JP2003016622A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JP2003016622A JP2003016622A JP2001200381A JP2001200381A JP2003016622A JP 2003016622 A JP2003016622 A JP 2003016622A JP 2001200381 A JP2001200381 A JP 2001200381A JP 2001200381 A JP2001200381 A JP 2001200381A JP 2003016622 A JP2003016622 A JP 2003016622A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 製造時の磁気記録層の磁気特性の劣化を回避
し、隣接トラックへの書き込みを確実に解消でき、より
高密度な記録に対応することができる磁気記録媒体を提
供する。 【解決手段】 非磁性基板２上に、軟磁性裏打ち層１０
と、結晶配向制御層７と、垂直磁気記録層２０とを備え
る磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、
記録再生が行われるデータトラックとデータトラックの
間に位置する領域、またはサーボ信号が記録される領域
にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部１０
ａを有するとともに、その凹部には非磁性材１５が充填
されて非磁性層１５が形成されており、前記結晶配向制
御層７は、軟磁性裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所
の上にのみ存在するように形成されており、前記垂直磁
気記録層２０は、少なくとも基板の鉛直方向に磁気異方
性を有するとともに、意図的に形成された欠如凹部が存
在しない平面膜として構成される。
し、隣接トラックへの書き込みを確実に解消でき、より
高密度な記録に対応することができる磁気記録媒体を提
供する。 【解決手段】 非磁性基板２上に、軟磁性裏打ち層１０
と、結晶配向制御層７と、垂直磁気記録層２０とを備え
る磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、
記録再生が行われるデータトラックとデータトラックの
間に位置する領域、またはサーボ信号が記録される領域
にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部１０
ａを有するとともに、その凹部には非磁性材１５が充填
されて非磁性層１５が形成されており、前記結晶配向制
御層７は、軟磁性裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所
の上にのみ存在するように形成されており、前記垂直磁
気記録層２０は、少なくとも基板の鉛直方向に磁気異方
性を有するとともに、意図的に形成された欠如凹部が存
在しない平面膜として構成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータのハ
ードディスク等の磁気記録媒体、特に磁気記録媒体面に
対して垂直な方向に磁化を記録するいわゆる垂直磁気記
録媒体に関する。
ードディスク等の磁気記録媒体、特に磁気記録媒体面に
対して垂直な方向に磁化を記録するいわゆる垂直磁気記
録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】計算機の記録容量の増大に伴い、磁気記
録装置の記録容量はますます大容量化される傾向にあ
る。面記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドから
発生する信号磁界によって形成される磁気記録層中の記
録磁区列をいかに微細化できるかがポイントとなる。
録装置の記録容量はますます大容量化される傾向にあ
る。面記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドから
発生する信号磁界によって形成される磁気記録層中の記
録磁区列をいかに微細化できるかがポイントとなる。
【０００３】従来より用いられている、いわゆる長手記
録方式においては、磁気ヘッドの走行方向に磁化を安定
して存在させるために、記録がなされる磁気記録層とし
ては、走行方向に高い保磁力、大きな角型比を持つこと
が要求される。記録磁区列の微細化に伴い、この要求は
一段と大きくなっている。
録方式においては、磁気ヘッドの走行方向に磁化を安定
して存在させるために、記録がなされる磁気記録層とし
ては、走行方向に高い保磁力、大きな角型比を持つこと
が要求される。記録磁区列の微細化に伴い、この要求は
一段と大きくなっている。
【０００４】しかしながら、ハードディスクの面記録密
度の上昇が年率２００％以上といわれる現在、線記録密
度の上昇に伴い、記録磁化の減磁が顕著になるととも
に、１つの磁気粒子（磁気クラスター）の大きさの微細
化に伴う活性化体積の低下により、熱揺らぎによる磁化
反転の影響が無視できなくなり、これまで以上の超記録
密度においては、長手方式の記録は不可能と言われてい
る。
度の上昇が年率２００％以上といわれる現在、線記録密
度の上昇に伴い、記録磁化の減磁が顕著になるととも
に、１つの磁気粒子（磁気クラスター）の大きさの微細
化に伴う活性化体積の低下により、熱揺らぎによる磁化
反転の影響が無視できなくなり、これまで以上の超記録
密度においては、長手方式の記録は不可能と言われてい
る。
【０００５】そこで、このような長手記録方式に替わ
り、より高密度記録に適用可能な方式として、いわゆる
垂直記録方式が提案されている。この方式は、記録層面
内に記録磁化を書き込む長手方式に対し、記録層面に対
して垂直方向に磁化させることによって記録することを
特徴とする方式である。
り、より高密度記録に適用可能な方式として、いわゆる
垂直記録方式が提案されている。この方式は、記録層面
内に記録磁化を書き込む長手方式に対し、記録層面に対
して垂直方向に磁化させることによって記録することを
特徴とする方式である。
【０００６】この垂直記録方式により、上述したような
線記録密度の上昇に伴う記録磁化の減磁を抑えることが
できるだけでなく、密度が高くなるほど反磁界が減り、
記録磁化をより安定化させることができる。また、記録
層の膜厚を小さくしなければ面内方向に磁化させること
が困難である長手方式に対し、垂直記録方式ではある程
度膜厚を持たせた方が、形状異方性の効果で記録に有利
となる。さらに、垂直記録方式は、熱揺らぎによる磁化
反転の影響も大幅に低減できるという利点がある。
線記録密度の上昇に伴う記録磁化の減磁を抑えることが
できるだけでなく、密度が高くなるほど反磁界が減り、
記録磁化をより安定化させることができる。また、記録
層の膜厚を小さくしなければ面内方向に磁化させること
が困難である長手方式に対し、垂直記録方式ではある程
度膜厚を持たせた方が、形状異方性の効果で記録に有利
となる。さらに、垂直記録方式は、熱揺らぎによる磁化
反転の影響も大幅に低減できるという利点がある。
【０００７】しかしながらそれでも、１００Gbit／in2
以上の超記録密度となると、ヘッド側面から発生するサ
イドフリンジングによって、隣接トラックへの書き込み
の問題が生じてしまう。そのため、現行の連続膜（単な
るベタ膜）への記録では、それ以上の記録密度の実現は
不可能となってしまう。
以上の超記録密度となると、ヘッド側面から発生するサ
イドフリンジングによって、隣接トラックへの書き込み
の問題が生じてしまう。そのため、現行の連続膜（単な
るベタ膜）への記録では、それ以上の記録密度の実現は
不可能となってしまう。
【０００８】そこで、提唱されているのが、記録層の円
周方向に非磁性体の列を形成し、磁性体部分のみ記録し
ていく、いわゆるディスクリートトラック媒体である。
非磁性体部分の存在により、上述した隣接したトラック
への書き込みの問題を回避でき、良好な記録再生特性を
得ることができる。
周方向に非磁性体の列を形成し、磁性体部分のみ記録し
ていく、いわゆるディスクリートトラック媒体である。
非磁性体部分の存在により、上述した隣接したトラック
への書き込みの問題を回避でき、良好な記録再生特性を
得ることができる。
【０００９】このようなディスクリートトラック媒体の
従来例として、例えば、特開平４−３１０６２１号公
報、特開平７―１２９９５３号公報には、記録層を直接
エッチングすることにより凹部を設け、この凹部にガー
ドバンドとなる非磁性体を埋め込み、しかる後、平滑化
処理をすることによりトラック方向に並んだ磁性体列を
形成してなる媒体を提案している。しかしながら、これ
らの媒体は、記録層そのものを直接エッチングしてお
り、エッチング時の熱履歴による記録層（磁性体）への
ダメージが発生し、磁気記録層の磁気特性が劣化するお
それがある。
従来例として、例えば、特開平４−３１０６２１号公
報、特開平７―１２９９５３号公報には、記録層を直接
エッチングすることにより凹部を設け、この凹部にガー
ドバンドとなる非磁性体を埋め込み、しかる後、平滑化
処理をすることによりトラック方向に並んだ磁性体列を
形成してなる媒体を提案している。しかしながら、これ
らの媒体は、記録層そのものを直接エッチングしてお
り、エッチング時の熱履歴による記録層（磁性体）への
ダメージが発生し、磁気記録層の磁気特性が劣化するお
それがある。
【００１０】また、特開昭５６−１１９９３４号公報や
特開平２−２０１７３０号公報では、非磁性体（基板）
表面にエッッチングにより凹部を形成し、その凹部に磁
性体を埋め込んだ後、平坦化処理をすることによりトラ
ック方向に並んだ磁性体列を形成してなる媒体を提案し
ている。しかしながら、これらの媒体において、微細な
溝の中に良好な結晶配向性および垂直異方性を保持した
まま磁性体を形成させることは不可能に近いと言える。
特開平２−２０１７３０号公報では、非磁性体（基板）
表面にエッッチングにより凹部を形成し、その凹部に磁
性体を埋め込んだ後、平坦化処理をすることによりトラ
ック方向に並んだ磁性体列を形成してなる媒体を提案し
ている。しかしながら、これらの媒体において、微細な
溝の中に良好な結晶配向性および垂直異方性を保持した
まま磁性体を形成させることは不可能に近いと言える。
【００１１】また、上記いずれの方法においても、ＣＭ
Ｐ（chemical mechanical polishing）等による表面平
滑化処理過程における磁性層（記録層）表面の研磨によ
って、磁気記録層の磁気特性が劣化するおそれがある。
Ｐ（chemical mechanical polishing）等による表面平
滑化処理過程における磁性層（記録層）表面の研磨によ
って、磁気記録層の磁気特性が劣化するおそれがある。
【００１２】また、平滑・平坦化処理を行っても、記録
層あるいは非磁性層のディッシング等により、媒体表面
に凹凸が残り、その上にダイアモンドライクカーボン等
の保護膜やパーフルオロポリエーテル等の潤滑膜の形成
が均一にできないことがある。
層あるいは非磁性層のディッシング等により、媒体表面
に凹凸が残り、その上にダイアモンドライクカーボン等
の保護膜やパーフルオロポリエーテル等の潤滑膜の形成
が均一にできないことがある。
【００１３】このような実情のもとに本発明は創案され
たものであり、その目的は、隣接するトラックへの書き
込みの問題をより確実に解消でき、さらに良好な記録再
生特性を得ることができるとともに、より高密度な記録
に対応することができる磁気記録媒体を提供することに
ある。
たものであり、その目的は、隣接するトラックへの書き
込みの問題をより確実に解消でき、さらに良好な記録再
生特性を得ることができるとともに、より高密度な記録
に対応することができる磁気記録媒体を提供することに
ある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層
と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備える磁気
記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、記録再
生が行われるデータトラックとデータトラックの間に位
置する領域、またはサーボ信号が記録される領域にディ
スクリート作用を発揮させるための欠如凹部を有すると
ともに、その凹部には非磁性材が充填されて非磁性層が
形成されており、前記結晶配向制御層は、軟磁性裏打ち
層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存在するよう
に形成されており、前記垂直磁気記録層は、少なくとも
基板の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、意図的
に形成された欠如凹部が存在しない平面膜として構成さ
れる。
るために、本発明は、非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層
と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備える磁気
記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、記録再
生が行われるデータトラックとデータトラックの間に位
置する領域、またはサーボ信号が記録される領域にディ
スクリート作用を発揮させるための欠如凹部を有すると
ともに、その凹部には非磁性材が充填されて非磁性層が
形成されており、前記結晶配向制御層は、軟磁性裏打ち
層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存在するよう
に形成されており、前記垂直磁気記録層は、少なくとも
基板の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、意図的
に形成された欠如凹部が存在しない平面膜として構成さ
れる。
【００１５】また、本発明の好ましい態様として、前記
欠如凹部は、それが形成される場所において、軟磁性裏
打ち層の厚さ方向の一部を欠如させるように形成され
る。
欠如凹部は、それが形成される場所において、軟磁性裏
打ち層の厚さ方向の一部を欠如させるように形成され
る。
【００１６】また、本発明の好ましい態様として、前記
欠如凹部は、それが形成される場所において、軟磁性裏
打ち層の厚さ方向の実質的全部を欠如させるように形成
されてる。
欠如凹部は、それが形成される場所において、軟磁性裏
打ち層の厚さ方向の実質的全部を欠如させるように形成
されてる。
【００１７】また、本発明の好ましい態様として、前記
非磁性層および結晶配向制御層の上部の平面部は、実質
的に同一平面を形成するように構成される。
非磁性層および結晶配向制御層の上部の平面部は、実質
的に同一平面を形成するように構成される。
【００１８】また、本発明は、非磁性基板上に、軟磁性
裏打ち層と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備
える磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層
は、記録再生が行われるデータトラックとデータトラッ
クの間に位置する領域、およびサーボ信号が記録される
領域にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部
を有するとともに、その凹部には非磁性材が充填されて
非磁性層が形成されており、前記結晶配向制御層は、軟
磁性裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存
在するように形成されており、前記垂直磁気記録層は、
少なくとも基板の鉛直方向に磁気異方性を有するととも
に、意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面膜と
して構成される。
裏打ち層と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備
える磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層
は、記録再生が行われるデータトラックとデータトラッ
クの間に位置する領域、およびサーボ信号が記録される
領域にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部
を有するとともに、その凹部には非磁性材が充填されて
非磁性層が形成されており、前記結晶配向制御層は、軟
磁性裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存
在するように形成されており、前記垂直磁気記録層は、
少なくとも基板の鉛直方向に磁気異方性を有するととも
に、意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面膜と
して構成される。
【００１９】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、基板上に軟磁性裏打ち層および結晶配向制御層を順
次形成した後に、ディスクリート作用を発揮させるため
の欠如凹部を形成し、この欠如凹部に非磁性体を充填し
た後に平坦化処理を行い、しかる後、垂直磁気記録層を
形成してなるように構成される。
は、基板上に軟磁性裏打ち層および結晶配向制御層を順
次形成した後に、ディスクリート作用を発揮させるため
の欠如凹部を形成し、この欠如凹部に非磁性体を充填し
た後に平坦化処理を行い、しかる後、垂直磁気記録層を
形成してなるように構成される。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的実施の形態
について詳細に説明する。
について詳細に説明する。
【００２１】図１（Ａ）には本発明のディスク状の磁気
記録媒体１の全体形状を表す概略平面図が示され、図１
（Ｂ）には、図１（Ａ）の四角で囲まれた微小部分１０
０の部分拡大概略図が示される。特に、図１（Ｂ）にお
いては、サーボ信号領域９０およびデータ領域８０（記
録再生のためのデータトラック群）の位置を概念的に現
すために、本発明において、これらの上に被着されてい
る垂直磁気記録層は除かれた状態で描かれている。図２
（Ａ）および（Ｂ）には、それぞれ、本発明の磁気記録
媒体の好適な実施の形態を概念的に示す断面図が示さ
れ、これらの図は、図１（Ｂ）のα−α矢視断面図に実
質的に相当する。図３（Ａ）〜（Ｄ）および図４（Ａ）
〜（Ｈ）は、それぞれ、本発明の磁気記録媒体の好適な
製造プロセスの一例を経時的に説明するための概略断面
図である。
記録媒体１の全体形状を表す概略平面図が示され、図１
（Ｂ）には、図１（Ａ）の四角で囲まれた微小部分１０
０の部分拡大概略図が示される。特に、図１（Ｂ）にお
いては、サーボ信号領域９０およびデータ領域８０（記
録再生のためのデータトラック群）の位置を概念的に現
すために、本発明において、これらの上に被着されてい
る垂直磁気記録層は除かれた状態で描かれている。図２
（Ａ）および（Ｂ）には、それぞれ、本発明の磁気記録
媒体の好適な実施の形態を概念的に示す断面図が示さ
れ、これらの図は、図１（Ｂ）のα−α矢視断面図に実
質的に相当する。図３（Ａ）〜（Ｄ）および図４（Ａ）
〜（Ｈ）は、それぞれ、本発明の磁気記録媒体の好適な
製造プロセスの一例を経時的に説明するための概略断面
図である。
【００２２】図１（Ａ）において、図示されてはいない
がディスク基板上には記録再生のための複数のデータト
ラック群が同心円状に配置・形成されている。また、デ
ィスクの中心から外方に向けて、放射状にサーボ信号領
域（図面で線状に描かれている箇所）が形成されてい
る。
がディスク基板上には記録再生のための複数のデータト
ラック群が同心円状に配置・形成されている。また、デ
ィスクの中心から外方に向けて、放射状にサーボ信号領
域（図面で線状に描かれている箇所）が形成されてい
る。
【００２３】図２（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、本
発明の磁気記録媒体１は、非磁性基板２上に、軟磁性裏
打ち層１０と、垂直磁気記録層２０とを備える磁気記録
媒体である。本発明においては、軟磁性裏打ち層１０に
欠如凹部１０ａが形成され、この凹部１０ａには非磁性
材が充填され非磁性層１５が形成されている。そして、
本願における発明の要部は、図示のごとく軟磁性裏打ち
層１０の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ結晶配向
制御層７が形成されて、さらにこの上に形成される垂直
磁気記録層２０が意図的に形成された欠如凹部が存在し
ない平面膜として構成されている点にある。なお、前記
非磁性層１５および結晶配向制御層７の上部の平面部
は、ＣＭＰ（chemical mechanical polishing）等の平
滑処理手法を用いて実質的に同一平面を形成する形態を
とっている。
発明の磁気記録媒体１は、非磁性基板２上に、軟磁性裏
打ち層１０と、垂直磁気記録層２０とを備える磁気記録
媒体である。本発明においては、軟磁性裏打ち層１０に
欠如凹部１０ａが形成され、この凹部１０ａには非磁性
材が充填され非磁性層１５が形成されている。そして、
本願における発明の要部は、図示のごとく軟磁性裏打ち
層１０の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ結晶配向
制御層７が形成されて、さらにこの上に形成される垂直
磁気記録層２０が意図的に形成された欠如凹部が存在し
ない平面膜として構成されている点にある。なお、前記
非磁性層１５および結晶配向制御層７の上部の平面部
は、ＣＭＰ（chemical mechanical polishing）等の平
滑処理手法を用いて実質的に同一平面を形成する形態を
とっている。
【００２４】以下、媒体構成について詳細に説明する。
本発明における軟磁性裏打ち層１０は、図２に示される
ように記録再生が行われるデータトラック２２とデータ
トラック２２の間に位置する箇所（いわゆるガードバン
ド部）に、隣接するデータトラックが磁気的に分離され
るごとくディスクリート作用を発揮させるための欠如凹
部１０ａを備えるとともに、その凹部１０ａには非磁性
材が充填され非磁性層１５が形成されている。
本発明における軟磁性裏打ち層１０は、図２に示される
ように記録再生が行われるデータトラック２２とデータ
トラック２２の間に位置する箇所（いわゆるガードバン
ド部）に、隣接するデータトラックが磁気的に分離され
るごとくディスクリート作用を発揮させるための欠如凹
部１０ａを備えるとともに、その凹部１０ａには非磁性
材が充填され非磁性層１５が形成されている。
【００２５】なお、ディスクリート作用を発揮させるた
めの欠如凹部１０ａは、上記のデータトラック間のみな
らず、さらに、サーボ信号が記録される領域（図１のサ
ーボ信号領域９０）において、その信号が機能する形態
に設けてもよい。すなわち、サーボ信号領域９０におい
てサーボ信号パターンに応じた欠如凹が形成されるよう
にしてもよい。サーボ信号パターンは、通常、直流磁化
した後に用いられる。
めの欠如凹部１０ａは、上記のデータトラック間のみな
らず、さらに、サーボ信号が記録される領域（図１のサ
ーボ信号領域９０）において、その信号が機能する形態
に設けてもよい。すなわち、サーボ信号領域９０におい
てサーボ信号パターンに応じた欠如凹が形成されるよう
にしてもよい。サーボ信号パターンは、通常、直流磁化
した後に用いられる。
【００２６】図２（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、本
発明における軟磁性裏打ち層１０および非磁性層１５の
上に形成される垂直磁気記録層２０は、少なくとも基板
２の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、意図的に
形成された欠如凹部が存在しない平面膜として構成され
る。ここで、「意図的に形成された欠如凹部が存在しな
い」とは、従来公知の技術である特開平７−１２９９５
３号公報に開示されているごとく、例えば、リソグラフ
ィー法等によって、意識的に磁性層を欠いて凹部を形成
したものを排除する趣旨である。それゆえ、垂直磁気記
録層２０の成膜により生じる、例えば、ナノメートル
（ｎｍ）単位の表面凹凸部は意図的に形成されたもので
はない。
発明における軟磁性裏打ち層１０および非磁性層１５の
上に形成される垂直磁気記録層２０は、少なくとも基板
２の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、意図的に
形成された欠如凹部が存在しない平面膜として構成され
る。ここで、「意図的に形成された欠如凹部が存在しな
い」とは、従来公知の技術である特開平７−１２９９５
３号公報に開示されているごとく、例えば、リソグラフ
ィー法等によって、意識的に磁性層を欠いて凹部を形成
したものを排除する趣旨である。それゆえ、垂直磁気記
録層２０の成膜により生じる、例えば、ナノメートル
（ｎｍ）単位の表面凹凸部は意図的に形成されたもので
はない。
【００２７】図２（Ａ）における欠如凹部１０ａは、そ
れが形成される場所において、軟磁性裏打ち層１０の厚
さ方向（図面の上下方向）の一部を欠如させるように形
成されている。この態様に限定されることなく、前記欠
如凹部１０ａは、図２（Ｂ）に示されるようにそれが形
成される場所において、軟磁性裏打ち層１０の厚さ方向
の実質的全部を欠如させるように形成してもよい。ここ
で、「実質的全部」とは、本発明の作用効果を逸脱しな
い範囲で、基板２の一部までをわずかにエッチングして
基板の一部に非磁性材が充填されている態様をも含む趣
旨である。厳密に軟磁性裏打ち層１０のみを完全に除去
することは極めて困難であるからである。
れが形成される場所において、軟磁性裏打ち層１０の厚
さ方向（図面の上下方向）の一部を欠如させるように形
成されている。この態様に限定されることなく、前記欠
如凹部１０ａは、図２（Ｂ）に示されるようにそれが形
成される場所において、軟磁性裏打ち層１０の厚さ方向
の実質的全部を欠如させるように形成してもよい。ここ
で、「実質的全部」とは、本発明の作用効果を逸脱しな
い範囲で、基板２の一部までをわずかにエッチングして
基板の一部に非磁性材が充填されている態様をも含む趣
旨である。厳密に軟磁性裏打ち層１０のみを完全に除去
することは極めて困難であるからである。
【００２８】図２（Ａ）の態様において、実質的なディ
スクリート作用を働かせるための欠如凹部１０ａの深さ
（非磁性材１５の厚さ）Ｄは、媒体を構成する各部材の
材料選定によっても異なるが、軟磁性裏打ち層１０の厚
さをＤsとした場合、Ｄ＝０．２〜０．９Ｄs程度とする
ことが望ましい。また、図２（Ａ）の態様のごとく軟磁
性裏打ち層１０は下部で繋がっていることが望ましい。
使用する単磁極ヘッドと、垂直磁気記録層２０、軟磁性
裏打ち層１０との間で磁束が閉ループを形成しやすく磁
束密度の高い良好な記録ができるからである。
スクリート作用を働かせるための欠如凹部１０ａの深さ
（非磁性材１５の厚さ）Ｄは、媒体を構成する各部材の
材料選定によっても異なるが、軟磁性裏打ち層１０の厚
さをＤsとした場合、Ｄ＝０．２〜０．９Ｄs程度とする
ことが望ましい。また、図２（Ａ）の態様のごとく軟磁
性裏打ち層１０は下部で繋がっていることが望ましい。
使用する単磁極ヘッドと、垂直磁気記録層２０、軟磁性
裏打ち層１０との間で磁束が閉ループを形成しやすく磁
束密度の高い良好な記録ができるからである。
【００２９】一方、図２（Ｂ）の態様の場合、軟磁性裏
打ち層内に磁壁を形成することが困難となり、軟磁性裏
打ち層の磁区に起因するノイズを抑制することができる
というメリットがある。
打ち層内に磁壁を形成することが困難となり、軟磁性裏
打ち層の磁区に起因するノイズを抑制することができる
というメリットがある。
【００３０】本願における発明の要部は、前述しかつ図
２に示されるように軟磁性裏打ち層１０の上にのみ結晶
配向制御層７が形成されて、垂直磁気記録層２０が上述
のごとく意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面
膜として構成されている点にある。
２に示されるように軟磁性裏打ち層１０の上にのみ結晶
配向制御層７が形成されて、垂直磁気記録層２０が上述
のごとく意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面
膜として構成されている点にある。
【００３１】この態様をもう少し詳述すると、記録再生
が行われるデータトラック２２の部分の垂直磁気記録層
２０の下部は、結晶配向制御層７と接しているが、デー
タトラック２２とデータトラック２２の間に位置する箇
所（いわゆるガードバンド部）の下部には結晶配向制御
層７が存在せず、垂直磁気記録層２０は非磁性層１５と
接している。結晶配向制御層７は、主として、垂直磁気
記録層２０の成膜時の結晶配向を制御するための膜であ
り、この結晶配向制御層７の存在によりこの上に形成さ
れる垂直磁気記録層２０の結晶配向は、適宜コントロー
ルされ、磁気特性の良好な垂直磁気記録層２０を形成さ
せることができる。
が行われるデータトラック２２の部分の垂直磁気記録層
２０の下部は、結晶配向制御層７と接しているが、デー
タトラック２２とデータトラック２２の間に位置する箇
所（いわゆるガードバンド部）の下部には結晶配向制御
層７が存在せず、垂直磁気記録層２０は非磁性層１５と
接している。結晶配向制御層７は、主として、垂直磁気
記録層２０の成膜時の結晶配向を制御するための膜であ
り、この結晶配向制御層７の存在によりこの上に形成さ
れる垂直磁気記録層２０の結晶配向は、適宜コントロー
ルされ、磁気特性の良好な垂直磁気記録層２０を形成さ
せることができる。
【００３２】垂直磁気記録層２０の下方で接する構成を
上記のごとく構成することにより、データトラック２２
の部分の垂直磁気記録層２０の記録特性と、ガードバン
ド部の部分の垂直磁気記録層２０の記録特性との差別化
を図ることができる。すなわち、本願発明によれば、結
晶配向制御層７が存在するデータトラック２２の箇所に
は、磁気特性の良好な垂直磁気記録層２０を成膜するこ
とができ、結晶配向制御層７が存在しない箇所には、そ
れ存在する箇所と比べて良好な垂直磁気記録層２０が成
膜されない。ガードバンド部に位置する垂直磁気記録層
２０は実質的に磁気記録に不要といえる膜であり、磁気
特性は悪いくらいのほうが望まれるといえる（非磁性に
近くなれば近くなるほど良い）。
上記のごとく構成することにより、データトラック２２
の部分の垂直磁気記録層２０の記録特性と、ガードバン
ド部の部分の垂直磁気記録層２０の記録特性との差別化
を図ることができる。すなわち、本願発明によれば、結
晶配向制御層７が存在するデータトラック２２の箇所に
は、磁気特性の良好な垂直磁気記録層２０を成膜するこ
とができ、結晶配向制御層７が存在しない箇所には、そ
れ存在する箇所と比べて良好な垂直磁気記録層２０が成
膜されない。ガードバンド部に位置する垂直磁気記録層
２０は実質的に磁気記録に不要といえる膜であり、磁気
特性は悪いくらいのほうが望まれるといえる（非磁性に
近くなれば近くなるほど良い）。
【００３３】結晶配向制御層７の材質は、その上に形成
される垂直磁気記録層２０との関係で適宜選定すればよ
い。一般に、結晶配向制御層７としては、Ｔｉ、Ｍｇ
Ｏ、Ｔａ、Ｐｔ等の材質を単層として用いたり、あるい
は、ＭｇＯの上にＴａを形成した複合層、ＭｇＯの上に
Ｐｔを形成した複合層などとして用いられる。結晶配向
制御層７の厚さは、５〜２０ｎｍ程度とされる。
される垂直磁気記録層２０との関係で適宜選定すればよ
い。一般に、結晶配向制御層７としては、Ｔｉ、Ｍｇ
Ｏ、Ｔａ、Ｐｔ等の材質を単層として用いたり、あるい
は、ＭｇＯの上にＴａを形成した複合層、ＭｇＯの上に
Ｐｔを形成した複合層などとして用いられる。結晶配向
制御層７の厚さは、５〜２０ｎｍ程度とされる。
【００３４】本発明における非磁性基板２としては、ア
ルミニウム、強化ガラス、結晶化ガラス、カーボンプラ
スチック等、通常この種の磁気記録媒体に使用されるも
のを用いれば良い。
ルミニウム、強化ガラス、結晶化ガラス、カーボンプラ
スチック等、通常この種の磁気記録媒体に使用されるも
のを用いれば良い。
【００３５】本発明における軟磁性裏打ち層１０として
は、ＮｉＦｅ，ＮｉＦｅＮｂ，ＮｉＦｅＭｏ，ＦｅＡｌ
Ｓｉ，ＦｅＴａＣ等が好適に用いられる。データトラッ
クにおける軟磁性裏打ち層１０の厚さは、０．１〜１０
μｍ程度とされる。この厚さが０．１μｍ未満となる
と、使用する単磁極ヘッドと、垂直磁気記録層２０、軟
磁性裏打ち層１０との間で磁束が閉ループを形成しにく
くなり、良好な再生出力を得ることができなくなってし
まう。また、１０μｍを超えると膜の内部応力が増大し
て、膜にクラックが発生し易くなる傾向が生じてしま
う。
は、ＮｉＦｅ，ＮｉＦｅＮｂ，ＮｉＦｅＭｏ，ＦｅＡｌ
Ｓｉ，ＦｅＴａＣ等が好適に用いられる。データトラッ
クにおける軟磁性裏打ち層１０の厚さは、０．１〜１０
μｍ程度とされる。この厚さが０．１μｍ未満となる
と、使用する単磁極ヘッドと、垂直磁気記録層２０、軟
磁性裏打ち層１０との間で磁束が閉ループを形成しにく
くなり、良好な再生出力を得ることができなくなってし
まう。また、１０μｍを超えると膜の内部応力が増大し
て、膜にクラックが発生し易くなる傾向が生じてしま
う。
【００３６】本発明における垂直磁気記録層２０として
は、ＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＰｔ，ＣｏＣｒＰ
ｔ，ＣｏＰｔＣｒＯ，ＴｂＦｅＣｏ等、通常この種の磁
気記録媒体の垂直磁気記録層に使用されるものであれば
いかなるものであっても良い。このような垂直磁気記録
層２０の厚さは、使用するヘッドや用いられる記録波長
等を考慮しつつ適宜選定すれば良い。通常は、１０〜１
００ｎｍ程度とされる。厚さが１０ｎｍ未満となると垂
直磁気記録層２０に信号が記録された際の残留磁化量が
非常に小さくなるために、信号の再生出力が著しく劣化
してしまう傾向が生じる。
は、ＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＰｔ，ＣｏＣｒＰ
ｔ，ＣｏＰｔＣｒＯ，ＴｂＦｅＣｏ等、通常この種の磁
気記録媒体の垂直磁気記録層に使用されるものであれば
いかなるものであっても良い。このような垂直磁気記録
層２０の厚さは、使用するヘッドや用いられる記録波長
等を考慮しつつ適宜選定すれば良い。通常は、１０〜１
００ｎｍ程度とされる。厚さが１０ｎｍ未満となると垂
直磁気記録層２０に信号が記録された際の残留磁化量が
非常に小さくなるために、信号の再生出力が著しく劣化
してしまう傾向が生じる。
【００３７】本発明の欠如凹部１０ａに充填される非磁
性材（非磁性層１５を構成する材料）としては、ＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、Ｃ等が好適に用いられる。
性材（非磁性層１５を構成する材料）としては、ＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、Ｃ等が好適に用いられる。
【００３８】また、垂直磁気記録層２０の上には、磁性
層を保護する目的でＣ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2等を主体とす
る保護膜を１〜１０ｎｍ程度の厚さに形成することが望
ましい。あまり厚く形成し過ぎるとすると、スペーシン
グロスの問題が生じる傾向にあり、また、あまりに薄く
形成し過ぎると、耐久性等の問題が生じる傾向にある。
さらにこの保護膜の上に公知の種々の有機潤滑剤を含有
させた潤滑膜を形成してもよい。
層を保護する目的でＣ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2等を主体とす
る保護膜を１〜１０ｎｍ程度の厚さに形成することが望
ましい。あまり厚く形成し過ぎるとすると、スペーシン
グロスの問題が生じる傾向にあり、また、あまりに薄く
形成し過ぎると、耐久性等の問題が生じる傾向にある。
さらにこの保護膜の上に公知の種々の有機潤滑剤を含有
させた潤滑膜を形成してもよい。
【００３９】本発明の磁気記録媒体の製造方法
本発明の磁気記録媒体の製造方法の好適な一例を図３
（Ａ）〜（Ｄ）、および図４（Ａ）〜（Ｈ）に基づいて
説明する。図３（Ａ）〜（Ｄ）は、製造方法の理解が容
易となるように製法の要部のみを簡潔かつ概略的に示し
たものであり、図４（Ａ）〜（Ｈ）は、さらに製造方法
を具体的に記載したものである。
（Ａ）〜（Ｄ）、および図４（Ａ）〜（Ｈ）に基づいて
説明する。図３（Ａ）〜（Ｄ）は、製造方法の理解が容
易となるように製法の要部のみを簡潔かつ概略的に示し
たものであり、図４（Ａ）〜（Ｈ）は、さらに製造方法
を具体的に記載したものである。
【００４０】すなわち、本発明の磁気記録媒体の製造方
法は、図３（Ａ）〜（Ｄ）に示されるように、非磁性基
板２の上に軟磁性裏打ち層１０および結晶配向制御層７
を設けた後に（図３（Ａ））、ディスクリート作用を発
揮させるための欠如凹部１０ａを形成し（図３
（Ｂ））、この欠如凹部１０ａに非磁性体を充填して非
磁性層１５を形成した後に平坦化処理が行われる（図３
（Ｃ））。しかる後、この上に垂直磁気記録層２０が成
膜され本発明の磁気記録媒体が製造される。
法は、図３（Ａ）〜（Ｄ）に示されるように、非磁性基
板２の上に軟磁性裏打ち層１０および結晶配向制御層７
を設けた後に（図３（Ａ））、ディスクリート作用を発
揮させるための欠如凹部１０ａを形成し（図３
（Ｂ））、この欠如凹部１０ａに非磁性体を充填して非
磁性層１５を形成した後に平坦化処理が行われる（図３
（Ｃ））。しかる後、この上に垂直磁気記録層２０が成
膜され本発明の磁気記録媒体が製造される。
【００４１】より詳細な製造方法の一例を図４（Ａ）〜
（Ｈ）に基づいて説明する。まず、最初に図４（Ａ）に
示されるように非磁性基板２の上に軟磁性裏打ち層１０
および結晶配向制御層７を順次スパッタ法等により成膜
する。
（Ｈ）に基づいて説明する。まず、最初に図４（Ａ）に
示されるように非磁性基板２の上に軟磁性裏打ち層１０
および結晶配向制御層７を順次スパッタ法等により成膜
する。
【００４２】次いで、図４（Ｂ）に示されるように結晶
配向制御層７の上にレジスト層５０を形成する。
配向制御層７の上にレジスト層５０を形成する。
【００４３】次いで、図４（Ｃ）に示されるようにトラ
ック間隙、サーボ信号等の凹凸形状が微細加工された成
形金型６０を準備して、このものを、レジスト層５０の
表面に加熱しつつ加圧してインプリント（imprint）す
る。成形金型６０を外す（remove）ことによって図４
（Ｄ）のインプリント形状（レジストパターン）が形成
される。なお、レジストパターンは、電子ビームリソグ
ラフィ等で形成してもよい。
ック間隙、サーボ信号等の凹凸形状が微細加工された成
形金型６０を準備して、このものを、レジスト層５０の
表面に加熱しつつ加圧してインプリント（imprint）す
る。成形金型６０を外す（remove）ことによって図４
（Ｄ）のインプリント形状（レジストパターン）が形成
される。なお、レジストパターンは、電子ビームリソグ
ラフィ等で形成してもよい。
【００４４】次いで、リアクティブイオンエッチング
（ＲＩＥ）等により、結晶配向制御層７および軟磁性裏
打ち層１０をレジストパターンに沿ってエッチングして
いき、図４（Ｅ）に示されるごとく複数の欠如凹部１０
ａを形成する。この時、結晶配向制御層７および軟磁性
裏打ち層１０のエッチング箇所において、深さ方向に一
部の軟磁性裏打ち層１０を残せば、前述した図２（Ａ）
に示される形態となり、また、深さ方向に実質的に全て
の軟磁性裏打ち層１０を除去すれば、前述の図２（Ｂ）
に示される形態となる。
（ＲＩＥ）等により、結晶配向制御層７および軟磁性裏
打ち層１０をレジストパターンに沿ってエッチングして
いき、図４（Ｅ）に示されるごとく複数の欠如凹部１０
ａを形成する。この時、結晶配向制御層７および軟磁性
裏打ち層１０のエッチング箇所において、深さ方向に一
部の軟磁性裏打ち層１０を残せば、前述した図２（Ａ）
に示される形態となり、また、深さ方向に実質的に全て
の軟磁性裏打ち層１０を除去すれば、前述の図２（Ｂ）
に示される形態となる。
【００４５】結晶配向制御層７の上の残余のレジスト
（図示していない）を除去した後、図４（Ｆ）に示され
るように非磁性材をスパッタ堆積させ、結晶配向制御層
７および軟磁性裏打ち層１０の欠如凹部１０ａに非磁性
層１５を形成させる。
（図示していない）を除去した後、図４（Ｆ）に示され
るように非磁性材をスパッタ堆積させ、結晶配向制御層
７および軟磁性裏打ち層１０の欠如凹部１０ａに非磁性
層１５を形成させる。
【００４６】次いで、ＣＭＰ（chemical mechanical po
lishing）等の手法で結晶配向制御層７および非磁性層
１５の平坦化処理（planarization）をすることによ
り、表面の平坦化が図られるとともに不要な非磁性層１
５（非磁性材）が除去され、図４（Ｇ）の状態に至る。
lishing）等の手法で結晶配向制御層７および非磁性層
１５の平坦化処理（planarization）をすることによ
り、表面の平坦化が図られるとともに不要な非磁性層１
５（非磁性材）が除去され、図４（Ｇ）の状態に至る。
【００４７】次いで、図４（Ｈ）に示されるように垂直
磁気記録層２０がスパッタ等で堆積形成される。
磁気記録層２０がスパッタ等で堆積形成される。
【００４８】
【実施例】以下に具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００４９】図４（Ａ）〜（Ｈ）に示される製造プロセ
スに準じて本発明の磁気記録媒体サンプルを作製した。
非磁性基板２として、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚
さ０．６３ｍｍのハードディスク用の結晶化ガラスを用
いた。軟磁性裏打ち層１０として、ＮｉＦｅパーマロイ
を用いて厚さ５００ｎｍにスパッタ成膜し、その上に結
晶配向制御層７としてＴｉを用いて、厚さ１０ｎｍにス
パッタ成膜した。欠如凹部１０ａの深さは２５０ｎｍと
した。欠如凹部１０ａに充填する非磁性材としてはＳｉ
Ｏ2を用いた。垂直磁気記録層２０として、ＣｏＣｒＰ
ｔを厚さ５０ｎｍにスパッタ成膜した。
スに準じて本発明の磁気記録媒体サンプルを作製した。
非磁性基板２として、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚
さ０．６３ｍｍのハードディスク用の結晶化ガラスを用
いた。軟磁性裏打ち層１０として、ＮｉＦｅパーマロイ
を用いて厚さ５００ｎｍにスパッタ成膜し、その上に結
晶配向制御層７としてＴｉを用いて、厚さ１０ｎｍにス
パッタ成膜した。欠如凹部１０ａの深さは２５０ｎｍと
した。欠如凹部１０ａに充填する非磁性材としてはＳｉ
Ｏ2を用いた。垂直磁気記録層２０として、ＣｏＣｒＰ
ｔを厚さ５０ｎｍにスパッタ成膜した。
【００５０】このようにして作製した本発明サンプルに
ついて実際に記録再生特性を評価したところ、データト
ラックとガードバンド部の記録特性の差別化を図ること
ができ、隣接するトラックへの書き込みの問題が解消で
き、良好な記録再生特性を得ることができると共に、よ
り高密度な記録に対応することができることが確認でき
た。
ついて実際に記録再生特性を評価したところ、データト
ラックとガードバンド部の記録特性の差別化を図ること
ができ、隣接するトラックへの書き込みの問題が解消で
き、良好な記録再生特性を得ることができると共に、よ
り高密度な記録に対応することができることが確認でき
た。
【００５１】さらに、本発明サンプルについて磁気特性
を実験的に確認したところ、本発明サンプルは、軟磁性
裏打ち層１０および結晶配向制御層７をエッチングして
ディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部を設
け、垂直磁気記録層２０には成膜後、エッチング処理を
施さないようにしているので、垂直磁気記録層２０の磁
気特性の劣化を防止することができることが確認でき
た。また、本発明のサンプルは、軟磁性裏打ち層１０お
よび結晶配向制御層７の欠如凹部１０ａのみに非磁性材
を埋め込み、ＣＭＰ等により平滑・平坦化処理を行って
から垂直磁気記録層を形成する構造を備えている。その
ため、従来技術のように例えば垂直磁気記録層に形成し
た欠如部に非磁性材を埋め込んでから平滑・平坦化を行
うことにより発生し得る垂直磁気記録層へのダメージを
回避することができ、この観点からも垂直磁気記録層２
０の磁気特性の劣化を防止することができることが確認
できた。
を実験的に確認したところ、本発明サンプルは、軟磁性
裏打ち層１０および結晶配向制御層７をエッチングして
ディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部を設
け、垂直磁気記録層２０には成膜後、エッチング処理を
施さないようにしているので、垂直磁気記録層２０の磁
気特性の劣化を防止することができることが確認でき
た。また、本発明のサンプルは、軟磁性裏打ち層１０お
よび結晶配向制御層７の欠如凹部１０ａのみに非磁性材
を埋め込み、ＣＭＰ等により平滑・平坦化処理を行って
から垂直磁気記録層を形成する構造を備えている。その
ため、従来技術のように例えば垂直磁気記録層に形成し
た欠如部に非磁性材を埋め込んでから平滑・平坦化を行
うことにより発生し得る垂直磁気記録層へのダメージを
回避することができ、この観点からも垂直磁気記録層２
０の磁気特性の劣化を防止することができることが確認
できた。
【００５２】さらに、本発明サンプルについて媒体表面
の平滑性（表面粗度）を実験的に確認したところ、本発
明サンプルは、従来技術の媒体構成より必然的に発生し
ていた垂直磁気記録層および非磁性層のディッシング等
による媒体表面の凹凸を無くすことができる。そのた
め、本発明では、ダイアモンドライクカーボン等の保護
膜層およびパーフルオロポリエーテル等の潤滑膜層を極
めて均一に形成できることが確認できた。
の平滑性（表面粗度）を実験的に確認したところ、本発
明サンプルは、従来技術の媒体構成より必然的に発生し
ていた垂直磁気記録層および非磁性層のディッシング等
による媒体表面の凹凸を無くすことができる。そのた
め、本発明では、ダイアモンドライクカーボン等の保護
膜層およびパーフルオロポリエーテル等の潤滑膜層を極
めて均一に形成できることが確認できた。
【００５３】
【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は、非磁性基板上に、軟磁性裏
打ち層と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備え
る磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、
記録再生が行われるデータトラックとデータトラックの
間に位置する領域、またはサーボ信号が記録される領域
にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部を有
するとともに、その凹部には非磁性材が充填されて非磁
性層が形成されており、前記結晶配向制御層は、軟磁性
裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存在す
るように形成されており、前記垂直磁気記録層は、少な
くとも基板の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、
意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面膜として
構成されているので、製造時の磁気記録層の磁気特性の
劣化を回避することができるとともに隣接するトラック
への書き込みの問題をより確実に解消でき、さらに良好
な記録再生特性を得ることができ、より高密度な記録に
対応することができる。
ある。すなわち、本発明は、非磁性基板上に、軟磁性裏
打ち層と、結晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備え
る磁気記録媒体であって、該媒体の軟磁性裏打ち層は、
記録再生が行われるデータトラックとデータトラックの
間に位置する領域、またはサーボ信号が記録される領域
にディスクリート作用を発揮させるための欠如凹部を有
するとともに、その凹部には非磁性材が充填されて非磁
性層が形成されており、前記結晶配向制御層は、軟磁性
裏打ち層の欠如凹部が存在しない箇所の上にのみ存在す
るように形成されており、前記垂直磁気記録層は、少な
くとも基板の鉛直方向に磁気異方性を有するとともに、
意図的に形成された欠如凹部が存在しない平面膜として
構成されているので、製造時の磁気記録層の磁気特性の
劣化を回避することができるとともに隣接するトラック
への書き込みの問題をより確実に解消でき、さらに良好
な記録再生特性を得ることができ、より高密度な記録に
対応することができる。
【図１】図１（Ａ）は本発明のディスク状の磁気記録媒
体の全体形状を表す概略平面図であり、図１（Ｂ）は図
１（Ａ）の四角で囲まれた微小部分の部分拡大概略図で
ある。
体の全体形状を表す概略平面図であり、図１（Ｂ）は図
１（Ａ）の四角で囲まれた微小部分の部分拡大概略図で
ある。
【図２】図２（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ、本発明
の磁気記録媒体の好適な実施の形態を概念的に示す断面
図である。
の磁気記録媒体の好適な実施の形態を概念的に示す断面
図である。
【図３】図３（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の磁気記録媒体
の好適な製造プロセスの一例を簡潔に説明するための概
略断面図である。
の好適な製造プロセスの一例を簡潔に説明するための概
略断面図である。
【図４】図４（Ａ）〜（Ｈ）は、本発明の磁気記録媒体
の好適な製造プロセスの一例を経時的に説明するための
概略断面図である。
の好適な製造プロセスの一例を経時的に説明するための
概略断面図である。
１…磁気記録媒体
２…非磁性基板
７…結晶配向制御層
１０…軟磁性裏打ち層
１０ａ…欠如凹部
１５…非磁性層
２０…垂直磁気記録層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 藤田 実
東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ
ーディーケイ株式会社内
(72)発明者 江▲崎▼ 城一朗
東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ
ーディーケイ株式会社内
Ｆターム(参考） 5D006 BB02 BB06 BB08 DA03 DA08
EA03 FA09
5D112 AA04 AA05 AA18 AA24 BA05
FA04 GA14
Claims (6)
- 【請求項１】 非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層と、結
晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備える磁気記録媒
体であって、 該媒体の軟磁性裏打ち層は、記録再生が行われるデータ
トラックとデータトラックの間に位置する領域、または
サーボ信号が記録される領域にディスクリート作用を発
揮させるための欠如凹部を有するとともに、その凹部に
は非磁性材が充填されて非磁性層が形成されており、 前記結晶配向制御層は、軟磁性裏打ち層の欠如凹部が存
在しない箇所の上にのみ存在するように形成されてお
り、 前記垂直磁気記録層は、少なくとも基板の鉛直方向に磁
気異方性を有するとともに、意図的に形成された欠如凹
部が存在しない平面膜であることを特徴とする磁気記録
媒体。 - 【請求項２】 前記欠如凹部は、それが形成される場所
において、軟磁性裏打ち層の厚さ方向の一部を欠如させ
るように形成されている請求項１に記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項３】 前記欠如凹部は、それが形成される場所
において、軟磁性裏打ち層の厚さ方向の実質的全部を欠
如させるように形成されている請求項１に記載の磁気記
録媒体。 - 【請求項４】 前記非磁性層および結晶配向制御層の上
部の平面部は、実質的に同一平面を形成する請求項１な
いし請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層と、結
晶配向制御層と、垂直磁気記録層とを備える磁気記録媒
体であって、 該媒体の軟磁性裏打ち層は、記録再生が行われるデータ
トラックとデータトラックの間に位置する領域、および
サーボ信号が記録される領域にディスクリート作用を発
揮させるための欠如凹部を有するとともに、その凹部に
は非磁性材が充填されて非磁性層が形成されており、 前記結晶配向制御層は、軟磁性裏打ち層の欠如凹部が存
在しない箇所の上にのみ存在するように形成されてお
り、 前記垂直磁気記録層は、少なくとも基板の鉛直方向に磁
気異方性を有するとともに、意図的に形成された欠如凹
部が存在しない平面膜であることを特徴とする磁気記録
媒体。 - 【請求項６】 基板上に軟磁性裏打ち層および結晶配向
制御層を順次形成した後に、ディスクリート作用を発揮
させるための欠如凹部を形成し、この欠如凹部に非磁性
体を充填した後に平坦化処理を行い、しかる後、垂直磁
気記録層を形成してなる磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001200381A JP3934889B2 (ja) | 2001-07-02 | 2001-07-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001200381A JP3934889B2 (ja) | 2001-07-02 | 2001-07-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003016622A true JP2003016622A (ja) | 2003-01-17 |
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ID=19037515
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|---|---|---|---|
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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- 2001-07-02 JP JP2001200381A patent/JP3934889B2/ja not_active Expired - Fee Related
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