JP2003075988A - レチクルのパターン形成方法及びレチクルの外観検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パターンの角部に丸みができるのを抑えるこ
とができるレチクルのパターン形成方法を提供する。 【解決手段】 まず、ＣＡＤシステムなどを用いて、レ
チクル上に形成しようとする本来のパターンに対応する
第一パターンデータを作成する。そして、かかる第一パ
ターンデータを用いたときにパターンの角部に発生する
欠陥が生じないように第一パターンデータを補正するこ
とにより、当該第一パターンデータに対応する第二パタ
ーンデータを作成する。次に、その第二パターンデータ
をＣＡＤシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子
ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗
布されたレジストの所定領域に照射する。その後、エッ
チング処理を施すことによりレチクル上に所定のパター
ンが形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばステッパや
フォトリピータ等に用いられるフォトマスクであるレチ
クル上にパターンを形成するレチクルのパターン形成方
法及びそのレチクルの外観検査方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】レチクルは、例えばステッパやフォトリ
ピータ等に用いられるフォトマスクであり、通常、レチ
クル上には、５倍ないし１０倍程度に拡大されたパター
ンが形成されている。例えば、ステッパにおいては、か
かるレチクルに光を当て、そのレチクル上に形成された
パターンが所定のレンズにより縮小されて、ウエハ上の
レジストに投影される。

【０００３】レチクル上にパターンを形成するには、ま
ず、ＣＡＤシステムなどでレチクル上に形成すべきパタ
ーンに対応するパターンデータを作成する。次に、その
パターンデータを電子ビーム描画装置に送り、電子ビー
ムをそのパターンデータに応じて、レチクル上に塗布さ
れたレジストの所定領域に照射する。その後、エッチン
グ処理を施すことによりレチクル上に所定のパターンが
形成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来、四角
形やＬ字形等の角部を有するパターンをレチクル上に形
成した場合、かかるパターンの角部に丸みができてしま
うという問題があった。図３は従来のレチクルのパター
ン形成方法を説明するための図である。この例では、パ
ターンデータとして、図３（ａ）に示すように正方形の
パターンを表すものを用いている。かかるパターンデー
タを用いてレチクル上にパターンを形成すると、図３
（ｂ）に示すように、そのパターンは、図３（ａ）に示
す正方形のパターンに比べて、角部が欠けて丸くなって
しまう。この現象は、レチクルのパターン形成工程にお
いて、エッチング加工を行う際にパターンの角部が侵食
されることにより生じる。

【０００５】尚、レチクルの外観検査を行う場合、レチ
クル上に形成したパターンと照合される外観検査用のデ
ータとしては、通常、図３（ｃ）に示すように、当該パ
ターンを形成する際に用いたパターンデータが使用され
る。しかし、レチクル上に形成されたパターンの角部に
は丸みができることから、図３（ｃ）に示す外観検査用
のデータを用いてパターン照合を行うと、図３（ｄ）に
示すように、パターンの角部における差分が誤差として
許容される範囲を超え、欠陥と判断されてしまう。従来
は、かかるパターンの角部における欠陥は無視されるこ
とが多かった。

【０００６】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、パターンの角部に丸みができるのを抑えること
ができるレチクルのパターン形成方法を提供することを
目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの請求項１記載の発明は、電子線をパターンデータに
応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に
照射した後、エッチング処理を施すことによりレチクル
上に所定のパターンを形成するレチクルのパターン形成
方法において、レチクル上に形成しようとする本来のパ
ターンに対応する第一パターンデータを用いたときにパ
ターンの角部に発生する欠陥が生じないように前記第一
パターンデータを補正することにより前記第一パターン
データに対する第二パターンデータを作成した後、前記
第二パターンデータを用いてレチクル上にパターンを形
成することを特徴とするものである。

【０００８】また、請求項２記載の発明は、請求項１記
載のレチクルのパターン形成方法において、前記第二パ
ターンデータは、それに対する前記第一パターンデータ
において、本来のパターンにおける凸状の角部について
は当該凸状の角部の近傍部分を追加し、一方、本来のパ
ターンにおける凹状の角部については当該凹状の角部の
近傍部分を削減することにより得られたものであること
を特徴とするものである。

【０００９】請求項３記載のレチクルの外観検査方法
は、請求項１又は２記載のレチクルのパターン形成方法
を適用してパターンが形成されたレチクルについて当該
パターンの外観検査を行う場合、当該パターンを形成す
る際に用いられた前記第二パターンデータに対する前記
第一パターンデータと当該パターンとを比較することを
特徴とするものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態
であるレチクルのパターン形成方法を説明するための
図、図２はそのレチクルのパターン形成方法において用
いられるパターンデータの一例を説明するための図であ
る。

【００１１】レチクルは、マスクブランク上に、通常５
倍ないし１０倍程度に拡大されたパターンが形成された
ものである。ここで、マスクブランクは、ガラス基板の
片側全面にクロム等の金属薄膜が形成されたものであ
る。エッチングにより金属薄膜が取り除かれたマスクブ
ランクの領域がパターンの形成領域となる。かかるレチ
クルは、例えばステッパやフォトリピータ等においてフ
ォトマスクとして用いられる。例えば、ステッパにおい
ては、かかるレチクルに光を当て、そのレチクル上に形
成されたパターンが所定のレンズにより縮小されて、ウ
エハ上のレジストに投影される。

【００１２】次に、本実施形態のレチクルのパターン形
成方法について説明する。まず、ＣＡＤシステムなどを
用いて、レチクル上に形成しようとする本来のパターン
に対応する第一パターンデータを作成する。そして、か
かる第一パターンデータを用いたときにパターンの角部
に発生する欠陥が生じないように第一パターンデータを
補正することにより、当該第一パターンデータに対応す
る第二パターンデータを作成する。

【００１３】いま、この第二パターンデータについて具
体的に説明する。ここでは、本来のパターンが正方形で
ある場合と、Ｌ字形である場合とを考える。図１には、
本来のパターンが正方形である場合が示されている。図
１（ａ）に示すような正方形のパターンを表す第一パタ
ーンデータを用いてレチクル上にパターンを形成する
と、図３（ｂ）に示すように、パターンの角部が欠けて
丸くなってしまう。このため、かかるパターンの角部に
欠けが発生する原因である、エッチング加工の際の侵食
による影響を予め考慮して、図１（ｂ）に示すように第
一パターンデータにその侵食分に対する補正を加える。
かかる侵食分に対する補正を加えたデータが第二パター
ンデータである。

【００１４】また、図２には、本来のパターンがＬ字形
である場合の第一パターンデータと第二パターンデータ
が例示されている。正方形のパターンに現れる四つの角
部はすべて凸状の角部であるが、このＬ字形のパターン
には、五つの凸状の角部の他に、一つの凹状の角部が現
れる。図２（ａ）に示すようなＬ字形のパターンを表す
第一パターンデータを用いてレチクル上にパターンを形
成すると、かかるパターンの形状は、図２（ｂ）に示す
ようになる。すなわち、凸状の角部については、図３
（ｂ）と同様に、パターンの角部が欠けて丸くなってし
まう。これに対して、凹状の角部については、エッチン
グ加工を行う際に逆にエッチングがされにくく、その角
部の近傍に余分な部分が残ってしまう。このため、第二
パターンデータを作成する場合には、それに対する第一
パターンデータにおいて、本来のパターンにおける凸状
の角部については当該凸状の角部の近傍部分を追加し、
一方、本来のパターンにおける凹状の角部については当
該凹状の角部の近傍部分を削減するような補正を行う。
図２（ａ）に示す第一パターンデータに対応する第二パ
ターンデータは、図２（ｃ）に示すようになる。

【００１５】尚、かかる第二パターンデータは、図形デ
ータを扱う市販のソフトウエアを用いることにより、容
易に作成することができる。

【００１６】このようにして第二パターンデータが作成
されると、次に、その第二パターンデータをＣＡＤシス
テムから電子ビーム描画装置に送る。一方、その電子ビ
ーム描画装置のテーブル上には、金属薄膜上にレジスト
が塗布されたレチクルが載置される。そして、電子ビー
ムを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布さ
れたレジストの所定領域に照射する。これにより、レジ
スト上に第二パターンデータに応じたパターンが投影さ
れる。最後に、そのレチクルにエッチング処理を施し、
金属薄膜を除去することにより、レチクル上に所定のパ
ターンが形成される。

【００１７】このように、第二パターンデータを用いて
レチクル上にパターンを形成することにより、レチクル
上に形成されたパターンは、例えば、図１（ｃ）に示す
ように、図１（ａ）に示す本来のパターンにとても近似
したパターンとすることができる。

【００１８】次に、上述した本実施形態のレチクルのパ
ターン形成方法を適用してパターンが形成されたレチク
ルの外観検査方法について説明する。

【００１９】パターンが形成されたレチクルについて
は、そのパターンと外観検査用のデータとを比較し、そ
の差分が所定の誤差の範囲内にあるかどうかを、検査装
置を用いて検査する必要がある。ここで、この外観検査
用のデータとしては、従来は、当該パターンを形成する
際に用いられたパターンデータを使用していた。本実施
形態のレチクルのパターン形成方法を適用してパターン
が形成されたレチクルについても、従来と同様に考え
て、外観検査用のデータとして第二パターンデータを使
用することにしたのでは、第二パターンデータは、本来
のパターンにエッチング加工の際の侵食分又は未侵食分
に対する補正がなされているため、パターン照合に使用
するデータとしては適さない。すなわち、外観検査用の
データとして第二パターンデータを使用すると、レチク
ル上に本来のパターンに近似したパターンが形成された
としても、欠陥と判断されてしまう。

【００２０】このため、本実施形態においては、レチク
ルの外観検査を行う場合に、図１（ｄ）に示すように、
本来のパターンに対応する第一パターンデータを外観検
査用のデータとして使用することにする。これにより、
かかる外観検査用のデータを用いてパターン照合を行う
と、図１（ｅ）に示すように、第二パターンデータを用
いて本来のパターンに近似したパターンが形成された場
合には、パターンの角部における差分が誤差として許容
される範囲内と認識され、当該パターンが欠陥と判断さ
れることはない。したがって、パターンの角部について
外観検査を正確に行うことができる。

【００２１】本実施形態のレチクルのパターン形成方法
では、レチクル上に形成しようとする本来のパターンに
対応する第一パターンデータを用いたときにパターンの
角部に発生する欠陥が生じないように第一パターンデー
タを補正することにより第二パターンデータを作成した
後、第二パターンデータを用いてレチクル上にパターン
を形成する。これにより、パターンの角部に丸みができ
るのを抑えることができるので、パターンの角部におけ
る加工精度の向上を図ることができる。

【００２２】また、上記のレチクルのパターン形成方法
を適用してパターンが形成されたレチクルについて当該
パターンの外観検査を行う場合、当該パターンを形成す
る際に用いられた第二パターンデータに対する第一パタ
ーンデータと当該パターンとを比較することにより、か
かる第一パターンデータは本来のパターンに対応してい
るので、特にパターン角部についての外観検査を正確に
行うことができる。

【００２３】尚、本発明は上記の実施形態に限定される
ものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が
可能である。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように本発明のレチクルの
パターン形成方法によれば、レチクル上に形成しようと
する本来のパターンに対応する第一パターンデータを用
いたときにパターンの角部に発生する欠陥が生じないよ
うに第一パターンデータを補正することにより第二パタ
ーンデータを作成した後、第二パターンデータを用いて
レチクル上にパターンを形成する。これにより、パター
ンの角部に丸みができるのを抑えることができるので、
パターンの角部における加工精度の向上を図ることがで
きる。

【００２５】また、本発明のレチクルの外観検査方法に
よれば、上記のレチクルのパターン形成方法を適用して
パターンが形成されたレチクルについて当該パターンの
外観検査を行う場合、当該パターンを形成する際に用い
られた第二パターンデータに対する第一パターンデータ
と当該パターンとを比較することにより、かかる第一パ
ターンデータは本来のパターンに対応しているので、特
にパターン角部についての外観検査を正確に行うことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態であるレチクルのパターン
形成方法を説明するための図である。

【図２】そのレチクルのパターン形成方法において用い
られるパターンデータの一例を説明するための図であ
る。

【図３】従来のレチクルのパターン形成方法を説明する
ための図である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子線をパターンデータに応じて、レチ
   クル上に塗布されたレジストの所定領域に照射した後、
   エッチング処理を施すことによりレチクル上に所定のパ
   ターンを形成するレチクルのパターン形成方法におい
   て、 レチクル上に形成しようとする本来のパターンに対応す
   る第一パターンデータを用いたときにパターンの角部に
   発生する欠陥が生じないように前記第一パターンデータ
   を補正することにより前記第一パターンデータに対する
   第二パターンデータを作成した後、前記第二パターンデ
   ータを用いてレチクル上にパターンを形成することを特
   徴とするレチクルのパターン形成方法。
2. 【請求項２】 前記第二パターンデータは、それに対す
   る前記第一パターンデータにおいて、本来のパターンに
   おける凸状の角部については当該凸状の角部の近傍部分
   を追加し、一方、本来のパターンにおける凹状の角部に
   ついては当該凹状の角部の近傍部分を削減することによ
   り得られたものであることを特徴とする請求項１記載の
   レチクルのパターン形成方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載のレチクルのパター
   ン形成方法を適用してパターンが形成されたレチクルに
   ついて当該パターンの外観検査を行う場合、当該パター
   ンを形成する際に用いられた前記第二パターンデータに
   対する前記第一パターンデータと当該パターンとを比較
   することを特徴とするレチクルの外観検査方法。