JP2003012730A - Method for producing vinyl ether group-containing polymer and method for handling the same polymer - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for stably producing a vinyl ether group- containing polymer having a structural unit represented by formula (2) (wherein, R<1> denotes hydrogen atom or methyl group; R<2> denotes an organic residue; and R<3> denotes hydrogen atom or an organic residue), and to provide a method for handling thereof. SOLUTION: The vinyl ether group-containing polymer represented by formula (2) is produced in a light screen structure for production and is handled in a light screen structure for handling.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ビニルエーテル基
含有重合体の製造方法並びに取り扱い方法に関するもの
である。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing and handling a vinyl ether group-containing polymer.

【０００２】さらに詳しくは、熱、紫外線、放射線、電
子線、ラジカル重合開始剤、酸等により容易に架橋する
ことができるビニルエーテル基含有重合体の製造方法並
びに取り扱い方法に関するものである。More specifically, it relates to a method for producing and handling a vinyl ether group-containing polymer which can be easily crosslinked by heat, ultraviolet rays, radiation, electron beams, radical polymerization initiators, acids and the like.

【０００３】本発明のビニルエーテル基含有重合体は、
塗料、インク、接着剤、粘着剤、表面改質材料、成形材
料、プラズマディスプレイパネル隔壁等の各種用途へ応
用することができる。The vinyl ether group-containing polymer of the present invention is
It can be applied to various applications such as paints, inks, adhesives, pressure-sensitive adhesives, surface modification materials, molding materials, and plasma display panel partition walls.

【０００４】[0004]

【従来の技術】ビニルエーテル基含有重合体は、ビニル
エーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類をラジカ
ル重合により単独重合および／または共重合することに
より製造可能であることがJ.Poly.Sci.Part A:Polym.Ch
em.,vol.30.pp933-936(1992).、特開平６−１００６２
８号公報、特開平６−２５６４２６号公報等に開示され
ている。さらに、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類をアニオン重合により単独重合および／
または共重合することにより製造可能であることがドイ
ツ特許１０２７４０１号公報、ドイツ特許１０３４３６
３号公報等に開示されている。2. Description of the Related Art It is known that a vinyl ether group-containing polymer can be produced by homopolymerizing and / or copolymerizing vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters by radical polymerization. : Polym.Ch
em., vol.30.pp933-936 (1992)., Japanese Patent Laid-Open No. 6-10062
No. 8 and JP-A-6-256426 are disclosed. Further, vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters are homopolymerized and / or anionically polymerized.
Alternatively, it can be produced by copolymerization. German Patent No. 1027401 and German Patent 103436.
No. 3, for example.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本願発
明者らの検討によれば、一般式（１）で表されるビニル
エーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を重合し
た場合、その製造工程中に光、特に可視光線および／ま
たは紫外線の照射を受けると、重合性官能基の重合およ
びビニルエーテル基隣接炭素上水素の引抜きが容易に起
こり、ゲル化を引き起こすために安定的に製造できない
ことが判明した。However, according to the study by the inventors of the present invention, when the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the general formula (1) is polymerized, it is produced during the production process. It was found that when exposed to light, especially visible light and / or ultraviolet light, polymerization of the polymerizable functional group and abstraction of hydrogen on the carbon adjacent to the vinyl ether group easily occur, causing gelation, and stable production is impossible. .

【０００６】さらに、前記ビニルエーテル基含有重合体
は、その取り扱い中に光、特に可視光線および／または
紫外線の照射を受けると、重合性官能基の重合およびビ
ニルエーテル基隣接炭素上水素の引抜きが容易に起こ
り、ゲル化を引き起こすために、安定的に取り扱いでき
ないことが判明した。Further, when the vinyl ether group-containing polymer is exposed to light, particularly visible light and / or ultraviolet light during its handling, polymerization of the polymerizable functional group and abstraction of hydrogen on carbon adjacent to the vinyl ether group are facilitated. It was found that it could not be handled stably because it occurred and caused gelation.

【０００７】本発明は上記のごとき状況に鑑みてなされ
たものであり、一般式（２）で表されるビニルエーテル
基含有重合体を安定的に製造する方法並びに安定的に取
り扱える方法を提供するものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a method for stably producing a vinyl ether group-containing polymer represented by the general formula (2) and a method for stable handling. Is.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記課
題を解決すべく検討を重ねた結果、一般式（１）で表さ
れるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル
類を製造用遮光性構造物中で重合し、一般式（２）で表
されるビニルエーテル基含有重合体を製造することによ
り、安定的に製造できることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。即ち、本発明は、下記一般式（１）：Means for Solving the Problems As a result of repeated studies to solve the above problems, the inventors of the present invention obtained a light-shielding vinyl ether group-containing (meth) acrylate represented by the general formula (1) for production. It was found that stable production can be achieved by polymerizing in a flexible structure to produce a vinyl ether group-containing polymer represented by the general formula (2), and completed the present invention. That is, the present invention provides the following general formula (1):

【化４】 [Chemical 4]

【０００９】（式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を
表し、Ｒ^２は有機残基を表し、Ｒ^３は水素原子または有
機残基を表す）で表されるビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類を重合し、一般式（２）：(In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, R ² represents an organic residue, and R ³ represents a hydrogen atom or an organic residue). The acid ester is polymerized to give a compound represented by the general formula (2):

【化５】 [Chemical 5]

【００１０】（式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を
表し、Ｒ^２は有機残基を表し、Ｒ^３は水素原子または有
機残基を表す）で表される構造単位を有するビニルエー
テル基含有重合体を製造する際に、製造用遮光性構造物
中で製造することを特徴とするビニルエーテル基含有重
合体の製造方法に関する。Containing a vinyl ether group having a structural unit represented by the formula: wherein R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, R ² represents an organic residue, and R ³ represents a hydrogen atom or an organic residue. The present invention relates to a method for producing a vinyl ether group-containing polymer, which comprises producing the polymer in a light-shielding structure for production.

【００１１】また、本願発明者らは、一般式（２）で表
される構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体を
取扱用遮光性構造物中で取り扱うことにより、安定的に
取り扱えることを見出し、本発明を完成させるに至っ
た。Further, the inventors of the present invention have found that a vinyl ether group-containing polymer having a structural unit represented by the general formula (2) can be stably handled by handling it in a light-shielding structure for handling. The present invention has been completed.

【００１２】即ち、本発明は、一般式（２）で表される
構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体を、取扱
用遮光性構造物中で取り扱うことを特徴とするビニルエ
ーテル基含有重合体の取り扱い方法に関する。That is, the present invention deals with a vinyl ether group-containing polymer having a structural unit represented by the general formula (2) in a light-shielding structure for handling. Regarding the method.

【００１３】本発明における「製造」との用語は、原料
仕込み工程；反応工程；反応液の移送工程；原料回収、
溶媒除去、洗浄、再沈殿、カラムクロマトグラフ、乾燥
等の分離・精製工程；等の各工程を意味する。これらの
中でも、原料仕込み工程、反応工程、分離・精製工程を
特に意味する。これらの操作は単独でも、あるいは２種
類以上を適宜組み合わせて実施することもできる。In the present invention, the term "production" means a raw material charging step; a reaction step; a reaction liquid transfer step; a raw material recovery step;
Solvent removal, washing, reprecipitation, column chromatograph, separation and purification steps such as drying; Among these, the raw material charging step, the reaction step, and the separation / purification step are particularly meant. These operations may be carried out alone or in combination of two or more kinds.

【００１４】本発明における「取り扱う」との用語は、
タンクローリー等での輸送；タンク、容器等での貯蔵；
パイプ、バルブ、ノズル等を含めた配管での移送；反応
釜、反応装置、タンク、容器等での混合・攪拌；等を意
味する。これらの操作は単独でも、あるいは２種類以上
を適宜組み合わせて実施することもできる。The term "handle" in the present invention means
Transport by tank truck, etc .; Storage in tank, container, etc.
It means transfer through pipes including pipes, valves, nozzles, etc .; mixing / stirring in reaction kettles, reactors, tanks, containers, etc. These operations may be carried out alone or in combination of two or more kinds.

【００１５】[0015]

【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳細に説明す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below.

【００１６】本発明により製造されるビニルエーテル基
含有重合体は、前記一般式（２）で表される構造単位を
有する化合物であれば特に限定されず、式中のＲ^１で示
される置換基が水素原子またはメチル基であり、Ｒ^２で
示される置換基が有機残基であり、Ｒ^３で示される置換
基が水素原子または有機残基である。The vinyl ether group-containing polymer produced according to the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having the structural unit represented by the general formula (2), and the substituent represented by R ¹ in the formula is It is a hydrogen atom or a methyl group, the substituent represented by R ² is an organic residue, and the substituent represented by R ³ is a hydrogen atom or an organic residue.

【００１７】前記一般式（２）中のＲ^２で示される有機
残基とは、特に限定されないが、例えば炭素数２〜２０
の直鎖状、分枝状または環状のアルキレン基、構造中に
エーテル結合および／またはエステル結合により酸素原
子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜
１１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。
これらのうち、炭素数２〜１０のアルキレン基、構造中
にエーテル結合により酸素原子を有する炭素数２〜１０
のアルキレン基が好適である。The organic residue represented by R ² in the general formula (2) is not particularly limited, but has, for example, 2 to 20 carbon atoms.
A linear, branched or cyclic alkylene group, an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms having an oxygen atom in the structure through an ether bond and / or an ester bond, and a carbon number of 6 to
Eleven optionally substituted aromatic groups and the like can be mentioned.
Of these, alkylene groups having 2 to 10 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms having an oxygen atom in the structure through an ether bond.
Alkylene groups of are preferred.

【００１８】前記一般式（２）中のＲ^３で示される有機
残基とは、特に限定されないが、例えば炭素数１〜１０
の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基、炭素数６〜
１１の置換されていてもよい芳香族基等が挙げられる。
これらのうち、炭素数１〜２のアルキル基、炭素数６〜
８の芳香族基が好適である。The organic residue represented by R ³ in the general formula (2) is not particularly limited, but for example, has 1 to 10 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 6 carbon atoms
Eleven optionally substituted aromatic groups and the like can be mentioned.
Of these, alkyl groups having 1 to 2 carbon atoms and 6 to 6 carbon atoms
Aromatic groups of 8 are preferred.

【００１９】前記一般式（２）で表される構造単位を有
する化合物の中でも、式中のＲ^１で示される置換基が水
素原子またはメチル基であり、Ｒ^２で示される置換基が
炭素数２〜１０のアルキレン基およびエーテル結合によ
り酸素原子を有する炭素数２〜１０のアルキレン基であ
り、Ｒ^３で示される置換基が水素原子である化合物が好
ましい。Among the compounds having the structural unit represented by the general formula (2), the substituent represented by R ¹ in the formula is a hydrogen atom or a methyl group, and the substituent represented by R ² has a carbon number. A compound having 2 to 10 alkylene groups and an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms which has an oxygen atom through an ether bond, and the substituent represented by R ³ is a hydrogen atom is preferable.

【００２０】前記一般式（２）で表される構造単位を有
するビニルエーテル基含有重合体の製造に用いられるビ
ニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類は、
前記一般式（１）で表される化合物であれば特に限定さ
れず、式中のＲ^１、Ｒ^２およびＲ^３で示される置換基
は、前述の一般式（２）と同義である。The vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester used for producing the vinyl ether group-containing polymer having the structural unit represented by the general formula (2) is
It is not particularly limited as long as it is a compound represented by the general formula (1), and the substituents represented by R ¹ , R ² and R ³ in the formula have the same meaning as in the general formula (2).

【００２１】一般式（１）で表されるビニルエーテル基
含有（メタ）アクリル酸エステル類の代表例としては、
特に限定されるわけではないが、具体的には、（メタ）
アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸
３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチ
ル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビ
ニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシ
ブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキ
シプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチル
プロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロ
キシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−
２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロ
キシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニ
ロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブ
チル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メ
タ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメ
チル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロ
ヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメ
チルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビ
ニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｍ
−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル
酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アク
リル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）ア
クリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、
（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピ
ル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イ
ソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソ
プロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニ
ロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリ
ル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メ
タ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキ
シ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソ
プロポキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−
（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）エチル、
（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキ
シ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエ
トキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸
２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）プロピル、
（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイ
ソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビ
ニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）ア
クリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イ
ソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソ
プロポキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル
酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）イ
ソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエト
キシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２
−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エ
チル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロポキシエトキ
シ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（イソプロポキシ
エトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−
（イソプロポキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、
（メタ）アクリル酸２−（イソプロポキシエトキシエト
キシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポ
リエチレングリコールモノビニルエーテル、（メタ）ア
クリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル
等が挙げられる。これらの中でも（メタ）アクリル酸２
−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキ
シプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチ
ル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メ
タ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメ
チル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）
エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ
エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキ
シイソプロポキシ）プロピルが好適である。Typical examples of vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters represented by the general formula (1) are:
Although not particularly limited, specifically, (meta)
2-vinyloxyethyl acrylate, 3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxyethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 1-Methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 1-vinyloxymethylpropyl (meth) acrylate, 2-methyl-3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 1,1 -Dimethyl-
2-vinyloxyethyl, 3-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 1-methyl-2-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 2-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 4-vinyloxycyclohexyl (meth) acrylate, (meth ) 6-vinyloxyhexyl acrylate, 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-vinyloxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth ) P-vinyloxymethylphenylmethyl acrylate, m (meth) acrylic acid
-Vinyloxymethylphenylmethyl, o-vinyloxymethylphenylmethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate,
2- (vinyloxyethoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylate (Vinyloxyisopropoxy) isopropyl, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyiso) methacrylate Propoxyethoxy) ethyl, (meth) acrylic acid 2-
(Vinyloxyisopropoxyisopropoxy) ethyl,
2- (vinyloxyethoxyethoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxyethoxy) propyl (meth) acrylate,
2- (vinyloxyisopropoxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, (meth ) 2- (vinyloxyisopropoxyethoxy) isopropyl acrylate, 2- (vinyloxyisopropoxyisopropoxy) isopropyl (meth) acrylate, 2- (vinyloxyethoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, (meth) Acrylic acid 2
-(Vinyloxyethoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl, 2- (isopropoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (isopropoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylic acid
(Isopropoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl,
Examples include 2- (isopropoxyethoxyethoxyethoxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol monovinyl ether (meth) acrylate, polypropylene glycol monovinyl ether (meth) acrylate, and the like. Among these, (meth) acrylic acid 2
-Vinyloxyethyl, 3-vinyloxypropyl (meth) acrylate, 4-vinyloxybutyl (meth) acrylate, 4-vinyloxycyclohexyl (meth) acrylate, 6-vinyloxyhexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 4-vinyloxymethylcyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 2- (vinyloxyethoxy)
Ethyl, 2- (vinyloxyethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, and 2- (vinyloxyisopropoxy) propyl (meth) acrylate are preferred.

【００２２】上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類は、単独でも２種類以上を混合して使用
することもできる。The vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters may be used alone or in admixture of two or more.

【００２３】上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステル類は、単独重合でも、他の共重合可能な重
合性化合物との共重合によっても、一般式（２）で表さ
れる構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体を製
造することができる。The above-mentioned vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters are vinyl ethers having a structural unit represented by the general formula (2), either by homopolymerization or by copolymerization with another copolymerizable polymerizable compound. Group-containing polymers can be produced.

【００２４】上記の共重合可能な重合性化合物として
は、特に限定されるものではないが、具体的には、メチ
ル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、アミル（メタ）アクリレート、２−エチル
ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アク
リレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニ
ル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アク
リレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−
（アセトアセトキシ）エチル（メタ）アクリレート、フ
ェノキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アク
リレート類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブ
チル（メタ）アクリレート、メチル（α−ヒドロキシメ
チル）アクリレート、エチル（α−ヒドロキシメチル）
アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）
アクリレート（商品名プラクセル；ダイセル化学工業
（株）製）、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチ
ル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリ
レート類；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フ
マル酸、クロトン酸、イタコン酸、無水マレイン酸、カ
ルボキシル基末端カプロラクトン変性（メタ）アクリレ
ート（商品名プラクセル；ダイセル化学工業（株）
製）、スルホエチル（メタ）アクリレート、２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、
２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルアシッドホス
フェート等の酸性官能基含有（メタ）アクリレート類；
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビ
ニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン等のビニル化合物類；ビニルトリクロルシラン、ビニ
ルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシ
ロキシエチルメタクリレート等の珪素含有重合性単量体
類；トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラ
フルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオ
ロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタドデカフルオ
ロデシルアクリレート、β−（パーフロロオクチル）エ
チル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル
（メタ）アクリレート等のハロゲン含有重合性単量体
類；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メ
タ）アクリルアミド、ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミ
ド、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキ
シメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノエチル（メタ）
アクリレート、 Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、 Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルホルムア
ミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート硫酸
塩、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ
−ビニルピロール、Ｎ−ビニルピロリドン、ジアセトン
アクリルアミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロ
ヘキシルマレイミド、２−イソプロペニル−２−オキサ
ゾリン等の窒素原子含有重合性単量体類；エチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォス
フェート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等の多官
能性重合性単量体類；グリシジル（メタ）アクリレー
ト、α−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレー
ト（商品名ＣＹＣＬＯＭＥＲ；ダイセル化学工業（株）
製）等のエポキシ基含有重合性単量体類；２−（メタ）
アクリロイルオキシエチルイソシアネート（商品名カレ
ンズ；昭和電工（株））、（メタ）アクリロイルイソシ
アネート（商品名ＭＡＩ；日本ペイント（株））等のイ
ソシアネート基含有重合性単量体類；２−〔２’−ヒド
ロキシ−５’−（メタ）アクリロイルオキシエチルフェ
ニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒド
ロキシ−５’−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフ
ェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒ
ドロキシ−５’−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル
フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−
ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（メタ）
アクリロイルオキシエチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ
−ブチル−５’−（メタ）アクリロイルオキシエチルフ
ェニル〕−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等の
イソシアネート基含有重合性単量体類；４−（メタ）ア
クリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ− １，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４
−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン、４−クロトノイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）ア
クリロイル−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）ア
クリロイル−４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の紫
外線安定性重合性単量体類が挙げられる。The above-mentioned copolymerizable polymerizable compound is not particularly limited, but specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) ) Acrylate, amyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopenta Nyl (meth) acrylate, n-stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-
(Meth) acrylates such as (acetoacetoxy) ethyl (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3
-Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (α-hydroxymethyl) acrylate, ethyl (α-hydroxymethyl)
Acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth)
Acrylate (trade name Praxel; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as 4-hydroxymethylcyclohexylmethyl (meth) acrylate; acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, Itaconic acid, maleic anhydride, carboxyl-terminated caprolactone-modified (meth) acrylate (trade name: Praxel; Daicel Chemical Industries, Ltd.)
Manufactured), sulfoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate,
Acidic functional group-containing (meth) acrylates such as 2- (meth) acryloyloxypropyl acid phosphate;
Vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, divinylbenzene, vinyl acetate, vinyl chloride and vinylidene chloride; vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Silicon-containing polymerizable monomers such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and trimethylsiloxyethyl methacrylate; trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadodeca Halogen-containing polymerizable monomers such as fluorodecyl acrylate, β- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic Amide, N-isopropyl (meth) acrylamide, t-butyl (meth) acrylamide, methylenebis (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N'-dimethylaminoethyl (meth)
Acrylate, N, N'-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N-methyl-N-vinylformamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate sulfate, N-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N
-Nitrogen atom-containing polymerizable monomers such as vinylpyrrole, N-vinylpyrrolidone, diacetone acrylamide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and 2-isopropenyl-2-oxazoline; ethylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth)
Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) ) Polyfunctional polymerizable monomers such as acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, glycerin di (meth) acrylate; glycidyl ( (Meth) acrylate, α-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,
4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate (trade name CYCLOMER; Daicel Chemical Industries, Ltd.)
Epoxy group-containing polymerizable monomers such as); 2- (meth)
Isocyanate group-containing polymerizable monomers such as acryloyloxyethyl isocyanate (trade name Karenz; Showa Denko KK) and (meth) acryloyl isocyanate (trade name MAI; Nippon Paint Co., Ltd.); 2- [2'- Hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxyethylphenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(meth) acryloyloxypropylphenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'- Hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxyhexylphenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-
Hydroxy-3'-tert-butyl-5 '-(meth)
Acryloyloxyethylphenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-tert
-Butyl-5 '-(meth) acryloyloxyethylphenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole and other isocyanate group-containing polymerizable monomers; 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6 -Tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1,2,
2,6,6-pentamethylpiperidine, 4-cyano-4
-(Meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2,
2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,
Ultraviolet stable polymerizable monomers such as 2,6,6-tetramethylpiperidine and 1- (meth) acryloyl-4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine The kind is mentioned.

【００２５】上記の共重合可能な重合性化合物は、単独
でも２種類以上を混合して使用することもできる。The above-mentioned copolymerizable polymerizable compounds may be used alone or in admixture of two or more.

【００２６】上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリ
ル酸エステルの単独重合および／または共重合可能な重
合性化合物との共重合による一般式（２）で表される構
造単位を有するビニルエーテル基含有重合体の製造方法
は、特に限定されるものではなく、熱、紫外線、放射
線、電子線、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤
等を利用した公知の種々の方法を採用する事ができる。A vinyl ether group-containing polymer having a structural unit represented by the general formula (2) is obtained by homopolymerization and / or copolymerization of the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester with a polymerizable compound. The production method is not particularly limited, and various known methods using heat, ultraviolet rays, radiation, electron beams, radical polymerization initiators, anionic polymerization initiators, etc. can be adopted.

【００２７】本発明によれば、一般式（２）で表される
構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体を製造す
るに際し、製造用遮光性構造物中で製造することが、重
合性官能基の重合およびビニルエーテル基隣接炭素上水
素の引抜きによるゲル化を防ぎ、安定的な製造を可能に
する。According to the present invention, when the vinyl ether group-containing polymer having the structural unit represented by the general formula (2) is produced, it is necessary to produce the vinyl ether group-containing polymer in the production light-shielding structure. Polymerization and gelation due to abstraction of hydrogen on carbon adjacent to vinyl ether group are prevented, and stable production is enabled.

【００２８】本発明における「製造用遮光性構造物」と
は、遮光性材質により構成された反応釜、蒸発釜、精製
釜、攪拌装置、タンク、パイプ、バルブ、ノズル等の製
造に用いられる構造物である。ここで、構造物内部に光
が達することができる構造物内表面積は、全構造物内部
表面積の２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ま
しく、１０％以下がさらに好ましく、８％以下が特に好
ましい。また、ここでいう「遮光性材質」とは、実質的
に光（可視光線、紫外線および赤外線）を透過しない材
質である。さらに、構造物内部に光が達することができ
る構造物内表面部分もしくは構造物内部に光が達するこ
とができない構造物内表面部分は連続的あるいは非連続
的でもよい。The "shading structure for production" in the present invention means a structure used for manufacturing a reaction pot, an evaporation pot, a refining pot, an agitator, a tank, a pipe, a valve, a nozzle, etc., which are made of a shading material. It is a thing. Here, the internal surface area of the structure that allows light to reach the inside of the structure is preferably 20% or less of the total internal surface area of the structure, more preferably 15% or less, further preferably 10% or less, and particularly 8% or less. preferable. The “light-shielding material” here is a material that does not substantially transmit light (visible light, ultraviolet light, and infrared light). Further, the structure inner surface portion where light can reach the inside of the structure or the structure inner surface portion where light cannot reach the inside of the structure may be continuous or discontinuous.

【００２９】前記、実質的に光を透過しない材質とは、
特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、
工業用純鉄、炭素鋼（ＪＩＳＧ−ＳＳ、ＪＩＳＧ−Ｓ
Ｃ、ＪＩＳＧ−ＳＢ、ＪＩＳＧ−ＳＭ、ＪＩＳＧ−ＳＧ
Ｐ、ＪＩＳＧ−ＳＴＧＰ、ＪＩＳＧ−ＳＴＳ、ＪＩＳＧ
−ＳＴＢ、ＪＩＳＧ−ＳＴＬ、ＪＩＳＧ−ＳＴＫＭ、Ｊ
ＩＳＧ−ＳＷＲ、ＪＩＳＧ−ＳＫ、ＪＩＳＧ−ＳＦ、Ｊ
ＩＳＧ−ＳＣ等）、鋳鉄（ＪＩＳＧ−ＦＣ、ＪＩＳＧ−
ＦＣＤ、ＪＩＳＧ−ＦＣＭ等）、低合金鋼（ＪＩＳＧ−
ＳＮＣ、ＪＩＳＧ−ＳＮＣＭ、ＪＩＳＧ−ＳＣｒ、ＪＩ
ＳＧ−ＳＣＭ、ＪＩＳＧ−ＳＡＣＭ、ＪＩＳＧ−ＳＣＡ
等）、低合金鋳鉄（ニテンシル、ニハード、アシキュラ
ー等）、低ニッケル鋼（ＪＩＳＧ−ＳＴＰＬ、ＪＩＳＧ
−ＳＴＢＬ、ＪＥＳ−Ｎｉ、ＡＳＴＭ−Ａ２０３等）、
ニッケル鋼（ＡＳＴＭＡ３５３等）、クロム鋼（ＪＩＳ
Ｇ−ＳＵＨ１、ＪＩＳＧ−ＳＵＨ２、ＪＩＳＧ−ＳＵＨ
３、ＡＩＳＩ−ＴＰ５０１、ＡＩＳＩ−ＴＰ５０３等）
等の鉄および鋼；高ケイ素鋳鉄；１５％Ｎｉ鋳鉄（Ｎｉ
−Ｒｅｓｉｓｔ１等）、２０％Ｎｉ鋳鉄（Ｎｉ−Ｒｅｓ
ｉｓｔ２等）、３０％Ｎｉ鋳鉄（Ｎｉ−Ｒｅｓｉｓｔ３
等）等の高ニッケル鋳鉄；高Ｃｒ鋳鉄（Ｎｉｒｏｓｔａ
等）、高Ｃｒ−Ｍｏ鋳鉄等の高クロム鋼；１３Ｃｒ鋼
（ＳＵＳ４０３、ＳＵＳ４１０、ＳＵＳ４１４、ＳＵＳ
４１６等）、１３Ｃｒ高炭素鋼（ＳＵＳ４２０等）、１
６Ｃｒ２Ｎｉ鋼（ＳＵＳ４３１、ＳＵＳ４４０Ａ、ＳＵ
Ｓ４４０Ｂ、ＳＵＳ４４０Ｃ等）等のマルテンサイト系
ステンレス鋼；１８Ｃｒ鋼（ＳＵＳ４２０等）、２５Ｃ
ｒ鋼（ＳＵＳ４４６等）、１３Ｃｒ−Ａｌ鋼（ＳＵＳ４
０５等）等のフェライト系ステンレス鋼；１８−８鋼
（ＳＵＳ３０１、ＳＵＳ３０２、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ
３０４、ＳＵＳ３０５、ＳＵＳ３０８、ＳＵＳ３２１、
ＳＵＳ３４７等）、１８−８Ｌ鋼（ＳＵＳ３０４Ｌ
等）、１８−８Ｍｏ鋼（ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１７
等）、１８−８ＭｏＬ鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ等）、２２Ｃ
ｒ−１２Ｎｉ鋼（ＳＵＳ３０９、ＳＵＳ３０９Ｓ等）、
２５Ｃｒ−２０Ｎｉ鋼（ＳＵＳ３１０、ＳＵＳ３１０
Ｓ、ＳＵＳ３１４等）等のオーステナイト系ステンレス
鋼；２０合金（Ｗｏｒｔｈｉｔｅ、Ｄｕｒｉｍｅｔ２
０、Ｃａｒｐｅｎｔｅｒ２０、Ａｌｏｙｃｏ２０、ＦＡ
２０等）、ＨＮ合金（Ｃｈｒｏｍａｘ等）等の特殊オー
ステナイト系ステンレス鋼；Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｓｉ合
金（Ｓｉｃｒｏｍａｌ８、Ｓｉｃｒｏｍａｌ９、Ｓｉｃ
ｒｏｍａｌ１０、Ｓｉｃｒｏｍａｌ１１、Ｓｉｃｒｏｍ
ａｌ１２等）、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｃｏ合金（Ｋａｎｔ
ｈａｌＡ等）等のＦｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金；ＪＩＳ−ＳＣ
ＭｎＨ等の高マンガン鋳鋼；工業用純銅（ＪＩＳ−Ｃｕ
Ｐ、ＪＩＳ−ＣｕＢ、ＪＩＳ−ＣｕＴ、ＪＩＳ−ＤＣｕ
Ｐ、ＪＩＳ−ＤＣｕＴ等）、Ｃｕ−Ａｌ合金（ＪＩＳ−
ＡＢＰ、ＪＩＳ−ＡＢＢ、ＪＩＳ−ＢｓＴＦ、アルミ青
銅、アルミニウム黄銅等）、Ｃｕ−Ｓｉ合金（ＪＩＳ−
ＳｉＢＴ、ＪＩＳ−ＳｚＢＣ、ケイ素青銅、Ｅｖｅｒｄ
ｕｒ、ＡＲ合金、シルジン青銅等）、Ｃｕ−Ｓｎ−Ｐ合
金（ＪＩＳ−ＰＢＰ、ＪＩＳ−ＰＢＳ、ＪＩＳ−ＰＢ
Ｂ、ＪＩＳ−ＰＢＣ、リン青銅等）、Ｃｕ−Ｓｎ−Ｚｎ
合金（ＪＩＳ−ＢｓＣ、青銅鋳物等）、Ｃｕ−Ｚｎ合金
（ＪＩＳ−ＮＢｓＰ等）、Ｃｕ−Ｚｎ−Ｓｎ合金（Ｒｅ
ｄ−Ｂｒａｓｓ等）、Ｃｕ−Ｚｎ合金（ＪＩＳ−Ｂｓ
Ｐ、ＪＩＳ−ＬＢＣ、ＪＩＳ−ＲＢｓＰ、黄銅、鉛入黄
銅、丹銅等）等の銅および銅合金；Ｃｕ−Ｎｉ２０（白
銅、ＪＩＳ−ＣＮＴＦ２等）、Ｎｉ−Ａｇ（洋白、洋
銀、ＪＩＳ−ＮＳＰ、ＪＩＳ−ＳＮＰ１等）、Ｃｕ−Ｎ
ｉ３０（白銅、ＪＩＳ−ＣＮＴＦ３、ＪＩＳ−ＣＮＰ３
等）等のＣｕ−Ｎｉ合金；工業用純アルミニウム（ＪＩ
Ｓ−ＡｌＰ、ＪＩＳ−ＡｌＲ、ＪＩＳ−ＡｌＢ、ＪＩＳ
−ＡｌＶ、ＪＩＳ−ＡｌＷ、ＪＩＳ−ＡｌＴ、ＡＬＣＯ
Ａ−ＥＣ、ＡＬＣＯＡ−１０５０、ＡＬＣＯＡ−１０６
０、ＡＬＣＯＡ−１１００、ＡＬＣＯＡ−１１３０、Ａ
ＬＣＯＡ−１１７５、ＡＬＣＯＡ−１２６０等）、高純
度アルミニウム、Ａｌ−Ｍｎ合金（ＪＩＳ−Ａ２Ｐ３、
ＪＩＳ−Ａ２Ｔ３、ＡＬＣＯＡ−３００３等）、高力ア
ルミ合金（ＪＩＳ−Ａ３Ｐ、ＪＩＳ−Ａ３Ｒ、ＪＩＳ−
Ａ３Ｔ、ＪＩＳ−Ａ３Ｂ、ＪＩＳ−Ａ３Ｗ、ＡＬＣＯＡ
−２０１４、ＡＬＣＯＡ−２０１７、ＡＬＣＯＡ−２０
２４、ＡＬＣＯＡ−２０２５、ジュラルミン、超ジュラ
ルミン、Ｙ合金等）、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ合金（ＪＩＳ−
Ａ４Ｆ、ＡＬＣＯＡ−６０６１等）、Ａｌ−Ｓｉ合金
（ＪＩＳ−ＡＣ３Ａ、ＪＩＳ−ＡＣ４ＡＢＣ、ＡＬＣＯ
Ａ−４０３２、シルミン鋳物等）、Ａｌ−Ｍｇ合金（Ｊ
ＩＳ−耐食アルミ合金１種、ＪＩＳ−耐食アルミ合金２
種、ＪＩＳ−耐食アルミ合金７種、ＡＬＣＯＡ−５０５
２、ＡＬＣＯＡ−５０５６、ＡＬＣＯＡ−５０８３等）
等のアルミニウムおよびアルミニウム合金；工業用純マ
グネシウム、マグネシウム合金（ＪＩＳ−ＭＣ、Ｄｏｗ
ｍｅｔａｌ、Ｅｌｅｋｔｒｏｎ等）等のマグネシウムお
よびマグネシウム合金；工業用純ニッケル（ＪＩＳ−Ｖ
ＮｉＰ、ＪＩＳ−ＶＣＮｉＰ、ＪＩＳ−ＶＮｉＷ、ＪＩ
Ｓ−ＶＣＮｉＴ、ＡＳＴＭ−Ｂ３９、ＡＳＴＭ−１６
０、ＡＳＴＭ−１６１、ＡＳＴＭ−１６２等）等のニッ
ケル；２７Ａ（Ｉｎｃｏｎｅｌ、Ｃｏｌｍｏｎｏｙ６
等）、２７Ｂ（Ｉｎｃｏｎｅｌ６００、ＡＳＴＭ−Ｂ１
６３、ＡＳＴＭ−Ｂ１６６、ＡＳＴＭ−Ｂ１６７、ＡＳ
ＴＭ−Ｂ１６８等）、２７Ｃ等のＮｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合
金；モネル（ＪＩＳ−ＮＣｕＴ、ＪＩＳ−ＮＣｕＰ、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ１２７、ＡＳＴＭ−Ｂ１６３、ＡＳＴＭ−Ｂ
１６４、ＡＳＴＭ−Ｂ１６５、モネル４００等）、Ｋモ
ネル等のＮｉ−Ｃｕ合金；３０Ａ（Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ
Ａ、Ｃｏｎｔｒａｃｉｄ等）、３０Ｂ（ＡＳＴＭ−Ｂ３
３３、ＡＳＴＭ−Ｂ３３５、ＡＳＴＭ−Ｂ４９４、Ｈａ
ｓｔｅｌｌｏｙＢ、Ｃｈｌｏｒｉｍｅｔ２等）、３０Ｃ
（ＡＳＴＭ−Ｂ３３６、ＡＳＴＭ−Ｂ４９４、Ｈａｓｔ
ｅｌｌｏｙＣ、Ｃｈｌｏｒｉｍｅｔ３等）、３０Ｄ（Ｈ
ａｓｔｅｌｌｏｙＮ等）、３０Ｅ（Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ
Ｆ等）、３０Ｆ（Ｎｉ−ｏ−ｎｅｌ等）、３０Ｇ（Ｒ−
５５等）等のＮｉ−Ｍｏ−Ｆｅ−Ｃｒ合金；３１Ａ（Ｉ
ｌｌｉｕｍＧ等）、３１Ｂ（Ｉｌｌｉｕｍ９８等）等の
Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｕ−Ｍｏ合金；ＨａｓｔｅｌｌｏｙＤ等
のＮｉ−Ｓｉ合金；Ｃｏ−Ｃｒ合金（Ｓｔｅｌｉｔｅ２
１、Ｓｔｅｌｉｔｅ２３、Ｓｔｅｌｉｔｅ２７、Ｓｔｅ
ｌｉｔｅ３１等）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ合金（Ｈａｙｎｅ
ｓ２５、Ｈａｙｎｅｓ３６等）、Ｃｏ−Ｓｉ合金等のコ
バルト合金；工業用純鉛（ＪＩＳ−ＰｂＰ、ＪＩＳ−Ｐ
ｂＴ、ＪＩＳ−ＰｂＴＷ、ＡＳＴＭ−Ｂ２９、ＡＳＴＭ
−Ｂ３２５等）、テルル鉛、硬鉛（ＪＩＳ−ＨＰｂＰ、
ＪＩＳ−ＨＰｂＴ、ＡＳＴＭ−Ｂ２３、ＡＳＴＭ−Ｂ３
２等）、ホモゲン鉛融着ライニング等の鉛および鉛合
金；錫；工業用純亜鉛（ＪＩＳ−亜鉛板、ＡＳＴＭ−Ｂ
６等）、亜鉛合金（ＡＳＴＭ−Ｂ６９等）等の亜鉛およ
び亜鉛合金；銀、金、白金、ニオブ、タンタル（ＡＳＴ
Ｍ−Ｂ３６４、ＡＳＴＭ−Ｂ３６５等）等の貴金属、白
金族およびバナジウム族金属；タングステン；工業用純
チタン（ＪＩＳ−ＴＰ、ＪＩＳ−ＴＴＰ、ＪＩＳ−Ｔ
Ｂ、ＪＩＳ−ＴＷ、ＡＳＴＭ−Ｂ２６５、ＡＳＴＭ−Ｂ
３３７、ＡＳＴＭ−Ｂ３３８、ＡＳＴＭ−Ｂ３４８、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ２９９、ＡＳＴＭ−Ｂ３６７、ＡＳＴＭ−Ｂ
３８１等）、チタン合金（ＡＳＴＭ−Ｂ２６５、ＡＳＴ
Ｍ−Ｂ３４８、ＡＳＴＭ−Ｂ３６７、ＡＳＴＭ−Ｂ３８
１等）等のチタンおよびチタン合金；ジルコニウム（Ａ
ＳＴＭ−Ｂ３４９、ＡＳＴＭ−Ｂ３５０、ＡＳＴＭ−Ｂ
３５１、ＡＳＴＭ−Ｂ３５２、ＡＳＴＭ−Ｂ３５３、Ａ
ＳＴＭ−Ｂ３５６等）、ジルコニウム合金（ジルカロイ
１、ジルカロイ２、ジルカロイ３、ＡＳＴＭ−Ｂ３５
０、ＡＳＴＭ−Ｂ３５１、ＡＳＴＭ−Ｂ３５２、ＡＳＴ
Ｍ−Ｂ３５３、ＡＳＴＭ−Ｂ３５６等）等のジルコニウ
ムおよびジルコニウム合金；ＡＳＴＭ−Ｂ３８４、ＡＳ
ＴＭ−Ｂ３８５、ＡＳＴＭ−Ｂ３８６、ＡＳＴＭ−Ｂ３
８７等のモリブデン；ＡＳＴＭ−Ｂ３８３、ＡＳＴＭ−
Ｂ３９１、ＡＳＴＭ−Ｂ３９２、ＡＳＴＭ−Ｂ３９３、
ＡＳＴＭ−Ｂ３９４等のクロム；磁器、化学用陶器、抗
火石、耐酸煉瓦、耐酸タイル、耐酸磁器、シリカセメン
ト、耐火煉瓦、耐火モルタル、ホーローエナメル等のケ
イ酸塩類製品；コンクリート；硫黄セメント；炭素成形
品、黒鉛成形品、不浸透性炭素、不浸透性黒鉛等の炭素
および黒鉛製品；アスベスト；不透明な塩化ビニリデン
系樹脂、不透明なフェノール系樹脂、不透明なフラン樹
脂、不透明な塩化ビニル系樹脂、不透明な４フッ化エチ
レン、不透明な３フッ化塩化エチレン、不透明なケイ素
樹脂、不透明なポリエチレン、不透明なポリイソブチレ
ン、不透明なポリスチレン、不透明なエポキシ樹脂、不
透明な不飽和ポリエステル、不透明なポリアミド樹脂、
不透明な塩素化ポリエーテル樹脂、不透明なポリカーボ
ネート樹脂、不透明なポリウレタン樹脂、不透明な尿素
樹脂、不透明なメラミン樹脂等の合成樹脂；アスファル
ト；不透明な天然ゴム、不透明な塩酸あるいは塩素化天
然ゴム、不透明なニトリルゴム、不透明なスチレンゴ
ム、不透明なブタジエン・イソブチレン合成ゴム、不透
明なポリクロロプレン、不透明な石綿充填ゴムシート、
不透明なブチルゴム、不透明なポリ硫化ゴム、不透明な
クロロスルホン化ポリエチレンゴム、不透明なフッ素ゴ
ム、不透明なシリコンゴム、不透明なウレタンゴム等の
天然ゴムおよび合成ゴム類；内側および／または外側が
不透明な合成樹脂により覆われたガラス、内側および／
または外側が不透明な天然ゴムまたは合成ゴムにより覆
われたガラス、内側および／または外側が金属により覆
われたガラス、内側および／または外側が金属によりメ
ッキされたガラス等のガラス；等が挙げられる。これら
の実質的に光を透過しない材質は、単独でも、あるいは
２種以上を適宜組み合わせて使用することができる。な
お、括弧内に代表的な規格記号、商品名等を記載した。
また、「不透明な」とは、実質的に光（可視光線、紫外
線および赤外線）を透過しないことを意味する。The material which does not substantially transmit light is
Although not particularly limited, specifically, for example,
Industrial pure iron, carbon steel (JISG-SS, JISG-S
C, JISG-SB, JISG-SM, JISG-SG
P, JISG-STGP, JISG-STS, JISG
-STB, JISG-STL, JISG-STKM, J
ISG-SWR, JISG-SK, JISG-SF, J
ISG-SC, etc.), cast iron (JISG-FC, JISG-
FCD, JISG-FCM, etc., low alloy steel (JISG-
SNC, JISG-SNCM, JISG-SCr, JI
SG-SCM, JISG-SACM, JISG-SCA
Etc.), low alloy cast iron (Nitencil, Nihard, Acicular, etc.), low nickel steel (JISG-STPL, JISG
-STBL, JES-Ni, ASTM-A203, etc.),
Nickel steel (ASTMA353 etc.), chrome steel (JIS
G-SUH1, JISG-SUH2, JISG-SUH
3, AISI-TP501, AISI-TP503, etc.)
Iron and steel such as; high silicon cast iron; 15% Ni cast iron (Ni
-Resist1, etc.), 20% Ni cast iron (Ni-Res)
ist2), 30% Ni cast iron (Ni-Resist3)
Etc.) High nickel cast iron; High Cr cast iron (Nirosta
Etc.), high chromium steel such as high Cr-Mo cast iron; 13Cr steel (SUS403, SUS410, SUS414, SUS)
416), 13Cr high carbon steel (SUS420, etc.), 1
6Cr2Ni steel (SUS431, SUS440A, SU
S440B, SUS440C, etc.) martensitic stainless steel; 18Cr steel (SUS420, etc.), 25C
r steel (SUS446 etc.), 13Cr-Al steel (SUS4
Ferritic stainless steels such as 05; etc .; 18-8 steels (SUS301, SUS302, SUS303, SUS)
304, SUS305, SUS308, SUS321,
SUS347), 18-8L steel (SUS304L)
Etc.), 18-8Mo steel (SUS316, SUS317)
Etc.), 18-8MoL steel (SUS316L etc.), 22C
r-12Ni steel (SUS309, SUS309S, etc.),
25Cr-20Ni steel (SUS310, SUS310
S, SUS314 etc.) and other austenitic stainless steels; 20 alloys (Worthite, Durimet2)
0, Carpenter20, Aloyco20, FA
20), special austenitic stainless steels such as HN alloys (Chromax, etc.); Fe-Cr-Al-Si alloys (Micromal8, Micromal9, Sic)
local10, Micromal11, Microm
al12), Fe-Cr-Al-Co alloy (Kant
Fe-Cr-Al alloys such as halA); JIS-SC
High manganese cast steel such as MnH; industrial pure copper (JIS-Cu
P, JIS-CuB, JIS-CuT, JIS-DCu
P, JIS-DCuT, etc., Cu-Al alloy (JIS-
ABP, JIS-ABB, JIS-BsTF, aluminum bronze, aluminum brass, etc., Cu-Si alloy (JIS-
SiBT, JIS-SzBC, silicon bronze, Everd
ur, AR alloy, silzin bronze, etc., Cu-Sn-P alloy (JIS-PBP, JIS-PBS, JIS-PB)
B, JIS-PBC, phosphor bronze, etc.), Cu-Sn-Zn
Alloy (JIS-BsC, bronze casting, etc.), Cu-Zn alloy (JIS-NBsP, etc.), Cu-Zn-Sn alloy (Re
d-Brass, etc.), Cu-Zn alloy (JIS-Bs
Copper and copper alloys such as P, JIS-LBC, JIS-RBsP, brass, lead-containing brass, brass, etc .; Cu-Ni20 (white copper, JIS-CNTF2, etc.), Ni-Ag (white silver, nickel silver, JIS-). NSP, JIS-SNP1 etc.), Cu-N
i30 (white copper, JIS-CNTF3, JIS-CNP3
Cu-Ni alloys such as; Industrial pure aluminum (JI
S-AlP, JIS-AlR, JIS-AlB, JIS
-AlV, JIS-AlW, JIS-AlT, ALCO
A-EC, ALCOA-1050, ALCOA-106
0, ALCOA-1100, ALCOA-1130, A
LCOA-1175, ALCOA-1260, etc.), high-purity aluminum, Al-Mn alloy (JIS-A2P3,
JIS-A2T3, ALCOA-3003, etc.), high strength aluminum alloy (JIS-A3P, JIS-A3R, JIS-
A3T, JIS-A3B, JIS-A3W, ALCOA
-2014, ALCOA-2017, ALCOA-20
24, ALCOA-2025, duralumin, super duralumin, Y alloy, etc.), Al-Mg-Si alloy (JIS-
A4F, ALCOA-6061, etc.), Al-Si alloy (JIS-AC3A, JIS-AC4ABC, ALCO
A-4032, Silumin casting, etc.), Al-Mg alloy (J
IS-corrosion resistant aluminum alloy type 1, JIS-corrosion resistant aluminum alloy 2
Type, JIS-corrosion resistant aluminum alloy type 7, ALCOA-505
2, ALCOA-5056, ALCOA-5083, etc.)
Aluminum and aluminum alloys such as; industrial pure magnesium, magnesium alloys (JIS-MC, Dow
magnesium and magnesium alloys such as metal and Elektron; industrial pure nickel (JIS-V)
NiP, JIS-VCNiP, JIS-VNiW, JI
S-VCNiT, ASTM-B39, ASTM-16
0, ASTM-161, ASTM-162, etc .; nickel; 27A (Inconel, Colmonoy6)
Etc.), 27B (Inconel600, ASTM-B1)
63, ASTM-B166, ASTM-B167, AS
TM-B168 etc.), 27C etc. Ni-Cr-Fe alloys; Monel (JIS-NCuT, JIS-NCuP, A
STM-B127, ASTM-B163, ASTM-B
164, ASTM-B165, Monel 400, etc., Ni-Cu alloy such as K Monel; 30A (Hastelloy)
A, Contracid, etc.), 30B (ASTM-B3
33, ASTM-B335, ASTM-B494, Ha
stelloyB, Chlorimet2, etc.), 30C
(ASTM-B336, ASTM-B494, Hast
elloyC, Chlorimet3, etc.), 30D (H
astelloyN, 30E (Hastelloy)
F, etc., 30F (Ni-o-nel, etc.), 30G (R-
55, etc.) Ni-Mo-Fe-Cr alloy; 31A (I
lliumG etc.), 31B (Illium98 etc.), etc. Ni-Cr-Cu-Mo alloys; HastelloyD, etc. Ni-Si alloys; Co-Cr alloys (Stelite 2)
1, Stelite23, Stelite27, Ste
lite31 etc.), Co-Cr-Ni alloy (Hayne
s25, Haynes36, etc.), cobalt alloys such as Co-Si alloys; industrial pure lead (JIS-PbP, JIS-P)
bT, JIS-PbTW, ASTM-B29, ASTM
-B325, etc.), tellurium lead, hard lead (JIS-HPbP,
JIS-HPbT, ASTM-B23, ASTM-B3
2), lead and lead alloy such as homogen lead fusion lining; tin; industrial pure zinc (JIS-zinc plate, ASTM-B)
6 etc.), zinc alloys such as zinc alloys (ASTM-B69 etc.) and zinc alloys; silver, gold, platinum, niobium, tantalum (AST
Noble metals such as M-B364 and ASTM-B365), platinum group and vanadium group metals; tungsten; industrial pure titanium (JIS-TP, JIS-TTP, JIS-T).
B, JIS-TW, ASTM-B265, ASTM-B
337, ASTM-B338, ASTM-B348, A
STM-B299, ASTM-B367, ASTM-B
381), titanium alloy (ASTM-B265, AST
M-B348, ASTM-B367, ASTM-B38
And titanium alloys such as zirconium (A
STM-B349, ASTM-B350, ASTM-B
351, ASTM-B352, ASTM-B353, A
STM-B356 etc.), zirconium alloy (Zircaloy 1, Zircaloy 2, Zircaloy 3, ASTM-B35
0, ASTM-B351, ASTM-B352, AST
Zirconium and zirconium alloys such as M-B353, ASTM-B356, etc .; ASTM-B384, AS
TM-B385, ASTM-B386, ASTM-B3
Molybdenum such as 87; ASTM-B383, ASTM-
B391, ASTM-B392, ASTM-B393,
Chromium such as ASTM-B394; porcelain, chemical pottery, anti-fire stone, acid resistant brick, acid resistant tile, acid resistant porcelain, silica cement, fire resistant brick, fire resistant mortar, enamel and other silicate products; concrete; sulfur cement; carbon molding Products, graphite molded products, carbon and graphite products such as impervious carbon, impermeable graphite; asbestos; opaque vinylidene chloride resin, opaque phenolic resin, opaque furan resin, opaque vinyl chloride resin, opaque Polytetrafluoroethylene, opaque trifluoroethylene chloride, opaque silicon resin, opaque polyethylene, opaque polyisobutylene, opaque polystyrene, opaque epoxy resin, opaque unsaturated polyester, opaque polyamide resin,
Synthetic resins such as opaque chlorinated polyether resin, opaque polycarbonate resin, opaque polyurethane resin, opaque urea resin, opaque melamine resin; asphalt; opaque natural rubber, opaque hydrochloric acid or chlorinated natural rubber, opaque Nitrile rubber, opaque styrene rubber, opaque butadiene / isobutylene synthetic rubber, opaque polychloroprene, opaque asbestos-filled rubber sheet,
Opaque butyl rubber, opaque polysulfide rubber, opaque chlorosulfonated polyethylene rubber, opaque fluororubber, opaque silicone rubber, opaque urethane rubber, and other natural and synthetic rubbers; opaque inside and / or outside synthetic Glass covered with resin, inside and / or
Alternatively, glass covered with opaque natural rubber or synthetic rubber on the outside, glass covered with metal on the inside and / or outside, glass plated with metal on the inside and / or outside, and the like; These materials that do not substantially transmit light may be used alone or in appropriate combination of two or more kinds. In addition, typical standard symbols, product names, etc. are described in parentheses.
Further, "opaque" means that substantially no light (visible light, ultraviolet light and infrared light) is transmitted.

【００３０】これらの中でも、鉄および鋼、高ケイ素鋳
鉄、高ニッケル鋳鉄、高クロム鋼、マルテンサイト系ス
テンレス鋼、フェライト系ステンレス鋼、オーステナイ
ト系ステンレス鋼、特殊オーステナイト系ステンレス
鋼、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金、高マンガン鋳鋼、銅および
銅合金、Ｃｕ−Ｎｉ合金、アルミニウムおよびアルミニ
ウム合金、マグネシウムおよびマグネシウム合金、ニッ
ケル、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｃｕ合金、Ｎｉ−
Ｍｏ−Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｕ−Ｍｏ合金、
Ｎｉ−Ｓｉ合金、コバルト合金、鉛および鉛合金、錫、
亜鉛および亜鉛合金、タングステン、チタンおよびチタ
ン合金、ジルコニウムおよびジルコニウム合金、モリブ
デン、クロムが実質的に光を透過しない材質としてより
好ましい。Among these, iron and steel, high silicon cast iron, high nickel cast iron, high chromium steel, martensitic stainless steel, ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, special austenitic stainless steel, Fe-Cr-Al. Alloys, high manganese cast steel, copper and copper alloys, Cu-Ni alloys, aluminum and aluminum alloys, magnesium and magnesium alloys, nickel, Ni-Cr-Fe alloys, Ni-Cu alloys, Ni-
Mo-Fe-Cr alloy, Ni-Cr-Cu-Mo alloy,
Ni-Si alloys, cobalt alloys, lead and lead alloys, tin,
Zinc and zinc alloys, tungsten, titanium and titanium alloys, zirconium and zirconium alloys, molybdenum and chromium are more preferable as the material that does not substantially transmit light.

【００３１】本発明によれば、一般式（２）で表される
構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体を取り扱
うに際し、取扱用遮光性構造物中で取り扱うことが重合
性官能基の重合およびビニルエーテル基隣接炭素上水素
の引抜きによるゲル化や分解による品質劣化を効果的に
防止し、ビニルエーテル基含有重合体をより安定的に取
り扱うことを可能にする。According to the present invention, when handling a vinyl ether group-containing polymer having a structural unit represented by the general formula (2), it is necessary to handle in a light-shielding structure for handling polymerization of a polymerizable functional group and vinyl ether. It effectively prevents quality deterioration due to gelation and decomposition due to abstraction of hydrogen on the carbon adjacent to the group, and enables more stable handling of the vinyl ether group-containing polymer.

【００３２】本発明における「取扱用遮光性構造物」と
は、遮光性材質により構成されたタンクローリー等の輸
送用構造物；タンク、ドラム、ビン、缶等の貯蔵用構造
物；パイプ、バルブ、ノズル等の移送用構造物；等の構
造物である。ここで、構造物内部に光が達することがで
きる構造物内表面積は、全構造物内部表面積の２０％以
下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下
がさらに好ましく、８％以下が特に好ましい。また、こ
こでいう「遮光性材質」とは、前述の製造用遮光性構造
物に用いられた遮光性材質と同義である。さらに、構造
物内部に光が達することができる構造物内表面部分もし
くは構造物内部に光が達することができない構造物内表
面部分は連続的あるいは非連続的でもよい。In the present invention, "a light-shielding structure for handling" means a transport structure such as a tank truck made of a light-shielding material; a storage structure such as a tank, a drum, a bottle, a can; a pipe, a valve, A structure such as a transfer structure such as a nozzle; Here, the internal surface area of the structure that allows light to reach the inside of the structure is preferably 20% or less of the total internal surface area of the structure, more preferably 15% or less, further preferably 10% or less, and particularly 8% or less. preferable. Further, the “light-shielding material” mentioned here has the same meaning as the light-shielding material used in the above-described light-shielding structure for manufacturing. Further, the structure inner surface portion where light can reach the inside of the structure or the structure inner surface portion where light cannot reach the inside of the structure may be continuous or discontinuous.

【００３３】さらに、本発明によれば、一般式（２）で
表される構造単位を有するビニルエーテル基含有重合体
を取り扱うに際し、遮光性構造物中かつ構造物気相部の
分子状酸素濃度が０〜２２容量％の範囲の雰囲気におい
て取り扱うことが、重合性官能基の重合およびビニルエ
ーテル基隣接炭素上水素の引抜きによるゲル化や分解に
よる品質劣化をより効果的に防止し、ビニルエーテル基
含有重合体をさらに安定的に取り扱うことを可能にす
る。Further, according to the present invention, when the vinyl ether group-containing polymer having the structural unit represented by the general formula (2) is handled, the molecular oxygen concentration in the light-shielding structure and in the gas phase part of the structure is increased. Handling in an atmosphere of 0 to 22% by volume more effectively prevents polymerization of polymerizable functional groups and deterioration of quality due to gelation or decomposition due to abstraction of hydrogen on carbon adjacent to vinyl ether group, and vinyl ether group-containing polymer. It is possible to handle more stably.

【００３４】取扱用遮光性構造物気相部の分子状酸素濃
度は、その下限が０容量％以上が好ましく、上限が２２
容量％以下が好ましく、１８容量％以下がより好まし
く、１５容量％以下が特に好ましい。構造物気相部の分
子状酸素濃度の範囲が２２容量％よりも高い場合には、
重合や分解による品質劣化を起こすことがある。よっ
て、前記分子状酸素濃度の範囲が、品質の点、重合抑制
の点および経済性の点で好ましい。気相部の分子状酸素
濃度を０〜２２容量％の範囲に調整するには、（ａ）分
子状酸素または空気等の分子状酸素を含むガスと窒素、
アルゴン等の不活性ガスとをそれぞれ構造物に供給し、
構造物気相部の容積の０〜２２容量％の範囲になるよう
にする方法（ｂ）分子状酸素または空気等の分子状酸素
を含むガスと窒素、アルゴン等の不活性ガスとを予め混
合し、構造物に供給し、構造物気相部の容積の０〜２２
容量％の範囲になるようにする方法等がある。また、ガ
スを供給する方法としては、連続的または間歇的に供給
すれば良い。さらに、構造物気相部の容積の０〜２２容
量％の範囲に維持する方法としては、連続的または間歇
的に供給し続ける方法、または初期に置換した後密閉す
る方法が挙げられる。The lower limit of the molecular oxygen concentration in the gas phase portion of the light-shielding structure for handling is preferably 0% by volume or more, and the upper limit is 22.
Volume% or less is preferable, 18 volume% or less is more preferable, and 15 volume% or less is particularly preferable. When the molecular oxygen concentration range of the structure gas phase is higher than 22% by volume,
May cause quality deterioration due to polymerization or decomposition. Therefore, the range of the molecular oxygen concentration is preferable in terms of quality, suppression of polymerization and economical efficiency. In order to adjust the concentration of molecular oxygen in the gas phase to a range of 0 to 22% by volume, (a) molecular oxygen or a gas containing molecular oxygen such as air and nitrogen,
Supplying an inert gas such as argon to the structure,
Method for adjusting the volume of the structure gas phase portion to a range of 0 to 22% by volume (b) A gas containing molecular oxygen or molecular oxygen such as air and an inert gas such as nitrogen or argon are mixed in advance. Then, it is supplied to the structure, and the volume of the structure gas phase portion is 0 to 22.
There is a method of setting the capacity within the range. As a method of supplying gas, it may be supplied continuously or intermittently. Further, as a method of maintaining the volume of the gas phase portion of the structure within a range of 0 to 22% by volume, there is a method of continuously or intermittently supplying, or a method of initially replacing and then sealing.

【００３５】[0035]

【発明の効果】本発明にしたがって、一般式（１）で表
されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステ
ル類を製造するに際し、製造用遮光性構造物中で製造す
ることにより簡便で経済的に目的とするビニルエーテル
基含有（メタ）アクリル酸エステル類を安定的に製造す
ることができる。さらに、一般式（１）で表されるビニ
ルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を取り
扱うに際し、取扱用遮光性構造物中で取り扱うことによ
り簡便で経済的に目的とするビニルエーテル基含有（メ
タ）アクリル酸エステル類を安定的に取り扱うことがで
きる。INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, when the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the general formula (1) is produced, it is convenient and economical to produce in a light-shielding structure for production. In addition, the desired vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid esters can be stably produced. Furthermore, when the vinyl ether group-containing (meth) acrylic acid ester represented by the general formula (1) is handled in a light-shielding structure for handling, the vinyl ether group-containing (meth) aimed at is simple and economical. Acrylic esters can be handled stably.

【００３６】[0036]

【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるも
のではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

【００３７】実施例１ ビニルエーテル基含有重合体
（１）の製造 ＳＵＳ３１６製の攪拌装置、温度計鞘、冷却装置および
ガス吹込み管を取付けたＳＵＳ３１６製１Ｌセパラブル
フラスコ（製造用遮光性構造物；構造物内部に光が達す
ることができる構造物内表面積＝全構造物内部表面積の
０％）に、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エ
チル１０．０ｇ、メタクリル酸メチル４０．０ｇ、２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル３．０ｇ、ベンゼン
５００．０ｇを添加した後、窒素ガスを液相部に吹込み
ながら３０分間攪拌混合した。該溶液を６０℃まで昇温
し、６０℃で１０時間攪拌を続けた後、ヘキサン２Ｌに
より再沈殿を行い、白色重合体をろ過により回収した。Example 1 Production of Vinyl Ether Group-Containing Polymer (1) 1 L separable flask made of SUS316 equipped with a stirrer made of SUS316, a thermometer sheath, a cooling device and a gas blowing pipe (a light-shielding structure for production; In the structure internal surface area where light can reach the inside of the structure = 0% of the total structure internal surface area, 10.0 g of 2- (vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate, 40.0 g of methyl methacrylate, 2,
After adding 3.0 g of 2'-azobisisobutyronitrile and 500.0 g of benzene, the mixture was stirred and mixed for 30 minutes while blowing nitrogen gas into the liquid phase part. The temperature of the solution was raised to 60 ° C., stirring was continued at 60 ° C. for 10 hours, reprecipitation was performed with 2 L of hexane, and a white polymer was collected by filtration.

【００３８】得られた白色重合体を減圧条件下４０℃で
１２時間乾燥することにより、ビニルエーテル基含有重
合体（１）４５．２ｇを得た。The resulting white polymer was dried under reduced pressure at 40 ° C. for 12 hours to obtain 45.2 g of vinyl ether group-containing polymer (1).

【００３９】得られたビニルエーテル基含有重合体
（１）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン
１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解
性を確認した結果、両溶媒に対して無色透明均一に溶解
する、即ちゲル化していないことが確認された。また、
ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ型ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（東ソー株式会社製；以下「ＧＰＣ」と呼
ぶ）分析の結果、数平均分子量は１５６００であった。1.0 g of the obtained vinyl ether group-containing polymer (1) was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, respectively, and the solubility was confirmed by visual observation. It was confirmed that it was dissolved, that is, not gelled. Also,
As a result of HLC-8120 GPC gel permeation chromatography (manufactured by Tosoh Corporation; hereinafter referred to as “GPC”) analysis, the number average molecular weight was 15,600.

【００４０】実施例２ ビニルエーテル基含有重合体
（２）の製造 メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチルをメタ
クリル酸４−ビニロキシブチル１０．０ｇとした以外は
実施例１と同様の操作を行い、ビニルエーテル基含有重
合体（２）４６．４ｇを得た。Example 2 Production of Polymer (2) Containing Vinyl Ether Group Vinyl ether was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2- (vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate was replaced by 10.0 g of 4-vinyloxybutyl methacrylate. 46.4 g of a group-containing polymer (2) was obtained.

【００４１】得られたビニルエーテル基含有重合体
（２）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン
１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解
性を確認した結果、両溶媒に対して無色透明均一に溶解
する、即ちゲル化していないことが確認された。また、
ＧＰＣ分析の結果、数平均分子量は１６２００であっ
た。1.0 g of the obtained vinyl ether group-containing polymer (2) was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, respectively, and the solubility was confirmed by visual observation. It was confirmed that it was dissolved, that is, not gelled. Also,
As a result of GPC analysis, the number average molecular weight was 16,200.

【００４２】実施例３ ビニルエーテル基含有重合体
（３）の製造 ＳＵＳ３１６製の攪拌装置、温度計鞘、冷却装置および
ガス吹込み管を取付けた胴体部がＳＵＳ３１６製であり
蓋部が透明ガラス製（一部をアルミ箔で覆った）の１Ｌ
セパラブルフラスコ（製造用遮光性構造物；構造物内部
に光が達することができる構造物内表面積＝全構造物内
部表面積の８％）に、メタクリル酸２−（ビニロキシエ
トキシ）エチル１０．０ｇ、メタクリル酸ブチル４０．
０ｇとした以外は実施例１と同様の操作を行い、ビニル
エーテル基含有重合体（３）４６．２ｇを得た。Example 3 Manufacture of Vinyl Ether Group-Containing Polymer (3) The body part equipped with a stirrer made of SUS316, a thermometer sheath, a cooling device and a gas blowing pipe was made of SUS316, and the lid part was made of transparent glass ( 1 part of which is covered with aluminum foil)
In a separable flask (a light-shielding structure for production; a structure internal surface area where light can reach the inside of the structure = 8% of the total structure internal surface area), 10.0 g of 2- (vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate Butyl methacrylate 40.
The same operation as in Example 1 was carried out except that the amount was changed to 0 g, to obtain 46.2 g of a vinyl ether group-containing polymer (3).

【００４３】得られたビニルエーテル基含有重合体
（３）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン
１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解
性を確認した結果、両溶媒に対して無色透明均一に溶解
する、即ちゲル化していないことが確認された。また、
ＧＰＣ分析の結果、数平均分子量は１５８００であっ
た。1.0 g of the obtained vinyl ether group-containing polymer (3) was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, respectively, and the solubility was confirmed by visual observation. It was confirmed that it was dissolved, that is, not gelled. Also,
As a result of GPC analysis, the number average molecular weight was 15,800.

【００４４】実施例４ ビニルエーテル基含有重合体
（４）の製造 ＳＵＳ３１６製の攪拌装置、温度計鞘、冷却装置および
ガス吹込み管を取付けた胴体部がＳＵＳ３１６製であり
蓋部が透明ガラス製（一部をアルミ箔で覆った）の１Ｌ
セパラブルフラスコ（製造用遮光性構造物；構造物内部
に光が達することができる構造物内表面積＝全構造物内
部表面積の１５％）に、メタクリル酸２−（ビニロキシ
エトキシ）エチル１０．０ｇ、メタクリル酸２−エチル
ヘキシル４０．０ｇとした以外は実施例１と同様の操作
を行い、ビニルエーテル基含有重合体（４）４５．６ｇ
を得た。Example 4 Production of Vinyl Ether Group-Containing Polymer (4) The body part equipped with a stirrer made of SUS316, a thermometer sheath, a cooling device and a gas blowing pipe was made of SUS316, and the lid part was made of transparent glass ( 1 part of which is covered with aluminum foil)
In a separable flask (light-shielding structure for production; internal surface area of the structure where light can reach the inside of the structure = 15% of total internal surface area of the structure), 10.0 g of 2- (vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate Then, the same operation as in Example 1 was carried out except that 40.0 g of 2-ethylhexyl methacrylate was used, and 45.6 g of a vinyl ether group-containing polymer (4).
Got

【００４５】得られたビニルエーテル基含有重合体
（４）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン
１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解
性を確認した結果、両溶媒に対して僅かに白色ではある
が透明均一に溶解する、即ちゲル化していないことが確
認された。また、ＧＰＣ分析の結果、数平均分子量は１
６０００であった。1.0 g of the obtained vinyl ether group-containing polymer (4) was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, respectively, and the solubility was confirmed by visual observation. However, it was confirmed that the solution was transparent and uniformly dissolved, that is, not gelled. As a result of GPC analysis, the number average molecular weight was 1
It was 6000.

【００４６】実施例５ ビニルエーテル基含有重合体
（５）の製造 ＳＵＳ３１６製の攪拌装置、温度計鞘、冷却装置および
ガス吹込み管を取付けた胴体部がＳＵＳ３１６製であり
蓋部が透明ガラス製の１Ｌセパラブルフラスコ（製造用
遮光性構造物；構造物内部に光が達することができる構
造物内表面積＝全構造物内部表面積の２０％）に、メタ
クリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル１０．０
ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル４０．０ｇとし
た以外は実施例１と同様の操作を行い、ビニルエーテル
基含有重合体（５）４２．８ｇを得た。Example 5 Production of Polymer (5) Containing Vinyl Ether Group The stirrer made of SUS316, the thermometer sheath, the cooling device and the body part made of SUS316 equipped with a gas blowing pipe were made of SUS316 and the lid was made of transparent glass. In a 1 L separable flask (a light-shielding structure for production; the surface area inside the structure where light can reach the inside of the structure = 20% of the total surface area inside the structure), 2- (vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate 10. 0
g and 40.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylate were subjected to the same operations as in Example 1 to obtain 42.8 g of vinyl ether group-containing polymer (5).

【００４７】得られたビニルエーテル基含有重合体
（５）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン
１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解
性を確認した結果、両溶媒に対して白色ではあるが均一
に溶解する、即ちゲル化していないことが確認された。
また、ＧＰＣ分析の結果、数平均分子量は１５７００で
あった。1.0 g of the obtained vinyl ether group-containing polymer (5) was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, and the solubility was confirmed by visual observation. It was confirmed that it was uniformly dissolved, that is, not gelled.
As a result of GPC analysis, the number average molecular weight was 15,700.

【００４８】比較例１〜５ （重合体（１’）〜
（５’）の製造） 透明ガラス製の攪拌装置、温度計ホルダ、ガス吹込み
管、冷却管を備えた透明ガラス製の１Ｌセパラブルフラ
スコに変更した以外は実施例１〜５と同様の操作を行っ
た。Comparative Examples 1-5 (Polymer (1 ')-
(5 ′) Production similar to Examples 1 to 5 except that a transparent glass 1 L separable flask equipped with a transparent glass stirrer, a thermometer holder, a gas blowing tube, and a cooling tube was used. I went.

【００４９】得られた重合体（１’）〜（５’）それぞ
れをテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエン１
０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加し、目視により溶解性
を確認した結果、一部溶解しない不溶物ができているこ
とが確認され、製造用遮光性構造物を用いない場合は、
ビニルエーテル基含有重合体を安定的に製造することが
できなかった。Each of the resulting polymers (1 ') to (5') was added with 10.0 g of tetrahydrofuran and 1 part of toluene.
When 1.0 g was added to each of 0.0 g and the solubility was visually confirmed, it was confirmed that an insoluble matter that did not partially dissolve was formed, and when the manufacturing light-shielding structure was not used,
It was not possible to stably produce a vinyl ether group-containing polymer.

【００５０】実施例６ ビニルエーテル基含有重合体
（１）の取り扱い 取扱用遮光性構造物としての５０ｍｌＳＵＳ３１６製容
器にビニルエーテル基含有重合体（１）１０．０ｇを添
加した。次いで、該容器気相部を窒素ガスにより完全に
置換した後に密栓した。該容器を屋外で１８０日間保存
した。Example 6 Handling of Vinyl Ether Group-Containing Polymer (1) 10.0 g of vinyl ether group-containing polymer (1) was added to a 50 ml SUS316 container as a light-shielding structure for handling. Then, the gas phase of the container was completely replaced with nitrogen gas, and the container was sealed. The container was stored outdoors for 180 days.

【００５１】ＳＵＳ３１６製容器に保存後のビニルエー
テル基含有重合体（１）をテトラヒドロフラン１０．０
ｇおよびトルエン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加
し、目視により溶解性を確認した結果、両溶媒に対して
無色透明均一に溶解する、即ちゲル化していないことが
確認された。またＧＰＣ分析の結果は、実施例１の結果
から変化していなかった。The vinyl ether group-containing polymer (1) stored in a SUS316 container was treated with tetrahydrofuran 10.0%.
As a result of visually confirming the solubility, it was confirmed that the solvent was colorless and transparent and uniformly dissolved in both solvents, that is, it was not gelled. Moreover, the result of GPC analysis did not change from the result of Example 1.

【００５２】実施例７ ビニルエーテル基含有重合体
（２）の取り扱い ビニルエーテル基含有重合体（１）をビニルエーテル基
含有重合体（２）１０．０ｇとした以外は実施例６と同
様の操作を行った。Example 7 Handling of vinyl ether group-containing polymer (2) The same operation as in Example 6 was carried out except that the vinyl ether group-containing polymer (1) was changed to 10.0 g of the vinyl ether group-containing polymer (2). .

【００５３】ＳＵＳ３１６製容器に保存後のビニルエー
テル基含有重合体（２）をテトラヒドロフラン１０．０
ｇおよびトルエン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加
し、目視により溶解性を確認した結果、両溶媒に対して
無色透明均一に溶解すること、即ちゲル化していないが
確認された。またＧＰＣ分析の結果は、実施例２の結果
から変化していなかった。The vinyl ether group-containing polymer (2) stored in a container made of SUS316 was treated with tetrahydrofuran 10.0
As a result of visually confirming the solubility, it was confirmed that the compounds were colorless and transparent and uniformly dissolved in both solvents, that is, they were not gelled. The result of GPC analysis was not changed from the result of Example 2.

【００５４】実施例８ ビニルエーテル基含有重合体
（１）の取り扱い 容器気相部を置換したガスを窒素ガスから合成空気（２
１％酸素ガス)とした以外は実施例６と同様の操作を行
った。Example 8 Container for Handling Polymer (1) Containing Vinyl Ether Group (1) The gas in which the gas phase portion was replaced was converted from nitrogen gas to synthetic air (2
The same operation as in Example 6 was performed except that 1% oxygen gas) was used.

【００５５】ＳＵＳ３１６製容器に保存後のビニルエー
テル基含有重合体（１）をテトラヒドロフラン１０．０
ｇおよびトルエン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加
し、目視により溶解性を確認した結果、両溶媒に対して
白色ではあるが均一に溶解する、即ちゲル化していない
ことが確認された。またＧＰＣ分析の結果は、実施例１
の結果から変化していなかった。The vinyl ether group-containing polymer (1) stored in a container made of SUS316 was treated with tetrahydrofuran 10.0
As a result of visually confirming the solubility, it was confirmed that it was white but uniformly dissolved in both solvents, that is, it was not gelled. The results of GPC analysis are shown in Example 1.
Has not changed from the result of.

【００５６】実施例９ ビニルエーテル基含有重合体
（１）の取り扱い 容器気相部を置換したガスを窒素ガスから１８％酸素ガ
ス（窒素バランス）とした以外は実施例６と同様の操作
を行った。Example 9 Handling container for vinyl ether group-containing polymer (1) The same operation as in Example 6 was carried out except that the gas substituted for the gas phase portion was changed from nitrogen gas to 18% oxygen gas (nitrogen balance). .

【００５７】ＳＵＳ３１６製容器に保存後のビニルエー
テル基含有重合体（１）をテトラヒドロフラン１０．０
ｇおよびトルエン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加
し、目視により溶解性を確認した結果、両溶媒に対して
僅かに白色ではあるが透明均一に溶解する、即ちゲル化
していないことが確認された。またＧＰＣ分析の結果
は、実施例１の結果から変化していなかった。The vinyl ether group-containing polymer (1) stored in a SUS316 container was treated with tetrahydrofuran 10.0
As a result of visually confirming the solubility, it was confirmed that the solvent was slightly white but transparent and uniformly dissolved in both solvents, that is, it was not gelled. . Moreover, the result of GPC analysis did not change from the result of Example 1.

【００５８】実施例１０ ビニルエーテル基含有重合体
（１）の取り扱い 容器気相部を置換したガスを窒素ガスから１０％酸素ガ
ス（窒素バランス）)とした以外は実施例６と同様の操
作を行った。Example 10 Handling container for vinyl ether group-containing polymer (1) The same operation as in Example 6 was carried out except that the gas in which the gas phase portion was replaced was nitrogen gas to 10% oxygen gas (nitrogen balance). It was

【００５９】ＳＵＳ３１６製容器に保存後のビニルエー
テル基含有重合体（１）をテトラヒドロフラン１０．０
ｇおよびトルエン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加
し、目視により溶解性を確認した結果、両溶媒に対して
無色透明均一に溶解する、即ちゲル化していないことが
確認された。またＧＰＣ分析の結果は、実施例１の結果
から変化していなかった。The vinyl ether group-containing polymer (1) stored in a SUS316 container was treated with tetrahydrofuran 10.0%.
As a result of visually confirming the solubility, it was confirmed that the solvent was colorless and transparent and uniformly dissolved in both solvents, that is, it was not gelled. Moreover, the result of GPC analysis did not change from the result of Example 1.

【００６０】比較例６〜１０ ５０ｍｌＳＵＳ３１６製容器を５０ｍｌ透明ガラス製容
器とした以外は実施例６〜１０と同様の操作を行った。Comparative Examples 6 to 10 The same operations as in Examples 6 to 10 were performed except that the 50 ml SUS316 container was changed to a 50 ml transparent glass container.

【００６１】透明ガラス製容器に保存後のビニルエーテ
ル基含有重合体（１）またはビニルエーテル基含有重合
体（２）をテトラヒドロフラン１０．０ｇおよびトルエ
ン１０．０ｇにそれぞれ１．０ｇ添加したが、一部溶解
しない不溶物ができていることが確認され、取扱用遮光
性構造物を用いない場合は、ビニルエーテル基含有重合
体を安定的に取り扱うことができなかった。1.0 g of each of the vinyl ether group-containing polymer (1) or the vinyl ether group-containing polymer (2) after storage in a transparent glass container was added to 10.0 g of tetrahydrofuran and 10.0 g of toluene, but partially dissolved. It was confirmed that an insoluble matter was formed, and when the light-shielding structure for handling was not used, the vinyl ether group-containing polymer could not be stably handled.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 下記一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は
有機残基を表し、Ｒ^３は水素原子または有機残基を表
す）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル
酸エステル類を重合し、一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は
有機残基を表し、Ｒ^３は水素原子または有機残基を表
す）で表される構造単位を有するビニルエーテル基含有
重合体を製造する際に、製造用遮光性構造物中で製造す
ることを特徴とするビニルエーテル基含有重合体の製造
方法。1. The following general formula (1): (In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, R ² represents an organic residue, and R ³ represents a hydrogen atom or an organic residue). Of the general formula (2): (In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, R ² represents an organic residue, and R ³ represents a hydrogen atom or an organic residue), and a vinyl ether group-containing polymer having a structural unit A method for producing a vinyl ether group-containing polymer, which comprises producing in a light-shielding structure for production. 【請求項２】 下記一般式（２）： 【化３】 （式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は
有機残基を表し、Ｒ^３は水素原子または有機残基を表
す）で表される構造単位を有するビニルエーテル基含有
重合体を、取扱用遮光性構造物中で取り扱うことを特徴
とするビニルエーテル基含有重合体の取り扱い方法。2. The following general formula (2): (In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group, R ² represents an organic residue, and R ³ represents a hydrogen atom or an organic residue), and a vinyl ether group-containing polymer having a structural unit , A method for handling a vinyl ether group-containing polymer, characterized in that it is handled in a light-shielding structure for handling.