JPH0810719A - Device for washing with brush - Google Patents
Device for washing with brushInfo
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- JPH0810719A JPH0810719A JP6176084A JP17608494A JPH0810719A JP H0810719 A JPH0810719 A JP H0810719A JP 6176084 A JP6176084 A JP 6176084A JP 17608494 A JP17608494 A JP 17608494A JP H0810719 A JPH0810719 A JP H0810719A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表
示器用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディ
スク用基板（以下、これらを「基板」という）を回転さ
せながら基板表面にブラシの毛を当接し、または、基板
表面からブラシの毛を若干浮かせた状態で、基板表面を
洗浄するブラシ洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is to rotate a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, and a substrate for an optical disk (hereinafter, referred to as "substrate") while brushing the bristles on the substrate surface. The present invention relates to a brush cleaning device that cleans the surface of a substrate while the brush bristles are in contact with or slightly raised from the surface of the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のこの種のブラシ洗浄装置として
は、例えば、回転可能に支持された基板の外周縁の外側
の待機位置に、揺動アームの先端部に取り付けられたブ
ラシが待機され、揺動アームを揺動させることにより、
ブラシを待機位置と基板表面の中央部との間で移動可能
に構成されている。また、ブラシは、揺動アームの先端
部に対して回転可能（自転可能）に構成されている。2. Description of the Related Art As a conventional brush cleaning apparatus of this type, for example, a brush attached to the tip of a swing arm stands by at a standby position outside the outer peripheral edge of a rotatably supported substrate. By swinging the swing arm,
The brush is configured to be movable between the standby position and the central portion of the substrate surface. Further, the brush is configured to be rotatable (rotatable) with respect to the tip of the swing arm.
【０００３】この従来装置によれば、揺動アームを正方
向に揺動させ、待機位置に待機しているブラシを基板表
面の中央部に移動し、ブラシの毛を基板表面に当接した
状態、または、基板表面から若干浮かせた状態にし、ブ
ラシを自転させ、基板を回転させながら、揺動アームを
逆方向に揺動させてブラシを基板表面の中央部からその
外周縁方向に移動させ、基板表面全面をブラシで洗浄す
る。洗浄が終了すると、揺動アームを逆方向に揺動さ
せ、ブラシを待機位置に移動させて待機させ、次の基板
の洗浄に備える。According to this conventional device, the swing arm is swung in the forward direction, the brush waiting at the standby position is moved to the central portion of the substrate surface, and the bristles of the brush are in contact with the substrate surface. , Or slightly floating from the surface of the substrate, rotate the brush, and while rotating the substrate, swing the swinging arm in the opposite direction to move the brush from the central portion of the substrate surface toward the outer peripheral edge thereof, Brush the entire surface of the substrate with a brush. When the cleaning is completed, the swinging arm is swung in the opposite direction, the brush is moved to the standby position, and the brush is made to stand by to prepare for the next cleaning of the substrate.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。従来装置では、待機位置に揺動アームの先端部に
取り付けられた１個のブラシだけが待機され、そのブラ
シを用いて基板表面の洗浄を順次行う構成であるので、
例えば、複数種類のブラシを用いて洗浄する場合には、
まず、最初の洗浄に用いるブラシ（例えばナイロンブラ
シ）を揺動アームの先端部に取付け、上述した動作でそ
のブラシによる洗浄（粗洗浄）を行い、そのブラシによ
る洗浄が終了して待機位置に移動されると、次に、その
ブラシを揺動アームの先端部から取外し、それに替え
て、別の種類のブラシ（例えばポリビニルアルコール
（ＰＶＡ）ブラシ）を揺動アームの先端部に取付け、上
述した動作で、そのブラシによる洗浄（仕上げの洗浄）
を行うという手順で行う必要があり、ブラシ交換等を行
う必要があり作業者には大変な手間を強いることになる
し、処理のスループットが悪いという問題がある。However, the prior art having such a structure has the following problems. In the conventional apparatus, only one brush attached to the tip of the swing arm is on standby at the standby position, and the brush is used to sequentially clean the substrate surface.
For example, when cleaning with multiple types of brushes,
First, attach the brush (for example, nylon brush) used for the first cleaning to the tip of the swinging arm, perform the cleaning (coarse cleaning) with the above-mentioned operation, and move to the standby position after the cleaning with the brush is completed. Then, the brush is removed from the tip of the swing arm, and instead, a brush of another type (for example, polyvinyl alcohol (PVA) brush) is attached to the tip of the swing arm, and the above-described operation is performed. Then, cleaning with that brush (cleaning the finish)
However, it is necessary to replace the brushes and the like, which requires a great deal of labor for the operator, and there is a problem that the processing throughput is poor.
【０００５】また、例えば、同一種類のブラシを用いて
基板表面の洗浄を行う場合であっても、従来装置では、
単一のブラシを連続的に使用するので、ブラシの毛が磨
耗するのが早くなる。ブラシの毛が磨耗すれば、ブラシ
交換を行わねばならないが、このブラシ交換作業は手間
である。従来装置では、上記したように、単一のブラシ
を連続的に使用することにより、ブラシの毛の磨耗が早
く、ブラシ交換期間が短くなり、手間を要するブラシ交
換作業を頻繁に行わなければならないという問題もあ
る。Further, for example, even when the surface of the substrate is cleaned using the same type of brush, in the conventional apparatus,
The continuous use of a single brush results in faster brush bristles. If the bristles of the brush become worn, it is necessary to replace the brush, but this brush replacement work is troublesome. In the conventional device, as described above, by continuously using a single brush, the bristles of the brush are worn quickly, the brush replacement period is shortened, and the laborious brush replacement work must be performed frequently. There is also a problem.
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数個のブラシから所望のブラシを自
動で選択して基板表面のブラシ洗浄を行なえるブラシ洗
浄装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a brush cleaning device capable of automatically selecting a desired brush from a plurality of brushes and cleaning the surface of a substrate. With the goal.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明は、基板を回転させながら前記基板表面をブ
ラシで洗浄するブラシ洗浄装置において、前記基板の外
周縁の外側の待機位置に待機された複数個のブラシと、
前記待機位置に待機された複数個のブラシから任意のブ
ラシを選択して、前記待機位置と前記基板表面との間で
選択したブラシを移動させる移動手段と、を備えたもの
である。The present invention has the following constitution in order to achieve such an object. That is, the present invention is, in a brush cleaning apparatus for cleaning the substrate surface with a brush while rotating the substrate, a plurality of brushes waiting at a standby position outside the outer peripheral edge of the substrate,
And a moving unit that selects an arbitrary brush from the plurality of brushes waiting at the standby position and moves the selected brush between the standby position and the surface of the substrate.
【０００８】[0008]
【作用】本発明の作用は次のとおりである。待機位置に
は（同一種類または複数種類の）複数個のブラシが待機
されている。洗浄の際には、移動手段は、待機位置に待
機された複数個のブラシから任意のブラシを選択して、
選択したブラシを基板表面に移動し、そのブラシによる
洗浄が行われる。洗浄が終了すると、そのブラシは、移
動手段により待機位置に移動され待機される。The operation of the present invention is as follows. At the standby position, a plurality of brushes (of the same type or a plurality of types) are waiting. At the time of cleaning, the moving means selects an arbitrary brush from the plurality of brushes waiting at the standby position,
The selected brush is moved to the surface of the substrate, and cleaning is performed with the brush. When the cleaning is completed, the brush is moved to the standby position by the moving means and is on standby.
【０００９】複数種類のブラシを用いて洗浄する場合に
は、待機位置に複数種類のブラシを待機させておき、洗
浄順序に従って、移動手段は、各種類のブラシを順に選
択して、各ブラシによる洗浄をその順で行う。When cleaning with a plurality of types of brushes, a plurality of types of brushes are made to stand by at the standby position, and the moving means selects each type of brush in sequence according to the cleaning order, Wash in that order.
【００１０】また、同一種類のブラシを用いて洗浄する
場合には、待機位置に同一種類のブラシを複数個待機さ
せておき、移動手段は、それらブラシをローテーション
を組んで選択して洗浄に用いることにより、各ブラシの
寿命を長くすることができる。In the case of using the same type of brush for cleaning, a plurality of brushes of the same type are made to stand by at the standby position, and the moving means selects those brushes by rotating them to use for cleaning. As a result, the life of each brush can be extended.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明の第一実施例に係るブラシ洗浄
装置の概略構成を示す一部切欠側面図であり、図２は、
その平面図、図３は、要部の一部切欠側面図、図４は、
基板回転支持台の構成と回転中の基板のブラシ洗浄の状
態を示す図である。なお、図４（ａ）、（ｂ）は、半導
体ウエハのような円形基板の基板回転支持台の構成と回
転中の基板のブラシ洗浄の状態を示す平面図と側面図、
図４（ｃ）、（ｄ）は、液晶表示器用ガラス基板のよう
な矩形基板の基板回転支持台の構成と回転中の基板のブ
ラシ洗浄の状態を示す平面図とそのＡ−Ａ矢視断面図で
ある。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a partially cutaway side view showing a schematic configuration of a brush cleaning device according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
The plan view, FIG. 3 is a partially cutaway side view of the main part, and FIG.
It is a figure which shows the structure of the board | substrate rotation support base, and the state of brush cleaning of the board | substrate which is rotating. 4A and 4B are a plan view and a side view showing a structure of a substrate rotation support base for a circular substrate such as a semiconductor wafer and a brush cleaning state of the rotating substrate.
4 (c) and 4 (d) are plan views showing a configuration of a substrate rotation support base of a rectangular substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display and a state of brush cleaning of the rotating substrate and a cross section taken along line AA thereof. It is a figure.
【００１２】本実施例装置は、回転可能に支持された基
板Ｗ（図２では、円形基板を示している）の表面をブラ
シ洗浄するための複数個のブラシ１がそれぞれブラシア
ーム２の先端部に回転可能に取り付けられ、また、ブラ
シ１のうち、所望のブラシ１を択一的に取り出して基板
Ｗの表面（回転中心ＣＰ）と、基板Ｗのの外周縁の外側
の待機位置との間で移動する移動手段とで構成されてい
る。In the apparatus of this embodiment, a plurality of brushes 1 for brush-cleaning the surface of a rotatably supported substrate W (a circular substrate is shown in FIG. 2) are provided at the tips of brush arms 2. The brush 1 is rotatably mounted on the surface of the substrate W between the surface (rotation center CP) of the substrate W and the standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W. It is composed of a moving means that moves by.
【００１３】基板Ｗは、図４に示すように、図示しない
モータで回転される回転軸１０１の先端部に取り付けら
れた回転台１０２上に、表面を上に向けて例えば、真空
吸着されて支持され、基板ＷはＣＰを中心として回転さ
れるように構成されている。また、基板Ｗが矩形基板の
場合、図４（ｃ）、（ｄ）に示すように、基板Ｗの表面
と同一平面を形成するための基板保護板（矩形基板Ｗと
同一形状の凹部が形成されている）１０３が回転台１０
２上に付設されている。なお、図４（ｃ）の符号１０４
は、矩形基板Ｗを基板保護板１０３の凹部に搬入／搬出
する際、搬送ロボットの爪を差し込むための切り欠きを
示す。As shown in FIG. 4, the substrate W is supported, for example, by vacuum suction with its surface facing upward on a turntable 102 attached to the tip of a rotary shaft 101 rotated by a motor (not shown). The substrate W is configured to be rotated about the CP. When the substrate W is a rectangular substrate, as shown in FIGS. 4C and 4D, a substrate protection plate for forming the same plane as the surface of the substrate W (a concave portion having the same shape as the rectangular substrate W is formed. 103) is the turntable 10
It is attached above 2. Note that reference numeral 104 in FIG.
Shows a notch for inserting a claw of the transfer robot when loading / unloading the rectangular substrate W into / from the recess of the substrate protection plate 103.
【００１４】また、待機位置に待機される各ブラシ１
は、降下位置Ｌの高さに降下された状態で待機ポットＴ
Ｐに挿入されている。待機ポットＴＰには、各ブラシ１
の毛１ａ…部分に洗浄液を噴射するための複数個のノズ
ルＳＮが設けられている。また、各ブラシ１は、それぞ
れのブラシアーム２に取り付けられた電動モータ３の回
転がベルト４で伝動されること（図３参照）により、ブ
ラシアーム２の先端部で回転（自転）されるように構成
されている。各ブラシ１は待機位置に待機されていると
き、この待機ポットＴＰ内に挿入され、自転されながら
各ノズルＳＮから洗浄液が噴射されて、各ブラシ１の毛
１ａ…部分の洗浄が行われる。なお、図中、符号ＨＤ
は、洗浄後の洗浄液を排出する排出ドレインを示す。Further, each brush 1 which is on standby at the standby position
Is in the standby pot T when lowered to the height of the lowered position L.
It is inserted in P. Each brush 1 in the standby pot TP
A plurality of nozzles SN for spraying the cleaning liquid are provided on the hairs 1a ... Further, each brush 1 is rotated (rotated) at the tip of the brush arm 2 by the rotation of the electric motor 3 attached to each brush arm 2 being transmitted by the belt 4 (see FIG. 3). Is configured. Each brush 1 is inserted into the standby pot TP while waiting at the standby position, and the cleaning liquid is sprayed from each nozzle SN while rotating, and the bristles 1a ... In the figure, reference numeral HD
Indicates a drain for discharging the cleaning liquid after cleaning.
【００１５】また、前記各ブラシアーム２の基端部には
支持ブロック６が一体的に取り付けられるとともに、こ
の支持ブロック６の一端側に、回転軸７が一体的に連接
され、これらブラシアーム２（電動モータ３を含む）、
支持ブロック６、回転軸７により、ブラシ支持アーム５
が構成されている。A support block 6 is integrally attached to the base end portion of each brush arm 2, and a rotary shaft 7 is integrally connected to one end side of the support block 6 so that the brush arm 2 (Including electric motor 3),
The brush support arm 5 is supported by the support block 6 and the rotation shaft 7.
Is configured.
【００１６】本実施例では、これらブラシ支持アーム５
のうちの所望のブラシ支持アーム５を選択して、後述す
る揺動支点Ｐ周りに、待機位置と基板Ｗの回転中心ＣＰ
との間で揺動させることにより、複数個のブラシ１のう
ちから所望のブラシ１を選択してブラシ洗浄に用いるよ
うに構成されている。このブラシ支持アーム５を択一的
に揺動させるための移動機構が本発明における移動手段
に相当する。この移動機構の構成を以下に説明する。In this embodiment, these brush support arms 5 are
A desired brush support arm 5 is selected from among them, and a standby position and a rotation center CP of the substrate W are rotated around a swinging fulcrum P described later.
The desired brush 1 is selected from the plurality of brushes 1 by swinging between and to be used for brush cleaning. The moving mechanism for selectively swinging the brush support arm 5 corresponds to the moving means in the present invention. The structure of this moving mechanism will be described below.
【００１７】各ブラシ支持アーム５の回転軸７は、アー
ム回転支持体８に回転軸７の軸芯を中心として回転可能
に支持されている。また、各アーム回転支持体８は共通
の可動フレーム９にそれぞれガイドレール１０を介して
それぞれ垂直方向に昇降可能に一直線状に並列支持され
ている。The rotary shaft 7 of each brush support arm 5 is supported by an arm rotary support 8 so as to be rotatable around the axis of the rotary shaft 7. The arm rotation supports 8 are supported in parallel on a common movable frame 9 via guide rails 10 so as to be vertically movable.
【００１８】可動フレーム９は、不動の装置フレーム１
１に取り付けられたガイドレール１２を介して水平方向
に移動可能に支持され、可動フレーム９に設けたラック
１３は、正逆転可能な電動モータ１４で駆動されるピニ
オン１５と噛合しており、電動モータ１４の正逆駆動に
よってアーム回転支持体８をその並列方向に移動するよ
うに構成されている。The movable frame 9 is a stationary device frame 1.
A rack 13 supported by a guide rail 12 attached to No. 1 so as to be movable in the horizontal direction and provided on a movable frame 9 meshes with a pinion 15 driven by an electric motor 14 capable of rotating in the normal and reverse directions. The arm rotation support 8 is configured to move in the parallel direction by the forward and reverse driving of the motor 14.
【００１９】アーム回転支持体８の側部には、直列に連
結した２個のエアシリンダ１６ａ、１６ｂによって垂直
方向に移動される昇降枠１７が設けられているととも
に、この昇降枠１７に、エアシリンダ１８によって垂直
方向に移動される可動ブラケット１９が設けられてい
る。可動ブラケット１９の上部には、所定位置の揺動支
点Ｐ周りで回転可能な支軸２０ａが設けられ、この支軸
２０ａの下部には揺動支点Ｐ周りで揺動可能に駆動アー
ム２０が設けられている。An elevating frame 17 which is vertically moved by two air cylinders 16a and 16b connected in series is provided on a side portion of the arm rotation support body 8. A movable bracket 19 is provided which is vertically moved by the cylinder 18. A support shaft 20a that is rotatable around a swing fulcrum P at a predetermined position is provided above the movable bracket 19, and a drive arm 20 that is swingable around the swing fulcrum P is provided below the support shaft 20a. Has been.
【００２０】各ブラシ支持アーム５における支持ブロッ
ク６の上面には、回転軸７の軸芯上に位置して円錐上の
係合凹部２１が形成されるとともに、それからブラシ１
側の離れた位置に係合ピン２２が突設されている。On the upper surface of the support block 6 in each brush support arm 5, there is formed a conical engagement recess 21 located on the axis of the rotary shaft 7, and then the brush 1
Engaging pins 22 are provided so as to project at positions separated from each other.
【００２１】他方、駆動アーム２０の下面には、揺動支
点Ｐと同軸に位置して円錐状の係合突起２３が突設させ
るとともに、その揺動支点Ｐから離れて係合ピン２２に
対応する係合孔２４が形成されている。そして任意に選
択されたひとつのブラシ支持アーム５が、前記可動フレ
ーム９、電動モータ１４等によって、ブラシ支持アーム
５の回転軸７の軸芯が駆動アーム２０の揺動支点Ｐの直
下に位置する所定の位置へ移動させられたとき、そのブ
ラシ支持アーム５に対して駆動アーム２０を降下させる
ことで、このブラシ支持アーム５の係合凹部２１と係合
ピン２２とに駆動アーム２０の係合突起２３と係合孔２
４を夫々係合させて、駆動アーム２０とブラシ支持アー
ム５とを一体的に係合保持するとともに、ブラシ支持ア
ーム５の回転軸７の軸芯が駆動アーム２０の揺動支点Ｐ
から水平方向に位置ずれしないように位置決めする芯出
し係合機構が構成されている。On the other hand, on the lower surface of the drive arm 20, there is provided a conical engagement projection 23 which is located coaxially with the swing fulcrum P, and which is separated from the swing fulcrum P and corresponds to the engagement pin 22. An engaging hole 24 is formed. The arbitrarily selected brush support arm 5 is located immediately below the swinging fulcrum P of the drive arm 20 with the axis of the rotary shaft 7 of the brush support arm 5 by the movable frame 9, the electric motor 14, etc. When the drive arm 20 is moved to a predetermined position, the drive arm 20 is lowered with respect to the brush support arm 5, so that the engagement recess 21 and the engagement pin 22 of the brush support arm 5 are engaged with the drive arm 20. Protrusion 23 and engagement hole 2
4 is engaged with each other to integrally engage and hold the drive arm 20 and the brush support arm 5, and the axis of the rotary shaft 7 of the brush support arm 5 is the swing fulcrum P of the drive arm 20.
A centering engagement mechanism for positioning so as not to be displaced in the horizontal direction is configured.
【００２２】また、駆動アーム２０の支軸２０ａが可動
ブラケット１９に設置した正逆転可能な電動モータ２５
にタイミングベルト２６を介して連動連結されており、
電動モータ２５を正逆転することにより、前記したよう
に駆動アーム２０に係合保持された任意のブラシ支持ア
ーム５を、所定位置に規定した揺動支点Ｐ周りに揺動さ
せ、このブラシ支持アーム５のブラシ１を基板Ｗの外周
縁の外側の待機位置と、基板Ｗの回転中心ＣＰとの間で
移動させることができる。Further, the support shaft 20a of the drive arm 20 is mounted on the movable bracket 19 and is capable of forward and reverse rotation electric motor 25.
Are linked to each other via a timing belt 26,
By rotating the electric motor 25 in the forward and reverse directions, the arbitrary brush support arm 5 engaged and held by the drive arm 20 as described above is swung around the swing fulcrum P defined at a predetermined position, and this brush support arm is moved. The brush 1 of No. 5 can be moved between the standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W and the rotation center CP of the substrate W.
【００２３】なお、支持ブロック６の下面には位置決め
突起２７が設けられ、一方、可動フレーム９の上面には
位置決め凹部２８が設けられており、各ブラシ支持アー
ム５が降下位置Ｌに待機しているとき、これら各位置決
め突起２７と位置決め凹部２８とが係合されて、一定姿
勢に位置決め保持されるように構成されている。A positioning projection 27 is provided on the lower surface of the support block 6, and a positioning recess 28 is provided on the upper surface of the movable frame 9, so that each brush support arm 5 stands by at the lowered position L. The positioning protrusions 27 and the positioning recesses 28 are engaged with each other while being positioned, and are positioned and held in a fixed posture.
【００２４】次に、本実施例装置の動作を図１ないし図
６を参照して説明する。 （１）初期状態では、図１、図２の実線で示すように、
全てのブラシ１は基板Ｗの外周縁の外側の待機位置に退
避されており、かつ、アーム回転支持体８も降下位置に
待機している。降下位置Ｌに待機している各ブラシ支持
アーム５は、位置決め突起２７と位置決め凹部２８との
係合により一定姿勢に位置決め保持されている。この待
機状態では、各ブラシ１は固定位置に設けられた待機ポ
ットＴＰ内で、各電動モータ３で自転されながら洗浄液
でブラシの毛１ａ…が洗浄されている。Next, the operation of the apparatus of this embodiment will be described with reference to FIGS. (1) In the initial state, as shown by the solid lines in FIGS. 1 and 2,
All the brushes 1 are retracted to the standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W, and the arm rotation support 8 is also standby at the lowered position. Each brush support arm 5 standing by at the lowered position L is positioned and held in a fixed posture by the engagement of the positioning protrusion 27 and the positioning recess 28. In this standby state, each brush 1 is rotated by each electric motor 3 in a standby pot TP provided at a fixed position, and the bristles 1a of the brush 1 are washed with a cleaning liquid.
【００２５】（２）ブラシ洗浄に際しては、まず、所望
するブラシ１のブラシ支持アーム５が揺動支点Ｐ、すな
わち、駆動アーム２０の直下位置にくるように、電動モ
ータ１４により可動フレーム９を水平移動させる。(2) In brush cleaning, first, the movable frame 9 is horizontally moved by the electric motor 14 so that the brush support arm 5 of the desired brush 1 is located at the swing fulcrum P, that is, directly below the drive arm 20. To move.
【００２６】（３）次に、図５の一部切欠側面図に示す
ように、エアシリンダ１８のロッド１８ａを伸長させ、
可動ブラケット１９を降下させ、これに伴う駆動アーム
２０の降下によって、選択されたブラシ支持アーム５は
駆動アーム２０に係合する。これによって、使用するブ
ラシ１が基板Ｗの回転中心ＣＰに位置するようにブラシ
支持アーム５が揺動させられる時の揺動支点となる回転
軸７が、駆動アーム２０の揺動支点Ｐと一致するように
位置決めされる。なお、選択されたブラシ１のブラシ支
持アーム５の電動モータ３は回転が停止され、そのブラ
シ１の自転が停止される。(3) Next, as shown in the partially cutaway side view of FIG. 5, the rod 18a of the air cylinder 18 is extended,
The movable bracket 19 is lowered, and the drive arm 20 is lowered accordingly, so that the selected brush support arm 5 is engaged with the drive arm 20. As a result, the rotary shaft 7, which serves as a swing fulcrum when the brush support arm 5 is swung so that the brush 1 to be used is located at the rotation center CP of the substrate W, coincides with the swing fulcrum P of the drive arm 20. To be positioned. The rotation of the electric motor 3 of the brush support arm 5 of the selected brush 1 is stopped, and the rotation of the brush 1 is stopped.
【００２７】（４）その後、図６の一部切欠側面図に示
すように、エアシリンダ１６ａ、１６ｂの各ロッド１６
ｘ、１６ｙを共に伸長させ昇降枠１７を上昇させる。そ
の初期においては、昇降枠１７に設けた当接部３１がア
ーム回転支持体８の上端突起３２に下方から当接し、こ
れによって選択されたブラシ支持アーム５は駆動アーム
２０と昇降枠１７の当接部３１とで上下にクランプ固定
される。このクランプ状態でさらに昇降枠１７を上昇
し、図６に示すように、選択されたブラシ支持アーム５
のみをアーム回転支持体８と共に上限位置Ｈまで上昇さ
せる。(4) Thereafter, as shown in the partially cutaway side view of FIG. 6, each rod 16 of the air cylinders 16a, 16b is
Both x and 16y are extended to raise the elevating frame 17. In the initial stage, the contact portion 31 provided on the elevating frame 17 abuts the upper end protrusion 32 of the arm rotation support 8 from below, and the brush support arm 5 selected by this contact the drive arm 20 and the elevating frame 17. It is clamped vertically with the contact portion 31. In this clamped state, the elevating frame 17 is further raised, and as shown in FIG. 6, the selected brush support arm 5
Only the arm rotation support 8 is raised to the upper limit position H.
【００２８】（５）次に、電動モータ２５を正転させ、
駆動アーム２１を図２における時計周りの方向に所定角
度だけ揺動させ、選択したブラシ１を回転台１０２上に
支持された基板Ｗの回転中心ＣＰの上方まで移動させ
る。(5) Next, the electric motor 25 is normally rotated,
The drive arm 21 is swung in the clockwise direction in FIG. 2 by a predetermined angle, and the selected brush 1 is moved to above the rotation center CP of the substrate W supported on the turntable 102.
【００２９】（６）次に、エアシリンダ１６ａ、１６ｂ
の各ロッド１６ｘ、１６ｙを共に収縮させ、ブラシ１の
毛１ａ…を基板Ｗの表面に当接させるように降下させ
る。なお、ブラシ１の毛１ａ…を基板Ｗの表面から若干
浮かせた状態でブラシ洗浄する場合には、エアシリンダ
１６ａ、１６ｂのうち、ロッド１６ｘ、１６ｙの伸縮の
ストロークの大きい方のエアシリンダ（本実施例では１
６ａ）のロッド１６ｘのみを収縮させ、ブラシ１を図１
に示す位置Ｍ（降下位置Ｌから若干高い位置）まで降下
させるようにすればよい。(6) Next, the air cylinders 16a and 16b
The rods 16x and 16y are contracted together, and the bristles 1a of the brush 1 are lowered so as to contact the surface of the substrate W. If the bristles 1a of the brush 1 are slightly floated from the surface of the substrate W and are subjected to brush cleaning, the one of the air cylinders 16a and 16b having the larger expansion / contraction stroke of the rods 16x and 16y (the main one) 1 in the embodiment
6a) only the rod 16x is contracted, and the brush 1 is shown in FIG.
The position M may be lowered to a position M (a position slightly higher than the lowering position L).
【００３０】（７）この状態で、基板Ｗを回転中心ＣＰ
周りで回転させるとともに、電動モータ３を駆動して、
ブラシ１を回転（自転）させる。(7) In this state, the substrate W is rotated at the center of rotation CP.
While rotating around, drive the electric motor 3,
The brush 1 is rotated (rotated).
【００３１】（８）そして、図示しないノズルから基板
Ｗの表面に洗浄液を供給しながら、電動モータ２５を逆
転させ、図４に示すように、ブラシ１を回転中心ＣＰか
ら基板Ｗの外周縁側方位置ＥＰまで移動させ、基板Ｗの
表面全面のブラシ洗浄を行う。なお、矩形基板Ｗの洗浄
の際には、ブラシ１が外周縁側方位置ＥＰに近づくと、
ブラシ１は矩形基板Ｗの短辺から一旦基板Ｗの側方に出
て、再び、基板Ｗの表面に乗り上がるように動作する
が、本実施例では、図４（ｃ）、（ｄ）に示すように、
基板保護板１０３が設けられ、基板Ｗの周辺と基板Ｗの
表面とを同一平面に形成しているので、ブラシ１が基板
Ｗの側方から表面に乗り上がる際に基板Ｗのエッジにブ
ラシ１の毛１ａ…が衝突することによるブラシ１の毛１
ａ…の磨耗が防止でき、また、ブラシ１の毛１ａ…が基
板Ｗのエッジに衝突して発生するコミ（パーティクル）
による洗浄効果の低下をも防止できる。(8) Then, while supplying the cleaning liquid to the surface of the substrate W from a nozzle (not shown), the electric motor 25 is rotated in the reverse direction to move the brush 1 from the rotation center CP to the outer peripheral edge side of the substrate W, as shown in FIG. It is moved to the position EP, and the entire surface of the substrate W is brush-cleaned. When cleaning the rectangular substrate W, if the brush 1 approaches the outer peripheral edge side position EP,
The brush 1 operates such that the brush 1 temporarily comes out from the short side of the rectangular substrate W to the side of the substrate W and then rides on the surface of the substrate W again. In the present embodiment, as shown in FIGS. 4 (c) and 4 (d). As shown
Since the substrate protection plate 103 is provided and the periphery of the substrate W and the surface of the substrate W are formed on the same plane, the brush 1 is applied to the edge of the substrate W when the brush 1 rides on the surface from the side of the substrate W. Hairs 1a of the brush 1 due to collision of the hairs 1a
A can be prevented from being worn, and the bristles 1a of the brush 1 collide with the edge of the substrate W and are generated as particles (particles).
It is possible to prevent deterioration of the cleaning effect due to.
【００３２】（９）ブラシ洗浄が完了すると、ブラシ１
の自転を停止し、ロッドを収縮していたエアシリンダ１
６ａと１６ｂ（ブラシ１を位置Ｍまで降下したときはエ
アシリンダ１６ａのみ）のロッドを伸長させ、ブラシ支
持アーム５およびブラシ１を上限位置Ｈまで上昇退避さ
せ、その後、電動モータ２５を逆転させてブラシ支持ア
ーム５を待機位置まで後退揺動させ、ブラシ支持アーム
５が待機位置にある状態で、エアシリンダ１６ａ、１６
ｂのロッド１６ｘ、１６ｙを共に収縮させて昇降枠１７
を下限まで降下させるとともに、エアシリンダ１８のロ
ッド１８ａを収縮させ、これにより可動ブラケット１９
および駆動アーム２０を上昇復帰させ、駆動アーム２０
とブラシ支持アーム５との係合を解除する。そして、そ
のブラシ１の自転を再開させる。これによって、ブラシ
洗浄に用いられたブラシ１は、待機ポットＴＰ内に挿入
され、ブラシ１の毛１ａ…は自転されながら洗浄液で洗
浄される。また、その後、使用するブラシ１を変更する
場合には、可動フレーム９を適宜駆動して駆動アーム２
０に連接するブラシ支持アーム５を選択して上記動作を
行う。(9) When the brush cleaning is completed, the brush 1
Cylinder that stopped the rotation of the robot and contracted the rod
The rods of 6a and 16b (only the air cylinder 16a when the brush 1 is lowered to the position M) are extended, the brush support arm 5 and the brush 1 are raised and retracted to the upper limit position H, and then the electric motor 25 is reversed. When the brush support arm 5 is swung backward to the standby position and the brush support arm 5 is at the standby position, the air cylinders 16a, 16
The rod 16x and 16y of FIG.
Is lowered to the lower limit and the rod 18a of the air cylinder 18 is contracted, whereby the movable bracket 19
Then, the drive arm 20 is raised and returned, and the drive arm 20
And the brush support arm 5 are disengaged. Then, the rotation of the brush 1 is restarted. As a result, the brush 1 used for cleaning the brush is inserted into the standby pot TP, and the bristles 1a of the brush 1 are rotated and cleaned with the cleaning liquid. When the brush 1 to be used is changed thereafter, the movable frame 9 is appropriately driven to drive the drive arm 2.
The brush supporting arm 5 connected to 0 is selected to perform the above operation.
【００３３】また、本実施例によれば、複数種類のブラ
シ１、例えば、ナイロンの毛１ａ…のブラシ１とＰＶＡ
の毛１ａ…のブラシ１を用いて洗浄する場合、各種類の
ブラシ１を各ブラシ支持アーム５のブラシアーム２の先
端部に予め取り付けて待機位置に待機させておき、これ
ら各種類のブラシ１を洗浄の順に選択してブラシ洗浄を
行うこと、例えば、ナイロンブラシで粗洗浄し、その
後、ＰＶＡブラシ１で仕上げ洗浄する場合であれば、ナ
イロンブラシ１が取り付けられたブラシ支持アーム５を
まず選択してそのブラシ１で粗洗浄し、その後、ＰＶＡ
ブラシ１が取り付けられたブラシ支持アーム５を選択し
てそのブラシ１で仕上げ洗浄することができ、各ブラシ
１による洗浄の間に、ブラシ交換を行う必要がない。Further, according to this embodiment, a plurality of types of brushes 1, for example, a brush 1 of nylon bristles 1a ...
In the case of cleaning using the brushes 1 of the bristles 1a, the brushes 1 of each type are previously attached to the tip ends of the brush arms 2 of the brush support arms 5 and are made to stand by at the standby position. In order to perform brush cleaning by selecting in the order of cleaning, for example, in the case of rough cleaning with a nylon brush and then final cleaning with the PVA brush 1, first select the brush support arm 5 to which the nylon brush 1 is attached. And then roughly wash with the brush 1, then PVA
It is possible to select the brush support arm 5 to which the brush 1 is attached and perform the final cleaning with the brush 1, and it is not necessary to replace the brush between cleanings by each brush 1.
【００３４】また、同一種類のブラシ１（例えば、ナイ
ロン）のみを用いて洗浄する場合には、各ブラシ支持ア
ーム５のブラシアーム２の先端部に、同一種類のブラシ
１を予め取り付けて待機位置で待機させておき、これら
ブラシ１をローテーションを組んで順次ブラシ洗浄に用
いるようにすれば、各ブラシ１の毛１ａ…が磨耗し難く
なり、ブラシ１の寿命を長くすることができる。When cleaning is performed using only the same type of brush 1 (for example, nylon), the same type of brush 1 is previously attached to the tip of the brush arm 2 of each brush support arm 5, and the standby position is set. If the brushes 1 are kept in a standby state and are used for brush cleaning one after another in rotation, the bristles 1a of each brush 1 are less likely to be worn and the life of the brush 1 can be extended.
【００３５】また、複数個のブラシ１を順にブラシ洗浄
に用いることにより、あるブラシ１を洗浄に用いてから
次にそのブラシ１を洗浄に用いるまでの時間（待機位置
に待機されている時間）が長くなるので、その間にブラ
シ１の毛１ａ…の洗浄を充分に行うことができ、ブラシ
１の寿命を長くすることができるとともに、ブラシ１の
毛１ａ…の洗浄が不十分なままブラシ洗浄に用いること
がなく、洗浄効果を低下させることがない。また、仮
に、ブラシ洗浄を連続的に行う場合であって、ブラシ１
の毛１ａ…の洗浄を充分に行いながら各基板Ｗのブラシ
洗浄を行う場合、、従来装置では、ブラシ１を待機位置
に所定時間待機させておく必要があり、そのため、ブラ
シ洗浄を連続的に行うことができず、処理のスループッ
トが低下することになるが、本実施例では、そのような
不都合も解消できる。Further, by sequentially using a plurality of brushes 1 for cleaning the brush, the time from when one brush 1 is used for cleaning to when the next brush 1 is used for cleaning next time (time waiting at the standby position) , The bristles 1a of the brush 1 can be sufficiently washed during that time, the life of the brush 1 can be extended, and the brush washing can be performed while the bristles 1a of the brush 1 are insufficiently washed. It does not reduce the cleaning effect. In addition, if brush cleaning is continuously performed, the brush 1
When brush cleaning each substrate W while thoroughly cleaning the bristles 1a, the conventional apparatus needs to keep the brush 1 in the standby position for a predetermined time. Therefore, the brush cleaning is continuously performed. Although it cannot be performed and the throughput of the process is reduced, such an inconvenience can be eliminated in the present embodiment.
【００３６】なお、ブラシ１の毛１ａ…を当接させてブ
ラシ洗浄する場合のみであれば、上記Ｍの高さでブラシ
１の毛１ａ…が基板Ｗの表面に当接するように装置が構
成されていてもよい。なお、この変形例、および次の変
形例は、後述する第二、第三実施例装置でも同様に変形
実施することが可能である。The brush 1a of the brush 1 is brought into contact with the surface of the substrate W at the height M only when the brush 1a of the brush 1 is brought into contact with the brush for cleaning. It may have been done. It should be noted that this modification and the following modifications can be similarly modified and implemented in the second and third embodiment devices described later.
【００３７】また、上述の実施例では、ブラシ１の毛１
ａ…を基板Ｗの表面に当接させる高さとブラシ１の待機
位置での高さを共に降下位置Ｌとし、ブラシ１を３段階
の高さで変位できるように構成されているが、ブラシ１
の毛１ａ…を基板Ｗの表面に当接させる高さとブラシ１
の待機位置での高さとを違えて、ブラシ１を４段階の高
さ（待機位置で待機する高さＬ、ブラシ１の毛１ａ…を
基板Ｗの表面に当接させる高さ、ブラシ１の毛１ａ…を
基板Ｗの表面から若干浮かせる高さ、ブラシ１を揺動さ
せる高さＨ）で変位する場合には、例えば、図７に示す
ように、エアシリンダ１６ａ、１６ｂに、さらに、エア
シリンダ１６ｃを直列して連結し、各エアシリンダ１６
ａ、１６ｂ、１６ｃの各ロッド１６ｘ、１６ｙ、１６ｚ
の伸縮の組合わせで構成することができる。Further, in the above embodiment, the bristles 1 of the brush 1 are
The brush 1 can be displaced at three different heights by setting the height at which a is brought into contact with the surface of the substrate W and the height of the brush 1 at the standby position to be the lowered position L.
And the height at which the bristles 1a of the brush are brought into contact with the surface of the substrate W and the brush 1
Different from the height at the standby position of the brush 1, the height of the brush 1 at four stages (the height L at which the brush 1 stands by at the standby position, the height at which the bristles 1a of the brush 1 are brought into contact with the surface of the substrate W, When the bristles 1a are displaced at a height such that they are slightly floated from the surface of the substrate W, or a height H at which the brush 1 is swung, for example, as shown in FIG. Cylinders 16c are connected in series to connect each air cylinder 16
a, 16b, 16c rods 16x, 16y, 16z
It can be configured by a combination of expansion and contraction.
【００３８】次に、本発明の第二実施例装置の構成を図
８を参照して説明する。図８は、第二実施例装置の構成
を示す側面図であり、第一実施例と異なるところは次の
通りである。Next, the configuration of the second embodiment device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a side view showing the configuration of the device of the second embodiment, and the differences from the first embodiment are as follows.
【００３９】すなわち、ブラシ支持アーム５における回
転軸７の下端に、駆動アーム２０に芯出し係合させる連
結アーム４０が備えられるとともに、駆動アーム２０と
共働で回転軸７をクランプする当接部４１が、昇降枠１
９に設けたエアシリンダ４２によって独立的に上下駆動
されるように構成されている。その他の構成は第一実施
例と同じであり、同じ図番を付すことにより、その説明
は省略する。That is, the lower end of the rotary shaft 7 of the brush support arm 5 is provided with a connecting arm 40 for centering and engaging the drive arm 20, and an abutment portion for clamping the rotary shaft 7 in cooperation with the drive arm 20. 41 is the lifting frame 1
It is configured to be vertically driven independently by an air cylinder 42 provided in 9. The other structure is the same as that of the first embodiment, and the description thereof will be omitted by giving the same drawing numbers.
【００４０】次に、本発明の第三実施例装置の構成を図
９ないし図１１を参照して説明する。図９は、第三実施
例装置の構成を示す側面図、図１０は、その平面図、図
１１は、要部の断面図であり、第一実施例と異なるとこ
ろは次の通りである。Next, the structure of the apparatus of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a side view showing the configuration of the third embodiment device, FIG. 10 is a plan view thereof, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the main part. The differences from the first embodiment are as follows.
【００４１】すなわち、ブラシ１を支持した複数個のブ
ラシ支持アーム５がそれぞれ異なった所定位置に規定さ
れた揺動支点Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３周りに揺動自在に並んで
設けられているとともに、ブラシ支持アーム５の基端部
に連接した回転軸７を回転可能に支持したアーム回転支
持体８が、装置フレーム５０にガイドレール５１を介し
て昇降可能に支持され、また、これらブラシ支持アーム
５群の側部には、使用するブラシ１を選択する駆動アー
ム２０が一定の揺動支点Ｒ周りに揺動可能に設けられて
いる。That is, a plurality of brush support arms 5 supporting the brush 1 are provided side by side around the swing fulcrums Q1, Q2, Q3 defined at different predetermined positions so as to be swingable. An arm rotation support 8 rotatably supporting a rotation shaft 7 connected to the base end of the support arm 5 is supported by the apparatus frame 50 via a guide rail 51 so that the arm rotation support 8 can be moved up and down. A drive arm 20 for selecting the brush 1 to be used is provided on the side of the above so as to be swingable around a certain swing fulcrum R.
【００４２】駆動アーム２０の基端部に備えられた支軸
５２が、直列に連結された２個のエアシリンダ１６ａ、
１６ｂによって昇降される昇降枠１７に前記揺動支点Ｒ
周りに回転可能に支持されるとともに、この支軸５２か
ら延出したアーム５３と昇降枠１７に設置した電動モー
タ２５とがリンク機構５４を介して連動連結され、モー
タ２５の正逆転によって駆動アーム２０がブラシ支持ア
ーム５群の上方を横断移動するように構成されている。The support shaft 52 provided at the base end of the drive arm 20 has two air cylinders 16a connected in series.
The rocking fulcrum R is attached to the lifting frame 17 that is lifted and lowered by 16b.
While being rotatably supported around the arm 53, the arm 53 extending from the support shaft 52 and the electric motor 25 installed on the elevating frame 17 are interlockingly connected via a link mechanism 54, and the drive arm is driven by the forward and reverse rotation of the motor 25. 20 is configured to traverse above the brush support arm group 5.
【００４３】各ブラシ支持アーム５における基端部近く
の上部にはＶ溝付きのローラ５５が縦軸周りに回転自在
に取り付けられているとともに、駆動アーム２０の下部
にはエアシリンダ５６によってアーム長手方向に出退可
能に左右一対のガイドレール５７が設けられ、前方へ進
出移動されたガイドレール５７が前記ローラ５５に係合
するように構成されている。その他の構成は第一実施例
と同じであり、同じ図番を付すことによりその説明を省
略する。A roller 55 with a V-groove is rotatably attached to the upper portion of each brush support arm 5 near the base end portion, while the drive cylinder 20 is attached to the lower portion of the drive arm 20 by an air cylinder 56. A pair of left and right guide rails 57 are provided so as to be able to move in and out in the direction, and the guide rails 57 that have moved forward and forward are configured to engage with the rollers 55. The other structure is the same as that of the first embodiment, and the explanation is omitted by giving the same drawing numbers.
【００４４】この第三実施例によれば次のように動作す
る。 （１）降下位置Ｌで待機しているブラシ支持アーム５群
の上で駆動アーム２０が揺動し、これにより使用するブ
ラシ１のブラシ支持アーム５を選択し、ガイドレール５
７を進出移動させて対象となるブラシ支持アーム５のロ
ーラ５５を係合支持する。According to the third embodiment, it operates as follows. (1) The drive arm 20 swings on the group of brush support arms 5 waiting at the lowered position L, whereby the brush support arm 5 of the brush 1 to be used is selected and the guide rail 5
7 is moved forward to engage and support the roller 55 of the target brush support arm 5.
【００４５】（２）両エアシリンダ１６ａ、１６ｂを共
に伸長させて昇降枠１７を上昇させ、係合選択したブラ
シ支持アーム５を上限位置Ｈまで移動させる。(2) Both the air cylinders 16a and 16b are extended to raise the elevating frame 17, and the brush support arm 5 selected for engagement is moved to the upper limit position H.
【００４６】（３）次に、駆動アーム２０を揺動駆動し
て係合支持したブラシ支持アーム５のブラシ１を基板Ｗ
の回転中心ＣＰの上方まで移動させる。この場合、ブラ
シ支持アーム５と駆動アーム２０との揺動支点の差異が
ガイドレール５７とローラ５５との相対転動によって吸
収される。(3) Next, the brush 1 of the brush support arm 5 that is engaged and supported by swinging the drive arm 20 is supported on the substrate W.
It is moved to above the rotation center CP of. In this case, the difference between the swing fulcrums of the brush support arm 5 and the drive arm 20 is absorbed by the relative rolling of the guide rail 57 and the roller 55.
【００４７】（４）その後、両エアシリンダ１６ａ、１
６ｂ（または、一方のエアシリンダ１６ａ）のロッドを
収縮させることにより、ブラシ支持アーム５を所定量だ
け降下させ、ブラシ１の毛１ａ…を基板Ｗの表面に当接
して（または若干浮かせて）ブラシ洗浄を行う。(4) After that, both air cylinders 16a, 1
By contracting the rod of 6b (or one air cylinder 16a), the brush support arm 5 is lowered by a predetermined amount, and the bristles 1a of the brush 1 are brought into contact with the surface of the substrate W (or slightly floated). Brush clean.
【００４８】次に、本発明の第四実施例装置の構成を図
１２ないし図１５を参照して説明する。図１２は、第四
実施例装置の構成を示す一部切欠側面図であり、図１３
は、その平面図、図１４は、揺動アームの構成を示す一
部切欠側面図、図１５は、待機ポットの構成を示す断面
図である。Next, the structure of the apparatus of the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a partially cutaway side view showing the configuration of the device of the fourth embodiment.
Is a plan view thereof, FIG. 14 is a partially cutaway side view showing the structure of a swing arm, and FIG. 15 is a sectional view showing the structure of a standby pot.
【００４９】上述した第一ないし第三実施例装置は、ブ
ラシ１を各々取り付けた複数個のブラシ支持アーム５の
うち、所望のブラシ支持アーム５を選択することによ
り、複数個のブラシ１のうち、所望のブラシ１を基板Ｗ
の回転中心ＣＰと待機位置との間で択一的に移動させる
ように構成されていたが、この第四実施例装置では、複
数個のブラシ１のみを待機位置に待機させておき、１個
の揺動アームを用いて、複数個のブラシ１のうち、所望
のブラシ１を基板Ｗの回転中心ＣＰと待機位置との間で
択一的に移動させるように構成したものである。In the above-described first to third embodiment devices, by selecting a desired brush support arm 5 from the plurality of brush support arms 5 to which the brushes 1 are attached, respectively, a plurality of brushes 1 can be selected. , The desired brush 1 to the substrate W
Although it is configured to be selectively moved between the rotation center CP and the standby position in the fourth embodiment, only the plurality of brushes 1 are allowed to stand by in the standby position in the fourth embodiment. The swing arm is used to selectively move the desired brush 1 among the plurality of brushes 1 between the rotation center CP of the substrate W and the standby position.
【００５０】具体的には、図４と同様の構成で回転可能
に支持された基板Ｗの側方の揺動支点Ｓ周りで揺動され
る１個の揺動アーム６１が設けられ、この揺動アーム６
１が待機位置に設けられた待機ポットＴＰに待機されて
いる複数個のブラシ１のうち、所望のブラシ１を択一的
に取り出して支持し、そのブラシ１を待機位置と基板Ｗ
の回転中心ＣＰとの間で移動させるように構成されてい
る。Specifically, one swing arm 61 swingable around a swing fulcrum S on the side of the substrate W rotatably supported by the same structure as in FIG. 4 is provided, and this swing arm 61 is provided. Moving arm 6
A desired brush 1 is selectively taken out and supported from a plurality of brushes 1 that are on standby in a standby pot TP provided at a standby position, and the brush 1 is supported at the standby position and the substrate W.
It is configured to move between the rotation center CP and the rotation center CP.
【００５１】本実施例では、この揺動アーム６１を昇降
／揺動する等の以下の機構が本発明における移動手段に
相当する。In this embodiment, the following mechanism for raising / lowering / oscillating the swing arm 61 corresponds to the moving means in the present invention.
【００５２】揺動アーム６１の基端部側は、軸芯が揺動
支点Ｓと一致するアーム支軸６２の先端部に取り付けら
れている。このアーム支軸６２は、基台６３に回転自在
でかつ昇降自在に立設され、その基端部側においてベル
ト６４を介して電動モータ６５の回転が伝動されてお
り、これにより揺動アーム６１を揺動支点Ｓ周りで揺動
可能にしている。The base end side of the swing arm 61 is attached to the tip end of the arm support shaft 62 whose axis coincides with the swing support point S. The arm support shaft 62 is rotatably and vertically erected on a base 63, and the rotation of an electric motor 65 is transmitted via a belt 64 on the base end side thereof, whereby the swing arm 61. Can be swung around the swing fulcrum S.
【００５３】アーム支軸６２の下方には、エアシリンダ
６６が設けられ、このエアシリンダ６６のロッド６６ａ
の先端部には押上部材６７が一体連接されており、エア
シリンダ６６のロッド６６ａを伸長させることにより、
アーム支軸６２の下方を押し上げ、揺動アーム６１が上
昇される。また、アーム支軸６２には、ストッパー６８
が取り付けられ、このストッパー６８が支持台６９に当
接することにより、アーム支軸６２の降下位置が規制さ
れている。さらに、アーム支軸６２は、エアシリンダ７
０のロッド７０ａの伸縮によって、伸長・収縮可能に構
成されている。An air cylinder 66 is provided below the arm support shaft 62, and a rod 66a of the air cylinder 66 is provided.
A push-up member 67 is integrally connected to the tip of the air cylinder 66, and by extending the rod 66a of the air cylinder 66,
The lower part of the arm support shaft 62 is pushed up, and the swing arm 61 is raised. Further, a stopper 68 is attached to the arm support shaft 62.
Is attached, and the stopper 68 contacts the support base 69, whereby the lowered position of the arm support shaft 62 is regulated. Further, the arm support shaft 62 is connected to the air cylinder 7
It is configured such that it can be expanded and contracted by expanding and contracting the zero rod 70a.
【００５４】揺動アーム６１の先端部には、ブラシチャ
ック７１が設けられている。このブラシチャック７１
は、揺動アーム６１の先端部下方に回転自在に取り付け
られており、ベルト７２を介して電動モータ７３の回転
が伝導され、後述するようにブラシチャック７１で支持
したブラシ１を回転（自転）させるように構成されてい
る。A brush chuck 71 is provided at the tip of the swing arm 61. This brush chuck 71
Is rotatably attached to the lower end of the swing arm 61, the rotation of the electric motor 73 is transmitted through the belt 72, and the brush 1 supported by the brush chuck 71 is rotated (rotated) as described later. Is configured to let.
【００５５】ブラシチャック７１の先端部には、４個の
爪７４が十字方向に開閉自在に取り付けられ、ブラシ１
の上側面に周方向に設けられた溝１ｂを、図１４（ｂ）
に示すように、この爪７４で四方から挟持してブラシ１
を支持するように構成されている。Four claws 74 are attached to the tip of the brush chuck 71 so as to be openable and closable in the cross direction, and the brush 1
The groove 1b provided on the upper side surface in the circumferential direction is shown in FIG.
As shown in FIG.
Is configured to support.
【００５６】これら爪７４は、支点７５を中心として揺
動されるように構成され、また、各爪７４の基端部の円
盤状の部材７６は、圧縮コイルバネ７７で常に上方に付
勢されている支持板７８上に載置され、これにより各爪
７４は常に閉方向に付勢されている。一方、部材７６の
上方には、押下部材７９を先端部に取り付け、ブラシチ
ャック７１内を上下方向にのみ滑るベアリング８０を介
して昇降自在の駆動軸８１が設けられている。この駆動
軸８１は、エアシリンダ８２のロッド８２ａの伸縮によ
って昇降され、エアシリンダ８２のロッド８２ａが伸長
され、駆動軸８１が降下されることにより、各部材７６
を介して支持板７８が押し下げられ、各爪７４が開かれ
るように構成されている。These claws 74 are constructed so as to swing around a fulcrum 75, and the disk-shaped member 76 at the base end of each claw 74 is constantly urged upward by a compression coil spring 77. It is placed on a supporting plate 78, and each claw 74 is always biased in the closing direction. On the other hand, above the member 76, a push-down member 79 is attached to the tip end portion thereof, and a drive shaft 81 that can move up and down is provided via a bearing 80 that slides in the brush chuck 71 only in the vertical direction. The drive shaft 81 is moved up and down by the expansion and contraction of the rod 82a of the air cylinder 82, the rod 82a of the air cylinder 82 is extended, and the drive shaft 81 is lowered, so that each member 76 is moved.
The support plate 78 is pushed down via the and the claws 74 are opened.
【００５７】次に、待機ポットＴＰの構成を図２、図４
を参照して説明する。この待機ポットＴＰは、揺動アー
ム６１のブラシチャック７１の揺動軌跡に沿って複数個
の待機カップ９１が設けられている。各待機カップ９１
には、ブラシ１の溝１ｂが上方から突出されるととも
に、ブラシの毛１ａ…が下方から突出されるように挿抜
自在にブラシ１が収納されている。各待機カップ９１
は、待機ポットＴＰに回転自在に取り付けられ、電動モ
ータ９２の回転がベルト９３、９４、９５を介して各待
機カップ９１に伝動されるように構成されている。ま
た、待機ポットＴＰには、複数個の洗浄液噴射用のノズ
ルＳＮが設けられ、各待機カップ９１に収納された待機
中の各ブラシ１が回転されながら、各ブラシ１の毛１ａ
…の洗浄が行えるように構成されている。なお、図１５
中、符号ＨＤは洗浄後に洗浄液を排出する排出ドレイン
を示す。Next, the construction of the standby pot TP is shown in FIGS.
Will be described with reference to. The standby pot TP is provided with a plurality of standby cups 91 along the swing locus of the brush chuck 71 of the swing arm 61. Each standby cup 91
Accommodates the brush 1 so that the groove 1b of the brush 1 is projected from above and the bristles 1a of the brush are projected from below. Each standby cup 91
Is rotatably attached to the standby pot TP, and the rotation of the electric motor 92 is transmitted to the standby cups 91 via the belts 93, 94, and 95. In addition, the standby pot TP is provided with a plurality of nozzles SN for spraying the cleaning liquid, and the bristles 1a of the brushes 1a of the brushes 1 stored in the standby cups 91 are rotated while being rotated.
It is configured so that cleaning can be performed. Note that FIG.
Inside, the symbol HD indicates a drain for discharging the cleaning liquid after cleaning.
【００５８】次に、本実施例装置の動作を図１２、図１
３を参照して説明する。 （１）初期状態では、図１２の二点鎖線で示すように、
揺動アーム６１は待機ポットＴＰの上方に待機してい
る。このとき、アーム支軸６２のストッパー６８は支持
台６９に当接しているとともに、エアシリンダ７０のロ
ッド７０ａが伸長され、アーム支軸６２が伸長された状
態である。また、待機ポットＴＰの各待機カップ９１に
は各々ブラシ１が収納されており、この待機状態では、
各ブラシ１は電動モータ９２で自転されながら洗浄液で
ブラシの毛１ａ…が洗浄されている。Next, the operation of the apparatus of this embodiment will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. (1) In the initial state, as shown by the chain double-dashed line in FIG.
The swing arm 61 is on standby above the standby pot TP. At this time, the stopper 68 of the arm support shaft 62 is in contact with the support base 69, the rod 70a of the air cylinder 70 is extended, and the arm support shaft 62 is extended. Further, the brushes 1 are stored in the respective standby cups 91 of the standby pot TP, and in this standby state,
Each of the brushes 1 is rotated by an electric motor 92 while the bristles 1a of the brush 1 are washed with a washing liquid.
【００５９】（２）ブラシ洗浄に際しては、まず、電動
モータ６５を駆動し、揺動アーム６１のブラシチャック
７１が、待機ポットＴＰの待機カップ９１に収納された
ブラシ１のうち、所望するブラシ１の上方に位置するよ
うに、揺動アーム６１を揺動させる。そして、電動モー
タ９２を停止して各ブラシ１の自転を停止させ、エアシ
リンダ８２のロッド８２ａを伸長させてブラシチャック
７１の各爪７４を開き、さらに、エアシリンダ７０のロ
ッド７０ａを伸縮しアーム支軸６２を収縮してブラシチ
ャック７１を降下させ、次に、エアシリンダ８２のロッ
ド８２ａを収縮させてブラシチャック７１の各爪７４を
閉じて所望のブラシ１をブラシチャック７１で挟持し、
エアシリンダ７０のロッド７０ａを伸長させて挟持した
ブラシ１を待機カップ９１から上方に取り出す。所望の
ブラシの取り出しが終わると、電動モータ９２を再び駆
動して待機ポットＴＰに待機している他のブラシ１の毛
１ａ…の洗浄が再開される。(2) In brush cleaning, first, the electric motor 65 is driven so that the brush chuck 71 of the swing arm 61 selects the desired brush 1 among the brushes 1 housed in the standby cup 91 of the standby pot TP. The swing arm 61 is swung so as to be positioned above. Then, the electric motor 92 is stopped to stop the rotation of the brushes 1, the rod 82a of the air cylinder 82 is extended to open the claws 74 of the brush chuck 71, and the rod 70a of the air cylinder 70 is expanded / contracted to extend the arms. The support shaft 62 is contracted to lower the brush chuck 71, and then the rod 82a of the air cylinder 82 is contracted to close the claws 74 of the brush chuck 71 and hold the desired brush 1 with the brush chuck 71.
The brush 1 in which the rod 70a of the air cylinder 70 is extended and sandwiched is taken out upward from the standby cup 91. When the removal of the desired brush is completed, the electric motor 92 is driven again to restart the cleaning of the bristles 1a ... Of the other brushes 1 waiting in the standby pot TP.
【００６０】（３）次に、エアシリンダ６６のロッド６
６ａを伸長させてアーム支軸６２を上方に持ち上げ、そ
の状態で、電動モータ６５を正転させて揺動アーム６１
を揺動させ、取り出したブラシ１を基板Ｗの回転中心Ｃ
Ｐの上方に移動させる。(3) Next, the rod 6 of the air cylinder 66
6a is extended to lift the arm support shaft 62 upward, and in this state, the electric motor 65 is normally rotated to swing the swing arm 61.
Oscillate, and remove the brush 1 taken out from the center of rotation C of the substrate W.
Move above P.
【００６１】（４）次に、エアシリンダ６６のロッド６
６ａを収縮させ、ブラシ１を降下させる。このとき、ス
トッパー６８は支持台６９に当接しており、以後のブラ
シ洗浄の際、ブラシ１を所定の高さに維持しながら行な
える。なお、ストッパー６８が支持台６９に当接されて
いるとき、ブラシ１は、ブラシ１の毛１ａ…が基板Ｗの
表面に当接している（または、ブラシ１の毛１ａ…が基
板Ｗの表面から若干浮いた状態になる）ように、ストッ
パー６８、支持台６９等が調整されている。なお、ブラ
シ１の毛１ａ…を基板Ｗの表面に当接させた洗浄と、ブ
ラシ１の毛１ａ…を基板Ｗの表面から若干浮かせた状態
での洗浄とを切り替えて実施する場合には、例えば、エ
アシリンダ７０に代えて、２個のエアシンリンダを直列
に連結して、アーム支軸６２の伸縮を２段階に行えるよ
うに構成すればよい。また、図１６に示すように、支持
台６９に昇降自在の当接部２００を設け、この当接部２
００をエアシンリンダ２０１のロッド２０１ａの伸縮に
より昇降させることによって、ストッパー６８が当接部
２００に当接したときのブラシ１の高さを違えるように
構成してもよい。(4) Next, the rod 6 of the air cylinder 66
6a is contracted, and the brush 1 is lowered. At this time, the stopper 68 is in contact with the support base 69, so that the brush 1 can be maintained while maintaining the predetermined height during subsequent brush cleaning. When the stopper 68 is in contact with the support base 69, in the brush 1, the bristles 1a of the brush 1 are in contact with the surface of the substrate W (or the bristles 1a of the brush 1 are in the surface of the substrate W). The stopper 68, the support base 69, etc. are adjusted so that they are slightly floated from above. When the cleaning is performed by switching the cleaning in which the bristles 1a of the brush 1 are brought into contact with the surface of the substrate W and the cleaning in a state where the bristles 1a of the brush 1 are slightly floated from the surface of the substrate W, are performed, For example, instead of the air cylinder 70, two air cylinders may be connected in series so that the arm support shaft 62 can be expanded and contracted in two steps. Further, as shown in FIG. 16, the support base 69 is provided with a vertically movable contact portion 200, and the contact portion 2 is provided.
The height of the brush 1 when the stopper 68 abuts on the abutting portion 200 may be changed by raising and lowering 00 by the expansion and contraction of the rod 201a of the air cylinder binder 201.
【００６２】（５）ブラシ１の高さが調節された状態
で、基板Ｗを回転中心ＣＰ周りで回転させるとともに、
電動モータ７３を駆動して、ブラシ１を回転（自転）さ
せる。(5) While the height of the brush 1 is adjusted, the substrate W is rotated around the rotation center CP, and
The electric motor 73 is driven to rotate (spin) the brush 1.
【００６３】（６）そして、ノズルＮＺから基板Ｗの表
面に洗浄液を供給しながら、電動モータ６５を逆転さ
せ、図１３に示すように、ブラシ１を回転中心ＣＰから
基板Ｗの外周縁側方位置ＥＰまで移動させ、基板Ｗの表
面全面のブラシ洗浄を行う。(6) Then, while supplying the cleaning liquid from the nozzle NZ to the surface of the substrate W, the electric motor 65 is rotated in the reverse direction to move the brush 1 from the rotation center CP to the outer peripheral edge side position of the substrate W, as shown in FIG. After moving to EP, the entire surface of the substrate W is brush-cleaned.
【００６４】（７）ブラシ洗浄が完了すると、モータ７
３の駆動を停止してブラシ１の自転を停止させ、エアシ
リンダ６６のロッド６６ａを伸長させ、アーム支軸６２
を持ち上げ、その状態で、電動モータ６５を逆転させ
て、ブラシ１を取り出した待機カップ９１の上方位置ま
でブラシ１を移動させるように揺動アーム６１を揺動さ
せる。そして、待機ポットＴＰの電動モータ９２を停止
させ、次に、エアシンリンダ７０のロッド７０ａを収縮
させ、アーム支軸６２を収縮させてブラシ１を降下させ
待機カップ９１に収納させる。そして、エアシリンダ８
２のロッド８２ａを伸長させ、ブラシチャック７１の各
爪７４を開いてブラシ１の支持を解除し、エアシリンダ
７０のロッド７０ａを伸長させてブラシチャック７１を
上昇させ、各爪７４を閉じて次の洗浄まで待機する。な
お、洗浄に用いられたブラシ１が待機カップ９１に収納
されると、電動モータ９２を回転させ、各ブラシ１の毛
１ａ…の洗浄を再開する。また、その後、使用するブラ
シ１を変更する場合には、上記動作を繰り返し行う。(7) When the brush cleaning is completed, the motor 7
3, the rotation of the brush 1 is stopped, the rod 66a of the air cylinder 66 is extended, and the arm support shaft 62
And in that state, the electric motor 65 is rotated in the reverse direction to swing the swing arm 61 so as to move the brush 1 to a position above the standby cup 91 from which the brush 1 is taken out. Then, the electric motor 92 of the standby pot TP is stopped, then the rod 70a of the air cylinder binder 70 is contracted, the arm support shaft 62 is contracted, and the brush 1 is lowered to be stored in the standby cup 91. And the air cylinder 8
2 rod 82a is extended, each claw 74 of the brush chuck 71 is opened to release the support of the brush 1, the rod 70a of the air cylinder 70 is extended to raise the brush chuck 71, and each claw 74 is closed. Wait until cleaning. When the brush 1 used for cleaning is stored in the standby cup 91, the electric motor 92 is rotated to restart the cleaning of the bristles 1a of the brush 1. After that, when the brush 1 to be used is changed, the above operation is repeated.
【００６５】この実施例によれば、上述した第一実施例
で説明した効果に加えて、待機ポット９１には、ブラシ
１のみが待機されているので、ブラシ１の交換作業にお
いて、作業者はブラシ１をアーム等から取り外すなどと
いう煩雑な作業を行う必要がなくなり、作業者の負担の
軽減を図ることもできる。According to this embodiment, in addition to the effect described in the first embodiment, only the brush 1 is on standby in the standby pot 91. It is not necessary to perform a complicated work such as removing the brush 1 from the arm or the like, and the burden on the operator can be reduced.
【００６６】なお、この第四実施例装置では、基板Ｗと
待機ポットＴＰの位置関係が揺動支点Ｓを挟んで反対側
に設けられているが、例えば、待機ポットＴＰを基板Ｗ
の側方に設けたり、上述した第一実施例のように、揺動
アーム６１によるブラシ１の待機位置と基板Ｗの回転中
心ＣＰとの間の移動の際、揺動アーム６１がおおよそ９
０°回転されるような位置に設けてあってもよい。ま
た、上述した第一ないし第三実施例において、基板Ｗと
待機ポットＴＰの位置関係をこの第四実施例装置のよう
に、揺動支点Ｐ（図１、図２参照）を挟んで反対側に設
けたり、待機ポットＴＰを基板Ｗの側方に設けるように
構成してもよい。In the apparatus of the fourth embodiment, the positional relationship between the substrate W and the standby pot TP is provided on the opposite side of the swing fulcrum S.
Or when the swing arm 61 moves between the standby position of the brush 1 and the rotation center CP of the substrate W as in the first embodiment described above, the swing arm 61 moves approximately 9 times.
It may be provided at a position where it can be rotated by 0 °. Further, in the above-described first to third embodiments, the positional relationship between the substrate W and the standby pot TP is opposite to that of the swing fulcrum P (see FIGS. 1 and 2) as in the fourth embodiment device. Alternatively, the standby pot TP may be provided on the side of the substrate W.
【００６７】[0067]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、待機位置に複数個のブラシが待機され、移動
手段が、待機位置に待機されるブラシから任意のブラシ
を選択して、待機位置と基板表面との間で移動するよう
に構成したので、例えば、複数種類のブラシを用いて洗
浄する場合には、待機位置に複数種類のブラシを待機さ
せておき、洗浄順序に従って、移動手段は、各種類のブ
ラシを順に選択して、各ブラシによる洗浄を行うことが
でき、その間、作業者はブラシ交換等の煩雑な作業を行
う必要がなく、しかも、洗浄処理のスループットを向上
させることができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a plurality of brushes stand by at the standby position, and the moving means selects any brush from the brushes waiting at the standby position. Since it is configured to move between the standby position and the substrate surface, for example, when cleaning with a plurality of types of brushes, a plurality of types of brushes are made to stand by at the standby position, and according to the cleaning order, The moving means can select each type of brush in order and perform cleaning with each brush, during which the operator does not need to perform complicated work such as brush replacement, and further, the throughput of the cleaning process is improved. Can be made.
【００６８】また、同一種類のブラシを用いて洗浄する
場合には、待機位置に同一種類のブラシを複数個待機さ
せておき、移動手段は、それらブラシをローテーション
を組んで選択して洗浄に用いることができ、各ブラシの
長寿命化が図れ、磨耗したブラシの交換期間を長くでき
る。When the same type of brush is used for cleaning, a plurality of brushes of the same type are made to stand by at the standby position, and the moving means selects those brushes by rotating them to use for cleaning. Therefore, the life of each brush can be extended, and the replacement period of a worn brush can be extended.
【図１】本発明の第一実施例に係るブラシ洗浄装置の概
略構成を示す一部切欠側面図である。FIG. 1 is a partially cutaway side view showing a schematic configuration of a brush cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】第一実施例装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the first embodiment device.
【図３】第一実施例装置の要部の一部切欠側面図であ
る。FIG. 3 is a partially cutaway side view of a main part of the first embodiment device.
【図４】基板回転支持台の構成と回転中の基板のブラシ
洗浄の状態を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a substrate rotation support table and a state of brush cleaning of a rotating substrate.
【図５】第一実施例の動作を説明するための一部切欠側
面図である。FIG. 5 is a partially cutaway side view for explaining the operation of the first embodiment.
【図６】第一実施例の動作を説明するための一部切欠側
面図である。FIG. 6 is a partially cutaway side view for explaining the operation of the first embodiment.
【図７】第一実施例装置の変形例の要部の構成を示す図
である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a main part of a modified example of the first embodiment device.
【図８】第二実施例装置の構成を示す側面図である。FIG. 8 is a side view showing the configuration of the second embodiment device.
【図９】第三実施例装置の構成を示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing the configuration of the third embodiment device.
【図１０】第三実施例装置の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the third embodiment device.
【図１１】第三実施例装置の要部の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the main parts of the third embodiment device.
【図１２】第四実施例装置の構成を示す一部切欠側面図
である。FIG. 12 is a partially cutaway side view showing the configuration of the device of the fourth embodiment.
【図１３】第四実施例装置の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the device of the fourth embodiment.
【図１４】第四実施例装置の揺動アームの構成を示す一
部切欠側面図である。FIG. 14 is a partially cutaway side view showing a configuration of a swing arm of a fourth embodiment device.
【図１５】第四実施例装置の待機ポットの構成を示す断
面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing the structure of a standby pot of a fourth embodiment device.
【図１６】第四実施例装置の変形例の要部の構成を示す
図である。FIG. 16 is a diagram showing a configuration of a main part of a modified example of the fourth embodiment device.
１ … ブラシ ３、１４、２５、６５、７３ … 電動モータ ５ … ブラシ支持アーム １６ａ、１６ｂ、１８、４２、６６、７０、８２ …
エアシリンダ ２０ … 駆動アーム ６１ … 揺動アーム ７１ … ブラシチャック Ｐ、Ｑ１〜Ｑ３、Ｓ … 揺動支点 ＴＰ … 待機ポット1 ... Brushes 3, 14, 25, 65, 73 ... Electric motor 5 ... Brush support arms 16a, 16b, 18, 42, 66, 70, 82 ...
Air cylinder 20 ... Driving arm 61 ... Swing arm 71 ... Brush chucks P, Q1 to Q3, S ... Swing fulcrum TP ... Standby pot
Claims (1)
ラシで洗浄するブラシ洗浄装置において、 前記基板の外周縁の外側の待機位置に待機された複数個
のブラシと、 前記待機位置に待機された複数個のブラシから任意のブ
ラシを選択して、前記待機位置と前記基板表面との間で
選択したブラシを移動させる移動手段と、 を備えたことを特徴とするブラシ洗浄装置。1. A brush cleaning apparatus for cleaning the surface of a substrate with a brush while rotating the substrate, wherein a plurality of brushes wait at a standby position outside the outer peripheral edge of the substrate, and a plurality of brushes wait at the standby position. A brush cleaning device comprising: a moving unit that selects an arbitrary brush from a plurality of brushes and moves the selected brush between the standby position and the substrate surface.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6176084A JP2848783B2 (en) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | Brush cleaning equipment |
| US08/495,216 US5647083A (en) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | Apparatus for cleaning substrates and methods for attaching/detaching and cleaning brushes of such apparatus |
| KR1019950017831A KR0150595B1 (en) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | Apparatus for cleaning a substrate and method for attaching/detaching a cleaning brushes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6176084A JP2848783B2 (en) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | Brush cleaning equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0810719A true JPH0810719A (en) | 1996-01-16 |
| JP2848783B2 JP2848783B2 (en) | 1999-01-20 |
Family
ID=16007444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6176084A Expired - Lifetime JP2848783B2 (en) | 1994-06-30 | 1994-07-04 | Brush cleaning equipment |
Country Status (1)
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| JP2017017201A (en) * | 2015-07-02 | 2017-01-19 | 株式会社ディスコ | Washing device |
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