
【0027】さらに、前記した自動露光装置1の第1及
び第2の露光処理部1A,1Bには、第1及び第2の露
光機構5A,5Bのマスクホルダ用フレーム枠6A,6
Bに保持されたマスクMの表面を自動的にクリーニング
するマスク自動マスク自動クリーニング装置10がそれ
ぞれ設けられている。Further, in the first and second exposure processing sections 1A and 1B of the automatic exposure apparatus 1 described above, the frame frames 6A and 6 for mask holders of the first and second exposure mechanisms 5A and 5B are provided.
An automatic mask automatic mask cleaning device 10 for automatically cleaning the surface of the mask M held by B is provided.
【0028】このマスク自動クリーニング装置10は、
図3に示すように、後記するクリーニングユニット20
が第1及び第2の基板ホルダ機構3A,3Bの基板ホル
ダ用フレーム枠4A,4Bと、マスクMが保持された第
1及び第2の露光機構5A,5Bのマスクホルダ用フレ
ーム枠6A,6Bとの間に対応して位置するようにそれ
ぞれ設置されている。This mask automatic cleaning device 10 is
As shown in FIG. 3, a cleaning unit 20 described later is provided.
Are frame frames 4A and 4B for the substrate holder of the first and second substrate holder mechanisms 3A and 3B, and frame frames 6A and 6B for the mask holder of the first and second exposure mechanisms 5A and 5B holding the mask M. It is installed so as to correspond to between and.
【0029】すなわち、このクリーニングユニット20
は、基板ホルダ用フレーム枠3A,3Bとマスクホルダ
用フレーム枠6A,6Bとの間に出没自在に設置され、
クリーニングユニット20の待機時には、マスクホルダ
用フレーム枠6A,6Bの移動を妨げることがないよう
にしている。That is, this cleaning unit 20
Is installed between the substrate holder frame frames 3A and 3B and the mask holder frame frames 6A and 6B so as to be retractable.
When the cleaning unit 20 is on standby, the movement of the mask holder frame frames 6A and 6B is not hindered.
【0030】図3に示すように、マスク自動クリーニン
グ装置10は、左右一対のガイドフレーム11A,11
Bと、これらガイドフレーム11A,11B間にマスク
Mの縦幅方向Z1に沿う上下方向に昇降自在に横架され
る昇降フレーム12と、この昇降フレーム12を左右一
対のタイミングベルト13A,13Bを介して昇降駆動
させる第1のサーボモータ14Aと、昇降フレーム12
に横架したガイドシャフト15と、このガイドシャフト
15に支持されてマスクMの横幅方向Z2に摺動自在な
左右一対の摺動フレーム16A,16Bと、この一方の
摺動フレーム16BをマスクMの横幅方向Z2に移動制
御するボールネジ17と、このボールネジ17を回転駆
動させる第2のサーボモータ14Bとで、後記するクリ
ーニングユニット20を移動する駆動制御手段を構成し
ている。As shown in FIG. 3, the automatic mask cleaning device 10 includes a pair of left and right guide frames 11A, 11A.
B, an elevating frame 12 which is vertically laid between the guide frames 11A and 11B so as to be vertically movable along the vertical width direction Z1 of the mask M, and the elevating frame 12 is provided via a pair of left and right timing belts 13A and 13B. The first servo motor 14A for driving the elevator frame up and down, and the elevator frame 12
Of the mask M, and a pair of left and right sliding frames 16A and 16B supported by the guide shaft 15 and slidable in the lateral width direction Z2 of the mask M. The ball screw 17 for controlling the movement in the lateral direction Z2 and the second servomotor 14B for rotationally driving the ball screw 17 constitute a drive control means for moving the cleaning unit 20 described later.
【0031】前記クリーニングユニット20は、図4に
示すように、左右一対の摺動フレーム16A,16B
(図3参照)に横架された支点軸21と、この支点軸2
1に揺動自在に軸支された左右一対の揺動アーム22
A,22Bと、これら揺動アーム22A,22B間に回
転自在に懸架されたクリーニングローラ23とを備えて
いる。As shown in FIG. 4, the cleaning unit 20 includes a pair of left and right sliding frames 16A and 16B.
(See FIG. 3) The fulcrum shaft 21 and the fulcrum shaft 2
A pair of left and right swing arms 22 swingably supported by
A and 22B, and a cleaning roller 23 rotatably suspended between the swing arms 22A and 22B.
【0032】図5(a)に示すように、クリーニングユ
ニット20のクリーニングローラ23を軸支する揺動ア
ーム22A,22Bに横架される支点軸21には、ブラ
ケット24が固定されている。このブラケット24に
は、ストッパ片25が設けられ、このストッパ片25を
間に介して揺動アーム22A,22B側に設けた上下一
対のストッパ26A,26Bが間隔調整自在に対向させ
て配置されている。これらストッパ26A,26Bは、
揺動アーム22A,22Bの揺動によるクリーニングロ
ーラ23の回動範囲を規制している。また、揺動アーム
22A,22B側とブラケット24のストッパ片25と
の間には、スプリング27が介装され、このスプリング
27の付勢力により、クリーニングローラ23をマスク
Mの表面に接触状態が維持されるように付勢している。As shown in FIG. 5 (a), a bracket 24 is fixed to a fulcrum shaft 21 which is horizontally mounted on swinging arms 22A and 22B which pivotally support a cleaning roller 23 of the cleaning unit 20. The bracket 24 is provided with a stopper piece 25, and a pair of upper and lower stoppers 26A, 26B provided on the swing arm 22A, 22B side with the stopper piece 25 interposed therebetween are arranged so as to be adjustable in interval. There is. These stoppers 26A and 26B are
The rotation range of the cleaning roller 23 due to the swing of the swing arms 22A and 22B is restricted. A spring 27 is interposed between the swing arms 22A and 22B and the stopper piece 25 of the bracket 24, and the biasing force of the spring 27 keeps the cleaning roller 23 in contact with the surface of the mask M. I am urged to be done.
【0033】すなわち、左右一対の揺動アーム22A,
22B間に懸架されたクリーニングローラ23は、図5
(b)に示すように、マスクMが、第1または第2の駆
動機構7A,7B(図1参照)を介して第1または第2
の露光機構5A,5Bのマスクホルダ用フレーム枠6
A,6Bの移動により接触すると、その押圧力を吸収す
るように回動するクッション作用を有する。また、クリ
ーニングローラ23の両端軸部を軸支する各揺動アーム
22A,22Bは、互いに独立して揺動するように支点
軸21に軸支されている。これにより、クリーニングロ
ーラ23の表面がが、マスクMの表面に対して平行に対
接していない場合が発生した状態であっても、揺動アー
ム22A,22Bの揺動作用により、クリーニングロー
ラ23を常にマスクMの表面に平行にかつ均一に密着さ
せることが可能になる。That is, the pair of right and left swing arms 22A,
The cleaning roller 23 suspended between 22B is shown in FIG.
As shown in (b), the mask M is connected to the first or second driving mechanism 7A, 7B (see FIG. 1) via the first or second driving mechanism 7A, 7B.
Frame 6 for the mask holder of the exposure mechanisms 5A and 5B
When they come into contact with each other due to the movement of A and 6B, they have a cushioning function of rotating so as to absorb the pressing force. The swing arms 22A and 22B that pivotally support the shaft portions at both ends of the cleaning roller 23 are pivotally supported by the fulcrum shaft 21 so as to swing independently of each other. As a result, even when the surface of the cleaning roller 23 is not in parallel contact with the surface of the mask M, the swinging action of the swinging arms 22A and 22B causes the cleaning roller 23 to move. It is possible to always adhere the mask M in parallel and evenly.
【0034】一方、マスク自動クリーニング装置10の
最下部、すなわち、第1及び第2の露光機構5A,5B
から離れてクリーニングユニット20のクリーニングロ
ーラ23に対応する位置には、図3に示すように、マス
クMのクリーニング後に、クリーニングユニット20の
クリーニングローラ23に付着するレジストのカスなど
を除去する汚れ除去機構30が設置されている。On the other hand, the lowermost portion of the automatic mask cleaning device 10, that is, the first and second exposure mechanisms 5A and 5B.
As shown in FIG. 3, at a position apart from the cleaning roller 23 of the cleaning unit 20, after the mask M is cleaned, a dirt removing mechanism for removing resist residue or the like adhering to the cleaning roller 23 of the cleaning unit 20. 30 are installed.
【0035】この汚れ除去機構30は、クリーニングユ
ニット20の下降移動にてクリーニングローラ23が接
触する粘着テープローラ31と、この粘着テープローラ
31を回転自在に軸支する支持フレーム32と、この支
持フレーム32を上下駆動させる加圧シリンダ33と、
支持フレーム32に軸支された粘着テープローラ31を
回転駆動させる第3のサーボモータ14Cとで構成され
ている。The dirt removing mechanism 30 includes an adhesive tape roller 31 with which the cleaning roller 23 comes into contact when the cleaning unit 20 moves downward, a support frame 32 for rotatably supporting the adhesive tape roller 31, and this support frame. A pressure cylinder 33 for vertically driving 32,
The third servo motor 14C is configured to rotate the adhesive tape roller 31 pivotally supported by the support frame 32.
【0036】この場合、加圧シリンダ33は、クリーニ
ングローラ23と粘着テープローラ31との接触時、支
持フレーム32を上昇させることにより、クリーニング
ローラ23に対する粘着テープローラ31の接触圧を調
整するようになっている。また、粘着テープローラ31
としては、例えば、ローラ体に粘着テープを一枚、また
は、複数枚重ね合わせ巻回して剥ぎ取り交換自在にして
もよい。In this case, the pressure cylinder 33 adjusts the contact pressure of the adhesive tape roller 31 with respect to the cleaning roller 23 by raising the support frame 32 when the cleaning roller 23 and the adhesive tape roller 31 are in contact with each other. Has become. Also, the adhesive tape roller 31
For example, one or a plurality of adhesive tapes may be wound around the roller body so that they can be peeled off and replaced.
【0037】次に、前記したマスク自動クリーニング装
置10によるマスクMの表面のクリーニング手順を図6
及び図7に基づいて説明する。図6は、マスク表面のク
リーニング制御状態を要部拡大して示す概略的正面図で
ある。図7は、マスククリーニング時の露光機構の移動
によるクリーニングローラに対するマスクの接離方向の
移動制御状態を概略的に示す説明図である。Next, the procedure for cleaning the surface of the mask M by the automatic mask cleaning device 10 will be described with reference to FIG.
And FIG. 7 will be described. FIG. 6 is a schematic front view showing a cleaning control state of the mask surface by enlarging a main part. FIG. 7 is an explanatory view schematically showing the movement control state of the mask in the contact / separation direction with respect to the cleaning roller due to the movement of the exposure mechanism during the mask cleaning.
【0038】この場合、第1及び第2の露光機構5A,
5Bに設置した各々のマスク自動クリーニング装置10
の動作は、同じであるため、一方のみを説明する。ま
ず、光学系8による基板Wの露光終了後、第1の駆動機
構7Aによる第1の露光機構5Aと第1の基板ホルダ機
構3Aとの離間状態において、図示しないコントローラ
パネルにマスクMの縦幅及び横幅の寸法範囲を設定した
データを入力し、これにより、マスクMの縦幅及び横幅
の寸法範囲に応じたクリーニングユニット20によるク
リーニング動作を設定する。In this case, the first and second exposure mechanisms 5A,
Automatic mask cleaning device 10 installed in 5B
The operation of is the same, so only one will be described. First, after the exposure of the substrate W by the optical system 8 is completed, the vertical width of the mask M is displayed on a controller panel (not shown) in a separated state between the first exposure mechanism 5A and the first substrate holder mechanism 3A by the first drive mechanism 7A. And the data in which the width dimension range is set, and the cleaning operation by the cleaning unit 20 is set according to the height dimension and width dimension range of the mask M.
【0039】このとき、クリーニングユニット20は、
第1の露光機構5Aのマスクホルダ用フレーム枠6Aか
ら離れた位置、例えば、図3及び図6に示すクリーニン
グローラ23と粘着テープローラ31との接触位置近
傍、すなわち、図3及び図6に二点鎖線で示すような第
1露光機構5Aの下方に位置させて、マスクホルダ用フ
レーム枠6Aに保持されたマスクMの表面に向けて出没
自在に待機している。At this time, the cleaning unit 20 is
A position away from the mask holder frame 6A of the first exposure mechanism 5A, for example, in the vicinity of a contact position between the cleaning roller 23 and the adhesive tape roller 31 shown in FIGS. 3 and 6, that is, as shown in FIGS. It is positioned below the first exposure mechanism 5A as indicated by the dotted line, and stands by so that it can freely project and retract toward the surface of the mask M held by the mask holder frame frame 6A.
【0040】この待機位置において、第1のサーボモー
タ14Aの駆動にてタイミングベルト13A,13Bを
介して昇降フレーム12を上昇させる。これにより、昇
降フレーム12に設けたクリーニングユニット20も上
昇し、このクリーニングユニット20に軸支したクリー
ニングローラ23をマスクMの最上端まで上昇させる。
次いで、第2のサーボモータ14Bの駆動にてボールネ
ジ17を回転させることにより、クリーニングユニット
20をマスクMの横幅方向Z2の一方の最端側に対応位
置させる。At this standby position, the elevating frame 12 is raised by driving the first servomotor 14A via the timing belts 13A and 13B. As a result, the cleaning unit 20 provided on the elevating frame 12 also rises, and the cleaning roller 23 pivotally supported by the cleaning unit 20 rises to the uppermost end of the mask M.
Then, by rotating the ball screw 17 by driving the second servo motor 14B, the cleaning unit 20 is positioned corresponding to one end of the mask M in the lateral width direction Z2.
【0041】そして、第1露光機構5Aを第1の駆動機
構7Aにて第1の基板ホルダ機構3A側に向け前進移動
させ、マスクホルダ用フレーム枠6Aに保持されたマス
クMをクリーニングローラ23にスプリング27の付勢
力に抗して当接させた後、第1のサーボモータ14Aの
駆動にてタイミングベルト13A,13Bを駆動させ
て、昇降フレーム12を下降させる。このとき、昇降フ
レーム12に設けたクリーニングユニット20も下降し
て、クリーニングローラ23がマスクMの表面にスプリ
ング27の付勢力により弾性的に接触したまま追従回転
する。次いで、クリーニングユニット20をマスクMの
最下端側まで下降させることにより、マスクMの表面の
クリーニングが行われる。Then, the first exposure mechanism 5A is moved forward by the first drive mechanism 7A toward the first substrate holder mechanism 3A side, and the mask M held by the mask holder frame 6A is transferred to the cleaning roller 23. After abutting against the urging force of the spring 27, the timing belts 13A and 13B are driven by the driving of the first servomotor 14A to lower the elevating frame 12. At this time, the cleaning unit 20 provided on the elevating frame 12 also descends, and the cleaning roller 23 follows and rotates while elastically contacting the surface of the mask M by the urging force of the spring 27. Next, the cleaning unit 20 is lowered to the lowermost end side of the mask M, so that the surface of the mask M is cleaned.
【0042】クリーニングユニット20がマスクMの最
下端側まで到達すると、第1のサーボモータ14Aの駆
動を停止して、クリーニングユニット20によるクリー
ニング動作を一旦停止する。When the cleaning unit 20 reaches the lowermost end side of the mask M, the driving of the first servomotor 14A is stopped, and the cleaning operation by the cleaning unit 20 is temporarily stopped.
【0043】この場合、クリーニングローラ23の長さ
がマスクMの横幅方向Z2の寸法よりも短いときには、
図7に示すように、第1の駆動機構7Aにて第1の露光
機構5Aを駆動させて一旦後退させ、マスクMをクリー
ニングローラ23から離間させて、それらの接触状態を
開放する。そして、この状態で、第1のサーボモータ1
4Aにてタイミングベルト13A,13Bを駆動させ、
クリーニングユニット20を上昇させて、マスクMの最
下端の位置にあるクリーニングローラ23を、再びマス
クMの最上端まで上昇させる。次いで、第2のサーボモ
ータ14Bの駆動にてボールネジ17を回転させること
により、クリーニングユニット20をマスクMの横幅方
向Z2の他方の側に向け移動させ、クリーニングローラ
23を残りのクリーニング範囲まで移動させてマスクM
の表面に対応位置させる。In this case, when the length of the cleaning roller 23 is shorter than the dimension of the mask M in the widthwise direction Z2,
As shown in FIG. 7, the first exposure mechanism 5A is driven by the first drive mechanism 7A to be temporarily retracted, the mask M is separated from the cleaning roller 23, and their contact state is released. Then, in this state, the first servomotor 1
Drive timing belts 13A and 13B at 4A,
The cleaning unit 20 is raised, and the cleaning roller 23 at the lowermost position of the mask M is again raised to the uppermost end of the mask M. Next, by rotating the ball screw 17 by driving the second servo motor 14B, the cleaning unit 20 is moved toward the other side of the mask M in the lateral width direction Z2, and the cleaning roller 23 is moved to the remaining cleaning range. Mask M
Position corresponding to the surface of.
【0044】そして、第1の露光機構5Aを第1の駆動
機構7Aの駆動にて再び前進させ、マスクMをリーニン
グローラ23に再び接触させる。次いで、第1のサーボ
モータ14Aにてタイミングベルト13A,13Bを駆
動させ、クリーニングユニット20をマスクMの縦幅方
向Z1に下降させて、クリーニングローラ23を再び追
従回転させることにより、マスクMの横幅方向Z2の残
りのクリーニング範囲のクリーニングが行われる。これ
により、マスクMの全表面がクリーニングされるように
なっている。Then, the first exposure mechanism 5A is moved forward again by the drive of the first drive mechanism 7A, and the mask M is brought into contact with the leaning roller 23 again. Then, the timing belts 13A and 13B are driven by the first servomotor 14A, the cleaning unit 20 is lowered in the vertical width direction Z1 of the mask M, and the cleaning roller 23 is rotated again following the horizontal width of the mask M. Cleaning of the remaining cleaning range in the direction Z2 is performed. As a result, the entire surface of the mask M is cleaned.
【0045】このようなクリーニング作業の終了後、図
6及び図7に示すように、クリーニングユニット20を
第1の露光機構5A外の最下部に対応する位置(待機位
置)まで下降させて、クリーニングローラ23を汚れ除
去機構30の粘着テープローラ31に接触させて停止す
る。この状態で、第3のサーボモータ14Cの駆動にて
粘着テープローラ31を回転させ、この粘着テープロー
ラ31の回転にクリーニングローラ23を追従回転させ
ることにより、クリーニングローラ23の表面に付着し
たレジストのカスなどのゴミを粘着テープローラ31側
に転写除去して、クリーニングローラ23のクリーニン
グを行う。After completion of such cleaning work, as shown in FIGS. 6 and 7, the cleaning unit 20 is lowered to a position (standby position) corresponding to the lowermost portion outside the first exposure mechanism 5A for cleaning. The roller 23 is brought into contact with the adhesive tape roller 31 of the stain removing mechanism 30 and stopped. In this state, the adhesive tape roller 31 is rotated by the driving of the third servomotor 14C, and the cleaning roller 23 is rotated following the rotation of the adhesive tape roller 31 to remove the resist adhered to the surface of the cleaning roller 23. Dust such as dust is transferred and removed to the adhesive tape roller 31 side, and the cleaning roller 23 is cleaned.
【0046】この場合、クリーニングローラ23と粘着
テープローラ31との接触圧は、粘着テープローラ31
を軸支する支持フレーム32を昇降させる加圧シリンダ
33による昇降動作にて調整するようになっている。In this case, the contact pressure between the cleaning roller 23 and the adhesive tape roller 31 depends on the adhesive tape roller 31.
It is adapted to be adjusted by an elevating operation by a pressurizing cylinder 33 that elevates and lowers the support frame 32 that pivotally supports.
【0047】また、マスクMの横幅方向Z2の寸法がク
リーニングローラ23の長さよりも短いときには、クリ
ーニングローラ23をマスクMの横幅方向Z2に移動さ
せることなく、そのまま下降させて、マスクMの表面の
復方向のクリーニングを行う。そして、クリーニング後
は、クリーニングユニット20をクリーニングローラ2
3が粘着テープローラ31に接触する最下部に対応する
位置で停止させる。この状態で、第3のサーボモータ1
4Cの駆動にて粘着テープローラ31を回転させ、クリ
ーニングローラ23の表面に付着したレジストのカスな
どのゴミを粘着テープローラ31に転写除去して、クリ
ーニングローラ23のクリーニングを行う。When the dimension of the mask M in the widthwise direction Z2 is shorter than the length of the cleaning roller 23, the cleaning roller 23 is lowered without moving in the widthwise direction Z2 of the mask M and the surface of the mask M is moved down. Perform backward cleaning. After cleaning, the cleaning unit 20 is replaced with the cleaning roller 2
3 is stopped at the position corresponding to the lowermost part where the adhesive tape roller 31 comes into contact. In this state, the third servo motor 1
By driving 4C, the adhesive tape roller 31 is rotated, and dust such as resist residue attached to the surface of the cleaning roller 23 is transferred and removed to the adhesive tape roller 31, and the cleaning roller 23 is cleaned.
【0048】ところで、前記クリーニングローラ23
は、長さが300mm、径が50mmで、粘着テープロ
ーラ31の径の1/2程度に設定され、粘着テープロー
ラ31によるクリーニングローラ23の表面に付着する
ゴミ等の転写除去を効率よく行われるようにしている。
また、マスクMの形態は、厚さが100〜200μで、
基板Wの最大寸法、例えば、530×630mmよりも
全周が1インチ程度大きな寸法に設定されているととも
に、マスクホルダ用フレーム枠6Aに対して縦長あるい
は横長に配置される。By the way, the cleaning roller 23
Has a length of 300 mm and a diameter of 50 mm, and is set to about ½ of the diameter of the adhesive tape roller 31. The adhesive tape roller 31 efficiently removes dust and the like adhering to the surface of the cleaning roller 23. I am trying.
The mask M has a thickness of 100 to 200 μm,
The entire circumference of the substrate W is set to be larger than the maximum size, for example, 530 × 630 mm by about 1 inch, and the substrate W is vertically or horizontally long with respect to the mask holder frame frame 6A.
【0049】さらに、図6及び図7に示すように、第1
の露光機構5Aのマスクホルダ用フレーム枠6Aに保持
したマスクMの表面に、基板Wの寸法に応じて添設され
る各スペーサSは、マスクMの厚さ100〜200μに
対して数ミリの厚さのものが配置される。この場合、ク
リーニングローラ23は、マスクMの表面に添設された
スペーサSを避ける位置で走行するように運転パネルに
より設定される。Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the first
The spacers S attached to the surface of the mask M held by the frame frame 6A for the mask holder of the exposure mechanism 5A depending on the size of the substrate W have a thickness of several millimeters for a thickness of 100 to 200 μ of the mask M. Thick ones are placed. In this case, the cleaning roller 23 is set by the operation panel so as to run at a position where the spacer S attached to the surface of the mask M is avoided.
【0050】なお、前記した実施形態においては、第1
及び第2の露光機構5A,5Bのマスクホルダ用フレー
ム枠6A,6Bに保持したマスクMとクリーニングユニ
ット20のクリーニングローラ23との接離動作を、第
1及び第2の基板ホルダ機構3A,3Bの基板ホルダ用
フレーム枠4A,4Bに保持した基板Wに対する第1及
び第2の露光機構5A,5Bの移動制御を利用した例を
挙げて説明した。しかしながら、本発明は、これには限
定されず、マスク自動クリーニング装置10またはクリ
ーニングユニット20を別途の駆動機構により移動制御
し、マスクMに対してクリーニングユニット20のクリ
ーニングローラ23が接離するように移動制御してなる
構成にしてもよい。In the above embodiment, the first
The contact and separation operation of the mask M held by the mask holder frame frames 6A and 6B of the second exposure mechanisms 5A and 5B and the cleaning roller 23 of the cleaning unit 20 is performed by the first and second substrate holder mechanisms 3A and 3B. An example using the movement control of the first and second exposure mechanisms 5A and 5B with respect to the substrate W held on the substrate holder frame frames 4A and 4B has been described. However, the present invention is not limited to this, and the movement of the automatic mask cleaning device 10 or the cleaning unit 20 is controlled by a separate drive mechanism so that the cleaning roller 23 of the cleaning unit 20 comes into contact with or separates from the mask M. You may make it the structure which carries out movement control.
【0051】また、前記した実施形態では、マスク自動
クリーニング装置10のクリーニングユニット20をマ
スクMの縦幅方向Z1に対応する上下方向に移動させて
出没させたが、基板横幅方向Z2に対応する左右方向に
移動させて出没させるようにしてもよい。Further, in the above-described embodiment, the cleaning unit 20 of the automatic mask cleaning device 10 is moved up and down in the vertical direction corresponding to the vertical width direction Z1 of the mask M to be projected and retracted, but left and right corresponding to the horizontal direction Z2 of the substrate. You may make it appear and disappear by moving in a direction.
【0052】さらに、前記した実施形態では、縦型の自
動露光装置を例にして説明したが、横型の自動露光装置
にも適用することが可能である。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で種々変更実施可能なことは云うまで
もない。Further, in the above-described embodiment, the vertical type automatic exposure apparatus has been described as an example, but the present invention can be applied to a horizontal type automatic exposure apparatus. Needless to say, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
【0053】[0053]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る自動
露光装置のマスク自動クリーニング装置では、以下に示
すような優れた効果を奏する。As described above, the mask automatic cleaning device of the automatic exposure apparatus according to the present invention has the following excellent effects.
【0054】自動露光装置のマスク自動クリーニング装
置は、マスクの表面に当接させてクリーニングするクリ
ーニングユニットと、クリーニングユニットを移動制御
する駆動制御手段とを備えてなるため、マスクホルダ用
フレーム枠から取り外すことなく、マスクに付着するレ
ジストのカスなどが自動的にクリーニングすることがで
きる。これにより、従前のように、人手による定期的な
クリーニング作業が省略されるため、クリーニング作業
の簡便化を図ることができる。また、常に安定したクリ
ーニング条件により、マスクをクリーニングすることが
できる。Since the automatic mask cleaning device of the automatic exposure device is equipped with a cleaning unit for contacting the surface of the mask for cleaning and a drive control means for controlling the movement of the cleaning unit, it is removed from the mask holder frame. Without this, it is possible to automatically clean the residue and the like of the resist adhering to the mask. As a result, the regular manual cleaning work is omitted as in the prior art, so that the cleaning work can be simplified. Further, the mask can be cleaned under stable cleaning conditions.
【0055】また、自動露光装置のマスク自動クリーニ
ング装置は、駆動制御手段が、クリーニングユニットを
マスクの縦横幅寸法範囲に応じて移動させる第1及び第
2の移動手段を備えてなるため、マスクの大きさに拘わ
らず、その表面を適切にクリーニングすることができ
る。Further, in the automatic mask cleaning apparatus of the automatic exposure apparatus, the drive control means is provided with the first and second moving means for moving the cleaning unit according to the vertical and horizontal width dimension ranges of the mask. Regardless of its size, its surface can be properly cleaned.
【0056】さらに、自動露光装置のマスク自動クリー
ニング装置は、クリーニングユニットがマスクホルダ用
フレーム枠と対面する基板ホルダ用フレーム枠との間に
出没自在に設置されていることから、クリーニングユニ
ットの待機時に、マスクホルダ用フレーム枠内から離れ
た位置に配置させることができ、マスクホルダ用フレー
ム枠の移動を妨げることがない。Further, in the automatic mask cleaning device of the automatic exposure apparatus, since the cleaning unit is installed so as to be retractable between the mask holder frame and the facing substrate holder frame, the cleaning unit is in the standby state. The mask holder frame can be arranged at a position apart from the inside of the mask holder frame, and does not hinder the movement of the mask holder frame.
【0057】さらにまた、自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置は、クリーニングローラを揺動アームに
より揺動可能に軸支しているため、クリーニングローラ
がマスクの表面状態に応じて常に均一に当接させた状態
でクリーニングすることができる。Further, in the automatic mask cleaning device of the automatic exposure device, since the cleaning roller is pivotally supported by the rocking arm, the cleaning roller is always brought into contact with the mask evenly according to the surface condition of the mask. It can be cleaned while standing.
【0058】また、自動露光装置のマスク自動クリーニ
ング装置は、マスクホルダ用フレーム枠とクリーニング
ユニットのいずれか一方を、マスクとクリーニングロー
ラとの接離方向に移動させてなることから、特に、マス
クの縦幅方向のクリーニング後に、クリーニングユニッ
トをマスクの横幅方向に移動させる際に、クリーニング
ローラをマスクの表面から離間させることができる。こ
れにより、クリーニングユニットのマスクの横幅方向に
対する移動を円滑にかつ容易に行うことができる。Further, in the mask automatic cleaning device of the automatic exposure device, one of the mask holder frame and the cleaning unit is moved in the contact and separation direction between the mask and the cleaning roller. The cleaning roller can be separated from the surface of the mask when the cleaning unit is moved in the width direction of the mask after cleaning in the width direction. As a result, the cleaning unit can be smoothly and easily moved in the widthwise direction of the mask.
【0059】さらに、自動露光装置のマスク自動クリー
ニング装置は、クリーニングローラが揺動アームを介し
てマスク面を押圧する方向に付勢する付勢手段を介して
クリーニングユニットに軸支してなることから、クリー
ニング時、クリーニングローラをマスクの表面に均一に
密着させることができるとともに、マスクとクリーニン
グローラとを当接させる際の衝撃を吸収緩和することが
でき、マスクの表面を傷付けることがない。Further, in the automatic mask cleaning device of the automatic exposure device, the cleaning roller is axially supported by the cleaning unit through the biasing means for biasing the cleaning roller in the direction of pressing the mask surface through the swing arm. At the time of cleaning, the cleaning roller can be brought into close contact with the surface of the mask uniformly, and the impact when the mask and the cleaning roller are brought into contact with each other can be absorbed and mitigated without damaging the surface of the mask.
【0060】さらにまた、自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置は、クリーニングユニットの待機位置
で、クリーニングローラの表面に接離する汚れ除去手段
を備えてなることから、クリーニングローラによるマス
クのクリーニング後、クリーニングローラの表面に付着
するレジストのカスなどのゴミを自動的に除去すること
ができる。Furthermore, since the mask automatic cleaning device of the automatic exposure device is provided with the dirt removing means which comes into contact with and separates from the surface of the cleaning roller at the standby position of the cleaning unit, cleaning is performed after cleaning the mask by the cleaning roller. It is possible to automatically remove dust such as resist dust attached to the surface of the roller.
【図1】 本発明に適用される自動露光装置の一実施形
態としての縦型自動露光装置の全体構成を概略的に示す
平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing an overall configuration of a vertical automatic exposure apparatus as an embodiment of an automatic exposure apparatus applied to the present invention.
【図2】 本発明に係る縦型自動露光装置の要部拡大側
面図である。FIG. 2 is an enlarged side view of essential parts of a vertical automatic exposure apparatus according to the present invention.
【図3】 本発明に係るマスク自動クリーニング装置の
全体構成を概略的に示す要部拡大説明図である。FIG. 3 is an enlarged explanatory view of a main part schematically showing the overall configuration of the automatic mask cleaning device according to the present invention.
【図4】 本発明に係るクリーニングユニットの全体構
成を示すよう要部斜視図である。FIG. 4 is a main part perspective view showing the overall configuration of a cleaning unit according to the present invention.
【図5】 本発明に係るクリーニングユニットを拡大し
て示し、(a)は概略的要部側面図、(b)はクリーニ
ングローラのマスクへの接離状態を示す概略的要部側面
図である。5A and 5B are enlarged views of a cleaning unit according to the present invention, FIG. 5A is a schematic side view of a main part, and FIG. 5B is a schematic side view of a main part showing a state where a cleaning roller is in contact with and separated from a mask. .
【図6】 本発明に係るクリーニングユニットのクリー
ニングローラによるマスク表面のクリーニング制御状態
を要部拡大して示す概略的正面図である。FIG. 6 is a schematic front view showing an enlarged main part of a cleaning control state of a mask surface by a cleaning roller of a cleaning unit according to the present invention.
【図7】 本発明に係るマスククリーニング時の露光機
構の移動によるクリーニングローラに対するマスクの接
離方向の移動制御状態を概略的に示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view schematically showing a movement control state of a mask with respect to a cleaning roller in a contact / separation direction by movement of an exposure mechanism during mask cleaning according to the present invention.
1……自動露光装置 1A……第1の露光処理部 1B……第2の露光処理部 2A……基板搬送機構 2B……基板搬出機構 3A……第1の基板ホルダ機構 3B……第2の基板ホルダ機構 4A……基板ホルダ用フレーム枠 4B……基板ホルダ用フレーム枠 5A……第1の露光機構 5B……第2の露光機構 6A……マスクホルダ用フレーム枠 6B……マスクホルダ用フレーム枠 7A……第1の駆動機構 7B……第2の駆動機構 8……光学系 10……マスク自動クリーニング装置 11A……ガイドフレーム 11B……ガイドフレーム 12……昇降フレーム 13A……タイミングベルト 13B……タイミングベルト 14A……第1のサーボモータ 14B……第2のサーボモータ 14C……第3のサーボモータ 15……ガイドシャフト 16A……摺動フレーム 16B……摺動フレーム 17……ボールネジ 20……クリーニングユニット 21……支点軸 22A……揺動アーム 22B……揺動アーム 23……クリーニングローラ 24……ブラケット 25……ストッパ片 26A……ストッパ 26B……ストッパ 27……付勢手段(スプリング) 30……汚れ除去手段(汚れ除去機構) 31……粘着テープローラ 32……支持フレーム 33……加圧シリンダ M……マスク S……スペーサ W……基板 X1……基板搬送方向 X2……基板搬出方向 Y……接離方向 Z1……マスク縦幅方向 Z2……マスク横幅方向 1 ... Automatic exposure device 1A ... first exposure processing section 1B ... second exposure processing section 2A: substrate transfer mechanism 2B: Substrate unloading mechanism 3A ... first substrate holder mechanism 3B ... second substrate holder mechanism 4A: Frame frame for substrate holder 4B: Frame frame for substrate holder 5A ... first exposure mechanism 5B ... second exposure mechanism 6A: Frame frame for mask holder 6B: Frame frame for mask holder 7A ... first drive mechanism 7B ... second drive mechanism 8: Optical system 10: Automatic mask cleaning device 11A ... Guide frame 11B ... Guide frame 12 ... Lifting frame 13A ... Timing belt 13B ... Timing belt 14A ... first servo motor 14B ... second servo motor 14C: third servo motor 15 ... Guide shaft 16A …… Sliding frame 16B …… Sliding frame 17 ... Ball screw 20 ... Cleaning unit 21 ... fulcrum axis 22A ... Swinging arm 22B ... Swinging arm 23 ... Cleaning roller 24 …… Bracket 25: Stopper piece 26A ... Stopper 26B ... Stopper 27 ... Biasing means (spring) 30: dirt removing means (dirt removing mechanism) 31 ... Adhesive tape roller 32 ... Support frame 33 ... Pressure cylinder M: Mask S: Spacer W: substrate X1 ... Board transfer direction X2: Board unloading direction Y: Direction of contact Z1 ... Mask vertical direction Z2: Mask width direction
Claims (7)
基板を、その基板撮像部側に保持されたマスクに対向さ
せ、このマスクを通して前記基板上に所定のパターンを
露光処理してなる自動露光装置に用いられるマスク自動
クリーニング装置であって、 前記マスクの表面に当接させてクリーニングするクリー
ニングユニットと、 このクリーニングユニットを移動制御する駆動制御手段
を備えたことを特徴とする自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置。1. A substrate held on the substrate transfer unit side of an exposure processing unit is opposed to a mask held on the substrate imaging unit side, and a predetermined pattern is exposed on the substrate through this mask. A mask automatic cleaning apparatus used in an automatic exposure apparatus, comprising: a cleaning unit that abuts on a surface of the mask for cleaning; and a drive control unit that controls movement of the cleaning unit. Mask automatic cleaning device.
ユニットを前記マスクの縦幅寸法範囲に応じて移動させ
る第1の移動手段と、 前記クリーニングユニットを前記マスクの横幅寸法範囲
に応じて移動させる第2の移動手段を備えたことを特徴
とする請求項1に記載の自動露光装置のマスク自動クリ
ーニング装置。2. The drive control means comprises: first moving means for moving the cleaning unit according to a vertical width dimension range of the mask; and first moving means for moving the cleaning unit according to a horizontal width dimension range of the mask. 2. The automatic mask cleaning device for an automatic exposure apparatus according to claim 1, further comprising two moving means.
クが保持されるマスクホルダ用フレーム枠と、このマス
クホルダ用フレーム枠に保持された前記マスクが対面す
るように前記基板を保持する基板ホルダ用フレーム枠と
の間に出没自在に設置されていることを特徴とする請求
項1または請求項2に記載の自動露光装置のマスク自動
クリーニング装置。3. The substrate frame frame for holding the substrate, wherein the cleaning unit holds the substrate so that the mask holder frame holding the mask and the mask held by the mask holder frame face each other. The mask automatic cleaning device of the automatic exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the mask automatic cleaning device is installed so as to be retractable between and.
ングローラと、このクリーニングローラの両端軸部を独
立して揺動可能に軸支して懸架する一対の揺動アームと
を備えてなることを特徴とする請求項1から請求項3ま
でのいずれか1項に記載の自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置。4. The cleaning unit comprises: a cleaning roller; and a pair of swing arms that suspend and support the shaft portions of both ends of the cleaning roller so as to swing independently. An automatic mask cleaning apparatus for an automatic exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3.
リーニングユニットのいずれか一方を、前記マスクとク
リーニングローラとの接離方向に移動させてなることを
特徴とする請求項3または請求項4に記載の自動露光装
置のマスク自動クリーニング装置。5. The method according to claim 3, wherein any one of the mask holder frame and the cleaning unit is moved in a contacting / separating direction between the mask and the cleaning roller. Mask automatic cleaning device for automatic exposure equipment.
ームを介してマスク面を押圧する方向に付勢する付勢手
段を介して前記クリーニングユニットに軸支してなるこ
とを特徴とする請求項4または請求項5に記載の自動露
光装置のマスク自動クリーニング装置。6. The cleaning roller is pivotally supported on the cleaning unit via a biasing means for biasing the mask surface in a direction of pressing the mask surface via the swing arm. Alternatively, the mask automatic cleaning device of the automatic exposure device according to claim 5.
おいて前記クリーニングローラの表面に接離する汚れ除
去手段を備えてなることを特徴とする請求項4から請求
項6までのいずれか1項に記載の自動露光装置のマスク
自動クリーニング装置。7. The automatic apparatus according to claim 4, further comprising a dirt removing unit that comes into contact with and separates from a surface of the cleaning roller at a standby position of the cleaning unit. Automatic mask cleaning device for exposure equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001344737A JP2003149791A (en) | 2001-11-09 | 2001-11-09 | Automatic mask cleaning device for automatic exposure device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001344737A JP2003149791A (en) | 2001-11-09 | 2001-11-09 | Automatic mask cleaning device for automatic exposure device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003149791A true JP2003149791A (en) | 2003-05-21 |
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ID=19158212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001344737A Pending JP2003149791A (en) | 2001-11-09 | 2001-11-09 | Automatic mask cleaning device for automatic exposure device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2003149791A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008298870A (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | Drawing device |
US9353436B2 (en) | 2008-03-05 | 2016-05-31 | Applied Materials, Inc. | Coating apparatus with rotation module |
JP2017138415A (en) * | 2016-02-02 | 2017-08-10 | ウシオ電機株式会社 | Roll-to-roll double side exposure equipment |
CN110515274A (en) * | 2018-05-21 | 2019-11-29 | 东莞市多普光电设备有限公司 | It is a kind of based on Multi-station circulating and table top can independent work Full-automatic exposure machine |
-
2001
- 2001-11-09 JP JP2001344737A patent/JP2003149791A/en active Pending
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