JP2003097935A - 距離検出装置および厚さ検出装置 - Google Patents

距離検出装置および厚さ検出装置

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JP2003097935A
JP2003097935A JP2001286972A JP2001286972A JP2003097935A JP 2003097935 A JP2003097935 A JP 2003097935A JP 2001286972 A JP2001286972 A JP 2001286972A JP 2001286972 A JP2001286972 A JP 2001286972A JP 2003097935 A JP2003097935 A JP 2003097935A
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wafer
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Tetsuo Okuyama
哲雄 奥山
Shiro Murai
史朗 村井
Kunihiro Saida
国廣 斎田
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Nippei Toyama Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 距離を測定する測長手段に切粉や研削液など
がかからないようにして、その測定精度を向上させる。 【解決手段】 厚さ検出装置1は、第1距離検出装置2
および第2距離検出装置3を備えている。第1距離検出
装置2および第2距離検出装置3は、ハウジング11を
備えており、ハウジング11にはハウジング11に対し
て移動可能であるとともに、測定面WAに対してエアを
噴出して浮遊する浮遊型検出子12を有している。ハウ
ジング11の上方には、浮遊型検出子12との距離を測
定する渦電流センサからなる距離センサ30が設けられ
ている。距離センサ30で浮遊型検出子12との距離を
測定することにより、ウェーハWの厚さを検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ、
窒化物膜や高分子膜などの絶縁物質が表面に形成された
ウェーハ、酸化物ウェーハ、セラミックスガラス、高分
子の板、ガラスとセラミックスの複合材料などの被測定
物の厚さを検出するための距離検出装置および厚さ検出
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、シリコンウェーハを研削加工
した後、または研削加工を行っている間に、ウェーハが
所定の厚さとなっているか否かを確認するために、ウェ
ーハを被測定物とした厚さ測定が行われる。このような
厚さの測定は、従来、接触式センサを用いて行われてい
たが、接触式センサでは、ウェーハの触針を接触させて
厚さの測定を行っているため、ウェーハを損傷させてし
まうなどの不具合が生じうるものであった。また、接触
式センサでは、ウェーハの表面の微妙な凹凸を信号とし
て捉えているが、ウェーハの表面には切粉などが付着し
ていることから、その切粉などの付着分を取り除いた平
均値で厚さを求めるしかなく、高い精度で測定すること
ができなかった。さらには、ウェーハの研削中にその厚
さを測定する場合、研削の最終段階では、測定をやめな
ければウェーハの表面に傷が残ってしまう。そのため、
通常のスパークアウト時には、触針をウェーハから離さ
なければならなかった。
【0003】かかる不具合を防止するため、非接触式の
センサを用いたウェーハの厚さを測定する装置として、
特開平10−202520号公報において、ウェーハの
厚み加工量測定装置が開示されている。この測定装置
は、ウェーハの表面を臨む第1の穴に設置され、ウェー
ハの表面までの距離を非接触で測定する第1の測長手段
と、ウェーハの裏面と一定の距離にある基準面を臨む第
2の穴に設置され、基準面までの距離を非接触で測定す
る第2の測長手段を有する。そして、これらの第1の測
長手段および第2の測長手段でそれぞれ測定されたウェ
ーハの表面までの距離とウェーハの裏面までの距離の変
化量の差から、ウェーハの厚み加工量を測定するという
ものである。また、第1の測長手段および第2の測長手
段としては、容量センサまたは渦電流センサを用いてい
るものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記公報に開
示された測定装置は、容量センサまたは渦電流センサを
用いており、これらのセンサがいずれもウェーハの加工
面になどを臨む位置に設けられている。したがって、ウ
ェーハを研磨加工する際に生じる切粉や研削液などが容
量センサや渦電流センサにかかったりすることがある。
このような場合には、容量センサや渦電流センサによる
測定精度を低下させたり、さらには測定不可能となる事
態が生じうることもあった。また、長期間の使用によ
り、切粉がセンサに吸着し、堆積してしまい、この切粉
の堆積が測定誤差の原因になるものであった。さらに
は、渦電流センサを用いる場合には、被測定物が渦電流
の導体となる金属などであることが必要となる。このた
め、ウェーハとの距離を測定する際にはウェーハ自体が
導体であるか、あるいはウェーハに導体を取り付けるこ
とが必要となる。導体とはなりえないウェーハとの距離
を測定する測長手段として、渦電流センサを使用するこ
とができないという問題があった。
【0005】そこで、本発明の課題は、距離センサに切
粉や研削液などがかからないようにして、その測定精度
を向上させ、しかも被測定物が導体でなければならない
などの制約がなく、あらゆるセンサを用いることができ
る距離検出装置および厚さ検出装置を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明のうちの請求項1に係る発明は、ハウジングと、前記
ハウジングに収容され、前記ハウジングに対して移動可
能であるとともに、被測定物の測定面に対してエアを噴
出するエア噴射口が形成され、前記エア噴射口からエア
を噴射することにより、前記ウェーハまたは前記ウェー
ハ保持テーブルの測定面に対して非接触状態で所定距離
を維持する浮遊型検出子と、前記ハウジング内に設けら
れ、前記浮遊型検出子の移動方向に対する前記ハウジン
グと前記浮遊型検出子の距離を測定する距離センサと、
を備えることを特徴とする距離検出装置である。
【0007】請求項1に係る発明においては、距離セン
サを用いているが、距離センサは被測定物との間の距離
を直接測定しておらず、浮遊型検出子との距離を測定す
ることで被測定物の厚さを検出する。このため、被測定
物が研削中のウェーハである場合であっても、ウェーハ
の研削時に生じた切粉や研削液などが距離センサにかか
ることがない。したがって、測定精度の低下や測定不能
となる事態を起こさないようにすることができる。ま
た、距離センサはハウジング内に設けられていることか
ら、距離センサ対する切粉の吸着を防止できるので、切
粉の堆積による精度の低下を好適に防止することができ
る。しかも、噴射孔が噴射されるエアによって被測定物
の測定面の切粉などのごみを吹き飛ばすことができるの
で、精度の高い測定を行うことができる。さらには、距
離センサは、被測定物との距離を直接測定することな
く、浮遊型検出子との距離を測定するものである。した
がって、浮遊型検出子を導体とすることにより、渦電流
センサを距離センサとして用いることができる。このよ
うにして、距離センサとして用いるセンサに対する制約
を無くすことができる。
【0008】請求項2に係る発明は、非使用時における
前記浮遊型検出子をハウジングの内側の方向に退避させ
る浮遊型検出子退避手段が設けられていることを特徴と
する請求項1に記載の距離検出装置である。
【0009】請求項2に係る発明では、距離検出装置を
使用しない際には、浮遊型検出子退避手段により浮遊型
検出子をハウジングの内側の方向に退避させている。こ
のため、非使用時における浮遊型検出子をの全部あるい
は大部分をハウジング内に収容しておくことができるの
で、浮遊型検出子の損傷を効果的に防止することができ
る。ここで、浮遊型検出子退避手段としては、ハウジン
グの内部に設けられた真空保持手段、圧縮空気保持手
段、電磁気保持手段などを用いることができる。
【0010】請求項3に係る発明は、前記ハウジングに
おける前記被測定物の測定面に対向する面に、前記エア
噴射孔から噴射されるエアの逃げ溝が形成されているこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の距離測
定装置である。
【0011】請求項3に係る発明においては、前記浮遊
型検出子における前記被測定物の測定面に対向する面
に、エア噴射口から噴射されるエアの逃げ溝が形成され
ている。この逃げ溝が形成されていることにより、エア
噴射口が噴射されるエアがハウジングと測定面の間から
外部に漏れ出さないようにすることができるので、エア
の流れを安定させることができる。したがって、浮遊型
検出子が浮遊する高さを、エアの噴射量に対して安定さ
せることができる。
【0012】請求項4に係る発明は、前記距離センサ
が、渦電流センサであることを特徴とする請求項1から
請求項3のうちのいずれか1項に記載の距離測定装置で
ある。
【0013】請求項4に係る発明においては、距離セン
サとして渦電流センサを用いている。このため、浮遊型
検出子との間の離間距離を、高い精度をもって測定する
ことができる。
【0014】請求項5に係る発明は、前記距離センサ
が、静電容量センサであることを特徴とする請求項1か
ら請求項3のうちのいずれか1項に記載の距離測定装置
である。
【0015】請求項5に係る発明においては、距離セン
サとして容量センサを用いている。このため、浮遊型検
出子における距離センサと対向する位置に、金属製など
の導体を用いる必要はなく、種々の素材のものを用いる
ことができる。
【0016】請求項6に係る発明は、前記被測定物を測
定する位置から退避させるための距離検出装置退避手段
に取り付けられていることを特徴とする請求項1から請
求項5のうちのいずれか1項に記載の距離検出装置であ
る。
【0017】請求項6に係る発明によれば、距離検出装
置が距離検出装置退避手段に取り付けられている。その
ため、たとえば被測定物が研削加工された後のウェーハ
である場合、被測定物の測定位置が研削位置と同じであ
っても、研削時には距離検出装置を退避させておくこと
ができる。したがって、距離検出装置による距離検出を
行う位置において、距離検出装置がウェーハの研削など
の他の作業の邪魔にならないようにすることができる。
【0018】請求項7に係る発明は、保持テーブル上に
載置された被測定物の厚さを検出するにあたり、前記被
測定物の測定面に対向する位置、および前記保持テーブ
ルの基準面に対向する位置に請求項1から請求項6のう
ちのいずれか1項に記載の距離検出装置がそれぞれ配置
されており、前記被測定物の測定面に対向する位置で前
記距離センサによって測定された前記浮遊型検出子との
距離と、前記保持テーブルの基準面に対向する位置で前
記距離センサによって測定された前記浮遊型検出子との
距離と、前記被測定物の測定面に対向する位置における
前記浮遊型検出子および前記保持テーブルの基準面に対
向する位置における前記浮遊型検出子の前記被測定物の
厚さ方向に対する離間距離と、により、前記被測定物の
厚さを算出することを特徴とする厚さ検出装置である。
【0019】請求項7に係る発明によれば、請求項1か
ら請求項6に記載の距離検出装置を用いて、被測定物の
厚さの検出を好適に行うことができる。
【0020】請求項8に係る発明は、前記被測定物の測
定面に対向する位置、および前記保持テーブルの基準面
に対向する位置にそれぞれ配置される距離検出装置は、
前記被測定物の測定面に対向する位置に配設された第1
距離検出装置および前記保持テーブルの基準面に対向す
る位置に配設された第2距離検出装置よりなることを特
徴とする請求項7に記載の厚さ検出装置である。
【0021】請求項8に係る発明では、第1距離検出装
置および第2距離検出装置がそれぞれ被測定物の測定面
および基準面の上に載置されている。したがって、第1
距離検出装置および第2距離検出装置でそれぞれ距離セ
ンサで検出される浮遊型検出子との離間距離より、被測
定物の厚さを算出することにより検出することができ
る。
【0022】請求項9に係る発明は、前記被測定物の測
定面に対向する位置、および前記保持テーブルの基準面
に対向する位置にそれぞれ配置される距離検出装置は、
前記保持テーブルの基準面に対して平行に移動可能な移
動機構に固定された距離検出装置であることを特徴とす
る請求項7に記載の厚さ検出装置である。
【0023】請求項9に係る発明は、1つの距離検出装
置によって、被測定物の厚さを測定することができる。
このため、厚さ測定装置の構造の簡易化およびコスト低
減に寄与することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら具体的に説明する。図1は、本発明の
第1の実施形態に係る厚さ検出装置の斜視図である。図
1に示すように、本発明に係る厚さ検出装置1は、第1
距離検出装置2と第2距離検出装置3を備えている。第
1距離検出装置2および第2距離検出装置3は、直線状
の支持アーム4の両端部にそれぞれ取り付けられてお
り、その高さは同じ高さとされている。したがって、第
1距離検出装置2および第2距離検出装置3のウェーハ
Wの厚さ方向の離間距離は0である。支持アーム4は、
本発明の距離検出装置退避手段である移動アーム5に接
続されており、移動アーム5は図示しないアクチュエー
タによって水平方向に旋回可能に保持されている。
【0025】厚さ検出装置1の下方には、本発明の保持
テーブルであるウェーハ保持テーブル6が設けられてい
る。このウェーハ保持テーブル6上に研削加工された本
発明の被測定物である半導体ウェーハ(以下「ウェー
ハ」という)Wが載置されている。ウェーハ保持テーブ
ル6には、図示しない真空吸着装置が設けられており、
この真空吸着装置でウェーハWを真空吸着することによ
って保持している。
【0026】ウェーハ保持テーブル6に真空保持される
ウェーハWの上方には、第1距離検出装置2が配置され
ており、ウェーハ保持テーブル6の上方であって、ウェ
ーハWが載置されている位置から外れる位置に、第2距
離検出装置3が配置されている。第1距離検出装置2お
よび第2距離検出装置3は、いずれも鉛直方向に真下を
向いて配設されており、それぞれウェーハWとの間の距
離およびウェーハ保持テーブル6との間の距離を測定し
ている。支持アーム4に保持される厚さ検出装置1は、
本発明の距離検出装置退避手段である移動アーム5を旋
回移動させることにより、ウェーハ保持テーブル6上か
ら退避できるようになっている。
【0027】第1距離検出装置2および第2距離検出装
置3は、いずれも同一の構成を有しているので、その一
方である第1距離検出装置2を例に挙げて、その構成に
ついて説明する。図2の(a)は第1の実施形態に係る
距離検出装置の側断面図、(b)はその底面図である。
図2に示すように、距離検出装置2は、支持アーム4の
一端に固定される円筒形状のハウジング11を備えてい
る。ハウジング11の内部には、上方位置に大径の上方
空洞部11Aが形成され、その下方には上方空洞部11
Aより一回り径の小さい下方空洞部11Bが形成されて
いる。また、ハウジング11の上には上蓋11Cが設け
られており。上方空洞部11Aの上方は上蓋11Cによ
り覆われている。
【0028】ハウジング11の内部には、浮遊型検出子
12が設けられている。浮遊型検出子12は金属製の頭
部13を備えており、頭部13の下方には円筒形状の胴
部14が設けられている。胴部14の上端面は、頭部1
3と密着した状態で固定されている。浮遊型検出子12
における頭部13はハウジング11の上方空洞部11A
に収容されており、胴部14は下方空洞部11Bに収容
されている。
【0029】頭部13は、ハウジング11に形成された
上方空洞部11Aよりも径が小さく、下方空洞部11B
よりも径が大きいフランジ13Aを備えている。したが
って、浮遊型検出子12が下方に移動する際、フランジ
13Aがハウジング11に引っ掛かって、それ以上の下
方への移動を防止している。
【0030】また、ハウジング11における支持アーム
4の反対側位置にはエア供給口15が設けられている。
エア供給口15は、エアポンプP1に接続されており、
このエアポンプP1から所定量のエアが供給される。ハ
ウジング11におけるエア供給口15が設けられている
位置には、エア供給路16が形成されており、エア供給
路16における下方空洞部11Bの出口位置には、絞り
部17が設けられている。
【0031】浮遊型検出子12には、高さ方向ほぼ中央
位置にエア導入口18が形成されている。エア導入口1
8は、ハウジング11に形成された絞り部17の出口よ
りも大径であり、絞り部17から噴出されるエアを浮遊
型検出子12内に導入する。エア導入口18は、浮遊型
検出子12の半径方向に沿って形成されたエア導入路1
9に連通している。また、浮遊型検出子12における中
央位置には、高さ方向に沿って主エア流路20が形成さ
れている。エア導入路19は、主エア流路20の高さ方
向中央位置において主エア流路20と連通している。主
エア流路20の下端部には、エア噴射口21が形成され
ている。エア噴射口21は、主エア流路20よりも小径
であり、主エア流路20を流れたエアは、エア噴射口2
1からウェーハWの表面に向けて噴射される。エア噴射
口21からエアがウェーハWの表面に向けて噴射される
ことにより、浮遊型検出子12は、ウェーハWに対して
非接触状態となる。また、エアポンプP1から噴射され
るエアの噴射圧を一定にすることにより、浮遊型検出子
12は、ウェーハWの表面に対して所定間隔を維持して
浮遊する。
【0032】また、主エア流路20におけるエア導入路
19の対向位置には、分流エア流路22が形成されてい
る。分流エア流路22は、主エア流路20の側方に高さ
方向に沿って形成された側方エア流路23と連通してい
る。エア導入路19から導入されたエアは、その大半が
主エア流路20に流入し、その少量が分流エア流路22
に流入する。側方エア流路23の高さ上方位置、中央位
置、および下方位置には、それぞれハウジング11の下
方空洞部11Bと連通する副エア流路24,25,26
が形成されている。副エア流路24,25,26から流
出したエアは、ハウジング11の下方空洞部11Bと浮
遊型検出子12の間のわずかなクリアランスに導入され
る。こうして、ハウジング11と浮遊型検出子12の接
触を防ぎながら、浮遊型検出子12がハウジング11に
対する上下方向の移動が円滑になるようにしている。
【0033】さらに、浮遊型検出子12の下端部には、
エア噴射口21の周囲を囲むようにして逃げ溝27が形
成されている。逃げ溝27は、上下方向に沿って形成さ
れた排出エア流路28と連通している。排出エア流路2
8は胴部14を抜けて、頭部13にまで伸びている。そ
して、頭部13における排出エア流路28の出口位置に
は、エア排出口29が形成される。排出エア流路28を
流れたエアは、エア排出口29から排出されるようにな
っている。
【0034】他方、ハウジング11の上方空洞部11A
において、浮遊型検出子12における頭部13の上方位
置には、距離センサ30が配設されている。距離センサ
30は、渦電流センサであり、この距離センサ30によ
って、ハウジング11と、浮遊型検出子12の移動方向
に対する浮遊型検出子12の頭部13との距離を測定し
ている。
【0035】また、ハウジング11の上方空洞部11A
には、本発明の浮遊型検出子退避手段である真空保持手
段31が設けられている。真空保持手段31は、距離セ
ンサ30の下端位置よりもわずかに下方位置まで延在し
ており、その下端面には真空エア吸引口32が形成され
ており、真空保持手段31の内部には、真空エア吸引口
32と外部を繋ぐエア流路33が形成されている。さら
に、真空保持手段31は、ハウジング11の外に設けら
れたエアポンプP2に接続されており、エアポンプP2
によって真空吸引がなされる。この真空吸引力により、
浮遊型検出子12の頭部13が吸引保持され、非使用時
における浮遊型検出子12は、ハウジング内方向である
上方向に移動した状態で真空保持されるようになってい
る。
【0036】たとえば厚さ検出装置1が移動アーム5に
より、ウェーハ保持テーブル6上から退避させられてい
るときなど、ウェーハWの厚さの測定を行っていないと
きには、真空保持手段31によって浮遊型検出子12を
真空保持しておく。こうして、浮遊型検出子12をハウ
ジング11の内部に収容しておくことにより、浮遊型検
出子12の損傷などを防止することができる。
【0037】次に、本発明に係る厚さ検出装置によって
ウェーハの厚さを検出する際の原理について、図2から
図5を参照して説明する。図3は、厚さ検出装置によっ
てウェーハの厚さの検出を行っている状態を示す側断面
図、図4は、浮遊型検出子から噴出されるエアの流れを
示す説明図、図5は、厚さ検出方法を説明するための説
明図である。
【0038】図3に示すように、ウェーハ保持テーブル
6上には、研削されたウェーハWが載置されて真空保持
されている。ウェーハWの上方位置には、第1距離検出
装置2が配置されており、ウェーハ保持テーブル6の上
方には、第2距離検出装置3が配置されている。ここ
で、ウェーハWにおける表面(以下「測定面」という)
WAが第1距離検出装置2と向き合っており、ウェーハ
保持テーブル6の表面におけるウェーハWが保持されて
いる面を外れた部分(以下「基準面」という)6Aとが
第2距離検出装置3と向き合っている。このとき、移動
アーム5は、ウェーハ保持テーブル6の表面に対して平
行に配置されている。したがって、第1距離検出装置2
と第2距離検出装置3は、ウェーハ保持テーブル6にお
ける基準面6Aからの離間距離が一定となっている。
【0039】このように、厚さ検出装置1、ウェーハ
W、およびウェーハ保持テーブル6が配置されたら、第
1距離検出装置2および第2距離検出装置3によって、
ウェーハWの厚さの検出が開始される。
【0040】厚さ検出装置1が所定の位置に配置された
ら、第1距離検出装置2および第2距離検出装置3のそ
れぞれにおいて、エアポンプP1,P1からエアを噴出
する。エアポンプP1からエアが噴射された際の距離検
出装置2の作用を図2を用いて説明すると、エアポンプ
P1から噴出されたエアは、ハウジング11内に供給さ
れ、浮遊型検出子12の胴部14内に導入される。この
とき、浮遊型検出子12は、ウェーハWの厚さにより上
下方向に移動するが、その移動量は数百μmと微小量で
ある。これに対して、ハウジング11に形成された絞り
部17の開口面積は小さく、胴部14に形成されたエア
導入口18の開口面積は大きい。このため、浮遊型検出
子12が数百μm程度上下に移動しても、絞り部17か
ら排出されるエアは、胴部14のエア導入口18に確実
に導入される。
【0041】エア導入口18から胴部14内に導入され
たエアは、エア導入路19を介して主エア流路20に導
かれる。主エア流路20に導かれたエアの大部分は、主
エア流路20を通って下方に移動し、エア噴射口21か
ら噴射される。また、主エア流路20に導かれたエアの
うちの一部は、分流エア流路22へと流入する。分流エ
ア流路に流入したエアは、側方エア流路23を経て副エ
ア流路24,25,26へと流入する。そして、それぞ
れの副エア流路24,25,26からハウジング11の
下方空洞部11Bに向けて流れ出し、ハウジング11と
浮遊型検出子12の胴部14との接触を防止し、浮遊型
検出子12が接触抵抗を受けることなく、浮遊できるよ
うにしている。
【0042】また、第1距離検出装置2において、図4
に示すように、エア噴射口21から噴射されるエアA
は、ウェーハWの測定面WAに向けて噴射される。エア
噴射口21から測定面WAにエアAが噴射されることに
より、浮遊型検出子12は、その反作用を受けて上方に
移動する。エア噴射口21から噴射されたエアAは、測
定面WAにはね返って上方に流れる力を受けるが、さら
にエア噴射口21から噴射されるエアAの影響を受け
て、側方に流れる。側方に流れたエアAには、上方に向
けた力が働いているので、実線で示すように、エア噴射
口21の周りに形成された逃げ溝27に流入する。そし
て、仮想線で示すように、側方へ流れ出すエアAはほと
んどない。したがって、測定面WAにはね返ったエアA
は、第1距離検出装置2と測定面WAの間から流出する
ことがないので、安定した気流状態を形成することがで
きる。また、エア噴射口21からエアを噴射しているの
で、測定面WA上における切粉や切り屑はこのエアで吹
き飛ばされる。したがって、測定面WA上がきれいにな
るので、その分、測定精度を向上させることができる。
逃げ溝27に流入したエアAは、図2に示す排出エア流
路28へと流れ込み、そのまま上方へと移動し、頭部1
3に形成されたエア排出口29から排出される。
【0043】こうして、図3に示すように、測定面WA
との間で間隔をおいて浮遊型検出子12が浮遊したら、
ハウジング11に設けられた距離センサ30によって、
浮遊型検出子12の頭部13との離間距離S1を測定す
る。また、第2距離検出装置3においても、第1距離検
出装置2と同様にしてエア噴射口21からエアが噴射さ
れる。そして、浮遊型検出子12を浮遊させて、距離セ
ンサ30によって、浮遊型検出子12の頭部13との離
間距離S2を測定する。
【0044】ここで、測定面WAおよび基準面6Aはと
もに平坦な面であり、測長装置2,3における浮遊型検
出子12の質量も変わることがない。したがって、エア
ポンプP1から噴射されるエアの噴射圧が一定であれ
ば、図3に示す第1距離検出装置2における浮遊型検出
子12と測定面WAの離間距離δ1は一定である。同様
に、第2距離検出装置3における浮遊型検出子12と基
準面6Aとの離間距離δ2も一定である。
【0045】かかる条件の下で、ウェーハWの厚さ測定
をする際には、既知の厚さのウェーハに厚さを測定した
ときの第1距離検出装置2の距離センサ30で測定され
た離間距離S1と、第2距離検出装置3の距離センサ3
0で測定された離間距離S2を基準として、測定対象と
なるウェーハの厚さを測定する。
【0046】たとえば、図5(a)に模式的に示すよう
に、既知の厚さ、たとえば200μmの厚さのウェーハ
WBの厚さdを測定した際の第1距離検出装置2におけ
る距離センサ30で測定された浮遊型検出子12との離
間距離S1が500μmであり、第2距離検出装置3に
おける距離センサ30で測定された浮遊型検出子12と
の離間距離S2が450μmであったとする。
【0047】次に、図5(b)に示すように、厚さ測定
の対象となるウェーハW1をウェーハ保持テーブル6に
載置したときに、第1距離検出装置2における距離セン
サ30で測定された浮遊型検出子12との離間距離S
1′が400μmであったとする。このときに、第2距
離検出装置3における距離センサ30で測定された浮遊
型検出子12との離間距離S2′が、450μmであれ
ば、第1距離検出装置2のハウジング11とウェーハ保
持テーブル6の基準面6Aとの間に距離の変化はないこ
とになる。また、図2に示すエアポンプP1からのエア
の噴射圧を一定にすることで、浮遊型検出子12とウェ
ーハ測定面との離間距離δ1は、常に一定に保つことが
できる。したがって、第1距離検出装置2における距離
センサ30で測定された距離の変化量は、基準となるウ
ェーハWBの厚さに対する測定対象となるウェーハW1
の厚さの変化量となってそのまま現われる。よって、測
定対象となるウェーハW1の厚さd′は、下記(1)式
で表される。 d′=(S1−S1′+d)・・・(1) したがって、(1)式より、d′は300μmとして算
出される。
【0048】また、図5(c)に示すように、厚さ測定
の対象となるウェーハW2をウェーハ保持テーブル6上
に載置したときに、第1距離検出装置2における距離セ
ンサ30で測定された浮遊型検出子12との離間距離S
1″が400μmであったとする。このときに、第2距
離検出装置3における距離センサ30で測定された浮遊
型検出子12との離間距離S2″が400μmであった
とする。第2距離検出装置3における浮遊型検出子12
と、基準面6Aとの離間距離δ2は一定であることか
ら、第2距離検出装置3における距離センサ30によっ
て求められる距離の変化は、第2測長装置におけるハウ
ジング11の基準面6Aとの距離の変化量に相当する。
第1距離検出装置2と第2距離検出装置3は、支持アー
ム4で支持されていることから、第2距離検出装置3に
おける距離センサ30によって求められる距離の変化量
は、第1距離検出装置2のハウジング11と、ウェーハ
保持テーブル6の基準面6Aとの距離の変化量にも相当
することになる。このような場合には、第2距離検出装
置3における距離センサ30によって測定された長さ分
だけ補正する必要が生じる。
【0049】具体的にこの例でいえば、第1距離検出装
置2と基準面6Aとの間の距離は、第2距離検出装置3
における距離センサ30で測定された距離の分(S2″
−S)、すなわち50μm短くなっているので、その分
の補正をする必要がある。したがって、下記(2)式に
より、測定対象となるウェーハW2の厚さd″を算出す
ることができる。 d″=(S1−S1″)−(S2−S2″)+d・・・(2) この(2)式より、ウェーハW2の厚さは350μmと
算出することができる。このように、第1距離検出装置
2と基準面6Aとの間の距離に変化が生じたとしても、
ウェーハW2の厚さを正確に測定することができる。
【0050】次に、本発明の厚さ検出装置の第2の実施
形態について説明する。図6は、本発明の第2の実施形
態に係る厚さ検出装置の側面図である。図6に示すよう
に、本実施形態に係る厚さ検出装置1′では、距離検出
装置2を一つだけ有している。この距離検出装置2は、
前記第1の実施形態における距離検出装置2と同一の構
成を有している。厚さ検出装置1′は、図示しない移動
アームに固定されたベース41を備えている。また、厚
さ検出装置1′はスライダ42を備えており、このスラ
イダ42に距離検出装置2が固定されている。さらに、
ベース41には、保持テーブル6の基準面6Aに平行に
伸びるレール43,43が取り付けられており、距離検
出装置2が固定されたスライダ42は、このレール4
3,43上を走行可能となっている。したがって、距離
検出装置2は、保持テーブル6の基準面6Aに平行に移
動可能とされている。
【0051】保持テーブル6の基準面6A上には、前記
第1の実施形態と同様のウェーハWが載置されている。
その一方、ウェーハWの側方における保持テーブル6の
基準面6A上には、ウェーハWと同一素材で形成され、
厚さが既知であるマスタワークMWが載置されており、
図示しない真空吸着手段によって固定されている。ベー
ス41に固定されたレール43,43は、マスタワーク
MWの真上位置から、ウェーハWの真上位置まで延在し
ている。したがって、距離検出装置2は、マスタワーク
MWの真上位置から、ウェーハWの真上位置まで、保持
テーブル6の基準面6Aに対して平行に移動することが
できるようになっている。
【0052】かかる構成を有する本実施形態に係る厚さ
検出装置1′でウェーハWの厚さを検出する手順につい
て説明する図2および図6を参照して説明する。まず、
距離検出装置2をマスタワークMWの真上に移動させ
る。この場所で、距離検出装置2におけるエア噴射口2
1からエアを噴射して、浮遊型検出子12を浮遊させ
る。このときに距離センサ30によって浮遊型検出子1
2との離間距離を測定する。この測定が済んだら、レー
ル43に沿ってスライダ42を移動させ、距離検出装置
2をウェーハWの真上に移動させる。この場所で、再び
距離検出装置2におけるエア噴射口21から、同じエア
噴射圧でエアを噴射し、浮遊型検出子12を浮遊させ
る。このときに距離センサ30によって浮遊型検出子1
2との離間距離を測定する。
【0053】そして、それぞれ測定された距離センサ3
0と浮遊型検出子12との間の離間距離を比較する。た
とえば、図6に示すように、ウェーハWの方がマスタワ
ークMWよりも薄い場合、ウェーハW上において距離セ
ンサ30で測定した浮遊型検出子12との離間距離は、
マスタワークMW上において距離センサ30で測定した
浮遊型検出子12との離間距離よりも長くなる。そし
て、たとえばマスタワーク上の厚さが500μmであ
り、ウェーハW上で測定した離間距離とマスタワークM
W上で測定した離間距離の差が100μmであった場合
には、ウェーハWの厚さは400μmと算出することが
できる。
【0054】なお、ここではマスタワークMWをウェー
ハ保持テーブル6の基準面6A上に載置して、マスタワ
ークMW上において距離センサ30で浮遊型検出子12
との離間距離を測定しているが、マスタワークMWを載
置することなく、基準面6A上において距離センサ30
で浮遊型検出子12との離間距離を測定してもよい。こ
の場合には、ウェーハW上で測定された離間距離と、基
準面6A上で測定された離間距離との差がウェーハWの
厚さとして算出される。
【0055】以上、本発明の好適な実施形態について説
明したが、本発明は、前記実施形態に限定されるもので
はない。たとえば、距離センサとして渦電流センサに代
えて、容量センサを用いることができる。距離センサと
して容量センサを用いることにより、頭部を金属製など
の導体とせずに済むようにすることができる。そのほ
か、距離センサとしては、レーザ式距離センサ、接触式
距離センサなどを用いることもできる。また、前記第1
の実施形態では、支持アーム4として直線状のものを用
い、第1距離検出装置2と第2距離検出装置3を同じ高
さ位置にしているが、ウェーハWの厚さを考慮して、第
1距離検出装置2を第2距離検出装置3よりも若干高い
位置に配置することもできる。さらには、浮遊型検出子
退避手段として真空保持手段を用いたが、圧縮空気保持
手段や電磁気保持手段を用いることもできる。圧縮空気
保持手段とは、圧縮空気を噴出して、浮遊型検出子をハ
ウジング内に押し込むことによって、浮遊型検出子を保
持するものである。また、電磁気保持手段とは、電磁力
を生じさせることにより、浮遊型検出子をハウジング内
で保持するものである。
【0056】他方、本発明の被測定物として、半導体ウ
ェーハを例に挙げているが、半導体ウェーハに限らず、
たとえば窒化物膜や高分子膜などの絶縁物質が表面に形
成されたウェーハ、酸化物ウェーハ、セラミックスガラ
ス、高分子の板、ガラスとセラミックスの複合材料など
を被測定物とすることもできる。また、前記実施形態で
は、ウェーハを片面研削しているものであるが、たとえ
ば両頭研削装置によってウェーハを研削した際のウェー
ハの厚さ検出を行う際に利用することもできる。さらに
は、距離検出装置を移動させる移動機構としてスライダ
とレールを設けたが、これに限らず、回動旋回軸を有す
る旋回機構でもよい。また、このような移動機構を設け
ることなく、たとえば、距離検出装置は固定しておき、
保持テーブルをその基準面に対して水平に移動させる態
様とすることもできる。
【0057】
【発明の効果】以上の通り、本発明のうちの請求項1に
係る発明によれば、距離センサにウェーハの研削時に生
じた切粉や研削液などがかかることがなく、測定精度の
低下や測定不能となる事態を起こさないようにすること
ができる。距離センサ対する切粉の吸着を防止できるの
で、切粉の堆積による精度の低下を好適に防止すること
ができる。しかも、噴射孔が噴射されるエアによって被
測定物の測定面の切粉などのごみを吹き飛ばすことがで
きるので、精度の高い測定を行うことができる。また、
距離センサとして用いるセンサに対する制約を無くすこ
とができる。
【0058】請求項2に係る発明によれば、非使用時に
おける浮遊型検出子をハウジング内に収容しておくこと
ができるので、浮遊型検出子の損傷を効果的に防止する
ことができる。
【0059】請求項3に係る発明によれば、エア噴射口
が噴射されるエアがハウジングと測定面の間から外部に
漏れ出さないようにすることができるので、エアの流れ
を安定させることができる。したがって、浮遊型検出子
が浮遊する高さを、エアの噴射量に対して安定させるこ
とができる。
【0060】請求項4に係る発明によれば、浮遊型検出
子との間の離間距離を、高い精度をもって測定すること
ができる。
【0061】請求項5に係る発明によれば、浮遊型検出
子における距離センサと対向する位置に、金属製などの
導体を用いる必要はなく、種々の素材のものを用いるこ
とができる。
【0062】請求項6に係る発明によれば、距離検出装
置による距離測定を行う位置において、研削などの他の
作業を行う際に、距離検出装置が邪魔とならないように
することができる。
【0063】請求項7に係る発明によれば、前記各距離
検出を用いて、被測定物の厚さの測定を好適に行うこと
ができる。
【0064】請求項8に係る発明によれば、第1距離検
出装置および第2距離検出装置でそれぞれ距離センサで
検出される浮遊型検出子との離間距離より、被測定物の
厚さを算出することにより検出することができる。
【0065】請求項9に係る発明によれば、1つの距離
検出装置によって、被測定物の厚さを測定することがで
きる。このため、厚さ検出装置の構造の簡易化およびコ
スト低減に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る厚さ検出装置の
斜視図である。
【図2】(a)は第1の実施形態に係る距離検出装置の
側断面図、(b)はその底面図である。
【図3】厚さ検出装置によってウェーハの厚さ測定を行
っている状態を示す側断面図である。
【図4】浮遊型検出子噴出されるエアの流れを示す説明
図である。
【図5】厚さ検出方法を説明するための説明図である。
【図6】本発明の第2の実施形態に係る厚さ検出装置の
側面図である。
【符号の説明】
1 (ウェーハの)厚さ検出装置 2 (第1)距離検出装置 3 (第2)距離検出装置 4 支持アーム 5 移動アーム(距離検出装置退避手段) 6 ウェーハ保持テーブル(保持テーブル) 6A 基準面 11 ハウジング 12 浮遊型検出子 21 エア噴射口 27 逃げ溝 30 距離センサ 31 真空保持手段(浮遊型検出子退避手段) W ウェーハ(被測定物) WA ウェーハ測定面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01B 21/08 H01L 21/304 622S H01L 21/304 622 B24B 37/04 K // B24B 37/04 G01B 7/08 7/10 Z (72)発明者 斎田 国廣 神奈川県横須賀市神明町1番地 株式会社 日平トヤマ技術センター内 Fターム(参考) 2F063 AA02 AA14 AA16 AA22 BB06 BB07 BC05 CA31 CB03 CC10 DA01 DA05 DA11 DA22 DA23 DD03 EB30 GA08 HA01 LA23 2F069 AA02 AA06 AA46 BB15 DD13 GG04 GG06 HH09 HH30 MM04 RR01 3C034 AA08 BB92 BB94 CA01 CA12 3C058 AA07 AC02 AC04 CA02 CA05 CA06 CB01 CB06 DA17

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハウジングと、 前記ハウジングに収容され、前記ハウジングに対して移
    動可能であるとともに、被測定物の測定面に対してエア
    を噴出するエア噴射口が形成され、前記エア噴射口から
    エアを噴射することにより、前記被測定物に対して非接
    触状態で所定距離を維持する浮遊型検出子と、 前記ハウジング内に設けられ、前記浮遊型検出子の移動
    方向に対する前記ハウジングと前記浮遊型検出子の距離
    を測定する距離センサと、 を備えることを特徴とする距離検出装置。
  2. 【請求項2】 非使用時における前記浮遊型検出子をハ
    ウジングの内側の方向に退避させる浮遊型検出子退避手
    段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の
    距離検出装置。
  3. 【請求項3】 前記浮遊型検出子における前記被測定物
    の測定面に対向する面に、前記エア噴射孔から噴射され
    るエアの逃げ溝が形成されていることを特徴とする請求
    項1または請求項2に記載の距離検出装置。
  4. 【請求項4】 前記距離センサが、渦電流センサである
    ことを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいずれ
    か1項に記載の距離検出装置。
  5. 【請求項5】 前記距離センサが、静電容量センサであ
    ることを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいず
    れか1項に記載の距離検出装置。
  6. 【請求項6】 前記被測定物を測定する位置から退避さ
    せるための距離検出装置退避手段に取り付けられている
    ことを特徴とする請求項1から請求項5のうちのいずれ
    か1項に記載の距離検出装置。
  7. 【請求項7】 保持テーブル上に載置された被測定物の
    厚さを検出するにあたり、 前記被測定物の測定面に対向する位置、および前記保持
    テーブルの基準面に対向する位置に請求項1から請求項
    6のうちのいずれか1項に記載の距離検出装置がそれぞ
    れ配置されており、 前記被測定物の測定面に対向する位置で前記距離センサ
    によって測定された前記浮遊型検出子との距離と、前記
    保持テーブルの基準面に対向する位置で前記距離センサ
    によって測定された前記浮遊型検出子との距離と、前記
    被測定物の測定面に対向する位置における前記浮遊型検
    出子および前記保持テーブルの基準面に対向する位置に
    おける前記浮遊型検出子の前記被測定物の厚さ方向に対
    する離間距離と、により、前記被測定物の厚さを算出す
    ることを特徴とする厚さ検出装置。
  8. 【請求項8】 前記被測定物の測定面に対向する位置、
    および前記保持テーブルの基準面に対向する位置にそれ
    ぞれ配置される距離検出装置は、前記被測定物の測定面
    に対向する位置に配設された第1距離検出装置および前
    記保持テーブルの基準面に対向する位置に配設された第
    2距離検出装置よりなることを特徴とする請求項7に記
    載の厚さ検出装置。
  9. 【請求項9】 前記被測定物の測定面に対向する位置、
    および前記保持テーブルの基準面に対向する位置にそれ
    ぞれ配置される距離検出装置は、前記保持テーブルの基
    準面に対して平行に移動可能な移動機構に固定された距
    離検出装置であることを特徴とする請求項7に記載の厚
    さ検出装置。
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