JP3495674B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
し、さらに詳細には、例えば磁気ディスク装置（ＨＤ
Ｄ：ハードディスクドライブ）等の磁気記録再生装置に
用いられる磁気記録媒体に関し、特に高い記録密度を有
する磁気記録媒体の構造に関する。
し、さらに詳細には、例えば磁気ディスク装置（ＨＤ
Ｄ：ハードディスクドライブ）等の磁気記録再生装置に
用いられる磁気記録媒体に関し、特に高い記録密度を有
する磁気記録媒体の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】大容量記憶装置、特にハードディスクド
ライブ装置は、高データ転送速度、高速アクセス、高信
頼性、低価格等の点から大容量化、高密度化が著しく進
展している。面記録密度の向上は、磁気記録層中に形成
する記録磁区の微小化によって達成され、現在１平方イ
ンチ当たり５ギガビットを超え、１０ギガビットから１
００ギガビットを目指した開発が進んでいる。
ライブ装置は、高データ転送速度、高速アクセス、高信
頼性、低価格等の点から大容量化、高密度化が著しく進
展している。面記録密度の向上は、磁気記録層中に形成
する記録磁区の微小化によって達成され、現在１平方イ
ンチ当たり５ギガビットを超え、１０ギガビットから１
００ギガビットを目指した開発が進んでいる。
【０００３】記録再生を行う磁気ヘッドとしては、イン
ダクティブヘッドを記録ヘッドとし、磁気抵抗効果型ヘ
ッド（ＭＲヘッド）を再生ヘッドとして組み合わせた複
合型磁気ヘッドが用いられている。ＭＲヘッドは、周方
向における単位長さでの磁束変化によって出力が決まる
ため、原理的にはトラック幅をいくら狭くしても出力が
減少しない。そのためＭＲヘッドを使用することによ
り、狭トラック化が見込める。さらに高記録密度が見込
める巨大磁気抵抗効果型ヘッド（ＧＭＲヘッド）につい
ても、同様のことがいえる。
ダクティブヘッドを記録ヘッドとし、磁気抵抗効果型ヘ
ッド（ＭＲヘッド）を再生ヘッドとして組み合わせた複
合型磁気ヘッドが用いられている。ＭＲヘッドは、周方
向における単位長さでの磁束変化によって出力が決まる
ため、原理的にはトラック幅をいくら狭くしても出力が
減少しない。そのためＭＲヘッドを使用することによ
り、狭トラック化が見込める。さらに高記録密度が見込
める巨大磁気抵抗効果型ヘッド（ＧＭＲヘッド）につい
ても、同様のことがいえる。
【０００４】しかし、トラック幅があまりに狭くなる
と、隣接する記録トラックの磁気信号による干渉（クロ
ストーク）が大きくなるので、再生信号の劣化が問題と
なる。
と、隣接する記録トラックの磁気信号による干渉（クロ
ストーク）が大きくなるので、再生信号の劣化が問題と
なる。
【０００５】また、記録ビット長の短縮によっても面記
録密度を向上できるが、記録ビット長を短くしすぎる
と、隣接ビット間における磁気信号の干渉（パーシャル
イレージャ）が大きくなり、再生信号の劣化が問題とな
る。
録密度を向上できるが、記録ビット長を短くしすぎる
と、隣接ビット間における磁気信号の干渉（パーシャル
イレージャ）が大きくなり、再生信号の劣化が問題とな
る。
【０００６】特開平９−２９７９１８号公報には、トラ
ック幅と最短ビット規定長とを２辺の長さとする矩形領
域からなる記録部を複数設け、この複数の記録部が隙間
部により互いに分離して配置されており、記録部で情報
の蓄積を行う磁気記録媒体が記載されている。この媒体
は、いわゆるパターンド媒体である。パターンド媒体で
は、クロストークやパーシャルイレージャによる再生信
号の劣化を低減できる。
ック幅と最短ビット規定長とを２辺の長さとする矩形領
域からなる記録部を複数設け、この複数の記録部が隙間
部により互いに分離して配置されており、記録部で情報
の蓄積を行う磁気記録媒体が記載されている。この媒体
は、いわゆるパターンド媒体である。パターンド媒体で
は、クロストークやパーシャルイレージャによる再生信
号の劣化を低減できる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、高記録密度
達成のためには、磁気ヘッドを搭載したスライダの浮上
量の低減も必須である。しかし、スライダの浮上量を低
減すると、外乱によってスライダが磁気記録媒体に接触
する頻度が高くなる。スライダが接触すると、磁気記録
層に傷がついて記録情報が破壊されることがある。しか
し、パターンド媒体において、スライダと媒体との接触
によって生じる記録情報破壊を回避する有効な手段は、
従来提案されていない。
達成のためには、磁気ヘッドを搭載したスライダの浮上
量の低減も必須である。しかし、スライダの浮上量を低
減すると、外乱によってスライダが磁気記録媒体に接触
する頻度が高くなる。スライダが接触すると、磁気記録
層に傷がついて記録情報が破壊されることがある。しか
し、パターンド媒体において、スライダと媒体との接触
によって生じる記録情報破壊を回避する有効な手段は、
従来提案されていない。
【０００８】本発明の目的は、非磁性体からなる非記録
部を挟んで、磁性体からなる単位微小記録部が配列して
なる記録トラックを有する、いわゆるパターンド媒体に
おいて、磁気ヘッドのスライダの媒体への接触によって
生じる記録情報の破壊を防ぐことにある。
部を挟んで、磁性体からなる単位微小記録部が配列して
なる記録トラックを有する、いわゆるパターンド媒体に
おいて、磁気ヘッドのスライダの媒体への接触によって
生じる記録情報の破壊を防ぐことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（５）の本発明により達成される。 （１） 非磁性体からなる非記録部を挟んで、磁性体か
らなる単位微小記録部が配列してなる記録トラックを有
し、各単位微小記録部が単磁区であり、単位微小記録部
の表面高さが非記録部の表面高さよりも低い磁気記録媒
体。 （２） 単位微小記録部の表面高さが非記録部の表面高
さよりも５〜３０nm低い上記（１）の磁気記録媒体。 （３） 単位微小記録部がＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−ＴａおよびＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔのいずれか一種で構成
されている上記（１）または（２）の磁気記録媒体。 （４） 単位微小記録部が長径０．１〜１．０μm 、短
径０．０５〜０．５μm である上記（１）〜（３）のい
ずれかの磁気記録媒体。 （５） 上記（１）〜（４）の磁気記録媒体を製造する
方法であって、基板上に非磁性体を形成し、この上にフ
ォトレジスト層を形成し、フォトリソグラフィーによる
凹部を形成し、その後磁性体を付着し、次いでフォトレ
ジスト層をエッチング除去する磁気記録媒体の製造方
法。
（１）〜（５）の本発明により達成される。 （１） 非磁性体からなる非記録部を挟んで、磁性体か
らなる単位微小記録部が配列してなる記録トラックを有
し、各単位微小記録部が単磁区であり、単位微小記録部
の表面高さが非記録部の表面高さよりも低い磁気記録媒
体。 （２） 単位微小記録部の表面高さが非記録部の表面高
さよりも５〜３０nm低い上記（１）の磁気記録媒体。 （３） 単位微小記録部がＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−ＴａおよびＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔのいずれか一種で構成
されている上記（１）または（２）の磁気記録媒体。 （４） 単位微小記録部が長径０．１〜１．０μm 、短
径０．０５〜０．５μm である上記（１）〜（３）のい
ずれかの磁気記録媒体。 （５） 上記（１）〜（４）の磁気記録媒体を製造する
方法であって、基板上に非磁性体を形成し、この上にフ
ォトレジスト層を形成し、フォトリソグラフィーによる
凹部を形成し、その後磁性体を付着し、次いでフォトレ
ジスト層をエッチング除去する磁気記録媒体の製造方
法。
【００１０】
【作用および効果】本発明の磁気記録媒体では、上記し
たように、単位微小記録部の表面高さが、非記録部の表
面高さより低く設定されている。そのため、磁気記録再
生の動作中にスライダが媒体の表面に接触しても、単位
微小記録部には接触しない。したがって、記録密度向上
のためにスライダの浮上量を低減しても、記録情報が破
壊されることがない。
たように、単位微小記録部の表面高さが、非記録部の表
面高さより低く設定されている。そのため、磁気記録再
生の動作中にスライダが媒体の表面に接触しても、単位
微小記録部には接触しない。したがって、記録密度向上
のためにスライダの浮上量を低減しても、記録情報が破
壊されることがない。
【００１１】また、従来、媒体表面へのスライダの吸着
を防止するため、基板表面に凹凸を設け、その上に磁気
記録層を形成することにより媒体表面に凹凸を形成する
ことが行われていた。これに対し本発明の媒体では、表
面高さの相異なる単位微小記録部と非記録部とにより凹
凸が形成されるので、吸着防止のための特別な構造を設
ける必要がない。
を防止するため、基板表面に凹凸を設け、その上に磁気
記録層を形成することにより媒体表面に凹凸を形成する
ことが行われていた。これに対し本発明の媒体では、表
面高さの相異なる単位微小記録部と非記録部とにより凹
凸が形成されるので、吸着防止のための特別な構造を設
ける必要がない。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明は、主として磁気ディスク
媒体に適用される。図１に、本発明の磁気ディスク媒体
の構成例を、斜視図として示す。
媒体に適用される。図１に、本発明の磁気ディスク媒体
の構成例を、斜視図として示す。
【００１３】図１に示す磁気ディスク媒体１０は、ディ
スク状の基板１２上に、同心円状またはスパイラル状
に、周方向および半径方向に間隔をおいて配置された多
数の単位微小記録部１４と、隣り合う単位微小記録部１
４間を埋める非記録部１６とを有する。単位微小記録部
１４は、情報を磁気的に記録する磁性体から構成され、
非記録部１６は、非磁性材料から構成される。各単位微
小記録部１４は、それぞれほぼ完全に磁気的に孤立した
状態となるので、隣り合う単位微小記録部間におけるク
ロストークやパーシャルイレイジャを防ぐことができ
る。
スク状の基板１２上に、同心円状またはスパイラル状
に、周方向および半径方向に間隔をおいて配置された多
数の単位微小記録部１４と、隣り合う単位微小記録部１
４間を埋める非記録部１６とを有する。単位微小記録部
１４は、情報を磁気的に記録する磁性体から構成され、
非記録部１６は、非磁性材料から構成される。各単位微
小記録部１４は、それぞれほぼ完全に磁気的に孤立した
状態となるので、隣り合う単位微小記録部間におけるク
ロストークやパーシャルイレイジャを防ぐことができ
る。
【００１４】本発明では、単位微小記録部１４の表面高
さが、非記録部１６の表面高さより低く設定されてい
る。すなわち、単位微小記録部１４表面が非記録部１６
表面に対し凹んでいる。そのため本発明の媒体では、媒
体表面にスライダが接触しても、単位微小記録部１４に
記録されている情報が破壊されることはない。また本発
明の媒体では、媒体表面に微小な凹凸が存在することに
なるため、媒体表面に対するスライダの吸着を防ぐこと
ができる。
さが、非記録部１６の表面高さより低く設定されてい
る。すなわち、単位微小記録部１４表面が非記録部１６
表面に対し凹んでいる。そのため本発明の媒体では、媒
体表面にスライダが接触しても、単位微小記録部１４に
記録されている情報が破壊されることはない。また本発
明の媒体では、媒体表面に微小な凹凸が存在することに
なるため、媒体表面に対するスライダの吸着を防ぐこと
ができる。
【００１５】非記録部１６表面に対する単位微小記録部
１４表面の凹み量、すなわち、両者の表面高さの差は、
好ましくは５〜３０nm、より好ましくは５〜２０nmであ
る。凹み量が小さすぎると本発明の効果が不十分とな
り、凹み量が大きすぎると、十分な再生出力を得ること
が難しくなる。
１４表面の凹み量、すなわち、両者の表面高さの差は、
好ましくは５〜３０nm、より好ましくは５〜２０nmであ
る。凹み量が小さすぎると本発明の効果が不十分とな
り、凹み量が大きすぎると、十分な再生出力を得ること
が難しくなる。
【００１６】各単位微小記録部１４は、単磁区構造とす
る。単磁区構造とすれば、単位微小記録部を構成する結
晶粒径を大きくすることができるので、熱擾乱による磁
化の劣化を抑えることができる。また、単磁区構造とす
れば、磁化のスイッチング速度を高速化することができ
る。
る。単磁区構造とすれば、単位微小記録部を構成する結
晶粒径を大きくすることができるので、熱擾乱による磁
化の劣化を抑えることができる。また、単磁区構造とす
れば、磁化のスイッチング速度を高速化することができ
る。
【００１７】単位微小記録部１４の形状は特に限定され
ないが、長軸と短軸とを有する形状であることが好まし
い。具体的には、図１に示すような直方体状のほか、例
えば回転楕円体をほぼ半分に切断した形状であってもよ
い。ビット密度を高くし、かつ、十分な出力を得るため
には、単位微小記録部１４を、長軸および短軸を有する
形状とした上で、長軸がトラック幅方向（ディスク半径
方向）に平行で、短軸がトラック長さ方向（ディスク円
周方向）に平行となるように配置することが好ましい。
ないが、長軸と短軸とを有する形状であることが好まし
い。具体的には、図１に示すような直方体状のほか、例
えば回転楕円体をほぼ半分に切断した形状であってもよ
い。ビット密度を高くし、かつ、十分な出力を得るため
には、単位微小記録部１４を、長軸および短軸を有する
形状とした上で、長軸がトラック幅方向（ディスク半径
方向）に平行で、短軸がトラック長さ方向（ディスク円
周方向）に平行となるように配置することが好ましい。
【００１８】単位微小記録部１４の寸法は特に限定され
ないが、通常、長軸の長さは０．１〜１．０μm、短軸
の長さは０．０５〜０．５μm、厚さは１０〜１００nm
程度とすることが好ましい。
ないが、通常、長軸の長さは０．１〜１．０μm、短軸
の長さは０．０５〜０．５μm、厚さは１０〜１００nm
程度とすることが好ましい。
【００１９】単位微小記録部１４を構成する磁性材料は
特に限定されないが、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅまたはこれらの
少なくとも１種を含有する合金であることが好ましく、
特に、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−ＴａまたはＣｏ
−Ｃｒ−Ｔｉが好ましい。なお、本発明は、面内磁化媒
体にも垂直磁化媒体にも適用可能である。
特に限定されないが、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅまたはこれらの
少なくとも１種を含有する合金であることが好ましく、
特に、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−ＴａまたはＣｏ
−Ｃｒ−Ｔｉが好ましい。なお、本発明は、面内磁化媒
体にも垂直磁化媒体にも適用可能である。
【００２０】本発明の磁気記録媒体では、図３および図
４に示すように、基板１２と単位微小記録部１４との間
に、単位微小記録部１４に接して配向制御用の下地層１
８が形成されていてもよい。下地層１８の組成は、単位
微小記録部１４構成材料に応じ、所望の配向が得られる
ように適宜決定すればよい。例えば、単位微小記録部１
４を上記したＣｏ−Ｃｒ系磁性材料から構成し、かつ、
面内磁化媒体とする場合、下地層１８はＴｉ、Ｒｕ、Ｇ
ｅ、ＺｒおよびＣｒのいずれか一種で構成することが好
ましい。また、本発明を垂直磁化媒体に適用する場合に
は、通常、基板１２と単位微小記録部１４との間に軟磁
性下地膜が設けられる。
４に示すように、基板１２と単位微小記録部１４との間
に、単位微小記録部１４に接して配向制御用の下地層１
８が形成されていてもよい。下地層１８の組成は、単位
微小記録部１４構成材料に応じ、所望の配向が得られる
ように適宜決定すればよい。例えば、単位微小記録部１
４を上記したＣｏ−Ｃｒ系磁性材料から構成し、かつ、
面内磁化媒体とする場合、下地層１８はＴｉ、Ｒｕ、Ｇ
ｅ、ＺｒおよびＣｒのいずれか一種で構成することが好
ましい。また、本発明を垂直磁化媒体に適用する場合に
は、通常、基板１２と単位微小記録部１４との間に軟磁
性下地膜が設けられる。
【００２１】また、磁気ヘッドとの接触から媒体表面を
保護するため、従来の媒体と同様に、表面に保護層や潤
滑層を設けてもよい。保護層は例えばＣやＳｉＯ2等か
ら構成すればよく、スパッタリング法等で形成すればよ
い。潤滑層は公知の潤滑剤から構成すればよく、スピン
コート法等により形成すればよい。
保護するため、従来の媒体と同様に、表面に保護層や潤
滑層を設けてもよい。保護層は例えばＣやＳｉＯ2等か
ら構成すればよく、スパッタリング法等で形成すればよ
い。潤滑層は公知の潤滑剤から構成すればよく、スピン
コート法等により形成すればよい。
【００２２】非記録部１６を構成する非磁性材料として
は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の酸化物、Ｓｉ
3Ｎ4、ＡｌＮ、ＴｉＮ等の窒化物、ＴｉＣ等の炭化物、
ＢＮ等の硼化物、およびＣ系、ＣＨ系、ＣＦ系のうちい
ずれかの重合化合物等が用いられる。
は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の酸化物、Ｓｉ
3Ｎ4、ＡｌＮ、ＴｉＮ等の窒化物、ＴｉＣ等の炭化物、
ＢＮ等の硼化物、およびＣ系、ＣＨ系、ＣＦ系のうちい
ずれかの重合化合物等が用いられる。
【００２３】基板１２は、アルミ合金、ガラス、シリコ
ン等の通常の磁気ディスク基板材料から構成すればよ
い。基板１２の厚さは、通常、５００〜１０００μm程
度とすればよい。
ン等の通常の磁気ディスク基板材料から構成すればよ
い。基板１２の厚さは、通常、５００〜１０００μm程
度とすればよい。
【００２４】次に、図５を参照して、本発明の磁気記録
媒体を製造する方法の一例について説明する。
媒体を製造する方法の一例について説明する。
【００２５】この方法では、まず、図５（ａ）に示すよ
うに、基板１２上にフォトレジスト層１００を塗布形成
する。
うに、基板１２上にフォトレジスト層１００を塗布形成
する。
【００２６】次に、フォトレジスト層１００をフォトリ
ソグラフィーによりパターニングし、図５（ｂ）に示す
形状とする。このパターニングにより形成される凹部で
は、完全にフォトレジストが除去され、基板１２表面が
露出している。この凹部内には、最終的に非記録部１６
が形成される。上記フォトリソグラフィーに際しては、
例えばマスクを使った露光、照射位置を制御できるレー
ザー光を使った露光、または電子ビーム装置を使った露
光が利用できる。
ソグラフィーによりパターニングし、図５（ｂ）に示す
形状とする。このパターニングにより形成される凹部で
は、完全にフォトレジストが除去され、基板１２表面が
露出している。この凹部内には、最終的に非記録部１６
が形成される。上記フォトリソグラフィーに際しては、
例えばマスクを使った露光、照射位置を制御できるレー
ザー光を使った露光、または電子ビーム装置を使った露
光が利用できる。
【００２７】次に、図５（ｃ）に示すように、フォトレ
ジスト層１００上および基板１２の露出した表面に、非
磁性物質１０６をスパッタリング等により付着させる。
このとき、図示するように、非磁性物質１０６の付着厚
さをフォトレジスト層１００の厚さよりも薄くすること
が好ましい。これにより、フォトレジスト層１００の除
去が容易となる。
ジスト層１００上および基板１２の露出した表面に、非
磁性物質１０６をスパッタリング等により付着させる。
このとき、図示するように、非磁性物質１０６の付着厚
さをフォトレジスト層１００の厚さよりも薄くすること
が好ましい。これにより、フォトレジスト層１００の除
去が容易となる。
【００２８】次に、フォトレジスト層１００をレジスト
除去液により除去することにより、その上に付着してい
た非磁性物質１０６も同時に除去する。これにより、図
５（ｄ）に示すように、基板１２表面に付着している非
磁性物質１０６だけが残存することになる。なお、レジ
スト除去液には、例えばアセトン、ＭＥＫ等を用いるこ
とができる。
除去液により除去することにより、その上に付着してい
た非磁性物質１０６も同時に除去する。これにより、図
５（ｄ）に示すように、基板１２表面に付着している非
磁性物質１０６だけが残存することになる。なお、レジ
スト除去液には、例えばアセトン、ＭＥＫ等を用いるこ
とができる。
【００２９】次に、非磁性物質１０６上および基板１２
の露出した表面に、磁性物質１０４をスパッタリング等
により付着させ、図５（ｅ）に示す状態とする。続い
て、非磁性物質１０６上に付着している磁性物質１０４
を化学的機械的研磨により除去する。これにより、図５
（ｆ）に示すように、単位微小記録部１４の表面高さが
非記録部１６の表面高さより低い磁気ディスク媒体１０
が得られる。なお、図５（ｅ）における磁性物質１０４
の付着厚さは、化学的機械的研磨の終了後に、単位微小
記録部１４の表面高さと非記録部１６の表面高さとの差
が所望の値となるように設定する。
の露出した表面に、磁性物質１０４をスパッタリング等
により付着させ、図５（ｅ）に示す状態とする。続い
て、非磁性物質１０６上に付着している磁性物質１０４
を化学的機械的研磨により除去する。これにより、図５
（ｆ）に示すように、単位微小記録部１４の表面高さが
非記録部１６の表面高さより低い磁気ディスク媒体１０
が得られる。なお、図５（ｅ）における磁性物質１０４
の付着厚さは、化学的機械的研磨の終了後に、単位微小
記録部１４の表面高さと非記録部１６の表面高さとの差
が所望の値となるように設定する。
【００３０】次に、図６を参照して、本発明の磁気記録
媒体を製造する方法の他の例について説明する。
媒体を製造する方法の他の例について説明する。
【００３１】この方法では、まず、図６（ａ）に示すよ
うに、基板１２上に非磁性物質１０６をスパッタリング
等により付着させ、次いで、その上にフォトレジスト層
１００を塗布形成する。
うに、基板１２上に非磁性物質１０６をスパッタリング
等により付着させ、次いで、その上にフォトレジスト層
１００を塗布形成する。
【００３２】次に、フォトレジスト層１００をフォトリ
ソグラフィーによりパターニングし、図６（ｂ）に示す
形状とする。このパターニングにより形成される凹部で
は、完全にフォトレジストが除去され、非磁性物質１０
６表面が露出している。
ソグラフィーによりパターニングし、図６（ｂ）に示す
形状とする。このパターニングにより形成される凹部で
は、完全にフォトレジストが除去され、非磁性物質１０
６表面が露出している。
【００３３】次に、フォトレジスト層１００をエッチン
グマスクとして、ＲＩＥ（ReactiveIon Etching）等に
より非磁性物質１０６をエッチングする。このとき、図
６（ｃ）に示すように、非磁性物質１０６のエッチング
はその高さ方向の一部だけにとどめてもよく、基板１２
表面が露出するまでエッチングしてもよい。
グマスクとして、ＲＩＥ（ReactiveIon Etching）等に
より非磁性物質１０６をエッチングする。このとき、図
６（ｃ）に示すように、非磁性物質１０６のエッチング
はその高さ方向の一部だけにとどめてもよく、基板１２
表面が露出するまでエッチングしてもよい。
【００３４】次に、非磁性物質１０６の露出した表面お
よびフォトレジスト層１００上に磁性物質１０４をスパ
ッタリング等により付着させ、図６（ｄ）に示す状態と
する。続いて、フォトレジスト層１００をレジスト除去
液により除去することにより、その上に付着していた磁
性物質１０４も同時に除去する。これにより、図６
（ｅ）に示すように、単位微小記録部１４の表面高さが
非記録部１６の表面高さより低い磁気ディスク媒体１０
が得られる。なお、図６（ｄ）における磁性物質１０４
の付着厚さは、単位微小記録部１４の表面高さと非記録
部１６の表面高さとの差が所望の値となるように設定す
る。
よびフォトレジスト層１００上に磁性物質１０４をスパ
ッタリング等により付着させ、図６（ｄ）に示す状態と
する。続いて、フォトレジスト層１００をレジスト除去
液により除去することにより、その上に付着していた磁
性物質１０４も同時に除去する。これにより、図６
（ｅ）に示すように、単位微小記録部１４の表面高さが
非記録部１６の表面高さより低い磁気ディスク媒体１０
が得られる。なお、図６（ｄ）における磁性物質１０４
の付着厚さは、単位微小記録部１４の表面高さと非記録
部１６の表面高さとの差が所望の値となるように設定す
る。
【００３５】
【実施例】縦１．２３５mm、横１．０mm、高さ０．３mm
のアルチック（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）製３０％スライダ
（重さ１．５mg）に、記録ヘッドと再生ヘッドとを搭載
して、複合型磁気ヘッドを作製した。記録ヘッドには、
磁極幅０．１μm、ギャップ長０．２μmのインダクティ
ブヘッドを用い、再生ヘッドにはＭＲヘッドを用いた。
のアルチック（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）製３０％スライダ
（重さ１．５mg）に、記録ヘッドと再生ヘッドとを搭載
して、複合型磁気ヘッドを作製した。記録ヘッドには、
磁極幅０．１μm、ギャップ長０．２μmのインダクティ
ブヘッドを用い、再生ヘッドにはＭＲヘッドを用いた。
【００３６】磁気ディスク媒体は、図５に工程の流れを
示す方法により作製した。単位微小記録部１４は直方体
とし、その寸法は、記録トラック幅方向において０．２
μm、記録トラック長さ方向において０．１μm、厚さ２
０nmとした。また、隣り合う単位微小記録部１４の間隔
（非記録部１６の寸法）は、記録トラック幅方向におい
て０．１６μm、記録トラック長さ方向において０．０
８μmとし、非記録部１６の厚さは４０nmとした。した
がって、非記録部１６表面に対する単位微小記録部１４
表面の凹み量は、２０nmである。また、トラックピッチ
は０．３６μm（７０kTPI）、ビットピッチは０．１８
μm（１４１kBPI）である。この記録密度は１０Gb/in2
に相当する。
示す方法により作製した。単位微小記録部１４は直方体
とし、その寸法は、記録トラック幅方向において０．２
μm、記録トラック長さ方向において０．１μm、厚さ２
０nmとした。また、隣り合う単位微小記録部１４の間隔
（非記録部１６の寸法）は、記録トラック幅方向におい
て０．１６μm、記録トラック長さ方向において０．０
８μmとし、非記録部１６の厚さは４０nmとした。した
がって、非記録部１６表面に対する単位微小記録部１４
表面の凹み量は、２０nmである。また、トラックピッチ
は０．３６μm（７０kTPI）、ビットピッチは０．１８
μm（１４１kBPI）である。この記録密度は１０Gb/in2
に相当する。
【００３７】なお、単位微小記録部１４は、Ｃｏからな
る単磁区構造体であり、その保磁力（Ｈｃ）は７５０Oe
であり、その磁化容易軸は記録トラック長さ方向を向い
ていた。また、非記録部１６は炭素から構成した。
る単磁区構造体であり、その保磁力（Ｈｃ）は７５０Oe
であり、その磁化容易軸は記録トラック長さ方向を向い
ていた。また、非記録部１６は炭素から構成した。
【００３８】この磁気ディスク媒体に対し、上記複合型
磁気ヘッドにより記録を行った。磁気ディスク媒体の回
転速度は１０，０００rpmとし、スライダの浮上量は２
５nmとした。記録後、磁気ディスク媒体の磁化状態をＭ
ＦＭ（磁気力顕微鏡）により観察したところ、単位微小
記録部が記録信号に応じて磁化されていることが確認で
きた。
磁気ヘッドにより記録を行った。磁気ディスク媒体の回
転速度は１０，０００rpmとし、スライダの浮上量は２
５nmとした。記録後、磁気ディスク媒体の磁化状態をＭ
ＦＭ（磁気力顕微鏡）により観察したところ、単位微小
記録部が記録信号に応じて磁化されていることが確認で
きた。
【００３９】次に、媒体回転速度および磁気ヘッド浮上
量を上記値として、ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ア
ンド・ストップ）を５万回繰り返した。その結果、磁気
ディスク媒体へのスライダの吸着による記録情報の破壊
は認められなかった。
量を上記値として、ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ア
ンド・ストップ）を５万回繰り返した。その結果、磁気
ディスク媒体へのスライダの吸着による記録情報の破壊
は認められなかった。
【００４０】一方、単位微小記録部１４と非記録部１６
とをいずれも２０nmの厚さとして、両者の表面高さを同
じとしたほかは上記磁気ディスク媒体と同様にして比較
用媒体を作製した。なお、この比較用媒体においては、
その表面へのスライダの吸着を防止するため、従来から
行われているテクスチャ処理を基板表面に施した。
とをいずれも２０nmの厚さとして、両者の表面高さを同
じとしたほかは上記磁気ディスク媒体と同様にして比較
用媒体を作製した。なお、この比較用媒体においては、
その表面へのスライダの吸着を防止するため、従来から
行われているテクスチャ処理を基板表面に施した。
【００４１】この比較用媒体に対し上記条件で記録を行
ったところ、本発明の媒体と同様に記録が可能であっ
た。しかし、ＣＳＳ試験を行ったところ、１万２千回目
において記録情報の一部が再生不可能となった。この時
点でＣＳＳ試験を中止して媒体表面をＭＦＭにより観察
したところ、多数の単位微小記録部において記録情報の
破壊が認められた。
ったところ、本発明の媒体と同様に記録が可能であっ
た。しかし、ＣＳＳ試験を行ったところ、１万２千回目
において記録情報の一部が再生不可能となった。この時
点でＣＳＳ試験を中止して媒体表面をＭＦＭにより観察
したところ、多数の単位微小記録部において記録情報の
破壊が認められた。
【００４２】以上の実施例から、本発明の効果が明らか
である。
である。
【図１】本発明の磁気記録媒体の構成例について、一部
を拡大して示す斜視図である。
を拡大して示す斜視図である。
【図２】図１に示す磁気記録媒体のＡ−Ａ断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の磁気記録媒体の構成例について、一部
を拡大して示す斜視図である。
を拡大して示す斜視図である。
【図４】図３に示す磁気記録媒体のＢ−Ｂ断面図であ
る。
る。
【図５】本発明の磁気記録媒体を製造する方法の一例を
説明する断面図である。
説明する断面図である。
【図６】本発明の磁気記録媒体を製造する方法の一例を
説明する断面図である。
説明する断面図である。
１０ 磁気ディスク媒体
１２ 基板
１４ 単位微小記録部
１６ 非記録部
１８ 下地層
１００ フォトレジスト層
１０４ 磁性物質
１０６ 非磁性物質
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/62
Claims (5)
- 【請求項１】 非磁性体からなる非記録部を挟んで、磁
性体からなる単位微小記録部が配列してなる記録トラッ
クを有し、 各単位微小記録部が単磁区であり、 単位微小記録部の表面高さが非記録部の表面高さよりも
低い磁気記録媒体。 - 【請求項２】 単位微小記録部の表面高さが非記録部の
表面高さよりも５〜３０nm低い請求項１の磁気記録媒
体。 - 【請求項３】 単位微小記録部がＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ−ＴａおよびＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔのいずれか一種
で構成されている請求項１または２の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 単位微小記録部が長径０．１〜１．０μ
m 、短径０．０５〜０．５μm である請求項１〜３のい
ずれかの磁気記録媒体。 - 【請求項５】 請求項１〜４の磁気記録媒体を製造する
方法であって、 基板上に非磁性体を形成し、この上にフォトレジスト層
を形成し、フォトリソグラフィーによる凹部を形成し、
その後磁性体を付着し、次いでフォトレジスト層をエッ
チング除去する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000032012A JP3495674B2 (ja) | 1999-02-10 | 2000-02-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324399 | 1999-02-10 | ||
| JP11-33243 | 1999-02-10 | ||
| JP2000032012A JP3495674B2 (ja) | 1999-02-10 | 2000-02-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000298823A JP2000298823A (ja) | 2000-10-24 |
| JP3495674B2 true JP3495674B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=26371920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000032012A Expired - Fee Related JP3495674B2 (ja) | 1999-02-10 | 2000-02-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3495674B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW569195B (en) * | 2001-01-24 | 2004-01-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Micro-particle arranged body, its manufacturing method, and device using the same |
| JP2005235358A (ja) | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JP4593128B2 (ja) | 2004-02-26 | 2010-12-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
| JP4111276B2 (ja) | 2004-02-26 | 2008-07-02 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
| JP4005976B2 (ja) | 2004-03-03 | 2007-11-14 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP4571084B2 (ja) * | 2006-03-01 | 2010-10-27 | 株式会社日立製作所 | パターンドメディア及びその製造方法 |
| JP5238780B2 (ja) | 2010-09-17 | 2013-07-17 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体とその製造方法及び磁気記録装置 |
| JP6193633B2 (ja) * | 2013-06-11 | 2017-09-06 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド、インプリント用モールドの製造方法、パターンドメディア作製用基板の製造方法、および、パターンドメディアの製造方法 |
-
2000
- 2000-02-09 JP JP2000032012A patent/JP3495674B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JP2000298823A (ja) | 2000-10-24 |
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